KR101443379B1 - Liquid Crystal Pixel and Panel and Display Device including the same - Google Patents

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Abstract

전기적 신호에 빠르게 응답 가능한 액정 화소가 개시된다.A liquid crystal pixel capable of quickly responding to an electrical signal is disclosed.

액정 화소는, 수평 공통 전압 라인에 접속된 수평 공통 전극을 가지는 액정 셀; 게이트 라인 상의 스캔 신호에 응답하여 데이터 라인으로부터 상기 액정 셀의 화소 전극에 공급될 화소 구동 신호를 스위칭하는 제1 스위치 소자; 및 상기 게이트 라인 상의 상기 스캔 신호에 응답하여 수직 공통 라인으로부터 상기 액정 셀의 수직 공통 전극에 공급될 수직 공통 전압을 스위칭하는 제2 스위치 소자를 구비한다.The liquid crystal pixel includes: a liquid crystal cell having a horizontal common electrode connected to a horizontal common voltage line; A first switch element for switching a pixel drive signal to be supplied from the data line to the pixel electrode of the liquid crystal cell in response to a scan signal on the gate line; And a second switch element for switching a vertical common voltage to be supplied from a vertical common line to a vertical common electrode of the liquid crystal cell in response to the scan signal on the gate line.

수직 전계, 수평 전계, 응답 속도, 액정, 횡 모드 공통 전극, 종 모드 공통 전극, 복귀 시간. Vertical electric field, horizontal electric field, response speed, liquid crystal, transverse mode common electrode, longitudinal mode common electrode, return time.

Description

액정 화소, 그를 포함한 패널 및 표시 장치{Liquid Crystal Pixel and Panel and Display Device including the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a liquid crystal pixel,

본 명세서는 액정의 광 투광율을 제어하여 화점을 표시하는 액정 화소에 관한 것이다. 또한, 본 명세서는 액정 화소를 포함하는 액정 패널 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.This specification relates to a liquid crystal pixel for controlling a light transmittance of a liquid crystal to display a dot. Further, the present specification relates to a liquid crystal panel and a liquid crystal display device including liquid crystal pixels.

통상의 액정 화소는 전기적 신호에 응답하여 액정 층을 통과하는 광량을 조절하여 화소 데이터에 해당하는 화점을 표시한다. 액정 층에 포함된 액정 분자들은 초기 배향 상태(예를 들면, 수평 또는 수직 배향 상태)에서 전기장의 형성 방향(예를 들면, 수직 또는 수평 방향)으로 재배열되어 투과되는 광량을 조절한다. 전기장이 제거되면, 액정 층의 액정 분자들은 재배열 상태에서 초기 배향 상태로 복귀한다. 이러한 액정 분자의 초기 배향 상태로의 복귀는, 전기장이 아닌, 액정 분자의 탄성력, 액정 분자의 회전 점도, 및 배향막과 액정 분자 사이의 앤코링(Anchoring) 에너지에 의하여 진행된다. 액정 분자의 탄성력, 액정 분자의 회전 점도, 및 배향막과 액정 분자 사이의 앤코링(Anchoring) 에너지는 전기장 에너지에 비하여 현저하게 작다.A normal liquid crystal pixel controls the amount of light passing through the liquid crystal layer in response to an electrical signal to display a dot corresponding to the pixel data. The liquid crystal molecules included in the liquid crystal layer are rearranged in the direction of forming the electric field (for example, vertical or horizontal direction) in an initial alignment state (e.g., a horizontal or vertical alignment state) to adjust the amount of light transmitted. When the electric field is removed, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer return to the initial alignment state in the rearranged state. This return of the liquid crystal molecules to the initial alignment state proceeds not by the electric field but by the elastic force of the liquid crystal molecules, the rotational viscosity of the liquid crystal molecules, and the anchoring energy between the alignment film and the liquid crystal molecules. The elastic force of the liquid crystal molecules, the rotational viscosity of the liquid crystal molecules, and the anchoring energy between the alignment film and the liquid crystal molecules are remarkably smaller than the electric field energies.

이로 인하여 액정 분자의 초기 배향 상태로의 복귀 속도는 재배열 속도에 비하여 느릴 수밖에 없다. 액정 분자의 느린 복귀 속도는 전기적 신호에 대한 액정 화소의 응답 속도를 떨어뜨리는 요인으로 작용하고 있다. 액정 화소가 매트릭스 형태로 배열된 액정 패널에서도, 비디오 데이터에 대한 화상의 응답 속도가 제한될 수밖에 없었다. 이에 더하여, 액정 패널을 이용하는 액정 표시 장치에 의하여 표시되는 화상에서는 윤곽 및 색상의 열화와 블러링 현상이 나타날 수밖에 없다. 이로 인하여, 액정 표시 장치는 화상의 질을 떨어뜨릴 수밖에 없다.Due to this, the returning speed of the liquid crystal molecules to the initial alignment state is inevitably slower than the rearrangement speed. The slow return rate of the liquid crystal molecules acts as a factor to lower the response speed of the liquid crystal pixel to the electrical signal. Even in a liquid crystal panel in which liquid crystal pixels are arranged in a matrix form, the response speed of an image with respect to video data can not but be limited. In addition, in the image displayed by the liquid crystal display device using the liquid crystal panel, deterioration of the outline and hue and blurring are inevitable. As a result, the liquid crystal display device is inevitably deteriorated in image quality.

따라서, 본 명세서는 전기적 신호에 좀 더 빠르게 응답 가능한 액정 화소의 실시 예를 제공할 것이다.Accordingly, the present specification will provide an embodiment of a liquid crystal pixel that is more responsive to electrical signals.

본 명세서에서는, 전기적 신호에 좀 더 빠르게 응답 가능한 액정 패널 및 그 제조 방법의 실시 예들이 제공될 것이다.In this specification, embodiments of a liquid crystal panel and a method of manufacturing the liquid crystal panel capable of responding to an electrical signal more quickly will be provided.

나아가, 본 명세서는 화상의 질을 향상시킬 수 있는 액정 표시 장치 및 그 구동 방법의 실시 예들을 제공할 것이다.Furthermore, the present specification will provide embodiments of a liquid crystal display device and a driving method thereof that can improve image quality.

실시 예에 따른 액정 화소는, 수평 공통 전압 라인에 접속된 수평 공통 전극을 가지는 액정 셀; 게이트 라인 상의 스캔 신호에 응답하여 데이터 라인으로부터 상기 액정 셀의 화소 전극에 공급될 화소 구동 신호를 스위칭하는 제1 스위치 소자; 및 상기 게이트 라인 상의 상기 스캔 신호에 응답하여 수직 공통 라인으로부터 상기 액정 셀의 수직 공통 전극에 공급될 수직 공통 전압을 스위칭하는 제2 스위치 소자를 구비한다.A liquid crystal pixel according to an embodiment includes: a liquid crystal cell having a horizontal common electrode connected to a horizontal common voltage line; A first switch element for switching a pixel drive signal to be supplied from the data line to the pixel electrode of the liquid crystal cell in response to a scan signal on the gate line; And a second switch element for switching a vertical common voltage to be supplied from a vertical common line to a vertical common electrode of the liquid crystal cell in response to the scan signal on the gate line.

상기 수직 공통 전압은, 상기 화소 구동 신호의 전압에 따라, 상기 화소 구동 신호의 최대 전압 레벨보다 높은 고 전위 레벨과 상기 수평 공통 전압 라인 상의 전압에 해당하는 저 전위 레벨을 선택적으로 가질 수 있다. 상기 수직 공통 전압은, 상기 화소 구동 신호가 흑 레벨 전압을 가질 때 상기 고 전위 레벨을 유지하는 반면, 상기 화소 구동 신호가 흑 레벨 전압보다 높은 때에는 상기 저 전위 레벨을 가지는 것이다.The vertical common voltage may selectively have a high potential level higher than a maximum voltage level of the pixel driving signal and a low potential level corresponding to a voltage on the horizontal common voltage line according to a voltage of the pixel driving signal. The vertical common voltage maintains the high potential level when the pixel driving signal has the black level voltage, and has the low potential level when the pixel driving signal is higher than the black level voltage.

상기 게이트 라인이 메인 및 서브 게이트 라인을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 제1 스위치 소자가 상기 메인 게이트 라인 상의 메인 스캔 신호에 응답하고, 상기 제2 스위치 소자가 상기 서브 게이트 라인 상의 서브 스캔 신호에 응답할 것이다.The gate line may include main and sub gate lines. In this case, the first switch element will respond to the main scan signal on the main gate line, and the second switch element will respond to the subscan signal on the subgate line.

실시 예에 따른 액정 패널은, 서로 교차하는 다수의 메인 게이트 라인 및 다수의 데이터 라인에 의하여 구분된 단위 영역들 각각에, 수평 공통 전압 라인에 공통-접속된 수평 공통 전극, 이 수평 공통 전극과 교번-배열된 화소 전극, 및 대응하는 메인 게이트 라인, 및 데이터 라인 및 화소 전극 사이에 접속된 메인 박막 트랜지스터가 형성된 제1 기판; 상기 메인 게이트 라인들과 대향하는 다수의 서브 게이트 라인 및 상기 데이터 라인들과 대향하는 다수의 수직 공통 전압 라인에 의하 여 구분된 단위 영역들 각각에 위치한 수직 공통 전극, 및 대응하는 서브 게이트 라인, 대응하는 수직 공통 전압 라인 및 대응하는 수평 공통 전극 사이에 접속된 서브 박막 트랜지스터가 형성된 제2 기판; 및 상기 제1 기판의 상기 화소 및 수평 공통 전극과 상기 제2 기판의 상기 수직 공통 전극 사이에 배치된 액정 층을 구비한다.A liquid crystal panel according to an embodiment includes a plurality of main gate lines intersecting with each other, and unit regions divided by a plurality of data lines, wherein a horizontal common electrode common-connected to a horizontal common voltage line, - arranged pixel electrodes, and corresponding main gate lines, and data lines and A first substrate on which a main thin film transistor connected between pixel electrodes is formed; A plurality of sub-gate lines opposed to the main gate lines and a plurality of vertical common voltage lines opposed to the data lines, A second substrate formed with a vertical common electrode located in each of the regions, and a sub-thin film transistor connected between the corresponding sub gate line, a corresponding vertical common voltage line, and a corresponding horizontal common electrode; And a liquid crystal layer disposed between the pixel and the horizontal common electrode of the first substrate and the vertical common electrode of the second substrate.

실시 예에 따른 액정 패널 제조 방법은, 단위 영역들을 구분하게 서로 교차하는 다수의 메인 게이트 라인 및 다수의 데이터 라인, 수평 공통 전압 라인과 접속되게 상기 단위 영역들 각각에 마련된 수평 공통 전극, 상기 수평 공통 전극과 교번하게 배열되는 화소 전극, 및 대응하는 메인 게이트 및 데이터 라인들 및 화소 전극 사이에 접속된 메인 박막 트랜지스터를 제1 기판에 형성하는 단계; 상기 메인 게이트 라인들과 대향하는 다수의 서브 게이트 라인, 상기 데이터 라인들과 대향하는 다수의 수직 공통 전압 라인, 이들 서브 게이트 라인들 및 수직 공통 전압 라인들에 의하여 구분된 단위 영역들 각각에 위치하는 수직 공통 전극, 및 대응하는 서브 게이트 라인, 대응하는 수직 공통 전압 라인 및 대응하는 수평 공통 전극 사이에 접속된 서브 박막 트랜지스터를 제2 기판에 형성하는 단계; 상기 화소 및 수평 공통 전극이 상기 수직 공통 전극과 대향하게 상기 제1 및 제2 기판을 배치하는 단계; 및 상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정 물질을 주입하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention includes a plurality of main gate lines and a plurality of data lines intersecting with unit areas to divide unit areas, a horizontal common electrode provided in each of the unit areas to be connected to a horizontal common voltage line, Pixel electrodes arranged alternately with the electrodes, and corresponding main gate and data lines and Forming a main thin film transistor connected between pixel electrodes on a first substrate; A plurality of subgate lines opposed to the main gate lines, a plurality of vertical common voltage lines opposed to the data lines, a unit divided by the subgate lines and the vertical common voltage lines Forming a sub-thin film transistor on the second substrate, the sub-thin film transistor being connected between a corresponding one of the sub-gate lines, a corresponding vertical common voltage line and a corresponding horizontal common electrode; Disposing the first and second substrates such that the pixel and the horizontal common electrode face the vertical common electrode; And injecting a liquid crystal material between the first and second substrates.

실시 예에 따른 액정 표시 장치는, 다수의 게이트 라인 및 다수의 데이터 라인에 의하여 구분된 단위 영역들 각각에 배치된 액정 셀, 상기 데이터 라인들에 각각 대응된 수직 공통 전압 라인들, 대응하는 게이트 라인 상의 스캔 신호에 응답하 여 대응하는 데이터 라인과 대응하는 액정 셀의 화소 전극을 선택적으로 연결하는 제1 스위치 소자, 및 대응하는 게이트 라인 상의 상기 스캔 신호에 응답하여 대응하는 수직 공통 라인과 대응하는 액정 셀의 수직 공통 전극을 선택적으로 연결하는 제2 스위치 소자를 가지는 액정 패널; 화소 데이터 스트림을 흑 레벨 제어 데이터 스트림으로 변환하는 데이터 변환기; 상기 액정 패널 상의 게이트 라인들을 순차-구동하는 게이트 드라이버; 화소 데이터 스트림에 응답하여 상기 데이터 라인들을 구동하는 데이터 드라이버; 및 상기 흑 레벨 제어 데이터 스트림에 응답하여 상기 다수의 수직 공통 전압 라인들 각각을 선택적으로 구동하는 수직 공통 라인 드라이버를 구비한다.A liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes liquid crystal cells arranged in unit areas divided by a plurality of gate lines and a plurality of data lines, vertical common voltage lines respectively corresponding to the data lines, A first switch element for selectively connecting a corresponding data line and a pixel electrode of a corresponding liquid crystal cell in response to a scan signal on the corresponding gate line, A liquid crystal panel having a second switch element for selectively connecting a vertical common electrode of the cell; A data converter for converting the pixel data stream into a black level control data stream; A gate driver sequentially driving the gate lines on the liquid crystal panel; A data driver for driving the data lines in response to a pixel data stream; And a vertical common line driver for selectively driving each of the plurality of vertical common voltage lines in response to the black level control data stream.

실시 예에 따른 액정 표시 장치의 구동 방법은, 화소 데이터 스트림을 흑 레벨 제어 데이터 스트림으로 변환하는 단계; 액정 패널 상의 다수의 게이트 라인들을 순차적으로 구동하는 단계; 화소 데이터 스트림에 응답하여 상기 액정 패널 상의 다수의 데이터 라인들을 구동하는 단계; 및 상기 흑 레벨 제어 데이터 스트림에 응답하여 상기 데이터 라인들과 대응하는 상기 액정 패널 상의 다수의 수직 공통 전압 라인들 각각을 선택적으로 구동하는 단계를 포함한다.A method of driving a liquid crystal display according to an embodiment includes converting a pixel data stream into a black level control data stream; Sequentially driving a plurality of gate lines on a liquid crystal panel; Driving a plurality of data lines on the liquid crystal panel in response to a pixel data stream; And selectively driving each of the plurality of vertical common voltage lines on the liquid crystal panel corresponding to the data lines in response to the black level control data stream.

상기와 같은 구성에 의하여, 실시 예에 따른 액정 화소는 최저 계조(즉, 흑색) 보다 밝은 계조의 표시 시에 액정 셀이 화소 전극과 수평 공통 전극 사이의 수평 전계에 의하여 구동 되게 한다. 아울러, 액정 화소는 최저 계조의 표시 시에는 액정 셀의 액정 분자들이 수직 공통 전극과 수평 공통 전극 사이의 수직 전계에 의 하여 초기화 되게 한다. 다시 말하여, 액정 셀은 최저 계조 보다 밝은(또는 높은) 계조들 뿐만 아니라 최저 계조의 표시 시에도 전계에 의하여 제어된다. 이에 따라, 실시 예에 따른 액정 화소는 화소 구동 신호에 대한 광의 응답 속도가 현저하게 높아질 수 있다.With such a configuration, the liquid crystal pixel according to the embodiment allows the liquid crystal cell to be driven by the horizontal electric field between the pixel electrode and the horizontal common electrode during the display of the lighter grayscale than the lowest grayscale (i.e., black). The liquid crystal pixel causes the liquid crystal molecules of the liquid crystal cell to be initialized by the vertical electric field between the vertical common electrode and the horizontal common electrode during the display of the lowest gradation. In other words, the liquid crystal cell is controlled by the electric field not only at the gray levels that are brighter (or higher) than the lowest gray level, but also at the time of displaying the lowest gray level. Accordingly, the liquid crystal pixel according to the embodiment can remarkably increase the response speed of light to the pixel driving signal.

실시 예에 따른 액정 패널은, 매트릭스 형태로 배열될 액정 화소들이 개별적으로 최저 계조(즉, 흑색) 보다 밝은 계조의 표시 시에 수평 전계에 의하여 구동되게 하는 한편 최저 계조의 표시 시에는 수직 전계에 의하여 구동된다. 다시 말하여, 액정 패널은 액정 화소들 각각이 최저 계조 보다 밝은(또는 높은) 계조들 뿐만 아니라 최저 계조의 표시 시에도 전계에 의하여 구동되게 한다. 이에 따라, 실시 예에 따른 액정 패널은 화소 구동 신호에 빠른 속도로 응답할 수 있다.The liquid crystal panel according to the embodiment allows the liquid crystal pixels to be arranged in a matrix form to be driven by a horizontal electric field when displaying gradations lighter than the lowest gradation (i.e., black), while at the time of displaying the lowest gradation, . In other words, the liquid crystal panel causes each of the liquid crystal pixels to be driven by an electric field not only at the gray level (or higher) than the lowest gray level, but also at the display of the lowest gray level. Accordingly, the liquid crystal panel according to the embodiment can respond to the pixel driving signal at a high speed.

이와 같이, 실시 예에 따른 액정 표시 장치는, 액정 화소들이 개별적으로, 최저 계조(즉, 흑색) 보다 밝은 계조의 표시 시에 화소 구동 신호에 의하여 구동되게 하는 한편 최저 계조의 표시 시에는 고 전위의 수직 공통 전압에 의하여 초기 화 되게 한다. 다시 말하여, 실시 예에 따른 액정 표시 장치에서는, 최저 계조 보다 밝은(또는 높은) 계조들 뿐만 아니라 최저 계조의 표시 시에도 전계에 의하여 액정 화소들이 제어된다. 이에 따라, 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 비디오 데이터에 대응하여 빠른 속도로 응답하는 화상을 표시할 수 있다. 이 결과, 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 화상의 열화 및 블러링 현상을 최소화할 수 있다. 나아가, 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 화상의 질을 향상시킬 수 있다.As described above, in the liquid crystal display device according to the embodiment, the liquid crystal pixels are individually driven by the pixel driving signal at the time of displaying the grayscale lighter than the lowest grayscale (i.e., black), while at the time of displaying the lowest grayscale, And is initialized by the vertical common voltage. In other words, in the liquid crystal display according to the embodiment, the liquid crystal pixels are controlled by the electric field even in the display of the lowest gray level as well as the gray level that is brighter (or higher) than the lowest gray level. Accordingly, the liquid crystal display device according to the embodiment can display an image responding at a high speed corresponding to the video data. As a result, the liquid crystal display device according to the embodiment can minimize image deterioration and blurring phenomenon. Furthermore, the liquid crystal display device according to the embodiment can improve the image quality.

상기 실시 예들 외에도, 본 명세서의 다른 목적들, 다른 특징들 및 다른 이 점들은 첨부한 도면과 결부된 실시 예의 상세한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.In addition to the above embodiments, other objects, other features, and other features of the present disclosure will become apparent from the detailed description of the embodiments associated with the accompanying drawings.

이하, 전기적 신호에 빠르게 응답 가능한 액정 화소, 액정 패널 및 액정 표시 장치의 실시 예들이 첨부한 도면과 결부되어 상세하게 설명될 것이다.Hereinafter, embodiments of a liquid crystal pixel, a liquid crystal panel and a liquid crystal display capable of responding to an electrical signal will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 화소를 상세하게 설명하는 회로도이다. 도 1의 액정 화소는 수평 공통 전압 라인(HCL)에 접속된 액정 셀(CLC), 메인 게이트 라인(MGL)에 접속된 메인 박막 트랜지스터(MT), 및 서브 게이트 라인(SGL)에 접속된 서브 박막 트랜지스터(SM)을 구비한다. 액정 셀(CLC)은, 수평 공통 전압 라인(HCL)에 연결된 수평 공통 전극(HCE), 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극에 접속된 화소 전극(PXE), 및 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극에 접속된 수직 공통 전극(VCE)을 구비한다. 메인 및 서브 게이트 라인(MGL,SGL)에는 동일한 스캔 신호가 공급된다.1 is a circuit diagram for explaining a liquid crystal pixel of a fast response speed according to an embodiment in detail. The liquid crystal pixel of FIG. 1 includes a liquid crystal cell CLC connected to the horizontal common voltage line HCL, a main thin film transistor MT connected to the main gate line MGL, and a sub thin film connected to the sub gate line SGL. And a transistor SM. The liquid crystal cell CLC includes a horizontal common electrode HCE connected to a horizontal common voltage line HCL, a pixel electrode PXE connected to a source electrode of the main thin film transistor MT, And a vertical common electrode (VCE) connected to the electrode. The same scan signal is supplied to the main and sub gate lines MGL and SGL.

메인 박막 트랜지스터(MT)는, 메인 게이트 라인(MGL) 상의 스캔 신호에 응답하여, 데이터 라인(DL)으로부터 액정 셀(CLC)의 화소 전극(PXE)에 공급될 화소 구동 신호(Vpds)를 절환한다. 화소 구동 신호(Vpds)는 계조 전압 세트 중 표시될 화소의 계조에 해당하는 계조 전압을 가진다. 계조 전압 세트는, 수평 공통 전압(Vhcom)에 해당하는 흑 레벨, 수평 공통 전압(Vhcom)보다 일정한 전압 높은(또는 낮은) 양극성(또는 음극성)의 백 레벨 전압, 그리고 이들 흑 레벨 전압 및 백 레벨 전압 사이에서 서로 같은 레벨 차이 또는 가변 레벨 차이를 가지게끔 설정된 2k-1 개의 계조 전압들을 포함한다. 스캔 신호(Vsn)가 고 전위 전압(즉, 하이 논리)을 가지면, 메인 박막 트랜지스터(MT)는, 턴-온(Turn-on)되어, 데이터 라인(DL) 상의 화소 구동 신호(Vpds)가 액정 셀(CLC)의 화소 전극(PXE)에 공급되게 한다. 이때, 액정 셀(CLC)의 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE) 사이에는 화소 구동 신호(Vpds)의 전압과 수평 공통 전압(Vhcom)과의 차 전압이 충전된다. 화소 전극(PXE) 및 수평 공통 전극(HCE) 사이에 충전된 전압은 메인 박막 트랜지스터(MT)가 다시 턴-온 될 때까지 유지된다. 이와는 달리, 스캔 신호(Vsn)가 저 전위 전압(즉, 로우 논리)을 가지면, 메인 박막 트랜지스터(MT)는 턴-오프(Turn-off)되어 데이터 라인(DL) 상의 화소 구동 신호(Vpds)가 액정 셀(CLC)의 화소 전극(PXE)에 전달되지 않게 한다.The main thin film transistor MT switches the pixel drive signal Vpds to be supplied from the data line DL to the pixel electrode PXE of the liquid crystal cell CLC in response to the scan signal on the main gate line MGL . The pixel driving signal Vpds has a gradation voltage corresponding to the gradation of the pixel to be displayed in the gradation voltage set. The gradation voltage set includes a black level corresponding to the horizontal common voltage Vhcom, a back level voltage of a positive (or negative) voltage higher (or lower) than the horizontal common voltage Vhcom, And 2 k-1 gradation voltages set to have the same level difference or variable level difference between the voltages. When the scan signal Vsn has a high potential (that is, high logic), the main thin film transistor MT is turned on so that the pixel drive signal Vpds on the data line DL is turned on, To be supplied to the pixel electrode PXE of the cell CLC. At this time, a difference voltage between the voltage of the pixel driving signal Vpds and the horizontal common voltage Vhcom is charged between the pixel electrode PXE of the liquid crystal cell CLC and the horizontal common electrode HCE. The voltage charged between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE is maintained until the main thin film transistor MT is turned on again. On the other hand, when the scan signal Vsn has a low potential (that is, low logic), the main thin film transistor MT is turned off to turn on the pixel drive signal Vpds on the data line DL And is not transmitted to the pixel electrode PXE of the liquid crystal cell CLC.

서브 박막 트랜지스터(ST)는, 서인 게이트 라인(SGL) 상의 스캔 신호에 응답하여, 수직 공통 전압 라인(VCL)으로부터 액정 셀(CLC)의 수직 공통 전극(VCE)에 공급될 수직 공통 전압(Vvcom)를 절환한다. 수직 공통 전압 라인(VCL)에는, 도 2에서와 같이, 수평 공통 전압(Vhcom)과 동일한 레벨에 해당하는 저 전위의 수직 공통 전압(Vvcoml) 또는 수평 공통 전압(Vhcom)을 기준으로 화소 구동 신호(Vpds)의 최대 계조 전압(즉, 백 레벨)보다 훨씬 높은 레벨에 해당하는 높은 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh)이 공급될 수 있다. 저 전위 수직 공통 전압(Vvcoml)은, 도 2의 "T1"의 기간에서와 같이 데이터 라인(DL) 상의 화소 구동 신호(Vpds)가 흑 레벨보다 높은 계조 레벨 전압을 가질 때, 수직 공통 전압 라인(VCL) 상에 공급된다. 이 와는 달리, 도 2의 "T2"의 기간에서오같이 데이터 라인(DL) 상의 화소 구동 신호(Vpds)가 흑 레벨 전압일 경우에는, 고 전위 수직 공통 전압(Vvcomh)이 수직 공통 전압 라인(VCL)에 공급된다. 서브 게이트 라인(SGL) 상의 스캔 신호(Vsn)가 고 전위 전압(즉, 하이 논리)을 가지면, 서브 박막 트랜지스터(ST)는 턴-온 되어, 수직 공통 전압 라인(VCL) 상의 낮은 수직 공통 전압(Vvcoml) 또는 높은 수직 공통 전압(Vvcomh)이 액정 셀(CLC)의 수직 공통 전극(VCE)에 공급되게 한다. 이때, 액정 셀(CLC)의 수직 공통 전극(VCE)과 수평 공통 전극(HCE) 사이에는 낮거나 높은 수직 공통 전압(Vvcoml 또는 Vvcomh)과 수평 공통 전압(Vhcom)과의 차 전압이 충전된다. 수직 공통 전극(VCE) 및 수평 공통 전극(HCE) 사이에 충전된 전압은 서브 박막 트랜지스터(ST)가 다시 턴-온 될 때까지 유지된다. 이와는 달리, 스캔 신호(Vsn)가 저 전위 전압(즉, 로우 논리)을 가지면, 서브 박막 트랜지스터(ST)는 턴-오프(Turn-off) 되어 수직 공통 전압 라인(VCL) 상의 수직 공통 전압(Vcom)이 액정 셀(CLC)의 수직 공통 전극(VCE)에 전달되지 않게 한다.The sub-thin film transistor ST responds to the scan signal on the stand-by gate line SGL and generates a vertical common voltage Vvcom to be supplied from the vertical common voltage line VCL to the vertical common electrode VCE of the liquid crystal cell CLC, . 2, the vertical common voltage line VCL is supplied with a pixel driving signal (Vhcom) or a horizontal common voltage (Vhcom) based on the vertical common voltage Vvcoml or the horizontal common voltage Vhcom having a low potential corresponding to the same level as the horizontal common voltage Vhcom A vertical common voltage Vvcomh having a high potential corresponding to a level much higher than the maximum gradation voltage (i.e., the back level) When the pixel drive signal Vpds on the data line DL has a gradation level voltage higher than the black level as in the period of "T1" in Fig. 2, the low potential vertical common voltage Vvcoml VCL). In contrast, when the pixel drive signal Vpds on the data line DL is a black level voltage in the period of "T2" in FIG. 2, the high-potential vertical common voltage Vvcomh becomes higher than the vertical common voltage VCL . When the scan signal Vsn on the sub gate line SGL has a high potential voltage (i.e., high logic), the sub thin film transistor ST is turned on and a low vertical common voltage (VCL) on the vertical common voltage line VCL Vvcoml or a high vertical common voltage Vvcomh is supplied to the vertical common electrode VCE of the liquid crystal cell CLC. At this time, a difference voltage between the vertical common voltage Vvcoml or Vvcomh and the horizontal common voltage Vhcom is charged between the vertical common electrode VCE and the horizontal common electrode HCE of the liquid crystal cell CLC. The voltage charged between the vertical common electrode (VCE) and the horizontal common electrode (HCE) is maintained until the sub-thin film transistor (ST) is turned on again. On the contrary, when the scan signal Vsn has a low potential (that is, low logic), the sub-thin film transistor ST is turned off so that the vertical common voltage Vcom on the vertical common voltage line VCL ) Is not transmitted to the vertical common electrode (VCE) of the liquid crystal cell (CLC).

화소 전극(PXE) 및 수평 공통 전극(HCE) 사이에 흑 레벨보다 높은 전압의 화소 구동 신호(Vpds)가 충전되는 반면에 수직 공통 전극(VCE)에 저 전위 수직 공통 전압(Vvcoml)이 충전된 경우, 액정 셀(CLC)에 포함된 액정 분자들은 화소 전극(PXE) 및 수평 공통 전극(HCE) 사이에 화소 구동 신호(Vpds)의 전압(즉, 수평 전계)에 의하여 비틀려지게 재배열되어 화소 구동 신호(Vpds)의 전압에 해당하는 광량을 통과시킨다. 이에 따라, 액정 셀(CLC)를 포함하는 액정 화소는 화소 구동 신호(Vpds)의 전압에 해당하는 계조를 표시한다. 이와는 달리, 화소 전극(PXE)에 흑 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)가 충전되는 반면에 수직 공통 전극(VCE)에 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh)이 충전된 때에는, 액정 셀(CLC)을 구성하는 액정 분자들은 수직 공통 전극(VCE) 및 수평 공통 전극(HCE) 사이에 충전된 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh)(즉, 수직 전계)에 의하여 초기 배열 상태로 빠르게 복귀하여 광이 투과되지 않게 한다. 이때, 액정 셀(CLC)을 포함하는 액정 화소는 흑색을 표시한다.When the pixel driving signal Vpds having a voltage higher than the black level is charged between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE while the vertical common electrode VCE is charged with the low potential vertical common voltage Vvcoml The liquid crystal molecules included in the liquid crystal cell CLC are rearranged so as to be distorted by the voltage (i.e., the horizontal electric field) of the pixel driving signal Vpds between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE, And passes the light amount corresponding to the voltage of the signal Vpds. Accordingly, the liquid crystal pixel including the liquid crystal cell CLC displays the gray level corresponding to the voltage of the pixel driving signal Vpds. On the other hand, when the pixel electrode PXE is charged with the black pixel driving signal Vpds while the vertical common electrode VCE is charged with the vertical common voltage Vvcomh of high electric potential, the liquid crystal cell CLC The liquid crystal molecules constituting the liquid crystal molecules quickly return to the initial arrangement state by the vertical common voltage Vvcomh (i.e., the vertical electric field) of the high potential charged between the vertical common electrode VCE and the horizontal common electrode HCE, Do not. At this time, the liquid crystal pixel including the liquid crystal cell CLC displays black.

이와 같이, 최저 계조(즉, 흑색) 보다 밝은 계조의 표시 시에 액정 셀의 액정 분자들이 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE) 사이의 수평 전계에 의하여 재배열 된다. 아울러, 최저 계조의 표시 시에는 액정 셀의 액정 분자들이 수직 공통 전극(VCE)과 수평 공통 전극(HCE) 사이의 수직 전계에 의하여 초기 배열 상태로 복귀한다. 다시 말하여, 최저 계조 보다 밝은(또는 높은) 계조들 뿐만 아니라 최저 계조의 표시 시에도 전계에 의하여 액정 분자들의 배열이 제어된다. 이에 따라, 실시 예에 따른 액정 화소는 화소 구동 신호에 대한 광의 응답 속도가 현저하게 높아질 수 있다.As described above, the liquid crystal molecules of the liquid crystal cell are rearranged by the horizontal electric field between the pixel electrode (PXE) and the horizontal common electrode (HCE) at the time of display of the gradation that is brighter than the lowest gradation (that is, black). At the time of display of the lowest gradation, the liquid crystal molecules of the liquid crystal cell return to the initial arrangement state by the vertical electric field between the vertical common electrode (VCE) and the horizontal common electrode (HCE). In other words, the arrangement of the liquid crystal molecules is controlled by the electric field even at the display of the lowest gradation as well as the gradations brighter (or higher) than the lowest gradation. Accordingly, the liquid crystal pixel according to the embodiment can remarkably increase the response speed of light to the pixel driving signal.

도 3은 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널의 구성을 상세하게 설명하는 회로도이다. 도 3의 액정 패널은, 어느 한 방향(예를 들면, 수평 방향)으로 나란하게 배열된 다수의 데이터 라인(DL1~DLm)과, 다른 방향(예를 들면, 수직 방향)으로 나란하게 배열된 다수의 메인 게이트 라인(MGL1~MGLn)을 구비한다. 데이터 라인들(DL1~DLm)은 메인 게이트 라인들(MGL1~MGLn)과 교차하여, 액정 패널이 매트릭스 형태로 배열되는 다수의 화소 영역들(예를 들면, m×n개의 화소 영역)로 구분되게 한다.3 is a circuit diagram illustrating in detail the structure of a liquid crystal panel of a fast response speed according to an embodiment. 3 includes a plurality of data lines DL1 to DLm arranged in parallel in one direction (e.g., a horizontal direction) and a plurality of data lines DL1 to DLm arranged in parallel in another direction (e.g., And main gate lines MGL1 to MGLn. The data lines DL1 to DLm intersect the main gate lines MGL1 to MGLn to divide the liquid crystal panel into a plurality of pixel regions (for example, mxn pixel regions) arranged in a matrix form do.

실 예에 따른 액정 패널에는, 데이터 라인들(DL1~DLm)과 각각 대응되는 다수의 수직 공통 전압 라인들(VCL1~VCLm)과, 메인 게이트 라인들(MGL1~MGLn)과 각각 대응되는 다수의 서브 게이트 라인(SGL1~SGLn)이 배열된다. 수직 공통 전압 라인들(VCL1~VCLm)및 서브 게이트 라인들(SGL1~SGLn)도, 액정 패널이 매트릭스 형태의 다수의 화소 영역들(예를 들면, m×n 개의 화소 영역)로 구분되게끔, 서로 교차한다.The liquid crystal panel according to the practical example includes a plurality of vertical common voltage lines VCL1 to VCLm respectively corresponding to the data lines DL1 to DLm and a plurality of sub-pixels corresponding to the main gate lines MGL1 to MGLn, The gate lines SGL1 to SGLn are arranged. The vertical common voltage lines VCL1 to VCLm and the sub gate lines SGL1 to SGLn are also divided into a plurality of pixel regions (for example, mxn pixel regions) in the form of a matrix, Cross each other.

다수의 화소 영역들 각각에는 액정 화소(LPX)가 형성된다. 액정 화소(LPX)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 대응하는 메인 게이트 라인(MGL) 및 대응하는 데이터 라인(DL)에 접속된 메인 박막 트랜지스터(MT), 대응하는 서브 게이트 라인(SGL) 및 대응하는 수직 공통 전압 라인(VCL)에 접속된 서브 박막 트랜지스터(ST), 그리고 메인 및 서브 박막 트랜지스터들(MT,ST)과 수평 공통 전압 라인(HCL)에 접속된 액정 셀(CLC)을 구비한다. 수평 공통 전압 라인(HCL)은 액정 셀들(CLC) 모두에 공통 접속된다. 이들 액정 화소들(LPX) 각각의 구성, 작용, 효과 및 특징들이 도 1의 설명을 통하여 명백하게 드러났기 때문에, 액정 화소(LPX)의 설명은 생략될 것이다.A liquid crystal pixel LPX is formed in each of the plurality of pixel regions. The liquid crystal pixel LPX includes a main thin film transistor MT connected to a corresponding main gate line MGL and a corresponding data line DL, a corresponding sub gate line SGL, A sub thin film transistor ST connected to the corresponding vertical common voltage line VCL and a liquid crystal cell CLC connected to the main and sub thin film transistors MT and ST and the horizontal common voltage line HCL . The horizontal common voltage line HCL is commonly connected to all of the liquid crystal cells CLC. The description of the liquid crystal pixel LPX will be omitted because the configuration, action, effect, and characteristics of each of these liquid crystal pixels LPX are clearly revealed through the description of FIG.

이렇게 매트릭스 형태로 배열될 액정 화소들(LPX)은, 개별적으로, 최저 계조(즉, 흑색) 보다 밝은 계조의 표시 시에 수평 전계에 의하여 구동되는 반면에 최저 계조의 표시 시에는 수직 전계에 의하여 구동된다. 다시 말하여, 액정 화소들(LPX) 각각은 최저 계조 보다 밝은(또는 높은) 계조들 뿐만 아니라 최저 계조의 표시 시에도 전계에 의하여 구동된다. 이에 따라, 실시 예에 따른 액정 패널은 화 소 구동 신호에 빠른 속도로 응답할 수 있다.The liquid crystal pixels LPX to be arrayed in the matrix form are individually driven by a horizontal electric field at the time of displaying a gray level that is brighter than the lowest gray level (i.e., black), while they are driven by a vertical electric field do. In other words, each of the liquid crystal pixels LPX is driven by an electric field not only in the gradations that are brighter (or higher) than the lowest gradation but also in the case of displaying the lowest gradation. Accordingly, the liquid crystal panel according to the embodiment can respond to the pixel drive signal at a high speed.

도 3에서와 같은 빠른 응답 속도의 액정 패널은 액정 층의 양면에 배치되는 제1 및 제2 어레이 기판(즉, 하부 및 상부 어레이 기판)을 구성될 것이다. 도 4a 및 도 4b는 일 실시 예에 따른 액정 패널에 포함된 제1 및 제2 어레이 기판의 평면 구조를 상세하게 설명하는 평면도들이다. 도 4a 및 도 4b가 일부 액정 화소들(즉, 3개의 액정 화소들)의 평면 구조만을 도시하나, 본 명세서에 개시된 액정 패널과 관련하여 통상의 지식을 가진 자라면 누구나, 도시된 일부 액정 화소들이 수직 및 수평 방향으로 반복됨에 의하여 매트릭스 형태로 배열된 액정 화소들이 구현될 수 있다는 것을 쉽게 알 수 있을 것이다.The liquid crystal panel having a fast response speed as shown in FIG. 3 will be composed of first and second array substrates (i.e., lower and upper array substrates) arranged on both sides of the liquid crystal layer. FIGS. 4A and 4B are plan views illustrating in detail the planar structure of the first and second array substrates included in the liquid crystal panel according to one embodiment. Although Figures 4A and 4B show only the planar structure of some liquid crystal pixels (i.e., three liquid crystal pixels), any one of ordinary skill in the art with respect to the liquid crystal panel disclosed herein will recognize that some of the liquid crystal pixels It will be easily understood that liquid crystal pixels arranged in a matrix form by repeating in the vertical and horizontal directions can be realized.

도 4a를 참조하면, 제1 어레이 기판(10)은 서로 교차하게 배치된 데이터 라인들(DL) 및 메인 게이트 라인들(MGL)을 구비한다. 이들 데이터 라인들(DL) 및 메인 게이트 라인들(MGL)에 의하여, 제1 어레이 기판(10)이 매트릭스 형태의 다수의 화소 영역들(P)로 구분된다. 대응하는 데이터 라인(DL) 및 대응하는 메인 게이트 라인(MGL)의 교차 부분 근처에는 메인 박막 트랜지스터(MT)가 배치된다. 메인 박막 트랜지스터(MT)는, 반도체 패턴(MSP)의 하면에 형성된 게이트 전극(MGE)과, 반도체 패턴(MSP) 표면에 일정 간격 이격 배열된 소스 및 드레인 전극(MSE,MDE)을 구비한다. 게이트 전극(MGE)은 메인 게이트 라인(MGL)으로부터 돌출되게 형성된다. 드레인 전극(MDE)은 데이터 라인(DL)으로부터 돌출되게 형성된다. 또한, 제1 어레이 기판(10)은 메인 게이트 라인(MGL)과 평행하게 배치된 수평 공통 전압 라인(HCL)을 구비한다. 수평 공통 전압 라인(HCL)으로부터 데이터 라인(DL)과 팽행 하게 신장된 수평 공통 전극들(HCE)이 일정한 개수씩 화소 영역들(P) 각각에 배치된다. 또한, 화소 영역들(P) 각각에는 일정한 개수의 화소 전극(PXE)이 배치된다. 화소 전극들(PXE)도 수평 공통 전극들(HCE)과 마찬가지로, 데이터 라인(DL)과 평행하게 형성된다. 각각의 화소 영역(P)에 포함된 일정한 개수의 화소 전극들(PXE) 및 수평 공통 전극들(HCE)은 서로 교번하게 배열된다. 또한, 화소 전극들(PXE) 및 수평 공통 전극들(HCE)은, 막대 형태가 아닌, 지그 재그 형태 또는 부메랑 형태 등 다양한 형태로 형성될 수 있다. 각 화소 영역(P) 상의 화소 전극(PXE)은 콘택(MCT)에 경유하여 대응하는 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)에 전기적으로 연결된다.Referring to FIG. 4A, the first array substrate 10 has data lines DL and main gate lines MGL which are arranged to cross each other. The first array substrate 10 is divided into a plurality of pixel regions P in the form of a matrix by these data lines DL and main gate lines MGL. A main thin film transistor MT is disposed in the vicinity of a crossing portion of a corresponding data line DL and a corresponding main gate line MGL. The main thin film transistor MT includes a gate electrode MGE formed on the lower surface of the semiconductor pattern MSP and source and drain electrodes MSE and MDE arranged at a predetermined interval on the surface of the semiconductor pattern MSP. The gate electrode MGE is formed to protrude from the main gate line MGL. The drain electrode MDE is formed so as to protrude from the data line DL. Further, the first array substrate 10 has a horizontal common voltage line HCL arranged in parallel with the main gate line MGL. The data lines DL and the horizontal common electrodes HCE stretched from the horizontal common voltage line HCL are arranged in each of the pixel regions P by a predetermined number. In addition, a predetermined number of pixel electrodes PXE are arranged in each of the pixel regions P. [ The pixel electrodes PXE are formed in parallel with the data lines DL, like the horizontal common electrodes HCE. A predetermined number of pixel electrodes PXE and horizontal common electrodes HCE included in each pixel region P are alternately arranged. In addition, the pixel electrodes PXE and the horizontal common electrodes HCE may be formed in various shapes such as a jig jig shape or a boomerang shape instead of a rod shape. The pixel electrode PXE on each pixel region P is electrically connected to the source electrode MSE of the corresponding main thin film transistor MT via the contact MCT.

도 4b에 도시된 제2 어레이 기판(20)은 서로 교차하게 배치된 수직 공통 전압 라인들(VCL) 및 서브 게이트 라인들(SGL)을 구비한다. 수직 공통 전압 라인들(VCE)은 제1 어레이 기판(10) 상의 데이터 라인들(DL)과 대응되는 위치에 배치되고, 서브 게이트 라인들(SGL)도 제1 어레이 기판(10) 상의 메인 게이트 라인들(MGL)과 대응되는 위치에 배치된다. 이들 수직 공통 전압 라인들(VCE) 및 서브 게이트 라인들(SGL)에 의하여 제2 어레이 기판(20)이 매트릭스 형태의 다수의 화소 영역들(P)로 구분된다. 대응하는 수직 공통 전압 라인(VCE) 및 대응하는 서브 게이트 라인(SGL)의 교차 부분 근처에는 서브 박막 트랜지스터(ST)가 배치된다. 서브 박막 트랜지스터(ST)는, 반도체 패턴(SSP)의 하면에 형성된 게이트 전극(SGE)과, 반도체 패턴(SSP) 표면에 일정 간격 이격되게 배열된 소스 및 드레인 전극(SSE,SDE)을 구비한다. 서브 박막 트랜지스터(ST)의 게이트 전극(SGE)은 서브 게이트 라인(SGL)으로부터 돌출되게 형성된다. 서브 박막 트랜지스터(ST)의 드레인 전극(SDE)은 수직 공통 전압 라인(VCL)으로부터 돌출되게 형성된다. 또한, 제2 어레이 기판(20)은 화소 영역들(P) 각각에 배치된 수직 공통 전극(VCE)을 구비한다. 수직 공통 전극(VCE)은 서브 박막 트랜지스터(ST)의 일부 점유 영역을 제외한 나머지 화소 영역(P)을 점유하게 형성된다. 수직 공통 전극(VCE)은 콘택(SCT)을 경유하여 대응하는 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)에 전기적으로 연결된다.The second array substrate 20 shown in FIG. 4B has vertical common voltage lines VCL and subgate lines SGL arranged crossing each other. The vertical common voltage lines VCE are arranged at positions corresponding to the data lines DL on the first array substrate 10 and the subgate lines SGL are also arranged on the main gate lines 10 on the first array substrate 10. [ (MGL). The second array substrate 20 is divided into a plurality of pixel regions P in the form of a matrix by the vertical common voltage lines VCE and the sub gate lines SGL. The sub-thin film transistor ST is disposed in the vicinity of the intersection of the corresponding vertical common voltage line VCE and the corresponding sub-gate line SGL. The sub-film transistor ST includes a gate electrode SGE formed on the lower surface of the semiconductor pattern SSP and source and drain electrodes SSE and SDE arranged on the surface of the semiconductor pattern SSP at a predetermined interval. The gate electrode SGE of the sub-thin film transistor ST is formed so as to protrude from the sub-gate line SGL. The drain electrode SDE of the sub-thin film transistor ST is formed so as to protrude from the vertical common voltage line VCL. Further, the second array substrate 20 has a vertical common electrode (VCE) arranged in each of the pixel regions (P). The vertical common electrode VCE is formed to occupy the remaining pixel region P except for a partial occupied region of the sub-thin film transistor ST. The vertical common electrode VCE is electrically connected to the source electrode SSE of the corresponding sub-thin film transistor ST via the contact SCT.

도 5는 일 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널의 단면 구조를 설명하는 도면이다. 도 5는 도 4의 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)을 Ⅰ-Ⅰ' 선을 따라 절단한 단면을 도시하는 단면도이다. 도 5의 액정 패널은 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 사이에 주입된 액정 물질 층(30)을 구비한다.5 is a view for explaining a cross-sectional structure of a liquid crystal panel of a fast response speed according to an embodiment. 5 is a cross-sectional view showing a cross section taken along the line I-I 'of the first and second array substrates 10 and 20 of FIG. The liquid crystal panel of FIG. 5 has a liquid crystal material layer 30 injected between the first and second array substrates 10 and 20.

제1 어레이 기판(10)은 제1 투명 기판(12) 상에 형성된 게이트 전극(MGE) 및 수평 공통 전극(HCE)을 구비한다. 제1 투명 기판(12)은 광 투과율이 좋은 절연 물질로 된 플라스틱 필름 및 유리 기판 중 어느 하나가 사용될 수 있다. 게이트 전극(MGE)은 도시되지 않은 메인 게이트 라인(MGL)에 연결됨은 물론 그 메인 게이트 라인(MGL)과 동시에 형성된다. 수평 공통 전극(HCE)은 도시되지 않은 수평 공통 전압 라인(HCL)에 연결됨은 물론 리프트-오프 공정을 통하여 수평 공통 전압 라인(HCL)과 동시에 그리고 메인 게이트 라인(MGL) 및 게이트 전극(MGE)과 같은 층에 형성된다. 실제로, 게이트 전극(MGE) 및 메인 게이트 라인(MGL)은, 제1 투명 기판(12) 상에 Cu, Al, AlNd, Au, Ag 및 Mo 중 어느 하나를 포함하는 도전 물질 층을 증착하고 그 증착된 도전 물질을 패터닝 함에 의하여, 형성된다. 이어서, 게이트 전극(MGE) 및 메인 게이트 라인(MGL)이 형성된 제1 투명 기판(12) 상에 포토 레지스트 패턴(도시하지 않음)이 형성된다. 포토 레지스트 패턴은 수평 공통 전극(HCE) 및 수평 공통 전압 라인(HCL)이 형성될 제1 투명 기판(12)의 표면을 노출시킨다. 포토 레지스트 패턴 및 제1 투명 기판(12)의 노출 표면에는 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide, ITO) 및 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide, IZO)와 같은 투명 도전 물질(도시하지 않음)이 증착된다. 포트 레지스트 패턴 상의 투명 도전 물질이 세정 공정에 통하여 포토 레지스트 패턴과 함께 제거된다. 이에 따라, 수평 공통 전극(HCE) 및 수평 공통 전압 라인(HCL)이 게이트 전극(MGE) 및 메인 게이트 라인(MGL)과 동일한 층에 형성된다. 이들 게이트 전극(MGE), 메인 게이트 라인(MGL), 수평 공통 전극(HCE) 및 수평 공통 전압 라인(HCL)이 형성된 제1 투명 기판(12)의 전면에는, 절연막(14)이 동일한 두께로 형성된다. 절연막(14)은, 산화 실리콘 또는 질화 실리콘과 같은 절연 물질이 제1 투명 기판(12)의 전면에 도포 됨에 의하여, 형성된다.The first array substrate 10 has a gate electrode MGE and a horizontal common electrode HCE formed on the first transparent substrate 12. The first transparent substrate 12 may be any one of a plastic film and a glass substrate made of an insulating material having a high light transmittance. The gate electrode MGE is connected to the main gate line MGL (not shown) and formed simultaneously with the main gate line MGL. The horizontal common electrode HCE is connected to the horizontal common voltage line HCL not shown and simultaneously connected to the horizontal common voltage line HCL through the lift-off process and to the main gate line MGL and the gate electrode MGE, Are formed on the same layer. Actually, the gate electrode MGE and the main gate line MGL are formed by depositing a conductive material layer containing any one of Cu, Al, AlNd, Au, Ag and Mo on the first transparent substrate 12, By patterning the resulting conductive material. Next, a photoresist pattern (not shown) is formed on the first transparent substrate 12 on which the gate electrode MGE and the main gate line MGL are formed. The photoresist pattern exposes the surface of the first transparent substrate 12 on which the horizontal common electrode HCE and the horizontal common voltage line HCL are to be formed. A transparent conductive material (not shown) such as indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO) is deposited on the exposed surface of the photoresist pattern and the first transparent substrate 12. The transparent conductive material on the photoresist pattern is removed together with the photoresist pattern through the cleaning process. Thus, the horizontal common electrode HCE and the horizontal common voltage line HCL are formed in the same layer as the gate electrode MGE and the main gate line MGL. An insulating film 14 is formed on the entire surface of the first transparent substrate 12 on which the gate electrode MGE, the main gate line MGL, the horizontal common electrode HCE and the horizontal common voltage line HCL are formed do. The insulating film 14 is formed by applying an insulating material such as silicon oxide or silicon nitride to the entire surface of the first transparent substrate 12.

제1 어레이 기판(10)은 절연막(14) 상에 위치한 반도체 물질 패턴(MSP) 및 데이터 라인(DL)과 그리고 반도체 물질 패턴(MSP) 상에 일정 간격 이격되게 배치된 드레인 및 소스 전극(MDE,MSE)을 구비한다. 드레인 및 소스 전극(MDE,MSE)은, 반도체 물질 패턴(MSP) 및 게이트 전극(MGE)과 함께 메인 박막 트랜지스터(MT)를 구성한다. 반도체 물질 패턴(MSP)은 게이트 전극(MGE)의 상부에 위치하게 절연막(14) 상에 형성된다. 드레인 전극(MDE)은, 절연막(14) 상의 데이터 라인(DL)과 연결됨은 물론 소스 전극(MSE) 및 데이터 라인(DL)과 동시에 형성된다. 반도체 물질 패턴(MSP)은, 반도체 물질이 절연막(14)의 전면에 증착되고 그 증착된 반도체 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 됨에 의하여, 형성될 것이다. 반도체 물질 패턴(MSP)을 가지는 절연막(14)의 전면에는, Cu, Al, AlNd, Au, Ag 및 Mo 중 어는 하나를 포함하는 도전 물질 층이 증착된다. 절연막(14) 상의 도전 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 됨에 의하여, 반도체 물질 패턴(MSP) 상에 일정 간격 이격되게 배치된 드레인 및 소스 전극들(MDE,MSE), 및 드레인 전극(MDE)과 일체화된 데이터 라인(DL)이 형성된다.The first array substrate 10 includes drain and source electrodes MDE and MSD disposed on the insulating film 14 and spaced apart from the semiconductor material pattern MSP and the data line DL and on the semiconductor material pattern MSP, MSE). The drain and source electrodes MDE and MSE constitute the main thin film transistor MT together with the semiconductor material pattern MSP and the gate electrode MGE. A semiconductor material pattern MSP is formed on the insulating film 14 at a position above the gate electrode MGE. The drain electrode MDE is formed simultaneously with the source electrode MSE and the data line DL as well as connected to the data line DL on the insulating film 14. [ The semiconductor material pattern MSP will be formed as the semiconductor material is deposited on the front side of the insulating film 14 and the deposited semiconductor material layer is patterned through the lithographic printing process. A conductive material layer including one of Cu, Al, AlNd, Au, Ag, and Mo is deposited on the front surface of the insulating film 14 having the semiconductor material pattern MSP. The drain and source electrodes MDE and MSE and the drain electrode MDE, which are spaced apart from each other on the semiconductor material pattern MSP by patterning the conductive material layer on the insulating film 14 through the lithographic printing process, A data line DL is formed.

제1 어레이 기판(10)은, 메인 박막 트랜지스터(MT)를 가지는 제1 투명 기판(12)의 전면에 형성된 보호층(16)과 그 보호층(16) 상에 배치된 화소 전극들(PXE)을 추가로 구비한다. 화소 전극들은(PXE), 각 화소 영역(P) 내에서 서로로 전기적으로 연결되는 반면 다른 화소 영역의 화소 전극들과는 전기적으로 분리되게끔, 형성된다. 각 화소 영역(P) 내의 화소 전극들(PXE)은, 보호층(16)을 관통하는 콘택(MCT)에 의하여, 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)과 전기적으로 연결된다. 보호층(16)은, 질화 실리콘 또는 산화 실리콘과 같은 절연 물질의 도포 공정을 통하여, 평탄한 표면을 가지게끔 형성된다. 보호층(16)에는, 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)의 일부를 노출시키는 콘택 홀이 형성된다. 콘택 홀은, 석판 인쇄 공정에 통해 보호층(16)이 부분적으로 제거됨에 의하여, 형성된다. 다음으로, 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)의 일부를 노출시키는 보호층(16)의 전면에는, ITO 또는 IZO와 같은 투명한 도전 물질이 증착된다. 이 때, 투명 도전 물질이 콘택 홀에 매립되어, 콘택(MCT)이 형성된다. 보호층(16) 상의 투명 도전 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 되어, 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)과 전기적으로 연결됨과 아울러 하부의 수평 공통 전극들(HCE)과 교번 배열되는 화소 전극들(PXE)이 형성되게 한다. 화소 전극들(PXE)은, 화상의 계조 별 광 투과율을 향상시키기 위하여, 수평 공통 전극(HCE)과는 일정한 간격 이격된다. 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE)과의 이격 거리(EGph)는, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 광 투과 특성의 실험을 통하여, 대략 3.0 ~ 5.0㎛ 정도가 적당한 것으로 판명되었다. 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 광 투과율은, 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE)과의 이격 거리(EGph)에 따라, 도 6과 같은 응답 특성을 보이는 것으로 나타났다. 도 6에 있어서, "ED1"은, 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE)과의 이격 거리(EGph)가 3.0㎛일 때, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 광 투과 특성을 나타낸다. "ED2"는, 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE)과의 이격 거리(EGph)가 4.0㎛일 때, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 광 투과 특성을 나타낸다. "ED3"은, 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE)과의 이격 거리(EGph)가 5.0㎛일 때, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 광 투과 특성을 나타낸다. 도 6에서 알 수 있듯이, 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE)과의 이격 거리(EGph)가 대략 4.0㎛ 정도일 때, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 광 투과 특성이 가장 좋다. 따라서, 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE)과의 이격 거리(EGph)가 대략 4.0㎛ 정도를 유지할 수 있도록, 보호층(16)이 대략 4.0㎛ 정도의 두께로 형성되게 하는 것이 가 장 바람직하다.The first array substrate 10 includes a protective layer 16 formed on the entire surface of a first transparent substrate 12 having a main thin film transistor MT and pixel electrodes PXE disposed on the protective layer 16. [ Respectively. The pixel electrodes PXE are electrically connected to each other in each pixel region P while being electrically isolated from the pixel electrodes in the other pixel region. The pixel electrodes PXE in each pixel region P are electrically connected to the source electrode MSE of the main thin film transistor MT by the contact MCT penetrating the protective layer 16. [ The protective layer 16 is formed to have a flat surface through an application process of an insulating material such as silicon nitride or silicon oxide. The protective layer 16 is provided with a contact hole exposing a part of the source electrode MSE of the main thin film transistor MT. The contact hole is formed by partially removing the protective layer 16 through the lithographic printing process. Next, a transparent conductive material such as ITO or IZO is deposited on the entire surface of the protective layer 16 that exposes a part of the source electrode MSE of the main thin film transistor MT. At this time, the transparent conductive material is embedded in the contact hole, and the contact (MCT) is formed. The transparent conductive material layer on the passivation layer 16 is patterned through the lithographic printing process to be electrically connected to the source electrode MSE of the main thin film transistor MT and to the lower horizontal common electrodes HCE, So that the pixel electrodes PXE are formed. The pixel electrodes PXE are spaced apart from the horizontal common electrode HCE by a predetermined distance in order to improve the light transmittance according to the gradation of the image. The distance EGph between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE is determined to be about 3.0 to 5.0 mu m by the experiment of the light transmission characteristic for the pixel driving signal Vpds at the back level . The light transmittance with respect to the pixel driving signal Vpds of the back level has a response characteristic as shown in Fig. 6 according to the separation distance EGph between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE. 6, "ED1" indicates the light transmission characteristic with respect to the pixel driving signal Vpds at the back level when the distance EGph between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE is 3.0 mu m . "ED2" represents the light transmission characteristic for the pixel driving signal Vpds of the back level when the distance EGph between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE is 4.0 μm. "ED3" represents the light transmission characteristic for the pixel driving signal Vpds of the back level when the distance EGph between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE is 5.0 μm. 6, when the distance EGph between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE is about 4.0 m, the light transmission characteristic with respect to the pixel driving signal Vpds of the back level is the best . It is therefore desirable that the protective layer 16 be formed to have a thickness of approximately 4.0 탆 so that the distance EGph between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE can be maintained to approximately 4.0 탆 or so desirable.

상기한 제1 어레이 기판(10)은 게이트 전극(MGE) 및 메인 게이트 라인(MGL)과 제1 투명 기판(12) 사이에 위치하는 칼라 필터 층(도시하지 않은)을 추가로 구비할 수 있다. 칼라 필터 층에는 교번-배열되는 적색, 녹색 및 청색의 필터들이 포함된다. 적색, 녹색 및 청색 필터들 각각은 화소 영역에 상응하는 크기로 형성된다. 나아가, 제1 어레이 기판(10)은 게이트 전극(MGE) 및 메인 게이트 라인(MGL)과 제1 투명 기판(12) 사이에 위치함과 아울러 칼라 필터들을 격리시키는 블랙 매트릭스(도시하지 않음)를 추가로 구비할 수 있다. 블랙 매트릭스는 칼라 필터들의 가장자리에서 발생될 수 있는 색 간섭을 방지한다.The first array substrate 10 may further include a color filter layer (not shown) positioned between the gate electrode MGE and the main gate line MGL and the first transparent substrate 12. The color filter layers include alternating red, green, and blue filters. Each of the red, green, and blue filters is formed to have a size corresponding to the pixel region. Further, the first array substrate 10 is positioned between the gate electrode MGE and the main gate line MGL and the first transparent substrate 12, and a black matrix (not shown) for isolating the color filters is added As shown in FIG. The black matrix prevents color interference that may occur at the edges of the color filters.

제2 어레이 기판(20)은, 제2 투명 기판(22) 상에 형성된 게이트 전극(SGE)을 구비한다. 제2 투명 기판(22)으로는, 제1 투명 기판(12)과 마찬가지로, 광 투과율이 좋은 절연 물질로 된 플라스틱 필름 및 유리 기판 중 어느 하나가 사용될 수 있다. 게이트 전극(SGE)은 도시되지 않은 서브 게이트 라인(SGL)에 연결됨은 물론 그 서브 게이트 라인(SGL)과 동시에 형성된다. 게이트 전극(SGE) 및 서브 게이트 라인(SGL)은, 제2 투명 기판(22) 상에 Cu, Al, AlNd, Au, Ag 및 Mo 중 어느 하나를 포함하는 도전 물질이 증착되고 그 증착된 도전 물질이 패터닝 됨에 의하여, 일체화된 형태로 형성된다. 게이트 전극(SGE) 및 서브 게이트 라인(SGL)이 형성된 제2 투명 기판(22)의 전면에는, 절연막(24)이 동일한 두께를 가지게 형성된다. 이 절연막(24)은, 산화 실리콘 또는 질화 실리콘과 같은 절연 물질이 제2 투명 기판(12)의 전면에 도포 됨에 의하여, 균일한 두께로 형성된다.The second array substrate 20 has a gate electrode SGE formed on the second transparent substrate 22. As the second transparent substrate 22, any one of a plastic film and a glass substrate made of an insulating material having a high light transmittance may be used, like the first transparent substrate 12. The gate electrode SGE is formed at the same time as the subgate line SGL, not shown, as well as the subgate line SGL. The gate electrode SGE and the subgate line SGL are formed by depositing a conductive material containing any one of Cu, Al, AlNd, Au, Ag and Mo on the second transparent substrate 22, Are formed in an integrated form by patterning. The insulating film 24 is formed to have the same thickness on the entire surface of the second transparent substrate 22 on which the gate electrode SGE and the subgate line SGL are formed. The insulating film 24 is formed to have a uniform thickness by applying an insulating material such as silicon oxide or silicon nitride to the entire surface of the second transparent substrate 12.

제2 어레이 기판(20)은 절연막(24) 상에 위치한 반도체 물질 패턴(SSP) 및 수직 공통 전압 라인(VCL)과 그리고 반도체 물질 패턴(SSP) 상에 일정 간격 이격되게 배치된 드레인 및 소스 전극들(SDE,SSE)을 구비한다. 이들 드레인 및 소스 전극들(SDE,SSE)은, 반도체 물질 패턴(SSP) 및 게이트 전극(SGE)과 함께 서브 박막 트랜지스터(ST)를 구성한다. 반도체 물질 패턴(SSP)은 게이트 전극(SGE)의 상부에 위치하게 절연막(24) 상에 형성된다. 드레인 전극(SDE)은, 절연막(24) 상의 수직 공통 전압 라인(VCL)과 연결됨은 물론 소스 전극(SSE) 및 수직 공통 전압 라인(VCL)과 동시에 형성된다. 반도체 물질 패턴(SSP)은, 반도체 물질이 절연막(24)의 전면에 증착되고 그 증착된 반도체 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 됨에 의하여, 형성될 것이다. 이어서, 반도체 물질 패턴(SSP)을 가지는 절연막(24)의 전면에는, Cu, Al, AlNd, Au, Ag 및 Mo 중 어느 하나를 포함하는 도전 물질 층이 증착된다. 절연막(24) 상의 도전 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 됨에 의하여, 반도체 물질 패턴(MSP) 상에 일정 간격 이격되게 배치된 드레인 및 소스 전극들(SDE,SSE) 그리고 드레인 전극(SDE)과 일체화된 수직 공통 전압 라인(VCL)이 형성된다.The second array substrate 20 includes a semiconductor material pattern SSP and a vertical common voltage line VCL disposed on the insulating film 24 and drain and source electrodes (SDE, SSE). These drain and source electrodes SDE and SSE constitute a sub-film transistor ST together with a semiconductor material pattern SSP and a gate electrode SGE. A semiconductor material pattern SSP is formed on the insulating film 24 at a position above the gate electrode SGE. The drain electrode SDE is formed simultaneously with the source electrode SSE and the vertical common voltage line VCL in addition to being connected to the vertical common voltage line VCL on the insulating film 24. [ The semiconductor material pattern (SSP) will be formed by depositing a semiconductor material on the entire surface of the insulating film 24 and patterning the deposited semiconductor material layer through a lithographic printing process. Then, a conductive material layer containing any one of Cu, Al, AlNd, Au, Ag and Mo is deposited on the front surface of the insulating film 24 having the semiconductor material pattern SSP. The drain and source electrodes SDE and SSE and the drain electrode SDE are arranged at a predetermined interval on the semiconductor material pattern MSP by patterning the conductive material layer on the insulating film 24 through the lithographic printing process, An integrated vertical common voltage line VCL is formed.

제2 어레이 기판(20)은, 서브 박막 트랜지스터(ST)를 가지는 제2 투명 기판(22)의 전면에 형성된 오버 코팅 층(26)과 그 오버 코팅 층(26) 상에 배치된 수직 공통 전극(VCE)을 추가로 구비한다. 수직 공통 전극(VCE)은 서브 박막 트랜지스터(ST)의 점유 영역의 일부를 제외한 나머지 화소 영역(P)을 점유하게 형성된다. 수직 공통 전극(VCE)은 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)의 일부와 중첩 되게 형성된다. 이러한 수직 공통 전극(VCE)은, 오버 코팅 층(26)을 관통하는 콘택(SCT)에 의하여, 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)과 전기적으로 연결된다. 오버 코팅 층(26)은, 질화 실리콘 또는 산화 실리콘과 같은 절연 물질이 도포 공정을 통해 서브 박막 트랜지스터(ST)를 가지는 절연막(24)의 전면에 도포 됨에 의하여, 평탄한 표면을 가지게끔 형성된다. 오버 코팅 층(26)에는, 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)의 일부를 노출시키는 콘택 홀이 형성된다. 콘택 홀은, 석판 인쇄 공정에 통해 오버 코팅 층(26)이 부분적으로 제거됨에 의하여, 형성된다. 다음으로, 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)의 일부를 노출시키는 오버 코팅 층(26)의 전면에는, ITO 또는 IZO와 같은 투명한 도전 물질이 증착된다. 이때, 투명 도전 물질이 콘택 홀에 매립되어, 콘택(SCT)이 형성될 것이다. 오버 코팅 층(26) 상의 투명 도전 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 되어, 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)과 전기적으로 연결되게 한다.The second array substrate 20 includes an overcoat layer 26 formed on the entire surface of the second transparent substrate 22 having the sub-thin film transistor ST and a vertical common electrode VCE). The vertical common electrode VCE is formed to occupy the remaining pixel region P except for a part of the occupied region of the sub-thin film transistor ST. The vertical common electrode VCE is formed so as to overlap with a part of the source electrode SSE of the sub-thin film transistor ST. This vertical common electrode VCE is electrically connected to the source electrode SSE of the sub-thin film transistor ST by the contact SCT passing through the overcoat layer 26. [ The overcoat layer 26 is formed so that an insulating material such as silicon nitride or silicon oxide is applied to the entire surface of the insulating film 24 having the sub-thin film transistor ST through a coating process to have a flat surface. In the overcoat layer 26, a contact hole exposing a part of the source electrode SSE of the sub-thin film transistor ST is formed. The contact holes are formed by the partial removal of the overcoat layer 26 through the lithographic process. Next, a transparent conductive material such as ITO or IZO is deposited on the entire surface of the overcoat layer 26 exposing a part of the source electrode SSE of the sub-thin film transistor ST. At this time, the transparent conductive material is embedded in the contact hole, and the contact (SCT) will be formed. A layer of a transparent conductive material on the overcoat layer 26 is patterned through a lithographic process to electrically connect to the source electrode SSE of the sub-thin film transistor ST.

상기한 제2 어레이 기판(20)은 게이트 전극(SGE) 및 서브 게이트 라인(SGL)과 제2 투명 기판(22) 사이에 위치하는 칼라 필터 층(도시하지 않은)을 추가로 구비할 수 있다. 칼라 필터 층에는 교번-배열되는 적색, 녹색 및 청색의 필터들이 포함된다. 적색, 녹색 및 청색 필터들 각각은 화소 영역에 상응하는 크기로 형성된다. 나아가, 제2 어레이 기판(20)은 게이트 전극(SGE) 및 서브 게이트 라인(SGL)과 제2 투명 기판(22) 사이에 위치함과 아울러 칼라 필터들을 격리시키는 블랙 매트릭스(도시하지 않음)를 추가로 구비할 수 있다. 블랙 매트릭스는 칼라 필터들의 가장자리에서 발생 될 수 있는 색 간섭을 방지한다.The second array substrate 20 may further include a color filter layer (not shown) positioned between the gate electrode SGE and the sub gate line SGL and the second transparent substrate 22. The color filter layers include alternating red, green, and blue filters. Each of the red, green, and blue filters is formed to have a size corresponding to the pixel region. Further, the second array substrate 20 is positioned between the gate electrode SGE and the sub gate line SGL and the second transparent substrate 22, and a black matrix (not shown) for isolating the color filters is added As shown in FIG. The black matrix prevents color interference that may occur at the edges of the color filters.

제1 및 제2 어레이 기판(10,20)은, 밀봉 물질(도시하지 않음)에 의하여, 화소 전극(PXE) 및 수직 공통 전극(VCE)이 서로 대향하게끔, 합착된다. 밀봉 물질은 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)을 이격시켜 액정 물질의 주입 공간이 확보되게 한다. 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(즉, 화소 전극(PXE)과 수직 공통 전극(VCE)의 이격 거리, EPss)는, 화소 전극(PXE)에 공급되는 화소 구동 신호(Vpds)에 의해 액정 화소가 효과적으로 구동될 수 있도록 적절하게 설정되어야 한다. 액정 화소의 효과적인 구동을 위한 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)는, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 액정 셀(CLC)의 광 투과 특성의 실험을 통하여, 대략 3.0 ~ 5.0㎛ 정도가 적용 가능한 것으로 판명되었다. 실제로, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 사이에 0.11의 굴절률 이방성 값을 가지는 액정 물질을 주입하고 화소 전극(PXE)에 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)를 공급한 경우, 액정 화소의 광 투과율은 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)에 따라 도 7과 같은 응답 특성을 보이는 것으로 나타났다. 도 7에 있어서, "SD1"은, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 3.4㎛일 때, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 액정 화소의 광 투과 특성을 나타낸다. "SD2"는, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 4.0㎛일 때, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 액정 화소의 광 투과 특성을 나타낸다. "SD3"은, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 5.0㎛일 때, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 액정 화소의 광 투과 특성을 나타낸다. 도 7에서 알 수 있듯이, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 대략 3.4 내지 4.0 ㎛ 정도일 때, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 액정 화소의 광 투과 특성이 선형에 가까운 형태로 변하는 것으로 나타났다. 이러한 관점에서, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 대략 3.4 내지 4.0㎛ 정도를 유지할 수 있도록, 밀봉 물질은 대략 3.4 내지 4.0㎛ 정도의 높이(또는 두께)로 형성될 수 있다.The first and second array substrates 10 and 20 are bonded together by a sealing material (not shown) such that the pixel electrode PXE and the vertical common electrode VCE face each other. The sealing material separates the first and second array substrates 10 and 20 from each other to secure a space for injecting the liquid crystal material. The distance between the first and second array substrates 10 and 20 (i.e., the distance between the pixel electrode PXE and the vertical common electrode VCE, EPss) Vpds), so that the liquid crystal pixel can be effectively driven. The spacing distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 for effective driving of the liquid crystal pixel is determined by experimenting the light transmission characteristics of the liquid crystal cell CLC with respect to the pixel driving signal Vpds of the back level It has been found that approximately 3.0 to 5.0 mu m or so can be applied. Actually, when a liquid crystal material having an anisotropy of refractive index of 0.11 is injected between the first and second array substrates 10 and 20 and a back-level pixel driving signal Vpds is supplied to the pixel electrode PXE, The light transmittance of the first array substrate 10 and the second array substrate 20 is shown as shown in FIG. 7 depending on the distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20. 7, "SD1" indicates the light transmittance of the liquid crystal pixel with respect to the pixel driving signal Vpds of the back level when the distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 is 3.4 m Lt; / RTI > "SD2" represents the light transmission characteristic of the liquid crystal pixel with respect to the pixel driving signal Vpds of the back level when the separation distance EGss between the first and second array substrates 10, 20 is 4.0 μm. "SD3" represents the light transmission characteristic of the liquid crystal pixel with respect to the pixel driving signal Vpds of the back level when the separation distance EGss between the first and second array substrates 10, 20 is 5.0 μm. 7, when the distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 is approximately 3.4 to 4.0 mu m, the light transmission of the liquid crystal pixel to the pixel driving signal Vpds of the back level The characteristics are changed to a form close to linear. In view of this, the sealing material may have a height (or thickness) of about 3.4 to 4.0 mu m so that the separation distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 can be maintained at about 3.4 to 4.0 mu m or so .

액정 화소의 최대 투과율과 관련하여, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(EGss)와 액정 물질의 굴절율 이방성 값은 상반된 특성을 가진다. 실제로, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 길어지는 경우, 액정 물질이 낮은 굴절율 이방성 값을 가져야만 액정 화소의 높은 투과율이 얻어진다. 반대로, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 짧아진 경우에는, 액정 물질이 높은 굴절율 이방성 값을 가져야만 액정 화소의 높은 투과율이 얻어진다. 이에 더하여, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(EGss)와 액정 물질의 굴절율 이방성 값은 액정 화소의 광 지연량(Retardation)이 가능한 작아지게 설정되어야 한다. 액정 화소의 광 지연량은, 액정 물질의 굴절율 이방성 값에 대한 액정 화소의 최대 투과율 특성 실험을 통하여, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(EGss)에 따른 액정 물질의 적절한 굴절율 이방성 값과 함께 측정될 수 있다. 이러한 실험에 의하여, 액정 화소의 광 지연량은 380㎚~440㎚이 적용 가능한 것으로 측정되었다.With respect to the maximum transmittance of the liquid crystal pixel, the distance (EGss) between the first and second array substrates 10 and 20 and the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material have opposite characteristics. In practice, when the distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 is long, a high transmittance of the liquid crystal pixel is obtained only when the liquid crystal material has a low refractive index anisotropy value. On the contrary, when the spacing distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 is short, a high transmittance of the liquid crystal pixel can be obtained only when the liquid crystal material has a high refractive index anisotropy value. In addition, the spacing distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 and the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material should be set as small as possible to allow the optical delay of the liquid crystal pixel to be retarded. The amount of optical delay of the liquid crystal pixel is determined by measuring the maximum transmittance characteristic of the liquid crystal pixel with respect to the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material by appropriately selecting the appropriate amount of liquid crystal material according to the separation distance EGss between the first and second array substrates 10, Can be measured together with the refractive index anisotropy value. By this experiment, the optical delay of the liquid crystal pixel was measured to be 380 nm to 440 nm.

도 8은 액정 물질의 굴절율 이방성 값에 대한 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(EGss) 별 액정 화소의 최대 투과율 특성을 설명한다. 도 8 에 있어서, "RA1"은, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 3.4㎛일 때, 액정 물질의 굴절율 이방성 값에 대한 액정 화소의 최대 투과율을 나타낸다. "RA2"는, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 4.0㎛일 때, 액정 물질의 굴절율 이방성 값에 대한 액정 화소의 최대 투과율을 나타낸다. "RA3"는, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 4.5㎛일 때, 액정 물질의 굴절율 이방성 값에 대한 액정 화소의 최대 투과율을 나타낸다. "RA4"는, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 5.0㎛일 때, 액정 물질의 굴절율 이방성 값에 대한 액정 화소의 최대 투과율을 나타낸다. 도 8에서 알 수 있듯이, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 3.4㎛ 일 경우에 적합한 액정 물질의 굴절율 이방성 값은 0.12이고, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20) 간의 이격 거리(EGss)가 4.0㎛, 4.5㎛ 및 5.0㎛로 길어짐에 따라 적절한 액정 물질의 굴절율 이방성 값은 0.10, 0.05 및 0.08로 낮아진다. 다음으로, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(EGss) 별로 적절한 굴절율 이방성 값의 액정 물질을 포함하는 액정 화소에서의 광 지연량은, 3.4㎛, 40㎛, 4.5㎛ 및 50㎛의 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리들 각각에서 408㎚, 400㎚, 405㎚ 및 400㎚인 것으로 측정되었다.8 illustrates the maximum transmittance characteristics of the liquid crystal pixels by the distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 with respect to the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material. 8, "RA1" represents the maximum transmittance of the liquid crystal pixel with respect to the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material when the spacing distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 is 3.4 m. "RA2" represents the maximum transmittance of the liquid crystal pixel with respect to the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material when the separation distance EGss between the first and second array substrates 10, 20 is 4.0 μm. "RA3" represents the maximum transmittance of the liquid crystal pixel with respect to the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material when the separation distance EGss between the first and second array substrates 10, 20 is 4.5 μm. "RA4" represents the maximum transmittance of the liquid crystal pixel with respect to the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material when the distance EGss between the first and second array substrates 10, 20 is 5.0 μm. 8, when the distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 is 3.4 μm, the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material is 0.12, and the first and second array substrates 10, 20) becomes 4.0 탆, 4.5 탆 and 5.0 탆, the refractive index anisotropy values of a suitable liquid crystal material are lowered to 0.10, 0.05 and 0.08. Next, the amount of optical delay in the liquid crystal pixel including the liquid crystal material having the refractive index anisotropic value appropriate for the separation distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 is 3.4 μm, 40 μm, 400 nm, 405 nm and 400 nm at the distance between the first and second array substrates 10 and 20 of 50 m, respectively.

나아가, 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널에서는, 흑 레벨 표시 시의 빛샘을 최소화하기 위하여, 수직 공통 전극(VCE)과 수평 공통 전극(HCE) 간의 적절한 전위 차가 설정하여야 한다. 이를 위하여, 수직 공통 전극(VCE)와 수평 공통 전극(HCE) 간의 전위 차에 따른 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거 리(EGss) 별 광 투과율을 측정 실험을 통하여, 빛샘의 최소화를 가능케 하는 수직 공통 전극(VCE)과 수평 공통 전극(HCE) 간의 인가될 전압이 얻어질 수 있다. 실제로, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(EPss)가 3.4㎛임과 아울러 액정 물질의 굴절율 이방성 값이 0.12로 설정한 상태에서, 수직 공통 전극(VCE)과 수평 공통 전극(HCE) 사이의 전압을 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)의 전압보다 높은 영역에서 가변시키면서 액정 화소의 광 투과량을 측정하였다. 이 흑 레벨 표시 시의 액정 화소의 광 투과량은, 도 9에서와 같이, 8.5V의 전압이 수직 공통 전극(VCE)과 수평 공통 전극(HCE) 사이에 공급될 때, 최소가 되었다. 이러한 형태로, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(EPss)가 4.0㎛임과 아울러 액정 물질의 굴절율 이방성 값이 0.10인 경우의 액정 화소의 광 투과량은, 9.0V의 전압이 수직 및 수평 공통 전극(VCE,HCE) 사이에 공급될 때에 최소가 되는 것으로 측정되었다. 또한, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(EPss)가 4.5㎛ 및 5.0㎛ 그리고 액정 물질의 굴절율 이방성 값이 0.09 및 0.08인 경우의 액정 화소의 광 투과량들은, 모두 8.5V의 전압이 수직 및 수평 공통 전극(VCE,HCE) 사이에 공급될 때에 최소가 되는 것으로 측정되었다.In addition, in the liquid crystal panel of the fast response speed according to the embodiment, a proper potential difference between the vertical common electrode (VCE) and the horizontal common electrode (HCE) should be set in order to minimize light leakage at the time of black level display. For this purpose, the light transmittance of each of the first and second array substrates 10 and 20 according to the difference in potential between the vertical common electrode VCE and the horizontal common electrode HCE was measured. The voltage to be applied between the vertical common electrode (VCE) and the horizontal common electrode (HCE) can be obtained. Actually, in a state where the distance (EPss) between the first and second array substrates 10 and 20 is 3.4 占 퐉 and the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material is set to 0.12, the vertical common electrode VCE and the horizontal common electrode (HCE) is varied in a region higher than the voltage of the back level pixel driving signal (Vpds), the light transmission amount of the liquid crystal pixel is measured. As shown in Fig. 9, the light transmittance of the liquid crystal pixel at the time of black level display becomes minimum when a voltage of 8.5 V is supplied between the vertical common electrode (VCE) and the horizontal common electrode (HCE). In this manner, when the distance (EPss) between the first and second array substrates 10 and 20 is 4.0 占 퐉 and the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material is 0.10, the light transmittance of the liquid crystal pixel is 9.0V Is minimized when supplied between the vertical and horizontal common electrodes (VCE, HCE). The light transmission amounts of the liquid crystal pixels in the case where the distance (EPss) between the first and second array substrates 10 and 20 are 4.5 탆 and 5.0 탆 and the refractive index anisotropy values of the liquid crystal material are 0.09 and 0.08, Was found to be the minimum when the voltage between the vertical and horizontal common electrodes (VCE, HCE) was supplied.

상기의 실험들을 통하여 얻어진 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리(EGss)에 따른 액정 화소의 최대 투과율(LTRmax), 액정 물질의 굴절율 이방성 값(△n), 액정 화소의 광 지연량(△nd) 및 고 전위 수직 공통 전압(Vvcomh)은 표 1과 같이 정리될 수 있다.The maximum transmittance LTRmax of the liquid crystal pixel according to the separation distance EGss between the first and second array substrates 10 and 20 obtained through the above experiments, the refractive index anisotropy value? N of the liquid crystal material, The delay amount? Nd and the high potential vertical common voltage (Vvcomh) can be summarized as shown in Table 1.

EGss (㎛)EGss (占 퐉) LTRmaxLTRmax △nΔn △nd (㎚)Nd (nm) Vvcomh (V)Vvcomh (V) 3.43.4 0.3525620.352562 0.120.12 408408 8.58.5 4.04.0 0.4610570.461057 0.100.10 400400 9.09.0 4.54.5 0.4634810.463481 0.090.09 405405 8.58.5 5.05.0 0.4753670.475367 0.080.08 400400 8.58.5

도 7 및 표 1로부터 알 수 있듯이, 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 광 투과 특성이 좀 더 선형적인 형태로 변하면서도 광 지연량이 가장 작게 할 수 있는 효율적인 액정 패널을 위해서는, 제1 및 제2 어레이 기판(10,20)의 이격 거리가 대략 4.0㎛ 정도 이격되고 대략 0.400㎚ 정도의 광 지연량의 액정 물질이 사용되는 것이 가장 바람직하다. 이를 위하여, 액정 물질의 굴절율 이방성 값과 수직 및 수평 공통 전극(VCE,HCE) 사이의 전압으로도, 대략 0.10 및 대략 9.0V 정도가 가장 바람직하다. 이러한 관점에서, 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널용의 액정 물질로는, 대략 0.0950~0.1050 범위의 굴절율 이방성 값을 가지는 액정 물질이 가장 바람직하다. 따라서, 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널의 액정층(30)은 플로오로(Fluoro) 치환계 액정 물질들 중 어느 하나가 사용되는 것이 바람직하다. 예를 들면, ML-0323, ML-0424, ML-0249 및 ML-0567 등의 액정 물질들 중 어느 하나가 이 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널의 액정층(30)의 구성 물질로 사용될 것이다.As can be seen from FIG. 7 and Table 1, for an efficient liquid crystal panel in which the light transmission characteristic for the back level pixel driving signal Vpds is changed to a more linear form and the optical delay amount can be minimized, It is most preferable that the spacing distance between the second array substrates 10 and 20 is about 4.0 mu m and the liquid crystal material with a light delay amount of about 0.400 nm is used. For this, the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material and the voltage between the vertical and horizontal common electrodes (VCE, HCE) are most preferably about 0.10 and about 9.0V. From this point of view, a liquid crystal material having a refractive index anisotropy value in the range of approximately 0.0950 to 0.1050 is most preferable as the liquid crystal material for a liquid crystal panel of a fast response speed according to the embodiment. Therefore, it is preferable that the liquid crystal layer 30 of the liquid crystal panel of the fast response speed according to the embodiment uses any one of Fluoro substitution liquid crystal materials. For example, any one of the liquid crystal materials such as ML-0323, ML-0424, ML-0249 and ML-0567 may be used as the material of the liquid crystal layer 30 of the liquid crystal panel of the fast response speed according to this embodiment will be.

이렇게 매트릭스 형태로 배열될 액정 화소들은, 개별적으로, 최저 계조(즉, 흑색) 보다 밝은 계조의 표시 시에 화소 전극(PXE) 및 수평 공통 전극(HCE) 간의 수평 전계에 의하여 구동되는 반면에 최저 계조의 표시 시에는 수직 및 수평 공통 전극들(VCE,HCE) 간의 수직 전계에 의하여 구동된다. 다시 말하여, 액정 화소들 각각은 최저 계조 보다 밝은(또는 높은) 계조들 뿐만 아니라 최저 계조의 표시 시에도 전계에 의하여 구동된다. 이에 따라, 일 실시 예에 따른 액정 패널은 화소 구동 신호에 빠른 속도로 응답할 수 있다.The liquid crystal pixels to be arranged in the matrix form in this manner are individually driven by the horizontal electric field between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE during the display of the lighter grayscale than the lowest grayscale (i.e., black) Is driven by the vertical electric field between the vertical and horizontal common electrodes VCE and HCE. In other words, each of the liquid crystal pixels is driven by an electric field not only in the gradations that are brighter (or higher) than the lowest gradation but also in the case of displaying the lowest gradation. Accordingly, the liquid crystal panel according to the embodiment can respond to the pixel driving signal at a high speed.

도 10a 및 도 10b는 다른 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널에 포함된 제1 및 제2 어레이 기판의 평면 구조를 상세하게 설명하는 평면도들이다. 도 10a 및 도 10b가 도 4a 및 도 4b와 마찬가지로 일부 액정 화소들(즉, 3개의 액정 화소들)의 평면 구조만을 도시하나, 본 명세서에 개시된 액정 패널과 관련하여 통상의 지식을 가진 자라면 누구나, 도시된 일부 액정 화소들이 수직 및 수평 방향으로 반복됨에 의하여 매트릭스 형태로 배열된 다수의 액정 화소들이 구현될 수 있다는 것을 쉽게 알 수 있을 것이다.FIGS. 10A and 10B are plan views illustrating details of the planar structure of the first and second array substrates included in the liquid crystal panel of the fast response speed according to another embodiment. Although Figs. 10A and 10B show only the planar structure of some liquid crystal pixels (i.e., three liquid crystal pixels) as in Figs. 4A and 4B, all those skilled in the art with respect to the liquid crystal panel disclosed in this specification , It can be easily understood that a plurality of liquid crystal pixels arranged in a matrix form can be implemented by repeating some of the liquid crystal pixels shown in the vertical and horizontal directions.

도 10a의 제1 어레이 기판(40)은, 콘택(MCT)가 제거된 것을 제외하고는, 도 4a의 제1 어레이 기판(10)과 동일한 평면 구조를 가진다. 도 4a에 도시된 것들과 동일한 기능, 구조 및 배치 상태를 가지는 도 10a의 구성 요소들은 동일한 참조 번호 및 명칭으로 인용될 것이다. 또한, 도 4a에 도시된 것들과 동일한 도 10a의 구성 요소들은 이미 도 4a의 설명을 통하여 명백하게 드러났기 때문에, 그들에 관한 설명은 생략될 것이다.The first array substrate 40 of FIG. 10A has the same planar structure as the first array substrate 10 of FIG. 4A except that the contact (MCT) is removed. The elements of FIG. 10A having the same function, structure and arrangement as those shown in FIG. 4A will be referred to by the same reference numerals and names. In addition, since the elements of FIG. 10A, which are the same as those shown in FIG. 4A, have already been revealed through the description of FIG. 4A, a description thereof will be omitted.

도 10a의 제1 어레이 기판(40)에 있어서, 각 화소 영역(P) 상의 화소 전극들(PXE)은 서로 전기적으로 연결되게 일체화된 형태로 형성된다. 이 화소 전극(PXE)의 일부는 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)의 일부와 중첩된다. 화소 전극(PXE)과 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)의 중첩 부분들은 서로 직접 접촉한다. 이에 따라, 화소 전극(PXE)은, 콘택에 의하지 않으면서도, 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)과 전기적으로 연결된다.In the first array substrate 40 of FIG. 10A, the pixel electrodes PXE on the respective pixel regions P are formed in an integrated form so as to be electrically connected to each other. A part of the pixel electrode PXE overlaps with a part of the source electrode MSE of the main thin film transistor MT. The overlapping portions of the pixel electrode PXE and the source electrode MSE of the main thin film transistor MT are in direct contact with each other. Thus, the pixel electrode PXE is electrically connected to the source electrode MSE of the main thin film transistor MT without depending on the contact.

한편, 도 10b의 제2 어레이 기판(50)도, 콘택(SCT)가 제거된 것을 제외하고는, 도 4b의 제2 어레이 기판(20)과 동일한 평면 구조를 가진다. 도 4b에 도시된 것들과 동일한 기능, 구조 및 배치 상태를 가지는 도 10b의 구성 요소들은 동일한 참조 번호 및 명칭으로 인용될 것이다. 또한, 도 4b에 도시된 것들과 동일한 도 10b의 구성 요소들은 이미 도 4b의 설명을 통하여 명백하게 드러났기 때문에, 그들에 관한 설명은 생략될 것이다.On the other hand, the second array substrate 50 of FIG. 10B has the same planar structure as the second array substrate 20 of FIG. 4B except that the contact (SCT) is removed. The components of FIG. 10B having the same function, structure and arrangement as those shown in FIG. 4B will be referred to by the same reference numerals and names. Further, since the components of Fig. 10B, which are the same as those shown in Fig. 4B, have already been revealed through the description of Fig. 4B, a description thereof will be omitted.

도 10b의 제2 어레이 기판(50)에 있어서, 각 화소 영역(P) 상의 수직 공통 전극(VCE)의 일부는 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)의 일부와 중첩된다. 수직 공통 전극(VCE)과 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)의 중첩 부분들은 서로 직접 접촉한다. 이에 따라, 수직 공통 전극(VCE)은, 콘택에 의하지 않으면서도, 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)과 전기적으로 연결된다.A part of the vertical common electrode VCE on each pixel region P overlaps with a part of the source electrode SSE of the sub-thin film transistor ST in the second array substrate 50 of Fig. 10B. The overlapping portions of the vertical common electrode (VCE) and the source electrode (SSE) of the sub-thin film transistor (ST) are in direct contact with each other. Thus, the vertical common electrode VCE is electrically connected to the source electrode SSE of the sub-thin film transistor ST without depending on the contact.

도 11은 다른 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널의 단면 구조를 설명하는 도면이다. 도 11은 도 10의 제1 및 제2 어레이 기판(40,50)을 Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절단한 단면을 도시하는 단면도이다. 도 11의 액정 패널은 제1 및 제2 어레이 기판(40,50) 사이에 주입된 액정 물질 층(60)을 구비한다.11 is a view for explaining a cross-sectional structure of a liquid crystal panel of a fast response speed according to another embodiment. 11 is a cross-sectional view of the first and second array substrates 40 and 50 taken along line II-II 'in FIG. The liquid crystal panel of Fig. 11 has a liquid crystal material layer 60 injected between the first and second array substrates 40 and 50. Fig.

제1 어레이 기판(40)은 제1 투명 기판(42)상에 순차-형성된 수평 공통 전극들(HCE) 및 층간 절연막(44)을 구비한다. 제1 투명 기판(42)은 광 투과율이 좋은 절연 물질로 된 플라스틱 필름 및 유리 기판 중 어느 하나가 사용될 수 있다. 수평 공통 전극(HCE)은 도시되지 않은 수평 공통 전압 라인(HCL)에 연결됨은 물론 수평 공통 전압 라인(HCL)과 일체화된 형태로 형성된다. 이들 수평 공통 전극(HCE) 및 수평 공통 전압 라인(HCL)은, 제1 투명 기판(42)상에 ITO 또는 IZO와 투명 도전 물질(도시하지 않음)이 증착되고 그 증착된 투명 도전 물질이 석판 인쇄 공정에 통해 패턴닝 됨에 의하여, 일체화된 형태로 형성된다. 수평 공통 전극(HCE) 및 수평 공통 전압 라인(HCL)이 형성된 제1 투명 기판(42)의 전면에는, 층간 절연막(44)이 평탄화 표면을 가지게끔 형성된다. 층간 절연막(44)은, 산화 실리콘 또는 질화 실리콘과 같은 절연 물질이 제1 투명 기판(42)의 전면에 도포 됨에 의하여, 형성된다.The first array substrate 40 has horizontal common electrodes HCE and an interlayer insulating film 44 sequentially formed on the first transparent substrate 42. The first transparent substrate 42 may be formed of a plastic film or a glass substrate made of an insulating material having a high light transmittance. The horizontal common electrode HCE is connected to the horizontal common voltage line HCL (not shown), and is formed in an integrated form with the horizontal common voltage line HCL. The horizontal common electrode HCE and the horizontal common voltage line HCL are formed by depositing ITO or IZO and a transparent conductive material (not shown) on the first transparent substrate 42, And patterned through the process, they are formed into an integrated form. An interlayer insulating film 44 is formed on the entire surface of the first transparent substrate 42 on which the horizontal common electrode HCE and the horizontal common voltage line HCL are formed to have a planarizing surface. The interlayer insulating film 44 is formed by applying an insulating material such as silicon oxide or silicon nitride to the entire surface of the first transparent substrate 42.

제1 어레이 기판(40)은 층간 절연막(44) 상에 형성된 게이트 전극(MGE)을 구비한다. 게이트 전극(MGE)은 도시되지 않은 메인 게이트 라인(MGL)에 연결됨은 물론 그 메인 게이트 라인(MGL)과 동시에 형성된다. 게이트 전극(MGE) 및 메인 게이트 라인(MGL)은, 층간 절연막(44) 상에 Cu, Al, AlNd, Au, Ag 및 Mo 중 어느 하나를 포함하는 도전 물질이 증착되고 그 증착된 도전 물질이 석판 인쇄 공정을 통해 패터닝 됨에 의하여, 형성된다. 이들 게이트 전극(MGE) 및 메인 게이트 라인(MGL)이 형성된 층간 절연막(44)의 전면에는, 게이트 절연막(46)이 동일한 두께를 가지게 형성된다. 게이트 절연막(46)은, 산화 실리콘 또는 질화 실리콘과 같은 절연 물질이 게이트 전극(MGE), 메인 게이트 라인(MGL) 및 층간 절연막(44)의 전면에 도포 됨에 의하여, 형성된다.The first array substrate 40 has a gate electrode MGE formed on the interlayer insulating film 44. [ The gate electrode MGE is connected to the main gate line MGL (not shown) and formed simultaneously with the main gate line MGL. The gate electrode MGE and the main gate line MGL are formed by depositing a conductive material containing any one of Cu, Al, AlNd, Au, Ag and Mo on the interlayer insulating film 44, And is patterned through a printing process. A gate insulating film 46 is formed on the entire surface of the interlayer insulating film 44 on which the gate electrode MGE and the main gate line MGL are formed to have the same thickness. The gate insulating film 46 is formed by applying an insulating material such as silicon oxide or silicon nitride to the entire surface of the gate electrode MGE, the main gate line MGL, and the interlayer insulating film 44.

또한, 제1 어레이 기판(40)은 게이트 절연막(46) 상에 위치한 반도체 물질 패턴(MSP) 및 데이터 라인(DL), 반도체 물질 패턴(MSP) 상에 일정 간격 이격되게 배치된 드레인 및 소스 전극들(MDE,MSE), 그리고 소스 전극(MSE)과 전기적으로 연결된 화소 전극들(PXE)를 구비한다. 이들 드레인 및 소스 전극들(MDE,MSE)은 반도체 물질 패턴(MSP) 및 게이트 전극(MGE)과 함께 메인 박막 트랜지스터(MT)를 구성한다. 반도체 물질 패턴(MSP)은 게이트 전극(MGE)의 상부에 위치하게 게이트 절연막(46) 상에 형성된다. 드레인 전극(MDE)은 게이트 절연막(46) 상의 데이터 라인(DL)과 연결됨은 물론 소스 전극(MSE) 및 데이터 라인(DL)과 동시에 형성된다. 화소 전극들은(PXE), 각 화소 영역(P) 내에서 서로로 전기적으로 연결되는 반면 다른 화소 영역(P) 상의 화소 전극들(PXE)과는 전기적으로 분리되게끔, 형성된다. 각 화소 영역(P) 내의 화소 전극(PXE)의 일부는 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)의 일부와 서로 중첩된다. 화소 전극(PXE)과 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)의 중첩 부분들은 직접 접촉하여 화소 전극(PXE)이 메인 박막 트랜지스터(MT)의 소스 전극(MSE)과 전기적으로 연결되게 한다. 또한, 화소 전극들(PXE)은 게이트 절연막(46)과 직접 접촉함과 아울러 데이터 라인(DL)과 동일한 층에 위치한다. 나아가, 화소 전극들(PXE)은 게이트 절연막(46) 하부의 수평 공통 전극들(HCE)과 교번하게 배열된다. The first array substrate 40 includes a semiconductor material pattern MSP and a data line DL disposed on the gate insulating film 46, drain and source electrodes (MDE, MSE), and pixel electrodes PXE electrically connected to the source electrode MSE. These drain and source electrodes MDE and MSE constitute the main thin film transistor MT together with the semiconductor material pattern MSP and the gate electrode MGE. A semiconductor material pattern MSP is formed on the gate insulating film 46 at a position above the gate electrode MGE. The drain electrode MDE is formed simultaneously with the source electrode MSE and the data line DL as well as connected to the data line DL on the gate insulating film 46. [ The pixel electrodes are electrically connected to each other within the pixel region P while being electrically isolated from the pixel electrodes PXE on the other pixel region P. [ A part of the pixel electrode PXE in each pixel region P overlaps with a part of the source electrode MSE of the main thin film transistor MT. The overlapping portions of the pixel electrode PXE and the source electrode MSE of the main thin film transistor MT are in direct contact so that the pixel electrode PXE is electrically connected to the source electrode MSE of the main thin film transistor MT. The pixel electrodes PXE are in direct contact with the gate insulating film 46 and are located on the same layer as the data lines DL. Further, the pixel electrodes PXE are alternately arranged with the horizontal common electrodes HCE under the gate insulating film 46. [

반도체 물질 패턴(MSP)은, 반도체 물질이 게이트 절연막(46)의 전면에 증착되고 그 증착된 반도체 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 됨에 의하여, 형성될 것이다. 이어서, 반도체 물질 패턴(MSP)을 가지는 게이트 절연막(46)의 전면에는, Cu, Al, AlNd, Au, Ag 및 Mo 중 어느 하나를 포함하는 도전 물질 층이 증착된다. 절연막(14) 상의 도전 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 됨에 의하여, 반도체 물질 패턴(MSP) 상에 일정 간격 이격-배치된 드레인 및 소스 전극들(MDE,MSE), 그리고 게이트 절연막(46)과 직접 접촉함과 아울러 드레인 전극(MDE)과 일체화된 데이터 라인(DL)이 형성된다. 다음으로, 반도체 물질 패턴(MSP), 데이터 라인(DL), 드레인 및 소스 전극들(MDE,MSE)이 형성된 게이트 절면막(46)의 전면에는 포토 레지스트가 도포된다. 이 포토 레지스트 층은 노광 및 현상 공정을 통하여 패턴닝 되어, 소스 전극(MSE)의 일부를 포함한 화소 전극들(PXE)이 위치할 영역에 해당하는 게이트 절연막(46)을 노출시킨다. 포토 레지스트 패턴 및 그에 의해 노출된 게이트 절연막(46) 상에는 ITO 또는 IZO와 같은 투명 절연 물질이 균일한 두께로 증착된다. 마지막으로, 포토 레지스트 패턴 상의 투명 절연 물질이 세정 공정을 통하여 포토 레지스트 패턴과 함께 제거되어, 소스 전극(MSE)의 일부 및 게이트 절연막(46)과 직접 접촉되는 화소 전극들(PXE)이 형성되게 한다.The semiconductor material pattern MSP will be formed by depositing a semiconductor material on the entire surface of the gate insulating film 46 and patterning the deposited semiconductor material layer through a lithographic printing process. Then, a conductive material layer containing any one of Cu, Al, AlNd, Au, Ag and Mo is deposited on the entire surface of the gate insulating film 46 having the semiconductor material pattern MSP. The drain and source electrodes MDE and MSE and the gate insulating film 46 are spaced apart from each other on the semiconductor material pattern MSP by patterning the conductive material layer on the insulating film 14 through the lithographic printing process, And a data line DL integrated with the drain electrode MDE is formed. Next, a semiconductor material pattern (MSP) A photoresist is applied to the entire surface of the gate insulating film 46 on which the data line DL, the drain and the source electrodes MDE and MSE are formed. The photoresist layer is patterned through exposure and development to expose a gate insulating film 46 corresponding to a region where pixel electrodes PXE including a part of the source electrode MSE are to be located. A transparent insulating material such as ITO or IZO is deposited on the photoresist pattern and the gate insulating film 46 exposed by the photoresist pattern to a uniform thickness. Finally, the transparent insulating material on the photoresist pattern is removed together with the photoresist pattern through the cleaning process so that pixel electrodes PXE are formed which are in direct contact with a part of the source electrode MSE and the gate insulating film 46 .

화소 전극들(PXE)은, 화상의 계조 별 광 투과율을 향상시키기 위하여, 수평 공통 전극(HCE)과는 일정한 간격 이격된다. 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE)과의 이격 거리(EGph)는 대략 3.0 ~ 5.0㎛ 정도로 설정될 수 있다. 이에 따라, 층간 절연막(44) 및 게이트 절연막(46)은, 그들의 총 두께가 대략 3.0 ~ 5.0㎛ 범위 내의 어느 한 값을 가지게끔, 형성될 수 있다. 광 투과율의 극대화를 위해서는, 화소 전극(PXE)과 수평 공통 전극(HCE)과의 이격 거리(EGph)가 대략 4.0㎛ 정도를 유지할 수 있도록, 층간 절연막(44) 및 게이트 절연막(46)은 대략 4.0㎛ 정도의 총 두께로 형성되는 것이 가장 바람직하다.The pixel electrodes PXE are spaced apart from the horizontal common electrode HCE by a predetermined distance in order to improve the light transmittance according to the gradation of the image. The spacing distance EGph between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE may be set to approximately 3.0 to 5.0 mu m. Accordingly, the interlayer insulating film 44 and the gate insulating film 46 can be formed so that their total thickness has a value within a range of approximately 3.0 to 5.0 mu m. The interlayer insulating film 44 and the gate insulating film 46 are formed to have a roughness of about 4.0 占 퐉 so that the distance EGph between the pixel electrode PXE and the horizontal common electrode HCE can be kept about 4.0 占 퐉 in order to maximize the light transmittance. Lt; RTI ID = 0.0 > um. ≪ / RTI >

상기한 제1 어레이 기판(40)은 수평 공통 전극(VCE) 및 수평 공통 전압 라인(VGL)과 제1 투명 기판(42) 사이 또는 수평 공통 전극(VCE) 및 수평 공통 전압 라인(VGL)과 층간 절연막(44) 사이에 위치하는 칼라 필터 층(도시하지 않은)을 추가로 구비할 수 있다. 칼라 필터 층에는 교번-배열되는 적색, 녹색 및 청색의 필터들이 포함된다. 적색, 녹색 및 청색 필터들 각각은 화소 영역에 상응하는 크기로 형성된다. 나아가, 제1 어레이 기판(40)은 수평 공통 전극(VCE) 및 수평 공통 전압 라인(VGL)과 제1 투명 기판(42) 사이 또는 수평 공통 전극(VCE) 및 수평 공통 전압 라인(VGL)과 층간 절연막(44) 사이에 위치함과 아울러 칼라 필터들을 격리시키는 블랙 매트릭스(도시하지 않음)를 추가로 구비할 수 있다. 블랙 매트릭스는 칼라 필터들의 가장자리에서 발생될 수 있는 색 간섭을 방지한다.The first array substrate 40 includes a first array substrate 40 and a second array substrate 40. The first array substrate 40 includes a first substrate 40 and a second substrate 40. The first substrate 40 includes a horizontal common electrode VCE and a horizontal common voltage line VGL, A color filter layer (not shown) positioned between the insulating films 44 may be additionally provided. The color filter layers include alternating red, green, and blue filters. Each of the red, green, and blue filters is formed to have a size corresponding to the pixel region. The first array substrate 40 is connected to the horizontal common electrode VCE and the horizontal common voltage line VGL and the first transparent substrate 42 or between the horizontal common electrode VCE and the horizontal common voltage line VGL, A black matrix (not shown) for isolating the color filters as well as the insulating layer 44 may be additionally provided. The black matrix prevents color interference that may occur at the edges of the color filters.

제2 어레이 기판(50)은 제2 투명 기판(52) 상에 형성된 게이트 전극(SGE)을 구비한다. 제2 투명 기판(52)으로는, 제1 투명 기판(42)과 마찬가지로, 광 투과율이 좋은 절연 물질로 된 플라스틱 필름 및 유리 기판 중 어느 하나가 사용될 수 있다. 게이트 전극(SGE)은 도시되지 않은 서브 게이트 라인(SGL)에 연결됨은 물론 그 서브 게이트 라인(SGL)과 동시에 형성된다. 게이트 전극(SGE) 및 서브 게이트 라인(SGL)은, 제2 투명 기판(52) 상에 Cu, Al, AlNd, Au, Ag 및 Mo 중 어느 하나를 포함하는 도전 물질 층을 증착하고 그 증착된 도전 물질을 패터닝 함에 의하여, 일체화된 형태로 형성된다. 게이트 전극(SGE) 및 서브 게이트 라인(SGL)이 형성된 제2 투명 기판(52)의 전면에는, 절연막(54)이 동일한 두께를 가지게 형성된다. 이 절연막(54)은, 산화 실리콘 또는 질화 실리콘과 같은 절연 물질이 제2 투명 기판(52)의 전면에 도포 됨에 의하여, 균일한 두께로 형성된다.The second array substrate 50 has a gate electrode SGE formed on the second transparent substrate 52. As the second transparent substrate 52, any one of a plastic film made of an insulating material having good light transmittance and a glass substrate can be used, like the first transparent substrate 42. The gate electrode SGE is formed at the same time as the subgate line SGL, not shown, as well as the subgate line SGL. The gate electrode SGE and the subgate line SGL are formed by depositing a conductive material layer containing any one of Cu, Al, AlNd, Au, Ag and Mo on the second transparent substrate 52, By patterning the material, into an integrated form. An insulating film 54 is formed on the entire surface of the second transparent substrate 52 on which the gate electrode SGE and the subgate line SGL are formed. The insulating film 54 is formed to have a uniform thickness by applying an insulating material such as silicon oxide or silicon nitride to the entire surface of the second transparent substrate 52.

제2 어레이 기판(50)은, 절연막(54) 상에 위치한 반도체 물질 패턴(SSP) 및 수직 공통 라인(VCL), 반도체 물질 패턴(SSP) 상에 일정 간격 이격-배치된 드레인 및 소스 전극들(SDE,SSE), 그리고 수직 공통 전극(VCE)을 구비한다. 이들 드레인 및 소스 전극들(SDE,SSE)은 반도체 물질 패턴(SSP) 및 게이트 전극(SGE)과 함께 서브 박막 트랜지스터(ST)를 구성한다. 반도체 물질 패턴(SSP)은 게이트 전극(SGE)의 상부에 위치하게 절연막(54) 상에 형성된다. 드레인 전극(SDE)은 절연막(24) 상의 수직 공통 전압 라인(VCL)과 연결됨은 물론 소스 전극(SSE) 및 수직 공통 전압 라인(VCL)과 동시에 형성된다. 수직 공통 전극(VCE)은 서브 박막 트랜지스터(ST)의 점유 영역의 일부를 제외한 나머지 화소 영역(P)을 점유한다. 수직 공통 전극(VCE)은 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)의 일부와 중첩된다. 수직 공통 전극(VCE) 및 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)의 중첩 부분들은 서로 직접 접촉하여 수직 공통 전극(VCE)이 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)와 전기적으로 연결되게 한다. 또한, 수직 공통 전극(VCE)은, 리프트 오프 공정을 통하여, 서브 박막 트랜지스터(ST)의 소스 전극(SSE)의 일부분 및 절연막(54)과 직접 접촉함과 아울러 수직 공통 라인(VCL)과 같은 층에 위치하게 형성된다.The second array substrate 50 includes a semiconductor material pattern SSP and a vertical common line VCL located on the insulating film 54, drain and source electrodes arranged at regular intervals on the semiconductor material pattern SSP SDE, and SSE), and a vertical common electrode (VCE). These drain and source electrodes SDE and SSE constitute a sub-film transistor ST together with a semiconductor material pattern SSP and a gate electrode SGE. A semiconductor material pattern SSP is formed on the insulating film 54 at a position above the gate electrode SGE. The drain electrode SDE is formed simultaneously with the source electrode SSE and the vertical common voltage line VCL in addition to being connected to the vertical common voltage line VCL on the insulating film 24. [ The vertical common electrode VCE occupies the remaining pixel region P except for a part of the occupied region of the sub-thin film transistor ST. The vertical common electrode VCE overlaps with a part of the source electrode SSE of the sub-thin film transistor ST. The overlapping portions of the vertical common electrode VCE and the source electrode SSE of the sub thin film transistor ST are in direct contact with each other so that the vertical common electrode VCE is electrically connected to the source electrode SSE of the sub- . The vertical common electrode VCE is in direct contact with a portion of the source electrode SSE of the sub-thin film transistor ST and the insulating film 54 through a lift-off process, As shown in FIG.

반도체 물질 패턴(SSP)은, 반도체 물질이 절연막(54)의 전면에 증착되고 그 증착된 반도체 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 됨에 의하여, 형성될 것이다. 이어서, 반도체 물질 패턴(SSP)을 가지는 절연막(54)의 전면에는, Cu, Al, AlNd, Au, Ag 및 Mo 중 어느 하나를 포함하는 도전 물질 층이 증착된다. 절연막(54) 상의 도전 물질 층이 석판 인쇄 공정을 통해 패턴닝 됨에 의하여, 반도체 물질 패턴(MSP) 상에 일정 간격 이격-배치된 드레인 및 소스 전극들(SDE,SSE) 그리고 드레인 전극(SDE)과 일체화된 수직 공통 전압 라인(VCL)이 형성된다. 다음으로, 반도체 물질 패턴(SSP), 수직 공통 전압 라인(VCL), 드레인 및 소스 전극(SDE,SSE)이 형성된 절면막(54)의 전면에는 포토 레지스트가 도포된다. 이 포토 레지스트 층은 노광 및 현상 공정을 통하여 패턴닝 되어, 소스 전극(MSE)의 일부를 포함한 수직 공통 전극(VCE)이 위치할 영역에 해당하는 절연막(54)을 노출시킨다. 포토 레지스트 패턴 및 그에 의해 노출된 절연막(54) 상에는 ITO 또는 IZO와 같은 투명 절연 물질이 균일한 두께로 증착된다. 마지막으로, 포토 레지스트 패턴 상의 투명 절연 물질이 세정 공정을 통하여 포토 레지스트 패턴과 함께 제거되어, 소스 전극(MSE)의 일부 및 절연막(54)과 직접 접촉되는 수직 공통 전극(VCE)이 형성된다.The semiconductor material pattern (SSP) will be formed by depositing a semiconductor material over the entire surface of the insulating film 54 and patterning the deposited semiconductor material layer through a lithographic printing process. Next, a conductive material layer containing any one of Cu, Al, AlNd, Au, Ag and Mo is deposited on the entire surface of the insulating film 54 having the semiconductor material pattern SSP. The drain and source electrodes SDE and SSE and the drain electrode SDE are spaced apart from each other on the semiconductor material pattern MSP by patterning the conductive material layer on the insulating film 54 through the lithographic printing process, An integrated vertical common voltage line VCL is formed. Next, a photoresist is applied to the entire surface of the slimming film 54 on which the semiconductor material pattern SSP, the vertical common voltage line VCL, the drain and the source electrodes SDE and SSE are formed. The photoresist layer is patterned through exposure and development to expose the insulating film 54 corresponding to the region where the vertical common electrode VCE including a part of the source electrode MSE is to be located. A transparent insulating material such as ITO or IZO is deposited to a uniform thickness on the photoresist pattern and the insulating film 54 exposed by the photoresist pattern. Finally, the transparent insulating material on the photoresist pattern is removed together with the photoresist pattern through the cleaning process to form a vertical common electrode (VCE) which is in direct contact with a part of the source electrode MSE and the insulating film 54. [

또한, 제2 어레이 기판(50)은 게이트 전극(SGE) 및 서브 게이트 라인(SGL)과 제2 투명 기판(52) 사이에 칼라 필터 층(도시하지 않은)을 추가로 구비할 수 있다. 칼라 필터 층에는 교번-배열되는 적색, 녹색 및 청색의 필터들이 포함된다. 적색, 녹색 및 청색 필터들 각각은 화소 영역에 상응하는 크기로 형성된다. 나아가, 제2 어레이 기판(50)은 게이트 전극(SGE) 및 서브 게이트 라인(SGL)과 제2 투명 기판(52) 사이에 위치함과 아울러 칼라 필터들을 격리시키는 블랙 매트릭스(도시하지 않음)를 추가로 구비할 수 있다. 블랙 매트릭스는 칼라 필터들의 가장자리에서 발생될 수 있는 색 간섭을 방지한다.The second array substrate 50 may further include a color filter layer (not shown) between the gate electrode SGE and the sub gate line SGL and the second transparent substrate 52. The color filter layers include alternating red, green, and blue filters. Each of the red, green, and blue filters is formed to have a size corresponding to the pixel region. Further, the second array substrate 50 is positioned between the gate electrode SGE and the sub gate line SGL and the second transparent substrate 52, and a black matrix (not shown) for isolating the color filters is added As shown in FIG. The black matrix prevents color interference that may occur at the edges of the color filters.

상기한 1 및 제2 어레이 기판(40,50)은, 밀봉 물질(도시하지 않음)에 의하여, 화소 전극(PXE) 및 수직 공통 전극(VCE)이 서로 대향하게 합착된다. 밀봉 밀질은 제1 및 제2 어레이 기판(40,50)을 이격시켜, 액정 물질(60)의 주입 공간이 확보될 수 있게 한다. 제1 및 제2 어레이 기판(40,50)의 이격 간격(즉, 화소 전극(PXE)과 수직 공통 전극(VCE)의 이격 거리, EPss)는, 화소 전극(PXE)에 공급되는 화소 구동 신호(Vpds)에 의해 액정 화소가 효과적으로 구동될 수 있도록, 대략 3.4 ~ 4.0㎛ 정도 설정될 수 있다. 이에 따라, 제1 및 제2 어레이 기판(40,50)의 이격시키는 밀봉 물질은 대략 3.4 내지 4.0㎛ 정도의 높이(또는 두께)로 형성될 것이다. 백 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)에 대한 광 투과 특성이 좀 더 선형적인 형태로 변하면서도 광 지연량이 가장 작게 할 수 있는 효율적인 액정 패널을 위해서는, 제1 및 제2 어레이 기판(40,50)의 이격 거리(EGss)가 대략 4.0㎛ 정도가 되도록, 밀봉 물질은 대략 4.0㎛ 정도의 높이(또는 두께로)로 형성되는 것이 가장 바람직하다. 또한, 액정 층(60)의 구성 물질로는, 대략 400~408㎚ 정도의 광 지연량을 일으키는 대락 0.08 내지 012 정도의 굴절율 이방성 값의 액정 물질들이 사용될 수 있으나, 대략 400㎚ 정도의 광 지연이 일어나게 하는 대략 0.10 정도의 굴절율 이방성 값을 가지는 액정 물질이 가장 바람직하다. 이를 위하여, 대략 0.0950~0.1050 범위의 굴절율 이방성 값을 가지는 플로오로(Fluoro) 치환계 액정 물질들 중 어느 하나가 액정층(60)의 구성 물질로 사용될 것이다. 이러한 플로오로 치환계 액정 물질들로는, ML-0323, ML-0424, ML-0249 및 ML-0567 등의 액정 물질들이 포함된다. 나아가, 수직 및 수평 공통 전극(VCE,HCE) 사이의 인가되는 전압으로는, 대략 8.5 내지 9.0V 정도가 사용될 수 있으나, 대략 9.0V가 가장 바람직하다.The pixel electrodes PXE and the vertical common electrodes VCE are attached to each other in the first and second array substrates 40 and 50 by a sealing material (not shown). The sealing seal separates the first and second array substrates 40 and 50 so that the injection space of the liquid crystal material 60 can be ensured. The spacing distance between the first and second array substrates 40 and 50 (that is, the distance between the pixel electrode PXE and the vertical common electrode VCE, EPss) Vpds) can be set to approximately 3.4 to 4.0 mu m so that the liquid crystal pixel can be driven effectively. Accordingly, the sealing material separating the first and second array substrates 40 and 50 will be formed to have a height (or thickness) of about 3.4 to 4.0 mu m. For an efficient liquid crystal panel in which the light transmission characteristic for the back-level pixel driving signal Vpds is changed to a more linear form and the amount of optical delay can be minimized, for the liquid crystal panel of the first and second array substrates 40 and 50 It is most preferable that the sealing material is formed to have a height (or thickness) of about 4.0 占 퐉 so that the separation distance EGss is about 4.0 占 퐉. As the constituent material of the liquid crystal layer 60, liquid crystal materials having a refractive index anisotropy value of about 0.08 to about 012, which causes a light delay amount of about 400 to 408 nm, may be used, but a light retardation of about 400 nm A liquid crystal material having a refractive index anisotropy value of about 0.10 is most preferable. For this purpose, any one of the Fluoro substitution-based liquid crystal materials having refractive index anisotropy values in the range of about 0.0950 to 0.1050 will be used as a constituent material of the liquid crystal layer 60. Such fluoro substitution-based liquid crystal materials include liquid crystal materials such as ML-0323, ML-0424, ML-0249 and ML-0567. Further, as the voltage applied between the vertical and horizontal common electrodes VCE and HCE, approximately 8.5 to 9.0 V may be used, but approximately 9.0 V is most preferable.

이와 같은 다른 실시 예의 액정 패널에서도, 매트릭스 형태로 배열된 액정 화소들은, 개별적으로, 최저 계조(즉, 흑색) 보다 밝은 계조의 표시 시에 화소 전극(PXE) 및 수평 공통 전극(HCE) 간의 수평 전계에 의하여 구동되는 반면에 최저 계조의 표시 시에는 수직 및 수평 공통 전극들(VCE,HCE) 간의 수직 전계에 의하여 구동된다. 다시 말하여, 액정 화소들 각각은 최저 계조 보다 밝은(또는 높은) 계조들 뿐만 아니라 최저 계조의 표시 시에도 전계에 의하여 구동된다. 이에 따라, 다른 실시 예에 따른 액정 패널은 화소 구동 신호에 빠른 속도로 응답할 수 있다.In the liquid crystal panel according to another embodiment of the present invention, the liquid crystal pixels arranged in the form of a matrix are individually arranged in a horizontal electric field between the pixel electrode (PXE) and the horizontal common electrode (HCE) While it is driven by a vertical electric field between the vertical and horizontal common electrodes (VCE, HCE) at the time of displaying the lowest gray level. In other words, each of the liquid crystal pixels is driven by an electric field not only in the gradations that are brighter (or higher) than the lowest gradation but also in the case of displaying the lowest gradation. Accordingly, the liquid crystal panel according to another embodiment can respond to the pixel driving signal at a high speed.

도 12는 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 표시 장치를 상세하게 설명하는 블록도이다. 도 12의 빠른 응답 속도의 액정 표시 장치는, 액정 패널(100) 상의 다수의 메인 게이트 라인(MGL1~MGLn)에 접속된 메인 게이트 드라이버(102A), 액정 패널(100) 상의 다수의 데이터 라인(DL1~DLm)과 접속된 데이터 드라이버(104), 및 이들 메인 게이트 드라이버(102A) 및 데이터 드라이버(104)의 동작 타이밍을 제어하는 타이밍 컨트롤러(106)를 구비한다. 액정 패널(100)은, 다수의 메인 게이트 라인(MGL1~MGLn) 및 다수의 데이터 라인(DL1~DLm) 외에도, 다수의 서브 게이트 라인(SGL1~SGLn) 및 다수의 수직 공통 전압 라인(VCL1~VCLm)을 구비한다. 액정 패널(100)은, 메인 게이트 라인들(MGL1~MGLn) 및 데이터 라인들에 의하여 및/또는 서브 게이트 라인들(SGL1~SGLn) 및 수직 공통 전압 라인들(VCL1~VCLm)에 의하여, 구분된 매트릭스 형태의 m×n 화소 영역들로 구분된다. 이들 화소 영역들 각각에는, 메인 및 서브 박막 트랜지스터들(MT,ST) 및 액정 셀(CLC)을 포함하는 액정 화소(LPX)가 형성된다. 액정 셀들(CLC)은 수평 공통 라인(HCL)에 전기적으로 공통-접속된다. 이러한 액정 패널(100)의 구성, 작용 및 효과 등은, 도 1 및 도 3을 통하여, 이미 명백하게 개시된 만큼, 액정 패널(100)에 대한 상세한 설명은 생략될 것이다.12 is a block diagram for explaining a liquid crystal display of a fast response speed according to an embodiment in detail. 12 has a main gate driver 102A connected to a plurality of main gate lines MGL1 to MGLn on the liquid crystal panel 100, a plurality of data lines DL1 (DL1) on the liquid crystal panel 100, And a timing controller 106 for controlling the operation timings of the main gate driver 102A and the data driver 104. [ The liquid crystal panel 100 includes a plurality of subgate lines SGL1 to SGLn and a plurality of vertical common voltage lines VCL1 to VCLm (not shown) in addition to a plurality of main gate lines MGL1 to MGLn and a plurality of data lines DL1 to DLm. ). The liquid crystal panel 100 is divided into sub-gate lines SGL1 to SGLn and vertical common voltage lines VCL1 to VCLm by main gate lines MGL1 to MGLn and data lines and / And is divided into mxn pixel regions in the form of a matrix. In each of these pixel regions, a liquid crystal pixel LPX including main and sub-thin film transistors MT and ST and a liquid crystal cell CLC is formed. The liquid crystal cells CLC are electrically common-connected to the horizontal common line HCL. The structure, operation, effect, and the like of the liquid crystal panel 100 will be omitted from the detailed description of the liquid crystal panel 100, as already clearly disclosed with reference to FIGS. 1 and 3. FIG.

메인 게이트 드라이버(102)는 액정 패널(100) 상의 메인 게이트 라인들(MGL1~MGLn)이 순차적으로 번갈아 인이에블 되게 하는 메인 게이트 라인(MGL)의 수(n)에 해당하는 메인 스캔 신호들을 발생한다. 메인 스캔 신호들은 수평 동기 신호(Hsync)의 주기에 해당하는 폭과 고 전위의 게이트 하이 전압(Vgh)을 가지는 펄스가 순차적으로 그 폭 만큼 쉬프트 되는 파형을 가진다. 다시 말하여, 메인 게이트 드라이버(102A)는 게이트 하이 전압(Vgh)이 인에이블 될 어느 한 메인 게이트 라인(MGL)에 인가되게 하는 한편 나머지 메인 게이트 라인들(MGL)에는 저 전위의 게이트 로우 전압(Vgl)이 공급되게 한다. 이러한 메인 스캔 신호에 응답하는 액정 화소들(LPX)은 1라인 분씩 데이터 라인들(DL1 내지 DLm) 상의 화소 구동 신호(Vpds)를 충전하게 된다. 이러한 메인 스캔 신호들을 발생하기 위하여, 메인 게이트 드라이버(102A)는 타이밍 컨트롤러(106)로부터의 게이트 제어 신호(GCS)에 응답한다. 게이트 제어 신호(GCS)에는, 수직 동기 신호(Vsync)의 주기마다 발생하는 게이트 스타트 펄스(GSP)와 그리고 수평 동기 신호(Hsync)와 동일한 주파수를 가지는 적어도 1의 게이트 쉬프트 클럭(GSC)이 포함된다.The main gate driver 102 is mounted on the liquid crystal panel 100 The main scan lines MGL1 to MGLn sequentially generate main scan signals corresponding to the number n of main gate lines MGL to be sequentially enabled. The main scan signals have a waveform in which the pulse having the width corresponding to the period of the horizontal synchronizing signal Hsync and the gate high voltage Vgh having the high potential are sequentially shifted by that width. In other words, the main gate driver 102A allows the gate high voltage (Vgh) to be applied to one main gate line (MGL) to be enabled while the remaining main gate lines (MGL) are supplied with a low potential gate low voltage Vgl) is supplied. The liquid crystal pixels LPX responding to the main scan signal are charged with the pixel drive signals Vpds on the data lines DL1 to DLm by one line. In order to generate these main scan signals, the main gate driver 102A responds to a gate control signal (GCS) from the timing controller 106. [ The gate control signal GCS includes a gate start pulse GSP generated every period of the vertical synchronization signal Vsync and at least one gate shift clock GSC having the same frequency as the horizontal synchronization signal Hsync .

데이터 드라이버(104)는, 액정 패널(100) 상의 메인 게이트 라인들(MGL) 중 어느 하나가 인에이블 될 때마다, 타이밍 컨트롤러(106)로부터의 1 라인 분씩의 화소 데이터(VDr)를 아날로그 형태의 화소 구동 신호들(Vpds)로 변환하여 변환된 화소 구동 신호들(Vpds)을 액정 패널(100) 상의 데이터 라인들(DL1~DLm)에 각각 공급한다. 1 라인 분씩의 화소 데이터(VDr)는, 타이밍 컨트롤러(106)를 경유하지 않고, 외부의 비디오 데이터 소스(예를 들면, 컴퓨터 시스템의 그래픽 모듈 또는 텔레비전 수신기의 영상 복조 모듈)로부터 데이터 드라이버(104)에 직접 공급될 수도 있다. 1 라인 분씩의 화소 데이터(VDr)의 화소 구동 신호(Vpds)로의 변환을 위하여, 데이터 드라이버(104)는 타이밍 컨트롤러(106)로부터의 데이터 제어 신호(DCS)에 응답한다. 데이터 제어 신호(DCS)에는, 수평 동기 신호(Hsync)와 같은 주파수의 데이터 인에이블 신호(DEN) 및 화소 데이터의 전송 주기를 지시하는 데이터 클럭(DCLK) 등이 포함된다.The data driver 104 converts pixel data VDr of one line from the timing controller 106 into analog data of one line each time one of the main gate lines MGL on the liquid crystal panel 100 is enabled And supplies the converted pixel driving signals Vpds to the data lines DL1 to DLm on the liquid crystal panel 100 by converting them into pixel driving signals Vpds. The line-by-line pixel data VDr is supplied to the data driver 104 from an external video data source (for example, a graphics module of a computer system or a video demodulation module of a television receiver) without passing through the timing controller 106. [ As shown in FIG. The data driver 104 responds to the data control signal DCS from the timing controller 106 in order to convert the pixel data VDr of one line into the pixel driving signal Vpds. The data control signal DCS includes a data enable signal DEN having the same frequency as the horizontal synchronizing signal Hsync and a data clock DCLK indicating a transfer period of the pixel data.

타이밍 컨트롤러(106)는, 메인 게이트 드라이버(102A) 및 데이터 드라이버(104)의 동작 타이밍을 제어하기 위하여, 외부의 비디오 데이터 소스(예를 들면, 컴퓨터 시스템의 그래픽 모듈 또는 텔레비전 수신기의 영상 복조 모듈)로부터의 동기 신호(SYNC)를 입력한다. 타이밍 컨트롤러(106)에 공급되는 동기 신호(SYNC)에는, 수직 동기 신호(Vsync), 수평 동기 신호(Hsync), 데이터 인에이블 신호(DEN), 및 데이터 클럭(DCLK)이 포함된다. 타이밍 컨트롤러(106)는, 이들 동기 신호(SYNC)를 이용하여, 메인 게이트 드라이버(102A)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 제어 신호(GCS)와 그리고 데이터 드라이버(104)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 데이터 제어 신호(DCS)를 발생한다. 이에 더하여, 타이밍 컨트롤러(106)는 외부의 비디오 데이터 소스로부터의 화소 데이터(VDf)를 1 프레임 분씩 순차적으로 입력할 수 있다. 1 프레임 분씩의 화소 데이터(VDf)는, 타이밍 컨트롤러(106)에 의하여, 1 라인 분씩의 화소 데이터(VDr)로 구분되게끔 재배열된다. 재배열된 프레임 분의 화소 데이터(VDf)는, 데이터 제어 신호(DCS)와 동기되게끔, 1 라인 분씩 데이터 드라이버(104)에 공급된다.The timing controller 106 is connected to an external video data source (e.g., a graphics module of a computer system or a video demodulation module of a television receiver) to control the operation timing of the main gate driver 102A and the data driver 104. [ The synchronization signal SYNC is input from the input terminal of the memory device. The synchronizing signal SYNC supplied to the timing controller 106 includes a vertical synchronizing signal Vsync, a horizontal synchronizing signal Hsync, a data enable signal DEN and a data clock DCLK. The timing controller 106 generates a gate control signal GCS for controlling the operation timing of the main gate driver 102A and a gate control signal GCS for controlling the operation timing of the data driver 104 by using these synchronization signals SYNC. And generates a data control signal DCS. In addition, the timing controller 106 can sequentially input pixel data (VDf) from an external video data source, one frame at a time. The pixel data VDf for one frame is rearranged by the timing controller 106 so as to be divided into pixel data VDr for one line. The pixel data VDf for the rearranged frame is supplied to the data driver 104 in units of one line so as to be synchronized with the data control signal DCS.

또한, 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 표시 장치는, 액정 패널(100) 상의 다수의 서브 게이트 라인(SGL1~SGLn)과 접속된 서브 게이트 드라이버(102B) 및 액정 패널(100) 상의 수평 공통 전압 라인(HCL)과 접속된 공통 전압 발생부(110)를 구비한다. 서브 게이트 드라이버(102B)는 액정 패널(100) 상의 서브 게이트 라인들(SGL1~SGLn)을 대응하는 메인 게이트 라인(MGL)과 동기되게끔 순차적으로 번갈아 인이에블시키는 서브 게이트 라인(SGL)의 수(n)에 해당하는 서브 스캔 신호들을 발생한다. 서브 스캔 신호들은 메인 게이트 드라이버(102A)에서 발생되는 메인 스캔 신호들과 주기 및 타이밍이 일치하는 파형을 가진다. 이러한 서브 스캔 신호에 응답하는 액정 화소들(LPX)은 1라인 분씩, 화소 구동 신호(Vpds)를 충전함과 아울러 수직 공통 전압 라인들(VCL1 내지 VCLm) 상의 수직 공통 전압(Vvcoml 또는 Vvcomh)을 충전하게 된다. 이러한 서브 스캔 신호들을 발생하기 위하여, 서브 게이트 드라이버(102A)는, 메인 게이트 드라이버(102A)와 마찬가지로, 타이밍 컨트롤러(106)로부터의 게이트 제어 신호(GCS)에 응답한다. 다른 형태로, 액정 패널(100) 상의 서브 게이트 라인들(SGL1~SGLn)이 대응하는 메인 게이트 라인(MSL1~MSLn)과 함께 메인 게이트 드라이버(102A)로부터의 메인 스캔 신호에 의하여 구동될 수도 있다. 이 경우, 서브 게이트 드라이버(102B)가 제거될 수 있으나, 메인 게이트 드라이버(102A)의 부하 부담이 커지게 된다.The liquid crystal display device with a fast response speed according to the embodiment includes a sub gate driver 102B connected to a plurality of sub gate lines SGL1 to SGLn on the liquid crystal panel 100, And a common voltage generator 110 connected to the line HCL. The sub gate driver 102B is connected to the number of sub gate lines SGL that alternately enable the sub gate lines SGL1 to SGLn on the liquid crystal panel 100 to be synchronized with the corresponding main gate lines MGL (n). < / RTI > The sub scan signals have a waveform whose period and timing coincide with the main scan signals generated by the main gate driver 102A. The liquid crystal pixels LPX responsive to the sub scan signal charges the pixel drive signal Vpds by one line and charges the vertical common voltage Vvcoml or Vvcomh on the vertical common voltage lines VCL1 to VCLm . In order to generate these sub scan signals, the sub gate driver 102A responds to the gate control signal GCS from the timing controller 106 in the same manner as the main gate driver 102A. The sub gate lines SGL1 to SGLn on the liquid crystal panel 100 may be driven by the main scan signal from the main gate driver 102A together with the corresponding main gate lines MSL1 to MSLn. In this case, the sub gate driver 102B can be removed, but the load on the main gate driver 102A becomes large.

공통 전압 발생부(110)는 화소 구동 신호(Vpds)의 기저 전압 레벨에 해당하는 수평 공통 전압(Vhcom)을 발생한다. 공통 전압 발생부(110)에서 발생된 수평 공통 전압(Vhcom)은, 액정 패널(100) 상의 수평 공통 전압 라인(HCL)을 경유하여, 액정 패널(100) 상의 모든 액정 화소(LPX)(좀 더 상세하게는, 모든 액정 셀(CLC)의 수평 공통 전극(HCE))에 공통적으로 공급된다. 또한, 공통 전압 발생부(110)는, 수평 공통 전압(Vhcom)을 기준으로 화소 구동 신호(Vpds)의 최고 전압 레벨(즉, 백 레벨에 해당하는 전압 레벨)보다 현저하게 높은 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh)을 발생한다. 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh)는, 수직 공통 전압(Vhcom) 보다 대략 8.5~9.5V 정도 높은 전압 레벨로 설정될 수 있으나, 바람직하게는 수평 공통 전압(Vhcom)보다 대략 9.0V 정도 높게 설정되는 것이 좋다.The common voltage generating unit 110 generates the horizontal common voltage Vhcom corresponding to the base voltage level of the pixel driving signal Vpds. The horizontal common voltage Vhcom generated in the common voltage generator 110 is supplied to all the liquid crystal pixels LPX on the liquid crystal panel 100 via the horizontal common voltage line HCL on the liquid crystal panel 100 In detail, the horizontal common electrode HCE of all the liquid crystal cells CLC). The common voltage generating unit 110 generates a common voltage Vhcom that is higher than the highest voltage level (that is, the voltage level corresponding to the back level) of the pixel driving signal Vpds based on the horizontal common voltage Vhcom And generates a voltage Vvcomh. The vertical common voltage Vvcomh at a high electric potential may be set at a voltage level approximately 8.5 to 9.5 V higher than the vertical common voltage Vhcom but is preferably set to be higher by about 9.0 V than the horizontal common voltage Vhcom It is good.

나아가, 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 표시 장치는, 타이밍 컨트롤러(106)로부터의 1 라인 분씩의 화소 데이터(VDr)를 입력하는 데이터 변환기(108)와, 액정 패널(100) 상의 다수의 수직 공통 전압 라인들(VCL1~VCLm)과 접속된 수직 공통 전압 라인 드라이버(112)를 구비한다. 데이터 변환기(108)는, 타이밍 컨트롤러(106)로부터의 1 라인 분의 화소 데이터 각각을 흑 레벨 제어 데이터로 변환한다. 데이터 변환기(108)에서 변환된 1 라인 분의 흑 레벨 제어 데이터(CVDr)는 순차적으로 수직 공통 전압 라인 드라이버(112)에 공급된다. 흑 레벨 제어 데이터는, 화소 데이터가 흑 레벨의 계조 값(예를 들어 6비트의 화소 데이터의 경우 "000000")일 때, "1"(또는 "0")의 논리 값으로 인에이블 된다. 이와는 달리, 화소 데이터가 흑 레벨보다 높은 계조 값(예를 들어 6비트의 화소 데이터의 경우 "적어도 000001")을 가질 때에는, 흑 레벨 제어 데이터는 "0"(또는 "1")의 논리 값으로 디스에이블 된다. 이러한 화소 데이터의 흑 레벨 제어 데이터로의 변환을 위하여, 데이터 변환기(108)는 NOR 연산 또는 OR 연산을 수행하는 NOR 게이트 또는 OR 게이트를 구비한다.Furthermore, the liquid crystal display device of a fast response speed according to the embodiment includes a data converter 108 for inputting pixel data VDr for one line from the timing controller 106, And a vertical common voltage line driver 112 connected to the common voltage lines VCL1 to VCLm. The data converter 108 converts each line of pixel data from the timing controller 106 into black level control data. The black level control data (CVDr) for one line converted by the data converter 108 is sequentially supplied to the vertical common voltage line driver 112. The black level control data is enabled by a logical value of "1" (or "0") when the pixel data is a black level tone value (for example, "000000" in the case of 6-bit pixel data). Alternatively, when the pixel data has a gradation value (for example, "at least 000001" in the case of 6-bit pixel data) higher than the black level, the black level control data is set to a logical value of "0" And is disabled. In order to convert such pixel data into black level control data, the data converter 108 includes a NOR gate or an OR gate for performing a NOR operation or an OR operation.

수직 공통 전압 라인 드라이버(112)는, 액정 패널(100) 상의 서브 게이트 라인들(SGL) 중 어느 하나가 인에이블 될 때마다, 데이터 변환기(108)로부터의 1 라인 분씩의 흑 레벨 제어 데이터(CVDr)에 응답하여 액정 패널(100) 상의 수직 공통 전압 라인들(VCL1~VCLm)에 각각에 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh) 또는 수평 공통 전압(Vhcom)과 동일한 저 전위의 수직 공통 전압(Vvcoml)을 공급한다. 예를 들어, 흑 레벨 제어 데이터가 "1"(또는 "0")의 논리 값을 가지면, 수직 공통 전압 라인 드라이버(112)은 그 흑 레벨 제어 데이터에 대응하는 수직 공통 전압 라인(VCL)에 공통 전압 발생부(110)로부터의 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh)이 공급되게 한다. 이와는 달리, 흑 레벨 제어 데이터가 "0"(또는 "1")의 논리 값을 가지면, 수직 공통 전압 라인 드라이버(112)는 그 흑 레벨 제어 데이터에 대응하는 수직 공통 전압 라인(VCL)에, 저 전위의 수직 공통 전압(Vvcoml)으로서, 공통 전압 발생부(110)로부터의 수평 공통 전압(Vhcom)이 공급되게 한다. 1 라인 분씩의 흑 레벨 제어 데이터(CVDr)에 따른 수직 공통 전압 라인들(VCL1~VCLm) 각각에로의 저 전위 및 고 전위 수직 공통 전압(Vvcoml,Vvcomh)의 절환을 위하여, 수직 공통 전압 라인 드라이버(112)는 데이터 드라이버(104)와 마찬가지로 타이밍 컨트롤러(106)로부터의 데이터 제어 신호(DCS)에 응답한다.The vertical common voltage line driver 112 outputs black level control data (CVDr) for one line from the data converter 108 whenever one of the sub gate lines SGL on the liquid crystal panel 100 is enabled, A vertical common voltage Vvcoml having a high potential equal to the vertical common voltage Vvcomh or the horizontal common voltage Vhcom is supplied to the vertical common voltage lines VCL1 to VCLm on the liquid crystal panel 100, . For example, when the black level control data has a logic value of "1" (or "0"), the vertical common voltage line driver 112 applies a common voltage to the vertical common voltage line VCL So that the vertical common voltage Vvcomh at a high potential from the voltage generating portion 110 is supplied. Alternatively, if the black level control data has a logical value of "0" (or "1"), the vertical common voltage line driver 112 supplies the vertical common voltage line VCL corresponding to the black level control data So that the horizontal common voltage Vhcom from the common voltage generator 110 is supplied as the vertical common voltage Vvcoml of the potential. In order to switch the low potential and the high potential vertical common voltages Vvcoml and Vvcomh to the vertical common voltage lines VCL1 to VCLm according to the black level control data CVDr for one line, (112) responds to the data control signal (DCS) from the timing controller (106) in the same manner as the data driver (104).

대응하는 메인 및 서브 게이트 라인들(MGL,SGL)이 동시에 인에이블 됨에 따라, 1 라인 분씩 충전 동작을 수행하는 액정 패널(100) 상의 액정 화소들(LPX) 각각은 대응하는 데이터 라인(DL) 상의 화소 구동 신호(Vpds)와 함께 대응하는 수직 공통 전압 라인(VCL) 상의 저 전위 또는 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcoml 또는 Vvcomh)을 충전하게 된다. 액정 화소들(LPX) 각각은, 흑 레벨보다 높은 전압의 화소 구동 신호(Vpds)와 저 전위의 수직 공통 전압(Vvcoml)이 충전된 경우, 액정 셀(CLC)에 포함된 액정 분자들이 화소 구동 신호(Vpds)에 의하여 재배열되게 하여, 화소 구동 신호(Vpds)의 전압에 해당하는 광량을 통과시킨다. 이에 따라, 액정 화소는 화소 구동 신호(Vpds)의 전압에 해당하는 계조를 표시한다. 이와는 달리, 액정 화소들(LPX) 각각은, 흑 레벨의 화소 구동 신호(Vpds)와 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh)이 충전된 때에는, 액정 셀(CLC)을 구성하는 액정 분자들은 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh)에 의하여 초기 배열 상태로 빠르게 복귀하게 하여, 광이 투과되지 않게 한다. 이때, 액정 화소(LPX)는 흑색을 표시한다.Each of the liquid crystal pixels LPX on the liquid crystal panel 100 performing the charging operation for one line as the corresponding main and sub gate lines MGL and SGL are enabled at the same time, (Vvcoml or Vvcomh) of the low potential or the high potential on the corresponding vertical common voltage line (VCL) together with the pixel driving signal (Vpds). When each of the liquid crystal pixels LPX is charged with the pixel drive signal Vpds of a voltage higher than the black level and the vertical common voltage Vvcoml of a low potential, (Vpds), and passes the light amount corresponding to the voltage of the pixel driving signal (Vpds). Thus, the liquid crystal pixel displays the gray level corresponding to the voltage of the pixel drive signal Vpds. On the other hand, when each of the liquid crystal pixels LPX is charged with the pixel driving signal Vpds of the black level and the vertical common voltage Vvcomh of the high potential, the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal cell CLC have the high potential And returns quickly to the initial arrangement state by the vertical common voltage (Vvcomh) so that light is not transmitted. At this time, the liquid crystal pixel LPX displays black.

이와 같이, 실시 예에 따른 액정 표시 장치는, 액정 화소들이 개별적으로, 최저 계조(즉, 흑색) 보다 밝은 계조의 표시 시에 화소 구동 신호(Vpds)에 의하여 구동되게 하는 한편 최저 계조의 표시 시에는 고 전위의 수직 공통 전압(Vvcomh)에 의하여 초기 화 되게 한다. 다시 말하여, 실시 예에 따른 액정 표시 장치에서는, 최저 계조 보다 밝은(또는 높은) 계조들 뿐만 아니라 최저 계조의 표시 시에도 전계에 의하여 액정 화소들이 제어된다. 이에 따라, 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 비디오 데이터에 대응하여 빠른 속도로 응답하는 화상을 표시할 수 있다. 이 결과, 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 화상의 열화 및 블러링 현상을 최소화할 수 있다. 나아가, 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 화상의 질을 향상시킬 수 있다.As described above, the liquid crystal display according to the embodiment allows the liquid crystal pixels to be driven by the pixel driving signal Vpds individually at the time of displaying the grayscale lighter than the lowest grayscale (i.e., black), while at the time of displaying the lowest grayscale And is initialized by the vertical common voltage (Vvcomh) of high potential. In other words, in the liquid crystal display according to the embodiment, the liquid crystal pixels are controlled by the electric field even in the display of the lowest gray level as well as the gray level that is brighter (or higher) than the lowest gray level. Accordingly, the liquid crystal display device according to the embodiment can display an image responding at a high speed corresponding to the video data. As a result, the liquid crystal display device according to the embodiment can minimize image deterioration and blurring phenomenon. Furthermore, the liquid crystal display device according to the embodiment can improve the image quality.

이상과 같이, 도 1 내지 도 12에 도시된 따른 빠른 응답 속도의 액정 화소, 액정 패널 및 액정 표시 장치들로 국한하여 실시 예들이 설명되었으나, 실시 예들이 속하는 기술 분야에 대한 통상의 지식을 가진 자라면 실시 예를 통해 드러난 기술적 사상 및 범위를 일탈하지 않으면서 다양한 변형, 변경 및 균등한 타 실시 예들이 가능하다는 것을 명백하게 알 수 있을 것이다. 따라서, 실시 예들에서 드러난 기술적 사상 및 범위는 실시 예의 설명에 국한될 수는 없고 첨부된 특허청구의 범위에 기재된 사항에 의하여 설정되어야 할 것이다.As described above, embodiments have been described focusing on liquid crystal pixels, liquid crystal panels, and liquid crystal display devices of the fast response speeds shown in FIGS. 1 to 12. However, those skilled in the art It will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. Therefore, the technical idea and scope disclosed in the embodiments should not be limited to the description of the embodiment but should be set by the matters described in the appended claims.

도 1 은 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 화소를 상세하게 설명하는 회로도이다.1 is a circuit diagram for explaining a liquid crystal pixel of a fast response speed according to an embodiment in detail.

도 2 는 도 1의 액정 화소에 공급되는 신호들의 파형을 설명하는 파형도이다.2 is a waveform diagram for explaining a waveform of signals supplied to the liquid crystal pixel of FIG.

도 3 는 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널의 구성을 개략적으로 설명하는 회로도이다.3 is a circuit diagram schematically illustrating the configuration of a liquid crystal panel of a fast response speed according to an embodiment.

도 4a 및 도 4b 는 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널에 포함된 제 1 및 제2 어레이 기판의 평면 구조를 상세하게 설명하는 평면도이다.4A and 4B are plan views illustrating in detail the planar structure of the first and second array substrates included in the liquid crystal panel of the fast response speed according to the embodiment.

도 5 는 실시 예의 빠른 응답 속도의 액정 패널의 단면 구조를 상세하게 설명하기 위하여 도 4의 제1 및 제2 어레이 기판들을 Ⅰ-Ⅰ' 선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view of the first and second array substrates of FIG. 4 taken along the line I-I 'in order to explain the cross-sectional structure of a liquid crystal panel of a fast response speed in the embodiment in detail.

도 6 은 백 레벨의 화소 구동 신호에 대한 화소 전극과 수평 공통 전극과의 이격 거리별 액정 화소의 광 투과 특성들을 설명하는 특성도이다.6, And is a characteristic diagram for explaining light transmission characteristics of a liquid crystal pixel according to a distance between a pixel electrode and a horizontal common electrode with respect to a back-level pixel driving signal.

도 7 은 백 레벨의 화소 구동 신호에 대한 제1 및 제2 어레이 기판의 이격 거리별 액정 화소의 광 투과 특성들을 설명하는 특성도이다.Figure 7 FIG. 4 is a characteristic view for explaining light transmission characteristics of a liquid crystal pixel according to a distance between the first and second array substrates with respect to a back-level pixel driving signal; FIG.

도 8은 액정 물질의 굴절율 이방성 값에 대한 제1 및 제2 어레이 기판의 이격 거리별 액정 화소의 최대 투과율 특성들을 설명하는 특성도이다.8 is a characteristic diagram for explaining maximum transmittance characteristics of a liquid crystal pixel according to the distance between the first and second array substrates with respect to the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material.

도 9는, 제1 및 제2 어레이 기판의 이격 거리가 3.4㎛임과 아울러 액정 물질의 굴절율 이방성 값이 0.12로 설정한 상태에서, 수직 공통 전극(VCE)과 수평 공통 전극(HCE) 간의 전위 차에 대한 액정 화소의 광 투과 특성을 비교-설명하는 특성도 이다.9 is a graph showing the relationship between the potential difference between the vertical common electrode (VCE) and the horizontal common electrode (HCE) in a state where the distance between the first and second array substrates is 3.4 占 퐉 and the refractive index anisotropy value of the liquid crystal material is set to 0.12. FIG. 5 is a characteristic diagram for comparing and explaining the light transmission characteristics of a liquid crystal pixel with respect to FIG.

도 10a 및 도 10b 는 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 패널에 포함된 제1 및 제2 어레이 기판의 평면 구조를 상세하게 설명하는 평면도이다.10A and 10B are plan views illustrating in detail the planar structure of the first and second array substrates included in the liquid crystal panel of the fast response speed according to the embodiment.

도 11 는 일 실시 예의 빠른 응답 속도의 액정 패널의 단면 구조를 상세하게 설명하기 위하여 도 10의 제1 및 제2 어레이 기판들을 Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절단한 단면도이다.11 is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of the first and second array substrates of FIG. 10 in order to explain a cross-sectional structure of a liquid crystal panel having a fast response speed according to an embodiment.

도 12는 실시 예에 따른 빠른 응답 속도의 액정 표시 장치를 상세하게 설명 하는 블록도이다.12 is a block diagram for explaining a liquid crystal display of a fast response speed according to an embodiment in detail.

≪도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명≫DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS

10,40 : 제1 어레이 기판 12,42 : 제1 투명 기판10, 40: first array substrate 12, 42: first transparent substrate

14,24,54 : 절연막 16 : 보호층14, 24, 54: insulating film 16: protective layer

20,50 : 제2 어레이 기판 22,52 : 제2 투명 기판20, 50: second array substrate 22, 52: second transparent substrate

26 : 오버 코팅 층 44 : 층간 절연막26: overcoat layer 44: interlayer insulating film

46 : 게이트 절연막 100 : 액정 패널46: gate insulating film 100: liquid crystal panel

102A : 메인 게이트 드리이버 102B : 서브 게이트 드라이버102A: main gate driver 102B: sub gate driver

104 : 데이터 드라이버 106 : 타이밍 컨트롤러104: Data driver 106: Timing controller

108 : 데이터 변환기 110 : 공통 전압 발생부108: Data converter 110: Common voltage generator

112 : 수직 공통 라인 드라이버112: vertical common line driver

Claims (21)

수평 공통 전압 라인에 접속된 수평 공통 전극을 가지는 액정 셀;A liquid crystal cell having a horizontal common electrode connected to a horizontal common voltage line; 게이트 라인 상의 스캔 신호에 응답하여 데이터 라인으로부터 상기 액정 셀의 화소 전극에 공급될 화소 구동 신호를 스위칭하는 제1 스위치 소자;A first switch element for switching a pixel drive signal to be supplied from the data line to the pixel electrode of the liquid crystal cell in response to a scan signal on the gate line; 상기 게이트 라인 상의 상기 스캔 신호에 응답하여 수직 공통 라인으로부터 상기 액정 셀의 수직 공통 전극에 공급될 수직 공통 전압을 스위칭하는 제2 스위치 소자를 구비하고,And a second switch element for switching a vertical common voltage to be supplied from a vertical common line to a vertical common electrode of the liquid crystal cell in response to the scan signal on the gate line, 상기 화소 구동 신호를 흑 레벨 전압과 비교하여 상기 수직 공통 전압은 상기 화소 구동 신호의 최대 전압 레벨보다 높은 고 전위 레벨과 상기 수평 공통 전압 라인 상의 전압에 해당하는 저 전위 레벨을 선택적으로 가지고,Wherein the vertical common voltage has a high potential level higher than a maximum voltage level of the pixel driving signal and a low potential level corresponding to a voltage on the horizontal common voltage line, 상기 수직 공통 전압은The vertical common voltage 상기 화소 구동 신호가 흑 레벨 전압을 가질 때 상기 고 전위 레벨을 유지하고,When the pixel driving signal has a black level voltage, 상기 화소 구동 신호가 흑 레벨 전압보다 높은 때에는 상기 저 전위 레벨을 가지는 것을 특징으로 하는 액정 화소.And when the pixel driving signal is higher than the black level voltage, the liquid crystal pixel has the low potential level. 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 게이트 라인이 메인 및 서브 게이트 라인을 포함하고,Wherein the gate line includes main and sub gate lines, 상기 제1 스위치 소자가 상기 메인 게이트 라인 상의 메인 스캔 신호에 응답하고,The first switch element responds to a main scan signal on the main gate line, 상기 제2 스위치 소자가 상기 서브 게이트 라인 상의 서브 스캔 신호에 응답하는 것을 특징으로 하는 액정 화소.And the second switch element responds to a sub-scan signal on the sub-gate line. 서로 교차하는 다수의 메인 게이트 라인 및 다수의 데이터 라인에 의하여 구분된 단위 영역들 각각에, 수평 공통 전압 라인에 공통-접속된 수평 공통 전극, 이 수평 공통 전극과 교번-배열된 화소 전극, 및 대응하는 메인 게이트 라인, 및 데이터 라인 및 화소 전극 사이에 접속된 메인 박막 트랜지스터가 형성된 제1 기판;Each of the unit areas divided by a plurality of main gate lines and a plurality of data lines intersecting with each other includes a horizontal common electrode common-connected to the horizontal common voltage line, a pixel electrode alternately arranged with the horizontal common electrode, A main gate line, and a data line and A first substrate on which a main thin film transistor connected between pixel electrodes is formed; 상기 메인 게이트 라인들과 대향하는 다수의 서브 게이트 라인 및 상기 데이터 라인들과 대향하는 다수의 수직 공통 전압 라인에 의하여 구분된 단위 영역들 각각에 위치한 수직 공통 전극, 및 대응하는 서브 게이트 라인, 대응하는 수직 공통 전압 라인 및 대응하는 수평 공통 전극 사이에 접속된 서브 박막 트랜지스터가 형성된 제2 기판; 및A plurality of subgate lines opposed to the main gate lines and a plurality of vertical common voltage lines opposed to the data lines, A second substrate formed with a vertical common electrode located in each of the regions, and a sub-thin film transistor connected between the corresponding sub gate line, a corresponding vertical common voltage line, and a corresponding horizontal common electrode; And 상기 제1 기판의 상기 화소 및 수평 공통 전극과 상기 제2 기판의 상기 수직 공통 전극 사이에 배치된 액정 층을 구비하고,And a liquid crystal layer disposed between the pixel and the horizontal common electrode of the first substrate and the vertical common electrode of the second substrate, 상기 화소 전극에 공급될 화소 구동 신호를 흑 레벨 전압과 비교하여 상기 수직 공통 전극에 공급될 수직 공통 전압은 상기 화소 구동 신호의 최대 전압 레벨보다 높은 고 전위 레벨과 상기 수평 공통 전압 라인 상의 전압에 해당하는 저 전위 레벨을 선택적으로 가지고,A vertical common voltage to be supplied to the vertical common electrode is higher than a voltage level on the horizontal common voltage line and a high electric potential level that is higher than a maximum voltage level of the pixel driving signal by comparing the pixel driving signal to be supplied to the pixel electrode with a black level voltage Lt; RTI ID = 0.0 > low < / RTI & 상기 수직 공통 전압은The vertical common voltage 상기 화소 구동 신호가 흑 레벨 전압을 가질 때 상기 고 전위 레벨을 유지하고,When the pixel driving signal has a black level voltage, 상기 화소 구동 신호가 흑 레벨 전압보다 높은 때에는 상기 저 전위 레벨을 가지는 것을 특징으로 하는 액정 패널.And when the pixel driving signal is higher than the black level voltage, the liquid crystal panel has the low potential level. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 화소 전극과 상기 수평 공통 전극은 서로 3.0 ~ 5.0㎛ 범위로 이격되게 배치되는 것을 특징으로 하는 액정 패널.Wherein the pixel electrode and the horizontal common electrode are spaced apart from each other by 3.0 to 5.0 mu m. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 화소 전극과 상기 수평 공통 전극은 서로 4.0㎛로 이격되게 배치되는 것을 특징으로 하는 액정 패널.Wherein the pixel electrode and the horizontal common electrode are spaced apart from each other by 4.0 mu m. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 제1 및 제2 기판은 서로 3.4 ~ 5.0㎛ 범위로 이격되게 배치되는 것을 특징으로 하는 액정 패널.Wherein the first and second substrates are spaced apart from each other in a range of 3.4 to 5.0 mu m. 제 5 항에 있어서,       6. The method of claim 5, 상기 제1 및 제2 기판은 서로 4.0㎛로 이격되게 배치되는 것을 특징으로 하는 액정 패널.Wherein the first and second substrates are spaced apart from each other by 4.0 mu m. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 액정 층은 380~440㎚ 범위의 광 지연량의 액정 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 패널.Wherein the liquid crystal layer comprises a liquid crystal material having a light delay amount in the range of 380 to 440 nm. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 액정 층은 400㎚의 광 지연량의 액정 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 패널.Wherein the liquid crystal layer comprises a liquid crystal material with a light delay amount of 400 nm. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 액정 층은 플로오로(Fluoro) 치환계 액정 물질들 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 패널.Wherein the liquid crystal layer comprises any one of Fluoro substitution liquid crystal materials. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 수직 공통 전압 라인은 상기 수평 공통 라인에 공급되는 전압에 해당하는 저 전위 전압과 이 저 전위 전압보다 9.0V 높은 고 전위 전압이 선택적으로 공급되는 것을 특징으로 하는 액정 패널.Wherein the vertical common voltage line is selectively supplied with a low potential voltage corresponding to a voltage supplied to the horizontal common line and a high potential voltage having a voltage higher than the low potential voltage by 9.0V. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 수평 공통 전극은 상기 게이트 라인과 같은 층에 위치하는 것을 특징으로 하는 액정 패널.And the horizontal common electrode is located in the same layer as the gate line. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 수평 공통 전극은 상기 게이트 라인의 하부에 위치하는 것을 특징으로 하는 액정 패널.And the horizontal common electrode is located below the gate line. 단위 영역들을 구분하게 서로 교차하는 다수의 메인 게이트 라인 및 다수의 데이터 라인, 수평 공통 전압 라인과 접속되게 상기 단위 영역들 각각에 마련된 수평 공통 전극, 상기 수평 공통 전극과 교번하게 배열되는 화소 전극, 및 대응하는 메인 게이트 및 데이터 라인들 및 화소 전극 사이에 접속된 메인 박막 트랜지스터를 제1 기판에 형성하는 단계;A plurality of main gate lines and a plurality of data lines intersecting with each other to divide unit areas, a horizontal common electrode provided in each of the unit areas to be connected to a horizontal common voltage line, a pixel electrode arranged alternately with the horizontal common electrode, Corresponding main gate and data lines and Forming a main thin film transistor connected between pixel electrodes on a first substrate; 상기 메인 게이트 라인들과 대향하는 다수의 서브 게이트 라인, 상기 데이터 라인들과 대향하는 다수의 수직 공통 전압 라인, 이들 서브 게이트 라인들 및 수직 공통 전압 라인들에 의하여 구분된 단위 영역들 각각에 위치하는 수직 공통 전극, 및 대응하는 서브 게이트 라인, 대응하는 수직 공통 전압 라인 및 대응하는 수평 공통 전극 사이에 접속된 서브 박막 트랜지스터를 제2 기판에 형성하는 단계;A plurality of subgate lines opposed to the main gate lines, a plurality of vertical common voltage lines opposed to the data lines, a unit divided by the subgate lines and the vertical common voltage lines Forming a sub-thin film transistor on the second substrate, the sub-thin film transistor being connected between a corresponding one of the sub-gate lines, a corresponding vertical common voltage line and a corresponding horizontal common electrode; 상기 화소 및 수평 공통 전극이 상기 수직 공통 전극과 대향하게 상기 제1 및 제2 기판을 배치하는 단계; 및Disposing the first and second substrates such that the pixel and the horizontal common electrode face the vertical common electrode; And 상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정 물질을 주입하는 단계를 포함하고,And injecting a liquid crystal material between the first and second substrates, 상기 화소 전극에 공급될 화소 구동 신호를 흑 레벨 전압과 비교하여 상기 수직 공통 전극에 공급될 수직 공통 전압은 상기 화소 구동 신호의 최대 전압 레벨보다 높은 고 전위 레벨과 상기 수평 공통 전압 라인 상의 전압에 해당하는 저 전위 레벨을 선택적으로 가지고,A vertical common voltage to be supplied to the vertical common electrode is higher than a voltage level on the horizontal common voltage line and a high electric potential level that is higher than a maximum voltage level of the pixel driving signal by comparing the pixel driving signal to be supplied to the pixel electrode with a black level voltage Lt; RTI ID = 0.0 > low < / RTI & 상기 수직 공통 전압은The vertical common voltage 상기 화소 구동 신호가 흑 레벨 전압을 가질 때 상기 고 전위 레벨을 유지하고,When the pixel driving signal has a black level voltage, 상기 화소 구동 신호가 흑 레벨 전압보다 높은 때에는 상기 저 전위 레벨을 가지는 것을 특징으로 하는 액정 패널 제조 방법.And when the pixel driving signal is higher than the black level voltage, the liquid crystal panel has the low electric potential level. 다수의 게이트 라인 및 다수의 데이터 라인에 의하여 구분된 단위 영역들 각각에 배치된 액정 셀, 수평 공통 전압 라인과 접속되게 상기 단위 영역들 각각에 마련된 수평 공통 전극, 상기 데이터 라인들에 각각 대응된 수직 공통 전압 라인들, 대응하는 게이트 라인 상의 스캔 신호에 응답하여 대응하는 데이터 라인과 대응하고 상기 수평 공통 전극과 교번하게 배열되는 액정 셀의 화소 전극을 선택적으로 연결하는 제1 스위치 소자, 및 대응하는 게이트 라인 상의 상기 스캔 신호에 응답하여 대응하는 수직 공통 라인과 대응하는 액정 셀의 수직 공통 전극을 선택적으로 연결하는 제2 스위치 소자를 가지는 액정 패널;A liquid crystal cell arranged in each unit region divided by a plurality of gate lines and a plurality of data lines, a horizontal common electrode provided in each of the unit regions so as to be connected to a horizontal common voltage line, A first switch element for selectively connecting the pixel electrodes of the liquid crystal cells corresponding to the corresponding data lines in response to the scan signals on the corresponding gate lines and arranged alternately with the horizontal common electrodes, A liquid crystal panel having a second switch element for selectively connecting a vertical common line and a vertical common electrode of a corresponding liquid crystal cell in response to the scan signal on the line; 화소 데이터 스트림을 흑 레벨 제어 데이터 스트림으로 변환하는 데이터 변환기;A data converter for converting the pixel data stream into a black level control data stream; 상기 액정 패널 상의 게이트 라인들을 순차-구동하는 게이트 드라이버;A gate driver sequentially driving the gate lines on the liquid crystal panel; 화소 데이터 스트림에 응답하여 상기 데이터 라인들을 구동하는 데이터 드라이버; 및A data driver for driving the data lines in response to a pixel data stream; And 상기 흑 레벨 제어 데이터 스트림에 응답하여 상기 다수의 수직 공통 전압 라인들 각각을 선택적으로 구동하는 수직 공통 라인 드라이버를 구비하고,And a vertical common line driver for selectively driving each of the plurality of vertical common voltage lines in response to the black level control data stream, 상기 화소 전극에 공급될 화소 구동 신호를 흑 레벨 전압과 비교하여 상기 수직 공통 전극에 공급될 수직 공통 전압은 상기 화소 구동 신호의 최대 전압 레벨보다 높은 고 전위 레벨과 상기 수평 공통 전압 라인 상의 전압에 해당하는 저 전위 레벨을 선택적으로 가지고,A vertical common voltage to be supplied to the vertical common electrode is higher than a voltage level on the horizontal common voltage line and a high electric potential level that is higher than a maximum voltage level of the pixel driving signal by comparing the pixel driving signal to be supplied to the pixel electrode with a black level voltage Lt; RTI ID = 0.0 > low < / RTI & 상기 흑 레벨 제어 데이터는 상기 화소 데이터가 흑 계조를 가질 경우에 인에이블 값을 가지는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.Wherein the black level control data has an enable value when the pixel data has black gradation. 삭제delete 제 17 항에 있어서,18. The method of claim 17, 상기 데이터 변환기는 화소 데이터를 NOR 및 OR 연산 어느 하나를 수행하는 논리 회로를 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.Wherein the data converter comprises a logic circuit for performing NOR and OR operations on the pixel data. 화소 데이터 스트림을 흑 레벨 제어 데이터 스트림으로 변환하는 단계;Converting the pixel data stream into a black level control data stream; 액정 패널 상의 다수의 게이트 라인들을 순차적으로 구동하는 단계;Sequentially driving a plurality of gate lines on a liquid crystal panel; 화소 데이터 스트림에 응답하여 상기 액정 패널 상의 다수의 데이터 라인들을 구동하는 단계; 및Driving a plurality of data lines on the liquid crystal panel in response to a pixel data stream; And 상기 흑 레벨 제어 데이터 스트림에 응답하여 상기 데이터 라인들과 대응하 는 상기 액정 패널 상의 다수의 수직 공통 전압 라인들 각각을 선택적으로 구동하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 구동 방법.And selectively driving each of the plurality of vertical common voltage lines on the liquid crystal panel corresponding to the data lines in response to the black level control data stream. 제 20 항에 있어서, 상기 액정 패널이The liquid crystal display device according to claim 20, 상기 다수의 게이트 라인 및 상기 다수의 데이터 라인에 의하여 구분된 단위 영역들 각각에 배치된 액정 셀;A liquid crystal cell disposed in each of the plurality of gate lines and the unit regions divided by the plurality of data lines; 대응하는 게이트 라인 상의 스캔 신호에 응답하여 대응하는 데이터 라인과 대응하는 액정 셀의 화소 전극을 선택적으로 연결하는 제1 스위치 소자; 및A first switch element for selectively connecting a pixel electrode of a corresponding liquid crystal cell to a corresponding data line in response to a scan signal on a corresponding gate line; And 대응하는 게이트 라인 상의 상기 스캔 신호에 응답하여 대응하는 수직 공통 라인과 대응하는 액정 셀의 수직 공통 전극을 선택적으로 연결하는 제2 스위치 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 구동 방법.And a second switch element for selectively connecting a vertical common line of a corresponding liquid crystal cell to a corresponding vertical common line in response to the scan signal on a corresponding gate line.
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