KR101441478B1 - 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 - Google Patents

평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 Download PDF

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Abstract

평면디스플레이용 화학 기상 증착장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치는, 챔버에 마련되는 백킹 플레이트(backing plate)와의 사이에 이격공간부를 두고 백킹 플레이트의 하부에 배치되어 평면디스플레이 상으로 증착물질을 분배하는 가스분배판과, 이격공간부를 차폐하도록 가스분배판의 사이드(side) 영역을 따라 배치되며 가스분배판과 부분적으로 연결되어 가스분배판을 지지하되 가스분배판의 열팽창을 보상하는 복수의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛과, 가스분배판의 코너(corner) 영역에서 이웃된 한 쌍의 사이드 열팽창 보상유닛에 인접하게 배치되며 이격공간부의 코너 영역을 차폐하면서 상기 복수의 사이드 열팽창 보상유닛의 열팽창을 보상하는 복수의 코너 차폐용 열팽창 보상유닛을 포함한다.

Description

평면디스플레이용 화학 기상 증착장치{Chemical Vapor Deposition Apparatus for Flat Display}
본 발명은, 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 간단하고 효율적인 구조로서 가스분배판의 열팽창에 따른 기계적 응력을 줄이면서 가스분배판을 지지할 수 있는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치에 관한 것이다.
평면디스플레이는 개인 휴대단말기를 비롯하여 TV나 컴퓨터의 모니터 등으로 널리 채용된다.
이러한 평면디스플레이는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등으로 그 종류가 다양하다.
이 중에서 유기 발광 다이오드라 불리는 OLED는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하여 스스로 빛을 내는 '자체발광형 유기물질'을 말한다.
OLED는 낮은 전압에서 구동이 가능하고 얇은 박형으로 만들 수 있으며, 넓은 시야각과 빠른 응답 속도를 갖고 있어 현재의 LCD를 대체할 수 있는 차세대 디스플레이 장치로 각광받고 있다.
OLED는 구동방식에 따라 수동형인 PMOLED와 능동형인 AMOLED로 나눌 수 있다. 특히 AMOLED는 자발광형 디스플레이로서 기존의 디스플레이보다 응답속도가 빠르며, 색감도 자연스럽고 전력 소모가 적다는 장점이 있다. 또한 AMOLED는 유리기판이 아닌 필름(Film) 등에 적용하면 플렉시블 디스플레이(Flexible Display)의 기술을 구현할 수 있게 된다.
이러한 OLED의 제조 공정은 크게, 패턴(Pattern) 형성 공정, 유기박막 증착 공정, 봉지 공정, 그리고 유기박막이 증착된 기판과 봉지 공정을 거친 기판을 붙이는 합착 공정 등이 있다.
한편, 증착 공정 중의 하나인 화학 기상 증착 공정(Chemical Vapor Deposition Process)은, 외부의 고주파 전원에 의해 플라즈마(Plasma)화 되어 높은 에너지를 갖는 증착물질인 공정가스를 유리기판상으로 증착시키는 공정이다.
이러한 증착 공정을 수행하기 위한 통상의 화학 기상 증착장치는, 상면으로 유리기판이 로딩(Loading)되는 서셉터를 갖는 챔버와, 챔버 내에 마련되는 전극과, 전극의 하부에 마련되어 알에프(RF) 전극 및 가스유입구 역할을 하는 가스분배판을 구비한다.
가스분배판은 접지 전극과의 사이에 이격공간부가 형성되도록 접지 전극으로부터 소정 거리 이격되게 배치되어 있다. 가스분배판의 판면에는 미세한 크기의 복수개의 관통공이 형성되어 있다.
이러한 가스분배판은, 유리기판 상에 증착되는 증착막의 균일도 유지를 위해 유리기판이 로딩된 서셉터와 실질적으로 나란하게 배치되며, 서셉터와의 간격 역시 적절하게 조절된다.
이러한 구성에 의해, 증착 공정이 진행되면, 공정가스가 챔버의 상부에서 전극을 통해 하방으로 주입된 후, 이격공간부를 통해 확산된 다음, 가스분배판에 형성된 복수개의 관통공을 통해 분출됨으로써 유리기판상에 증착막이 형성될 수 있게 된다.
한편, 전극과 가스분배판 사이에는 전극과 가스분배판의 둘레방향을 따라 현가지지부가 마련되어 있다. 현가지지부는 이격공간부 내에 존재하는 반응성 가스가 외부로 누출되지 않도록 이격공간부를 차폐하는 역할을 한다. 뿐만 아니라 현가지지부는 상대적으로 무거운 중량을 갖는 가스분배판을 전극에 대해 지지하고, 증착 공정시 대략 200 ℃ 정도로 뜨거워진 가스분배판이 열팽창하는 것을 보상한다.
그런데, 종래기술의 현가지지부는 가스분배판의 열팽창 시 기계적 응력을 줄이기 위해 가요성(可撓性)을 갖도록 설계되어 있어 가스분배판의 자중을 충분히 견디지 못해 찢어지거나 가스분배판을 안정적으로 지지할 수 없어 가스분배판의 처짐을 방지하기 어려운 문제점이 있다.
또한, 이격공간부의 코너부위는 현가지지부의 각 단편이 끼워 맞춰지는 슬롯형 커버 또는 커플러에 의해 차폐되는데, 이러한 슬롯형 커버 또는 커플러는 가공 및 조립이 어려우며, 더욱이 고온에서 가스분배판의 열팽창 시 기계적 응력을 완화시키지 못하는 문제점이 있다.
대한민국 특허공개 제 2005-0033573호 어플라이드 머티어리얼스, 2005.04.12
따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 가스분배판을 안정적으로 현가 지지할 수 있으며 또한, 이격공간부의 코너부위를 간단하고 효율적인 구조로 차폐하면서 가스분배판의 열팽창에 따른 기계적 응력을 줄일 수 있는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 챔버에 마련되는 백킹 플레이트(backing plate)와의 사이에 이격공간부를 두고 상기 백킹 플레이트의 하부에 배치되어 평면디스플레이 상으로 증착물질을 분배하는 가스분배판; 상기 이격공간부를 차폐하도록 상기 가스분배판의 사이드(side) 영역을 따라 배치되며, 상기 가스분배판과 부분적으로 연결되어 상기 가스분배판을 지지하되 상기 가스분배판의 열팽창을 보상하는 복수의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛; 및 상기 가스분배판의 코너(corner) 영역에서 이웃된 한 쌍의 사이드 열팽창 보상유닛에 인접하게 배치되며, 상기 이격공간부의 코너 영역을 차폐하면서 상기 복수의 사이드 열팽창 보상유닛의 열팽창을 보상하는 복수의 코너 차폐용 열팽창 보상유닛을 포함하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치가 제공될 수 있다.
상기 코너 차폐용 열팽창 보상유닛은, 상기 가스분배판의 사이드 영역에 각각 배치되며, 상기 이웃된 한 쌍의 사이드 열팽창 보상유닛에 해당하는 것끼리 연결되는 한 쌍의 연결부재; 및 상기 가스분배판의 코너(corner) 영역에 배치되고 상기 한 쌍의 연결부재와 슬라이딩 이동 가능하게 연결되는 코너 연결부재를 포함할 수 있다.
상기 연결부재에는 상기 증착물질이 낙하되는 방향을 따라 길게 형성되고 상기 가스분배판의 중앙 영역을 향해 돌출된 돌기부가 형성되며, 상기 코너 연결부재는 상기 돌기부의 폭보다 큰 폭을 가지고 상기 돌기부가 수용되는 돌기 수용레일이 형성될 수 있다.
상기 돌기부와 상기 돌기 수용레일은 상기 가스분배판의 코너를 기준으로 하여 양측에 대칭되게 배치될 수 있다.
상기 한 쌍의 연결부재 각각은 상기 이웃된 한 쌍의 사이드 열팽창 보상유닛에 각각 볼트 결합될 수 있다.
상기 코너 차폐용 열팽창 보상유닛은, 상기 가스분배판의 코너를 기준으로 하여 양측으로 대칭되게 배치되는 상기 돌기 수용레일들 사이에 배치되어 상기 가스분배판에 상기 코너 연결부재의 조립을 가이드하는 코너 가이드컬럼을 더 포함할 수 있다.
상기 복수의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛들 각각은, 상기 이격공간부를 차폐하도록 상기 가스분배판의 사이드(side) 영역을 따라 배치되는 측벽부; 상기 측벽부의 상단에서 상기 측벽부의 판면에 가로로 형성된 상벽부; 및 상기 측벽부의 하단에서 상기 상벽부의 반대방향으로 상기 상벽부와 나란하게 형성된 하벽부를 포함할 수 있다.
상기 하벽부는 상기 가스분배판이 상기 가스분배판의 판면에 대한 X축, Y축 및 Z축 방향 중 적어도 어느 한 방향으로 열팽창하는 것에 기초하여 상기 가스분배판을 현가 지지하도록 상기 가스분배판의 측면에 형성된 그루브에 부분적으로 삽입되어 상기 가스분배판에 대해 상대이동 가능하게 마련될 수 있다.
상기 하벽부와 상기 가스분배판에는 상기 그루브로부터 상기 하벽부가 이탈되는 것을 저지하는 이탈저지부가 마련될 수 있다.
상기 이탈저지부는, 상기 가스분배판에 형성된 제1 체결공; 상기 하벽부에 형성되고 상기 하벽부가 상기 그루브에 삽입될 때, 상기 제1 체결공과 연통되는 제2 체결공; 및 상호 연통된 상기 제1 및 제2 체결공을 통해 일체로 삽입 체결되는 체결부재를 포함할 수 있다.
상기 제2 체결공은 상기 체결부재의 둘레보다 크게 마련되어 상기 체결부재와 상기 제2 체결공 사이에 유격 공간이 형성될 수 있다.
상기 하벽부는 밑면이 완만하게 경사진 갈고리형상으로 마련될 수 있다.
상기 상벽부는 상기 백킹 플레이트와 상기 백킹 플레이트의 일측에 마련되어 상기 백킹 플레이트를 지지하는 백킹 플레이트지지부 사이에 형성된 슬릿에 물림결합될 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 가스분배판을 안정적으로 현가 지지할 수 있으며 또한, 이격공간부의 코너부위를 간단하고 효율적인 구조로 차폐하면서 가스분배판의 열팽창에 따른 기계적 응력을 줄일 수 있는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치의 개략적인 구조도이다.
도 2는 도 1의 A영역에 대한 사시도이다.
도 3은 도 2의 분해 사시도이다.
도 4는 도 2의 부분 확대 단면도이다.
도 5는 도 4의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛의 하벽부와 가스분배판의 그루브의 연결 상태를 도시한 도면이다.
도 6 내지 도 7은 본 실시 예에 따른 이격공간부의 코너 영역을 나타내는 도면이다.
도 8은 본 실시 예에 따른 코너 차폐용 열팽창 보상유닛의 단면도이다.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.
도면 대비 설명에 앞서, 이하에서 설명될 평면디스플레이란 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 중 어떠한 것이 적용되어도 좋다. 다만, 본 실시 예에서는 OLED(Organic Light Emitting Diodes)용 유리기판을 평면디스플레이라 간주하기로 한다. 이하, 편의를 위해, OLED용 유리기판을 단순히 유리기판(G)이라 하여 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치의 개략적인 구조도이고, 도 2는 도 1의 A영역에 대한 사시도이고, 도 3은 도 2의 분해 사시도이고, 도 4는 도 2의 부분 확대 단면도이고, 도 5는 도 4의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛의 하벽부와 가스분배판의 그루브의 연결 상태를 도시한 도면이고, 도 6 내지 도 7은 본 실시 예에 따른 이격공간부의 코너 영역을 나타내는 도면이고, 도 8은 본 실시 예에 따른 코너 차폐용 열팽창 보상유닛의 단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치(1)는, 유리기판(G)에 대한 증착 공정을 진행하며 상호 간 분해 조립이 가능한 상부 및 하부 챔버(11,12)와, 상부 챔버(11) 내에 마련되어 증착 대상의 유리기판(G)을 향해 소정의 실리콘계 화합물 이온(ion)인 증착물질을 방출하는 전극(20)과, 하부 챔버(12) 내에 마련되어 유리기판(G)을 떠받치면서 지지하는 서셉터(30)와, 상단부는 서셉터(30)의 중앙 영역에 결합되고 하단부는 하부 챔버(12)를 통해 하방으로 노출되어 서셉터(30)를 승하강 가능하게 지지하는 컬럼(40)을 포함한다.
유리기판(G)에 대한 증착 공정이 진행될 때는 상부 및 하부 챔버(11,12)가 상호 결합된다. 즉, 별도의 크레인에 의해 상부 챔버(11)가 하부 챔버(12)의 상부에 결합됨으로써 상부 및 하부 챔버(11,12)는 한 몸체를 이루며 챔버(10)를 형성한다.
이처럼 상부 및 하부 챔버(11,12)의 상호 결합에 의해 형성된 챔버(10)는 그 내부의 증착공간(P)에서 증착 공정이 진행될 때 증착공간(P)이 진공 분위기로 유지될 수 있도록 외부와 차폐된다.
먼저 상부 챔버(11)에 대해 살펴보면, 상부 챔버(11)의 내부에는 횡 방향을 따라 전극(20)이 구비된다. 전극(20)은 하부의 전극인 서셉터(30)와의 상호 작용에 의해 유리기판(G)의 표면으로 증착물질을 제공한다.
이러한 전극(20)은 증착물질(실리콘계 화합물인 반응성 가스)을 방출하는 백킹 플레이트(21, backing plate)와, 이격공간부(S)를 두고 백킹 플레이트(21)의 하부에 마련되어 유리기판(G)상으로 증착물질을 분배하는 가스분배판(22, diffuser)으로 구성된다.
가스분배판(22)에는 미세 가공된 수많은 오리피스(22a)가 형성된다. 따라서 증착 공정 시 서셉터(30)가 상승하여 가스분배판(22)과 대략 수십 밀리미터(mm) 정도로 근접 배치되면, 이어서 증착물질이 수많은 오리피스(22a)를 통해 방출되면서 유리기판(G)의 상부 표면으로 증착된다.
백킹 플레이트(21)와 상부 챔버(11) 사이에는 백킹 플레이트(21)가 상부 챔버(11)의 외벽에 직접 접촉되어 통전되지 않도록 절연체(23)가 마련된다. 절연체(23)는 테프론 등으로 제작될 수 있다.
상부 챔버(11)의 상단에는 상판부(13)가 마련된다. 그리고 상판부(13)의 상부에는 증착공간(P) 내로 공정 가스, 반응 가스, 클리닝(Cleaning) 가스 혹은 기타 가스를 공급하는 가스공급부(14)가 마련된다.
그리고 가스공급부(14)의 주변에는 고주파 전원부(15)가 설치된다. 고주파 전원부(15)는 연결라인(16)에 의해 전극(20)의 백킹 플레이트(21)와 전기적으로 연결된다.
하부 챔버(12)는 실질적으로 유리기판(G)에 대한 증착 공정이 진행되는 부분이다. 따라서 실질적으로 증착공간(P)은 하부 챔버(12) 내에 형성된다.
이러한 하부 챔버(12)의 외벽에는 소정의 작업 로봇에 의해 유리기판(G)이 증착공간(P) 내외로 출입되는 통로인 기판출입부(12a)가 형성되어 있다. 이러한 기판출입부(12a)는 그 주변에 결합된 게이트밸브(미도시)에 의해 선택적으로 개폐될 수 있다.
하부 챔버(12) 내의 바닥면 영역에는 증착공간(P)에 존재하는 가스를 다시 증착공간(P)으로 확산시키는 가스확산판(17)과, 증착공간(P)의 내부를 진공분위기로 조성하는 진공펌프(미도시) 등이 더 마련될 수 있다.
서셉터(30)는 하부 챔버(12) 내의 증착공간(P)에서 횡방향으로 배치되어 증착 대상의 유리기판(G)을 지지한다. 서셉터(30)는 보통 증착 대상의 유리기판(G)의 면적보다 큰 구조물로 형성된다.
서셉터(30)의 상면은 유리기판(G)이 정밀하게 수평상태로 로딩될 수 있도록 거의 정반으로 제조된다. 서셉터(30)의 내부에는 도시하지 않은 히터(heater)가 장착되어 서셉터(30)를 소정의 증착온도인 섭씨 400도 정도로 가열한다. 히터로 향하는 전원은 컬럼(40)의 내부를 통해 제공된다.
서셉터(30)는 하부 챔버(12) 내의 증착공간(P)에서 상하로 승하강된다. 즉, 유리기판(G)이 로딩될 때는 하부 챔버(12) 내의 바닥면 영역에 배치되어 있다가 유리기판(G)이 로딩되고 증착 공정이 진행될 때는 유리기판(G)이 가스분배판(22)에 인접할 수 있도록 부상한다. 이를 위해, 서셉터(30)에 결합된 컬럼(40)에는 서셉터(30)를 승하강시키는 승강 모듈(41)이 연결된다.
승강 모듈(41)에 의해 서셉터(30)가 승강하는 과정에서 컬럼(40)과 관통홀(12b) 간에 공간이 발생되어서는 아니된다. 이에, 관통홀(12b) 주변에는 컬럼(40)의 외부를 감싸도록 벨로우즈관(42)이 마련되어 있다. 벨로우즈관(42)은 서셉터(30)가 하강할 때 팽창되고, 서셉터(30)가 부상할 때 압착되면서 컬럼(40)과 관통홀(12b) 간에 공간이 발생하는 것을 방지한다.
서셉터(30)의 상면으로 유리기판(G)이 로딩되어 안착되거나 취출되기 위해 서셉터(30)에는 로딩되거나 취출되는 유리기판(G)의 하면을 안정적으로 지지하는 다수의 리프트 핀(31)이 연결된다. 리프트 핀(31)들은 서셉터(30)를 관통하도록 설치될 수 있다.
리프트 핀(31)들은 서셉터(30)가 하강할 때, 그 하단이 하부 챔버(12)의 바닥면에 가압되어 상단이 서셉터(30)의 상면으로 돌출된다. 이에, 유리기판(G)을 서셉터(30)로부터 이격시킨다. 반대로, 서셉터(30)가 부상하면 자중에 의해 하방으로 이동하면서 유리기판(G)이 서셉터(30)의 상면에 밀착되도록 한다.
이러한 리프트 핀(31)들은 도시 않은 로봇아암이 서셉터(30)에 로딩된 유리기판(G)을 파지할 수 있도록 유리기판(G)과 서셉터(30) 사이의 공간을 형성하는 역할을 겸한다.
한편, 반응성 가스를 분배하는 가스분배판(22)은 증착 공정 시, 서셉터(30)가 대략 섭씨 400도 정도의 온도로 가열되는 것에 기인하여 대략 섭씨 200도 정도의 온도로 뜨거워진다. 이에 따라 층착 공정 시 대략 200도 정도로 뜨거워진 가스분배판(22)은 X축, Y축 및 Z축 방향 중 적어도 어느 한 방향으로 열팽창하게 된다. 이러한 가스분배판(22)의 열팽창이 심화되면 그에 따른 기계적 응력이 커져 가스분배판(22)이 왜곡 또는 파손될 수 있다.
따라서 이러한 가스분배판(22)의 열팽창을 보상하면서 가스분배판(22)을 안정적으로 지지하기 위해 본 발명에 따른 화학 기상 증착장치는, 도 2 내지 도 6을 참조하면, 가스분배판(22)의 사이드(side) 영역에 마련되어 증착 공정 시 가스분배판(22)의 열팽창을 보상하면서 가스분배판(22)을 백킹 플레이트(21)에 대해 현가 지지하며 이격공간부(S)에 존재하는 증착물질(반응성 가스)이 외부로 누출되지 않도록 이격공간부(S)를 차폐하는 복수의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)과, 가스분배판(22)의 코너 영역에서 이웃된 한 쌍의 사이드 열팽창 보상유닛에 인접하게 배치되며 이격공간부(S)의 코너 영역을 차폐하면서 복수의 사이드 열팽창 보상유닛의 열팽창을 보상하는 복수의 코너 차폐용 열팽창 보상유닛(70)을 더 포함한다.
본 실시 예에서 백킹 플레이트(21)와 가스분배판(22)은 직육면의 판상체 형태로 마련됨에 따라 사이드 열팽창 보상유닛은 가스분배판(22)의 각 사이드(side) 영역을 따라 4개가 마련되며, 코너 열팽창 보상유닛은 가스분배판(22)의 각 코너 영역에 4개가 마련될 수 있다.
사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)은 이격공간부(S)를 차폐하도록 가스분배판(22)의 사이드 영역을 따라 배치되는 측벽부(52)와, 측벽부(52)의 상단에서 측벽부(52)의 판면에 가로로 형성된 상벽부(51)와, 측벽부(52)의 하단에서 상벽부(51)의 반대방향으로 상벽부(51)와 나란하게 형성된 하벽부(53)를 포함한다.
이러한 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)은 외력에 대한 저항성이 큰 강성을 갖는 금속재질로 제작될 수 있다. 즉, 강성의 금속재질로 해당 위치를 절곡하여 측벽부(52), 상벽부(51) 및 하벽부(53)를 일체로 제작할 수 있다. 하지만, 경우에 따라 측벽부(52), 상벽부(51) 및 하벽부(53)를 부분적으로 제작하여 상호 용접하거나 볼팅 결합할 수도 있다.
측벽부(52)는 백킹 플레이트(21)와 가스분배판(22)의 둘레방향을 따라 벽체를 형성하여 실질적으로 이격공간부(S)를 차폐시키는 부분이다. 또한, 가스분배판(22)의 열이 백킹 플레이트(21)로 전도되는 것을 저지하는 역할을 한다.
상벽부(51)는 측벽부(52)의 상단에서 챔버의 외벽 방향을 따라 연장되어 있으며, 백킹 플레이트(21)에 볼트(B) 결합될 수 있다. 하지만, 경우에 따라서 백킹 플레이트(21)와 백킹 플레이트(21) 지지부 사이에 슬릿을 형성시키고 상벽부(51)가 슬릿에 물림결합되도록 할 수도 있다.
하벽부(53)는 측벽부(52)의 하단에서 상벽부(51)와 반대방향인 가스분배판(22)을 향해 연장되어 있다. 이러한 하벽부(53)는 가스분배판(22)의 측면에 형성된 그루브(22b)에 부분적으로 삽입되어 가스분배판(22)의 열팽창을 보상하면서 가스분배판(22)을 현가 지지한다.
즉, 전술한 바와 같이, 증착 공정 시 뜨거워진 가스분배판(22)은 가스분배판(22)의 판면에 대해 X축, Y축 및 Z축 방향으로 열팽창하게 되는데 특히, 가스분배판(22)의 판면 방향인 X축 및 Y축 방향으로의 열팽창이 심화된다. 이러한 경우, (도 4 참조) 하벽부(53)가 가스분배판(22)의 그루브(22b)에 부분적으로 삽입되는 지지구조에 의해 가스분배판(22)이 하벽부(53)에 대해 소정 간격 유동이 가능하기 때문에 가스분배판(22)의 열팽창에 효과적으로 대처할 수 있게 된다.
본 실시 예에서, 하벽부(53)의 두께는 가스분배판(22)의 판면에 대해 Z축 방향 열팽창을 보상하기 위해 가스분배판(22)의 그루브(22b)의 두께보다 다소 작게 마련되며, 가스분배판(22)의 판면 방향인 X축 및 Y축 방향으로 열팽창 시 하벽부(53)에 대한 슬라이딩 이동이 유리할 수 있도록 하벽부(53)의 밑면은 완만하게 경사진 갈고리 형상으로 마련될 수 있다.
한편, 가스분배판(22)은 열팽창 및 수축하면서 유동하기 때문에 하벽부(53)가 그루브(22b)로부터 이탈될 우려가 있다.
이를 저지하기 위해, 하벽부(53)와 가스분배판(22)에는 그루브(22b)로부터 하벽부(53)가 이탈되는 것을 저지하는 이탈저지부(60)가 더 마련되어 있다.
이탈저지부(60)는, 가스분배판(22)에 형성된 제1 체결공(61)과, 하벽부(53)에 형성되고 하벽부(53)가 그루브(22b)에 삽입될 때, 제1 체결공(61)과 연통되는 제2 체결공(62)과, 상호 연통된 제1 및 제2 체결공(62)을 통해 일체로 삽입 체결되는 체결부재(63)를 포함한다.
본 실시 예에서 체결부재(63)는 볼트이며, 제2 체결공(62)은 (도 5 참조) 체결부재(63)의 둘레보다 크게 마련되어 있어 체결부재(63)와 제2 체결공(62) 사이에는 유격 공간이 형성되어 있다. 따라서, 하벽부(53)가 가스분배판(22)에 체결부재(63)로 연결되어 있지만, 가스분배판(22)의 열팽창 및 수축 시 유격 공간에서 가스분배판(22)의 유동이 가능하다.
한편, 본 실시 예에 따른 이격공간부(S)는 직육면체 형상의 가스분배판(22)의 각 사이드 영역을 따라 4개의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)에 의해 차폐되기 때문에, 2개의 이웃한 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)은 가스분배판(22)의 코너 영역에서 교차하는 방향으로 배치된다. 따라서 인접한 2개의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)이 교차하는 영역 즉, 가스분배판(22)의 코너 영역은 증착물질이 외부로 누출되지 않도록 밀봉될 수 있어야 한다. 또한, 대략 200 도의 가스분배판(22)을 현가 지지하는 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50) 역시 온도 상승으로 인해 열팽창이 발생하므로 각각의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)의 열팽창을 보상할 수도 있어야 한다.
이를 위해 본 실시 예에서, 가스분배판(22)의 코너 영역에 인접한 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)의 밀봉은 코너 차폐용 열팽창 보상유닛(70)에 의해 달성될 수 있다.
도 6 내지 도 8을 참조하면, 코너 차폐용 열팽창 보상유닛(70)은, 가스분배판(22)의 사이드 영역에 각각 배치되며 이웃된 한 쌍의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)에 해당하는 것 끼리 연결되는 한 쌍의 연결부재(71)와, 가스분배판(22)의 코너 영역에 배치되고 한 쌍의 연결부재(71)와 슬라이딩 이동 가능하게 연결되는 코너 연결부재(72)와, 가스분배판(22)의 코너를 기준으로 하여 양측으로 대칭되게 배치되는 돌기 수용레일(72a)들 사이에 배치되어 가스분배판(22)에 코너 연결부재(72)의 조립을 가이드하는 코너 가이드컬럼(73)을 포함한다.
한 쌍의 연결부재(71)는 이격공간부(S)를 차폐하도록 가스분배판(22)의 코너 영역에서 이웃한 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)들의 각각의 측벽부(52)에서 연장되어 90도 각도로 배치된다.
이러한 한 쌍의 연결부재(71) 각각은 이웃된 한 쌍의 사이드 열팽창 보상유닛의 측벽부(52)에 각각 볼트 또는 리벳(Rivet)등의 체결수단으로 결합될 수 있다. 본 실시 예에서 측벽부(52)의 내측에는 연결부재(71)의 일단부가 삽입될 수 있는 슬롯(미도시)이 형성되어 있으며 연결부재(71)의 단부와 슬롯이 형성되어 있는 측벽부(52)의 외벽에는 볼트 체결을 위해 상호 연통되는 다수의 관통공(H)이 마련되어 있다.
한편, 한 쌍의 연결부재(71)들은 실질적으로 가스분배판(22)의 코너에서 직접 연결 내지는 접촉되지 않도록 배치되는데, 이로 인해 가스분배판(22)의 코너에서 발생하는 갭(Gap)은 코너 연결부재(72)에 의해 밀봉된다.
코너 연결부재(72)는 90도 각도로 배치되는 한 쌍의 연결부재(71)와 가스분배판(22)의 내측에서 중첩 배치될 수 있도록 절곡된 형상을 가지며 또한, 사이드 열팽창 보상유닛의 열팽창을 보상할 수 있는 구조를 갖는다.
증착 공정 시 뜨거워진 사이드 열팽창 보상유닛은 특히 가스분배판(22)의 판면 방향인 X축 및 Y축 방향으로의 열팽창이 심화되는데, 코너 연결부재(72)는 이러한 코너 영역에서 이웃하게 배치되는 사이드 열팽창 보상유닛의 열팽창을 보상하면서 이격공간부(S)의 코너 영역을 밀봉한다.
이를 위해 본 실시 예에서, 연결부재(71)에는 증착물질이 낙하하는 방향을 따라 길게 형성되고 가스분배판(22)의 중앙 영역을 향해 돌출된 돌기부(71a)가 형성되며, 코너 연결부재(72)는 돌기부(71a)의 폭보다 큰 폭을 가지고 돌기부(71a)가 수용되는 돌기 수용레일(72a)이 형성되며, 돌기부(71a)와 돌기 수용레일(72a)은 가스분배판(22)의 코너를 기준으로 하여 양측에 대칭되게 배치되어 있다.
이러한 돌기부(71a)와 돌기 수용레일(72a)은 이격공간부(S)의 코너 영역에서의 밀봉을 기밀하게 하며 또한, 돌기부(71a)는 돌기 수용레일(72a)에 대해 슬라이딩 이동 가능하게 연결되어 있어 사이드 열팽창 보상유닛의 열팽창에 효과적으로 대처할 수 있다.
한편, 가스분배판(22)의 코너를 기준으로 하여 양측으로 대칭되게 배치되는 돌기 수용레일(72a)들 사이에는 코너 가이드컬럼(73)이 배치되어 있다.
코너 가이드컬럼(73)은 연결부재(71)와 코너 연결부재(72)의 조립을 가이드하며, 코너 연결부재(72)의 열팽창 내지 수축에 대해 코너 연결부재(72)를 지지하는 역할을 한다. 즉, 코너 가이드컬럼(73)은 돌기 수용레일(72a)의 X축 내지 Y축 방향으로의 유동을 제한하고 코너 연결부재(72)에 작용하는 외력 내지 열팽창에 대해 코너 연결부재(72)를 지지한다. 도시하지는 않았으나, 코너 가이드컬럼(73)은 관통공(73a)을 통해 가스분배판(22)에 볼트 결합될 수 있다.
이러한 구성을 갖는 본 실시 예에 따른 코너 차폐용 열팽창 보상유닛(70)은, 가스분배판(22)의 코너 영역에서 각각 교차하는 방향으로 배치되는 한 쌍의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛(50)과 슬라이딩 가능하게 연결되어 이격공간부(S)를 차폐하며, 가스분배판(22)의 열팽창에 기인한 기계적 응력을 줄일 수 있다.
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
10 : 챔버 11 : 상부 챔버
12 : 하부 챔버 20 : 전극
21 : 백킹 플레이트 22 : 가스분배판
22a : 오리피스 22b : 그루브
30 : 서셉터 40 : 컬럼
50 : 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛 51 : 상벽부
52 : 측벽부 53 : 하벽부
60 : 이탈저지부 61 : 제1 체결공
62 : 제2 체결공 63 : 체결부재
70 : 코너 차폐용 열팽창 보상유닛 71 : 연결부재
71a : 돌기부 72 : 코너 연결부재
72a : 돌기 수용레일 73 : 코너 가이드컬럼
S : 이격공간부 P : 증착공간

Claims (13)

  1. 챔버에 마련되는 백킹 플레이트(backing plate)와의 사이에 이격공간부를 두고 상기 백킹 플레이트의 하부에 배치되어 평면디스플레이 상으로 증착물질을 분배하는 가스분배판;
    상기 이격공간부를 차폐하도록 상기 가스분배판의 사이드(side) 영역을 따라 배치되며, 상기 가스분배판과 부분적으로 연결되어 상기 가스분배판을 지지하되 상기 가스분배판의 열팽창을 보상하는 복수의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛; 및
    상기 가스분배판의 코너(corner) 영역에서 이웃된 한 쌍의 사이드 열팽창 보상유닛에 인접하게 배치되며, 상기 이격공간부의 코너 영역을 차폐하면서 상기 복수의 사이드 열팽창 보상유닛의 열팽창을 보상하는 복수의 코너 차폐용 열팽창 보상유닛을 포함하며,
    상기 복수의 사이드 차폐용 열팽창 보상유닛들 각각은,
    상기 이격공간부를 차폐하도록 상기 가스분배판의 사이드(side) 영역을 따라 배치되는 측벽부;
    상기 측벽부의 상단에서 상기 측벽부의 판면에 가로로 형성된 상벽부; 및
    상기 측벽부의 하단에서 상기 상벽부의 반대방향으로 상기 상벽부와 나란하게 형성된 하벽부를 포함하며,
    상기 하벽부는 상기 가스분배판이 상기 가스분배판의 판면에 대한 X축, Y축 및 Z축 방향 중 적어도 어느 한 방향으로 열팽창하는 것에 기초하여 상기 가스분배판을 현가 지지하도록 상기 가스분배판의 측면에 형성된 그루브에 부분적으로 삽입되어 상기 가스분배판에 대해 상대이동 가능하게 마련되는 것을 특징으로 하며,
    상기 하벽부와 상기 가스분배판에는 상기 그루브로부터 상기 하벽부가 이탈되는 것을 저지하는 이탈저지부가 마련되며,
    상기 이탈저지부는,
    상기 가스분배판에 형성된 제1 체결공;
    상기 하벽부에 형성되고 상기 하벽부가 상기 그루브에 삽입될 때, 상기 제1 체결공과 연통되는 제2 체결공; 및
    상호 연통된 상기 제1 및 제2 체결공을 통해 일체로 삽입 체결되는 체결부재를 포함하며,
    상기 제2 체결공은 상기 체결부재의 둘레보다 크게 마련되어 상기 체결부재와 상기 제2 체결공 사이에 유격 공간이 형성되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 코너 차폐용 열팽창 보상유닛은,
    상기 가스분배판의 사이드 영역에 각각 배치되며, 상기 이웃된 한 쌍의 사이드 열팽창 보상유닛에 해당하는 것끼리 연결되는 한 쌍의 연결부재; 및
    상기 가스분배판의 코너(corner) 영역에 배치되고 상기 한 쌍의 연결부재와 슬라이딩 이동 가능하게 연결되는 코너 연결부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 연결부재에는 상기 증착물질이 낙하되는 방향을 따라 길게 형성되고 상기 가스분배판의 중앙 영역을 향해 돌출된 돌기부가 형성되며,
    상기 코너 연결부재는 상기 돌기부의 폭보다 큰 폭을 가지고 상기 돌기부가 수용되는 돌기 수용레일이 형성되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 돌기부와 상기 돌기 수용레일은 상기 가스분배판의 코너를 기준으로 하여 양측에 대칭되게 배치되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 한 쌍의 연결부재 각각은 상기 이웃된 한 쌍의 사이드 열팽창 보상유닛에 각각 볼트 결합되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 코너 차폐용 열팽창 보상유닛은,
    상기 가스분배판의 코너를 기준으로 하여 양측으로 대칭되게 배치되는 상기 돌기 수용레일들 사이에 배치되어 상기 가스분배판에 상기 코너 연결부재의 조립을 가이드하는 코너 가이드컬럼을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 제1항에 있어서,
    상기 하벽부는 밑면이 완만하게 경사진 갈고리형상으로 마련되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 상벽부는 상기 백킹 플레이트와 상기 백킹 플레이트의 일측에 마련되어 상기 백킹 플레이트를 지지하는 백킹 플레이트지지부 사이에 형성된 슬릿에 물림결합되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6477980B1 (en) * 2000-01-20 2002-11-12 Applied Materials, Inc. Flexibly suspended gas distribution manifold for plasma chamber
KR100696021B1 (ko) 2003-04-16 2007-03-16 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 대면적 플라즈마 강화 화학 기상 증착을 위한 가스 분산판어셈블리
KR100896067B1 (ko) 2007-05-03 2009-05-07 주식회사 에스에프에이 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6477980B1 (en) * 2000-01-20 2002-11-12 Applied Materials, Inc. Flexibly suspended gas distribution manifold for plasma chamber
KR100696021B1 (ko) 2003-04-16 2007-03-16 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 대면적 플라즈마 강화 화학 기상 증착을 위한 가스 분산판어셈블리
KR100896067B1 (ko) 2007-05-03 2009-05-07 주식회사 에스에프에이 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11414740B2 (en) 2019-06-10 2022-08-16 Applied Materials, Inc. Processing system for forming layers

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