KR101466759B1 - Manufacturing for metal printed circuit board - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 이형필름 상에 광 반사층을 인쇄하는 단계; 상기 광 반사층 상에 회로패턴을 인쇄하는 단계; 상기 회로패턴 상에 열전도성 절연층을 도포하는 단계; 및 상기 이형필름을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a method of manufacturing a light emitting device, comprising: printing a light reflection layer on a release film; Printing a circuit pattern on the light reflection layer; Applying a thermally conductive insulating layer on the circuit pattern; And removing the release film. The present invention also provides a method of manufacturing a metal printed circuit board.

Description

금속 인쇄회로기판의 제조방법{MANUFACTURING FOR METAL PRINTED CIRCUIT BOARD}Technical Field [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a metal printed circuit board,

본 발명은 금속 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것으로서, 이형필름 상에 인쇄방식을 이용하여 광 반사층, 회로패턴, 및 열전도성 절연층을 형성하거나, 이형필름 상에 인쇄방식을 이용하여 광 반사층, 회로패턴, 및 열전도성 절연층을 형성하고 열전도성 베이스층과 열압착(Hot press)을 하여 제조하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a metal printed circuit board, and more particularly, to a method of manufacturing a metal printed circuit board by forming a light reflecting layer, a circuit pattern, and a thermally conductive insulating layer on a release film using a printing method, A circuit pattern, and a method of manufacturing a metal printed circuit board by forming a thermally conductive insulating layer and hot pressing the thermally conductive base layer.

발광 다이오드(이하 LED, Light Emitting Diode)는 점광원 형태로 다양한 색상으로 단순한 표시소자로 사용되는 것으로 출발하였지만 광효율성, 오랜 수명 등의 장점으로 점차 랩탑/데스크탑 컴퓨터의 모니터 및 면적 표시장치 등 다양한 분야에 사용되고 있다. 특히 최근에는 조명과 LCD TV 백라이트 분야에 그 사용범위를 점차 확대하려고 하는 시점에 있다.Although LEDs (Light Emitting Diodes) are used as simple display devices in various colors in the form of point light sources, they are increasingly used in various fields such as monitors and area display devices of laptops / desktop computers due to their light efficiency and long life . Especially recently, it is about to expand its use range for lighting and LCD TV backlight.

LCD TV 백라이트의 경우와 LED 조명의 경우에는 단위면적당 높은 휘도와 평면발광의 이유 등으로 다수개의 발광소자로 기판에 어레이를 구성하여 사용한다. 이러한 어레이 구성에 의하여 LED에서 발생하는 열을 기판으로 효과적으로 방출하는 것이 LED 수명과 품질 유지에 중요한 요소이다.In the case of LCD TV backlight and LED lighting, an array is formed on a substrate using a plurality of light emitting devices for reasons of high luminance per unit area and plane light emission. It is an important factor for LED lifetime and quality maintenance to effectively emit heat generated from LED by the array configuration.

LED 어레이 기판은 원활한 방열을 위하여 종래의 PCB에 사용되는 동박적층판(CCL) 대신에 MCPCB(metal core printed circuit board)를 사용한다. 보통 이러한 MCPCB는 금속 베이스 층, 유전층, 및 동박의 3층 구조를 이루고 있다. LED array substrate uses metal core printed circuit board (MCPCB) instead of copper clad laminate (CCL) used in conventional PCB for smooth heat dissipation. Usually, such a MCPCB has a three-layer structure of a metal base layer, a dielectric layer, and a copper foil.

상기 유전층은 열전도성을 증가시키기 위하여 열전도성 입자를 충진한 에폭시 수지를 사용하기도 한다. 전극회로의 형성은 종래 인쇄회로기판(PCB)과 마찬가지로 리소그라피 기술 등을 이용하여 레지스트 패턴을 형성하고 식각하여 제조한다. 그러나, 이러한 전극회로 형성을 위한 에칭 공정은 제조 공정이 매우 복잡하고, 공정 중 다량의 에칭 폐수가 발생하는 문제가 있다. 또한, MCPCB를 기반으로 한 LED 기판은 에폭시 유전층 때문에 방열성능이 크게 제한되는 단점이 있다.The dielectric layer may be made of an epoxy resin filled with thermally conductive particles to increase the thermal conductivity. The electrode circuit is formed by forming a resist pattern using a lithography technique or the like and etching the same as a conventional printed circuit board (PCB). However, the etching process for forming such an electrode circuit has a complicated manufacturing process, and there is a problem that a large amount of etching wastewater is generated during the process. In addition, the LED board based on MCPCB has a disadvantage that the heat dissipation performance is largely limited due to the epoxy dielectric layer.

한국 실용신안 제 20-0404237호에는 MCPCB를 사용하여 전극회로는 에칭으로 형성하고 LED가 장착되는 부위에 절연층까지의 개구부를 만들고 거기에 히트싱크 슬러그를 부착하여 그 위에 나머지 LED 부재를 그 위에 탑재한다는 설명인데 접착된 절연층을 깨끗이 떼어낸다는 것이 어려울 뿐만 아니라 이 또한 상기와 같이 조립방식의 트렌드에 역행하는 것으로 경제적으로 실현가능성이 낮은 기술이다.In Korean Utility Model No. 20-0404237, an electrode circuit is formed by etching using MCPCB, and an opening to an insulating layer is formed at a portion where the LED is mounted, and a heat sink slug is attached to the opening, and the remaining LED member is mounted thereon However, it is not only difficult to cleanly remove the bonded insulating layer, but also it is a technique that is not economically feasible because it is contrary to the trend of the assembling method as described above.

한국특허 제 696063호에는 패키징된 LED를 사용하지 않고 LED칩만을 추출하여 함몰장착부, 절연층, 본딩다이, 반사판, 전극을 구성하는 별도의 기판에 장착하는 LED 어레이 기판을 개시하고 있다. 그러나 이러한 기판은 그 성격상 규격이 통일될 수 없고 기계가공, 다양한 층의 형성, 패턴 형성, 기판에 직접몰딩 등 복잡한 가공을 수반하는 것이고 조립방식의 트렌드에 역행하는 것으로 경제적으로 실현가능성이 낮은 기술이다.Korean Patent No. 696063 discloses an LED array substrate in which only LED chips are extracted without using packaged LEDs and mounted on a separate substrate constituting a recess mounting portion, an insulating layer, a bonding die, a reflector, and an electrode. However, such a substrate can not be unified in terms of its characteristics, and involves complicated processing such as machining, formation of various layers, pattern formation, and direct molding on the substrate, and is contrary to the trend of assembly method. to be.

따라서, 본 발명의 목적은, 전기적 특성 및 각각의 소재들간의 밀착력이 저하되었던 종래와는 달리, 이형필름 상에 인쇄방식을 이용하여 광 반사층, 회로패턴, 및 열전도성 절연층을 형성하거나, 이형필름 상에 인쇄방식을 이용하여 광 반사층, 회로패턴, 및 열전도성 절연층을 형성하고 열전도성 베이스층과 열압착(Hot press)을 함으로써, 전기적 특성, 광 반사효율, 및 밀착력이 우수한 금속 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide a method of forming a light reflection layer, a circuit pattern, and a thermally conductive insulation layer on a release film using a printing method, A metal printed circuit having excellent electrical characteristics, light reflection efficiency, and adhesion can be obtained by forming a light reflecting layer, a circuit pattern, and a thermally conductive insulating layer on a film by a printing method and performing hot pressing with the thermally conductive base layer. And a method of manufacturing a substrate.

본 발명은, 이형필름 상에 광 반사층을 인쇄하는 단계; 상기 광 반사층 상에 회로패턴을 인쇄하는 단계; 상기 회로패턴 상에 열전도성 절연층을 도포하는 단계; 및 상기 이형필름을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a method of manufacturing a light emitting device, comprising: printing a light reflection layer on a release film; Printing a circuit pattern on the light reflection layer; Applying a thermally conductive insulating layer on the circuit pattern; And removing the release film. The present invention also provides a method of manufacturing a metal printed circuit board.

또한, 본 발명은, 이형필름 상에 광 반사층을 인쇄하는 단계; 상기 광 반사층 상에 회로패턴을 인쇄하는 단계; 상기 회로패턴 상에 열전도성 절연층을 도포하는 단계; 상기 열전도성 절연층 상에 열전도성 베이스층을 적층 시킨 후 열 압착하는 단계; 및 상기 이형필름을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법을 제공한다. The present invention also provides a method of manufacturing a light emitting device, comprising: printing a light reflecting layer on a release film; Printing a circuit pattern on the light reflection layer; Applying a thermally conductive insulating layer on the circuit pattern; Stacking a thermally conductive base layer on the thermally conductive insulating layer, and thermally bonding the thermally conductive base layer; And removing the release film. The present invention also provides a method of manufacturing a metal printed circuit board.

본 발명에 따르면, 전기적 특성, 광 반사효율, 및 밀착력이 우수한 금속 인쇄회로기판의 제조방법이 제공된다. According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a metal printed circuit board excellent in electrical characteristics, light reflection efficiency, and adhesion.

구체적으로는, 회로패턴 상측에 광 반사층이 위치하게 되면, 특히 회로패턴이 은(Ag)으로 형성된 경우 구리 회로패턴 상측에 광 반사층이 위치한 경우 보다 월등히 우수한 반사효율을 제공할 수 있다.Specifically, when the light reflection layer is disposed on the upper side of the circuit pattern, especially when the circuit pattern is formed of silver (Ag), it is possible to provide a significantly higher reflection efficiency than when the light reflection layer is provided on the copper circuit pattern.

또한 이형필름으로서 이형력을 조절한 이형코트필름을 사용하고, 이 위에 광 반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층을 직접 인쇄방식을 이용하여 순차적으로 인쇄한 다음 열전도성 베이스층을 열 압착하는 경우, 전기적 특성 및 밀착력이 우수한 금속 인쇄회로기판을 제조할 수 있다. Further, in the case of using a release coat film whose release force is adjusted as a release film, and sequentially printing a light reflection layer, a circuit pattern, and a thermal conductive insulation layer thereon using a direct printing method, and then thermally compressing the heat conductive base layer, A metal printed circuit board excellent in electrical characteristics and adhesion can be produced.

또한, 연속 인쇄공정인 롤투롤 공정에 적용하는 경우, 제조비용을 절감할 수 있고 대량생산이 가능하여 생산성을 향상시킬 수 있다. In addition, when the present invention is applied to a roll-to-roll process, which is a continuous printing process, it is possible to reduce manufacturing cost and mass production, thereby improving productivity.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예로서 도 1에 전해/무전해 도금 과정을 더 포함하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예로서 전도성 인쇄회로패턴을 1차와 2차에 걸쳐 순차적으로 인쇄하는 과정을 포함하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 하나의 실시예로서 열전도성 절연층을 1차와 2차에 걸쳐 순차적으로 도포하는 과정을 포함하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 하나의 실시예로서 열전도성 베이스층을 포함 하지 않는 금속 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 금속 인쇄회로기판의 제조를 롤투롤 연속공정으로 수행하는 과정을 도시한 도면이다.
1 is a view illustrating a method of manufacturing a metal printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view illustrating a method of manufacturing a metal printed circuit board including the electrolytic / electroless plating process in FIG. 1 according to another embodiment of the present invention.
3 is a view illustrating a method of manufacturing a metal printed circuit board including a process of sequentially printing a conductive printed circuit pattern on a primary and a secondary in accordance with another embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a view illustrating a method of manufacturing a metal printed circuit board including a process of sequentially applying a thermally conductive insulating layer on a primary and a secondary in accordance with another embodiment of the present invention.
5 is a view illustrating a method of manufacturing a metal printed circuit board that does not include a thermally conductive base layer according to another embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a view illustrating a process of manufacturing a metal printed circuit board according to the present invention in a roll-to-roll continuous process.

본 발명에 따른 금속 인쇄회로기판의 제조방법은, 이형필름 상에 광 반사층을 인쇄하는 단계; 상기 광 반사층 상에 회로패턴을 인쇄하는 단계; 상기 회로패턴 상에 열전도성 절연층을 도포하는 단계; 및 상기 이형필름을 제거하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a metal printed circuit board according to the present invention includes: printing a light reflection layer on a release film; Printing a circuit pattern on the light reflection layer; Applying a thermally conductive insulating layer on the circuit pattern; And removing the release film.

상기 이형필름으로는 이형력을 조절한 이형코트필름을 사용할 수 있으며, 여기서, 이형코트필름은 내열성 필름 상에 이형제를 도포하여 제조할 수 있다. The releasing film may be a releasing coat film whose releasing force is controlled. Here, the releasing coat film can be produced by applying a releasing agent onto the heat-resistant film.

상기 내열성 필름은, PEN, PET, PE, PI, PC, 또는 Al으로 형성된 필름일 수 있으며, 이로 한정되는 것은 아니며, 해당 분야에 알려진 다양한 재질의 내열성 필름을 사용할 수도 있다. The heat-resistant film may be a film formed of PEN, PET, PE, PI, PC, or Al. However, the heat-resistant film is not limited thereto and heat resistant films of various materials may be used.

상기 이형제로는, 실리콘 또는 아크릴계 이형제를 사용할 수 있으며, 상기 실리콘 이형제의 경우 열압착 공정에서 심한 수축이 발생하지 않는 내열 특성을 가지며 이형력을 쉽게 조절할 수 있는 장점이 있다. 이외에도 해당 분야에 알려진 다양한 종류의 이형제를 사용할 수도 있다.As the releasing agent, a silicone or an acrylic releasing agent can be used. In the case of the silicone releasing agent, the releasing agent has a heat resistance characteristic in which severe shrinkage does not occur during a thermocompression bonding process, and the releasing force can be easily controlled. In addition, various types of release agents known in the art may be used.

상기 이형제의 경우, 마이크로그라비아, 그라비아, 슬롯 다이(slot die), 리버스 키스(reverse kiss), 또는 로타리 스크린 코팅법을 이용하여 도포할 수 있다. 이외에도 해당 분야에서 이형제를 도포할 수 있는 다양한 방법이 적용될 수 있음은 물론이다.The release agent may be applied using microgravure, gravure, slot die, reverse kiss, or rotary screen coating method. In addition, various methods capable of applying a release agent in the field can be applied.

상기 광 반사층은, 광 반사 특성이 있는 광 반사 필러 및 수지를 포함하는 다양한 종류의 광 반사층 형성용 잉크로 형성할 수 있다. 이러한 광 반사층 형성용 잉크의 한 예로는 화이트 포토 솔더레지스트 잉크를 사용할 수 있으나, 이로 한정되는 것은 아니고 해당 분야에 알려진 다양한 잉크를 사용할 수 있음은 물론이다. The light reflecting layer can be formed of various types of light reflecting layer forming inks including a light reflecting filler having a light reflecting property and a resin. As an example of such a light reflection layer forming ink, a white photo solder resist ink may be used, but it is not limited thereto and various inks known in the field can be used.

여기서, 상기 수지로는 열경화성 수지 또는 UV경화형 수지를 사용할 수 있다. 이외에도 다양한 가교 반응이 가능하며 내열성, 내수성, 내마모성, 무황변의 특성을 갖는 수지라면 다양하게 적용될 수 있다. As the resin, a thermosetting resin or a UV curable resin can be used. In addition, various resins can be used as long as they are capable of various crosslinking reactions and have heat resistance, water resistance, abrasion resistance, and no yellowing property.

여기서, 상기 광 반사 필러로는 LED에서 방사되는 빛의 파장범위 영역에서의 반사특성이 우수한 필러라면 모두 사용 가능하다. 한 예로서 SiO2, TiO2, Al₂O₃, BaSO₄, CaCo₃, 절연수지가 코팅된 Al 플레이크(flake), 또는 Ag 플레이크(flake) 를 사용할 수 있으나 이로 한정되는 것은 아니다. 여기서 금속 플레이크를 사용하는 경우 표면처리를 통해 전기 절연성을 부연한 것을 사용하는 것이 바람직하다.Here, as the light-reflecting filler, any filler having excellent reflection characteristics in the wavelength range of light emitted from the LED can be used. Examples include, but are not limited to , SiO 2, TiO 2, Al 2 O 3, BaSO 4, CaCo 3, Al flakes coated with insulating resin, or Ag flakes. In the case of using the metal flake, it is preferable to use the electrical insulating property by surface treatment.

상기 광 반사층은, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법, 또는 로타리 스크린 인쇄법으로 인쇄할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 해당 분야에 다양한 인쇄법으로 인쇄할 수도 있다. The light reflecting layer may be printed by gravure printing, screen printing, or rotary screen printing, but the present invention is not limited thereto, and printing may be performed by various printing methods in the field.

상기 회로패턴은, 금속 페이스트를 인쇄법으로 인쇄하여 형성한 전도성 인쇄회로패턴으로서, 그라비아 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 옵셋 인쇄법, 스크린 인쇄법, 로타리 스크린 인쇄법, 또는 잉크젯 인쇄법으로 인쇄할 수 있으나, 이로 반드시 한정되는 것은 아니며, 해당 분양 다양한 방법으로 인쇄할 수 있음은 물론이다. The circuit pattern is a conductive printed circuit pattern formed by printing a metal paste by a printing method and may be printed by a gravure printing method, a flexo printing method, an offset printing method, a screen printing method, a rotary screen printing method, or an inkjet printing method However, it is not necessarily limited to this, and it is of course possible to print in various ways.

상기 회로패턴은, 금속 페이스트로 형성될 수 있다. 보다 구체적으로는 전기 전도성이 우수한 Ag, Cu, Ag/Cu, Sn, Ag/Cu/Zn, Au, Ni, Al등의 금속 또는 상기 금속의 도핑(doping), 코팅 또는 합금 등을 사용하여 만든 잉크로 형성할 수 있다.The circuit pattern may be formed of a metal paste. More specifically, an ink made of a metal such as Ag, Cu, Ag / Cu, Sn, Ag / Cu / Zn, Au, Ni, or Al excellent in electrical conductivity or doping, .

구체적인 한 예로서, Ag투명전자잉크인 Ag complex, Ag salts, Ag-acid/base complex 등을 사용해서 회로패턴을 인쇄하고 열처리하여 형성할 수도 있다. 또한 다른 예로서, Ag Nano paste, Ag Flake paste, Ag Granule paste를 사용하여 회로패턴을 인쇄하고 열처리 하여 형성할 수도 있다. 여기서, 열처리에 의한 경화 이외에도 UV경화하거나 e-beam을 사용할 수도 있다.As a specific example, a circuit pattern may be printed and heat-treated using an Ag complex, Ag salts, or an Ag-acid / base complex, which is an Ag transparent electronic ink. As another example, a circuit pattern may be printed using Ag Nano paste, Ag Flake paste, or Ag Granule paste, and heat treatment may be performed. Here, besides curing by heat treatment, UV curing or e-beam may be used.

상기 회로패턴을 형성하는 잉크는 전술한 예로 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 전도성을 띠며, 인쇄법으로 인쇄 가능한 것이라면 모두 적용 가능함은 물론이다.The ink for forming the circuit pattern is not limited to the above-described example. It is needless to say that any ink that is conductive in the technical field of the present invention and can be printed by a printing method is applicable.

상기 회로패턴을 형성함에 있어, 또 다른 예로서, 상기 광 반사층 상에 1차 회로패턴을 인쇄하는 1차 인쇄단계 및 상기 1차 패턴 상에 2차 회로패턴을 인쇄하는 2차 인쇄단계를 포함하여 상기 광 반사층 위에 위치를 제어하면서 회로패턴을 인쇄할 수도 있다. 구체적으로는, 1차, 2차 회로패턴을 순차적으로 진행함으로써, 보다 정밀하게 패턴을 구현할 수 있고, 광 반사층의 단차로 인해 발생할 수도 있는 인쇄불량을 해결할 수 있다. As another example of forming the circuit pattern, it is also possible to include a first printing step of printing a first circuit pattern on the light reflecting layer and a second printing step of printing a second circuit pattern on the first pattern The circuit pattern may be printed while controlling the position on the light reflection layer. Concretely, by sequentially performing the primary and secondary circuit patterns, a pattern can be realized more precisely, and printing defects that may occur due to the step difference of the light reflection layer can be solved.

상기 회로패턴은 전술한 방법 이외에 마스크 패턴을 이용해서 전기 전도성 금속인 Al, Ag, Cu, Ni등을 증착이나 Sputtering으로 형성할 수도 있다. In addition to the above-described method, the circuit pattern may be formed by depositing or sputtering Al, Ag, Cu, Ni, etc., which are electrically conductive metals, using a mask pattern.

한편, 상기 광 반사층 상에 상기 회로패턴을 인쇄하는 단계와 상기 회로패턴 상에 상기 열전도성 절연층을 도포하는 단계 사이에는, 상기 회로 패턴 상에 도금하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 상기 도금단계에서는, 전해 도금 또는 무전해 도금을 수행할 수 있다.The method may further include plating the circuit pattern between the step of printing the circuit pattern on the light reflecting layer and the step of applying the thermally conductive insulating layer on the circuit pattern, , Electroplating or electroless plating may be performed.

상기 회로패턴은 전술한 바와 같이, 회로패턴 단독으로 사용할 수도 있고, 인가되는 전류량에 따라 도금된 구리의 도금두께로 조절할 수 있기 때문에 씨드 레이어(seed layer) 특성을 유지하기만 해도 된다. As described above, the circuit pattern may be used alone, or may be adjusted to the plating thickness of the plated copper according to the amount of the applied current, so that the seed pattern characteristic may be maintained.

여기서, 상기 회로패턴은 Pd colloid, PdCl2 등의 촉매가 포함된 잉크를 회로패턴에 맞추어서 인쇄한 후에 무전해 구리도금이나 니켈도금을 하여 인쇄회로기판 회로를 만들 수도 있다. 또한 소모 전류량이 많은 고용량(W↑) 엘이디(LED)를 사용할 경우에는 구리전기도금을 소모 전류량에 따라 적합한 도금 두께로 도금할 수 있다.Here, the circuit pattern may be formed by printing an ink containing a catalyst such as Pd colloid, PdCl 2, etc. on a circuit pattern, followed by electroless copper plating or nickel plating to form a printed circuit board circuit. In addition, when a high capacity (W ↑) LED (LED) with high current consumption is used, the copper electroplating can be plated with an appropriate plating thickness according to the current consumption.

앞서 설명한 바와 같이, 도금의 방법으로는 무전해도금, 전기도금, 딥 코팅(deep coat) 등을 사용해서 전기 전도도를 높일 수 있으며 도금에 사용되는 금속에는 제한이 없으나 구리가 바람직할 수 있다. 딥 코팅(deep coat) 방법으로는 Sn, Zn 등을 처리할 때 바람직할 수 있다. Cu이외에도 Ni, Sn, Pd, Zn, Ag, 및 Au 등 다양하게 적용할 수 있음은 물론이다.As described above, the electroplating can be performed by electroless plating, electroplating, deep coating or the like, and there is no limitation on the metal used for plating, but copper may be preferable. The deep coat method may be preferable when treating Sn, Zn, and the like. It is needless to say that the present invention can be applied variously to Ni, Sn, Pd, Zn, Ag, and Au in addition to Cu.

상기 열전도성 절연층은 열경화성 코팅 수지 잉크로서 열전도성 절연층 코팅액을 형성될 수 있다. 여기서, 열경화성 수지 이외에도 UV코팅수지를 사용하여 UV경화가 가능하며 이외에 다양한 가교반응이 가능하며 수지조성에는 제한이 없다. 다만, 내열성과 내후성의 특성이 있는 것이 바람직하다. 또한 전기전도성이 높은 특성의 금속 플레이크(Metal flake)를 사용하는 경우에는 표면처리를 통해 전기 절연성을 부여하고 열 전도성 만의 특성을 갖게 하는 것이 바람직하다.The thermally conductive insulating layer may be formed of a thermally conductive insulating layer coating liquid as a thermosetting coating resin ink. Here, in addition to the thermosetting resin, a UV-curable resin can be used for UV curing, and various crosslinking reactions are possible, and the resin composition is not limited. However, it is preferable to have the characteristics of heat resistance and weather resistance. In the case of using a metal flake having high electrical conductivity, it is desirable to impart electrical insulation through surface treatment and to have only thermal conductivity characteristics.

예컨대 열전도성 절연층에 사용되는 수지로는 에폭시수지, 우레탄수지, 요소수지, 멜라민수지, 페놀수지, 실리콘 수지, 폴리이미드수지, 폴리설폰수지, 폴리에스테르수지, 폴리페닐렌설파이드수지 등을 사용할 수 있고 반드시 이로 한정되는 것은 아니나, 열가교형 수지를 사용하는 것이 바람직하다.For example, epoxy resin, urethane resin, urea resin, melamine resin, phenol resin, silicone resin, polyimide resin, polysulfone resin, polyester resin, polyphenylene sulfide resin and the like can be used as the resin used for the thermally conductive insulating layer However, it is preferable to use a thermosetting resin, though not necessarily limited thereto.

UV 경화형 수지나 라디칼 중합형 수지를 사용하는 것도 가능하며 내열특성과 내후성이 좋은 수지면 모두 가능하며 이들 수지의 변성물 중에서 선택된 1종 이상으로 형성될 수 있다.UV curable resin or radical polymerizable resin can be used, and both of the resin surfaces having good heat resistance and weather resistance can be used, and they can be formed of at least one selected from the modifications of these resins.

상기 수지와 함께 SiO2, TiO2, Al₂O₃, BaSO₄, CaCo₃, Al 플레이크(flake), Ag 플레이크(flake), 산화 그래핀, 산화 흑연, 산화 탄소나노튜브, ITO, AlN, BN, 및 MgO 중에서 선택되는 필러를 더 포함하는 것이 바람직하다. 여기서, Al 또는 Ag 플레이크의 경우 절연수지가 코팅된 것이 바람직할 수 있다. 그러나 필러 들이 이로 한정되는 것은 아니다. With the resin SiO 2, TiO 2, Al₂O₃, BaSO₄, CaCo₃, Al flakes (flake), Ag flakes (flake), oxidized graphene, graphite oxide, oxidized carbon nanotubes, ITO, selected from AlN, BN, and MgO It is preferable to further include a filler. Here, in the case of Al or Ag flakes, it may be preferable that an insulating resin is coated. However, the fillers are not limited to these.

상기 열전도성 절연층 코팅액의 한 예로서, 비스페놀 A형 변성 에폭시 수지, 페놀노볼락 에폭시 수지, 헥사하이드로프탈릭 무수물, 4급암모늄염, 알루미나, 분산제, 용매(MEK)를 혼합 분산하여 제조할 수 있으나, 이 조성으로 한정되는 것은 아니다. As an example of the thermally conductive insulating layer coating solution, bisphenol A type modified epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, hexahydrophthalic anhydride, quaternary ammonium salt, alumina, dispersant, and solvent (MEK) , But the composition is not limited thereto.

상기 열전도성 절연층은, S-knife, 그라비아, 플렉소, 스크린, 로타리 스크린, 슬롯 다이, 또는 마이크로 그라비아 코팅법으로 도포할 수 있다. The thermally conductive insulating layer can be applied by an S-knife, a gravure, a flexo, a screen, a rotary screen, a slot die, or a microgravure coating method.

여기서, 열전도성 절연층은 단일 층으로 형성할 수도 있고, 1차 및 2차로 나누어서 형성할 수도 있다.Here, the thermally conductive insulating layer may be formed as a single layer or divided into primary and secondary layers.

구체적으로는, 상기 회로패턴 상에 1차 열전도성 절연층을 도포하는 1차 도포단계 및 상기 1차 열전도성 절연층 상에 2차 열전도성 절연층을 도포하는 2차 도포단계를 포함하여 형성할 수 있다. Specifically, the method includes a first coating step of applying a first thermal conductive insulating layer on the circuit pattern and a second coating step of coating a second thermal conductive insulating layer on the first thermal conductive insulating layer .

여기서, 1차 도포 단계의 경우, 마이크로그라비아, S-knife, 그라비아, 플렉소, 스크린, 및 로타리 스크린 중에서 선택된 방법으로 도포할 수 있다. Here, in the case of the first application step, it can be applied by a method selected from microgravure, S-knife, gravure, flexo, screen, and rotary screen.

2차 도포 단계의 경우, 슬롯 다이, S-knife, 및 마이크로그라비아 중에서 선택된 방법으로 도포할 수 있다. 그러나 이로 반드시 한정되는 것은 아니다. In the case of the second application step, it can be applied by a method selected from slot die, S-knife, and microgravure. However, this is not necessarily the case.

구체적으로, 1차 도포 단계의 경우, 마이크로그라비아, 플렉소, 스크린, 로타리 스크린등의 인쇄법을 이용하여 전면 코팅 할 수 있으며 구리도금이 된 인쇄회로기판의 경우 표면의 단차가 크게 발생하기 때문에 슬롯다이 코터나 S-knife 코터(coater)를 사용하는 것이 표면의 조도를 균일하게 만들 수 있어 바람직할 수 있다. 여기서, 열전도성 절연층 1차 도포로도 표면의 균일성이 확보되지 않거나 열전도성 절연층의 두께를 두껍게 만들어야 할 경우는 열전도성 절연층 2차 도포를 슬롯다이, S-knife, 마이크로그라비아 등을 사용하는 것이 바람직할 수 있다. 또한, 또한 방열특성과 절연특성을 최적화하기 위해서는 전술한 바와 같이, 2단계로 진행하는 것이 바람직할 수 있다. Specifically, in the case of the first coating step, the entire surface can be coated using a printing method such as microgravure, flexo, screen, and rotary screen. In the case of a copper-plated printed circuit board, It may be preferable to use a die coater or an S-knife coater to uniformize the surface roughness. Here, when uniformity of the surface can not be ensured even by the first application of the thermally conductive insulating layer, or if the thickness of the thermally conductive insulating layer needs to be made thick, the second application of the thermally conductive insulating layer may be performed by using a slot die, S-knife, microgravure It may be desirable to use it. Further, in order to optimize the heat dissipation characteristics and the insulation characteristics, it may be preferable to proceed to two stages as described above.

이와 같은 방법으로 금속 인쇄회로기판을 제조할 수도 있고, 여기에 열전도성 베이스층을 더 포함시켜 제조할 수 있다. A metal printed circuit board may be manufactured in this manner, and a heat conductive base layer may be further included.

구체적으로는, 이형필름 상에 광 반사층을 인쇄하는 단계; 상기 광 반사층 상에 회로패턴을 인쇄하는 단계; 상기 회로패턴 상에 열전도성 절연층을 도포하는 단계; 상기 열전도성 절연층 상에 열전도성 베이스층을 적층 시킨 후 열 압착하는 단계; 및 상기 이형필름을 제거하는 단계를 포함하여 제조할 수도 있다. Specifically, the method includes: printing a light reflection layer on a release film; Printing a circuit pattern on the light reflection layer; Applying a thermally conductive insulating layer on the circuit pattern; Stacking a thermally conductive base layer on the thermally conductive insulating layer, and thermally bonding the thermally conductive base layer; And removing the release film.

여기서, 상기 열전도성 베이스층으로는, 열연강판, 냉연강판, 알루미늄판, 아연도금판, 구리판, 스테인레스판, 주석도금판, 황동판, 또는 수지코팅강판을 사용할 수 있으나, 반드시 이로 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 사용되는 다양한 재질의 방열판을 적용할 수 있다.Here, as the thermally conductive base layer, a hot-rolled steel sheet, a cold rolled steel plate, an aluminum plate, a galvanized steel plate, a copper plate, a stainless steel plate, a tinned gold plate, a brass plate, or a resin- coated steel plate may be used, A heat sink of various materials used in the field of the present invention can be applied.

이와 같이, 열전도성 베이스층을 더 포함하는 경우, 상기 열전도성 절연층은 알루미늄 플레이트(Al plate)와 같은 열전도성 베이스층과 합지 하기 위해서는 반경화 상태인 비-스테이지(B-stage)를 만든 후 열전도성 베이스층과 합지하는 경우 바람직할 수 있다. 한편, 엘이디 인쇄회로기판(LED PCB)의 경우는 열전도성 베이스층을 포함하지 않아도 그 역할을 충분히 할 수 있다. 열전도 베이스층을 포함하지 않는 경우 2차로 도포되는 열전도성 절연층에 그라핀, 탄소나노튜브 등의 필러를 포함하는 것이 바람직할 수 있다. In this case, when the thermally conductive base layer is further included, the thermally conductive insulation layer may be formed by forming a semi-cured non-stage (B-stage) in order to bond the thermally conductive base layer such as an Al plate It may be preferred if it is lined with a thermally conductive base layer. On the other hand, in the case of an LED printed circuit board (LED PCB), a thermally conductive base layer is not included, and the function can be sufficiently performed. When the thermally conductive base layer is not included, it may be preferable to include a filler such as graphene or carbon nanotube in the thermally conductive insulating layer which is applied in the secondary.

상기 열전도성 절연층 상에 상기 열전도성 베이스층을 적층 시킨 후 열 압착하는 단계에서는, 120~200℃의 온도 조건에서 수행할 수 있으며, 바람직하게는 140~175℃의 온도 조건에서 수행할 수 있다.In the step of laminating the thermally conductive base layer on the thermally conductive insulating layer and thermally bonding the thermally conductive base layer, the thermally conductive base layer may be performed at a temperature of 120 to 200 ° C, preferably at a temperature of 140 to 175 ° C .

한편, 전술한 바와 같이 본 발명에 따른 금속 인쇄회로기판의 제조방법의 각 단계들을 롤-투-롤(roll to roll) 연속공정으로 수행할 수 있으며, 이 경우 생산 속도가 증가되어 생산효율을 증대시킬 수 있어 바람직할 수 있다. As described above, each step of the method of manufacturing a metal printed circuit board according to the present invention can be performed by a roll-to-roll continuous process. In this case, the production speed is increased, So that it can be preferable.

한편, 이하에서는 도면을 통해 본 발명에 대해 구체적으로 설명하면, 도 1에 도시된 바와 같이, 이형필름 위에 광반사층 및 회로패턴을 인쇄한 후 열전도성 절연층을 도포하고 열전도성 베이스층과 접합한 후 이형필름을 제거하여 금속인쇄회로 기판을 제조할 수도 있다.1, a light reflecting layer and a circuit pattern are printed on a release film, and then a thermally conductive insulating layer is applied and bonded to the thermally conductive base layer. The metal foil film may be removed to produce a metal printed circuit board.

도 2에 도시된 다른 예에서 볼 수 있는 바와 같이, 이형필름 위에 광반사층, 회로패턴을 인쇄한 후 여기에 전해/무전해 도금을 한 다음 열전도성 절연층을 도포하고, 열전도성 베이스층과 접합한 후, 이형필름을 제거하여 금속인쇄회로 기판을 제조할 수도 있다.As shown in another example shown in FIG. 2, a light reflection layer and a circuit pattern are printed on a release film, electrolytic / electroless plating is performed on the light reflection layer and a circuit pattern, and then a thermally conductive insulating layer is applied. After that, the release film may be removed to produce a metal printed circuit board.

도 3에 도시된 또 다른 예에서 볼 수 있는 바와 같이, 이형필름 위에 광반사층을 인쇄하고, 1차 회로패턴 및 2차 회로패턴을 순차적으로 인쇄한 후, 열전도성 절연층을 도포하고, 열전도성 베이스층과 접합한 후, 이형필름을 제거하여 금속인쇄회로 기판을 제조할 수도 있다.As shown in another example shown in Fig. 3, a light reflection layer is printed on a release film, the primary circuit pattern and the secondary circuit pattern are sequentially printed, a thermally conductive insulating layer is applied, After bonding with the base layer, the release film may be removed to produce a metal printed circuit board.

도 4에 도시된 바와 같이 이형필름 위에 광반사층 및 회로패턴을 인쇄한 후 1차 열전도성 절연층 및 2차 열전도성 절연층을 도포하고 열전도성 베이스층과 접합한 후 이형필름을 제거하여 금속인쇄회로 기판을 제조할 수도 있다.4, a light reflection layer and a circuit pattern are printed on a release film, and then a primary thermal conductive insulation layer and a secondary thermal conductive insulation layer are coated and bonded to the thermally conductive base layer. Then, the release film is removed, A circuit board may be manufactured.

도 5에 도시된 바와 같이 이형 필름위에 광반사층 및 회로패턴을 인쇄한 후 효과가 우수한 열전도성 필러를 포함한 열전도성 절연층을 도포한 후 이형 필름을 제거하여 금속인쇄회로 기판을 제조할 수도 있다. As shown in FIG. 5, a metal printed circuit board may be manufactured by printing a light reflecting layer and a circuit pattern on a release film, applying a thermally conductive insulating layer containing a thermally conductive filler having excellent effects, and removing the release film.

도 6에 도시된 바와 같이, 도 1 내지 도 5에 도시된 과정을 롤투롤 연속 공정에 적용하여 수행하는 경우, 생산성 향상을 도모할 수 있어 더욱 바람직할 수 있다.As shown in FIG. 6, when the process shown in FIG. 1 to FIG. 5 is performed by applying to the roll-to-roll continuous process, the productivity can be improved, which is more preferable.

이하에서는, 실시예 및 비교예를 통해 본 발명에 대해 구체적으로 설명하나, 본 발명의 범위가 이로 한정 되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples and comparative examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예 1Example 1

이형필름으로서 내열 실리콘 이형코트필름(바이오비젼켐社, MR-50) 위에, 화이트 포토 솔더 레지스트 잉크(White Photo Solder Resist ink / 잉크테크, SWP-020)를 스크린 인쇄법(Tokai-seiki社, SFA-RR350)으로 인쇄하고, 100℃에서 20분간 건조하여 5㎛의 두께로 광 반사층을 형성하였다.White Photo Solder Resist ink / InkTech, SWP-020) was applied onto a heat-resistant silicone release coat film (MR-50, BioVisionChem Co., Ltd.) as a release film by a screen printing method (Tokai-seiki, SFA -RR350), and dried at 100 DEG C for 20 minutes to form a light reflecting layer having a thickness of 5 mu m.

광 반사층 상에, Ag페이스트(잉크테크, TEC-PF-021)로 회로패턴을 스크린 인쇄법(Tokai-seiki社, SFA-RR350)으로 인쇄한 후, 150℃에서 5분간 건조하여 3㎛의 두께로 회로패턴을 형성하였다.A circuit pattern was printed on a light reflecting layer by a screen printing method (Tokai-seiki, SFA-RR350) with an Ag paste (Ink Tec, TEC-PF-021) and dried at 150 ° C for 5 minutes to form a 3 μm To form a circuit pattern.

슬롯다이코터(펙티브社)를 사용하여 회로패턴 상에, 열경화성 코팅 수지 잉크로서 열전도성 절연층 코팅액(표1)을 건조 두께 25㎛로 코팅하여, 열전도성 절연층을 형성하였다.Using a slot die coater (Pectiv), a thermally conductive insulating layer coating liquid (Table 1) as a thermosetting coating resin ink was coated on the circuit pattern with a dry thickness of 25 mu m to form a thermally conductive insulating layer.

여기서, 열전도성 절연층 코팅액의 조성은 [표 1]과 같이 하였다.Here, the compositions of the thermally conductive insulating layer coating liquid were as shown in Table 1.

[표 1][Table 1]

Figure 112012091636721-pat00001
Figure 112012091636721-pat00001

열전도성 절연층 상에, 열전도성 베이스층으로서, 두께 0.8mm의 알루미늄판(세종메탈社, AL5052)을 적층시키고, 170℃의 온도에서 60분간 핫프레스(hot press)로 열 압착한 후, 내열 실리콘 이형코트필름을 제거하여, 금속인쇄회로기판을 제조하였다.An aluminum plate (AL5052, Sejong Metal Co., Ltd.) having a thickness of 0.8 mm was laminated as a thermally conductive base layer on the thermally conductive insulating layer, thermocompression-bonded by hot press for 60 minutes at a temperature of 170 캜, The silicone release coat film was removed to produce a metal printed circuit board.

실시예 2Example 2

10㎛의 두께로 광 반사층을 형성한 것 이외에 실시예 1과 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the light reflecting layer was formed to a thickness of 10 mu m.

실시예 3Example 3

15㎛의 두께로 광 반사층을 형성한 것 이외에 실시예 1과 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the light reflecting layer was formed to a thickness of 15 mu m.

실시예 4Example 4

화이트 포토 솔더 레지스트 잉크(White Photo Solder Resist ink / Taiyo ink社, S-200W)를 사용하여 광 반사층을 형성한 것 이외에 것 이외에 실시예 1과 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A circuit pattern, a thermally conductive insulating film, and the like were formed in the same manner as in Example 1 except that a light reflection layer was formed using a white photo solder resist ink (Taiyo ink Co., Ltd., S-200W) Layer, and a thermally conductive base layer.

실시예 5Example 5

10㎛의 두께로 광 반사층을 형성한 것 이외에, 실시예 4와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was produced in the same manner as in Example 4 except that the light reflecting layer was formed to a thickness of 10 mu m.

실시예 6Example 6

15㎛의 두께로 광 반사층을 형성한 것 이외에, 실시예 4와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was produced in the same manner as in Example 4 except that the light reflecting layer was formed to a thickness of 15 mu m.

실시예 7Example 7

로타리 스크린인쇄법(Stock社, RSI 16”R)을 사용하여 2㎛의 두께로 광 반사층을 형성하고, Ag페이스트(잉크테크, TEC-RS-S55)로 로타리 스크린인쇄법(Stock社, RSI 16”R)을 사용하여 두께 5㎛의 회로패턴을 형성하는 것 이외에, 실시예 4와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A light reflection layer was formed to a thickness of 2 mu m using a rotary screen printing method (Stock, RSI 16 " R), and the resultant was subjected to rotary screen printing (Stock, RSI 16 A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was formed in the same manner as in Example 4 except that a circuit pattern having a thickness of 5 mu m was formed using the above- .

실시예 8Example 8

2㎛의 두께로 회로패턴을 형성하는 것 이외에 실시예 7과 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was produced in the same manner as in Example 7 except that the circuit pattern was formed to a thickness of 2 탆.

실시예 9Example 9

Ag페이스트(잉크테크, TEC-R2A)로 다이렉트 그라비아 인쇄법(COTech社)을 사용하여, 두께 1㎛의 회로패턴을 형성하는 것 이외에 실시예 7과 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A circuit pattern, a thermoelectric conversion layer, and a transparent conductive layer were formed in the same manner as in Example 7 except that a circuit pattern having a thickness of 1 mu m was formed by using direct gravure printing method (COTech) with an Ag paste (Ink Tec, TEC-R2A) A conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer.

실시예 10Example 10

0.5㎛의 두께로 회로패턴을 형성하는 것 이외에 실시예 9와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was produced in the same manner as in Example 9 except that the circuit pattern was formed to a thickness of 0.5 탆.

실시예 11Example 11

PdCl2 65mg/L, 황산 30g/L으로 조성된 혼합 액제를 30℃로 가열 후, 회로패턴을 10분간 침적하여 Pd를 흡착시킨 후, Cu혼합액 100ml/L, 안정제 및 킬레이트 혼합제 25ml/L, 포름알데히드 8ml/L로 조성되어 40℃로 가열한 혼합 액제에 30분간 침적하고 무전해 도금을 진행하여 구리도금층을 0.5㎛로 형성한 것 이외에는 실시예 10과 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.L of 65 ml / L of PdCl 2 and 30 g / L of sulfuric acid was heated to 30 ° C and the circuit pattern was immersed for 10 minutes to adsorb Pd. Then, 100 ml / L of the Cu mixture solution, 25 ml / L of the stabilizer and chelate mixture, And an aldehyde of 8 ml / L, and immersed in a mixed solution heated to 40 ° C for 30 minutes to conduct electroless plating to form a copper plating layer having a thickness of 0.5 탆, a light reflecting layer and a copper plating layer were formed in the same manner as in Example 10 A metal printed circuit board composed of a formed circuit pattern, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was produced.

실시예 12Example 12

황산 200g/L, 황산구리 80g/L, 염소 70ppm/L, A3 社 PC-900” 광택제 5ml/L로 조성된 전해 구리 도금액에 2.5ASD 전류를 인가하여 15분간 동도금하여 회로패턴 상에 구리도금층을 5㎛로 형성한 것 이외에는 실시예 10과 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.2.5 ASD current was applied to the electrolytic copper plating solution composed of 200 g / L of sulfuric acid, 80 g / L of copper sulfate, 70 ppm / L of chlorine, and 5 ml / L of A3 company PC-900 gloss agent for 15 minutes to form copper plating layer 5 A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern formed with a copper plating layer, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was produced in the same manner as in Example 10 except that the thermally conductive base layer was formed.

실시예 13Example 13

25분간 동도금하여 구리도금층을 10㎛로 형성한 것 이외에는 실시예 12와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a circuit pattern having a light reflecting layer, a copper plating layer, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was formed in the same manner as in Example 12 except that the copper plating layer was formed to 10 mu m by copper plating for 25 minutes. .

실시예 14Example 14

35분간 동도금하여 구리도금층을 15㎛로 형성한 것 이외에는 실시예 12와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a circuit pattern having a light reflecting layer, a copper plating layer, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was formed in the same manner as in Example 12 except that the copper plating layer was formed to a thickness of 15 탆 for 35 minutes. .

실시예 15Example 15

50분간 동도금하여 구리도금층을 20㎛로 형성한 것 이외에는 실시예 12와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a circuit pattern having a light reflecting layer, a copper plating layer, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was formed in the same manner as in Example 12 except that the copper plating layer was formed in a thickness of 20 탆 for 50 minutes .

실시예 16Example 16

70분간 동도금하여 구리도금층을 30㎛로 형성한 것 이외에는 실시예 12와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A metal printed circuit board composed of a circuit pattern having a light reflecting layer, a copper plating layer, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was formed in the same manner as in Example 12 except that the copper plating layer was formed to have a thickness of 30 μm .

실시예 17Example 17

Ag페이스트(잉크테크, TEC-PR-020)로 플렉소 인쇄법(POENG社, Kodak社 수지플레이트)을 사용하여, 두께 0.5㎛의 회로패턴을 형성하는 것 이외에 실시예 7과 모두 동일하게 하여, 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.Except that a circuit pattern having a thickness of 0.5 占 퐉 was formed by using a flexo printing method (POENG, Kodak company resin plate) with an Ag paste (Ink Tec, TEC-PR-020) A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer was produced.

실시예 18Example 18

이형필름으로서 내열 실리콘 이형코트필름(바이오비젼켐社, MR-50) 위에, 화이트 포토 솔더 레지스트 잉크(White Photo Solder Resist ink / Taiyo ink社, S-200W)를 로타리 스크린인쇄법(Stock社, RSI 16”R)으로 인쇄하고, 100℃에서 20분간 건조하여 5㎛의 두께로 광 반사층을 형성하였다.White Photo Solder Resist ink / Taiyo ink, S-200W) was coated on a heat resistant silicone release coat film (MR-50, BioVisionChem Co., Ltd.) as a release film by a rotary screen printing method 16 " R), and dried at 100 DEG C for 20 minutes to form a light reflection layer with a thickness of 5 mu m.

광 반사층 상에, 칩 실장부를 Ag페이스트(잉크테크, TEC-PF-021)로 스크린 인쇄법(Tokai-seiki社, SFA-RR350)을 이용하여 1단계 인쇄하고 150℃에서 5분간 열 처리한 후, 회로패턴부를 같은 페이스트 및 같은 방법으로 2단계 인쇄하고 150℃에서 5분간 열 처리하여 3㎛의 두께로 회로패턴을 형성하였다.The chip mounting portion was printed on the light reflecting layer in one step using a screen printing method (Tokai-seiki, SFA-RR350) with an Ag paste (Ink Tec, TEC-PF-021) and heat treated at 150 캜 for 5 minutes , And the circuit pattern portion was printed in two steps in the same manner as paste and the same method, followed by heat treatment at 150 DEG C for 5 minutes to form a circuit pattern with a thickness of 3 mu m.

황산 200g/L, 황산구리 80g/L, 염소 70ppm/L, “A3社 PC-900” 광택제 5ml/L로 조성된 전해 구리 도금액에 2.5ASD전류를 인가하여 50분간 도금하여 회로패턴 상에 구리층을 20㎛로 형성하였다.A 2.5 ASD current was applied to an electrolytic copper plating solution composed of 200 g / L of sulfuric acid, 80 g / L of copper sulfate, 70 ppm / L of chlorine, and 5 mL / L of "A3 PC-900" polishing agent for 50 minutes to form a copper layer 20 mu m.

다음으로 실시예 1의 표 1과 동일한 열전도성 절연층 코팅액을 슬롯다이코터(펙티브社)를 사용하여 건조 두께 25㎛로 코팅하여, 열전도성 절연층을 형성하였다.Next, the same thermally conductive insulating layer coating solution as in Table 1 of Example 1 was coated with a dry thickness of 25 占 퐉 using a slot die coater (Pectiv) to form a thermally conductive insulating layer.

열전도성 절연층 상에, 열전도성 베이스층으로서, 두께 0.8mm의 알루미늄판(세종메탈社, AL5052)을 적층시키고, 170℃의 온도에서 60분간 핫 프레스(hot press)로 열압착한 후, 내열 실리콘 이형코트필름을 제거하여, 광반사층, 2번 인쇄한 회로패턴, 열전도성 절연층, 및 열전도성 베이스층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.An aluminum plate (AL5052, Sejong Metal Co., Ltd.) having a thickness of 0.8 mm was laminated as a thermally conductive base layer on the thermally conductive insulating layer, thermocompression-bonded by hot press for 60 minutes at a temperature of 170 캜, The silicon release coat film was removed to produce a metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a printed circuit pattern twice, a thermally conductive insulating layer, and a thermally conductive base layer.

실시예 19Example 19

구리도금층 상에, 산화 그래핀을 함유한 표2의 열전도성 절연층 코팅액을 슬롯다이코터(펙티브社)를 사용하여, 건조 두께 25㎛로 코팅하여, 열전도성 절연층을 형성하고, 열전도성 절연층 상에 열전도성 베이스층을 적층시키지 않는 것을 제외하고 실시예 15와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 및 산화 그래핀을 포함한 열전도성 절연층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.On the copper plating layer, a thermally conductive insulating layer coating liquid of Table 2 containing graphene oxide was coated with a dry thickness of 25 占 퐉 using a slot die coater (Pectiv) to form a thermally conductive insulating layer, A metal printed circuit board composed of a heat reflecting layer including a light reflecting layer, a circuit pattern formed with a copper plating layer, and a thermally conductive insulating layer containing oxidized grains was formed in the same manner as in Example 15 except that a thermally conductive base layer was not laminated on the insulating layer. .

[표2][Table 2]

Figure 112012091636721-pat00002

Figure 112012091636721-pat00002

실시예 20Example 20

산화되지 않은 MWCNT(Multi-Walled CNT, Enano Tec社, 900-1255-1G)를 65% HNO3 에 반응시킨 산화 CNT(표 3참조)를 함유한 표 3의 열전도성 절연층 코팅액으로 열전도성 절연층을 형성한 것 이외에, 실시예 19와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 및 산화 CNT를 포함한 열전도성 절연층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.Conducting thermal insulation with the thermally conductive insulation layer coating solution of Table 3 containing oxidized CNT (see Table 3) obtained by reacting unoxidized MWCNT (Multi-Walled CNT, Enano Tec, 900-1255-1G) with 65% HNO 3 A metal printed circuit board composed of a light reflecting layer, a circuit pattern formed with a copper plating layer, and a thermally conductive insulating layer containing oxidized CNTs was produced in the same manner as in Example 19.

[표3][Table 3]

Figure 112012091636721-pat00003
Figure 112012091636721-pat00003

실시예 21Example 21

구리도금층 상에, 마이크로그라비아 코터(POENG社, 마이크로그라비아코터#On the copper plating layer, a microgravure coater (POENG Co., Microgravure Coater #

H24)를 사용하여 실시예 1의 표 1과 동일한 열전도성 절연층 코팅액을 건조 두께 25㎛로 1차 코팅한 후, 슬롯다이코터(펙티브社)를 사용하여 동일한 열전도성 절연층 코팅액을 건조 두께 50 ㎛로 2차 코팅하여 열전도성 절연층을 형성하고, 열전도성 절연층 상에 열전도성 베이스층을 적층시키지 않는 것을 제외하고 실시예 15와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 및 2번 코팅된 열전도성 절연층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.H24) was used to primarily coat the same thermally conductive insulating layer coating solution as in Table 1 of Example 1 with a dry thickness of 25 占 퐉, and then dry the same thermally conductive insulating layer coating solution using a slot die coater (Pectiv) Except that the heat conductive base layer was not laminated on the thermally conductive insulation layer to form a circuit pattern having a light reflection layer and a copper plating layer, , And a two-coat thermally conductive insulating layer.

실시예 22Example 22

1차 코팅 후, 2차 코팅 시 건조 두께 75 ㎛로 2차 코팅하여 열전도성 절연층을 형성하는 것을 제외하고, 실시예 21와 모두 동일하게 하여, 광반사층, 구리도금층이 형성된 회로패턴, 및 2번 코팅된 열전도성 절연층으로 구성된 금속인쇄회로기판을 제조하였다.A circuit pattern in which a light reflection layer and a copper plating layer were formed, and a circuit pattern in which a copper plating layer was formed in the same manner as in Example 21 except that a heat-conductive insulating layer was formed by secondary coating with a dry thickness of 75 탆 in the secondary coating, A metal printed circuit board composed of a heat-coated insulating layer was formed.

비교예 1Comparative Example 1

동박적층판(일진메터리얼社, Uncoated Copper Foil) 위에 슬롯다이코터(펙티브社)를 사용하여 실시예 1의 표 1과 동일한 열전도성 절연층 코팅액을 건조 두께 25㎛로 코팅하여, 열전도성 절연층을 형성하였다.The same thermally conductive insulating layer coating solution as in Table 1 of Example 1 was coated on a copper-clad laminate (Uncoated Copper Foil) using a slot die coater (Pectiv) to a dry thickness of 25 占 퐉 to form a thermally conductive insulating layer .

열전도성 절연층 상에, 열전도성 베이스층으로서, 두께 0.8mm의 알루미늄판(세종메탈社, AL5052)을 적층시키고, 170℃의 온도에서 60분간 핫 프레스(hot press)로 열압착한 후, 일반적인 포토에칭공정을 거쳐 동박회로패턴을 형성하고, 화이트 포토 솔더 레지스트 잉크(White Photo Solder Resist ink / Taiyo ink社, S-200W)를 스크린 인쇄법(Tokai-seiki社, SFA-RR350)으로 인쇄하고, 100℃에서 20분간 건조하여 5㎛의 두께로 광 반사층을 형성하였다.An aluminum plate (AL5052, Sejong Metal Co., Ltd.) having a thickness of 0.8 mm was laminated as a thermally conductive base layer on the thermally conductive insulating layer, thermocompression-bonded by hot press for 60 minutes at a temperature of 170 캜, A copper foil circuit pattern was formed through a photoetching process, and a white photo solder resist ink (White Photo Solder Resist ink / Taiyo ink, S-200W) was printed with a screen printing method (Tokai-seiki, SFA-RR350) And dried at 100 DEG C for 20 minutes to form a light reflective layer with a thickness of 5 mu m.

비교예 2Comparative Example 2

10㎛의 두께로 광 반사층을 형성한 것을 제외하고는, 비교예 1과 모두 동일하게 하였다.Except that a light reflection layer was formed at a thickness of 10 mu m.

비교예 3Comparative Example 3

15㎛의 두께로 광 반사층을 형성한 것을 제외하고는, 비교예 1과 모두 동일하게 하였다. Except that the light reflection layer was formed to a thickness of 15 mu m.

실험예 Experimental Example

1) 측정 방법1) Measurement method

실시예 및 비교예에 따라 제조된 금속인쇄회로기판을 비접촉 삼차원 측정기[나노시스템 NANO SYSTEM社, NV-P1010]를 사용하여 광반사층과 회로패턴, 열전도성 절연층의 건조 후 두께를 측정하였고, 면저항 측정기[MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH社, Laresta-GP MCP-610(4 probe Type)]로 측정하여 평균 값을 산출 하여 전도도를 나타내었고, 반사율측정기[VARIAN社, Cary5000]로 반사율을 측정하여 그 결과를 표 4에 나타내었다.The thickness after drying of the light reflection layer, the circuit pattern and the thermally conductive insulating layer was measured using a non-contact three-dimensional measuring instrument (Nano System NANO SYSTEM, NV-P1010) manufactured according to Examples and Comparative Examples. The reflectance was measured with a reflectance meter [VARIAN Co., Cary 5000], and the results were shown in Table 4. The results are shown in Table 4 below. [Table 4] < tb > < tb > Respectively.

2) 측정 결과2) Measurement result

[표 4][Table 4]

Figure 112012091636721-pat00004
 
Figure 112012091636721-pat00004
 

이와 같이, 본 발명에 따르면, 회로패턴 상측에 광반사층이 위치하는 경우 동일한 두께(실시예1~6)의 비교예 대비하여 약4~10%정도 우수한 반사효율을 제공할 수 있었다. 또한 광반사층 및 회로패턴을 연속 인쇄방법으로 형성하면 비교예 대비 낮은 광반사층의 두께임에도 불구하고 반사효율이 크게 감소하지 않는 측정치를 나타내어 생산성향상 및 공정비 절감효과를 기대 할 수 있다. 특히 회로패턴을 구리도금층이 형성될 수 있는 정도의 낮은 두께로 인쇄한 후 구리도금층을 약 10㎛이상(실시예13~16)만 형성하면 기존 금속인쇄회로기판에서 적용한 구리막 두께 18㎛이상 일 때와 동등한 전기적 특성을 유지할 수 있어 불필요한 원재료의 소모를 막을 수 있는 방법을 제공한다. 따라서 이형필름에 직접 인쇄방식을 이용하여 광반사층, 회로패턴, 열전도성 절연층을 차례로 형성하고, 열전도성 베이스층과 열압착(Hot press)하여 제조함으로써, 전기적 특성 및 밀착력이 우수한 금속인쇄회로기판을 제조할 수 있으며, 롤투롤 연속 공정의 적용이 용이하여 제조비용을 절감할 수 있고 대량생산이 가능하여 생산성을 향상시킬 수 있는 금속 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.As described above, according to the present invention, when the light reflection layer is disposed on the upper side of the circuit pattern, it is possible to provide an excellent reflection efficiency of about 4 to 10% as compared with the comparative example of the same thickness (Examples 1 to 6). In addition, when the light reflection layer and the circuit pattern are formed by the continuous printing method, the reflection efficiency is not significantly decreased even though the thickness of the light reflection layer is lower than that of the comparative example. Thus, productivity and process cost reduction can be expected. In particular, when a circuit pattern is printed with a thickness low enough to form a copper plating layer and then a copper plating layer is formed to a thickness of about 10 탆 or more (Examples 13 to 16), a copper film thickness of 18 탆 or more It is possible to maintain an electrical characteristic equivalent to that of the conventional method, thereby providing a method of preventing the consumption of unnecessary raw materials. Therefore, by forming a light reflecting layer, a circuit pattern, and a thermally conductive insulating layer in this order on a release film by a direct printing method, and by hot pressing the thermally conductive base layer, a metal printed circuit board And it is possible to manufacture a metal printed circuit board which can be easily applied in a roll-to-roll continuous process, which can reduce manufacturing cost and mass production, thereby improving productivity.

Claims (13)

이형필름 상에 광 반사 필러 및 수지를 포함하는 광 반사층 형성용 잉크를 인쇄하여 광 반사층을 형성하는 단계;
상기 광 반사층 상에 회로패턴을 인쇄하는 단계;
상기 회로패턴 상에 열전도성 절연층을 도포하는 단계; 및
상기 이형필름을 제거하는 단계를 포함하되,
상기 열전도성 절연층을 도포하는 단계와 상기 이형필름을 제거하는 단계 사이에는, 상기 열전도성 절연층 상에 열전도성 베이스층을 적층 시킨 후 열 압착하는 단계를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
Printing an ink for forming a light reflection layer including a light reflection filler and a resin on a release film to form a light reflection layer;
Printing a circuit pattern on the light reflection layer;
Applying a thermally conductive insulating layer on the circuit pattern; And
And removing the release film,
Further comprising a step of thermally compressing the thermally conductive base layer after laminating the thermally conductive base layer on the thermally conductive insulation layer between the step of applying the thermally conductive insulation layer and the step of removing the release film. A method of manufacturing a printed circuit board.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 열전도성 베이스층으로는, 열연강판, 냉연강판, 알루미늄판, 아연도금판, 구리판, 스테인레스판, 주석도금판, 황동판, 또는 수지코팅강판을 사용하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the thermally conductive base layer is a hot-rolled steel plate, a cold-rolled steel plate, an aluminum plate, a galvanized steel plate, a copper plate, a stainless steel plate, a tin-plated plate, a brass plate, or a resin- .
청구항 1에 있어서,
상기 열전도성 절연층 상에 상기 열전도성 베이스층을 적층 시킨 후 열 압착하는 단계에서는, 120~200℃의 온도 조건에서 수행하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of laminating the thermally conductive base layer on the thermally conductive insulating layer and thermally bonding the thermally conductive base layer is performed at a temperature of 120 to 200 ° C.
청구항 1, 청구항 3 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광 반사층은, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법, 또는 로타리 스크린 인쇄법으로 인쇄하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1, 3, or 4,
Wherein the light reflecting layer is printed by a gravure printing method, a screen printing method, or a rotary screen printing method.
청구항 1, 청구항 3 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 회로패턴은, 그라비아 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 옵셋 인쇄법, 스크린 인쇄법, 로타리 스크린 인쇄법, 또는 잉크젯 인쇄법으로 인쇄하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1, 3, or 4,
Wherein the circuit pattern is printed by gravure printing, flexographic printing, offset printing, screen printing, rotary screen printing, or inkjet printing.
청구항 1, 청구항 3 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광 반사층 상에 상기 회로패턴을 인쇄하는 단계는, 상기 광 반사층 상에 1차 회로패턴을 인쇄하는 1차 인쇄단계 및 상기 1차 패턴 상에 2차 회로패턴을 인쇄하는 2차 인쇄단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1, 3, or 4,
The step of printing the circuit pattern on the light reflecting layer includes a primary printing step of printing a primary circuit pattern on the light reflecting layer and a secondary printing step of printing a secondary circuit pattern on the primary pattern Wherein the metal substrate is a metal substrate.
청구항 1, 청구항 3 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광 반사층 상에 상기 회로패턴을 인쇄하는 단계와 상기 회로패턴 상에 상기 열전도성 절연층을 도포하는 단계 사이에는, 상기 회로 패턴 상에 도금하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1, 3, or 4,
Further comprising the step of plating on the circuit pattern between the step of printing the circuit pattern on the light reflecting layer and the step of applying the thermally conductive insulating layer on the circuit pattern, ≪ / RTI >
청구항 8에 있어서,
상기 도금단계에서는, 전해 도금 또는 무전해 도금을 수행하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 8,
Wherein the plating step is carried out by electrolytic plating or electroless plating.
청구항 1, 청구항 3 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 열전도성 절연층은, S-knife, 그라비아, 플렉소, 스크린, 로타리 스크린, 슬롯 다이, 또는 마이크로 그라비아 코팅법으로 도포하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1, 3, or 4,
Wherein the thermally conductive insulating layer is applied by S-knife, gravure, flexo, screen, rotary screen, slot die, or microgravure coating method.
청구항 1, 청구항 3 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 회로패턴 상에 열전도성 절연층을 도포하는 단계는, 상기 회로패턴 상에 1차 열전도성 절연층을 도포하는 1차 도포단계 및 상기 1차 열전도성 절연층 상에 2차 열전도성 절연층을 도포하는 2차 도포단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1, 3, or 4,
Wherein the step of applying the thermally conductive insulating layer on the circuit pattern includes a first coating step of coating a first thermally conductive insulating layer on the circuit pattern and a second coating step of coating a second thermally conductive insulating layer on the first thermally conductive insulating layer And a second coating step of coating the metal substrate.
청구항 1, 청구항 3 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 열전도성 절연층은, SiO2, TiO2, Al₂O₃, BaSO₄, CaCo₃, Al 플레이크(flake), Ag 플레이크(flake), 산화 그래핀, 산화 흑연, 산화 탄소나노튜브, ITO, AlN, BN, 및 MgO 중에서 선택되는 필러를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1, 3, or 4,
Wherein the thermally conductive insulating layer is made of a material selected from the group consisting of SiO2 , TiO2 , Al2O3, BaSO4, CaCo3, Al flake, Ag flake, oxide graphene, graphite oxide, carbon oxide nanotube, ITO, AlN, BN, MgO, < / RTI > and the like.
청구항 1, 청구항 3 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 단계들은 롤-투-롤(roll to roll) 연속공정으로 수행되는 것을 특징으로 하는 금속 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1, 3, or 4,
Wherein the steps are performed by a roll-to-roll continuous process.
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