KR101469547B1 - 노즐 유닛 및 이를 구비한 기판세정장치 - Google Patents

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KR101469547B1 KR1020130090059A KR20130090059A KR101469547B1 KR 101469547 B1 KR101469547 B1 KR 101469547B1 KR 1020130090059 A KR1020130090059 A KR 1020130090059A KR 20130090059 A KR20130090059 A KR 20130090059A KR 101469547 B1 KR101469547 B1 KR 101469547B1
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박미경
이상준
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

본 발명은 노즐 유닛 및 이를 구비한 기판세정장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로 노즐 암의 구조가 개선된 노즐 유닛 및 이를 구비한 기판세정장치에 관한 것이다. 노즐 유닛은 약액 또는 세정액을 분사하는 노즐헤드, 일단이 상기 노즐헤드와 연결되며, 상기 노즐헤드에 상기 약액 또는 세정액을 공급하기 위한 유로를 형성하는 노즐암 파이프, 일단이 상기 노즐암 파이프와 연결되며, 수직한 방향으로 길게 형성되는 노즐컬럼 파이프, 상기 노즐암 파이프와 노즐컬럼 파이프 사이를 연결하며, 상기 노즐암 파이프가 그 길이방향으로 이동 가능하도록 하는 조절부 및 상기 조절부가 이동할 수 있도록 내부에 공간을 형성하며, 상기 공간에 상기 약액 또는 세정액이 유입되는 것을 방지하기 위해 밀봉하는 커버부를 포함한다. 여기서, 상기 노즐컬럼 파이프 외부에 구비되며, 상기 노즐컬럼 파이프를 보호하는 컬럼 파이프 커버부를 더 포함한다.

Description

노즐 유닛 및 이를 구비한 기판세정장치{Nozzle unit and wafer cleaning apparatus having the same}
본 발명은 노즐 유닛 및 이를 구비한 기판세정장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로 노즐 암의 구조가 개선된 노즐 유닛 및 이를 구비한 기판세정장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체는 리소그래피, 증착 및 에칭 등과 같은 일련의 공정들이 반복되어 제조된다. 이때, 반도체를 만드는데 사용되는 기판의 표면에는 여러 공정을 거치면서 각종 파티클, 금속 불순물 및 유기물 등과 같은 오염물질들이 잔존하게 된다. 상기 기판 상에 잔존하는 오염물질은 제조되는 반도체의 신뢰성을 저하시키므로, 이를 개선하기 위해 세정장치가 반도체 제조공정 중에 채용된다.
세정장치는 건식(Dry) 또는 습식(Wet) 중 어느 하나의 방식으로 기판 표면의 오염물질을 처리한다. 여기서, 상기 습식세정방식은 액체의 세정액을 이용한 세정방식으로써, 이러한 세정액은 노즐을 통하여 회전되는 웨이퍼 상에 분사된다.
도1은 종래의 기판 세정장치의 노즐 유닛을 개략적으로 도시한 개략도이다.
도1을 참고하면, 종래의 기판 세정장치는 기판을 수용하는 챔버, 상기 챔버 일측에 구비되며, 상기 기판에 순수(DI water: Deionized Water)를 분사하는 노즐 유닛(10)을 포함한다.
이와 같이 구성된 종래 기술에 의한 기판 세정장치는 세정 작동시 상기 챔버 내에 안착된 기판은 일정 속도로 회전되는 상태이므로, 상기 노즐 유닛(10)을 통해 순수가 회전되는 기판 상부면으로 분사되어 기판에 부착된 불필요한 물질 또는 오염 물질 등을 제거한다.
여기서, 상기 노즐 유닛(10)은 노즐 암(11)과 노즐 컬럼(12)을 포함하고 있으며, 상기 노즐 암(11)은 약액 또는 세정액을 분사하며, 상기 노즐 컬럼(12)은 상기 노즐 암(11)과 결합되며, 상기 노즐 암(11)을 고정지지할 수 있다. 또한, 상기 노즐 암(11) 일측에 조절 조인트(13)가 구비되고, 상기 조절 조인트(13)에 의해 노즐 암(11)의 미세하게 길이를 조절할 수 있다.
그런데, 종래의 기판 세정장치에 있어서, 상기 노즐 유닛은 조절 조인트를 이용하여, 상기 노즐 암의 길이를 조절할 때 조절 조인트가 외부에 노출되어 있어, 조절시 파티클이 발생하거나 상기 노즐 암 외부에 코팅된 코팅제가 벚겨져 상기 노즐 암이 부식되는 문제점이 있다. 또한, 상기 노즐 유닛에서 누수되거나 잔류한 액체가 상기 챔버 내에 떨어져 상기 챔버 내에 오염도에 영향을 주어 공정효율을 저하시키는 문제점이 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 노즐 유닛의 구조를 단순하게 개선함으로써, 노즐암의 구조를 슬림화하는 노즐 유닛 및 이를 구비한 기판세정장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 노즐암과 노즐컬럼이 연결되는 부분을 완전히 밀봉하는 구조를 개선하여, 노즐암 내부로 분순물이 유입되는 것을 방지하는 노즐 유닛 및 이를 구비한 기판세정장치를 제공하기 위한 것이다.
상술한 본 발명의 일 실시예에 따른, 노즐 유닛은 약액 또는 세정액을 분사하는 노즐헤드, 일단이 상기 노즐헤드와 연결되며, 상기 노즐헤드에 상기 약액 또는 세정액을 공급하기 위한 유로를 형성하는 노즐암 파이프, 일단이 상기 노즐암 파이프와 연결되며, 수직한 방향으로 길게 형성되는 노즐컬럼 파이프, 상기 노즐암 파이프에 구비되며, 상기 노즐암 파이프가 그 길이방향으로 이동 가능하도록 하는 조절부 및 상기 조절부가 이동할 수 있도록 내부에 공간을 형성하며, 상기 공간에 상기 약액 또는 세정액이 유입되는 것을 방지하기 위해 밀봉하는 커버부를 포함한다. 여기서, 상기 노즐컬럼 파이프 외부에 구비되며, 상기 노즐컬럼 파이프를 보호하는 컬럼 파이프 커버부를 더 포함한다.
일 실시예에 따른, 상기 커버부는 상기 컬럼 파이프 커버부와 결합되는 하부커버 및 상기 하부커버 보다 크게 형성되며, 상기 하부 커버의 측면을 감싸며, 상기 조절부 상부에 구비되는 상부커버를 포함한다.
일 실시예에 따른, 상기 노즐컬럼 파이프 일측에 암나사산이 형성되고, 상기 암나사산에 대응되는 위치에 상기 컬럼 파이프 커버부 내부에 숫나사산이 형성되어, 상기 나사산에 의해 상기 컬럼 파이프 커버부를 상기 노즐컬럼 파이프에 고정 지지하며, 동시에 상기 컬럼파이프 커버부의 길이를 조절하는 것을 특징으로 한다.
일 실시예에 따른, 상기 노즐 헤드는 일단에 상기 약액 또는 세정액을 분사하기 위한 적어도 하나의 노즐 분사구를 구비하고, 상기 노즐 분사구에 결합되는 캡을 포함한다. 여기서, 상기 캡은 폴리프로필렌 재질로 제작되어 있는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 다른 실시예에 따른, 기판세정장치는 기판의 세정환경을 제공하는 세정챔버, 상기 세정챔버 내에 구비되며, 상기 기판을 회전시키는 서셉터 및 상기 기판 상에 약액 또는 세정액을 분사하는 노즐 유닛을 포함하고, 상기 노즐 유닛은 노즐암 파이프와 노즐컬럼 파이프가 구비되되, 상기 노즐암 파이프가 약액 또는 세정액을 분사하는 위치를 조절하는 조절부 및 상기 조절부의 외부를 감싸며, 상기 노즐암 파이프와 노즐컬럼 파이프가 결합하는 동시에, 내부에 공간을 형성하고, 상기 공간을 밀봉하는 것을 특징으로 한다. 여기서, 상기 노즐컬럼 파이프 외부에 구비되며, 상기 노즐컬럼 파이프를 보호하는 컬럼 파이프 커버부를 더 포함한다.
다른 실시예에 따른, 상기 커버부는 상기 컬럼 파이프 커버부와 결합되는 하부커버 및 상기 하부커버 보다 크게 형성되며, 상기 하부 커버의 측면을 감싸며, 상기 조절부 상부에 구비되는 상부커버를 포함한다.
다른 실시예에 따른, 상기 노즐컬럼 파이프 일측에 암나사산이 형성되고, 상기 암나사산에 대응되는 위치에 상기 컬럼 파이프 커버부 내부에 숫나사산이 형성되어, 상기 나사산에 의해 상기 컬럼 파이프 커버부를 상기 노즐컬럼 파이프에 고정 지지하며, 동시에 상기 컬럼파이프 커버부의 길이를 조절하는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 구성으로, 노즐 유닛의 구조를 단순하게 개선함으로써, 노즐암의 구조를 슬림화할 수 있다. 또한, 본 발명은 노즐암과 노즐컬럼이 연결되는 부분을 완전히 밀봉하는 구조를 개선하여, 노즐암 내부로 분순물이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
이상에서 본 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면, 노즐 유닛의 구조를 단순하게 개선함으로써, 노즐암의 구조를 슬림화할 수 있다.
또한, 본 발명은 노즐암과 노즐컬럼이 연결되는 부분을 완전히 밀봉하는 구조를 개선하여, 노즐암 내부로 분순물이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
도1은 종래의 기판 세정장치의 노즐 유닛을 개략적으로 도시한 개략도이다.
도2는 본 발명의 실시예들에 따른 노즐 유닛을 개략적으로 도시한 사시도이다.
도3은 본 발명의 실시예들에 따른 노즐 유닛의 커버부 내부를 도시한 사시도이다.
도4는 본 발명의 실시예들에 따른 노즐 유닛에서 노즐컬럼 파이프와 컬럼 파이프 커버부의 결합관계를 도시한 단면도이다.
도5는 본 발명의 실시예들에 따른 노즐 유닛의 노즐헤드를 도시한 단면도이다.
이하, 도 2 내지 도5를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 유닛에 대해서 자세히 설명한다.
도2는 본 발명의 실시예들에 따른 노즐 유닛을 개략적으로 도시한 사시도이고, 도3은 본 발명의 실시예들에 따른 노즐 유닛의 커버부 내부를 도시한 사시도이고, 도4는 본 발명의 실시예들에 따른 노즐 유닛에서 노즐컬럼 파이프와 컬럼 파이프 커버부의 결합관계를 도시한 단면도이고, 도5는 본 발명의 실시예들에 따른 노즐 유닛의 노즐헤드를 도시한 단면도이다.
도2 내지 도5를 참고하면, 노즐 유닛(100)은 약액 또는 세정액을 분사하는 노즐헤드(110), 일단이 상기 노즐헤드(110)와 연결되며, 상기 노즐헤드(110)에 상기 약액 또는 세정액을 공급하기 위한 유로를 형성하는 노즐암 파이프(120), 일단이 상기 노즐암 파이프(120)와 연결되며, 수직한 방향으로 길게 형성되는 노즐컬럼 파이프(130), 상기 노즐암 파이프(120)에 구비되며, 상기 노즐암 파이프(120)가 그 길이방향으로 이동 가능하도록 하는 조절부(140) 및 상기 조절부(140)가 이동할 수 있도록 내부에 공간을 형성하며, 상기 공간에 상기 약액 또는 세정액이 유입되는 것을 방지하기 위해 밀봉하는 커버부(150)를 포함한다. 여기서, 상기 노즐컬럼 파이프(130) 외부에 구비되며, 상기 노즐컬럼 파이프(130)를 보호하는 컬럼 파이프 커버부(160)를 더 포함한다.
보다 구체적으로, 노즐헤드(110)는 노즐암 파이프(120) 끝단에 구비되며, 약액 또는 세정액을 분사할 수 있다. 또한, 노즐헤드(110)는 일단에 약액 또는 세정액을 분사하기 위한 적어도 하나의 노즐 분사구(111)를 구비하고, 노즐 분사구(111)에 결합되는 캡(112)을 포함한다.
특히, 노즐 분사구(111) 외측 및 캡(112) 내측에 나사선이 형성되며, 상기 노즐 분사구(111) 및 캡(112)은 나사조임방식으로 결합될 수 있다. 여기서, 상기 캡(112)은 폴리프로필렌 재질로 제작되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 노즐 분사구(111) 또는 캡(112)은 사출 방식으로 제작 되어, 결합될 경우 오차를 최소로 줄일 수 있으며, 유지 보수시 노즐 분사구(111)에 캡(112)을 결합 또는 분해를 간편하게 수행할 수 있다.
노즐암 파이프(120)는 ??자 형태로 제작되되, 일단에는 노즐헤드(110)가 구비되고, 타단에는 조절부(140)가 구비되어, 노즐헤드(110)에는 약액 또는 세정액이 분사되며, 조절부(140)에서는 노즐암 파이프(120) 길이를 미세하게 조절할 수 있다. 특히, 노즐암 파이프(120)는 내부에 노즐관이 삽입되며, 삽입된 노즐관을 통해 약액 또는 세정액을 분사할 수 있다.
노즐컬럼 파이프(130)는 상기 커버부(150)에 의해 노즐암 파이프(120)과 연결되며, 상기 노즐암 파이프(120)르 고정지지 할 수 있다. 또한, 노즐컬럼 파이프(130)는 수직방향으로 길게 형성되며, 수직방향으로 승하강을 수행함으로써, 상기 노즐헤드(110)에서 분사하는 약액 또는 세정액의 분사 높이를 조절할 수 있다. 또한, 노즐컬럼 파이프(130)는 구동부와 연결되며, 노즐컬럼 파이프(130)는 상기 구동부에 의해 구동되나, 구동부는 공지기술이므로 자세한 설명 및 도시를 생략한다.
조절부(140)는 노즐암 파이프(120)에 구비되며, 상기 커버부(150) 내부에 삽입되어, 노즐암 파이프(120)가 그 길이 방향으로 이동함으로써, 노즐암 파이프(120)의 길이를 미세하게 조절할 수 있다.
예를 들면, 조절부(140)는 레일 형식으로 상기 커버부(150) 내부에 형성된 레일을 따라 길이 방향으로 이동할 수 있다. 그러나, 조절부(140)의 이동 형태는 레일 형식으로 한정하는 것은 아니며, 다양한 형태로 적용하여, 상기 노즐암 파이프(120)의 길이를 조절할 수 있다.
커버부(150)는 일측에 노즐컬럼 파이프(130)가 연결되며, 내부에 공간을 형성하고 상기 공간에 조절부(140)가 안착되어, 상기 조절부(140)가 내부 공간을 이동할 수 있다. 또한, 커버부(150)는 상기 공간 내부로 약액 또는 세정액이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
보다 구체적으로, 커버부(150)는 노즐컬럼 파이프(130) 또는 컬럼 파이프 커버부(160)와 결합되는 하부커버(151) 및 상기 하부커버(151) 보다 크게 형성되며, 상기 하부커버(151)의 측면을 감싸며, 상기 조절부(140) 상부에 구비되는 상부커버(152)를 포함한다. 또한, 상부커버(152) 일축에 나사가 구비되며, 하부커버(151)와 상부커버(152)를 체결할 수 있다.
컬럼 파이프 커버부(160)는 노즐컬럼 파이프(130) 외부에 감싸는 형태로 구비되며, 노즐컬럼 파이프(130)를 보호할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 노즐컬럼 파이프(130) 일측에 암나사산이 형성되고, 상기 암나사산에 대응되는 위치에 상기 컬럼 파이프 커버부(160) 내부에 숫나사산이 형성되어, 상기 나사산에 의해 상기 컬럼 파이프 커버부(160)를 상기 노즐컬럼 파이프(130)에 고정 지지하며, 동시에 상기 컬럼 파이프 커버부(160)의 길이를 조절하는 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 노즐 유닛(100)을 구비한 기판세정장치에 대해서 자세히 설명한다.
먼저, 기판세정장치는 기판의 세정환경을 제공하는 세정챔버, 상기 세정챔버 내에 구비되며, 상기 기판을 회전시키는 서셉터 및 상기 기판 상에 약액 또는 세정액을 분사하는 노즐 유닛(100)을 포함하고, 상기 노즐 유닛(100)은 노즐암 파이프(120)와 노즐컬럼 파이프(130)가 구비되되, 상기 노즐암 파이프(120)가 약액 또는 세정액을 분사하는 위치를 조절하는 조절부(140) 및 상기 조절부(140)의 외부를 감싸며, 상기 노즐암 파이프(120)와 노즐컬럼 파이프(130)가 결합하는 동시에, 내부에 공간을 형성하고, 상기 공간을 밀봉하는 것을 특징으로 한다. 여기서, 상기 노즐컬럼 파이프(130) 외부에 구비되며, 상기 노즐컬럼 파이프(130)를 보호하는 컬럼 파이프 커버부(160)를 더 포함한다.
세정챔버는 기판을 세정하는 세정환경을 조성하는 것으로써, 기판이 로딩 또는 언로딩을 수행한다. 한편, 세정챔버에는 기판을 세정하는 약액 또는 세정액을 회수하는 회수로가 형성될 수 있다. 이러한 세정챔버의 기술구성은 공지된 기술이므로 자세한 설명 및 도시를 생략한다.
참고로, 세정챔버 내로 선택적으로 로딩 및 언로딩되는 기판(W)은 반도체 기판이 되는 실리콘 웨이퍼로 예시하나, 꼭 이를 한정하는 것은 아니다. 즉, 상기 기판(W)은 LCD(Liquid Crystal Display) 또는 PDP(Plasma Display Panel)와 같은 평판 디스플레이 장치용 유리기판이 채용될 수 있음은 당연하다.
서셉터는 기판의 로딩 및 언로딩을 위해서 세정챔버 내부에서 서셉터가 상하 방향으로 승강 이동되고, 증착공정 동안에는 소정 속도로 회전한다. 여기서, 서셉터는 정전기력에 의해 기판)을 고정시키는 정전척(electrostatic chuck)일 수 있다. 또한, 서셉터는 스루풋이 우수한 세미배치 타입으로서, 다수의 기판이 동일한 평면 상에 일 측면이 지지되도록 배치되고, 서셉터 표면에서 원주 방향을 따라 방사형으로 배치된다.
노즐 유닛(100)은 약액 또는 세정액을 분사하는 노즐헤드(110), 일단이 상기 노즐헤드(110)와 연결되며, 상기 노즐헤드(110)에 상기 약액 또는 세정액을 공급하기 위한 유로를 형성하는 노즐암 파이프(120), 일단이 상기 노즐암 파이프(120)와 연결되며, 수직한 방향으로 길게 형성되는 노즐컬럼 파이프(130), 상기 노즐암 파이프(120)에 구비되며, 상기 노즐암 파이프(120)가 그 길이방향으로 이동 가능하도록 하는 조절부(140) 및 상기 조절부(140)가 이동할 수 있도록 내부에 공간을 형성하며, 상기 공간에 상기 약액 또는 세정액이 유입되는 것을 방지하기 위해 밀봉하는 커버부(150)를 포함한다. 여기서, 상기 노즐컬럼 파이프(130) 외부에 구비되며, 상기 노즐컬럼 파이프(130)를 보호하는 컬럼 파이프 커버부(160)를 더 포함한다.
보다 구체적으로, 노즐헤드(110)는 노즐암 파이프(120) 끝단에 구비되며, 약액 또는 세정액을 분사할 수 있다. 또한, 노즐헤드(110)는 일단에 약액 또는 세정액을 분사하기 위한 적어도 하나의 노즐 분사구(111)를 구비하고, 노즐 분사구(111)에 결합되는 캡(112)을 포함한다.
특히, 노즐 분사구(111) 외측 및 캡(112) 내측에 나사선이 형성되며, 상기 노즐 분사구(111) 및 캡(112)은 나사조임방식으로 결합될 수 있다. 여기서, 상기 캡(112)은 폴리프로필렌 재질로 제작되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 노즐 분사구(111) 또는 캡(112)은 사출 방식으로 제작 되어, 결합될 경우 오차를 최소로 줄일 수 있으며, 유지 보수시 노즐 분사구(111)에 캡(112)을 결합 또는 분해를 간편하게 수행할 수 있다.
노즐암 파이프(120)는 ??자 형태로 제작되되, 일단에는 노즐헤드(110)가 구비되고, 타단에는 조절부(140)가 구비되어, 노즐헤드(110)에는 약액 또는 세정액이 분사되며, 조절부(140)에서는 노즐암 파이프(120) 길이를 미세하게 조절할 수 있다. 특히, 노즐암 파이프(120)는 내부에 노즐관이 삽입되며, 삽입된 노즐관을 통해 약액 또는 세정액을 분사할 수 있다.
노즐컬럼 파이프(130)는 상기 커버부(150)에 의해 노즐암 파이프(120)과 연결되며, 상기 노즐암 파이프(120)르 고정지지 할 수 있다. 또한, 노즐컬럼 파이프(130)는 수직방향으로 길게 형성되며, 수직방향으로 승하강을 수행함으로써, 상기 노즐헤드(110)에서 분사하는 약액 또는 세정액의 분사 높이를 조절할 수 있다. 또한, 노즐컬럼 파이프(130)는 구동부와 연결되며, 노즐컬럼 파이프(130)는 상기 구동부에 의해 구동되나, 구동부는 공지기술이므로 자세한 설명 및 도시를 생략한다.
조절부(140)는 노즐암 파이프(120)에 구비되며, 상기 커버부(150) 내부에 삽입되어, 노즐암 파이프(120)가 그 길이 방향으로 이동함으로써, 노즐암 파이프(120)의 길이를 미세하게 조절할 수 있다.
예를 들면, 조절부(140)는 레일 형식으로 상기 커버부(150) 내부에 형성된 레일을 따라 길이 방향으로 이동할 수 있다. 그러나, 조절부(140)의 이동 형태는 레일 형식으로 한정하는 것은 아니며, 다양한 형태로 적용하여, 상기 노즐암 파이프(120)의 길이를 조절할 수 있다.
커버부(150)는 일측에 노즐컬럼 파이프(130)가 연결되며, 내부에 공간을 형성하고 상기 공간에 조절부(140)가 안착되어, 상기 조절부(140)가 내부 공간을 이동할 수 있다. 또한, 커버부(150)는 상기 공간 내부로 약액 또는 세정액이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
보다 구체적으로, 커버부(150)는 노즐컬럼 파이프(130) 또는 컬럼 파이프 커버부(160)와 결합되는 하부커버(151) 및 상기 하부커버(151) 보다 크게 형성되며, 상기 하부커버(151)의 측면을 감싸며, 상기 조절부(140) 상부에 구비되는 상부커버(152)를 포함한다. 또한, 상부커버(152) 일축에 나사가 구비되며, 하부커버(151)와 상부커버(152)를 체결할 수 있다.
컬럼 파이프 커버부(160)는 노즐컬럼 파이프(130) 외부에 감싸는 형태로 구비되며, 노즐컬럼 파이프(130)를 보호할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 노즐컬럼 파이프(130) 일측에 암나사산이 형성되고, 상기 암나사산에 대응되는 위치에 상기 컬럼 파이프 커버부(160) 내부에 숫나사산이 형성되어, 상기 나사산에 의해 상기 컬럼 파이프 커버부(160)를 상기 노즐컬럼 파이프(130)에 고정 지지하며, 동시에 상기 컬럼 파이프 커버부(160)의 길이를 조절하는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 구성으로, 노즐 유닛의 구조를 단순하게 개선함으로써, 노즐암의 구조를 슬림화할 수 있다. 또한, 본 발명은 노즐암과 노즐컬럼이 연결되는 부분을 완전히 밀봉하는 구조를 개선하여, 노즐암 내부로 분순물이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
이상과 같이 본 발명에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것이다. 또한, 본 발명이 상술한 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 그러므로, 본 발명의 사상은 상술한 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
100: 노즐 유닛 140: 조절부
110: 노즐헤드 150: 커버부
111: 노즐 분사구 151: 하부커버
112: 캡 152: 상부커버
120: 노즐암 파이프 160: 컬럼 파이프 커버부
130: 노즐컬럼 파이프

Claims (10)

  1. 약액 또는 세정액을 분사하는 노즐헤드;
    일단이 상기 노즐헤드와 연결되며, 상기 노즐헤드에 상기 약액 또는 세정액을 공급하기 위한 유로를 형성하는 노즐암 파이프;
    일단이 상기 노즐암 파이프와 연결되며, 수직한 방향으로 길게 형성되는 노즐컬럼 파이프;
    상기 노즐암 파이프에 구비되며, 상기 노즐암 파이프가 그 길이방향으로 이동 가능하도록 하여 상기 노즐암 파이프의 길이를 조절하는 조절부; 및
    상기 조절부가 이동할 수 있도록 내부에 공간을 형성하며, 상기 공간에 상기 약액 또는 세정액이 유입되는 것을 방지하기 위해 밀봉하는 커버부;
    를 포함하고,
    상기 노즐컬럼 파이프 외부에 구비되며, 상기 노즐컬럼 파이프를 보호하는 컬럼 파이프 커버부를 더 포함하고,
    상기 노즐컬럼 파이프 일측에 암나사산이 형성되고, 상기 암나사산에 대응되는 위치에 상기 컬럼 파이프 커버부 내부에 숫나사산이 형성되어, 상기 나사산에 의해 상기 컬럼 파이프 커버부를 상기 노즐컬럼 파이프에 고정 지지하며, 동시에 상기 컬럼파이프 커버부의 길이를 조절하는 것을 특징으로 하는 노즐유닛.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 커버부는
    상기 컬럼 파이프 커버부와 결합되는 하부커버; 및
    상기 하부커버 보다 크게 형성되며, 상기 하부 커버의 측면을 감싸며, 상기 조절부 상부에 구비되는 상부커버;
    를 포함하는 노즐 유닛.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 노즐 헤드는 일단에 상기 약액 또는 세정액을 분사하기 위한 적어도 하나의 노즐 분사구를 구비하고, 상기 노즐 분사구에 결합되는 캡을 포함하는 노즐 유닛.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 캡은 폴리프로필렌 재질로 제작되어 있는 것을 특징으로 하는 노즐 유닛.
  7. 기판의 세정환경을 제공하는 세정챔버;
    상기 세정챔버 내에 구비되며, 상기 기판을 회전시키는 서셉터; 및
    상기 기판 상에 약액 또는 세정액을 분사하는 노즐 유닛;
    을 포함하고,
    상기 노즐 유닛은 노즐암 파이프와 노즐컬럼 파이프가 구비되되, 상기 노즐암 파이프가 약액 또는 세정액을 분사하는 위치를 조절하는 조절부 및 상기 조절부의 외부를 감싸며, 상기 노즐암 파이프와 노즐컬럼 파이프가 결합하는 동시에, 내부에 공간을 형성하고, 상기 공간을 밀봉하는 커버부를 포함하며,
    상기 노즐컬럼 파이프 외부에 구비되며, 상기 노즐컬럼 파이프를 보호하는 컬럼 파이프 커버부를 더 포함하고,
    상기 노즐컬럼 파이프 일측에 암나사산이 형성되고, 상기 암나사산에 대응되는 위치에 상기 컬럼 파이프 커버부 내부에 숫나사산이 형성되어, 상기 나사산에 의해 상기 컬럼 파이프 커버부를 상기 노즐컬럼 파이프에 고정 지지하며, 동시에 상기 컬럼파이프 커버부의 길이를 조절하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.
  8. 삭제
  9. 제7항에 있어서,
    상기 커버부는
    상기 컬럼 파이프 커버부와 결합되는 하부커버; 및
    상기 하부커버 보다 크게 형성되며, 상기 하부 커버의 측면을 감싸며, 상기 조절부 상부에 구비되는 상부커버;
    를 포함하는 기판세정장치.
  10. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20020019487A (ko) * 1999-07-01 2002-03-12 리차드 로브그렌 반도체 웨이퍼의 뒷면을 세정하기 위한 조정가능한노즐조립체를 갖춘 회전, 세정, 건조스테이션
KR101099612B1 (ko) * 2009-09-21 2011-12-29 세메스 주식회사 스윙노즐유닛 및 그것을 갖는 기판 처리 장치

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