KR101485370B1 - A Far Infrared Rays Radiator And the Manufacturing Method Obtained by An Anodizing Treatment - Google Patents
A Far Infrared Rays Radiator And the Manufacturing Method Obtained by An Anodizing Treatment Download PDFInfo
- Publication number
- KR101485370B1 KR101485370B1 KR20140091162A KR20140091162A KR101485370B1 KR 101485370 B1 KR101485370 B1 KR 101485370B1 KR 20140091162 A KR20140091162 A KR 20140091162A KR 20140091162 A KR20140091162 A KR 20140091162A KR 101485370 B1 KR101485370 B1 KR 101485370B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- far
- infrared ray
- ray radiator
- anodizing
- aluminum material
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/08—Radiation
- A61L2/085—Infrared radiation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/16—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using chemical substances
- A61L2/23—Solid substances, e.g. granules, powders, blocks, tablets
- A61L2/232—Solid substances, e.g. granules, powders, blocks, tablets layered or coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/024—Anodisation under pulsed or modulated current or potential
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 알루미늄 소재를 아노다이징 처리하여 원적외선이 방출되며 멸균처리를 통해 세균증식을 억제하여 주방이나 침실 등의 실내의 가구 또는 의료 기기 등과 같은 다양한 용도로 사용가능한 원적외선 방사체 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a far-infrared ray radiator which can be used for various purposes such as indoor furniture such as kitchens and bedrooms, medical equipment, etc. by suppressing bacterial growth by sterilizing an aluminum material by anodizing and emitting ultraviolet rays.
최근 경제적 풍요와 더불어 웰빙 열풍에 의해서 사람들의 건강에 대한 관심이 높아지고 있고, 이에 원적외선 방사가 이루어지는 제품에 대한 인기가 높은 실정이다. In recent years, with the economic prosperity, people's interest in health has been increasing due to the well-being craze, and thus there is a high popularity in products where far-infrared radiation is produced.
이와 같은 원적외선은 현대과학에 의하여 그 효능이 증명되고 있으며, 종래 자연계에 존재하는 고효율 원적외선 방사물질로서 대표적으로 옥, 숯, 맥반석, 게르마늄 또는 황토 등이 있다.Such far-infrared rays have been proved by modern science, and as a high-efficiency far-infrared radiation material existing in the natural world, there are jade, charcoal, elvan, germanium or loess.
상기한 원적외선은 생육광선으로서 파장이 30∼1000 미크론의 적외선으로 인체에 흡수되어 세포조직을 활성화시키고 혈액순환과 노폐물 배출을 촉진시키는 등 건강증진 효과가 있으며, 원적외선을 방출하는 기능성 물질로서 황토는 원적외선으로 인한 혈액촉진, 신진대사촉진 및 땀 흡수, 냄새제거 효과과 있으며, 맥반석은 피부병과 상처 해독, 원적외선 방출, PH 조정작용, 다공성의 숯은 세포노화방지 및 체액의 알칼리화, 해독기능, 소독, 살충, 방부, 정화, 탈취효과, 전자파 차단효과, 습도 조절효과, 옥은 피부미용 효과, 목의 통증해소, 화장으로 퇴색한 피부 재생, 노폐물 배출 및 비만 방지 등의 효능이 있는 것으로 알려져 있다.The above-described far-infrared ray is a growth ray, which is absorbed by the human body with a wavelength of 30 to 1000 microns, activates the cell tissue, promotes circulation of blood and promotes the release of waste products, and is a functional substance that emits far-infrared rays. It has the function of blood stimulation, metabolism promotion and sweat absorption, deodorization effect, and the elvan stone has the function of detoxifying skin disease and wound, releasing far infrared ray, adjusting pH, preventing the aging of cell and alkalizing body fluids, detoxifying, disinfecting, It is known that it has efficacy such as preservation, purification, deodorization effect, electromagnetic wave shielding effect, humidity control effect, jade skin beauty effect, neck pain relieving, skin faded skin regeneration, waste product discharge and prevention of obesity.
이에 침대나 허리띠 등에 옥돌 등을 부착하는 방법으로 원적외선 방사에 의한 건강을 유지하고자 하고 있으며, 이 같은 원적외선 방사체를 이용하는 예로, 등록특허 제0813810호, 공개실용신안 제20-2011-0009372호 등과 같이 허리띠, 전기 그릴 등 다양한 기구나 장치 등이 개시된 바 있다.In order to maintain the health by far-infrared ray radiation by attaching a jade or the like to a bed or a waistband, an example of using such a far-infrared ray radiator is disclosed in Patent Document No. 0813810, Published Utility Model No. 20-2011-0009372, , An electric grill, and the like have been disclosed.
그런데, 이와 같은 종래의 원적외선 방사체는 주로 자연상태에서 존재하는 옥, 숯, 맥반석, 게르마늄 또는 황토 등을 일정한 형태로 가공하거나, 분말상태로 분쇄하여 다른 물질과 혼합하여 다른 제품의 표면에 도포하거나 또는 제품으로 성형하게 됨에 따라 원적외선 방사를 위한 제품 제작이 까다롭다.
However, such a conventional far-infrared ray radiator may be produced by processing the jade, charcoal, elbow, germanium, or yellow soil existing in a natural state into a certain form, or pulverizing the powder into powder form, As it is molded into products, making products for far-infrared radiation is difficult.
따라서 이와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명은 알루미늄 소재를 아노다이징 처리하여 원적외선이 방출되는 원적외선 방사체 및 그와 같은 원적외선 방사체의 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a far-infrared ray radiator in which a far-infrared ray is emitted by anodizing an aluminum material, and a method of manufacturing such a far-infrared ray radiator.
또한, 본 발명은 알루미늄 소재에 아노다이징 처리를 통해 간단히 원적외선 방사체를 제조함은 물론 요오드와 같은 세균억제제를 함침하여 멸균 처리 및 세균 증식을 억제할 수 있어 위생적인 원적외선 방사체 및 그와 같은 원적외선 방사체의 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.
In addition, the present invention can easily manufacture a far-infrared ray radiator through an anodizing treatment on an aluminum material, impregnate with a bacteriostatic agent such as iodine to inhibit sterilization treatment and bacterial proliferation. Thus, a hygienic far infrared ray radiator and a manufacturing method of such a far infrared ray radiator A method is provided.
이와 같은 기술적 과제를 해결하기 위해 본 발명은; In order to solve such a technical problem,
알루미늄 소재의 표면에 아노다이징 처리하여 중앙에 미세공이 형성된 코어로 이루어지는 산화 피막과, 상기 코어의 미세공에 충진되는 세균억제제로 이루어진 것을 특징으로 하는 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체를 제공한다.An object of the present invention is to provide a far-infrared ray radiator obtained through an anodizing treatment, characterized in that it comprises an oxide film formed of a core having an anodized surface on the surface of an aluminum material and having micropores formed in the center thereof and a bacteriostatic agent filled in the micropores of the core.
이때, 상기 세균억제제는 요오드이며, 상기 요오드가 충진된 미세공의 입구는 실링 처리를 통해 축소부가 형성된 것을 특징으로 한다.
At this time, the bacteriostatic agent is iodine, and the inlet of the micropores filled with the iodine is formed with a reduced portion through a sealing treatment.
또한, 본 발명은;The present invention also provides
알루미늄 소재를 아노다이징 처리하여 알루미늄 소재 표면에 미세공이 중앙에 형성된 코어가 연속적으로 형성되는 산화 피막을 형성하는 제1단계; 코어의 미세공에 요오드를 충진하는 제2단계; 상기 알루미늄 소재 표면을 실링(sealing) 처리하는 제3단계;로 구성되는 것을 특징으로 하는 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조방법도 제공한다.A first step of anodizing an aluminum material to form an oxide film on which a core having micropores formed in its center is continuously formed on the surface of an aluminum material; A second step of filling the micropores of the core with iodine; And a third step of sealing the surface of the aluminum material. The present invention also provides a method of manufacturing a far-infrared ray radiator obtained through an anodizing process.
이때, 상기 제1단계 이전에, 알루미늄 소재 표면의 이물질을 제거하기 위해 세척수를 이용해 세척하는 제4단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The method may further include washing the aluminum material surface with washing water to remove foreign substances before the first step.
그리고, 상기 아노다이징 처리를 통해 알루미늄 소재의 표면 처리시 경질 피막은 +5 ~ 40℃ 온도범위에서 20 ~ 200㎛ 두께로 형성하고, 연질 피막은 0 ~ 40℃ 온도범위에서 3 ~ 20㎛ 두께로 형성하는 것을 특징으로 한다.In the surface treatment of the aluminum material through the anodizing treatment, the hard coating is formed to a thickness of 20 to 200 탆 at a temperature range of +5 to 40 캜, and the soft coating is formed to a thickness of 3 to 20 탆 at a temperature range of 0 to 40 캜 .
또한, 상기 제2단계는 진공 챔버 내에서 5 ~ 30분 동안 요오드 용액을 코어의 미세공에 요오드를 충진하는 단계인 것을 특징으로 한다.In the second step, the iodine solution is filled in the micropores of the core for 5 to 30 minutes in the vacuum chamber.
아울러, 상기 제3단계는, 초산니켈(Ni(CHCOO)2)과 붕산(硼酸, Boric acid) 및 초산 코발트(Co·(CH3COO)2·4H2O)를 6 : 3: 1의 중량비율로 혼합한 혼합물을 물 1리터(ℓ) 당 8 ~ 10 그램(g) 혼합하여 80℃ 이상으로 가열한 열수용액에 침지하여 원적외선 방사체를 4 ~ 6분 동안 침지시키는 단계인 것을 특징으로 한다.In the third step, the nickel (Ni (CHCOO) 2 ), boric acid and cobalt acetate (Co (CH 3 COO) 2 .4H 2 O) are mixed in a weight ratio of 6: 3: 1 Is mixed with 8 to 10 grams (g) per 1 liter of water and immersed in a thermal aqueous solution heated to 80 占 폚 or higher to immerse the far-infrared emitter for 4 to 6 minutes.
그리고, 상기 제3단계는, 증류수를 90℃ 이상으로 가열한 상태에서 원적외선 방사체를 4 ~ 6분 동안 침지시키는 단계인 것을 특징으로 한다.The third step is a step of immersing the far-infrared ray radiator for 4 to 6 minutes while the distilled water is heated to 90 ° C or more.
아울러, 상기 제3단계는, 증류수를 고온 가열한 고압 수증기를 1.3 Kg/㎠ ~ 5 Kg/㎠의 압력으로 원적외선 방사체의 산화 피막을 증기압 처리하는 단계인 것을 특징으로 한다.The third step is a step of vapor-treating the oxide film of the far-infrared ray radiator at a pressure of 1.3 Kg / cm2 to 5 Kg / cm2 by heating the distilled water to a high temperature.
그리고, 상기 제3단계 후, 원적외선 방사체 표면에 달라붙은 잔류 약제 및 각종 이물질 등을 제거하기 위해 세척수를 이용해 세척하고 건조하는 제5단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
And a fifth step of washing and drying the residual medicament and various foreign substances adhering to the surface of the far-infrared ray radiator using washing water after the third step.
본 발명에 따르면, 알루미늄 소재를 아노다이징 처리하고 미세공에 요오드와 같은 세균억제제를 충진하여 원적외선이 방출되며 멸균처리를 통해 세균증식을 억제할 수 있는 원적외선 방사체를 제조할 수 있다.According to the present invention, a far-infrared ray radiator capable of suppressing bacterial growth through sterilization treatment can be manufactured by anodizing an aluminum material and filling microballs with a bacteriostatic agent such as iodine to release far-infrared rays.
따라서, 본 발명에 따른 원적외선 방사체는 침대 상판, 침구매트, 군 시설물 벽체, 천장, 바닥 마감부재, 의자, 식탁, 침구,족열판, 주방용기, 살균건조기, 식기세척기, 건축자재, 장난감, 가전제품, 생활용품 등 다양한 분야에 널리 응용할 수 있다.
Therefore, the far-infrared ray radiator according to the present invention can be used as a bed top plate, a bedding mat, an army wall, a ceiling, a bottom finishing member, a chair, a table, a bedding, a bobbin, a kitchen container, a sterilizing dryer, a dishwasher, , And household appliances.
도 1은 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 구조를 설명하기 위해 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 실링 구조를 설명하기 위해 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조 공정도이다.
도 4는 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 전차파 차폐 시험 결과표이다.1 is a view illustrating a structure of a far-infrared ray radiator obtained through an anodizing treatment according to the present invention.
2 is a cross-sectional view illustrating a sealing structure of a far-infrared ray radiator obtained through an anodizing treatment according to the present invention.
3 is a view showing a manufacturing process of a far-infrared ray radiator obtained through an anodizing treatment according to the present invention.
Fig. 4 is a result chart of a test result of a railway wave shielding of a far-infrared ray radiator obtained through an anodizing treatment according to the present invention.
이하 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체 및 그 제조방법을 첨부된 도면을 참고로 하여 상세히 기술되는 실시 예들에 의해 그 특징들을 이해할 수 있을 것이다.
Hereinafter, the characteristics of the far-infrared ray radiator obtained through the anodizing process according to the present invention and the manufacturing method thereof will be understood by the embodiments described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는바, 구현 예들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.While the invention is susceptible to various modifications and alternative forms, specific embodiments thereof are shown by way of example in the drawings and will herein be described in detail. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.
각 도면에서 동일한 참조부호, 특히 십의 자리 및 일의 자리 수, 또는 십의 자리, 일의 자리 및 알파벳이 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 기능을 갖는 부재를 나타내고, 특별한 언급이 없을 경우 도면의 각 참조부호가 지칭하는 부재는 이러한 기준에 준하는 부재로 파악하면 된다.In the drawings, the same reference numerals are used for the same reference numerals, and in particular, the numerals of the tens and the digits of the digits, the digits of the tens, the digits of the digits and the alphabets are the same, Members referred to by reference numerals can be identified as members corresponding to these standards.
또 각 도면에서 구성요소들(특히 적층필름의 각 층 두께)은 이해의 편의 등을 고려하여 크기나 두께를 과장되게 크거나(또는 두껍게) 작게(또는 얇게) 표현하거나, 단순화하여 표현하고 있으나 이에 의하여 본 발명의 보호범위가 제한적으로 해석되어서는 안 된다.In the drawings, the components (in particular, the thicknesses of the respective layers of the laminated film) are expressed by exaggeratingly larger (or thicker) or smaller (or thinner) or simplified by considering the convenience of understanding and the like, The scope of protection of the present invention should not be construed as being limited.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, ~포함하다~ 또는 ~이루어진다~ 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the term " comprising " or " consisting of ", or the like, refers to the presence of a feature, a number, a step, an operation, an element, a component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미가 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.
도 1 및 도 2를 참고하면, 본 발명은 알루미늄 소재를 아노다이징 처리하여 원적외선 방사체를 제조한다.1 and 2, an aluminum material is anodized to produce a far-infrared ray radiator.
일반적으로 금속의 아노다이징(Anodizing; 양극산화) 처리장치는 금속이나 부품 등을 양극에 걸고 희석-산의 전해액에서 전해하면, 양극에서 발생하는 산소에 의해서 소지금속과 대단한 밀착력을 가진 산화피막(산화알루미늄: Al2O3)이 형성된다. 양극산화라고 하는 것은 양극(Anode)과 산화(Oxidizing)의 합성어(Ano-dizing)이다. 또한, 전기도금에서 금속부품을 음극에 걸고 도금하는 것과는 차이가 있다.Generally, an anodizing treatment apparatus of metal is an oxide film which has a great adhesion force with the base metal due to oxygen generated from the anode when a metal or a part is put on an anode and is electrolyzed in an electrolytic solution of a dilute acid : Al 2 O 3 ) is formed. Anodic oxidation is an anodizing of anode and oxidation. In addition, there is a difference from electroplating in which metal parts are plated on a negative electrode.
이와 같은 양극산화의 가장 대표적인 소재는 알루미늄(Al)이고, 그 외에 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 하프늄(Hf), 니오븀(Nb) 등의 금속소재에도 아노다이징 처리를 하고 있다. 최근에는 마그네슘과 티타늄 소재의 아노다이징 처리도 점차 그 용도가 늘어나는 추세이다. The most representative material of such anodic oxidation is aluminum (Al), and other metal materials such as magnesium (Mg), zinc (Zn), titanium (Ti), tantalum (Ta), hafnium (Hf), and niobium Also anodizing treatment is performed. In recent years, the anodizing treatment of magnesium and titanium materials is also increasingly used.
이때, 통상적으로 알루미늄 소재의 표면에 산화피막을 처리하는 아노다이징(Anodizing on Aluminum Alloys)은 알루미늄을 양극에서 전해하면 알루미늄 표면의 반은 침식이 되고, 반은 산화알루미늄 피막이 형성된다. 알루미늄 아노다이징(양극산화)은 다양한 전해(처리)액의 조성과 농도, 첨가제, 전해액의 온도, 전압, 전류 등에 따라 성질이 다른 피막을 형성시킬 수 있다.At this time, anodizing on aluminum alloy, which usually treats the surface of aluminum material, when aluminum is electrolyzed from the anode, half of the aluminum surface is eroded and half of the aluminum oxide film is formed. Aluminum anodizing (anodic oxidation) can form films with different properties depending on the composition and concentration of various electrolytic (processing) liquids, additives, electrolyte temperature, voltage, current and so on.
상기 양극산화피막의 특성으로서, 피막은 치밀한 산화물로 내식성이 우수하고, 장식성 외관을 개선하며, 양극피막은 상당히 단단하여 내마모성이 우수하고, 도장 밀착력을 향상시키며, 본딩(Bonding) 성능을 개선하고, 윤활성을 향상시키며, 장식목적의 특유한 색상을 발휘하고, 도금의 전처리가 가능하며, 표면손상을 탐색할 수 있다.As the characteristics of the anodic oxide film, the film is a dense oxide, which is excellent in corrosion resistance, improves the ornamental appearance, and has a considerably hardened anode coating to improve abrasion resistance, improve coating adhesion, improve bonding performance, It enhances lubricity, exhibits a unique color for decorative purpose, enables plating pretreatment, and can detect surface damage.
특히 양극경질산화(Hard Anodizing)의 특징은 알루미늄의 합금특성에 의한 저온(또는 상온) 전해는 황산(H2SO4)용액에 저온 전해방법으로서 보통 양극산화 피막 보다는 내식성, 내마모성, 절연성이 있는 견고한 피막이며, 적어도 30㎛이상이면 경질이라 할 수 있다. 알루미늄 금속표면을 전기, 화학적 방법을 이용하여 알루미나 세라믹으로 변화시켜 주는 공법이다. 이 공법을 적용하게 되면 알루미늄 금속 자체가 산화되어 알루미나 세라믹으로 변화되며 알루미늄 표면의 성질을 철강보다 강하고 경질의 크롬도금보다 내마모성이 우수하다. 도금이나 도장(코팅)처럼 박리되지 않으며 변화된 알루미나 세라믹표면은 전기절연성(1,500V)이 뛰어나지만 내부는 전기가 잘 흐른다. 이러한 알루미늄 금속에 경질 및 연질 아노다이징 표면처리 공법을 이용한 첨단기술이 개발 및 적용되고 있다. 이와 같이 알루미늄 금속에 경질 및 연질의 아노다이징을 처리하기 위하여 산성용액, 특히 황산이 용해된 전해액이 담긴 전해조에 알루미늄 금속을 침지한 후에 일정 전압 및 전류를 흘려 금속표면에 산화막이 형성되도록 하는데, 전해조에 가하는 전압 및 전류에 따라 산화피막의 두께가 달라진다.
In particular, hard anodizing is characterized by the low-temperature (or room-temperature) electrolysis of aluminum alloy, which is a low-temperature electrolysis method in sulfuric acid (H 2 SO 4 ) Film, and if it is at least 30 탆 or more, it can be said to be hard. Aluminum metal surface is changed into alumina ceramic by using electric and chemical method. When this method is applied, the aluminum metal itself is oxidized and changed into alumina ceramics. The properties of the aluminum surface are stronger than steel and abrasion resistance is better than hard chrome plating. It does not peel off like plating or paint (coating). The changed alumina ceramic surface is excellent in electrical insulation (1,500V), but electricity flows well inside. Advanced techniques using hard and soft anodizing surface treatment techniques have been developed and applied to such aluminum metal. In order to treat hard and soft anodizing of aluminum metal in this manner, aluminum oxide is immersed in an electrolytic bath containing an acidic solution, especially an electrolytic solution in which sulfuric acid is dissolved, and then an oxide film is formed on the surface of the metal by flowing a constant voltage and current. The thickness of the oxide film varies depending on the applied voltage and current.
이와 같은 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체(1)는 알루미늄 소재(10)의 표면에 아노다이징 처리하여 중앙에 미세공(24)이 형성된 코어(22)로 이루어지는 산화 피막(20)과, 상기 코어(22)의 미세공(24)에 충진되는 요오드(30)로 이루어진다.The far
이때, 요오드를 함침한 후, 미세공(24)의 입구는 실링 처리를 통해 축소부(24a)가 형성된다.
At this time, after the impregnation with iodine, the entrance of the
이하, 도 1 내지 도 4를 참고로 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조 공정을 설명한다.Hereinafter, a manufacturing process of the far-infrared ray radiator obtained through the anodizing process according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4. FIG.
우선 용도에 맞게 재단 또는 성형된 알루미늄 소재(10)를 준비한다.(S100) Firstly, the
이와 같이 준비된 알루미늄 소재(10) 표면의 이물질 등을 제거하기 위해 세척수를 이용해 세척한다.(S110) 이 경우 세척수는 분사노즐을 통해 고압으로 분사하여 상기 알루미늄 소재(10) 표면의 이물질을 제거한다.
(S110). In this case, the washing water is sprayed at a high pressure through the spray nozzle to remove foreign matters on the surface of the
상기 단계(S110)를 통해 세척된 알루미늄 소재(10)는 공지(公知)의 아노다이징(Anodizing; 양극산화) 처리장치의 전해조(미도시됨)에 투입하여 양극에 걸고 전해액에서 전해하여, 알루미늄 소재(10) 표면에 산화 피막(산화알루미늄: Al2O3)(20)이 형성된 원적외선 방사체(1)를 제조한다.(S120)The washed
이와 같은 산화피막(20)은 미세공(24)이 중앙에 형성된 코어(22)가 연속적으로 형성되는 구조로서, 산화피막(20)은 다공질(多孔質) 표면을 갖는다. 상기 산화 피막을 형성하는 경우 열을 가하는 경우 원적외선이 방사 효율이 높아져 다양한 용도로 활용이 가능하다.Such an
이때, 상기 아노다이징 처리를 통해 알루미늄 소재(10)의 표면 처리시 경질 피막의 경우 +5 ~ 40℃ 온도범위에서 20 ~ 200㎛ 두께로 형성하고, 연질 피막의 경우 0 ~ 40℃ 온도범위에서 3 ~ 20㎛ 두께로 형성한다.
At this time, when the surface of the
상기 단계(S120)를 통해 표면에 아노다이징 처리하여 중앙에 미세공(24)이 형성된 코어(22)로 이루어지는 산화피막(20)이 형성된 원적외선 방사체(1)는 요오드(iodine) 함침 공정을 통해 코어(22)의 미세공(24)에 요오드(30)를 진공 함침(Vacuum Infusion) 방식으로 충진한다.(S130)The far
이 경우 상기 요오드(30)는 멸균과 소독 기능을 갖는 것으로, 알루미늄 소재의 표면을 멸균처리함은 물론 세균증식을 억제할 수 있도록 요오드 용액을 사용하여 진공 챔버 내에서 5 ~ 30분 동안 코어(22)의 미세공(24)에 요오드(30)를 충진시킨다.In this case, the
이때, 상기 요오드(30)는 세균억제제로서, 요오드 용액 이외에도 은행잎 추출액 등을 세균억제제로 사용할 수 있다.
At this time, the iodine (30) may be used as a bacterial inhibitor, in addition to iodine solution, ginkgo leaf extract or the like.
상기 단계(S130)를 통해 진공 챔버 내에서 5 ~ 30분 동안 요오드 용액을 코어(22)의 미세공(24)에 요오드(30)를 충진시킨 후, 실링(sealing) 처리하여 코어(22)의 미세공(24) 입구를 축소시킨다.(S140)The iodine solution is filled in the
이때, 실링 방법은 다음과 같은 방법들 중에 하나를 선택하여 수행할 수 있다. At this time, the sealing method can be performed by selecting one of the following methods.
첫 번째 방법은, 초산니켈(Ni(CHCOO)2)과 붕산(硼酸, Boric acid) 및 초산 코발트(Co·(CH3COO)2·4H2O)를 6 : 3: 1의 중량비율로 혼합한 혼합물을 물 1리터(ℓ) 당 8 ~ 10 그램(g) 혼합하여 80℃ 이상으로 가열한 열수용액에 원적외선 방사체(1)를 4 ~ 6분(바람직하게는 5분 이상) 동안 침지시킨다. The first method is a method of mixing nickel (Ni (CHCOO) 2 ), boric acid (boric acid) and cobalt acetate (Co (CH 3 COO) 2 .4H 2 O) in a weight ratio of 6: A mixture is mixed with 8 to 10 grams (g) per 1 liter of water, and the far
두 번째 방법은, 증류수를 90℃ 이상으로 가열한 상태에서 원적외선 방사체(1)를 4 ~ 6분(바람직하게는 5분 이상) 동안 침지시킨다. In the second method, the far
세 번째 방법은, 증류수를 고온 가열한 고압 수증기를 1.3 Kg/㎠ ~ 5 Kg/㎠의 압력으로 원적외선 방사체(1)의 산화 피막(20)을 증기압 처리한다.In the third method, the
이상의 세가지 방법 중에 어느 하나의 방법을 통해 코어(22)의 미세공(24) 입구를 축소시켜 축소부(24a)를 형성시키게 되며, 그 단면 형상은 도 2와 같다.
The inlet of the
한편, 상기 단계(S140)를 통해 실링(sealing) 처리한 상태의 원적외선 방사체(1)는 이상의 아노다이징 처리 단계(S120) 및 실링 단계(S130)를 거치면서 원적외선 방사체(1) 표면에 달라붙은 잔류 약제 및 각종 이물질 등을 제거하기 위해 세척수를 이용해 세척한다.(S150) 이 경우 세척수는 상기 원적외선 방사체(1) 표면에 세척수를 흘려 이물질을 제거한다.
The far
그리고, 상기 단계(S150) 후, 공지의 건조장치를 이용해 원적외선 방사체(1)를 열풍 또는 자연풍 등을 이용해 건조시켜 원적외선 방사체(1) 표면에 묻어 있는 물기를 제거한다.(S160)
After the above step S150, the far-
이하, 이와 같은 공정에 의해 제조되는 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 시험 예를 설명한다.Hereinafter, a test example of the far-infrared ray radiator obtained through the anodizing treatment according to the present invention manufactured by such a process will be described.
이때, 실시 예 1은 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체 및 이와 대비되는 피막이 형성되지 않은 알루미늄 및 옥돌의 원적외선 및 방사에너지의 측정 시험 결과를 설명한다. 또한, 실시 예 2는 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 전자파 차폐 시험 결과를 설명한다.
In this case, Example 1 describes the measurement results of the far-infrared ray and the radiant energy of the far-infrared ray radiator obtained through the anodizing treatment according to the present invention and the aluminum and the oval without coating formed thereon. In addition, Example 2 describes electromagnetic wave shielding test results of a far-infrared ray radiator obtained through an anodizing treatment according to the present invention.
먼저, 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체는 본 발명에 따른 방법에 의해 제조된 것으로, 범위에서 45㎛ 두께의 경질 피막을 형성한 것이다.First, the far-infrared ray radiator obtained through the anodizing treatment according to the present invention is manufactured by the method according to the present invention, and a hard coating having a thickness of 45 탆 is formed in the range.
이와 같은 원적외선 방사체의 방사에너지의 측정 시험 결과는 하기의 표 1에서와 같다.The measurement results of the radiant energy of such a far-infrared radiator are shown in Table 1 below.
(측정온도: 55℃, 측정파장: 5㎛ ~ 20 ㎛)Far-infrared emissivity
(Measurement temperature: 55 占 폚, measurement wavelength: 5 占 퐉 to 20 占 퐉)
(측정온도: 55℃, 측정파장: 5㎛ ~ 20 ㎛)Far-infrared radiation energy
(Measurement temperature: 55 占 폚, measurement wavelength: 5 占 퐉 to 20 占 퐉)
위 표 1에서와 같은 원적외선 방사 측정 시험은 FT-IR Spectrometer를 이용한 Black Body 대비 측정결과이다.
The far infrared ray emission test as shown in Table 1 above is the measurement result of black body using FT-IR spectrometer.
이에 대해 아노다이징 처리를 하지 않아 피막이 형성되지 않은 순수한 알루미늄 시편의 방사에너지의 측정 시험 결과는 하기의 표 2에서와 같다.The results of the measurement of the radiant energy of the pure aluminum specimen without the anodizing treatment and without the coating are shown in Table 2 below.
(측정온도: 55℃, 측정파장: 5㎛ ~ 20 ㎛)Far-infrared emissivity
(Measurement temperature: 55 占 폚, measurement wavelength: 5 占 퐉 to 20 占 퐉)
(측정온도: 55℃, 측정파장: 5㎛ ~ 20 ㎛)Far-infrared radiation energy
(Measurement temperature: 55 占 폚, measurement wavelength: 5 占 퐉 to 20 占 퐉)
위 표 2에서와 같은 원적외선 방사 측정 시험은 FT-IR Spectrometer를 이용한 Black Body 대비 측정결과이다.The far infrared ray emission test as shown in Table 2 above is the measurement result of black body using FT-IR spectrometer.
이상의 표 1 및 표 2에서와 같이 본 발명의 원적외선 방사체는 피막이 형성되지 않은 알루미늄과 동일한 측정환경에서 원적외선 방사율 및 방사에너지를 측정한 결과, 본 발명의 원적외선 방사체는 피막이 형성되지 않은 알루미늄에 비해 원적외선 방사 효과가 월등히 우수함을 알 수 있다.
As shown in the above Tables 1 and 2, the far-infrared ray emitter and the radiant energy of the far-infrared ray radiator of the present invention were measured under the same measurement environment as that of the aluminum film without the film. As a result, The effect is remarkably excellent.
또한 순수한 옥돌 시편의 방사에너지의 측정 시험 결과는 하기의 표 3에서와 같다.The measurement results of the radiant energy of the pure octal specimen are shown in Table 3 below.
(측정온도: 55℃, 측정파장: 5㎛ ~ 20 ㎛)Far-infrared emissivity
(Measurement temperature: 55 占 폚, measurement wavelength: 5 占 퐉 to 20 占 퐉)
(측정온도: 55℃, 측정파장: 5㎛ ~ 20 ㎛)Far-infrared radiation energy
(Measurement temperature: 55 占 폚, measurement wavelength: 5 占 퐉 to 20 占 퐉)
위 표 3에서와 같은 원적외선 방사 측정 시험은 FT-IR Spectrometer를 이용한 Black Body 대비 측정결과이다.
The far-infrared radiation measurement test as shown in Table 3 above is the measurement result of black body using FT-IR spectrometer.
이상의 표 1 및 표 3에서와 같이 본 발명의 원적외선 방사체는 순수 옥돌과 동일한 측정환경에서 원적외선 방사율 및 방사에너지를 측정한 결과, 본 발명의 원적외선 방사체는 옥돌에 비해서도 상대적으로 원적외선 방사 효과가 높음을 알 수 있다.
As shown in the above Tables 1 and 3, the far-infrared ray emitter and the far-infrared ray emitter of the present invention were measured under the same measurement environment as that of the pure octane. As a result, it was found that the far-infrared ray emitter of the present invention had a far- .
본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 전자파 차폐 시험 결과는 도 3에 도시된 차폐 시험 결과를 통해 확인할 수 있다. 이 경우 시험벙법은 ASTM D 4935-10, KS C 0304:1998 이며, 시험 환경은 21.4±1.0 ℃의 온도조건, 53.4±1.0 %R.H.의 습도조건, 99.5±2.0kPa의 기압조건을 따른다.The electromagnetic wave shielding test result of the far-infrared ray radiator obtained through the anodizing treatment according to the present invention can be confirmed through the shielding test result shown in FIG. In this case, the test method is ASTM D 4935-10, KS C 0304: 1998, the test environment is a temperature condition of 21.4 ± 1.0 ℃, a humidity condition of 53.4 ± 1.0% RH, and an air pressure condition of 99.5 ± 2.0 kPa.
이 시험은 원역장(Far field) 내에서 평면파가 시료에 수직으로 입사되는 조건에서 평면 재료의 차폐효과 측정에 적용되는 것으로서, 재료에 의한 반사 및 흡수로 인해 발생되는 차폐 효과를 30㎒ ~ 1.5㎓ 주파수 범위 내에서 측정한 것이다.This test is applied to the measurement of the shielding effect of a planar material under the condition that a plane wave is incident perpendicularly to the sample in the far field. The shielding effect caused by the reflection and absorption by the material is 30 MHz ~ 1.5 GHz Measured within the frequency range.
이때, 전자파 차폐효과(Shielding Effectiveness: SE)는 동일 입사전력에 대해서 차폐 재료가 존재할 때와 존재하지 않을 때의 수신 전력비를 말하는 것으로, 하기의 수학식 1,2에서와 같이 산출한다.
At this time, the electromagnetic shielding effect (SE) refers to the received power ratio when the shielding material exists and when the shielding material exists for the same incident power, and is calculated as shown in the following equations (1) and (2).
여기서 P1은 차폐재료가 존재할 때의 수신 전력(10logP1;Load)이고, P2는 차폐재료가 존재하지 않을 때의 수신 전력(10logP2;Ref)이다.
Where P 1 is the received power (10 logP 1 ; Load) when the shielding material is present, and P 2 is the received power (10 logP 2 ; Ref) when no shielding material is present.
여기서 V1은 차폐재료가 존재할 때의 수신 전압이고, V2는 차폐재료가 존재하지 않을 때의 수신 전압이다.
Where V 1 is the received voltage when the shielding material is present and V 2 is the received voltage when no shielding material is present.
이 같은 시험을 통해 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 경우 30㎒ ~ 1.5㎓ 주파수 범위 내에서 39.4SE(dB) ~ 99.1E(dB)의 전자파 차폐 효과가 나타남을 알 수 있다.
Through such tests, it can be seen that the far-infrared ray radiator obtained through the anodizing treatment according to the present invention exhibits an electromagnetic wave shielding effect of 39.4 SE (dB) to 99.1E (dB) within the frequency range of 30 MHz to 1.5 GHz.
이상의 실시예1 및 2를 통해 확인되는 바와 같이 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체는 원적외선 방사 효율이 우수하고, 전자파차단 효과가 우수함을 알 수 있는 것으로, 다양한 산업분야에 적용될 수 있다.
As can be seen from Examples 1 and 2, the far-infrared ray radiator obtained through the anodizing treatment according to the present invention has excellent far-infrared radiation efficiency and excellent electromagnetic wave shielding effect and can be applied to various industrial fields.
이 같은 본 발명에 따른 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체는 가열시 원적외선이 방출되고, 비가열시 세균억제 및 감염예방의 효과가 기대되는 것으로, 침대 상판, 침구매트(온열), 군 시설물 벽체, 천장, 바닥 마감부재(전자파), 의자(좌판, 등판), 식탁, 침구(배게),족열판, 주방용기(조리용), 살균건조기, 식기세척기, 건축자재(손잡이, 마루바닥재 등), 장난감, 가전제품(조작시 사용버튼 등), 생활용품 등 다양한 분야에 널리 응용 또는 적용될 수 있다.
The far-infrared ray radiator obtained through the anodizing treatment according to the present invention is expected to have the effect of suppressing bacteria and preventing infections at the time of non-heating, and it is expected that the far- Flooring materials, flooring materials, flooring materials, etc.), flooring members (electromagnetic waves), chairs (stools, backboards), tablecloths, bedclothes, panty plates, kitchen containers (for cooking), sterilizing dryers, dishwashers, It can be widely applied or applied to various fields such as products (buttons used during operation, etc.) and household goods.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 실시 예와 실질적으로 균등한 범위에 있는 것까지 본 발명의 권리범위가 미치는 것으로 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형 실시가 가능한 것이다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be preferred embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.
1: 원적외선 방사체 10: 알루미늄 소재
20: 산화 피막 22: 코어
24: 미세공 30: 요오드1: far-infrared ray radiator 10: aluminum material
20: oxidation film 22: core
24: micropores 30: iodine
Claims (10)
진공 챔버 내에서 5 ~ 30분 동안 코어(22)의 미세공(24)에 요오드(30)를 진공 함침(Vacuum Infusion) 방식으로 충진하는 제2단계;
상기 알루미늄 소재(10) 표면을 실링(sealing) 처리하여 미세공(24)의 입구에 축소부(24a)를 형성하는 제3단계;
로 구성되는 것을 특징으로 하는 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조방법.
A first step of anodizing the aluminum material 10 to form an oxide film 20 on which a core 22 having micropores 24 formed on the surface of the aluminum material 10 is continuously formed;
A second step of filling the micropores 24 of the core 22 in a vacuum chamber for 5 to 30 minutes by a vacuum infusion method;
A third step of sealing the surface of the aluminum material 10 to form a reduced portion 24a at the entrance of the micropore 24;
Wherein the anodizing process is performed by using an anodizing process.
상기 제1단계 이전에, 알루미늄 소재(10) 표면의 이물질을 제거하기 위해 세척수를 이용해 세척하는 제4단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조방법.
The method according to claim 1,
The method of manufacturing a far-infrared ray radiator as set forth in claim 1, further comprising a fourth step of washing the surface of the aluminum material (10) with washing water to remove foreign substances before the first step.
상기 아노다이징 처리를 통해 알루미늄 소재(10)의 표면 처리시 경질 피막은 +5 ~ 40℃ 온도범위에서 20 ~ 200㎛ 두께로 형성하고, 연질 피막은 0 ~ 40℃ 온도범위에서 3 ~ 20㎛ 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조방법.
The method according to claim 1,
When the surface treatment of the aluminum material 10 is performed through the anodizing treatment, the hard coating is formed to a thickness of 20 to 200 탆 at a temperature range of +5 to 40 캜, and the soft coating has a thickness of 3 to 20 탆 at a temperature range of 0 to 40 캜. Wherein the anodizing treatment is carried out by using an anodizing treatment.
상기 제3단계는, 초산니켈(Ni(CHCOO)2)과 붕산(硼酸, Boric acid) 및 초산 코발트(Co·(CH3COO)2·4H2O)를 6 : 3: 1의 중량비율로 혼합한 혼합물을 물 1리터(ℓ) 당 8 ~ 10 그램(g) 혼합하여 80℃ 이상으로 가열한 열수용액에 원적외선 방사체(1)를 4 ~ 6분 동안 침지시키는 단계인 것을 특징으로 하는 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조방법.
The method according to claim 1,
In the third step, nickel (Ni (CHCOO) 2 ), boric acid, and cobalt acetate (Co (CH 3 COO) 2 .4H 2 O) are mixed in a weight ratio of 6: 3: 1 Wherein the step of immersing the far infrared ray radiator (1) for 4 to 6 minutes is performed by mixing 8 to 10 g / g of the mixed mixture with 1 liter of water, Ray diffractometry.
상기 제3단계는, 증류수를 90℃ 이상으로 가열한 상태에서 원적외선 방사체(1)를 4 ~ 6분 동안 침지시키는 단계인 것을 특징으로 하는 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the third step is a step of immersing the far-infrared ray radiator 1 for 4 to 6 minutes while distilled water is heated to 90 ° C or more.
상기 제3단계는, 증류수를 고온 가열한 고압 수증기를 1.3 Kg/㎠ ~ 5 Kg/㎠의 압력으로 원적외선 방사체(1)의 산화 피막(20)을 증기압 처리하는 단계인 것을 특징으로 하는 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조방법.
The method according to claim 1,
The third step is a step of subjecting the oxidation film 20 of the far-infrared ray radiator 1 to the vapor pressure treatment at a pressure of 1.3 Kg / cm2 to 5 Kg / cm2 by heating the distilled water to a high temperature. Ray diffractometry.
상기 제3단계 후, 원적외선 방사체(1) 표면에 달라붙은 잔류 약제 및 각종 이물질 등을 제거하기 위해 세척수를 이용해 세척하고 건조하는 제5단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 아노다이징 처리를 통해 얻어진 원적외선 방사체의 제조방법.
The method according to claim 1,
And a fifth step of washing and drying the residual medicament adhering to the surface of the far-infrared ray radiator 1 using washing water to remove various foreign substances, etc. after the third step, A method of manufacturing a radiator.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20140091162A KR101485370B1 (en) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | A Far Infrared Rays Radiator And the Manufacturing Method Obtained by An Anodizing Treatment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20140091162A KR101485370B1 (en) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | A Far Infrared Rays Radiator And the Manufacturing Method Obtained by An Anodizing Treatment |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR101485370B1 true KR101485370B1 (en) | 2015-01-26 |
Family
ID=52592327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR20140091162A KR101485370B1 (en) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | A Far Infrared Rays Radiator And the Manufacturing Method Obtained by An Anodizing Treatment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101485370B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102646631B1 (en) * | 2023-05-25 | 2024-03-12 | 주식회사 성호테크 | Far infrared rays painting drier |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960029493A (en) * | 1995-01-14 | 1996-08-17 | 최기봉 | Method for injecting far-infrared radiant into aluminum substrate and aluminum substrate prepared accordingly |
| KR20070039199A (en) * | 2005-10-07 | 2007-04-11 | 월드엔앤씨 주식회사 | Method for treating the surface of aluminium material and aluminium material manufactured by the same |
| KR100915941B1 (en) * | 2009-01-28 | 2009-09-07 | 조재환 | Mattress providing anti-bacteria and deodorizing function |
| KR20120015824A (en) * | 2010-08-13 | 2012-02-22 | (주)에스코 | Rapid aluminum anodizing method, and method for manufacturing metal printed circuit board using the same |
-
2014
- 2014-07-18 KR KR20140091162A patent/KR101485370B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960029493A (en) * | 1995-01-14 | 1996-08-17 | 최기봉 | Method for injecting far-infrared radiant into aluminum substrate and aluminum substrate prepared accordingly |
| KR20070039199A (en) * | 2005-10-07 | 2007-04-11 | 월드엔앤씨 주식회사 | Method for treating the surface of aluminium material and aluminium material manufactured by the same |
| KR100915941B1 (en) * | 2009-01-28 | 2009-09-07 | 조재환 | Mattress providing anti-bacteria and deodorizing function |
| KR20120015824A (en) * | 2010-08-13 | 2012-02-22 | (주)에스코 | Rapid aluminum anodizing method, and method for manufacturing metal printed circuit board using the same |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102646631B1 (en) * | 2023-05-25 | 2024-03-12 | 주식회사 성호테크 | Far infrared rays painting drier |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101698114B (en) | Surface bioactive calcium-phosphate layer of carbon fiber reinforced polyetheretherketone composite material and preparation thereof | |
| JP2014534048A (en) | Surface photocatalytically active coating method | |
| RU2008121255A (en) | NEW HIGH STABILITY AQUEOUS SOLUTION, NANO-COATED ELECTRODE FOR PREPARING THE SOLUTION AND METHOD FOR PRODUCING THIS ELECTRODE | |
| WO2020067500A1 (en) | Antimicrobial material, layered body, antimicrobial layered body, medical member, antimicrobial material production method, antimicrobial layered body production method, and antimicrobial method | |
| JP2018193292A (en) | Composite ceramic and method of production and method of application thereof | |
| KR101485370B1 (en) | A Far Infrared Rays Radiator And the Manufacturing Method Obtained by An Anodizing Treatment | |
| CN102370429B (en) | Inner liner for electric heating cooker and manufacture method thereof | |
| KR20070024051A (en) | Ceramic and method for manufacturing the same | |
| KR102398477B1 (en) | A dome type sauna apparatus using ceramic compositionl for radiating far infrared ray | |
| CN206324634U (en) | A kind of steaming plant and equipment of cooking | |
| KR100925544B1 (en) | Method for preparing wall paper | |
| CN213605752U (en) | Antibacterial titanium pot | |
| CN206092952U (en) | Antibiotic sealing washer, sealing washer subassembly, lap subassembly and equipment of cooking | |
| CN107297503A (en) | A kind of preparation method of high nitrogen colored stainless steel product | |
| CN105848323A (en) | Electromagnetic boiling structure capable of stabilizing blood glucose level | |
| CN206303759U (en) | A kind of microbial vapor valve and equipment of cooking | |
| CN201692517U (en) | High-efficient far infrared light-wave bathroom | |
| CN105558593A (en) | Carrot -potato-rabbit meat soup | |
| JP2023140163A (en) | Metal oxide particle having antibacterial property and production method of the same, antibacterial material and production method of the same, coating material, molded body, fiber, and antibacterial method | |
| CN206729769U (en) | A kind of antibacterial return valve, steam valve and equipment of cooking | |
| KR102367117B1 (en) | Electromagnetic wave absorption and far infrared radiation sheet | |
| KR100551752B1 (en) | Processing method for forming with salt and thereof products | |
| CN204016827U (en) | Gynecologic fumigating & washing hip bath device | |
| KR100917689B1 (en) | Composition for wall paper coating | |
| CN106492292B (en) | A kind of surface has the cochrome bracket and preparation method of hydroxyapatite coating layer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190110 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200113 Year of fee payment: 6 |