KR101494757B1 - Substrate holder module and apparatus for treatmenting substrate having the same - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 기판 지지 모듈은 일면에 기판이 지지되는 지지대, 지지대에 삽입 설치되어 상기 기판이 지지되는 지지척, 기판이 지지되는 상기 지지척의 일면에 설치된 탄성 변형막, 기판이 지지되는 방향인 상기 지지척의 일측에 위치하여, 탄성 변형막을 커버하도록 설치된 캡, 지지대 내에서, 일단이 상기 지지척과 연결되도록 설치되며, 상기 지지척을 상기 탄성 변형막의 변형 방향과 반대 방향으로 이동시키는 이동 부재를 포함한다.
본 발명의 실시형태에 의하면, 기판을 지지하는 지지척이 탄성 변형막의 탄성 변형과 지지척에 연결된 이동 부재에 의해 전후방으로 이동한다. 이에, 탄성 변형막을 팽창시키면, 지지척이 이동 부재에 의해 후진 이동하며, 따라서 기판이 지지척으로부터 용이하게 분리된다. 이와 같이, 탄성 변형막 및 이동 부재에 의해 점착척이 구비된 지지척 전체가 후진 이동함에 따라, 기판의 손상 없이, 점착척으로부터 기판이 용이하게 탈락되는 효과가 있다.The substrate supporting module according to the present invention comprises a support for supporting a substrate on one surface thereof, a support chuck inserted into the support for supporting the substrate, an elastic deformation film provided on one surface of the support chuck on which the substrate is supported, A cap provided to cover the elastic deformation film at one side of the support chuck and a moving member provided at one end of the support chuck so as to be connected to the support chuck and moving the support chuck in a direction opposite to the direction of deformation of the elastic deformation film .
According to the embodiment of the present invention, the support chuck for supporting the substrate is moved forward and backward by the elastic deformation of the elastic deformation film and the movable member connected to the support chuck. Thus, when the elastic deformation film is expanded, the supporting chuck is moved backward by the moving member, so that the substrate is easily separated from the supporting chuck. As described above, as the entire support chuck provided with the adhesive chuck by the elastic deformation film and the movable member moves backward, the substrate is easily removed from the adhesive chuck without damaging the substrate.

Description

기판 지지 모듈 및 이를 구비하는 기판 처리 장치{Substrate holder module and apparatus for treatmenting substrate having the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate supporting module,

본 발명은 기판 지지 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판과 분리가 용이한 기판 지지 모듈 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate supporting module and a substrate processing apparatus including the same, and more particularly, to a substrate supporting module and a substrate processing apparatus having the same.

액정 디스 플레이 패널(Liquid Crystal Display : LCD), 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel : PDP) 및 유기 EL(Organic Light Emitting Device : OLED)과 같은 평판 표시 패널은, 일반적으로 한 쌍의 평판형 기판(이하, 상부 기판, 하부 기판)을 접합시켜 제작한다. 2. Description of the Related Art A flat panel display panel such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic EL (Organic Light Emitting Device: OLED) , An upper substrate, and a lower substrate).

이를 위한 기판 합착 장치는 챔버, 챔버 내부에 배치되어 하부 기판이 안착되는 하부척, 하부척의 상측에 대향 배치되어 상부 기판을 지지하는 상부척을 포함하며, 하부척 및 상부척 각각은 승하강이 가능하다. 여기서, 상부척은 한국등록특허 제0869088호에 개시된 바와 같이, 상부 기판과 대응하거나, 상기 기판에 비해 큰 면적을 가지는 상부 플레이트, 상부 플레이트 상에서 폭 방향(좌우 방향)으로 상호 이격 배치되어 기판을 처킹(chucking)하는 복수의 점착척(또는 스티키(sticky) 척) 및 복수의 점착척 사이에 위치하여 가스의 공급에 의해 팽창 가능한 다이어프램(diaphragm)을 포함한다.A substrate chucking apparatus for the substrate chuck includes a chamber, a lower chuck disposed inside the chamber and having a lower substrate mounted thereon, and an upper chuck disposed opposite to the upper side of the lower chuck to support the upper substrate, Do. As described in Korean Patent No. 0869088, the upper chuck is disposed on the upper plate and the upper plate, which correspond to the upper substrate or have a larger area than the substrate, and are spaced apart from each other in the width direction a plurality of adhesive chucks (or sticky chucks) chucking a plurality of adhesive chucks and a diaphragm which is positioned between the plurality of adhesive chucks and is inflatable by supplying gas.

이러한 기판 합착 장치를 이용한 상하부 기판을 상호 합착시키는 설명을 설명하면 하기와 같다. 액정 표시 패널의 제작을 예로 들면, 하부척에 복수의 박막 트랜지스터와 화소 전극이 형성된 하부 기판을 지지시키고, 기판의 가장자리를 따라 실런트와 같은 실링제를 도포하고, 하부 기판 상에 액정을 적하시킨다. 또한, 상부척에는 컬러 필터와 공통 전극이 형성된 상부 기판을 지지시키는데, 이때 상부 플레이트의 마련된 진공홀 및 점착척의 점착력에 의해 상부 기판이 상부척에 지지 고정된다. 그리고 상부척을 하강시키거나 하부척을 상승시켜, 상부 기판이 하부 기판 상부와 접촉되게 놓이도록 한 후, 복수의 다이어프램으로 불활성 가스 예컨대, 질소 가스를 불어 넣는다. 이로 인해, 다이어프램이 상부 기판이 위치한 방향으로 팽창하게 되며, 다이어프램은 팽창하는 힘은 상부 기판을 하측으로 미는 힘으로 작용하고, 이에 상부 기판이 점착척으로부터 분리된다.A description will be given of a method of mutually attaching upper and lower substrates using such a substrate laminating apparatus. For example, a liquid crystal display panel is manufactured by supporting a lower substrate on which a plurality of thin film transistors and pixel electrodes are formed on a lower chuck, applying a sealing agent such as a sealant along the edge of the substrate, and dropping liquid crystal on the lower substrate. In addition, the upper substrate supports an upper substrate having a color filter and a common electrode. At this time, the upper substrate is supported and fixed to the upper substrate by the adhesive force of the vacuum hole and the adhesive chuck. Then, the upper chuck is lowered or the lower chuck is raised so that the upper substrate is brought into contact with the upper portion of the lower substrate, and then an inert gas such as nitrogen gas is blown into the plurality of diaphragms. As a result, the diaphragm expands in the direction in which the upper substrate is located, and the expanding force acts on the upper substrate as a downward force, so that the upper substrate is separated from the pressure-sensitive adhesive chuck.

그런데, 상술한 바와 같이 불활성 가스를 다이어프램으로 불어 넣을 때, 상기 다이어프램이 상부 기판으로 팽창되는데, 이때 상부 기판이 상부척으로부터 낙하 또는 분리될 때까지, 팽창된 다이어프램이 상부 기판과 접촉한 상태로 상기 상부 기판을 밀게된다. 이에, 상부 기판에는 팽창되는 다이어프램으로 인한 응력이 가해지며, 이로 인해 상부 기판이 손상되어 액정 디스플레이 패널의 불량 또는 품질 저하를 야기시키는 요인이 된다.When the inert gas is blown into the diaphragm as described above, the diaphragm is inflated into the upper substrate. At this time, until the upper substrate is dropped or separated from the upper chuck, the expanded diaphragm is brought into contact with the upper substrate Thereby pushing the upper substrate. Accordingly, stress due to the diaphragm to be inflated is applied to the upper substrate, thereby damaging the upper substrate, which causes a defect or quality deterioration of the liquid crystal display panel.

또한, 팽창되는 다이어프램으로부터 가해지는 응력에 의해 상부 기판과 하부 기판 간의 정렬이 틀어지는 문제가 발생된다.In addition, there arises a problem that the alignment between the upper substrate and the lower substrate is distorted by the stress applied from the diaphragm to be expanded.

한국등록특허 제0869088호Korean Patent No. 0869088

본 발명은 기판의 언로딩 시에, 기판의 손상 및 정렬 틀어짐을 방지하는 기판 지지 모듈 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공한다.The present invention provides a substrate supporting module for preventing damage and misalignment of a substrate during unloading of the substrate, and a substrate processing apparatus having the same.

또한, 본 발명은 기판의 언로딩 시에, 기판에 가해지는 응력을 완화 또는 방지할 수 있는 기판 지지 모듈 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공한다.The present invention also provides a substrate supporting module capable of mitigating or preventing stress applied to a substrate upon unloading of the substrate, and a substrate processing apparatus having the same.

본 발명에 따른 기판 지지 모듈은 일면에 기판이 지지되는 지지대; 상기 지지대에 삽입 설치되어 상기 기판이 지지되는 지지척; 상기 기판이 지지되는 상기 지지척의 일면에 설치된 탄성 변형막; 상기 기판이 지지되는 방향인 상기 지지척의 일측에 위치하여, 상기 탄성 변형막을 커버하도록 설치된 캡; 상기 지지대 내에서, 일단이 상기 지지척과 연결되도록 설치되며, 상기 지지척을 상기 탄성 변형막의 변형 방향과 반대 방향으로 이동시키는 이동 부재;를 포함한다.The substrate supporting module according to the present invention comprises: A support chuck inserted into the support and supported by the support; An elastic deformation film provided on one surface of the support chuck on which the substrate is supported; A cap disposed on one side of the support chuck in a direction in which the substrate is supported to cover the elastic deformation film; And a moving member installed within the support so as to be connected to the support chuck at one end thereof and moving the support chuck in a direction opposite to the direction of deformation of the elastic deformation film.

상기 지지척은, 상기 지지대 내에 삽입 설치되는 지지 블록; 및 상기 탄성 변형막의 적어도 일측에 위치하도록 상기 지지 블록에 설치되어 점착력으로 기판을 지지하는 점착척을 포함한다.The support chuck includes: a support block inserted into the support frame; And an adhesive chuck attached to the support block so as to be positioned on at least one side of the elastic deformation film and supporting the substrate by adhesive force.

상기 캡은 상기 지지 블록의 폭 방향에서 상기 점착척의 안쪽에 위치하여 탄성 변형막의 전방에 대향 위치하는 커버 부재와, 일단이 상기 커버 부재에 연결되고, 상기 커버 부재의 가장자리로부터 외측 방향으로 연장되도록 형성되어 타단이 상기 지지대에 체결되는 연결 부재를 포함한다.Wherein the cap includes a cover member located inside the pressure-sensitive adhesive chuck in the width direction of the support block and opposed to the front side of the resiliently deformable film, one end connected to the cover member and extending outwardly from the edge of the cover member And the other end of which is fastened to the support.

상기 캡과 마주보는 상기 탄성 변형막의 일면은 상기 캡과 이격되도록 설치된다.One side of the elastic deformation film facing the cap is spaced apart from the cap.

상기 커버 부재는 적어도 상기 커버 부재와 마주보는 탄성 변형막의 일면의 면적에 비해 크거나, 같은 것이 바람직하다.It is preferable that the cover member is larger than or equal to at least the area of one surface of the elastic deformation film facing the cover member.

상기 캡은 금속으로 이루어진다.The cap is made of metal.

상기 지지대에는 상기 지지척이 삽입되는 삽입 공간이 마련되고,상기 이동 부재는 상기 삽입 공간에서 일단이 상기 지지 블록과 연결되고, 타단이 지지대에 연결되도록 설치되며, 상기 지지 블록은 상기 이동 부재에 의해 상기 삽입 공간 내에서 상기 캡이 위치한 방향으로 전진 이동하거나, 상기 캡과 반대 방향으로 후진 이동한다.Wherein the supporting block is provided with an insertion space into which the supporting chuck is inserted, the moving member is installed in the insertion space such that one end is connected to the supporting block and the other end is connected to the supporting block, The cap is moved forward or backward in a direction opposite to the cap in the insertion space.

상기 이동 부재는 내부 공간을 가지며, 상기 삽입 공간에서 일단이 지지 블록과 연결되고 타단이 상기 지지대에 지지되도록 설치된 바디; 상기 바디 내에 설치된 탄성 부재; 및 일단이 바디 내로 삽입되어 탄성 부재와 연결되고, 타단이 바디 외부로 돌출되어 지지 블록과 연결되어, 상기 탄성 부재에 의해 기판이 위치한 방향으로 전진 이동하거나, 상기 기판과 반대 방향으로 후진 이동 가능한 로드;를 포함한다.The moving member having an inner space, the body having one end connected to the support block in the insertion space and the other end supported on the support; An elastic member provided in the body; And an elastic member having one end connected to the elastic member and the other end projecting to the outside of the body and connected to the support block so that the elastic member can move forward or backward in the direction in which the substrate is positioned, .

상기 탄성 부재는 스프링(spring)인 것이 효과적이다.It is effective that the elastic member is a spring.

상기 지지대를 상하 방향으로 관통하도록 마련되어, 일단이 기판이 지지되는 상기 지지대의 일면으로 노출되도록 형성된 진공홀을 포함한다.And a vacuum hole which is provided to penetrate the support member in a vertical direction and is exposed at one end of the support member on which the substrate is supported.

상기 지지대에는 상기 지지대의 연장 방향으로 상호 이격되도록 복수의 삽입 공간이 마련되며, 상기 지지척이 복수개로 마련되어, 복수의 삽입 공간 내에 각기 설치되고, 상기 복수의 지지척 각각에 상기 탄성 변형막 및 이동 부재가 설치되고,Wherein the support rods are provided with a plurality of insertion cavities spaced apart from each other in a direction in which the support rods extend, a plurality of support roots are provided in the plurality of support rods, A member is installed,

상기 복수의 탄성 변형막 각각을 커버하도록 캡이 설치된다.
A cap is provided to cover each of the plurality of elastic deformation films.

본 발명에 따른 기판 처리 장치는 상부 기판과 하부 기판 간의 합착이 이루어지는 내부 공간을 가지는 챔버; 상기 챔버 내부에 설치되며, 상기 하부 기판이 안착되는 하부 지지대; 및 상기 하부 지지대의 상측에 대향 배치되어, 상기 상부 기판을 지지하는 상부 지지대; 상기 상부 지지대에 삽입 설치되어, 상기 상부 기판을 지지 고정하는 지지척; 상기 상부 기판이 지지되는 방향인 상기 지지척의 일측에 설치되어, 상기 지지척의 적어도 일부를 커버하는 캡; 및 상기 지지척에 연결되어, 탄성력에 의해 상기 지지척이 전후방 이동이 가능하도록 하는 척 이동 기구;를 포함한다.A substrate processing apparatus according to the present invention includes: a chamber having an internal space in which an upper substrate and a lower substrate are joined together; A lower support installed inside the chamber and on which the lower substrate is mounted; And an upper support disposed opposite to the upper side of the lower support to support the upper substrate; A support chuck inserted into the upper support and supporting and fixing the upper substrate; A cap provided on one side of the support chuck in a direction in which the upper substrate is supported, the cap covering at least a part of the support chuck; And a chuck moving mechanism connected to the support chuck to allow the support chuck to move forward and backward by an elastic force.

상기 지지척은, 상기 상부 지지대 내에 삽입 설치되는 지지 블록; 및 일면이 상기 상부 기판이 지지되는 상기 지지 블록의 일면으로 노출되도록 설치되어, 점착력으로 상기 상부 기판을 지지하는 점착척;을 포함한다.The support chuck includes: a support block inserted into the upper support; And an adhesive chuck which is installed on one surface of the support block so as to be exposed to one surface of the support block on which the upper substrate is supported, and supports the upper substrate with adhesive force.

상기 척 이동 기구는, 상기 상부 기판이 지지되는 상기 지지척에서 상기 점착척의 일측에 설치된 탄성 변형막; 및 상기 상부 지지대 내에서, 일단이 상기 지지척과 연결되도록 설치되며, 상기 탄성 변형막의 변형에 의해 동작하여, 상기 지지척을 상기 탄성 변형막의 변형 방향과 반대 방향으로 이동시키는 이동 부재;를 포함한다.Wherein the chuck moving mechanism includes: an elastic deformation film provided on one side of the adhesive chuck on the support chuck on which the upper substrate is supported; And a moving member installed in the upper support so as to be connected to the support chuck at one end thereof and moving by the deformation of the elastic deformation film to move the support chuck in a direction opposite to the deformation direction of the elastic deformation film.

상기 캡은 상기 지지 블록의 폭 방향에서 점착척의 안쪽에 위치하여 탄성 변형막의 전방에 위치하는 커버 부재와, 일단이 상기 커버 부재에 연결되고, 상기 커버 부재의 가장자리로부터 외측 방향으로 연장되도록 형성되어 타단이 상기 지지대에 체결되는 연결 부재를 포함한다.Wherein the cap includes a cover member positioned in front of the resiliently deformable film in a width direction of the support block and positioned inside the pressure-sensitive adhesive chuck, one end connected to the cover member and extending outwardly from an edge of the cover member, And a connecting member which is fastened to the support base.

상기 캡의 커버 부재는 상기 커버 부재와 마주보는 상기 탄성 변형막의 일면과 이격되도록 설치되며, 상기 커버 부재는 적어도 상기 커버 부재와 마주보는 탄성 변형막의 일면의 면적에 비해 크거나, 같다.The cover member of the cap is spaced apart from one surface of the elastically deformable film facing the cover member, and the cover member is at least equal to an area of at least one surface of the elastically deformable film facing the cover member.

상기 지지대를 상하 방향으로 관통하도록 마련되어, 일단이 기판이 지지되는 상기 지지대의 일면으로 노출되도록 형성되며, 상호 이격 배치된 복수의 진공홀을 포함한다.And a plurality of vacuum holes spaced apart from each other and formed so as to be exposed through one surface of the support table, one end of which is supported by the substrate.

상기 이동 부재는, 내부 공간을 가지며, 상기 삽입 공간에서 일단이 지지 블록과 연결되고 타단이 상기 지지대에 지지되도록 설치된 바디;상기 바디 내에 설치된 탄성 부재; 및 일단이 바디 내로 삽입되어 탄성 부재와 연결되고, 타단이 바디 외부로 돌출되어 지지 블록과 연결되어, 상기 탄성 부재에 의해 기판이 위치한 방향으로 전진 이동하거나, 상기 기판과 반대 방향으로 후진 이동 가능한 로드;를 포함한다.The moving member includes a body having an inner space, one end of which is connected to the support block in the insertion space, and the other end of which is supported by the support, an elastic member provided in the body, And an elastic member having one end connected to the elastic member and the other end projecting to the outside of the body and connected to the support block so that the elastic member can move forward or backward in the direction in which the substrate is positioned, .

상기 상부 지지대에는 상기 상부 지지대의 연장 방향으로 상호 이격되도록 복수의 삽입 공간이 마련되며, 상기 지지척이 복수개로 마련되어, 복수의 삽입 공간 내에 각기 설치되고, 상기 복수의 지지척 각각에 상기 탄성 변형막 및 이동 부재가 설치되고, 상기 복수의 탄성 변형막 각각을 커버하도록 캡이 설치된다.Wherein the upper support is provided with a plurality of insertion spaces spaced apart from each other in the direction of extension of the upper support, the support chuck is provided in each of a plurality of insertion spaces, And a moving member, and a cap is provided to cover each of the plurality of elastic deformation films.

본 발명의 실시형태에 의하면, 기판을 지지하는 지지척이 탄성 변형막의 탄성 변형과 지지척에 연결된 이동 부재에 의해 전후방으로 이동한다. 이에, 탄성 변형막을 팽창시키면, 지지척이 이동 부재에 의해 후진 이동하며, 따라서 기판이 지지척으로부터 용이하게 분리된다. 이와 같이, 탄성 변형막 및 이동 부재에 의해 점착척이 구비된 지지척 전체가 후진 이동함에 따라, 기판의 손상 없이, 점착척으로부터 기판이 용이하게 탈락되는 효과가 있다.According to the embodiment of the present invention, the support chuck for supporting the substrate is moved forward and backward by the elastic deformation of the elastic deformation film and the movable member connected to the support chuck. Thus, when the elastic deformation film is expanded, the supporting chuck is moved backward by the moving member, so that the substrate is easily separated from the supporting chuck. As described above, as the entire support chuck provided with the adhesive chuck by the elastic deformation film and the movable member moves backward, the substrate is easily removed from the adhesive chuck without damaging the substrate.

또한, 기판과 탄성 변형막 사이에 캡이 설치되어, 탄성 변형막의 팽창으로 인한 응력이 기판으로 전달되지 않아, 기판의 손상을 방지할 수 있으며, 종래와 같이 탄성 변형막으로부터 가해지는 응력에 의해 상부 기판과 하부 기판 간의 정렬이 틀어지는 문제를 방지할 수 있다.In addition, since a cap is provided between the substrate and the elastic deformation film, the stress due to the expansion of the elastic deformation film is not transmitted to the substrate, thereby preventing damage to the substrate. It is possible to prevent the problem of misalignment between the substrate and the lower substrate.

그리고, 지지척을 후진 이동시키는 구동원으로서 종래에도 상부 기판의 언로딩을 위해 사용되고 있는 탄성 변형막을 이용함으로써, 지지척을 후진 이동시키는 별도의 구동부를 마련하지 않아도 되는 장점이 있다. The use of the elastic deformation film, which is conventionally used for unloading the upper substrate, as the driving source for moving the support chuck backward, does not require a separate driving unit for moving the support chuck backward.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 요부를 도시한 단면도
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 지지척 및 캡을 도시한 입체 도면
도 3은 상부 지지대에 설치된 본 발명의 실시예에 따른 지지척 및 캡을 도시한 입체 도면
도 4는 지지대에 본 발명에 실시예에 따른 지지척, 캡 및 척 이동 기구가 상부 지지대에 설치된 모습을 타나낸 단면도
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 지지척 및 이동 기구의 동작을 나타낸 단면도
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에서 상부 기판과 하부 기판 간의 합착을 위해, 상부 기판과 하부 기판이 상호 접촉되도록 상부 지지대와 하부 지지대가 인접하도록 이동한 상태를 도시한 단면도
도 7은 상부 지지대 및 지지척으로부터 상부 기판을 분리(언로딩)하는 동작을 도시한 단면도
도 8은 상부 기판이 분리된 상부 지지대를 상승시킨 모습을 도시한 단면도1 is a cross-sectional view showing a main part of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention;
2 is a three-dimensional drawing showing a support chuck and a cap according to an embodiment of the present invention;
3 is a three-dimensional drawing showing a support chuck and a cap according to an embodiment of the present invention installed on an upper support;
FIG. 4 is a cross-sectional view of a supporting stand, in which a supporting chuck, a cap and a chuck moving mechanism according to an embodiment of the present invention are installed on an upper supporting table
5 is a cross-sectional view showing the operation of the support chuck and the movement mechanism according to the embodiment of the present invention
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a state in which an upper support and a lower support are moved so that an upper substrate and a lower substrate are in contact with each other so that the upper substrate and the lower substrate are brought into contact with each other in the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view showing the operation of separating (unloading) the upper substrate from the upper support and the support chuck
8 is a cross-sectional view showing a state in which the upper substrate is separated from the upper substrate

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, It is provided to let you know. Wherein like reference numerals refer to like elements throughout.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 요부를 도시한 단면도이다. 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 지지척 및 캡을 도시한 입체 도면이다. 도 3은 상부 지지대에 설치된 본 발명의 실시예에 따른 지지척 및 캡을 도시한 입체 도면이다. 도 4는 지지대에 본 발명에 실시예에 따른 지지척, 캡 및 척 이동 기구가 상부 지지대에 설치된 모습을 타나낸 단면도이다. 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 지지척 및 이동 기구의 동작을 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a main part of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a three-dimensional view showing a support chuck and a cap according to an embodiment of the present invention. 3 is a three-dimensional view showing a support chuck and a cap according to an embodiment of the present invention installed on an upper support. FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a state in which a support chuck, a cap, and a chuck movement mechanism according to an embodiment of the present invention are installed on an upper support on a support. 5 is a cross-sectional view illustrating the operation of the support chuck and the movement mechanism according to the embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 상하부 기판을 합착시키는 기판 합착 장치로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 내부 공간을 가지는 챔버(1000), 챔버(1000) 내에 설치되어 상부 기판(S1)을 지지하는 상부 지지대(4100)와 상기 상부 지지대(4100)에 설치되어 점착력으로 상부 기판(S1)을 지지 고정하는 복수의 지지척(4300)이 구비된 기판 지지 모듈(4000)(이하, 상부 기판 지지 모듈(4000)), 상부 지지대(4100)의 하측에서 마주보도록 설치되어, 하부 기판(S2)이 안착, 고정되는 하부 지지대(2000), 상부 지지대(4100)의 상부와 연결되어 상기 상부 지지대(4100)를 승하강 시키는 상부 구동부(5000), 하부 지지대(2000)의 하부에 연결되어 상기 하부 지지대(2000)를 승하강시키는 하부 구동부(3000)를 포함한다.1, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a chamber 1000 having an internal space, a substrate 1000 installed in the chamber 1000, A substrate supporting module 4000 provided on the upper supporting table 4100 and having a plurality of supporting chucks 4300 for supporting and fixing the upper substrate S1 by adhesive force A lower support 2000 installed to face the lower substrate S2 and fixed to the upper portion of the upper support 4100 so as to face the upper support 4100, And a lower driving part 3000 connected to a lower part of the lower supporting part 2000 to move the lower supporting part 2000 up and down.

챔버(1000)는 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2) 간을 상호 합착시키는 공정이 실시될 수 있는 내부 공간을 가진다. 이러한 챔버(1000)는 예를 들어, 상부 챔버(1000)와 하부 챔버(1000)로 분리되어 형성될 수 있으며, 상부 챔버(1000)와 하부 챔버(1000)는 탈착 가능하게 체결된다. 상부 챔버(1000)와 하부 챔버(1000) 간의 탈착을 위해, 상기 상부 챔버(1000) 및 하부 챔버(1000) 각각을 승하강시키는 별도의 승강 부재(미도시)를 더 구비하여, 상부 챔버(1000) 또는 하부 챔버(1000)를 승하강시킴으로써, 기판(S1, S2)를 챔버(1000) 내, 외측으로 출입시킬 수 있다. 또한, 챔버(1000)에는 도시되지는 않았지만, 챔버(1000) 내부의 압력을 조절하는 별도의 압력 조절 수단 즉, 펌프와, 불순물을 배기하는 별도의 배기 수단이 설치된다.The chamber 1000 has an inner space through which a process of mutually adhering the upper substrate S1 and the lower substrate S2 can be performed. Such a chamber 1000 may be formed separately, for example, as an upper chamber 1000 and a lower chamber 1000, and the upper chamber 1000 and the lower chamber 1000 are detachably coupled. The upper chamber 1000 and the lower chamber 1000 may further include an elevation member (not shown) for raising and lowering the upper chamber 1000 and the lower chamber 1000, respectively, for detachment between the upper chamber 1000 and the lower chamber 1000, The substrates S1 and S2 can be moved in and out of the chamber 1000 by raising or lowering the upper chamber 1000 or the lower chamber 1000. [ Further, although not shown in the chamber 1000, a separate pressure regulating means for regulating the pressure inside the chamber 1000, that is, a pump and a separate exhaust means for exhausting impurities are provided.

하부 지지대(2000)는 챔버(1000) 내부의 하측에 배치되어, 하부 기판(S2)을 지지 고정한다. 이러한 하부 지지대(2000)는 하부 기판(S2)과 대응하는 형상, 예컨대 그 단면이 사각형인 판 형상으로 제작될 수 있으며, 하부 기판(S2)의 지지 고정을 위해, 복수의 진공홀(미도시)이 마련될 수 있다. 즉, 하부 지지대(2000)에는 상기 하부 지지대(2000)를 상하 방향으로 관통하고, 일단이 하부 지지대(2000)의 상부면으로 노출되도록 하는 복수의 진공홀 마련될 수 있으며, 상기 복수의 진공홀에 펌프가 연결될 수 있다. 이에, 펌프가 동작하면 복수의 진공홀에 진공이 형성되고, 이때 진공 흡착력에 의해 하부 기판(S2)이 하부 지지대(2000)의 상부면에 흡착된다.The lower support 2000 is disposed on the lower side inside the chamber 1000 to support and fix the lower substrate S2. The lower substrate 2000 may be formed in a plate shape having a shape corresponding to that of the lower substrate S2, such as a rectangular cross-section. In order to support and fix the lower substrate S2, a plurality of vacuum holes (not shown) Can be provided. That is, the lower support 2000 may be provided with a plurality of vacuum holes penetrating the lower support 2000 in the vertical direction and exposing one end of the lower support 2000 to the upper surface of the lower support 2000, The pump can be connected. When the pump is operated, a vacuum is formed in the plurality of vacuum holes, and the lower substrate S2 is attracted to the upper surface of the lower supporter 2000 by the vacuum suction force.

상기에서는 하부 지지대(2000)가 진공 흡착력을 이용하는 수단인 것을 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 정전기력으로 하부 기판(S2)을 지지 고정하는 정전척일 수 있다.In the above description, the lower support 2000 is a means for utilizing the vacuum attraction force, but the present invention is not limited thereto. The lower support 2000 may be an electrostatic chuck for supporting and fixing the lower substrate S2 by an electrostatic force.

하부 구동부(3000)는 하부 지지대(200) 승하강시키는 것으로, 하부 지지대(2000)의 하부에 연결된 하부 구동축(3100), 하부 구동축(3100)의 하부에 연결되어 상기 하부 구동축(3100)에 승하강 동력을 제공하는 하부 동력부(3200)를 포함한다. 여기서 하부 구동축(3100)은 챔버(1000) 하부의 일부를 관통하도록 설치되며, 하부 구동축(3100)에 의한 챔버(1000)의 밀봉 파괴를 방지하기 위해 하부 구동축(3100)의 둘레를 감싸도록 벨로우즈가 설치될 수 있다. 그리고 하부 구동부(3000)에는 도시되지는 않았지만, 하부 지지대(2000)를 X, Y 및 θ 방향으로 회전시켜, 하부 기판(S2)의 위치를 조절하는 정렬 수단(미도시)을 더 구비할 수 있다.The lower driving part 3000 moves up and down the lower supporting part 200 and is connected to the lower part of the lower driving shaft 3100 and the lower driving shaft 3100 connected to the lower part of the lower supporting part 2000, And a lower power section 3200 that provides power. The lower driving shaft 3100 is installed to penetrate a part of the lower portion of the chamber 1000 and is provided with a bellows to surround the lower driving shaft 3100 in order to prevent the chamber 1000 from being damaged by the sealing by the lower driving shaft 3100 Can be installed. Although not shown, the lower driving unit 3000 may further include aligning means (not shown) for adjusting the position of the lower substrate S2 by rotating the lower supporting table 2000 in X, Y, and θ directions .

상부 기판 지지 모듈(4000)은 진공 흡착력 및 점착력으로 상부 기판(S1)을 지지 고정한다. 이러한 상부 기판 지지 모듈(4000)은 챔버(1000) 내부에서 하부 지지대(2000)의 상측에 대향 배치되며, 진공 흡착력으로 상부 기판(S1)을 지지 고정하는 복수의 진공홀(4500)이 마련된 상부 지지대(4100), 상부 지지대(4100) 내에 삽입 설치되며, 상기 상부 지지대(4100)의 연장 방향으로 상호 이격 배치되어 상부 기판(S1)을 지지 고정하는 복수의 지지척(4300), 상부 기판(S2)이 지지되는 방향인 지지척(4300)의 일측에 설치되어, 상기 지지척(4300)의 적어도 일부를 커버하는 복수의 캡(4600), 복수의 지지척(4300) 각각에 연결되어, 탄성력에 의해 지지척(4300)이 이동이 가능하도록 하는 복수의 척 이동 기구(4700)를 포함한다. 또한, 상부 기판 지지 모듈(4000)은 복수의 진공홀(4500)과 연결되어, 상기 복수의 진공홀(4500) 내부를 펌핑하거나, 가스를 공급하는 진공홀 조절부(4200), 복수의 척 이동 기구(4700)의 동작을 조절하는 이동 조절부(4400)를 포함한다.The upper substrate supporting module 4000 supports and fixes the upper substrate S1 by a vacuum attraction force and an adhesive force. The upper substrate supporting module 4000 includes a plurality of vacuum holes 4500 disposed inside the chamber 1000 and opposed to the upper side of the lower substrate 2000 to support and fix the upper substrate S1 by a vacuum suction force. A plurality of support chucks 4300 inserted into the upper support 4100 and spaced apart from each other in the extending direction of the upper support 4100 to support and fix the upper substrate S1, A plurality of caps 4600 that cover at least a part of the support chuck 4300 and a plurality of support chucks 4300 that are connected to each of the support chucks 4300, And a plurality of chuck moving mechanisms 4700 for allowing the support chuck 4300 to move. The upper substrate supporting module 4000 includes a vacuum hole adjusting part 4200 connected to the plurality of vacuum holes 4500 for pumping the inside of the plurality of vacuum holes 4500 or supplying gas, And a movement regulator 4400 for regulating the operation of the mechanism 4700.

상부 지지대(4100)는 상부 기판(S1)과 대응하는 형상, 예컨대 그 단면이 사각형인 판 형상이며, 이러한 상부 지지대(4100)에는 복수의 지지척(4300)이 삽입 설치되는 복수의 삽입 공간(4100)과, 복수의 진공홀(4500)이 마련된다. 복수의 삽입 공간(4100)은 상부 기판(S1)이 지지되는 일측 즉, 하측이 개방된 형상이다. 진공홀(4500)은 도 1에 도시된 바와 같이 상부 지지대(4100)의 일부를 상하 방향으로 관통하도록 형성되며, 일단이 상부 기판(S1)이 지지되는 상부 지지대(4100)의 일면 즉, 하부면으로 노출되도록 형성된다. 그리고 진공홀(4500)은 복수개로 마련되어, 지지척(4300)과 지지척(4300) 사이와, 상기 지지척(4300)의 외측에 위치하도록 마련된다.The upper support 4100 includes a plurality of insertion spaces 4100 in which a plurality of support chucks 4300 are inserted. The upper support 4100 has a shape corresponding to that of the upper substrate S1, And a plurality of vacuum holes 4500 are provided. The plurality of insertion spaces 4100 are formed on one side where the upper substrate S1 is supported, that is, the lower side is opened. 1, the vacuum hole 4500 is formed so as to penetrate a part of the upper support 4100 in the up and down direction and has one end connected to one surface of the upper support 4100 on which the upper substrate S1 is supported, As shown in FIG. A plurality of vacuum holes 4500 are provided so as to be positioned between the support chuck 4300 and the support chuck 4300 and outside the support chuck 4300.

진공홀 조절부(4200)는 상부 지지대(4100) 내에 마련된 복수의 진공홀(4500)의 타단과 연결되고, 적어도 일단이 챔버(1000) 외부에 위치하도록 연장 설치된 제 1 연장 배관(4210), 챔버(1000) 외부에 설치된 진공 펌프(4220) 및 불활성 가스가 저장된 제 1 가스 저장부(4230), 일단이 진공 펌프(4220)에 연결되고 타단이 제 1 연장 배관(4210)과 연결된 펌핑 배관(4240), 일단이 제 1 가스 저장부(4230)에 연결되고 타단이 제 1 연장 배관(4210)과 연결된 제 1 가스 배관(4260), 펌핑 배관(4240)과 제 1 가스 배관(4260)에 각기 설치된 밸브(4250, 4270)를 포함한다. 이에, 상부 기판(S1)의 로딩을 위해, 상부 기판(S1)이 상부 지지대(4100)의 하부면과 접촉되도록 배치된 상태에서 진공 펌프(4220)를 동작시키면, 펌핑 배관(4240), 제 1 연장 배관(4210)에 의해 복수의 진공홀(4500)에 진공이 형성되고, 이때 발생되는 진공 흡착력에 의해 상부 기판(S1)이 상부 지지대(4100)에 흡착되면서 밀착된다. 이후, 상부 기판(S1)의 언로딩을 위해 진공 펌프(4220)의 동작을 중지하고, 제 1 가스 저장부(4230)로부터 제 1 가스 배관(4260) 및 제 1 연장 배관(4210)으로 불활성 가스, 예컨대 질소(N2) 가스를 공급하면, 상기 질소 가스가 복수의 진공홀(4500)로 이동된다. 이때 복수의 진공홀(4500)로부터 토출되어 상부 기판(S1)으로 분사되는 질소의 분사압은 상부 지지대(4100)로부터 상기 상부 기판(S1)이 분리되도록 도와준다.The vacuum hole adjusting portion 4200 is connected to the other end of the plurality of vacuum holes 4500 provided in the upper support 4100 and includes a first extension pipe 4210 extended at one end to be located outside the chamber 1000, A vacuum pump 4220 installed outside the vacuum pump 1000 and a first gas storage part 4230 storing an inert gas and a pumping pipe 4240 connected at one end to the vacuum pump 4220 and at the other end to the first extension pipe 4210, A first gas pipe 4260 having one end connected to the first gas reservoir 4230 and the other end connected to the first extension pipe 4210, a pumping pipe 4240 and a first gas pipe 4260 Valves 4250 and 4270. [ When the vacuum pump 4220 is operated so that the upper substrate S1 is placed in contact with the lower surface of the upper support 4100 for loading the upper substrate S1, the pumping pipe 4240, Vacuum is formed in the plurality of vacuum holes 4500 by the extension pipe 4210 and the upper substrate S1 is attracted to and adhered to the upper support base 4100 by the generated vacuum attraction force. Thereafter, the operation of the vacuum pump 4220 is stopped for unloading the upper substrate S1, and the inert gas is supplied from the first gas reservoir 4230 to the first gas pipe 4260 and the first extension pipe 4210 For example, nitrogen (N 2 ) gas, the nitrogen gas is transferred to the plurality of vacuum holes 4500. At this time, the injection pressure of nitrogen injected from the plurality of vacuum holes 4500 and injected to the upper substrate S1 helps the upper substrate S1 to be separated from the upper supporter 4100.

복수의 지지척(4300) 각각은 도 1에 도시된 바와 같이, 상부 지지대(4100)에 마련된 복수의 삽입 공간(4100)에 수용되도록 설치되며, 상기 삽입 공간(4100) 내에서 하부 지지대(2000)가 위치한 하측 방향과, 상기 하부 지지대(2000)와 반대 방향인 상측 방향으로 이동한다.Each of the plurality of support chucks 4300 is installed to be accommodated in a plurality of insertion spaces 4100 provided in the upper support 4100 and the lower support 2000 in the insertion space 4100, And the upper side, which is the opposite direction to the lower support table 2000.

이하에서는 설명의 편의를 위하여, 지지척(4300)의 상승 이동을 "후방 이동" 이라 하고, 상기 지지척(4300)의 하강 이동을 "전방 이동"이라 정의한다.Hereinafter, the upward movement of the support chuck 4300 is referred to as "backward movement" and the downward movement of the support chuck 4300 is referred to as "forward movement"

복수의 지지척(4300) 각각은 도 2 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 상부 지지대(4100)에 마련된 삽입 공간(4100)에 삽입 설치된 지지 블록(4310) 및 지지 블록(4310)에 장착되어, 상부 기판(S1)을 점착력으로 지지 고정하는 점착척(4320)을 포함한다. Each of the plurality of support chucks 4300 is mounted on a support block 4310 and a support block 4310 inserted in an insertion space 4100 provided in the upper support 4100 as shown in Figures 2 to 5, And an adhesive chuck 4320 for adhesively supporting and fixing the upper substrate S1.

실시예에 따른 지지 블록(4310)은 예컨대, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 원형의 판 형상이며, 이러한 지지 블록(4310) 상에서 상부 기판(S1)이 지지되는 일면 즉, 하부면으로 점착척(4320)의 표면이 노출되도록 설치된다. 실시예에서는 점착척(4320)은 지지 블록(4310)의 가장자리를 따라 설치되나, 이에 한정되지 않고, 지지 블록(4310)의 다양한 위치에 설치될 수 있다.The support block 4310 according to the embodiment is, for example, in the shape of a circular plate, as shown in Figs. 2 and 3, and on one side of the support block 4310 on which the upper substrate S1 is supported And the surface of the adhesive chuck 4320 is exposed. In the embodiment, the adhesive chuck 4320 is provided along the edge of the support block 4310, but not limited thereto, and may be installed at various positions of the support block 4310.

점착척(4320)은 점착력을 이용하여 상부 기판(S1)을 지지 고정하는 것으로, 실시예에서는 하나의 지지 블록(4310) 상에 점착척(4320)이 복수개로 마련된다. 그리고 복수의 점착척(4320)은 도 2에 도시된 바와 같이 상부 기판(S1)이 지지되는 지지 블록(4310)의 일면의 가장자리를 따라 나열되어 상호 이격 설치된다. 물론 점착척(4320)은 복수개가 아닌 단일체로 마련되어 지지 블록(4310)에 설치될 수도 있다. 이러한 점착척(4320)은 상부 기판(S1)이 접착되었다가 떨어지더라도 상부 기판(S1)에 접착 흔적을 남지 않으면서, 지지 블록(4310)에는 그대로 장착되어 있는 특성을 가지는 재료로 제조된다. 점착척(4320)의 재료는 예컨대 실리콘계, 아크릴계 또는 불소계 등으로 이루어진 점착 시트로 제작될 수 있다. 점착척(4320)의 표면에는 복수의 돌기가 마련될 수 있으며, 돌기의 형상은 상부 기판(S1)과 접촉되는 일면이 평탄한 원형 또는 다양한 다각형으로 형성될 수 있다.The adhesive chuck 4320 supports and fixes the upper substrate S1 using adhesive force. In the embodiment, a plurality of adhesive chucks 4320 are provided on one support block 4310. [ The plurality of adhesive chucks 4320 are spaced apart from one another along the edge of one surface of the support block 4310 on which the upper substrate S1 is supported as shown in FIG. Of course, the adhesive chuck 4320 may be provided as a single body rather than a plurality of the adhesive chucks 4320 and installed in the support block 4310. The adhesive chuck 4320 is made of a material having the characteristics of being mounted on the support block 4310 without leaving an adhesive mark on the upper substrate S1 even if the upper substrate S1 is adhered and dropped. The material of the adhesive chuck 4320 may be made of a pressure sensitive adhesive sheet made of, for example, a silicone type, an acrylic type or a fluorine type. A plurality of protrusions may be provided on the surface of the adhesive chuck 4320. The shape of the protrusions may be a flat circular shape or various polygons that are in contact with the upper substrate S1.

척 이동 기구(4700)는 탄성력을 가지는 수단으로서, 지지척(4300)이 전후방으로 이동 가능하도록 한다. 특히 척 이동 기구(4700)는 상부 기판(S1)을 상부 지지대(4100) 및 지지척(4300)으로부터 분리시키는 언로딩 시에, 상기 지지척(4300)이 후방으로 이동하도록 하는 구동원의 역할이며, 이로 인해 상부 기판(S1)이 점착척(4320)으로부터 용이하게 분리될 수 있다.The chuck moving mechanism 4700 is a means having an elastic force so that the support chuck 4300 can be moved forward and backward. Particularly, the chuck moving mechanism 4700 serves as a driving source for moving the support chuck 4300 backward when unloading the upper substrate S1 from the upper support 4100 and the support chuck 4300, This allows the upper substrate S1 to be easily separated from the adhesive chuck 4320. [

이러한 척 이동 기구(4700)는 지지 블록(4310) 상에서 점착척(4320)의 일측에 장착되어, 탄성 변형이 가능한 탄성 변형막(4710), 상부 지지대(4100)에 마련된 삽입 공간(4110)에 위치하며, 일단이 지지 블록(4310)에 연결되고, 타단이 상부 지지대(4100)에 연결되어, 탄성 변형막(4710)의 팽창 또는 수축과 같은 탄성 변형에 따라 상대적 이동 또는 상대적인 방향으로 신장, 수축이 가능한 이동 부재(4720)를 포함한다.The chuck moving mechanism 4700 is mounted on one side of the sticking chuck 4320 on the support block 4310 and is placed in an insertion space 4110 provided in the upper support 4100, One end of which is connected to the support block 4310 and the other end of which is connected to the upper support 4100 so that the elastic deformation film 4710 undergoes relative movement or elongation and contraction in the relative direction due to elastic deformation such as expansion or contraction Possibly including a movable member 4720.

탄성 변형막(4710)은 지지 블록(4310)을 지지하고 있는 이동 부재(4720)가 동작하도록 하는 구동원의 역할을 하는 것으로서, 지지 블록(4310)에서 점착척(4320)의 내측 또는 안쪽에 설치된다. 여기서, 탄성 변형막(4710)은 가장자리 영역이 지지 블록(4310) 내에 삽입되어 별도의 결합부재(미도시)에 의해 지지 블록(4310)에 체결 고정되고, 나머지 영역 즉, 중심 또는 중앙 영역은 후술되는 캡(4600)의 후면과 대향하도록 또는 마주보도록 설치된다. 또한, 캡(4600)의 후면과 마주는 탄성 변형막(4710)의 영역의 표면은 점착척(4320)에 비해 내측 또는 안쪽에 위치하도록 설치된다. 즉, 상부 기판(S2)이 지지되는 상부 지지대(4100) 및 점착척(4320)의 일면에 비해 캡(4600)의 후면과 마주보는 탄성 변형막(4710) 영역의 표면이 지지 블록(4310)의 내측 또는 안쪽에 위치하도록 설치된다. 이에, 탄성 변형막(4710)이 팽창하지 않고 원래 상태를 유지하고 있을 때, 캡(4600)의 후면과 탄성 변형막(4710)은 소정 거리 이격되어 있는 상태가 되며, 캡(4600)과 탄성 변형막(4710) 사이의 이격 공간은 탄성 변형막(4710)이 팽창할 수 있는 공간으로서의 역할을 한다.The elastic deformation film 4710 serves as a driving source for moving the movable member 4720 supporting the support block 4310 and is installed inside or inside the sticking chuck 4320 in the support block 4310 . The elastic deformation film 4710 has an edge region inserted into the support block 4310 and fastened to the support block 4310 by a separate engaging member (not shown), and the remaining region, that is, And is opposed to or facing the rear surface of the cap 4600 as shown in FIG. Further, the surface of the region of the elastic deformation film 4710 facing the rear surface of the cap 4600 is installed so as to be located inside or inside the adhesive chuck 4320. That is, the surface of the elastic deformation film 4710, which faces the rear surface of the cap 4600, as compared with one surface of the upper support 4100 and the adhesive chuck 4320 on which the upper substrate S2 is supported, Inward or inward. Thus, when the elastic deformation film 4710 does not expand and maintains its original state, the rear surface of the cap 4600 and the elastic deformation film 4710 are spaced apart from each other by a predetermined distance, and the cap 4600 and the elastic deformation The spacing space between the films 4710 serves as a space through which the elastic deformation film 4710 can expand.

탄성 변형막(4710)은 상기 탄성 변형막(4710)을 향해 분사되는 불활성 가스에 의해 팽창이 가능하고, 불활성 가스 공급을 배기시키면 다시 수축하여 원래 상태로 복원되는 탄성 변형이 가능하다. 실시예에 따른 탄성 변형막(4710)은 탄성 변형이 가능한 재료, 예를 들어, 고무, 엔지니어링 플라스틱 등으로 얇은 막 또는 시트 형태로 제조된다. 보다 구체적인 예로, 탄성 변형막(4710)은 다이어프램(diaphragm)일 수 있다.The elastic deformation film 4710 can be expanded by the inert gas injected toward the elastic deformation film 4710, and when the inert gas supply is exhausted, the elastic deformation film 4710 can be elastically deformed to be restored to its original state again. The elastic deformation film 4710 according to the embodiment is manufactured in the form of a thin film or sheet by a material capable of elastically deforming, for example, rubber, engineering plastic or the like. As a more specific example, the elastic deformation film 4710 may be a diaphragm.

이동 부재(4720)는 탄성 변형막(4710)의 탄성 변형에 의해 동작하여, 지지 블록(4310)을 상기 탄성 변형막(4710)의 탄성 변형 방향과 반대 방향으로 이동시킨다. 즉, 이동 부재(4720)는 탄성 변형막(4710)이 캡(4600) 또는 상부 기판(S1)을 향해 팽창되며, 지지척(4300) 전체가 캡(4600) 또는 상부 기판(S1)과 반대 방향인 상측으로 후진 이동한다. 또한 반대로 팽창된 탄성 변형막(4710)이 수축하여 복원하고자 하는 힘은 지지 블록(4310) 및 이동 부재(4720)에 가해지는 압축 응력을 해제한다. 이에, 이동 부재(4720)가 원래 상태로 복원되어 지지척(4300) 전체가 캡(4600)이 위치한 방향으로 전진 이동한다. 이러한 이동 부재(4720)는 상부 지지대(4100) 내에서 삽입 공간(4100) 내에 위치하며, 일단이 지지 블록(4310)에 연결되고 타단이 상부 지지대(4100)에 연결된다. 보다 상세하게 설명하면, 이동 부재(4720)는 상부 지지대(4100)에 마련된 삽입 공간(4110) 내에서, 일단이 지지 블록(4310)과 연결되고 타단이 삽입 공간(4100)의 상부벽과 연결되도록 설치된다.The moving member 4720 operates by the elastic deformation of the elastic deformation film 4710 to move the supporting block 4310 in the direction opposite to the elastic deformation direction of the elastic deformation film 4710. [ That is, the moving member 4720 is configured such that the elastic deformation film 4710 is expanded toward the cap 4600 or the upper substrate S1, and the entire supporting chuck 4300 is moved in the direction opposite to the cap 4600 or the upper substrate S1 And moves backward upward. Conversely, the expanded elastic deformation film 4710 contracts and restores the compressive stress applied to the support block 4310 and the shifting member 4720. Thus, the movable member 4720 is restored to its original state, and the entire support chuck 4300 moves forward in the direction in which the cap 4600 is located. This shifting member 4720 is positioned in the insertion space 4100 in the upper support 4100 and has one end connected to the support block 4310 and the other end connected to the upper support 4100. The movable member 4720 is moved in the insertion space 4110 provided in the upper support 4100 so that one end is connected to the support block 4310 and the other end is connected to the upper wall of the insertion space 4100. [ Respectively.

이동 부재(4720)는 지지 블록(4310)이 위치한 방향으로 이동(즉, 전진 이동) 또는 지지 블록(4310)과 반대 방향으로 이동(즉, 후방 이동)이 가능하다. 실시예에 따른 이동 부재(4720)는 스프링(spring)을 포함하는 스프링 플랜져(Spring Plunger)일 수 있다. 즉, 실시예에 따른 이동 부재(4720)는 내부 공간을 가지며, 상하 방향으로 연장 형성되어, 지지 블록(4310)과 삽입 공간(4100)의 상부벽 사이에 설치된 바디(4721), 바디(4721) 내에 설치된 탄성 부재(4722) 즉, 스프링, 일단이 바디(4721) 내로 삽입되어 탄성 부재(4722)와 연결되고 타단이 바디(4721) 외부로 돌출되어 지지 블록(4310)을 지지하는 로드(4723)를 포함한다. 여기서 로드(4723)는 탄성 부재(4722)의 신장, 수축에 의해 지지 블록(4310)이 위치한 방향(즉, 하측 방향)전진 이동, 상기 지지 블록(4310)과 반대 방향(즉, 상측 방향) 후진 이동이 가능하다. 이에, 탄성 변형막(4710)이 팽창하였을 때, 이동 부재(4720)의 로드(4723)는 후진 이동하며, 이때 탄성 부재(4722)가 수축된다. 반대로 팽창된 탄성 변형막(4710)이 수축하여 원래 상태로 복귀될 때, 이동 부재(4720)의 로드(4723)는 전진 이동하며, 이때 탄성 부재(4722)가 신장되어 원래 상태로 복귀된다. 즉, 로드(4723)는 신장 및 수축이 가능한 탄성 부재(4722) 즉 스프링에 의해, 탄성 변형막(4710)의 팽창 및 수축과 같은 탄성 변형에 대해 전후진 이동을 하며, 이러한 로드(4723)에 의해 지지척(4300)이 탄성 변형막(4710)의 탄성 변형에 대해 전후방으로 이동한다.The movable member 4720 is movable in the direction in which the support block 4310 is located (i.e., moved forward) or movable in the opposite direction (i.e., moved backward) with respect to the support block 4310. The moving member 4720 according to the embodiment may be a spring plunger including a spring. That is, the moving member 4720 according to the embodiment includes a body 4721, a body 4721, and a body 4721 provided between the support block 4310 and the upper wall of the insertion space 4100, A rod 4723 which is inserted into the body 4721 and connected to the elastic member 4722 and the other end protrudes outside the body 4721 to support the support block 4310, . Here, the rod 4723 is moved forward by the elongation and contraction of the elastic member 4722 in the direction in which the support block 4310 is located (i.e., downward), in the direction opposite to the support block 4310 Movement is possible. Thus, when the elastic deformation film 4710 expands, the rod 4723 of the moving member 4720 moves backward, at which time the elastic member 4722 contracts. Conversely, when the expanded elastic deformation film 4710 contracts and returns to the original state, the rod 4723 of the moving member 4720 moves forward, at which time the elastic member 4722 is extended and returned to its original state. That is, the rod 4723 moves back and forth with respect to the elastic deformation such as the expansion and contraction of the elastic deformation film 4710 by the elastic member 4722 capable of elongating and contracting, that is, the spring, The support chuck 4300 moves forward and backward with respect to the elastic deformation of the elastic deformation film 4710.

상기에서는 이동 부재(4720)로 스프링을 가지는 스프링 플랜져(Spring Plunger)를 설명하였다. 하지만 이에 한정되지 않고, 탄성 변형막(4710)의 팽창 및 수축에 따라 상대적인 방향으로 힘이 작용하여, 지지 블록(4310)을 전후진 이동시킬 수 있으며, 탄성력을 가지는 다양한 수단이 사용될 수 있다.The spring plunger having the spring as the moving member 4720 has been described above. However, the present invention is not limited to this, and a force may act in a direction relative to the expansion and contraction of the elastic deformation film 4710 to move the support block 4310 back and forth, and various means having elastic force may be used.

탄성 변형막(4710)은 이동 조절부(4400)에 의해 팽창 또는 원래 상태로 복원된다. 이러한 이동 조절부(4400)는 상부 지지대(4100) 및 지지 블록(4310)의 적어도 일부를 상하 방향으로 관통하도록 삽입 설치되어, 탄성 변형막(4710)의 후방을 향해 불활성 가스를 분사하는 복수의 노즐(4480), 일단이 복수의 노즐(4480)과 연결되어, 상기 복수의 노즐(4480) 각각으로 불활성 가스를 공급하는 복수의 분기관(4481), 상부 지지대(4100) 내에서 연장 형성되어, 복수의 분기관(4481)과 연결되고, 일단이 챔버(1000) 외부에 위치하도록 연장 설치된 제 2 연장 배관(4410), 챔버(1000) 외부에 설치된 배기 펌프(4420)와 제 2 가스 저장부(4430), 일단이 배기 펌프(4420)와 연결되고 타단이 제 2 연장 배관(4410)과 연결된 배기 배관(4450), 일단이 제 2 가스 저장부(4430)와 연결되고 타단이 제 2 연장 배관(4410)과 연결된 제 2 가스 배관(4460), 펌핑 배관(4240)과 제 2 가스 배관(4260)에 각기 설치된 밸브(4450, 4470)를 포함한다. 또한, 상부 지지대(4100) 및 지지 블록(4310)의 적어도 일부를 상하 방향으로 관통하도록 삽입 설치되며, 그 내부에 노즐(4480)이 삽입 설치되어 상기 노즐(4480)을 지지하는 노즐 지지 부재(4490)를 포함한다.
The elastic deformation film 4710 is expanded or restored to its original state by the movement regulating portion 4400. The movement regulating portion 4400 is inserted and installed so as to vertically penetrate at least a part of the upper support 4100 and the support block 4310 so that a plurality of nozzles for spraying the inert gas toward the rear of the elastic deformation film 4710 A plurality of branch pipes 4481 connected at one end to the plurality of nozzles 4480 to supply an inert gas to each of the plurality of nozzles 4480, A second extension pipe 4410 connected to the branch pipe 4481 of the chamber 1000 and having one end extended to be located outside the chamber 1000, an exhaust pump 4420 installed outside the chamber 1000 and a second gas storage unit 4430 An exhaust pipe 4450 whose one end is connected to the exhaust pump 4420 and the other end is connected to the second extended pipe 4410, one end is connected to the second gas reservoir 4430 and the other end is connected to the second extension pipe 4410 A second gas pipe 4460 connected to the second gas pipe 4260, a pumping pipe 4240 and a second gas pipe 4260, And a deployed valve (4450, 4470). In addition, a nozzle support member 4490 for supporting the nozzle 4480 is inserted and installed so as to vertically penetrate at least a part of the upper support 4100 and the support block 4310, ).

캡(4600)은 상부 지지대(4100) 상에서 상부 기판(S1)이 지지되는 일면에 위치하며, 탄성 변형막(4710)을 커버하도록 설치된다. 즉, 캡(4600)은 탄성 변형막(4710)의 전방에 위치하여 적어도 상부 기판(S1)과 마주보는 또는 대향하는 탄성 변형막(4710)의 영역을 커버하도록 설치되며, 상부 지지대(4100)에 고정된다. 이러한 캡(4600)을 영역별로 나누어 설명하면, 캡(4600)은 점착척(4320)의 일측, 보다 구체적으로는 점착척(4320)의 내측 또는 안쪽에 위치하여 탄성 변형막(4710)의 전방에 위치하는 커버 부재(4610) 및 커버 부재(4610)의 가장자리로부터 외측 방향으로 연장되도록 형성되어 상부 지지대(4100)에 체결 또는 결합되는 연결 부재(4620)를 포함한다. 여기서 커버 부재(4610)는 탄성 변형막(4710)과 대응하는 형상 예컨대, 원형의 형상일 수 잇다. 또한 커버 부재(4610)는 커버 부재(4610)와 마주보는 탄성 변형막(4710) 일면 즉, 중심 또는 중앙 영역의 면적에 비해 크거나 같다. 연결 부재(4620)는 복수개로 마련되어 각각이 커버 부재(4610)의 가장자리로부터 외측으로 연장되는데, 복수의 연결 부재(4620)가 커버 부재(4610)를 중심으로 등간격으로 이격되도록 설치되는 것이 바람직하다. 또한, 도 2에 도시된 바와 같이 복수의 연결 부재(4620) 각각은 점착척(4320)과 점착척(4320) 사이를 통과하도록 연장되어, 타단이 상부 지지대(4100)에 체결된다. 이러한 캡(4600)은 금속 예컨대, 스테인레스스틸(STS; Stainless Steel)로 이루어질 수 있으며, 이에 한정되지 않고 다양한 금속 재료로 제조될 수 있다.The cap 4600 is disposed on the upper surface of the upper support 4100 where the upper substrate S 1 is supported and is installed to cover the elastic deformation film 4710. That is, the cap 4600 is disposed in front of the elastic deformation film 4710 and covers at least an area of the elastic deformation film 4710 facing or opposed to the upper substrate S1, . The cap 4600 is disposed on one side of the adhesive chuck 4320, more specifically, inside or inside of the adhesive chuck 4320, and is disposed in front of the elastic deformation film 4710 And a connecting member 4620 that is formed to extend outward from the edge of the cover member 4610 and is fastened or coupled to the upper support 4100. [ Here, the cover member 4610 may have a shape corresponding to the elastic deformation film 4710, for example, a circular shape. In addition, the cover member 4610 is equal to or larger than the area of the elastic deforming film 4710 facing the cover member 4610, that is, the central or central area. The plurality of connecting members 4620 are provided so as to extend outwardly from the edge of the cover member 4610. It is preferable that the plurality of connecting members 4620 are spaced equidistantly from each other around the cover member 4610 . 2, each of the plurality of connecting members 4620 extends to pass between the adhesive chuck 4320 and the adhesive chuck 4320, and the other end is fastened to the upper support 4100. As shown in Fig. The cap 4600 may be made of metal such as stainless steel (STS), but it is not limited thereto and may be made of various metal materials.

상부 기판(S1)의 언로딩을 위해 제 2 가스 저장부(4430)로부터 제 2 가스 배관(4460) 및 제 2 연장 배관(4410)으로 불활성 가스, 예컨대 질소(N2) 가스를 공급하면, 상기 질소 가스가 노즐(4480)로부터 토출되어 탄성 변형막(4710)을 향해 분사된다. 이때, 탄성 변형막(4710)의 후방으로 분사되는 불활성 가스의 분사압 또는 상기 탄성 변형막(4710)과 지지 블록(4310) 사이 공간을 채우는 불활성 가스에 의해 탄성 변형막(4710)이 캡(4600)이 위치한 방향으로 팽창된다(도 5 참조). 이때 탄성 변형막(4710)이 캡(4600)과 접촉될 때까지 계속하여 팽창하다가, 상기 캡(4600)과 접촉되면, 상기 탄성 변형막(4710)은 캡(4600)에 의해 차단되어 더이상 팽창하지 못한다. 즉, 불활성 가스의 연속적인 주입에 의해 탄성 변형막(4710)이 계속 팽창하다가 상기 탄성 변형막(4710)이 캡(4600)에 접촉되며, 캡(4600)에 의해 상기 탄성 변형막(4710)이 팽창하려는 힘과 반대 방향으로 저항하는 힘이 발생되며, 이러한 힘은 지지 블록(4310)으로 전달된다. 따라서, 탄성 변형막(4710)을 계속 팽창시키면, 지지 블록(4310)에 캡(4600)과 반대 방향으로의 힘이 전달되고, 이러한 힘은 이동 부재(4720)로 전달된다. 이로 인해, 탄성 변형막(4710)이 팽창될 때, 점착척(4320)이 설치된 지지 블록(4310)은 이동 부재(4720)에 의해 후진 이동하며, 이에 따라 점착척(4320)으로부터 상부 기판(S1)이 용이하게 분리된다. 또한, 상부 기판(S1)이 탄성 변형막(4710)이 아닌 캡(4600)의 일면과 접촉되어 있는 상태에서, 점착척(4320) 및 캡(4600)으로부터 분리되도록 언로딩 되므로, 종래와 같이 탄성 변형막(4710)의 팽창으로 인한 응력이 상부 기판(S1)에 전달되지 않는다. 즉, 상부 기판(S1)이 종래와 같이 탄성 변형막(4710)과 접촉되어 있는 상태에서, 상기 팽창되는 탄성 변형막(4710)으로부터 분리되도록 언로딩 되는 것이 아니라, 탄성 변형막(4710)을 커버하고 있는 캡(4600)에 의해 상기 탄성 변형막(4710)과 접촉하고 있지 않은 상태에서 언로딩이 작업이 수행된다. 이에, 상부 기판(S1)의 언로딩 작업 시에, 탄성 변형막(4710)의 팽창으로 인한 응력이 상부 기판(S1)에 전달되지 않는다.When an inert gas such as nitrogen (N 2 ) gas is supplied from the second gas reservoir 4430 to the second gas pipe 4460 and the second extension pipe 4410 for unloading the upper substrate S1, Nitrogen gas is ejected from the nozzle 4480 and is ejected toward the elastic deformation film 4710. At this time, the elastically deformable film 4710 is elastically deformed by the injection pressure of the inert gas injected to the rear of the elastic deformation film 4710 or the inert gas filling the space between the elastic deformation film 4710 and the support block 4310, (See Fig. 5). At this time, the elastic deformation film 4710 continues to expand until it comes into contact with the cap 4600, and when the elastic deformation film 4710 comes into contact with the cap 4600, the elastic deformation film 4710 is blocked by the cap 4600, can not do it. That is, by the continuous injection of the inert gas, the elastic deformation film 4710 continuously expands, the elastic deformation film 4710 contacts the cap 4600, and the elastic deformation film 4710 is moved by the cap 4600 A force is generated that opposes the force to be inflated and this force is transmitted to the support block 4310. [ Therefore, when the elastic deformation film 4710 is continuously inflated, a force in the opposite direction to the cap 4600 is transmitted to the support block 4310, and this force is transmitted to the moving member 4720. As a result, when the elastic deformation film 4710 is inflated, the supporting block 4310 provided with the sticking chuck 4320 is moved backward by the moving member 4720, thereby moving from the sticking chuck 4320 to the upper substrate S1 ) Are easily separated. Since the upper substrate S1 is unloaded so as to be separated from the adhesive chuck 4320 and the cap 4600 in a state in which the upper substrate S1 is in contact with the one surface of the cap 4600 instead of the elastic deformation film 4710, The stress due to the expansion of the deformation film 4710 is not transmitted to the upper substrate S1. That is, the upper substrate S1 is not unloaded so as to be separated from the expanding elastic deformation film 4710 while the upper substrate S1 is in contact with the elastic deformation film 4710 as in the conventional case, The unloading operation is performed in a state where the cap 4600 is not in contact with the elastic deformation film 4710. Therefore, during the unloading operation of the upper substrate S1, the stress due to the expansion of the elastic deformation film 4710 is not transmitted to the upper substrate S1.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에서 상부 기판과 하부 기판 간의 합착을 위해, 상부 기판과 하부 기판이 상호 접촉되도록 상부 지지대와 하부 지지대가 인접하도록 이동한 상태를 도시한 단면도이다. 도 7은 상부 지지대 및 지지척으로부터 상부 기판을 분리(언로딩)하는 동작을 도시한 단면도이다. 도 8은 상부 기판이 분리된 상부 지지대를 상승시킨 모습을 도시한 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a state in which an upper support and a lower support are moved so that an upper substrate and a lower substrate are in contact with each other, so that the upper substrate and the lower substrate are joined together in the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention. 7 is a cross-sectional view showing the operation of separating (unloading) the upper substrate from the upper support and the support chuck. 8 is a cross-sectional view showing a state in which the upper substrate is separated from the upper support.

이하, 도 1 내지 도 8을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 이용한 상부 기판과 하부 기판 간의 합착 방법을 설명한다. 이때 예를 들어 액정디스플레이 패널을 제조하는 것을 예를 들어 설명한다.Hereinafter, a method of attaching the upper substrate and the lower substrate using the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 8. FIG. At this time, for example, manufacturing of a liquid crystal display panel will be described as an example.

먼저, 도 1에 도시된 바와 같이, 공통 전극(미도시)과 컬러 필터 패턴(미도시)이 형성된 상부 기판(S1)을 상부 지지대(4100)에 지지 고정시키고, 액정을 적하된 하부 기판(S2)을 하부 지지대(2000)에 안착시킨다. 상부 기판(S1)을 상부 지지대(4100)에 지지시키기 위해, 상부 기판(S1)이 상부 지지대(4100)의 하부면과 접촉되도록 인접 배치시키고, 진공 펌프(4220)를 동작시킨다. 진공 펌프(4220)의 동작에 의해 펌핑 배관(4240), 제 1 연장 배관(4210) 및 진공홀(4500)에 진공이 형성되며, 발생되는 진공 흡착력에 의해 상부 기판(S1)이 상부 지지대(4100)에 밀착된다. 이때, 복수의 지지척(4300) 각각에 마련된 점착척(4320)의 점착력에 의해 상부 기판(S1)이 상부 지지대(4100) 및 복수의 지지척(4300)에 고정된다.First, as shown in FIG. 1, an upper substrate S1 having a common electrode (not shown) and a color filter pattern (not shown) formed thereon is supported and fixed on an upper support 4100, and a lower substrate S2 To the lower support 2000. The upper substrate S1 is disposed adjacent to the lower surface of the upper supporter 4100 so as to support the upper substrate S1 to the upper supporter 4100 and the vacuum pump 4220 is operated. Vacuum is formed in the pumping pipe 4240, the first extension pipe 4210 and the vacuum hole 4500 by the operation of the vacuum pump 4220 and the upper substrate S1 is held by the upper support 4100 . At this time, the upper substrate S1 is fixed to the upper support table 4100 and the plurality of support chucks 4300 by the adhesive force of the adhesive chuck 4320 provided on each of the plurality of support chucks 4300. [

상부 기판(S1)이 점착척(4320)의 점착력에 의해 상부 지지대(4100)에 지지 고정되면, 진공 펌프(4220)의 동작을 중지한다. 이때, 진공 펌프(4220)의 동작을 중지하더라도, 챔버(1000) 내부가 진공 상태이기 때문에, 챔버(1000) 내부와 진공홀(4500) 내부의 압력이 진공 압력으로 동일하게 되어, 상부 기판(S1)이 낙하되지 않는다.When the upper substrate S1 is supported and fixed to the upper support 4100 by the adhesive force of the adhesive chuck 4320, the operation of the vacuum pump 4220 is stopped. At this time, even if the operation of the vacuum pump 4220 is stopped, since the inside of the chamber 1000 is in a vacuum state, the pressure inside the chamber 1000 and the vacuum hole 4500 becomes equal to the vacuum pressure, ) Does not drop.

상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2) 각각이 지지 고정되면, 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2) 간을 정렬시킨 후, 상기 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2) 중 어느 하나의 가장자리에 실링제 예컨대, 광 경화성 실링제를 도포한다. 그리고, 도 6에 도시된 바와 같이 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)이 상호 접촉되도록 상부 지지대(4100) 및 하부 지지대(2000) 중 적어도 어느 하나를 이동시킨다.When the upper substrate S1 and the lower substrate S2 are supported and fixed, the upper substrate S1 and the lower substrate S2 are aligned, and then one of the upper substrate S1 and the lower substrate S2 A sealing agent such as a photo-curable sealing agent is applied to the edges. 6, at least one of the upper support 4100 and the lower support 2000 is moved so that the upper substrate S1 and the lower substrate S2 are in contact with each other.

이후, 도 5 및 도 7에 도시된 바와 같이, 상부 기판(S1)을 상부 지지대(4100) 및 지지척(4300)으로부터 분리시킨다. 이를 위해, 진공홀 조절부(4200)의 제 1 가스 저장부(4230)로부터 불활성 가스 예컨대, 질소 가스를 공급하면, 복수의 진공홀(4500)로부터 상부 기판(S1)의 후방으로 질소 가스가 분사되어, 점착척(4320)으로부터 상부 기판(S1)이 분리되는 것을 돕는다. 또한, 제 2 가스 저장부(4430) 내의 불활성 가스 예컨대, 질소 가스를 제 2 가스 배관(4460)으로 공급하면, 질소 가스는 제 2 연장 배관(4410), 복수의 분기관(4481) 및 복수의 노즐(4480)로 공급되며, 노즐(4480)로 공급된 불활성 가스는 탄성 변형막(4710)의 후방으로 분사된다. 이에, 도 5 및 도 7에 도시된 바와 같이, 복수의 탄성 변형막(4710)이 캡(4600)이 위치한 방향으로 팽창된다.Thereafter, as shown in FIGS. 5 and 7, the upper substrate S1 is separated from the upper support 4100 and the support chuck 4300. For this, when an inert gas such as nitrogen gas is supplied from the first gas storage portion 4230 of the vacuum hole adjusting portion 4200, nitrogen gas is injected from the plurality of vacuum holes 4500 to the rear of the upper substrate S1 Thereby helping to separate the upper substrate S1 from the adhesive chuck 4320. In addition, when an inert gas such as nitrogen gas in the second gas reservoir 4430 is supplied to the second gas pipe 4460, the nitrogen gas flows through the second extension pipe 4410, the plurality of branch pipes 4481, And the inert gas supplied to the nozzle 4480 is injected toward the rear of the elastic deformation film 4710. [ 5 and 7, a plurality of elastic deformation films 4710 are expanded in the direction in which the cap 4600 is located.

불활성 가스를 연속하여 공급하여 탄성 변형막(4710)이 계속 팽창하다가, 캡(4600)과 접촉되면, 캡(4600)에 의해 더이상의 팽창이 저지된다. 이때, 팽창되는 탄성 변형막(4710)으로부터 캡(4600)으로 가해지는 압축 응력은, 상기 캡(460)으로부터 다시 지지척(4300)으로 전달된다. 이에, 탄성 변형막(4710)이 팽창하려는 힘과 반대 방향으로 저항하는 힘이 발생되며, 이러한 힘은 지지 블록(4310) 및 이동 부재(4720)로 전달되어, 지지 블록(4310)을 후진시킨다. 이에, 상부 기판(S1)이 점착척(4320)으로부터 탈락되고, 이때 상부 기판(S1)이 낙하되어 하부 기판(S2) 상에 안착된다.
When the elastic deformation film 4710 continuously inflates by supplying an inert gas continuously and comes into contact with the cap 4600, expansion by the cap 4600 is further prevented. At this time, the compressive stress applied from the expanding elastic deformation film 4710 to the cap 4600 is transmitted from the cap 460 to the support chuck 4300 again. Thereby, a force is generated that resists the elastic deformation film 4710 in a direction opposite to the force for expanding, and this force is transmitted to the support block 4310 and the movable member 4720 to move the support block 4310 backward. Thus, the upper substrate S1 is removed from the adhesive chuck 4320, and the upper substrate S1 is then dropped onto the lower substrate S2.

상부 기판(S1)이 상부 지지대(4100)로부터 분리되어, 하부 기판(S2) 상에 안착되면, 제 2 가스 배관(4460)에 설치된 밸브(4450)를 닫아, 질소 가스의 공급을 중단한다. 이후, 배기 배관(4450)에 설치된 밸브(4470)를 열고, 배기 펌프(4420)를 동작시키면, 탄성 변형막(4710)의 후방에 채워져 있던 불활성 가스가 노즐(4480), 분기관(4481), 제 2 연장 배관(4410), 제 2 가스 배관(4460)을 통해 배기된다. 이에 도 8에 도시된 바와 같이, 팽창되어 있던 탄성 변형막(4710)이 원래의 상태 즉, 평평한 상태로 수축하여 복귀되며, 이에 따라 지지 블록(4310) 및 이동 부재(4720)에 가해지고 있던 압축 응력이 해제된다. 따라서, 이동 부재(4720)가 원래 상태로 복원되어 지지척(4300) 전체가 캡(4600)이 위치한 방향으로 전진 이동한다.When the upper substrate S1 is separated from the upper support 4100 and is placed on the lower substrate S2, the valve 4450 provided in the second gas pipe 4460 is closed to stop the supply of the nitrogen gas. Then, when the valve 4470 provided in the exhaust pipe 4450 is opened and the exhaust pump 4420 is operated, the inert gas filled in the rear of the elastic deformation film 4710 passes through the nozzle 4480, the branch pipe 4481, The second extension pipe 4410, and the second gas pipe 4460. 8, the expanded elastic deformation film 4710 contracts and returns to its original state, that is, in a flat state, so that the compression (compression) applied to the support block 4310 and the shifting member 4720 The stress is released. Thus, the movable member 4720 is restored to the original state, and the entire support chuck 4300 is moved forward in the direction in which the cap 4600 is located.

상기에서는 탄성 변형막(4710)을 원래의 상태로 복귀시킨 후, 상부 지지대(4100)를 상승시켰으나, 상부 지지대(4100)를 상승시킨 후, 탄성 변형막(4710)을 복귀시킬 수도 있다.In this case, after the elastic deformation film 4710 is returned to its original state, the upper support table 4100 is raised. However, after the upper support table 4100 is raised, the elastic deformation film 4710 may be returned.

이후, 합착된 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)을 하부 지지대(2000)로부터 분리시킨 후, 합착된 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)을 별도의 경화장치로 이동시킨다. 그리고 경화장치로부터 실링제에 광 예컨대, 자외선(UV)를 조사하면, 실링제가 경화되어, 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)이 완전히 접합된다.
After the upper substrate S1 and the lower substrate S2 are separated from the lower support 2000, the upper substrate S1 and the lower substrate S2 are moved to a separate curing apparatus. When light, for example, ultraviolet light (UV) is irradiated from the curing apparatus to the sealing agent, the sealing agent is cured and the upper substrate S1 and the lower substrate S2 are completely bonded.

이와 같이, 본 발명에서는 탄성 변형막(4710)이 팽창될 때, 점착척(4320)이 설치된 지지척(4300)이 이동 부재(4720)에 의해 후진 이동하며, 이에 따라 점착척(4320)으로부터 상부 기판(S1)이 용이하게 분리된다. 또한, 상부 기판(S1)과 탄성 변형막(4710) 사이에 캡(4600)이 설치되어, 상기 탄성 변형막(4710)의 팽창으로 인한 응력이 상부 기판(S1)으로 전달되지 않아, 상부 기판(S1)의 손상을 방지할 수 있다. 또한, 상부 기판(S1)의 언로딩에 의해 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2) 간의 정렬이 틀어지는 것을 방지할 수 있다.As described above, in the present invention, when the elastic deformation film 4710 is inflated, the support chuck 4300 provided with the adhesion chuck 4320 is moved backward by the moving member 4720, The substrate S1 is easily separated. A cap 4600 is provided between the upper substrate S1 and the elastic deformation film 4710 so that the stress due to the expansion of the elastic deformation film 4710 is not transmitted to the upper substrate S1, S1 can be prevented from being damaged. Also, it is possible to prevent the misalignment between the upper substrate S1 and the lower substrate S2 by unloading the upper substrate S1.

그리고, 지지척(4300)을 후진 이동시키는 구동원으로서 종래에도 상부 기판(S1)의 언로딩을 위해 사용되고 있는 탄성 변형막(4710)을 이용함으로써, 상기 지지척(4300)을 후진 이동시키는 별도의 구동부를 마련하지 않아도 되는 장점이 있다. 또한, 탄성 변형막(4710)에 의해 점착척(4320)이 구비된 지지척(4300) 전체가 후진 이동함에 따라, 점착척(4320)으로부터 상부 기판(S1)이 용이하게 탈락되는 효과가 있다.
By using the elastic deformation film 4710 which is conventionally used for unloading the upper substrate S1 as a driving source for moving the support chuck 4300 backward, There is an advantage in that it is not necessary to provide the above. The entire upper surface of the support chuck 4300 with the adhesive chuck 4320 is moved backward by the elastic deformation film 4710 so that the upper substrate S1 can be easily removed from the adhesive chuck 4320. [

상술한 실시예에서는 상부 기판(S1)을 지지하는 상부 지지대(4100)에 본원 발명에 따른 지지척(4300) 및 척 이동 기구(4700)가 설치되는 것을 설명하였다. 하지만 이에 한정되지 않고, 하부 지지대(2000)에 적용할 수도 있다.The supporting chuck 4300 and the chuck moving mechanism 4700 according to the present invention are installed on the upper supporting table 4100 for supporting the upper substrate S1. However, the present invention is not limited thereto, and may be applied to the lower support 2000.

또한, 본원발명에 따른 지지척(4300) 및 척 이동 기구(4700)은 기판 합착 장치에 한정되지 않고, 기판의 지지 고정 및 분리가 필요한 다양한 기판 처리 장치 예컨대, 박막을 형성하기 위한 증착 장치 또는 식각을 위한 식각 장치에 적용될 수 있다.The supporting chuck 4300 and the chuck moving mechanism 4700 according to the present invention are not limited to the substrate laminating apparatus but may be various substrate processing apparatuses such as a deposition apparatus for forming a thin film, And the like.

40000: 상부 기판 지지 모듈 4100: 상부 지지대
4300: 지지척 4310: 지지 블록
4320: 점착척 4700: 척 이동 기구
4710: 탄성 변형막 4720: 이동 부재40000: upper substrate support module 4100: upper support
4300: support chuck 4310: support block
4320: Adhesive chuck 4700: Chuck moving mechanism
4710: elastic deformation film 4720: moving member

Claims (19)

일면에 기판이 지지되는 지지대;
상기 지지대에 삽입 설치되어 상기 기판이 지지되는 지지척;
상기 기판이 지지되는 상기 지지척의 일면에 설치된 탄성 변형막;
상기 기판이 지지되는 방향인 상기 지지척의 일측에 위치하여, 상기 탄성 변형막을 커버하도록 설치된 캡;
상기 지지대 내에서, 일단이 상기 지지척과 연결되도록 설치되며, 상기 지지척을 상기 탄성 변형막의 변형 방향과 반대 방향으로 이동시키는 이동 부재;
를 포함하고,
상기 지지척은,
상기 지지대 내에 삽입 설치되는 지지 블록; 및
상기 탄성 변형막의 적어도 일측에 위치하도록 상기 지지 블록에 설치되어 점착력으로 기판을 지지하는 점착척을 포함하는 기판 지지 모듈.A support for supporting the substrate on one surface thereof;
A support chuck inserted into the support and supported by the support;
An elastic deformation film provided on one surface of the support chuck on which the substrate is supported;
A cap disposed on one side of the support chuck in a direction in which the substrate is supported to cover the elastic deformation film;
A moving member installed in the support so as to be connected to the support chuck at one end thereof and moving the support chuck in a direction opposite to the direction of deformation of the elastic deformation film;
Lt; / RTI >
Wherein the support chuck comprises:
A support block inserted into the support frame; And
And an adhesive chuck attached to the support block so as to be positioned on at least one side of the elastic deformation film and supporting the substrate by adhesive force. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 캡은 상기 지지 블록의 폭 방향에서 상기 점착척의 안쪽에 위치하여 탄성 변형막의 전방에 대향 위치하는 커버 부재와, 일단이 상기 커버 부재에 연결되고, 상기 커버 부재의 가장자리로부터 외측 방향으로 연장되도록 형성되어 타단이 상기 지지대에 체결되는 연결 부재를 포함하는 기판 지지 모듈.The method according to claim 1,
Wherein the cap includes a cover member located inside the pressure-sensitive adhesive chuck in the width direction of the support block and opposed to the front side of the resiliently deformable film, one end connected to the cover member and extending outwardly from the edge of the cover member And the other end is fastened to the support base. 청구항 3에 있어서,
상기 캡과 마주보는 상기 탄성 변형막의 일면은 상기 캡과 이격되도록 설치되는 기판 지지 모듈.The method of claim 3,
Wherein one side of the elastic deformation film facing the cap is spaced apart from the cap. 청구항 3에 있어서,
상기 커버 부재는 적어도 상기 커버 부재와 마주보는 탄성 변형막의 일면의 면적에 비해 크거나, 같은 기판 지지 모듈.The method of claim 3,
Wherein the cover member is at least as large as the area of one surface of the elastic deformation film facing the cover member. 청구항 3에 있어서,
상기 캡은 금속으로 이루어진 기판 지지 모듈.The method of claim 3,
Wherein the cap is made of metal. 청구항 1에 있어서,
상기 지지대에는 상기 지지척이 삽입되는 삽입 공간이 마련되고,
상기 이동 부재는 상기 삽입 공간에서 일단이 상기 지지 블록과 연결되고, 타단이 지지대에 연결되도록 설치되며,
상기 지지 블록은 상기 이동 부재에 의해 상기 삽입 공간 내에서 상기 캡이 위치한 방향으로 전진 이동하거나, 상기 캡과 반대 방향으로 후진 이동하는 기판 지지 모듈.The method according to claim 1,
The supporting base is provided with an insertion space into which the supporting chuck is inserted,
The moving member is installed in the insertion space such that one end is connected to the support block and the other end is connected to the support,
Wherein the support block is moved by the moving member in a direction in which the cap is located in the insertion space, or is moved backward in a direction opposite to the cap. 청구항 7에 있어서,
상기 이동 부재는,
내부 공간을 가지며, 상기 삽입 공간에서 일단이 지지 블록과 연결되고 타단이 상기 지지대에 지지되도록 설치된 바디;
상기 바디 내에 설치된 탄성 부재; 및
일단이 바디 내로 삽입되어 탄성 부재와 연결되고, 타단이 바디 외부로 돌출되어 지지 블록과 연결되어, 상기 탄성 부재에 의해 기판이 위치한 방향으로 전진 이동하거나, 상기 기판과 반대 방향으로 후진 이동 가능한 로드;
를 포함하는 기판 지지 모듈.The method of claim 7,
The moving member includes:
A body having an inner space and having one end connected to the support block in the insertion space and the other end supported on the support;
An elastic member provided in the body; And
A rod which is inserted into the body once and connected to the elastic member, the other end of which protrudes outside the body and is connected to the support block so that the elastic member can move forward or backward in the direction in which the substrate is positioned;
And a substrate support module. 청구항 8에 있어서,
상기 탄성 부재는 스프링(spring)인 기판 지지 모듈.The method of claim 8,
Wherein the elastic member is a spring. 청구항 1에 있어서,
상기 지지대를 상하 방향으로 관통하도록 마련되어, 일단이 기판이 지지되는 상기 지지대의 일면으로 노출되도록 형성된 진공홀을 포함하는 기판 지지 모듈.The method according to claim 1,
And a vacuum hole formed to penetrate the support in a vertical direction, the vacuum hole having one end exposed through a surface of the support on which the substrate is supported. 청구항 1, 청구항 3 내지 청구항 10 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 지지대에는 상기 지지대의 연장 방향으로 상호 이격되도록 복수의 삽입 공간이 마련되며,
상기 지지척이 복수개로 마련되어, 복수의 삽입 공간 내에 각기 설치되고,
상기 복수의 지지척 각각에 상기 탄성 변형막 및 이동 부재가 설치되고,
상기 복수의 탄성 변형막 각각을 커버하도록 캡이 설치된 기판 지지 모듈.The method according to any one of claims 1 to 10,
The support base is provided with a plurality of insertion spaces spaced apart from each other in the extending direction of the support base,
Wherein a plurality of support chucks are provided and are respectively installed in a plurality of insertion spaces,
Wherein the elastic deformation film and the moving member are provided on each of the plurality of support chucks,
And a cap is provided to cover each of the plurality of elastic deformation films. 상부 기판과 하부 기판 간의 합착이 이루어지는 내부 공간을 가지는 챔버;
상기 챔버 내부에 설치되며, 상기 하부 기판이 안착되는 하부 지지대; 및
상기 하부 지지대의 상측에 대향 배치되어, 상기 상부 기판을 지지하는 상부 지지대;
상기 상부 지지대에 마련된 삽입 공간에 삽입 설치되어, 상기 상부 기판을 지지 고정하는 지지척;
상기 상부 기판이 지지되는 방향인 상기 지지척의 일측에 설치되어, 상기 지지척의 적어도 일부를 커버하는 캡; 및
상기 지지척에 연결되어, 탄성력에 의해 상기 지지척이 전후방 이동이 가능하도록 하는 척 이동 기구;
를 포함하고,
상기 지지척은,
상기 상부 지지대 내에 삽입 설치되는 지지 블록; 및
일면이 상기 상부 기판이 지지되는 상기 지지 블록의 일면으로 노출되도록 설치되어, 점착력으로 상기 상부 기판을 지지하는 점착척;
포함하는 기판 처리 장치.A chamber having an inner space where adhesion between the upper substrate and the lower substrate is made;
A lower support installed inside the chamber and on which the lower substrate is mounted; And
An upper supporter disposed on the upper side of the lower supporter to support the upper substrate;
A support chuck inserted into an insertion space provided in the upper support and supporting and fixing the upper substrate;
A cap provided on one side of the support chuck in a direction in which the upper substrate is supported, the cap covering at least a part of the support chuck; And
A chuck moving mechanism connected to the support chuck to allow the support chuck to move forward and backward by an elastic force;
Lt; / RTI >
Wherein the support chuck comprises:
A support block inserted into the upper support; And
An upper surface of the upper substrate being supported by the upper surface of the upper substrate;
And the substrate processing apparatus. 삭제delete 청구항 12에 있어서,
상기 척 이동 기구는,
상기 상부 기판이 지지되는 상기 지지척에서 상기 점착척의 일측에 설치된 탄성 변형막; 및
상기 상부 지지대 내에서, 일단이 상기 지지척과 연결되도록 설치되며, 상기 탄성 변형막의 변형에 의해 동작하여, 상기 지지척을 상기 탄성 변형막의 변형 방향과 반대 방향으로 이동시키는 이동 부재;
를 포함하는 기판 처리 장치.The method of claim 12,
Wherein the chuck moving mechanism comprises:
An elastic deformation film provided on one side of the adhesive chuck on the support chuck on which the upper substrate is supported; And
A moving member installed in the upper support so as to be connected to the support chuck at one end thereof and moving by the deformation of the elastic deformation film to move the support chuck in a direction opposite to the deformation direction of the elastic deformation film;
And the substrate processing apparatus. 청구항 14에 있어서,
상기 캡은 상기 지지 블록의 폭 방향에서 점착척의 안쪽에 위치하여 탄성 변형막의 전방에 위치하는 커버 부재와, 일단이 상기 커버 부재에 연결되고, 상기 커버 부재의 가장자리로부터 외측 방향으로 연장되도록 형성되어 타단이 상기 상부 지지대에 체결되는 연결 부재를 포함하는 기판 처리 장치.15. The method of claim 14,
Wherein the cap includes a cover member positioned in front of the resiliently deformable film in a width direction of the support block and positioned inside the pressure-sensitive adhesive chuck, one end connected to the cover member and extending outwardly from an edge of the cover member, And a connection member which is fastened to the upper support. 청구항 15에 있어서,
상기 캡의 커버 부재는 상기 커버 부재와 마주보는 상기 탄성 변형막의 일면과 이격되도록 설치되며,
상기 커버 부재는 적어도 상기 커버 부재와 마주보는 탄성 변형막의 일면의 면적에 비해 크거나, 같은 기판 처리 장치.16. The method of claim 15,
The cover member of the cap is installed to be spaced apart from one surface of the elastic deformation film facing the cover member,
Wherein the cover member is larger than at least an area of one surface of the elastic deformation film facing at least the cover member. 청구항 12에 있어서,
상기 상부 지지대를 상하 방향으로 관통하도록 마련되어, 일단이 상기 상부 기판이 지지되는 상기 상부 지지대의 일면으로 노출되도록 형성되며, 상호 이격 배치된 복수의 진공홀을 포함하는 기판 처리 장치.The method of claim 12,
And a plurality of vacuum holes spaced apart from each other and formed so as to be exposed through one surface of the upper supporter on which the upper substrate is supported, one end of the upper supporter being vertically penetrated. 청구항 14에 있어서,
상기 이동 부재는,
내부 공간을 가지며, 상기 삽입 공간에서 일단이 지지 블록과 연결되고 타단이 상기 상부 지지대에 지지되도록 설치된 바디;
상기 바디 내에 설치된 탄성 부재; 및
일단이 바디 내로 삽입되어 탄성 부재와 연결되고, 타단이 바디 외부로 돌출되어 지지 블록과 연결되어, 상기 탄성 부재에 의해 기판이 위치한 방향으로 전진 이동하거나, 상기 상부 기판과 반대 방향으로 후진 이동 가능한 로드;
를 포함하는 기판 처리 장치.15. The method of claim 14,
The moving member includes:
A body having an inner space and having one end connected to the support block and the other end supported on the upper support in the insertion space;
An elastic member provided in the body; And
And the other end is connected to the support block so as to move forward or backward in the direction in which the substrate is placed by the elastic member, ;
And the substrate processing apparatus. 청구항 12, 청구항 14 내지 청구항 18 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 상부 지지대에는 상기 상부 지지대의 연장 방향으로 상호 이격되도록 복수의 삽입 공간이 마련되며,
상기 지지척이 복수개로 마련되어, 복수의 삽입 공간 내에 각기 설치되고,
상기 복수의 지지척 각각에 상기 탄성 변형막 및 이동 부재가 설치되고,
상기 복수의 탄성 변형막 각각을 커버하도록 캡이 설치된 기판 처리 장치.The method according to any one of claims 12 to 19,
Wherein the upper support is provided with a plurality of insertion spaces spaced apart from each other in the extending direction of the upper support,
Wherein a plurality of support chucks are provided and are respectively installed in a plurality of insertion spaces,
Wherein the elastic deformation film and the moving member are provided on each of the plurality of support chucks,
And a cap is provided to cover each of the plurality of elastic deformation films.
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