KR101442937B1 - Method for starting high-density-sludge generating water treatment device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 단기간에 행할 수 있는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법을 제공하는 것으로, 일련의 공정을 반복하여 고밀도 오니를 생성하고, 본 운전을 실시하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법에 있어서, 상기 일련의 공정을 반복함으로써 상기 장치 내의 저밀도 오니로부터 고밀도 오니를 생성하는 고밀도 오니 생성 공정을 포함하고, 그 고밀도 오니 생성 공정 중에 침전조의 조내액의 액면보다 하방의 영역 (조내액 영역) 의 체적에 대한 상기 침전조 내의 오니 계면보다 하방의 영역 (분리 오니 영역) 의 체적의 비율인 오니 체적 비율이 30 vol% 이하가 되도록 제어하는 제어 공정을 포함하는 방법이다.The present invention provides a method for operating a high-density sludge generation type water treatment apparatus capable of shortening the operation time of a high-density sludge generation type water treatment apparatus. The method includes the steps of: repeating a series of steps to generate high- density sludge; And a high-density sludge generation step of generating a high-density sludge from the low-density sludge in the apparatus by repeating the series of steps, wherein in the high-density sludge generation step, (Sludge volume ratio), which is the ratio of the volume of the area (separated sludge area) below the sludge interface in the sedimentation tank to the volume of the area of the sludge-collecting sludge area (tank inner liquid area), is 30 vol% or less.
Description
본 발명은 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for operating a high-density sludge generation type water treatment apparatus.
최근, 중화 반응에 의한 금속 수산화물 석출 반응 등에 의해 생성되는 고밀도 오니 (HDS (High Density Solids) 오니) 가 주목받고 있다. 고밀도 오니는, 침강성과 탈수성이 우수하여, 오니의 용적 감용화에 유용하다고 생각되고 있다. 고밀도 오니는 일반적으로 다음과 같은 방법으로 생성된다. 즉 알루미늄 이온 등의 무기계 이온을 함유하는 원수 (原水) 를 불용화 처리조 및 응집 침전조에서 순차 처리하고, 응집 침전조에서 얻어진 분리 오니를 오니 개질조에 공급한다. 그리고, 오니 개질조에서, 분리 오니에 알칼리를 흡착시켜 흡착 오니를 생성한 후, 이 흡착 오니와 무기성 배수 중의 무기계 이온을 접촉시켜, 흡착 오니 표면에 불용화물을 형성시킨다. 이와 같이 하여 원수를 처리하는 동안에 고밀도 오니가 생성된다.In recent years, high density sludge (HDS (High Density Solids) sludge) generated by a reaction of metal hydroxide precipitation by a neutralization reaction has attracted attention. The high-density sludge is excellent in sedimentation property and dewatering property, and is thought to be useful for volume reduction of sludge. High-density sludge is generally produced in the following manner. That is, raw water (raw water) containing inorganic ions such as aluminum ions is sequentially treated in the insolubilization treatment tank and coagulation sedimentation tank, and the separated sludge obtained in the coagulation sedimentation tank is supplied to the sludge reforming tank. Then, in the sludge reforming tank, alkali is adsorbed to the separated sludge to produce adsorbed sludge, and then the adsorbed sludge and the inorganic ions in the inorganic wastewater are brought into contact with each other to form an insoluble matter on the surface of the adsorbed sludge. In this manner, high-density sludge is produced during the treatment of the raw water.
이와 같은 고밀도 오니를 생성하려면, 고밀도 오니를 생성하는 것이 가능한 수처리 장치 (이하, 「고밀도 오니 생성형 수처리 장치」라고 한다) 를 신설하는 것은 물론, 응집 침전조를 포함하는 기설 (旣設) 수처리 장치를, 개조에 의해 고밀도 오니 생성형 수처리 장치로 전환하는 것도 생각할 수 있다. 이 때, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치에 원수의 공급이 개시되면, 특히 기설 수처리 장치를 고밀도 오니 생성형 수처리 장치로 전환하는 경우에는, 원수를 배출하는 공장이 풀 가동 상태에 있기 때문에 원수의 유량이나 무기계 이온 농도가 높아져 있는 경우가 많다. 그 때문에, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치를 단기간에 가동시키는 것, 즉, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치에 있어서, 고밀도 오니의 농도를 단기간에 높이는 것이 매우 중요해진다.In order to produce such a high-density sludge, a water treatment apparatus capable of generating a high-density sludge (hereinafter referred to as a "high-density sludge generation water treatment apparatus") is installed, and an existing water treatment apparatus including a flocculation- , It is also conceivable to switch to a high-density sludge generation type water treatment apparatus by modification. At this time, when the supply of the raw water to the high-density sludge generation type water treatment apparatus is started, and particularly when the existing water treatment apparatus is switched to the high density sludge generation type water treatment apparatus, since the factory for discharging the raw water is in a full- The inorganic ion concentration is often high. Therefore, it is very important to increase the concentration of the high-density sludge in a short period of time in the high-density sludge generation type water treatment apparatus, that is, to operate the high-density sludge generation type water treatment apparatus in a short period of time.
고밀도 오니 생성형 수처리 장치에 있어서 고밀도 오니의 농도를 단기간에 높이는 방법으로서, 하기 특허문헌 1 에 기재된 것이 알려져 있다. 하기 특허문헌 1 에서는, 원수를 반응조 (불용화 처리조에 상당) 에 공급하기 전에, 무기계 이온원을 함유하는 화합물과 불용화제를 반응조에 첨가하고, 오니의 배니를 실시하지 않고 고액 분리조에 오니를 축적시켜, 종정 (種晶) 이 되는 오니를 충분히 확보하고 나서 원수를 반응조에 공급함으로써 수처리 장치의 가동을 단기간에 행하는 것이 제안되어 있다.As a method for increasing the concentration of high-density sludge in a high-density sludge-generation-type water treatment apparatus in a short period of time, there is known one disclosed in Patent Document 1 below. Patent Document 1 discloses a method of adding a compound containing an inorganic ion source and an insolubilizing agent to a reaction tank before raw water is supplied to a reaction tank (corresponding to an insolubilizing treatment tank), accumulating sludge in a solid- , It is proposed that the water treatment apparatus is operated in a short period of time by supplying raw water to the reaction tank after sufficiently securing the sludge which becomes a seed crystal.
그러나, 상기 특허문헌 1 에 기재된 방법에는, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 기간 단축의 관점에서는 여전히 개량의 여지가 있었다.However, the method described in Patent Document 1 still has room for improvement in terms of shortening the operation period of the high-density sludge generation type water treatment apparatus.
본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 단기간에 행할 수 있는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a method for operating a high-density sludge generation type water treatment apparatus capable of short-time operation of a high-density sludge generation type water treatment apparatus.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 연구를 거듭하였다. 먼저 특허문헌 1 의 가동 방법에서는, 고액 분리조 내의 분리 오니를 배니하지 않고 축적시키기 때문에, 조 내의 오니량이 매우 많다. 이 때문에, 가동 초기 단계에서는, 고액 분리조 내에 과잉으로 존재하는 응집 블록의 고밀도 오니에 대한 개질이 분산되기 때문에, 계 내를 순환하는 고밀도 오니의 비율이 좀처럼 커지지 않아, 그 고밀도 오니의 농도를 단기간에 높일 수는 없을까 하고 본 발명자들은 생각하였다. 그래서, 본 발명자들은 더욱 예의 연구를 거듭한 결과, 가동 초기 단계에서, 고액 분리조의 조 내의 분리 오니 영역의 체적 비율이 일정값 이하가 되도록 제어함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have conducted intensive studies to solve the above problems. First, in the operation method of Patent Document 1, since the separated sludge in the solid-liquid separating tank is accumulated without returning, the amount of sludge in the tank is very large. Therefore, in the initial stage of the operation, since the modification of the dense sludge of the aggregated block existing excessively in the solid-liquid separation tank is dispersed, the ratio of the high-density sludge circulating in the system hardly becomes large and the concentration of the high- The present inventors thought that it would not be possible to increase it. The inventors of the present invention have conducted extensive research and have found out that the above problems can be solved by controlling the volume ratio of the separated sludge area in the tank of the solid-liquid separation tank to be a predetermined value or less at the initial stage of operation, .
즉 본 발명은, 도입되는 무기계 이온 함유 배수 중의 무기계 이온을 불용화하는 불용화 처리조와, 상기 불용화 처리조로부터 도입된 배출수를 처리수와 분리 오니로 침강 분리하는 침전조와, 상기 침전조와 상기 불용화 처리조를 접속하는 분리 오니 공급 라인과, 상기 분리 오니 공급 라인 상에 설치되어, 상기 침전조로부터 상기 분리 오니 공급 라인을 거쳐 도입된 분리 오니의 표면에, 상기 무기계 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온을 함유하는 카운터 이온 함유 물질을 흡착시켜, 얻어진 흡착 오니를 상기 불용화 처리조에 공급하는 오니 개질조와, 상기 오니 개질조에 상기 카운터 이온 함유 물질을 공급하는 카운터 이온 함유 물질 공급 수단을 구비하고, 상기 불용화 처리조에 도입된 무기계 이온 함유 배수를, 상기 오니 개질조로부터 공급된 상기 흡착 오니와 접촉시키고, 상기 무기계 이온 함유 배수 중의 무기계 이온을 상기 흡착 오니의 상기 카운터 이온과 반응시켜 불용화하는 불용화 공정과, 상기 불용화 처리조로부터 도입된 배출수를 상기 침전조에서 처리수와 분리 오니로 침강 분리하는 침강 분리 공정과, 상기 침전조로부터 배출되는 상기 분리 오니의 적어도 일부를, 상기 분리 오니 공급 라인을 거쳐 상기 오니 개질조에 공급하는 분리 오니 공급 공정과, 상기 오니 개질조에 도입된 상기 분리 오니의 표면에 상기 카운터 이온 함유 물질을 흡착시켜 흡착 오니를 생성하는 흡착 오니 생성 공정을 포함하는 일련의 공정을 반복함으로써 고밀도 오니를 생성하고, 본 운전을 실시하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 상기 본 운전 전에 행해지는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법에 있어서, 상기 일련의 공정을 반복함으로써 상기 장치 내의 저밀도 오니로부터 고밀도 오니를 생성하는 고밀도 오니 생성 공정을 포함하고, 그 고밀도 오니 생성 공정 중에, 상기 침전조 내의 상기 침전조의 조내액의 액면보다 하방의 영역 (조내액 영역) 의 체적에 대한 오니 계면보다 하방의 영역 (분리 오니 영역) 의 체적의 비율인 오니 체적 비율이 30 vol% 이하가 되도록 제어하는 제어 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법이다.That is, the present invention provides a process for producing a water-insoluble material, comprising: an insolubilizing treatment tank for insolubilizing inorganic ions in introduced inorganic ion-containing wastewater; a sedimentation tank for precipitating and separating effluent water introduced from the insolubilizing treatment tank into treated sludge and separated sludge; A separation sludge supply line connected to the sludge feed line and connected to the separation sludge supply line, and a counter for forming the inorganic ion and the insoluble matter on the surface of the separated sludge, And a counter ion-containing substance supply means for supplying the counter ion-containing substance to the sludge reforming tank, wherein the counter ion-containing substance supply means comprises a counter ion-containing substance supply means for adsorbing the counterion- The inorganic ion-containing wastewater introduced into the insolubilizing treatment tank is supplied from the sludge reforming tank An insolubilizing step of bringing the inorganic ion in the inorganic ion-containing wastewater into contact with the adsorbing sludge and causing the inorganic ion in the inorganic ion-containing wastewater to react with the counter ion of the adsorbing sludge to insolubilize the effluent; A separation sludge supply step of supplying at least a part of the separated sludge discharged from the sedimentation tank to the sludge reforming tank via the separated sludge supply line; And an adsorbing sludge generating step of adsorbing the counterion-containing material on the surface of the separated sludge to produce an adsorbed sludge, thereby producing a high-density sludge and performing the present operation. In the high-density sludge generation type water treatment apparatus The high-density sludge generation type water treatment apparatus And a high-density sludge generation step of generating high-density sludge from the low-density sludge in the apparatus by repeating the series of steps, wherein during the high-density sludge generation step, the sedimentation tank (Sludge volume ratio), which is the ratio of the volume of the area (sludge separation area) below the sludge interface with respect to the volume of the area (tank inner liquid area) of the high density sludge This is a method of operating the generation type water treatment apparatus.
이 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법에 의하면, 무기계 이온 함유 배수가 불용화 처리조에 도입된다. 한편, 카운터 이온 함유 물질 공급 수단에 의해 오니 개질조에 카운터 이온 함유 물질이 공급되면, 분리 오니의 표면에 카운터 이온 함유 물질이 흡착되어 흡착 오니가 생성되고, 이 흡착 오니는, 오니 개질조로부터 불용화 처리조에 공급된다. 이 때, 불용화 처리조에서 무기계 이온 함유 배수와 흡착 오니가 접촉됨으로써, 무기계 이온 함유 배수 중의 무기계 이온이 흡착 오니의 카운터 이온과 반응하여 불용화된다. 그리고, 불용화 처리조로부터의 배출수는 침전조에 도입되어, 분리 오니와 처리수로 침강 분리된다. 그리고, 분리 오니의 적어도 일부가 침전조로부터 분리 오니 공급 라인을 거쳐 오니 개질조에 공급되고, 상기와 같이 오니 개질조에서 흡착 오니가 생성되고, 이 흡착 오니가 오니 개질조로부터 불용화 처리조에 공급된다. 이렇게 하여 상기의 일련의 공정이 반복하여 행해지는 것에 의해 고밀도 오니가 생성된다. 그리고, 이 일련의 공정을 반복하여 행하여 고밀도 오니를 생성·성장시키면서, 조내액 영역의 체적에 대한 분리 오니 영역의 체적의 비율인 오니 체적 비율이 30 vol% 이하가 되도록 제어된다. 이로써, 침전조에서, 분리 오니 중에 있어서의 고밀도 오니의 비율이 낮아지는 것을 억제할 수 있어, 과잉량의 응집 블록에 의한 고밀도 오니의 생성 지연을 억제하는 것이 가능해진다. 이 때문에, 본 발명의 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법에 의하면, 고밀도 오니를 단기간에 충분히 생성하는 것이 가능해지고, 그 결과, 고밀도 오니의 농도를 단기간에 높이는 것이 가능해진다. 즉 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 단기간에 행할 수 있다. 그 결과, 가동 후의 본 운전을 조기에 행할 수 있다.According to this method of operating the high-density sludge-generation water treatment apparatus, the inorganic ion-containing wastewater is introduced into the insolubilization treatment tank. On the other hand, when the counter ion-containing substance is supplied to the sludge reforming tank by the counter ion-containing substance supply means, the counterion-containing substance is adsorbed on the surface of the separated sludge to generate adsorbed sludge. And is supplied to the treatment tank. At this time, since the inorganic ion-containing wastewater is brought into contact with the adsorbing sludge in the insolubilizing treatment tank, inorganic ions in the inorganic ion-containing wastewater react with the counter ions of the adsorbing sludge to be insoluble. Then, the effluent water from the insolubilization treatment tank is introduced into the sedimentation tank, and separated by sedimentation with the separated sludge and treated water. Then, at least a part of the separated sludge is supplied to the reforming tank through the separated sludge supply line from the settling tank, and adsorbed sludge is generated in the sludge reforming tank as described above, and this adsorbed sludge is supplied from the sludge reforming tank to the insoluble treatment tank. By repeating the above-described series of steps in this way, high-density sludge is produced. The sludge volume ratio, which is the ratio of the volume of the separated sludge region to the volume of the crude inner fluid region, is controlled to be 30 vol% or less while the high-density sludge is produced and grown by repeating this series of steps. As a result, in the sedimentation tank, the ratio of the high-density sludge in the separated sludge can be prevented from being lowered, and it is possible to suppress the generation delay of the high-density sludge by the excessive amount of the aggregated block. Therefore, according to the method of operating the high-density sludge generation type water treatment apparatus of the present invention, high-density sludge can be sufficiently generated in a short period of time, and as a result, the concentration of high-density sludge can be increased in a short period of time. That is, the operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus can be performed in a short period of time. As a result, the main operation after the operation can be performed early.
상기 가동 방법에 있어서는, 상기 오니 체적 비율이 4 ∼ 30 vol% 가 되도록 제어하는 것이 바람직하다.In the above-mentioned operating method, it is preferable to control the sintered body ratio to be 4 to 30 vol%.
이 경우, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동시에, 고밀도 오니를 보다 단기간에 충분히 생성하는 것이 가능해지고, 고밀도 오니의 농도를 보다 단기간에 높일 수 있다. 즉, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 보다 단기간에 행할 수 있다.In this case, at the time of operating the high-density sludge generation type water treatment apparatus, high-density sludge can be sufficiently generated in a short period of time, and the concentration of high-density sludge can be increased in a shorter period of time. That is, the operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus can be performed in a shorter period of time.
상기 가동 방법은, 상기 불용화 처리조에 상기 무기계 이온 함유 배수를 도입하는 배수 도입 공정과, 상기 침전조에 있어서의 침강 분리에 의해 얻어진 처리수를 배출하는 처리수 배출 공정을 추가로 포함하고, 상기 무기계 이온 함유 배수가 공장 배수인 경우에 특히 유용하다.Wherein the operation method further comprises a drainage introducing step of introducing the inorganic ion-containing drainage water into the insolubilization treatment vessel and a treatment water discharging step of discharging treatment water obtained by sedimentation separation in the sedimentation tank, This is particularly useful when ion-containing wastewater is plant wastewater.
이것은, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치에 공장 배수의 공급이 개시될 때에, 공장 배수를 배출하는 공장이 풀 가동 상태에 있어, 공장 배수의 유량이나 무기계 이온 농도가 높아져 있는 경우에는, 침전조에 있어서의 침강 분리에 의해 얻어진 처리수의 수질이 악화되기 쉬워지기 때문에, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치를 단기간에 가동시키는 것의 중요성이 보다 높아지기 때문이다.This is because, when the supply of the factory drainage to the high-density sludge generation-type water treatment apparatus is started, the plant discharging the factory drainage is in a full-on state, and when the flow rate of the factory drainage or the concentration of the inorganic ion is high, The water quality of the treated water obtained by the separation tends to be deteriorated, so that it becomes more important to operate the high-density sludge-generation type water treatment apparatus in a short period of time.
침전조의 오니 농도 C1 (g/ℓ) 의 분리 오니를 채취하여 메스 실린더에 넣고, 24 시간 정치 (靜置) 하여 오니를 침강 분리한 후의 오니의 농축 비율을 R 로 하고, 24 시간 정치 후의 침강 오니 영역 중의 오니 농도를 C2 (g/ℓ) 로 하면, C2=C1/R 로 나타난다. 여기서, 농축 비율 R 은, 메스 실린더에 있어서의 오니 영역의 용량의 비 (24 시간 정치 후의 오니 영역의 용량/24 시간 정치 전의 오니 영역의 용량) 로서 산출되는 비율이다. 본 발명에 있어서의 고밀도 오니란, 무기계 이온이 Al3 +, Fe2 +, Fe3 +, Cr2 +, F-, PO4 2 - 또는 SO4 2 -인 경우에는 C2 가 150 g/ℓ 이상이 되는 오니를 가리키고, 무기계 이온이 Cu2 +, Mn2 +, Ni2 + 또는 Zn2 + 인 경우에는 C2 가 50 g/ℓ 이상이 되는 오니를 가리킨다. 또한, 오니 농도의 단위는 g/ℓ 가 아니라 wt% 여도 된다. 이 경우, 본 발명에 있어서의 고밀도 오니란, 무기계 이온이 Al3 +, Fe2 +, Fe3 +, Cr2 +, F-, PO4 2 - 또는 SO4 2 - 인 경우에는 C2 가 15 wt% 이상이 되는 오니를 가리키고, 무기계 이온이 Cu2 +, Mn2 +, Ni2 + 또는 Zn2 + 인 경우에는 C2 가 5 wt% 이상이 되는 오니를 가리킨다. 또 상기 조건을 충족하지 않는 오니를 저밀도 오니라고 한다.The separated sludge having a sludge concentration C1 (g / l) of the sedimentation tank was taken out and placed in a measuring cylinder. After standing for 24 hours to precipitate and separate the sludge, the concentration ratio of the sludge was R, If the sludge concentration in the region is C2 (g / l), then C2 = C1 / R. Here, the concentration ratio R is a ratio calculated as the ratio of the capacity of the sludge region in the measuring cylinder (the capacity of the sludge region after standing for 24 hours / the capacity of the sludge region before standing for 24 hours). The high-density sludge in the present invention means that when the inorganic ion is Al 3 + , Fe 2 + , Fe 3 + , Cr 2 + , F - , PO 4 2 - or SO 4 2 - And when the inorganic ion is Cu 2 + , Mn 2 + , Ni 2 + or Zn 2 + , it indicates that sludge has a C 2 of 50 g / ℓ or more. Also, the unit of the sludge concentration may be wt% instead of g / l. In this case, the high density sludge in the present invention means that when the inorganic ion is Al 3 + , Fe 2 + , Fe 3 + , Cr 2 + , F - , PO 4 2 - or SO 4 2 - %, And when the inorganic ion is Cu 2 + , Mn 2 + , Ni 2 + or Zn 2 + , the sludge has a C 2 content of 5 wt% or more. The sludge which does not satisfy the above conditions is referred to as low-density sludge.
본 발명의 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법에 의하면, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 단기간에 행할 수 있다.According to the method for operating the high-density sludge generation type water treatment apparatus of the present invention, the operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus can be performed in a short period of time.
도 1 은 본 발명에 관련된 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법의 대상이 되는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 일례를 나타내는 플로우도이다.
도 2 는 침전조에 있어서의 분리 오니 영역 및 조내액 영역을 나타내는 모식도이다.
도 3 은 실시예 4 및 비교예 1 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 4 는 실시예 9 및 비교예 3 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 5 는 실시예 10 및 비교예 4 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 6 은 실시예 11 및 비교예 5 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 7 은 실시예 12 및 비교예 6 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 8 은 실시예 13 및 비교예 7 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 9 는 실시예 14 및 비교예 8 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 10 은 실시예 15 및 비교예 9 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 11 은 실시예 16 및 비교예 10 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 12 는 실시예 17 및 비교예 11 에 관련된 가동 방법의 실시시에 얻어지는 오니의 농도와 경과일수의 관계를 나타내는 그래프이다.1 is a flow chart showing an example of a high-density sludge generation type water treatment apparatus to be subjected to a method of operating the high-density sludge generation type water treatment apparatus according to the present invention.
2 is a schematic view showing an isolated sludge region and a crude oil solution region in a settling tank.
3 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of elapsed days obtained in the execution of the moving method related to Example 4 and Comparative Example 1. Fig.
Fig. 4 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of days elapsed from the sludge obtained in the running method according to Example 9 and Comparative Example 3. Fig.
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of days elapsed since the operation method related to Example 10 and Comparative Example 4 was carried out.
Fig. 6 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of days elapsed in the operation method related to Example 11 and Comparative Example 5. Fig.
FIG. 7 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of days elapsed since the operation method related to Example 12 and Comparative Example 6 was carried out.
8 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of days elapsed since the operation method related to Example 13 and Comparative Example 7 was carried out.
FIG. 9 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of days elapsed in the execution of the operating method related to Example 14 and Comparative Example 8. FIG.
10 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of days elapsed since the operation method related to Example 15 and Comparative Example 9 was carried out.
FIG. 11 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of days elapsed since the operation method related to Example 16 and Comparative Example 10 was carried out.
12 is a graph showing the relationship between the concentration of sludge and the number of days elapsed since the operation method related to Example 17 and Comparative Example 11 was carried out.
이하, 본 발명의 제 1 및 제 2 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the first and second embodiments of the present invention will be described in detail.
<제 1 실시형태> ≪ First Embodiment >
맨 처음에 본 발명에 관련된 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법의 제 1 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다.First, a first embodiment of a method for operating a high-density sludge generation type water treatment apparatus according to the present invention will be described in detail.
먼저 가동 방법의 설명에 앞서, 본 발명에 관련된 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법을 실시하기 위한 고밀도 오니 생성형 수처리 장치에 대하여 도 1 을 이용하여 설명한다. 도 1 은 본 발명에 관련된 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법을 실시하기 위한 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 일례를 나타내는 플로우도이다.First, prior to description of the operation method, a high-density sludge generation type water treatment apparatus for carrying out a method of operating the high-density sludge generation type water treatment apparatus according to the present invention will be described with reference to Fig. 1 is a flow chart showing an example of a high-density sludge generation type water treatment apparatus for carrying out a method of operating a high-density sludge generation type water treatment apparatus according to the present invention.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치는, 제 1 불용화 처리조 (1) 와 제 2 불용화 처리조 (2) 와 응집 처리조 (3) 와 침전조 (4) 와 오니 개질조 (5) 를 구비하고 있다.1, the high-density sludge generation type water treatment apparatus includes a first insolubilizing treatment tank 1, a second
제 1 불용화 처리조 (1) 에는, 무기계 이온을 함유하는 무기계 이온 함유 배수를 도입하는 도입 라인 (L1) 이 접속되고, 제 1 불용화 처리조 (1) 와 제 2 불용화 처리조 (2) 는 중간 라인 (L2) 에 의해 접속되고, 제 2 불용화 처리조 (2) 와 응집 처리조 (3) 는 중간 라인 (L3) 에 의해 접속되고, 응집 처리조 (3) 와 침전조 (4) 는 중간 라인 (L4) 에 의해 접속되어 있다.An introduction line L1 for introducing inorganic ion-containing waste water containing inorganic ions is connected to the first insolubilization treatment tank 1 and the first insolubilization treatment tank 1 and the second
침전조 (4) 와 오니 개질조 (5) 는, 침전조 (4) 에서 얻어진 분리 오니 (11) 를 오니 개질조 (5) 에 공급하는 분리 오니 공급 라인 (L5) 에 의해 접속되고, 오니 개질조 (5) 와 제 1 불용화 처리조 (1) 는, 오니 개질조 (5) 에서 얻어진 흡착 오니를 제 1 불용화 처리조 (1) 에 공급하는 흡착 오니 공급 라인 (L11) 에 의해 접속되어 있다.The
침전조 (4) 에는, 처리수를 배출하는 처리수 배출 라인 (L7) 이 접속되고, 분리 오니 공급 라인 (L5) 으로부터는, 침전조 (4) 에서 얻어진 분리 오니 (11) 를 배출하는 오니 배출 라인 (L6) 이 분기되어 있다. 분리 오니 공급 라인 (L5) 에는, 오니 공급 펌프 (P2), 유량계 (6) 및 오니 농도계 (7) 가 설치되고, 오니 배출 라인 (L6) 에는 배니 펌프 (P1) 가 설치되어 있다. 여기서, 오니 공급 펌프 (P2) 와 오니 농도계 (7) 는 전기적으로 접속되고, 오니 농도계 (7) 에 의해 측정된 오니 농도에 기초하여, 오니 공급 펌프 (P2) 에 의해 오니 개질조 (5) 로의 분리 오니 (11) 의 공급량을 제어하는 것이 가능하게 되어 있다.A treated water discharge line L7 for discharging treated water is connected to the
제 1 불용화 처리조 (1) 에는, 라인 (L8) 을 통해 pH 조정제 공급조 (8) 가 접속되고, 제 2 불용화 처리조 (2) 에는, 라인 (L9) 을 통해 pH 조정제 공급조 (9) 가 접속되고, 응집 처리조 (3) 에는, 라인 (L10) 을 통해 응집제 공급조 (10) 가 접속되어 있다.A pH
오니 개질조 (5) 에는, 밸브 (V1) 가 설치된 라인 (L12) 을 거쳐, 무기계 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온을 함유하는 카운터 이온 함유 물질을 도입하는 것이 가능하게 되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 밸브 (V1) 및 라인 (L12) 에 의해 카운터 이온 함유 물질 공급 수단이 구성되어 있다.The
다음으로, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 운전 방법에 대하여 설명한다. 운전 방법은, 본 운전 공정과, 그 전에 행해지는 가동 공정을 포함하는 것이다.Next, a method of operating the high-density sludge generation type water treatment apparatus will be described. The operation method includes the present operation step and a moving step performed before that.
먼저 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 공정에 대하여 설명한다. 본 실시형태에서는, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치가, 무기계 이온 함유 배수를 배출하는 공장의 신설에 수반하여 신설된 것인 경우를 예로 들어 설명한다.First, the operation process of the high-density sludge generation type water treatment apparatus will be described. In the present embodiment, the case where the high-density sludge generation type water treatment apparatus is newly established with the establishment of a factory for discharging inorganic ion-containing wastewater will be described as an example.
고밀도 오니 생성형 수처리 장치가, 무기계 이온 함유 배수를 배출하는 공장의 신설에 수반하여 신설된 것인 경우, 가동 공정의 개시시에는, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도는 0 g/ℓ 가 되었다. 이 때문에, 가동 공정은, 가동 개시 후에 행해지는 오니 축적 공정과, 그 후에 행해지는 고밀도 오니를 생성하는 고밀도 오니 생성 공정을 포함한다.In the case where the high-density sludge-generation water treatment apparatus was newly established with the establishment of a factory for discharging inorganic ion-containing wastewater, the sludge concentration in the
먼저 오니 축적 공정에 대하여 설명한다. 오니 축적 공정에 있어서는, 무기계 이온 함유 배수 (예를 들어 공장 배수) 를, 도입 라인 (L1) 을 거쳐 제 1 불용화 처리조 (1) 에 도입한다 (배수 도입 공정). 여기서, 무기계 이온 함유 배수 중의 무기계 이온은, 예를 들어 금속 이온, 불소 이온, 인산 이온, 황산 이온, 아황산 이온, 탄산 이온 중 어느 것이어도 된다. 금속 이온으로는, 예를 들어 Fe2 +, Fe3 +, Cu2 +, Mn2 +, Cr2 +, Co2 +, Ni2 +, Zn2 +, Cd2 + 등의 중금속 이온이나, Mg3+, Al3 + 등의 경금속 이온 등을 들 수 있다. 이 때, 제 1 불용화 처리조 (1) 에는, 응집 처리조 (3) 에서 오니를 응집시키기 위해, pH 조정제 공급조 (8) 로부터 라인 (L8) 을 거쳐 pH 조정제를 공급한다. 제 1 불용화 처리조 (1) 의 조내액의 pH 는, 통상, pH 4 ∼ 12 의 범위로 적절히 조정된다. 이 때의 pH 는 생성되는 불용화물에 따라 상이하다. pH 조정제로는, 예를 들어 가성 소다, 황산이나 염산 등이 사용된다.First, the sludge accumulation process will be described. In the sludge accumulation process, the inorganic ion-containing drainage (for example, plant drainage) is introduced into the first insolubilization treatment tank 1 via the introduction line L1 (drainage introduction step). Here, the inorganic ion in the inorganic ion-containing wastewater may be, for example, a metal ion, a fluorine ion, a phosphate ion, a sulfate ion, a sulfite ion or a carbonate ion. Metal ion, for example Fe 2 +, Fe 3 +, Cu 2 +,
제 1 불용화 처리조 (1) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L2) 을 거쳐 제 2 불용화 처리조 (2) 에 도입한다. 제 2 불용화 처리조 (2) 에는, 응집 처리조 (3) 에서 오니를 응집시키기 위해, pH 조정제 공급조 (9) 로부터 라인 (L9) 을 거쳐 pH 조정제를 공급한다. 이 때, 제 2 불용화 처리조 (2) 의 조내액의 pH 는 통상, 제 1 불용화 처리조 (1) 와 동일하게, pH 4 ∼ 12 의 소정의 범위로 적절히 조정된다. 이 때의 pH 는 생성되는 불용화물에 따라 상이하다. 예를 들어, Al3 +, Fe3 +, F-, SO4 2 - 는 pH 6.0 ∼ 8.0, Cr2 +, Cu2 +, Mn2 +, Ni2 +, Zn2 + 는 pH 9.5 ∼ 11.0, PO4 - 는 pH 9.0 ∼ 10.0 의 범위에서 조정된다. pH 조정제로는, 제 1 불용화 처리조 (1) 와 동일하게, 가성 소다, 황산 등을 사용할 수 있다.The effluent from the first insoluble treatment tank 1 is introduced into the second
제 2 불용화 처리조 (2) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L3) 를 거쳐 응집 처리조 (3) 에 도입한다. 응집 처리조 (3) 에는, 응집제 공급조 (10) 로부터 라인 (L10) 을 거쳐 응집제가 공급된다. 응집제는, 응집 기능을 갖는 것이면 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로는 고분자 응집제가 사용된다. 고분자 응집제는, 논이온계 고분자 응집제, 아니온계 고분자 응집제, 카티온계 고분자 응집제 모두 적용 가능하지만, 예를 들어 무기계 이온 함유 배수가 알루미늄 이온 함유 배수인 경우에는, 논이온계 고분자 응집제, 아니온계 고분자 응집제가 상기 고분자 응집제로서 효과적이다.The effluent from the second
응집 처리조 (3) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L4) 을 거쳐 침전조 (4) 에 도입하여, 침전조 (4) 에서 처리수와 분리 오니 (11) 로 침강 분리된다 (침강 분리 공정). 처리수는, 처리수 배출 라인 (L7) 을 거쳐 침전조 (4) 로부터 배출된다 (처리수 배출 공정).The drainage water from the
본 실시형태에서는, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치가, 무기계 이온 함유 배수를 배출하는 공장의 신설에 수반하여 신설된 것이다. 이 때문에, 고밀도 오니 생성을 개시하고 당분간은, 공장이 막 신설된 단계여서, 공장으로부터 배출되는 무기계 이온 함유 배수의 유량 및 무기계 이온의 농도도 작다. 이 때문에, 침전조 (4) 에서는 분리 오니 (11) 가 거의 없는 상태에 있다. 이 때문에, 당분간은 배니 펌프 (P1) 를 작동시키지 않고, 분리 오니 (11) 를 축적시킨다.In the present embodiment, a high-density sludge generation type water treatment apparatus is newly established with the establishment of a factory for discharging inorganic ion-containing wastewater. Because of this, the production of high-density sludge is started and the plant is in the stage where the film is newly built, so that the flow rate of the inorganic ion-containing wastewater discharged from the factory and the concentration of the inorganic ion are also small. Therefore, in the
이윽고, 공장이 풀 가동 상태가 되어, 공장으로부터 배출되는 무기계 이온 함유 배수의 유량 및 무기계 이온의 농도가 커지면, 침전조 (4) 에 있어서의 분리 오니 (11) 의 양이 서서히 많아진다.Eventually, when the plant is in full operation and the flow rate of the inorganic ion-containing wastewater discharged from the plant and the concentration of the inorganic ion are increased, the amount of the separated
상기 오니 축적 공정에 있어서는, 침전조 (4) 의 조내액의 액면보다 하방의 영역 (조내액 영역) (R1) 의 체적에 대한 침전조 (4) 내의 오니 계면 (S) 보다 하방의 영역 (분리 오니 영역) (R2) 의 체적의 비율 (이하, 「오니 체적 비율」이라고 한다) 을 측정한다 (도 2 참조). 또한, 오니 계면 (S) 이란, 분리 오니 영역 (R2) 의 최상면을 말하며, 분리 오니 영역 (R2) 에는 분리 오니 (11) 가 함유되어 있다.In the sludge accumulation step, a region (sludge separation region) S 1 in the
여기서, 상기 오니 체적 비율은 이하와 같이 하여 판정할 수 있다. 즉, 먼저 침전조 (4) 의 조내액 영역 (R1) 의 체적과, 침전조 (4) 의 내벽면에 있어서의 조내액의 수면의 위치 관계를 미리 확인해 둔다. 이 관계를 확인해 두면, 조내액 중의 분리 오니 영역 (R2) 의 오니 계면 (S) 의 위치, 및 조내액의 액면 (L) 의 위치를 확인함으로써, 상기 오니 체적 비율을 판정할 수 있다. 분리 오니 영역 (R2) 의 오니 계면 (S) 의 위치는, 예를 들어 침전조 (4) 에 설치된 오니 계면계 (도시 생략) 에 의해 확인할 수 있다.Here, the sludge volume ratio can be determined as follows. That is, first, the positional relationship between the volume of the reservoir inner liquid area R1 of the
그리고, 상기 오니 체적 비율이 5 ∼ 15 vol% 의 소정값에 도달하면, 오니 순환 공정, 즉 고밀도 오니 생성 공정을 개시한다.Then, when the sludge volume ratio reaches a predetermined value of 5 to 15 vol%, a sludge circulation step, that is, a high density sludge generation step is started.
구체적으로는, 침전조 (4) 로부터 분리 오니 (11) 의 적어도 일부는, 오니 공급 펌프 (P2) 에 의해, 분리 오니 공급 라인 (L5) 을 거쳐 오니 개질조 (5) 에 공급한다 (분리 오니 공급 공정). 분리 오니 (11) 는, 그 적어도 일부를 오니 개질조 (5) 에 공급하면 되며, 필요에 따라 일부만 공급해도 되고, 전부를 공급해도 된다.Specifically, at least a part of the separated
오니 개질조 (5) 에는, 카운터 이온 함유 물질 공급조 (도시 생략) 로부터, 라인 (L12) 을 거쳐 카운터 이온 함유 물질을 도입한다. 이로써, 오니 개질조 (5) 에 도입된 분리 오니 (11) 의 표면에, 카운터 이온 함유 물질 중의 카운터 이온이 흡착되어 흡착 오니가 생성된다 (흡착 오니 생성 공정). 카운터 이온 함유 물질은, 무기계 이온과 불용화물을 형성 가능한 카운터 이온을 함유하는 것이면 된다. 무기계 이온이 예를 들어 금속 이온인 경우에는, 카운터 이온으로는 수산화물 이온이 사용된다. 이 경우, 카운터 이온 함유 물질로는, 수산화물 이온을 함유하는 물질, 예를 들어 Ca(OH)2 또는 NaOH 등을 사용할 수 있다. 또 카운터 이온 함유 물질로는, 염화물 이온을 함유하는 물질, 예를 들어 CaCl2 를 사용하는 것도 가능하다. 무기계 이온이 불소 이온인 경우에는, 카운터 이온으로는, 수산화물 이온 외에, Ca2 + 등도 사용할 수 있다. 무기계 이온이 인산 이온, 황산 이온, 아황산 이온인 경우에는, Fe2 +, Fe3 + 또는 Ca2 + 등을 사용할 수 있다. 이렇게 하여 생성된 흡착 오니는, 오니 개질조 (5) 로부터, 흡착 오니 공급 라인 (L11) 을 거쳐 제 1 불용화 처리조 (1) 에 공급된다. 그리고, 제 1 불용화 처리조 (1) 에서, 무기계 이온 함유 배수와 흡착 오니를 접촉시킨다. 이로써, 무기계 이온 함유 배수 중의 무기계 이온을 흡착 오니의 카운터 이온과 반응시켜 불용화시킨다 (불용화 공정). 이 때, 무기계 이온을 카운터 이온과 반응시켜 불용화시키기 때문에, 제 1 불용화 처리조 (1) 의 조내액의 pH 는, 생성되는 불용화물에 따라 상이하며, 통상, pH 4 ∼ 12 의 소정의 범위로 적절히 조정된다. 이 때, pH 는, 상기 서술한 바와 같이, pH 조정제 공급조 (8) 로부터 라인 (L8) 을 거쳐 pH 조정제를 공급함으로써 조정할 수 있다. pH 조정제로는, 상기 서술한 가성 소다, 황산이나 염산 등이 사용된다.In the
제 1 불용화 처리조 (1) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L2) 을 거쳐 제 2 불용화 처리조 (2) 에 도입한다. 제 2 불용화 처리조 (2) 에는, pH 조정제 공급조 (9) 로부터 라인 (L9) 을 거쳐 pH 조정제를 공급한다. 이 때, 제 2 불용화 처리조 (2) 의 조내액의 pH 는 통상, 제 1 불용화 처리조 (1) 와 동일하게, 생성되는 불용화 처리물에 따라 pH 4 ∼ 12 의 소정의 범위로 적절히 조정된다. pH 조정제로는, 상기 서술한 가성 소다, 황산 등을 사용할 수 있다.The effluent from the first insoluble treatment tank 1 is introduced into the second
제 2 불용화 처리조 (2) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L3) 을 거쳐 응집 처리조 (3) 에 도입된다. 응집 처리조 (3) 에는, 응집제 공급조 (10) 로부터 라인 (L10) 을 거쳐 응집제가 공급된다. 응집제로는, 상기 서술한 응집제가 사용된다.The effluent from the second
응집 처리조 (3) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L4) 을 거쳐 침전조 (4) 에 도입되고, 침전조 (4) 에서 처리수와 분리 오니 (11) 로 침강 분리된다 (침강 분리 공정). 처리수는, 처리수 배출 라인 (L7) 을 거쳐 침전조 (4) 로부터 배출된다 (처리수 배출 공정).The effluent from the
그리고, 상기 서술한 바와 같이, 침전조 (4) 로부터 분리 오니 (11) 의 적어도 일부는, 오니 공급 펌프 (P2) 에 의해, 분리 오니 공급 라인 (L5) 를 거쳐 오니 개질조 (5) 에 공급된다 (분리 오니 공급 공정).As described above, at least a part of the separated
상기의 일련의 공정이 반복하여 행해지는 것에 의해 고밀도 오니가 생성된다.By repeating the above-described series of steps, high-density sludge is produced.
다음으로, 고밀도 오니의 생성·성장은 계속시키면서, 상기 오니 체적 비율이 30 vol% 이하가 되도록 제어 목표값을 설정하고 제어를 개시한다 (도 2 참조).Next, the control target value is set so that the sludge volume ratio becomes 30 vol% or less while continuing the generation and growth of the high-density sludge, and control is started (see Fig. 2).
이 때, 미리 5 ∼ 15 vol% 의 범위 내에서 소정값을 결정하여, 상기 오니 체적 비율의 제어 목표값이 상기 소정값보다 작은지, 동등한지, 큰지에 따라 그 후의 공정이 상이하다.At this time, a predetermined value is determined in advance within a range of 5 to 15 vol%, and the subsequent steps differ depending on whether the control target value of the sludge volume ratio is smaller than, equal to, or larger than the predetermined value.
(1) 상기 오니 체적 비율의 제어 목표값이 상기 소정값 미만인 경우 (1) When the control target value of the sludge volume ratio is less than the predetermined value
고밀도 오니 생성 공정의 개시 후, 배니 펌프 (P1) 를 작동시켜, 오니 배출 라인 (L6) 을 거쳐 배니를 개시하고, 침전조 (4) 에 있어서의 오니량을 감소시킨다. 그리고, 상기 오니 체적 비율이 제어 목표값에 도달하면, 배니 펌프 (P1) 의 출력을 조정함으로써 배니량을 제한하여, 오니 체적 비율이 제어 목표값이 되도록 제어한다.After the start of the high-density sludge generation step, the vane pump P1 is operated to start the vane via the sludge discharge line L6, and the amount of sludge in the
(2) 상기 오니 체적 비율의 제어 목표값이 상기 소정값과 동등한 경우 (2) When the control target value of the sludge volume ratio is equal to the predetermined value
고밀도 오니 생성 공정의 개시 후, 배니 펌프 (P1) 를 작동시켜, 오니 배출 라인 (L6) 을 거쳐 배니를 개시하고, 배니 펌프 (P1) 의 출력을 조정함으로써 배니량을 제한하여, 오니 체적 비율이 제어 목표값이 되도록 제어한다.After starting the high-density sludge production process, the vane pump P1 is operated to start the vane via the sludge discharge line L6, and the output of the vane pump P1 is adjusted to restrict the vinegar volume, Control target value.
(3) 상기 오니 체적 비율의 제어 목표값이 상기 소정값보다 큰 경우 (3) When the control target value of the sludge volume ratio is larger than the predetermined value
고밀도 오니 생성 공정의 개시 후에는, 배니 펌프 (P1) 를 작동시키지 않고, 오니 배출 라인 (L6) 을 거쳐 배니를 개시하지 않고 둔다. 그렇게 하면, 오니량이 증가하여, 상기 오니 체적 비율이 제어 목표값에 도달한다. 이 단계에서, 배니 펌프 (P1) 를 작동시켜, 오니 배출 라인 (L6) 을 거쳐 배니를 개시하고, 침전조 (4) 에서 소량씩 배니를 실시한다. 그리고, 배니 펌프 (P1) 의 출력을 조정함으로써 배니량을 제한하여, 상기 오니 체적 비율이 제어 목표값이 되도록 제어한다.After the start of the high-density sludge generation process, the vane pump P1 is not operated and the vane is not started via the sludge discharge line L6. Then, the amount of sludge is increased, and the sludge volume ratio reaches the control target value. In this step, the vane pump P1 is operated to start the vane through the sludge discharge line L6, and the vinegar is carried out in the
이 때, 배니량은, 작업자가 오니 계면계 (도시 생략) 나 오니 농도계 (7) 등을 모니터하면서 펌프 (P1) 를 출력하는 것에 의해 조정한다. 또한, 배니량은, 가동 공정 중에 있어서의 단위 시간 당의 배니량 (배니 속도) 을 경험적으로 미리 확인해 두고, 그 배니 속도와 배니 시간에 기초하여 결정해도 된다.At this time, the engine speed is adjusted by outputting the pump P1 while monitoring the interface system (not shown), the sludge densitometer 7, and the like. The amount of vannai may be determined on the basis of the vanname rate and the vanny time by previously empirically confirming the vannithia per unit time (the vannicheat rate) during the moving process.
상기 오니 체적 비율을 30 vol% 이하가 되도록 제어하기 위해서는, 구체적으로는, 침전조 (4) 에 설치된 오니 계면계에 의해 오니 계면 (S) 의 위치를 모니터하여, 오니 계면 (S) 의 위치가 소정의 위치에 도달하면, 배니 펌프 (P1) 에 의해 분리 오니 공급 라인 (L5) 및 오니 배출 라인 (L6) 을 거쳐 분리 오니 (11) 를 배출시키도록 하면 된다.Specifically, in order to control the sludge volume ratio to be 30 vol% or less, the position of the sludge interface S is monitored by the sludge interface system provided in the
상기와 같이 오니 체적 비율을 제어함으로써, 침전조 (4) 에서, 분리 오니 (11) 중의 고밀도 오니의 비율이 낮아지는 것을 억제할 수 있어, 과잉량의 응집 블록에 의한 고밀도 오니의 생성 지연을 억제하는 것이 가능해진다. 이 때문에, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법에 의하면, 고밀도 오니를 단기간에 충분히 생성하는 것이 가능해지고, 그 결과, 고밀도 오니의 농도를 단기간에 높이는 것이 가능해진다. 즉 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 단기간에 행할 수 있다. 그 결과, 가동 후의 본 운전을 조기에 행할 수 있다. 또한, 침전조 (4) 내의 오니 체적 비율이 체적의 30 vol% 를 초과하도록 제어하면, 고밀도 오니를 단기간에 충분히 생성할 수 없게 되어, 고밀도 오니의 농도를 높이는 데에 현저히 시간이 걸린다.By controlling the sludge volume ratio as described above, it is possible to suppress the decrease in the ratio of the high-density sludge in the separated
또 본 실시형태에서는, 가동 공정 중 초기에 행해지는 오니 축적 공정에 있어서, 일단 합쳐진 오니량 (예를 들어 5 ∼ 15 vol%) 까지 오니를 증가시키고 나서 고밀도 오니 생성 공정을 실시한다. 이로써, 고밀도 오니 생성 공정으로 오니를 순환하는 과정에서 오니 개질조 (5), 제 1 불용화 처리조 (1), 제 2 불용화 처리조 (2) 및 응집 처리조 (3) 에 오니가 취해져 최종적으로 침전조 (4) 로 되돌아오는 오니량이 감소하여도 고밀도 오니의 생성에 필요한 오니량을 확보할 수 있다.In this embodiment, in the sludge accumulation step performed in the early stage of the moving process, the sludge is once increased to a combined sludge amount (for example, 5 to 15 vol%), and then a high-density sludge generation step is performed. Thereby, sludge is taken into the
오니 체적 비율은 4 ∼ 30 vol% 가 되도록 제어하는 것이 바람직하고, 10 ∼ 20 vol% 가 되도록 제어하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동시에, 고밀도 오니 농도를 보다 단기간에 충분히 높일 수 있다. 즉, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 보다 단기간에 행할 수 있다. 그 결과, 가동 후의 본 운전을 보다 조기에 행할 수 있다.The sludge volume ratio is preferably controlled to be 4 to 30 vol%, more preferably 10 to 20 vol%. In this case, the high-density sludge concentration can be sufficiently increased in a shorter period of time during operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus. That is, the operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus can be performed in a shorter period of time. As a result, the main operation after the operation can be performed earlier.
이상과 같이 하여 가동 공정이 종료된다. 여기서, 가동 공정이 종료되었는지의 여부는, 고밀도 오니의 생성이 충분히 이루어졌는지의 여부에 따른다. 그리고, 고밀도 오니의 생성이 충분히 이루어졌는지의 판정 기준은, 처리 대상이 되는 배수 중의 무기계 이온의 종류에 따라 상이하다. 즉, 무기계 이온이 Al3 +, Fe2 +, Fe3 +, Cr2 +, F-, PO4 2 - 또는 SO4 2 - 인 경우, 이들은 오니 농도를 상승시키기 쉽다. 이 때문에, 오니 농도가, 150 ∼ 350 g/ℓ (바람직하게는 200 ∼ 300 g/ℓ) 의 범위 내에서 임의로 설정한 수치에 도달한 시점에서 가동 공정이 종료된 것으로 판정한다. 한편, 무기계 이온이 Cu2 +, Mn2 +, Ni2 +, Zn2 + 인 경우, 이들은 오니 농도를 상승시키기 어렵다. 이 때문에, 오니 농도가, 50 ∼ 150 g/ℓ (바람직하게는 80 ∼ 120 g/ℓ) 의 범위 내에서 임의로 설정한 수치에 도달한 시점에서 가동 공정이 종료된 것으로 판정한다. 또한, 무기계 이온의 종류에 따라 고밀도 오니가 충분히 생성되었는지의 여부의 판정 기준이 상이한 것은, 무기계 이온에 의해 고밀도화의 용이성, 요컨대 개질의 용이성이 상이한 것에 따른 것이다. 또 고밀도 오니가 생성되었는지의 여부의 판정을 오니 농도에 기초하여 행하는 이유는 이하와 같다. 즉, 현장에서는 오니의 결정 구조의 확인이나 오니의 건조 등이 곤란하기 때문에, 오니 밀도를 직접 측정하는 것이 아니라, 오니 농도를 측정하여, 오니 농도에 기초하여 오니의 충분한 고밀도화를 추정하는 편이, 가동 공정 종료의 판정이 용이해지기 때문이다.The moving process is terminated as described above. Whether or not the moving process has been completed depends on whether or not the generation of the high-density sludge has been sufficiently performed. The criterion for determining whether or not the generation of the high-density sludge is sufficiently performed depends on the kind of the inorganic ion in the waste water to be treated. That is, when the inorganic ions are Al 3 + , Fe 2 + , Fe 3 + , Cr 2 + , F - , PO 4 2 - or SO 4 2 - , they easily increase the sludge concentration. Therefore, it is judged that the moving process is completed when the sludge concentration reaches a value arbitrarily set within the range of 150 to 350 g / L (preferably 200 to 300 g / L). On the other hand, when the inorganic ions are Cu 2 + , Mn 2 + , Ni 2 + , or Zn 2 + , they are difficult to raise the sludge concentration. Therefore, it is judged that the moving process is completed when the sludge concentration reaches a value set arbitrarily within the range of 50 to 150 g / l (preferably 80 to 120 g / l). The difference in the criterion for determining whether or not the high-density sludge is sufficiently generated depending on the kind of the inorganic ion differs depending on the ease of high density, in other words, ease of modification by the inorganic ion. The reason why high-density sludge is generated or not is determined based on the sludge concentration as follows. That is, it is difficult to confirm the crystal structure of the sludge in the field and to dry the sludge. Therefore, rather than directly measuring the sludge density, it is preferable to measure the sludge concentration and estimate the sufficiently high sludge density based on the sludge concentration This is because the determination of the termination of the process becomes easy.
이상과 같이 하여 가동 공정이 종료되면, 본 운전 공정을 실시한다. 본 운전 공정에서는, 침전조 (4) 의 분리 오니 (11) 중에 충분히 고밀도 오니가 생성되어 있다. 이 때문에, 침전조 (4) 내의 상기 오니 체적 비율이 30 vol% 이하가 되도록 제어할 필요는 없기 때문에, 30 vol% 를 초과하는 오니 체적 비율로 제어해도 된다. 이 경우, 가동 공정 종료 후, 침전조 (4) 에 있어서의 오니량을 증가시키는 것이 필요해진다. 단, 본 운전 공정에 있어서는, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율은 통상 50 vol% 이하이다. 또한, 가동 후에도 30 vol% 이하의 오니 체적 비율로 제어해도 되는데, 이 경우의 오니 체적 비율은, 가동 공정 시의 오니 체적 비율과 동일하게 한다.When the movable process is completed as described above, the present operation process is performed. In this operation step, a sufficiently high density sludge is generated in the separated
<제 2 실시형태> ≪ Second Embodiment >
다음으로, 본 발명에 관련된 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법의 제 2 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다. 본 실시형태에서는, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치가, 오니 개질조 (5) 를 갖지 않는 수처리 장치 (이하, 「기설 수처리 장치」라고 한다) 에 오니 개질조 (5) 를 설치한 것인 경우, 즉 기설 수처리 장치를 개조한 것인 경우에 대하여 설명한다. 또한, 본 실시형태에 있어서, 제 1 실시형태와 동일하거나 또는 동등한 구성 요소에 대해서는 동일 부호를 부기하고, 중복되는 설명을 생략한다.Next, a second embodiment of the method for operating the high-density sludge generation type water treatment apparatus according to the present invention will be described in detail. In the present embodiment, when the high-density sludge generation type water treatment apparatus is provided with the
기설 수처리 장치를 고밀도 오니 생성형 수처리 장치로 개조하는 경우, 기설 수처리 장치에 의한 수처리 운전을 계속하면서, 분리 오니 공급 라인 (L5) 상에 오니 개질조 (5) 의 설치가 실시되고 설치가 완료되면, 침전조 (4) 로부터의 분리 오니 (11) 가 오니 개질조 (5) 에 공급되어, 오니의 고밀도화가 개시된다. 즉 가동 공정이 개시된다. 이 때, 기설된 수처리 장치에 배수를 공급하고 있던 공장은 통상, 풀 가동 상태에 있다. 이 때문에, 고밀도 오니의 생성이 개시됨과 동시에, 공장으로부터 배출되는 무기계 이온 함유 배수의 유량 및 무기계 이온의 농도가 커져 있어, 침전조 (4) 에서도 충분한 양의 분리 오니 (11) 가 존재하는 경우가 많다. 구체적으로는, 분리 오니 (11) 는, 20 ∼ 50 vol% 의 오니 체적 비율로 존재하는 경우가 많다.When the existing water treatment apparatus is converted into a high density sludge generation type water treatment apparatus, the
따라서, 본 실시형태는, 가동 공정이, 오니 축적 공정을 포함하지 않는 점에서 제 1 실시형태와 상이하다. 즉, 본 실시형태에서는, 침전조 (4) 에 오니를 축적시키지 않고, 침전조 (4) 에 있어서의 상기 오니 체적 비율이 30 vol% 이하가 되도록 제어가 개시된다. 여기서, 가동 공정 개시시에 있어서, 침전조 (4) 에 있어서의 상기 오니 체적 비율이 30 vol% 보다 큰 경우에는, 배니 펌프 (P1) 를 작동시켜 오니량을 감소시킨다. 그리고, 상기 오니 체적 비율이, 30 vol% 이하의 제어 목표값에 도달한 후에는, 상기 오니 체적 비율이 제어 목표값이 되도록 제어된다. 한편, 가동 공정 개시시에 있어서, 침전조 (4) 에 있어서의 상기 오니 체적 비율이 30 vol% 이하인 경우에는, 필요에 따라 배니 펌프 (P1) 를 작동시켜 오니량을 증가 또는 감소시킨다. 그리고, 상기 오니 체적 비율이, 30 vol% 이하의 제어 목표값에 도달한 후에는, 상기 오니 체적 비율이 제어 목표값이 되도록 제어된다.Therefore, the present embodiment is different from the first embodiment in that the moving process does not include a sludge accumulation process. That is, in the present embodiment, the control is started so that the sludge volume ratio in the
본 발명은 상기 서술한 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 상기 실시형태에서는 응집 처리조 (3) 가 형성되어 있는데, 응집 처리조 (3) 는 생략할 수도 있다.The present invention is not limited to the above-described embodiments. For example, although the
실시예Example
이하, 본 발명의 내용을 실시예를 들어 보다 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.
<Al 배수> <Al drainage>
(실시예 1) (Example 1)
이하와 같이 하여, 도 1 에 나타내는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다. 또한, 고밀도 오니 생성형 수처리 장치로는, 침전조 (4) 에 분리 오니 (11) 가 존재하지 않는 것, 즉 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 0 % 인 것을 사용하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus shown in Fig. 1 was carried out in the following manner. In the high-density sludge generation type water treatment apparatus, the
먼저, 처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수로서, 알루미늄 이온 농도가 1000 mg/ℓ 인 알루미늄 배수 (이하, 「Al 배수」라고 한다) 를, 도입 라인 (L1) 을 거쳐 제 1 불용화 처리조 (1) 에 도입하였다.(Hereinafter referred to as " Al drainage ") having an aluminum ion concentration of 1000 mg / l as an inorganic ion-containing wastewater to be treated is introduced into the first insolubilization treatment tank 1 ).
이 때, 제 1 불용화 처리조 (1) 의 조내액 중의 pH 값이 6.5 정도가 되도록 황산을 적절히 공급하여 pH 값을 조정하였다. 단 제 1 불용화 처리조 (1) 에서는 pH 가 크게 변동한다. 그리고, 제 1 불용화 처리조 (1) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L2) 을 거쳐 제 2 불용화 처리조 (2) 에 도입하였다. 제 2 불용화 처리조 (2) 에는, pH 조정제 공급조 (9) 로부터 라인 (L9) 을 거쳐, 적절히 pH 조정제인 가성 소다, 황산을 공급하여, 제 2 불용화 처리조 (2) 의 조내액 중의 pH 값이 7.0 이 되도록 조정하였다.At this time, the pH value was adjusted by suitably supplying sulfuric acid so that the pH value in the crude inner solution of the first insoluble treatment tank (1) was about 6.5. However, in the first insolubilization treatment tank (1), the pH fluctuates greatly. The effluent from the first insoluble treatment tank 1 was introduced into the second
제 2 불용화 처리조 (2) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L3) 을 거쳐 응집 처리조 (3) 에 도입하였다. 응집 처리조 (3) 에는, 응집제 공급조 (10) 로부터 라인 (L10) 을 거쳐, 고분자 응집제를 공급하였다.The effluent from the second
응집 처리조 (3) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L4) 을 거쳐 침전조 (4) 에 도입되고, 침전조 (4) 에서 처리수와 분리 오니로 침강 분리되었다. 처리수는, 처리수 배출 라인 (L7) 을 거쳐 침전조 (4) 로부터 배출하였다. 이렇게 하여 침전조 (4) 에 오니를 축적시켰다.The effluent from the
그리고, 오니를 축적시키고 있는 동안, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율을 측정하였다.Then, while accumulating the sludge, the sludge volume ratio in the
여기서, 오니 체적 비율은 이하와 같이 하여 판정하였다. 즉, 먼저 침전조 (4) 의 조내액 영역 (R1) 의 체적과, 침전조 (4) 의 내벽면에 있어서의 조내액의 수면의 위치 관계를 미리 확인해 두고, 조내액 중의 분리 오니 영역 (R2) 의 오니 계면 (S) 의 위치, 및 조내액의 액면 (L) 의 위치를 확인함으로써, 상기 오니 체적 비율을 판정하였다. 분리 오니 영역 (R2) 의 오니 계면 (S) 의 위치는, 침전조 (4) 에 설치된 오니 계면계 (도시 생략) 에 의해 확인하였다.Here, the sieve volume ratio was determined as follows. That is to say, first, the positional relationship between the volume of the reservoir inner liquid area R1 of the
그리고, 본 실시예에서는 먼저 오니를 10 vol% 까지 축적하고, 상기 오니 체적 비율이 10 vol% 에 도달하면, 오니 순환 공정, 즉 고밀도 오니 생성 공정을 개시하였다.In this embodiment, the sludge is first accumulated to 10 vol%, and when the sludge volume ratio reaches 10 vol%, the sludge circulation step, that is, the high density sludge generation step, is started.
구체적으로는, 먼저 침전조 (4) 로부터 분리 오니의 일부를, 오니 공급 펌프 (P2) 에 의해, 분리 오니 공급 라인 (L5) 을 거쳐 오니 개질조 (5) 에 공급하였다. 한편, 오니 개질조 (5) 에는, 라인 (L12) 을 거쳐 카운터 이온 함유 물질인 수산화 칼슘을 도입하였다. 그리고, 도입된 수산화칼슘을 분리 오니 (11) 의 표면에 흡착시켜, 흡착 오니를 생성하였다.Specifically, a part of the separated sludge from the
그리고, 흡착 오니를, 오니 개질조 (5) 로부터 흡착 오니 공급 라인 (L11) 을 거쳐 제 1 불용화 처리조 (1) 에 공급하고, 제 1 불용화 처리조 (1) 에서, Al 배수와 흡착 오니를 접촉시켰다. 이로써, Al 배수 중의 알루미늄 이온을 흡착 오니의 카운터 이온인 수산화물 이온과 반응시켜 불용화시켰다. 이 때, pH 는, pH 조정제 공급조 (8) 로부터 라인 (L8) 을 거쳐 pH 조정제인 황산을 공급함으로써 조정하였다.Then, the adsorbed sludge is supplied from the
제 1 불용화 처리조 (1) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L2) 을 거쳐 제 2 불용화 처리조 (2) 에 도입하였다. 제 2 불용화 처리조 (2) 에는, pH 조정제 공급조 (9) 로부터 라인 (L9) 을 거쳐 pH 조정제인 가성 소다 및 황산을 공급하였다.The effluent from the first insoluble treatment tank 1 was introduced into the second
제 2 불용화 처리조 (2) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L3) 을 거쳐 응집 처리조 (3) 에 도입하였다. 응집 처리조 (3) 에는, 응집제 공급조 (10) 로부터 고분자 응집제를 공급하였다.The effluent from the second
응집 처리조 (3) 로부터의 배출수는, 중간 라인 (L4) 을 거쳐 침전조 (4) 에 도입하고, 침전조 (4) 에서 처리수와 분리 오니 (11) 로 침강 분리시켰다. 처리수는, 처리수 배출 라인 (L7) 을 거쳐 침전조 (4) 로부터 배출하였다.The effluent from the
상기 일련의 공정을 반복하여 행함으로써 고밀도 오니를 생성하였다. 한편, 오니 체적 비율이 10 vol% 에 도달한 후에, 침전조 (4) 에서 배니를 실시하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율을 3 vol% 까지 감소시켰다.The above-described series of steps were repeated to produce a high-density sludge. On the other hand, after the sludge volume ratio reached 10 vol%, the sludge volume ratio in the
그 후에는, 침전조 (4) 에서 배니를 실시하여, 상기 오니 체적 비율이 3 vol% 가 되도록 제어하면서 오니를 고밀도화시켰다.Thereafter, the sludge was densified by controlling the sludge volume ratio to be 3 vol% by carrying out a vanname in the
여기서, 침전조 (4) 내의 상기 오니 체적 비율은, 이하와 같이 하여 판정하였다. 즉, 침전조 (4) 에 도입한 조내액의 체적과, 침전조 (4) 의 내벽면에 있어서의 조내액의 수면의 위치 관계를 미리 확인하고, 이 관계에 기초하여, 조내액 중의 분리 오니 영역 (R2) 의 오니 계면 (S) 의 위치, 및 조내액 영역 (R1) 의 액면 (L) 의 위치를 확인함으로써, 조내액 영역 (R1) 중의 분리 오니 영역 (R2) 의 체적의 비율인 오니 체적 비율을 판정하였다.Here, the sludge volume ratio in the
침전조 (4) 내의 상기 오니 체적 비율의 제어는, 구체적으로는, 이하와 같이 하여 행하였다. 즉, 배니 펌프 (P1) 의 출력을 조정함으로써 배니량을 제한하여, 오니 체적 비율이 제어 목표값이 되도록 하여 행하였다. 또, 침전조 (4) 에 설치된 오니 계면계를 이용하여, 오니 계면 (S) 의 위치를 모니터하여, 오니 계면 (S) 의 위치가, 상기 오니 체적 비율이 3 vol% 가 되는 위치를 크게 벗어난 것을 확인한 경우에는, 적절히 직접 오니의 배출량을 조정하도록 하였다.Specifically, the control of the sludge volume ratio in the
이상과 같이 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.Thus, the high-density sludge generation type water treatment apparatus was operated as described above.
(실시예 2) (Example 2)
오니 체적 비율이 4 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 1 except that the sludge volume ratio was controlled to be 4 vol%.
(실시예 3) (Example 3)
오니 체적 비율이 6 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 1 except that the sludge volume ratio was controlled to be 6 vol%.
(실시예 4) (Example 4)
오니 체적 비율이 10 vol% 에 도달한 후에, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 10 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 1 except that the sludge volume ratio in the
(실시예 5) (Example 5)
오니 체적 비율이 10 vol% 에 도달한 후에도 계속하여 침전조 (4) 에서 오니의 양을 증가시켜, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 15 vol% 에 도달한 후, 오니 체적 비율이 15 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.Even after the sludge volume ratio reached 10 vol%, the amount of sludge was continuously increased in the
(실시예 6) (Example 6)
오니 체적 비율이 10 vol% 에 도달한 후에도 계속하여 침전조 (4) 에서 오니의 양을 증가시켜, 오니 체적 비율이 20 vol% 에 도달한 후, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 20 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.Even after the sludge volume ratio reached 10 vol%, the amount of sludge was increased in the
(실시예 7) (Example 7)
오니 체적 비율이 10 vol% 에 도달한 후에도 계속하여 침전조 (4) 에서 오니의 양을 증가시켜, 오니 체적 비율이 25 vol% 에 도달한 후, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 25 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.Even after the sludge volume ratio reached 10 vol%, the amount of sludge was increased in the
(실시예 8) (Example 8)
오니 체적 비율이 10 vol% 에 도달한 후에도 계속하여 침전조 (4) 에서 오니의 양을 증가시켜, 오니 체적 비율이 30 vol% 에 도달한 후, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 30 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.Even after the sludge volume ratio reached 10 vol%, the amount of sludge was continuously increased in the
(비교예 1) (Comparative Example 1)
오니 체적 비율이 10 vol% 에 도달한 후에도 계속하여 침전조 (4) 에 있어서 오니의 양을 증가시켜, 오니 체적 비율이 32 vol% 에 도달한 후, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 32 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.Even after the sludge volume ratio reached 10 vol%, the amount of sludge in the
(비교예 2) (Comparative Example 2)
오니 체적 비율이 10 vol% 에 도달한 후에도 계속하여 침전조 (4) 에 있어서 오니의 양을 증가시켜, 오니 체적 비율이 50 vol% 에 도달한 후, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 50 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.Even after the sludge volume ratio reaches 10 vol%, the amount of sludge in the
실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1, 2 의 가동 방법의 각각에 대하여, 침전조 (4) 중의 분리 오니 (11) (오니 농도 (C1)) 를 1 일 간격으로 취출하여 메스 실린더에 넣고, 24 시간 정치한 후의 오니의 농축 비율 (R) 을 메스 실린더에 있어서의 오니 영역의 용량의 비 (24 시간 정치 후의 오니 영역의 용량/24 시간 정치 전의 오니 영역의 용량) 로서 계측하여, 24 시간 정치 후의 오니 농도 C2(=C1/R) 를 산출하였다. 이 때, 오니 농도 (C1) 는 오니 농도계 (7) 로 측정하였다. 그리고, 실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1, 2 각각에 있어서, 오니 농도 (C2) 가 300 g/ℓ 에 도달할 때까지의 시간을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The separated sludge 11 (sludge concentration (C1)) in the
또 도 3 은, 실시예 4 및 비교예 1 에 대하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도의 시간 경과적 변화의 결과를 나타내는 그래프이다.3 is a graph showing the results of time-course changes in sludge concentration in the
표 1 에 나타내는 바와 같이, 실시예 1 ∼ 8 의 가동 방법은, 비교예 1 ∼ 2의 가동 방법에 비해, 오니 농도가 300 g/ℓ 까지 도달하는 시간이 현저하게 단축되는 것을 알 수 있다. 이것은, 도 3 을 보아도 명백하다. 즉, 실시예 4 의 플롯과 비교예 1 의 플롯을 비교하면, 측정 개시부터, 시간 경과적으로 실시예 4 의 플롯과 비교예 1 의 플롯이 크게 이간되어 가는 것을 알 수 있다. 이것으로부터, 실시예 4 가, 비교예 1 에 비해, 오니 농도가 단기간에 300 g/ℓ 에 도달하는 것이 명백하다. 또 150 g/ℓ, 200 g/ℓ 에 도달하는 기간에 대해서도 상기와 동일한 경향을 보였다. 여기서, 오니 농도 150 g/ℓ 는, 고밀도 오니가 충분히 생성된 기준이 되는 오니 농도이다.As shown in Table 1, the operating methods of Examples 1 to 8 show that the time required for the sludge concentration to reach 300 g / l is remarkably shortened as compared with the operating methods of Comparative Examples 1 and 2. This is obvious from FIG. That is, when comparing the plot of Example 4 with the plot of Comparative Example 1, it can be seen that the plot of Example 4 and the plot of Comparative Example 1 are largely separated from the start of measurement over time. From this, it is clear that the sludge concentration of Example 4 reaches 300 g / l in a short period of time as compared with Comparative Example 1. Also, the same tendency was observed for the period of reaching 150 g / l and 200 g / l. Here, the sludge concentration of 150 g / l is a reference sludge concentration at which high-density sludge is sufficiently generated.
표 1 에 나타내는 결과로부터, 특히, 침전조 (4) 의 오니 체적 비율을 5 vol% ∼ 25 vol% 로 함으로써, 오니 농도가 300 g/ℓ 까지 도달하는 시간이 보다 현저하게 단축되는 것을 알 수 있었다.From the results shown in Table 1, it was found that the time for reaching the sludge concentration to 300 g / l was remarkably shortened, especially by setting the sludge volume ratio of the
따라서, 본 발명에 의하면, Al 배수를 처리 대상으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 단기간에 행할 수 있는 것이 확인되었다.Therefore, according to the present invention, it was confirmed that the operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus to be treated with the Al wastewater can be performed in a short period of time.
<Fe 배수> <Fe drainage>
(실시예 9) (Example 9)
처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수를, 알루미늄 배수로부터 철이온 함유 배수 (철이온 (Fe3 +) 농도 : 1000 mg/ℓ) 로 변경하고, 오니 개질조 (5) 에 공급되는 카운터 이온 함유 물질, 철이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온, 제 1 불용화 처리조 (1) 에 있어서의 pH 및 제 2 불용화 처리조 (2) 에 있어서의 pH 를 표 2 에 나타내는 바와 같이 하고, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 15 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.An inorganic ion-containing wastewater to be processed, containing multiple iron ions from the aluminum drain (iron ions (Fe 3 +) concentration: 1000 mg / ℓ) counter ions to be supplied to the change, and the sludge modified tank (5) containing material, The pH in the first insolubilization treatment tank 1 and the pH in the second
(비교예 3) (Comparative Example 3)
침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 35 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 9 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 9 except that the sludge volume ratio in the
<Cr 배수> <Cr drainage>
(실시예 10) (Example 10)
처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수를, 알루미늄 배수로부터 크롬 이온 함유 배수 (크롬 이온 (Cr2 +) 농도 : 1000 mg/ℓ) 로 변경하고, 오니 개질조 (5) 에 공급되는 카운터 이온 함유 물질, 크롬 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온, 제 1 불용화 처리조 (1) 에 있어서의 pH 및 제 2 불용화 처리조 (2) 에 있어서의 pH 를 표 2 에 나타내는 바와 같이 하고, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 13 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The inorganic ion containing wastewater to be treated is changed from aluminum wastewater to chrome ion containing wastewater (chromium ion (Cr 2 + ) concentration: 1000 mg / l) The pH in the first insolubilization treatment tank 1 and the pH in the second
(비교예 4) (Comparative Example 4)
침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 33 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 10 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 10 except that the sludge volume ratio in the
<F 배수> <F multiple>
(실시예 11) (Example 11)
처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수를, 알루미늄 배수로부터 불소 이온 함유 배수 (불소 이온 (F-) 농도 : 1000 mg/ℓ) 로 변경하고, 오니 개질조 (5) 에 공급되는 카운터 이온 함유 물질, 불소 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온, 제 1 불용화 처리조 (1) 에 있어서의 pH 및 제 2 불용화 처리조 (2) 에 있어서의 pH 를 표 2 에 나타내는 바와 같이 하고, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 10 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The inorganic ion containing wastewater to be treated is changed from aluminum wastewater to fluorine ion containing wastewater (fluorine ion (F - ) concentration: 1000 mg / l), and the counter ion containing substance supplied to the
(비교예 5) (Comparative Example 5)
침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 32 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 11 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 11 except that the sludge volume ratio in the
<PO4 배수> <PO 4 drainage>
(실시예 12) (Example 12)
처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수를, 알루미늄 배수로부터 인산 이온 함유 배수 (인산 이온 (PO4 2 -) 농도 : 1000 mg/ℓ) 로 변경하고, 오니 개질조 (5) 에 공급되는 카운터 이온 함유 물질, 인산 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온, 제 1 불용화 처리조 (1) 에 있어서의 pH 및 제 2 불용화 처리조 (2) 에 있어서의 pH 를 표 2 에 나타내는 바와 같이 하고, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 10 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The inorganic ion-containing wastewater to be treated is changed from aluminum wastewater to phosphoric acid ion-containing wastewater (phosphate ion (PO 4 2 - ) concentration: 1000 mg / , The pH in the first insolubilization treatment tank (1) and the pH in the second insolubilization treatment tank (2) were set as shown in Table 2, and the concentration of the counter ions in the
(비교예 6) (Comparative Example 6)
침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 33 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 12 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 12 except that the sludge volume ratio in the
<SO4 배수> <SO 4 drainage>
(실시예 13) (Example 13)
처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수를, 알루미늄 배수로부터 황산 이온 함유 배수 (황산 이온 (SO4 2 -) 농도 : 1000 mg/ℓ) 로 변경하고, 오니 개질조 (5) 에 공급되는 카운터 이온 함유 물질, 황산 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온, 제 1 불용화 처리조 (1) 에 있어서의 pH 및 제 2 불용화 처리조 (2) 에 있어서의 pH 를 표 2 에 나타내는 바와 같이 하고, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 10 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The inorganic ion-containing wastewater to be treated was changed from aluminum wastewater to sulfate ion-containing wastewater (sulfate ion (SO 4 2 - ) concentration: 1000 mg / , The pH in the first insolubilization treatment tank (1) and the pH in the second insolubilization treatment tank (2) were set as shown in Table 2, 4 was operated so as to have a sludge volume ratio of 10 vol%, the operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 4.
(비교예 7) (Comparative Example 7)
침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 33 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 13 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 13 except that the sludge volume ratio in the
실시예 9 ∼ 13 및 비교예 3 ∼ 7 의 가동 방법의 각각에 대하여, 침전조 (4) 중의 분리 오니 (11) (오니 농도 (C1)) 를 1 일 간격으로 취출하여 메스 실린더에 넣고, 24 시간 정치한 후의 오니의 농축 비율 (R) 을 메스 실린더에 있어서의 오니 영역의 용량의 비 (24 시간 정치 후의 오니 영역의 용량/24 시간 정치 전의 오니 영역의 용량) 로서 계측하여, 24 시간 정치 후의 오니 농도 C2(=C1/R) 를 산출하였다. 이 때, 오니 농도 (C1) 는 오니 농도계 (7) 로 측정하였다. 그리고, 실시예 9 ∼ 13 및 비교예 3 ∼ 7 각각에 있어서, 오니 농도 (C2) 가 300 g/ℓ 에 도달할 때까지의 시간을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.Separated sludge 11 (sludge concentration (C1)) in the
또, 도 4 는, 실시예 9 및 비교예 3 에 대하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도의 시간 경과적 변화의 결과를 나타내는 그래프, 도 5 는, 실시예 10 및 비교예 4 에 대하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도의 시간 경과적 변화의 결과를 나타내는 그래프, 도 6 은, 실시예 11 및 비교예 5 에 대하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도의 시간 경과적 변화의 결과를 나타내는 그래프, 도 7 은, 실시예 12 및 비교예 6 에 대하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도의 시간 경과적 변화의 결과를 나타내는 그래프, 도 8 은, 실시예 13 및 비교예 7 에 대하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도의 시간 경과적 변화의 결과를 나타내는 그래프이다.4 is a graph showing the results of time-course changes in sludge concentration in the
표 2 에 나타내는 바와 같이, 실시예 9 ∼ 13 의 가동 방법은, 비교예 3 ∼ 7 의 가동 방법에 비해, 오니 농도가 300 g/ℓ 까지 도달하는 시간이 현저하게 단축되는 것을 알 수 있었다. 이것은, 도 4 ∼ 도 8 을 보아도 명백하다. 즉, 예를 들어 실시예 9 의 플롯과 비교예 3 의 플롯을 비교하면, 측정 개시부터, 시간 경과적으로 실시예 9 의 플롯과 비교예 3 의 플롯이 크게 이간되어 가는 것을 알 수 있다. 이것으로부터, 실시예 9 가, 비교예 3 에 비해, 오니 농도가 단기간에 300 g/ℓ 에 도달하는 것이 명백하다. 또 150 g/ℓ, 200 g/ℓ 에 도달하는 기간에 대해서도 상기와 동일한 경향을 보였다. 이 결과는, 실시예 10 ∼ 13 의 가동 방법에서도 동일하였다.As shown in Table 2, the operating methods of Examples 9 to 13 were found to remarkably shorten the time required for the sludge concentration to reach 300 g / l, as compared with the operating methods of Comparative Examples 3 to 7. [ This is obvious from FIG. 4 to FIG. That is, for example, when comparing the plot of Example 9 with the plot of Comparative Example 3, it can be seen that the plots of Example 9 and Comparative Example 3 are largely separated from the start of measurement to the time elapsed. From this, it is apparent that the sludge concentration in Example 9 reaches 300 g / l in a short period of time as compared with Comparative Example 3. Also, the same tendency was observed for the period of reaching 150 g / l and 200 g / l. This result was also the same in the operating methods of Examples 10 to 13.
따라서, 본 발명에 의하면, Fe 배수, Cr 배수, F 배수, PO4 배수, SO4 배수를 처리 대상으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동에 대해서도 단기간에 행할 수 있는 것이 확인되었다.Therefore, according to the present invention, it was confirmed that the operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus to be treated with Fe drainage, Cr drainage, F drainage, PO 4 drainage and SO 4 drainage can be performed in a short period of time.
<Cu 배수> <Cu drainage>
(실시예 14) (Example 14)
처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수를, 알루미늄 배수로부터 구리 이온 함유 배수 (구리 이온 (Cu2 +) 농도 1000 mg/ℓ) 로 변경하고, 오니 개질조 (5) 에 공급되는 카운터 이온 함유 물질, 구리 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온, 제 1 불용화 처리조 (1) 에 있어서의 pH 및 제 2 불용화 처리조 (2) 에 있어서의 pH 를 표 3 에 나타내는 바와 같이 하고, 상기 오니 체적 비율이 12 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.An inorganic ion-containing wastewater to be processed, the copper ion-containing wastewater from the aluminum drain (copper ion (Cu 2 +) concentration of 1000 mg / ℓ) changes to the sludge modified tank (5) containing a counter-ion to be supplied to the material, copper Ion and the pH in the first insolubilization treatment tank (1) and the pH in the second insolubilization treatment tank (2) were set as shown in Table 3, and the sludge volume ratio Was controlled so as to be 12 vol%, the operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 5.
(비교예 8) (Comparative Example 8)
오니 체적 비율이 33 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 14 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 14 except that the sludge volume ratio was controlled to be 33 vol%.
<Mn 배수> <Mn drainage>
(실시예 15) (Example 15)
처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수를, 알루미늄 배수로부터 망간 이온 함유 배수 (망간 이온 (Mn2 +) 농도 : 1000 mg/ℓ) 로 변경하고, 오니 개질조 (5) 에 공급되는 카운터 이온 함유 물질, 망간 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온, 제 1 불용화 처리조 (1) 에 있어서의 pH 및 제 2 불용화 처리조 (2) 에 있어서의 pH 를 표 3 에 나타내는 바와 같이 하고, 상기 오니 체적 비율이 12 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The inorganic ion containing wastewater to be treated is changed from aluminum wastewater to manganese ion containing wastewater (manganese ion (Mn 2 + ) concentration: 1000 mg / l) The pH in the first insolubilization treatment tank (1) and the pH in the second insolubilization treatment tank (2) were set as shown in Table 3, and the counter ion forming the sludge volume The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 5 except that the ratio was controlled to be 12 vol%.
(비교예 9) (Comparative Example 9)
오니 체적 비율이 32 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 15 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 15 except that the sludge volume ratio was controlled to be 32 vol%.
<Ni 배수> <Ni drainage>
(실시예 16) (Example 16)
처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수를, 알루미늄 배수로부터 니켈 이온 함유 배수 (니켈 이온 (Ni2 +) 농도 : 1000 mg/ℓ) 로 변경하고, 오니 개질조 (5) 에 공급되는 카운터 이온 함유 물질, 니켈 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온, 제 1 불용화 처리조 (1) 에 있어서의 pH 및 제 2 불용화 처리조 (2) 에 있어서의 pH 를 표 3 에 나타내는 바와 같이 하고, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 12 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The inorganic ion-containing wastewater to be treated is changed from aluminum wastewater to nickel ion-containing wastewater (nickel ion (Ni 2 + ) concentration: 1000 mg / The pH in the first insolubilization treatment tank 1 and the pH in the second
(비교예 10) (Comparative Example 10)
침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 33 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 16 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 16 except that the sludge volume ratio in the
<Zn 배수> <Zn drainage>
(실시예 17) (Example 17)
처리 대상이 되는 무기계 이온 함유 배수를, 알루미늄 배수로부터 아연 이온 함유 배수 (아연 이온 (Zn2 +) 농도 1000 mg/ℓ) 로 변경하고, 오니 개질조 (5) 에 공급되는 카운터 이온 함유 물질, 아연 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온, 제 1 불용화 처리조 (1) 에 있어서의 pH 및 제 2 불용화 처리조 (2) 에 있어서의 pH 를 표 3 에 나타내는 바와 같이 하고, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 12 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.An inorganic ion-containing wastewater to be processed, a multiple-containing zinc ions from the aluminum drain (zinc ion (Zn 2 +) concentration of 1000 mg / ℓ), the counter-ion to be supplied to the change, and the sludge modified tank (5) containing material, zinc The pH in the first insolubilization treatment tank 1 and the pH in the second
(비교예 11) (Comparative Example 11)
침전조 (4) 에 있어서의 오니 체적 비율이 33 vol% 가 되도록 제어한 것 이외에는 실시예 17 과 동일하게 하여 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동을 실시하였다.The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus was carried out in the same manner as in Example 17 except that the sludge volume ratio in the
실시예 14 ∼ 17 및 비교예 8 ∼ 11 의 가동 방법의 각각에 대하여, 침전조 (4) 중의 분리 오니 (11) (오니 농도 (C1)) 를 1 일 간격으로 취출하여 메스 실린더에 넣고, 24 시간 정치한 후의 오니의 농축 비율 (R) 을 메스 실린더에 있어서의 오니 영역의 용량의 비 (24 시간 정치 후의 영역의 용량/24 시간 정치 전의 오니 영역의 용량) 로서 계측하여, 24 시간 정치 후의 오니 농도 C2(=C1/R) 를 산출하였다. 이 때, 오니 농도 (C1) 는 오니 농도계 (7) 로 측정하였다. 그리고, 실시예 14 ∼ 17 및 비교예 8 ∼ 11 각각에 있어서, 오니 농도 (C2) 가 100 g/ℓ 에 도달할 때까지의 시간을 측정하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.Separated sludge 11 (sludge concentration (C1)) in the
또 도 10 은, 실시예 14 및 비교예 9 에 대하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도의 시간 경과적 변화의 결과를 나타내는 그래프, 도 11 은, 실시예 15 및 비교예 10 에 대하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도의 시간 경과적 변화의 결과를 나타내는 그래프, 도 12 는, 실시예 17 및 비교예 11 에 대하여, 침전조 (4) 에 있어서의 오니 농도의 시간 경과적 변화의 결과를 나타내는 그래프이다.10 is a graph showing the results of time-course changes of sludge concentration in the sedimentation tank (4) with respect to Example 14 and Comparative Example 9, and Fig. 11 is a graph showing the results of Example 15 and Comparative Example 10, 12 is a graph showing the results of time-course changes of the sludge concentration in the
표 3 에 나타내는 바와 같이, 실시예 14 ∼ 17 의 가동 방법은, 비교예 8 ∼ 11 의 가동 방법에 비해, 오니 농도가 100 g/ℓ 까지 도달하는 시간이 현저하게 단축되는 것을 알 수 있었다. 이것은, 도 9 ∼ 도 12 를 보아도 명백하다. 즉, 예를 들어 실시예 14 의 플롯과 비교예 8 의 플롯을 비교하면, 측정 개시부터, 시간 경과적으로 실시예 14 의 플롯과 비교예 8 의 플롯이 크게 이간되어 가는 것을 알 수 있다. 이것으로부터, 실시예 14 가, 비교예 8 에 비해, 오니 농도가 단기간에 100 g/ℓ 에 도달하는 것이 명백하다. 또 50 g/ℓ, 80 g/ℓ 에 도달하는 기간에 대해서도 상기와 동일한 경향을 보였다. 이 결과는, 실시예 14 ∼ 17 의 가동 방법에서도 동일하였다.As shown in Table 3, in the operation methods of Examples 14 to 17, it was found that the time required for the sludge concentration to reach 100 g / l was remarkably shortened as compared with the operation methods of Comparative Examples 8 to 11. This is obvious from FIG. 9 to FIG. That is, for example, when the plots of Example 14 and Comparative Example 8 are compared with each other, it can be seen that plots of Example 14 and Comparative Example 8 are largely separated from the start of measurement to the time course. From this, it is apparent that the sludge concentration of Example 14 reached 100 g / l in a short period of time as compared with Comparative Example 8. Also, the same tendency was observed for the period of reaching 50 g / l and 80 g / l. This result was also the same in the operating methods of Examples 14 to 17. [
따라서, 본 발명에 의하면, Cu 배수, Mn 배수, Ni 배수 및 Zn 배수를 처리 대상으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동에 대해서도 단기간에 행할 수 있는 것이 확인되었다.Thus, according to the present invention, it was confirmed that the operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus to be treated with Cu drainage, Mn drainage, Ni drainage and Zn drainage can be performed in a short period of time.
1…제 1 불용화 처리조
2…제 2 불용화 처리조
3…응집 처리조
4…침전조
5…오니 개질조
L5…분리 오니 공급 라인
L12…라인 (카운터 이온 함유 물질 공급 수단)
V1…밸브 (카운터 이온 함유 물질 공급 수단)
R1…조내액 영역
R2…분리 오니 영역
S…오니 계면
L…액면One… The first insolubilization treatment tank
2… The second insolubilization treatment tank
3 ... Coagulation treatment tank
4… Sedimentation tank
5 ... Sludge reforming tank
L5 ... Separation sludge supply line
L12 ... Line (counter ion-containing material supplying means)
V1 ... Valve (counter ion containing substance supply means)
R1 ... The inner liquid area
R2 ... Separation sludge area
S ... Sludge interface
L ... Liquid face
Claims (7)
상기 불용화 처리조로부터 도입된 배출수를 처리수와 분리 오니로 침강 분리하는 침전조와,
상기 침전조와 상기 불용화 처리조를 접속하는 분리 오니 공급 라인과,
상기 분리 오니 공급 라인 상에 설치되어, 상기 침전조로부터 상기 분리 오니 공급 라인을 거쳐 도입된 분리 오니의 표면에, 상기 무기계 이온과 불용화물을 형성하는 카운터 이온을 함유하는 카운터 이온 함유 물질을 흡착시켜, 얻어진 흡착 오니를 상기 불용화 처리조에 공급하는 오니 개질조와,
상기 오니 개질조에 상기 카운터 이온 함유 물질을 공급하는 카운터 이온 함유 물질 공급 수단을 구비하고,
상기 불용화 처리조에 도입된 무기계 이온 함유 배수를, 상기 오니 개질조로부터 공급된 상기 흡착 오니와 접촉시키고, 상기 무기계 이온 함유 배수 중의 무기계 이온을 상기 흡착 오니의 상기 카운터 이온과 반응시켜 불용화하는 불용화 공정과,
상기 불용화 처리조로부터 도입된 배출수를 상기 침전조에서 처리수와 분리 오니로 침강 분리하는 침강 분리 공정과,
상기 침전조로부터 배출되는 상기 분리 오니의 적어도 일부를, 상기 분리 오니 공급 라인을 거쳐 상기 오니 개질조에 공급하는 분리 오니 공급 공정과,
상기 오니 개질조에 도입된 상기 분리 오니의 표면에 상기 카운터 이온 함유 물질을 흡착시켜 흡착 오니를 생성하는 흡착 오니 생성 공정을 반복함으로써 고밀도 오니를 생성하고, 본 운전을 실시하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 상기 본 운전 전에 행해지는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법에 있어서,
상기 장치 내의 저밀도 오니로부터 고밀도 오니를 생성하는 고밀도 오니 생성 공정을 포함하고,
그 고밀도 오니 생성 공정 중에 상기 침전조의 조내액의 액면보다 하방의 영역 (조내액 영역) 의 체적에 대한 상기 침전조 내의 오니 계면보다 하방의 영역 (분리 오니 영역) 의 체적의 비율인 오니 체적 비율이 30 vol% 이하가 되도록 제어하는 제어 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법.An insolubilization treatment tank for insolubilizing inorganic ions in the introduced inorganic ion-containing wastewater,
A sedimentation tank for precipitating and separating the effluent water introduced from the above-mentioned insolubilization treatment tank into treated sludge and separated sludge,
A separated sludge supply line for connecting the sedimentation tank and the insolubilization treatment tank,
And a counter ion containing substance containing a counter ion which forms an insoluble matter with the inorganic ion is adsorbed on the surface of the separated sludge introduced on the separated sludge supply line from the sedimentation tank via the separated sludge supply line, A sludge reforming tank for supplying the obtained adsorbed sludge to the insolubilization treatment tank,
And a counter ion-containing substance supplying means for supplying the counter ion-containing substance to the sludge reforming tank,
The inorganic ion-containing wastewater introduced into the insolubilization treatment tank is brought into contact with the adsorbed sludge supplied from the sludge reforming tank and the inorganic ions in the inorganic ion-containing wastewater are reacted with the counter ions of the adsorbed sludge to insolubilize And
A sedimentation separation step of sedimentating and separating the effluent water introduced from the above-mentioned insolubilization treatment tank into treated water and separated sludge in the settling tank;
A separation sludge supply step of supplying at least a part of the separated sludge discharged from the settling tank to the sludge reforming tank via the separated sludge supply line,
Density sludge is produced by repeating the adsorbing sludge generation step of adsorbing the counterion-containing material on the surface of the separated sludge introduced into the sludge reforming tank to generate adsorbed sludge, thereby to obtain a high-density sludge- In the method for operating the high-density sludge generation type water treatment apparatus performed before the main operation,
And a high-density sludge generation step of producing high-density sludge from the low-density sludge in the apparatus,
(Sludge volume ratio), which is the ratio of the volume of a region (separated sludge area) below the sludge interface in the sedimentation tank to the volume of the region (reservoir inner-liquid region) below the level of the crude inner fluid of the sedimentation tank during the high- vol% or less of the total amount of the sludge.
상기 오니 체적 비율이 4 ∼ 30 vol% 가 되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법.The method according to claim 1,
And the sludge volume ratio is controlled to be 4 to 30 vol%.
상기 불용화 처리조에 상기 무기계 이온 함유 배수를 도입하는 배수 도입 공정과,
상기 침전조에 있어서의 침강 분리에 의해 얻어진 처리수를 배출하는 처리수 배출 공정을 추가로 포함하고,
상기 무기계 이온 함유 배수가 공장 배수인 것을 특징으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법.The method according to claim 1,
A waste water introducing step of introducing the inorganic ion-containing waste water into the insolubilization treatment tank;
Further comprising a treated water discharging step of discharging the treated water obtained by sedimentation separation in the sedimentation tank,
Wherein the inorganic ion-containing wastewater is plant wastewater.
상기 고밀도 오니 생성 공정 전에,
상기 불용화 처리조에 상기 무기계 이온 함유 배수를 도입하고, 상기 불용화 처리조로부터 도입된 배출수를 상기 침전조에서 처리수와 분리 오니로 침강 분리하여, 상기 침전조에 오니를 축적시키는 오니 축적 공정을 추가로 포함하고,
상기 오니 축적 공정의 개시시에, 상기 오니 체적 비율이 0 vol% 인 것을 특징으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법.The method according to claim 1,
Prior to the dense sludge production process,
Sludge accumulation step of introducing the inorganic ion-containing wastewater into the insolubilization treatment tank, sedimentation separation of effluent water introduced from the insolubilization treatment tank into treated sludge and separated sludge in the sedimentation tank, and sludge accumulation in the sedimentation tank Including,
Wherein the sludge volume ratio is 0 vol% at the start of the sludge accumulation step.
미리 5 ∼ 15 vol % 의 범위 내에서 소정값을 결정하여,
상기 오니 체적 비율의 제어 목표값이 상기 소정값 미만인 경우에는, 상기 오니 축적 공정에 있어서 상기 오니 체적 비율을 소정값에 도달시키고, 상기 고밀도 오니 생성 공정에 있어서, 상기 침전조에서 배니를 실시함으로써 상기 침전조에 있어서의 상기 오니 체적 비율을 감소시켜, 상기 오니 체적 비율을 상기 제어 목표값에 도달시킨 후, 상기 침전조에서 배니를 실시하면서 상기 오니 체적 비율을 상기 제어 목표값이 되도록 제어하고,
상기 오니 체적 비율의 제어 목표값이 상기 소정값과 동등한 경우에는, 상기 고밀도 오니 생성 공정에 있어서, 상기 침전조에서 배니를 실시하면서 상기 오니 체적 비율을 상기 제어 목표값이 되도록 제어하고,
상기 오니 체적 비율의 제어 목표값이 상기 소정값보다 큰 경우에는, 상기 오니 축적 공정에 있어서 상기 오니 체적 비율을 상기 소정값에 도달시키고, 또한, 상기 고밀도 오니 생성 공정에 있어서, 상기 침전조에서 배니를 실시하지 않고 상기 침전조에 있어서의 상기 오니 체적 비율을 증가시켜, 상기 오니 체적 비율을 상기 제어 목표값에 도달시킨 후, 상기 침전조에서 배니를 실시하면서 상기 오니 체적 비율을 제어 목표값이 되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법.5. The method of claim 4,
A predetermined value is determined in advance within a range of 5 to 15 vol%
Wherein when the control target value of the sludge volume ratio is less than the predetermined value, the sludge volume ratio reaches a predetermined value in the sludge accumulation step, and in the high-concentration sludge generation step, And controlling the sludge volume ratio to be the control target value while performing the vannishing in the settling tank after the sludge volume ratio reaches the control target value,
Wherein when the control target value of the sludge volume ratio is equal to the predetermined value, the sludge volume ratio is controlled to be the control target value while the sludge is carried out in the sedimentation tank in the high-
Wherein when the control target value of the sludge volume ratio is larger than the predetermined value, the sludge volume ratio reaches the predetermined value in the sludge accumulation step, and in the high density sludge generation step, The sludge volume ratio in the settling tank is increased and the sludge volume ratio is controlled to be the control target value while the sludge volume ratio is reached to the control target value and the sludge is subjected to the vat in the settling tank Wherein the high-density sludge-producing type water treatment apparatus is operated.
무기계 이온이 Al3 +, Fe2 +, Fe3 +, Cr2 +, F-, PO4 2 -또는 SO4 2 -이며, 오니 농도가 150 ∼ 350 g/ℓ 의 범위 내에서 설정한 소정값에 도달한 시점에서 가동 공정이 종료된 것으로 판정하는 것을 특징으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The inorganic ion is at least one selected from the group consisting of Al 3 + , Fe 2 + , Fe 3 + , Cr 2 + , F - , PO 4 2 - or SO 4 2 - and a predetermined value set within the range of 150 to 350 g / The operation of the high-density sludge generation type water treatment apparatus is judged to be completed.
무기계 이온이 Cu2 +, Mn2 +, Ni2 + 또는 Zn2 + 이며, 오니 농도가 50 ∼ 150 g/ℓ 의 범위 내에서 설정한 소정값에 도달한 시점에서 가동 공정이 종료된 것으로 판정하는 것을 특징으로 하는 고밀도 오니 생성형 수처리 장치의 가동 방법.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
When the inorganic ion is Cu 2 + , Mn 2 + , Ni 2 + or Zn 2 + , and the sludge concentration reaches a predetermined value set within a range of 50 to 150 g / l, it is judged that the moving process is finished Wherein the high-density sludge generation type water treatment apparatus comprises:
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