KR101435455B1 - Sealing member and apparatus for processing substrate using the same - Google Patents

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Abstract

실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 도어에 의하여 실링부재가 도어의 이동방향으로 압착됨과 동시에 도어의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼진다. 그러면, 도어와 실링부재의 접촉 면적이 넓어지므로, 도어의 일측 부위가 열에 의하여 변형되어도, 실링부재는 변형된 도어 부위뿐만 아니라, 변형된 도어 부위의 외측 부위와도 접촉하므로, 도어와 실링부재 사이가 완전하게 실링된다. 이로 인해, 이물질이 챔버로 유입되지 못하고, 챔버의 열이 외부로 누설되지 못하므로, 기판이 균일하게 처리된다. 따라서, 기판 처리 공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.A sealing member and a substrate processing apparatus using the sealing member are disclosed. The sealing member according to the present invention and the substrate processing apparatus using the sealing member are pressed by the door in the moving direction of the door and spread in a direction perpendicular to the moving direction of the door. Therefore, even if one side portion of the door is deformed by heat, the sealing member is in contact with not only the deformed door portion but also the outer side portion of the deformed door portion, so that the gap between the door and the sealing member Is completely sealed. As a result, the foreign matter can not flow into the chamber, and the heat of the chamber can not leak to the outside, so that the substrate is uniformly processed. Therefore, the reliability of the substrate processing process is improved.

Description

실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치 {SEALING MEMBER AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE SAME}Technical Field [0001] The present invention relates to a sealing member and a substrate processing apparatus using the sealing member.

본 발명은 기판이 투입되어 처리되는 챔버가 형성된 본체와 본체에 설치되어 챔버를 개폐하는 도어 사이를 실링하는 실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a sealing member for sealing between a main body in which a chamber into which a substrate is inserted and processed is formed, and a door that is installed in the main body and opens and closes the chamber, and a substrate processing apparatus using the sealing member.

기판 처리 장치는, 평판 디스플레이의 제조시 사용되며, 증착(Vapor Deposition) 장치와 어닐링(Annealing) 장치로 대별된다.The substrate processing apparatus is used for manufacturing a flat panel display, and is roughly divided into a vapor deposition apparatus and an annealing apparatus.

증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 장치로써, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 화학 기상 증착 장치와 스퍼터링(Sputtering) 등과 같은 물리 기상 증착 장치가 있다.The deposition apparatus is a device for forming a transparent conductive layer, an insulating layer, a metal layer, or a silicon layer which is a core constituent of a flat panel display, and is a chemical vapor deposition (LPCVD) or a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) Device and a physical vapor deposition apparatus such as sputtering.

그리고, 어닐링 장치는 기판에 막을 증착한 후, 증착된 막의 특성을 향상시키는 장치로써, 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키기 위하여 열처리하는 장치이다.And, the annealing apparatus is an apparatus for improving the characteristics of a deposited film after depositing a film on a substrate, and heat-treating the deposited film to crystallize or phase change the film.

일반적으로, 기판 처리 장치는 하나의 기판을 처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 처리하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 기판 처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어, 대량 생산에는 배치식 기판 처리 장치가 많이 사용된다.In general, a substrate processing apparatus includes a single substrate type processing a single substrate and a batch type processing a plurality of substrates. Although the single wafer processing apparatus has a simple structure, it has a disadvantage that the productivity is low, and a batch type substrate processing apparatus is widely used for mass production.

종래의 기판 처리 장치를 도 1a 및 도 1b를 참조하여 설명한다. 도 1a는 종래의 기판 처리 장치의 개략 측단면도이고, 도 1b는 도 1a의 "A"부 확대도이다.A conventional substrate processing apparatus will be described with reference to Figs. 1A and 1B. Fig. 1A is a schematic side sectional view of a conventional substrate processing apparatus, and Fig. 1B is an enlarged view of an "A"

도 1a에 도시된 바와 같이, 기판 처리 장치는 본체(10)를 포함하고, 본체(10)의 내부에는 기판이 투입되어 처리되는 공간인 챔버(11)가 형성된다. 본체(10)의 전면에는 챔버(11)와 연통되며 기판이 출입하는 출입구(13)가 형성되며, 출입구(13)를 개폐하기 위한 도어(20)가 설치된다.As shown in FIG. 1A, the substrate processing apparatus includes a main body 10, and a chamber 11 is formed in the main body 10, which is a space into which a substrate is inserted and processed. A door 20 is provided on the front surface of the main body 10 to communicate with the chamber 11 and has an entrance 13 through which the substrate enters and exits and a door 20 for opening and closing the entrance 13.

그리고, 출입구(13) 외측의 본체(10)의 전면 부위에는 도어(20)에 의하여 압착되어 챔버(11)를 실링하는 실링부재(30)가 설치된다.A sealing member 30 which is pressed by the door 20 to seal the chamber 11 is provided on the front portion of the main body 10 outside the door 13.

실링부재(30)는, 도 1b에 도시된 바와 같이, 단면(斷面) 형상이 대략 원형으로 형성된다.As shown in Fig. 1B, the sealing member 30 has a substantially circular cross-sectional shape.

이로 인해, 상기와 같은 종래의 기판 처리 장치는, 도어(20)와 실링부재(30)사이에 틈이 발생하여 챔버(11)가 완전하게 실링되지 못할 우려가 있다.Therefore, in the above-described conventional substrate processing apparatus, there is a fear that a gap is formed between the door 20 and the sealing member 30, and the chamber 11 may not be completely sealed.

상세히 설명하면, 기판은 400℃ 이상의 고온 분위기에서 처리된다. 이로 인해, 도어(20)가 열에 의하여 변형된다. 그런데, 실링부재(30)와 접촉하는 도어(20) 부위가 변형되었을 경우, 도어(20)가 본체(10)측으로 실링부재(30)를 압착하여도, 도어(20)와 실링부재(30)에는 틈이 발생한다.Specifically, the substrate is treated in a high-temperature atmosphere of 400 DEG C or higher. As a result, the door 20 is deformed by heat. When the door 20 and the sealing member 30 are deformed, even if the door 20 presses the sealing member 30 toward the main body 10 side, A gap is generated.

더 상세히 설명하면, 도어(20)가 이동하여 실링부재(30)를 본체(10)의 전면측으로 압착하면, 실링부재(30)는 본체(10)의 전면과 수직하는 방향으로만 압착된다. 그런데, 실링부재(30)의 압착 정도에는 한계가 있으므로, 변형된 도어(20) 부위와 실링부재(30) 사이에는 틈이 발생한다.More specifically, when the door 20 is moved and the sealing member 30 is pressed to the front side of the main body 10, the sealing member 30 is pressed in only the direction perpendicular to the front surface of the main body 10. However, since there is a limit in the degree of compression of the sealing member 30, a gap is formed between the deformed door 20 portion and the sealing member 30. [

그러면, 이물질이 챔버(11)로 유입되고, 챔버(11)의 열이 외부로 누설되므로, 기판 처리 공정의 신뢰성이 저하되는 단점이 있었다.Then, the foreign substances are introduced into the chamber 11, and the heat of the chamber 11 leaks to the outside.

기판 처리 장치와 관련한 선행기술은 한국공개특허공보 제10-2010-0008722호 등에 개시되어 있다.Prior art relating to a substrate processing apparatus is disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 10-2010-0008722.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 도어와 실링부재 사이에 틈이 발생되는 것을 방지함으로써, 기판 처리 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a sealing member capable of improving the reliability of a substrate processing process by preventing a gap between a door and a sealing member from being generated, And a substrate processing apparatus using the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 실링부재는, 폐루프를 이루고, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 제 1 상대물에 삽입 결합되는 삽입부; 상기 삽입부의 평면 부위인 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 내측으로 오목하게 함몰 형성되어 상기 제 1 상대물의 외측으로 노출되는 제 1 곡면부; 제 1 곡면부의 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 외측으로 볼록하게 돌출 형성된 제 2 곡면부; 상기 제 2 곡면부의 단면(端面)에서 연장 형성되며 상기 제 2 곡면부로부터 멀어질수록 양측면 사이의 폭이 점점 감소하는 형태로 경사진 경사부; 상기 경사부의 단면(端面)에서 연장 형성되고, 외측으로 볼록하게 돌출되어 제 2 상대물과 접촉하는 접촉부를 포함하며, 상기 접촉부가 제 2 상대물에 의하여 상기 제 1 상대물측으로 압착되면, 상기 접촉부와 상기 경사부와 상기 제 2 곡면부는 상기 제 2 상대물의 이동방향으로 압착됨과 동시에 상기 제 2 상대물의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼진다.According to an aspect of the present invention, there is provided a sealing member comprising: an inserting portion formed in a closed loop and having a sectional shape formed in a favorable arc shape and inserted and coupled to a first mating member; A first curved surface portion extending from an end surface of the inserting portion, the first curved surface portion being recessed inwardly and exposed to the outside of the first mating member; A second curved surface portion extending from an end surface of the first curved surface portion and having both side surfaces projected outwardly convexly; An inclined portion extending from an end surface of the second curved surface portion and inclined in such a manner that the width between the both side surfaces gradually decreases as the distance from the second curved surface portion increases; And a contact portion extending from an end face of the inclined portion and projecting outwardly convexly to be in contact with the second mating member, and when the contact portion is pressed to the first mating side by the second mating member, And the inclined portion and the second curved portion are pressed in the moving direction of the second mounter and spread in a direction perpendicular to the moving direction of the second mounter.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 실링부재는, 폐루프를 이루고, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 제 1 상대물에 삽입 결합되되, 평면(平面) 부위인 단면(端面)은 상기 제 1 상대물의 외측으로 노출되는 삽입부; 상기 삽입부의 단면(端面)에서 연장 형성되고, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되며, 제 2 상대물과 접촉하는 접촉부를 포함하고, 상기 제 2 상대물에 의하여 상기 접촉부가 상기 제 1 상대물측으로 압착되면, 상기 접촉부는 상기 제 2 상대물의 이동방향으로 압착됨과 동시에 상기 제 2 상대물의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a sealing member comprising a closed loop, a sectional shape formed in a favorable arc shape and inserted and coupled to a first mating member, And an end face of the insert is exposed to the outside of the first object; And a contact portion extending from an end face of the insertion portion and having a sectional shape formed in a favorable arc shape and in contact with the second mating member, The contact portion is squeezed in the moving direction of the second mounter and spreads in a direction perpendicular to the moving direction of the second mounter.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 내부에는 기판이 처리되는 공간인 챔버가 형성되고, 전면에는 출입구가 형성되며, 상기 출입구 외측의 상기 전면에는 상기 출입구를 감싸는 형태로 폐루프를 이루는 삽입홈이 형성된 본체; 상기 본체의 전면에 설치되어 상기 출입구를 개폐하는 도어; 일측은 상기 삽입홈에 삽입되고 타측은 상기 본체의 외측에 위치되어 상기 도어의 일면과 접촉하며, 상기 도어에 의하여 상기 본체의 전면측으로 압착되어 상기 챔버를 실링하는 실링부재를 포함하며, 상기 실링부재는, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 상기 삽입홈에 삽입되는 삽입부; 상기 삽입부의 평면(平面) 부위인 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 내측으로 오목하게 함몰 형성되어 상기 삽입홈의 외측으로 노출되는 제 1 곡면부; 제 1 곡면부의 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 외측으로 볼록하게 돌출 형성된 제 2 곡면부; 상기 제 2 곡면부의 단면(端面)에서 연장 형성되며 상기 제 2 곡면부로부터 멀어질수록 양측면 사이의 폭이 점점 감소하는 형태로 경사진 경사부; 상기 경사부의 단면(端面)에서 연장 형성되고, 외측으로 볼록하게 돌출되어 상기 도어와 접촉하는 접촉부를 가지고, 상기 접촉부가 상기 도어에 의하여 상기 본체측으로 압착되면, 상기 접촉부와 상기 경사부와 상기 제 2 곡면부는 상기 도어의 이동방향으로 압착됨과 동시에 상기 도어의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus including a chamber formed therein for processing a substrate, an entrance formed on a front surface of the chamber, A main body having an insertion groove forming a closed loop; A door installed on a front surface of the main body and opening / closing the door; And a sealing member which is inserted into the insertion groove at one side and which is located at the outside of the main body so as to be in contact with the one side of the door and is pressed to the front side of the main body by the door to seal the chamber, An insertion portion formed in a shape of a cross section in a favorable arc shape and inserted into the insertion groove; A first curved surface portion extending from an end surface of a plane portion of the insertion portion and having both side surfaces recessed inward to be exposed to the outside of the insertion groove; A second curved surface portion extending from an end surface of the first curved surface portion and having both side surfaces projected outwardly convexly; An inclined portion extending from an end surface of the second curved surface portion and inclined in such a manner that the width between the both side surfaces gradually decreases as the distance from the second curved surface portion increases; And a contact portion extending from an end surface of the inclined portion and projecting outwardly convexly to contact the door, and when the contact portion is pressed to the body side by the door, the contact portion, the inclined portion, The curved surface portion is compressed in the moving direction of the door and spreads in a direction perpendicular to the moving direction of the door.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 내부에는 기판이 처리되는 공간인 챔버가 형성되고, 전면에는 출입구가 형성되며, 상기 출입구 외측의 상기 전면에는 상기 출입구를 감싸는 형태로 폐루프를 이루는 삽입홈이 형성된 본체; 상기 본체의 전면에 설치되어 상기 출입구를 개폐하는 도어; 일측은 상기 삽입홈에 삽입되고 타측은 상기 본체의 외측에 위치되어 상기 도어의 일면과 접촉하며, 상기 도어에 의하여 상기 본체의 전면측으로 압착되어 상기 챔버를 실링하는 실링부재를 포함하며, 상기 실링부재는, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 상기 삽입홈에 삽입되되, 평면(平面) 부위인 단면(端面)은 상기 삽입홈의 외측으로 노출된 삽입부; 상기 삽입부의 단면(端面)에서 연장 형성되고, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되며, 상기 도어와 접촉하는 접촉부를 가지고, 상기 도어에 의하여 상기 접촉부가 상기 본체측으로 압착되면, 상기 접촉부는 상기 도어의 이동방향으로 압착됨과 동시에 상기 도어의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus including a chamber formed therein for processing a substrate, an entrance formed on a front surface of the chamber, A main body having an insertion groove forming a closed loop; A door installed on a front surface of the main body and opening / closing the door; And a sealing member which is inserted into the insertion groove at one side and which is located at the outside of the main body so as to be in contact with the one side of the door and is pressed to the front side of the main body by the door to seal the chamber, Is inserted into the insertion groove, and the end face, which is a plane portion, is exposed to the outside of the insertion groove, the insertion portion being formed in a shape of a favorable arc in a cross-sectional shape, And a contact portion extending from an end face of the insertion portion and having a sectional shape formed in a favorable arc shape and contacting the door, wherein when the contact portion is pressed by the door to the body side , The contact portion is compressed in the moving direction of the door and spreads in a direction perpendicular to the moving direction of the door.

본 발명에 따른 실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 도어에 의하여 실링부재가 도어의 이동방향으로 압착됨과 동시에 도어의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼진다. 그러면, 도어와 실링부재의 접촉 면적이 넓어지므로, 도어의 일측 부위가 열에 의하여 변형되어도, 실링부재는 변형된 도어 부위뿐만 아니라, 변형된 도어 부위의 외측 부위와도 접촉하므로, 도어와 실링부재 사이가 완전하게 실링된다. 이로 인해, 이물질이 챔버로 유입되지 못하고, 챔버의 열이 외부로 누설되지 못하므로, 기판이 균일하게 처리된다. 따라서, 기판 처리 공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.The sealing member according to the present invention and the substrate processing apparatus using the sealing member are pressed by the door in the moving direction of the door and spread in a direction perpendicular to the moving direction of the door. Therefore, even if one side portion of the door is deformed by heat, the sealing member is in contact with not only the deformed door portion but also the outer side portion of the deformed door portion, so that the gap between the door and the sealing member Is completely sealed. As a result, the foreign matter can not flow into the chamber, and the heat of the chamber can not leak to the outside, so that the substrate is uniformly processed. Therefore, the reliability of the substrate processing process is improved.

도 1a는 종래의 기판 처리 장치의 개략 측단면도.
도 1b는 도 1a의 "A"부 확대도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도.
도 3은 도 2의 "B-B"선 개략 단면도.
도 4는 도 3에 도시된 실링부재의 사시도.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 실링부재의 단면도.
도 6은 도 5에 도시된 실링부재의 사시도.FIG. 1A is a schematic side sectional view of a conventional substrate processing apparatus. FIG.
FIG. 1B is an enlarged view of a portion "A" in FIG. 1A.
2 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention;
3 is a schematic cross-sectional view taken along line BB of Fig.
4 is a perspective view of the sealing member shown in Fig. 3;
5 is a cross-sectional view of a sealing member according to another embodiment of the present invention.
6 is a perspective view of the sealing member shown in Fig.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분히 상세하게 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that illustrate specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are mutually exclusive, but need not be mutually exclusive. For example, certain features, specific structures, and features described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with one embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description is, therefore, not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is to be limited only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled. The length, area, thickness, and shape of the embodiments shown in the drawings may be exaggerated for convenience.

본 실시예를 설명함에 있어서, 기판의 처리라 함은 기판을 가열 및 냉각하는 공정, 기판에 소정의 막을 증착하기 위한 모든 공정, 기판에 증착된 소정의 막을 어닐링, 결정화 또는 상변화 하기 위한 모든 열처리 공정 등을 포함하는 개념으로 이해되어야 한다.In describing the present embodiment, the term " substrate processing " includes a process of heating and cooling the substrate, a process of depositing a predetermined film on the substrate, a process of annealing a predetermined film deposited on the substrate, Process, and the like.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 실링부재 및 이를 사용한 기판 처리 장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, a sealing member according to embodiments of the present invention and a substrate processing apparatus using the sealing member will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이고, 도 3은 도 2의 "B-B"선 개략 단면도이다.FIG. 2 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of "B-B" line of FIG.

도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 본체(110)를 포함한다. 본체(110)는 대략 직육면체 형상으로 형성되며, 내부에는 기판(50)이 처리되는 공간인 챔버(112)가 형성된다. 챔버(112)는 밀폐된 공간으로 마련되며, 본체(110)는 직육면체 형상뿐만 아니라 기판(50)의 형상에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있다.As shown, the substrate processing apparatus according to the present embodiment includes a main body 110. The main body 110 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape, and a chamber 112, which is a space in which the substrate 50 is processed, is formed therein. The chamber 112 may be formed as a closed space, and the body 110 may have various shapes depending on the shape of the substrate 50 as well as the rectangular parallelepiped shape.

본체(110)의 전면에는 기판(50)이 출입하는 출입구(114)가 형성되고, 출입구(114)는 본체(110)의 전면에 설치된 도어(120)에 의하여 개폐된다. 즉, 로봇(미도시)으로 기판(50)을 지지하여, 기판(50)을 챔버(112)에 로딩하거나 챔버(112)로부터 언로딩할 때에는 도어(120)에 의하여 출입구(114)는 개방된다. 그리고, 기판(50)을 챔버(112)에 로딩하여 기판(50)을 처리할 때에는 도어(120)에 의하여 출입구(114)는 폐쇄된다.An entrance 114 is formed in the front surface of the main body 110 to allow the substrate 50 to enter and exit the main body 110. The entrance 114 is opened and closed by a door 120 installed on the front surface of the main body 110. That is, when the substrate 50 is supported by the robot (not shown) and the substrate 50 is loaded into the chamber 112 or unloaded from the chamber 112, the door 114 is opened by the door 120 . When the substrate 50 is loaded into the chamber 112 and the substrate 50 is processed, the door 114 is closed by the door 120.

기판(50)의 재질은 특별히 제한되지 않으며 글래스, 플라스틱, 폴리머, 실리콘 웨이퍼 또는 스테인레스 스틸 등과 같은 재질로 형성될 수 있다.The material of the substrate 50 is not particularly limited and may be formed of a material such as glass, plastic, polymer, silicon wafer, or stainless steel.

챔버(112)에는 기판(50)을 탑재시켜 지지하는 지지 유닛(미도시), 기판(50)을 가열하기 위한 히터(미도시), 기판(50)의 처리에 필요한 분위기 가스를 공급하는 가스공급관(미도시), 기판(50)을 냉각시키기 위한 냉각관(미도시) 등과 같은 기판(50)의 처리에 필요한 부품들이 설치될 수 있다.The chamber 112 is provided with a support unit (not shown) for mounting and supporting the substrate 50, a heater (not shown) for heating the substrate 50, a gas supply pipe (Not shown) for cooling the substrate 50, a cooling pipe (not shown) for cooling the substrate 50, and the like.

출입구(114) 외측의 본체(110)의 전면 부위에는 출입구(114)를 감싸는 형태로 삽입홈(116)이 형성된다. 삽입홈(116)에는 실링부재(130)의 일측이 삽입 결합되고, 실링부재(130)의 타측은 도어(120)에 의하여 본체(110)의 전면측으로 압착된다. 이로 인해 본체(110)와 도어(120) 사이가 완전하게 실링된다.An insertion groove 116 is formed in a front portion of the main body 110 outside the entrance 114 in such a manner as to surround the entrance 114. One side of the sealing member 130 is inserted into the insertion groove 116 and the other side of the sealing member 130 is pressed to the front side of the main body 110 by the door 120. This completely seals the body 110 and the door 120.

도어(120)는 외측도어(121)와 내측도어(125)를 가지고, 외측도어(121)는 상하로 슬라이딩가능하게 본체(110)의 전면에 설치되며, 내측도어(125)는 외측도어(121)에 지지되어 외측도어(121)에 의하여 상하로 슬라이딩함과 동시에 외측도어(121)에 대하여 전후로 슬라이딩가능하게 설치된다. 내측도어(125)가 본체(110)의 전면측으로 슬라이딩되어 본체(110)의 전면측으로 이동하면, 실링부재(130)가 압착된다.The door 120 has an outer door 121 and an inner door 125. The outer door 121 is installed on the front surface of the main body 110 so as to be slidable in the vertical direction and the inner door 125 is connected to the outer door 121 And is slidable up and down by the outer door 121 and slidable forward and backward with respect to the outer door 121. When the inner door 125 slides to the front side of the main body 110 and moves to the front side of the main body 110, the sealing member 130 is squeezed.

본체(110)와 도어(120) 사이가 완전하게 실링되면, 기판(50)을 챔버(112)에 로딩하여 기판(50)을 처리할 때, 외부의 이물질이 챔버(112)로 유입되지 못하고, 챔버(112)의 열이 외부로 누설되지 못하므로, 기판(50)이 균일하게 처리된다.When the substrate 50 is completely sealed between the main body 110 and the door 120, when the substrate 50 is loaded into the chamber 112 and the substrate 50 is processed, external foreign substances can not flow into the chamber 112, The heat of the chamber 112 is not leaked to the outside, so that the substrate 50 is treated uniformly.

그런데, 기판(50)이 처리되는 챔버(112)는 400℃ 이상의 고온 분위기이므로 도어(120)는 열에 의하여 변형될 수 있고, 변형된 도어(120) 부위가 실링부재(130)와 접촉되면, 도어(120)와 실링부재(130) 사이에 틈이 발생할 수 있다.Since the chamber 112 in which the substrate 50 is processed is at a high temperature atmosphere of 400 ° C or higher, the door 120 can be deformed by heat. When the deformed door 120 is in contact with the sealing member 130, A gap may be formed between the sealing member 120 and the sealing member 130.

본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 도어(120)가 본체(110)의 전면측으로 이동하여 실링부재(130)를 본체(110)의 전면측으로 압착하면, 실링부재(130)가 도어(120)의 이동방향으로 압착됨과 동시에 도어(120)의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼지도록 구성하여, 도어(120)와 실링부재(130) 사이를 완전하게 실링할 수 있도록 마련된다.When the door 120 moves to the front side of the main body 110 and the sealing member 130 is pressed to the front side of the main body 110, The door 120 and the sealing member 130 can be completely sealed between the door 120 and the sealing member 130. In addition,

실링부재(130)에 대하여 도 2 내지 도 4를 참조하여 설명한다. 도 4는 도 3에 도시된 실링부재의 사시도이다.The sealing member 130 will be described with reference to Figs. 2 to 4. Fig. 4 is a perspective view of the sealing member shown in Fig.

도 4에 도시된 실링부재(130)는 사각 형상으로 폐루프를 이루는 형태로 도시되어 있으나, 링 형상으로 폐루프를 이루고 있는 것으로 가정하여 설명한다. 실링부재(130)는 탄성을 가지고 있으므로, 링 형상으로 폐루프를 이루고 있어도 사각 형상으로 폐루프를 이루는 형태로 용이하게 조절할 수 있다.Although the sealing member 130 shown in FIG. 4 is shown as a closed loop in a rectangular shape, it is assumed that the sealing member 130 has a ring-shaped closed loop. Since the sealing member 130 has elasticity, the sealing member 130 can be easily adjusted to a closed loop shape in a rectangular shape even if the sealing member 130 has a closed loop shape.

도시된 바와 같이, 실링부재(130)는 삽입부(131), 제 1 곡면부(133), 제 2 곡면부(135), 경사부(137) 및 접촉부(139)를 포함한다.As shown, the sealing member 130 includes an insertion portion 131, a first curved portion 133, a second curved portion 135, an inclined portion 137, and a contact portion 139.

삽입부(131)는 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 삽입홈(116)에 삽입된다. 이때, 삽입부(131)의 평면(平面) 부위인 단면(端面)이 삽입홈(116)의 외측을 향함은 당연하다. 제 1 곡면부(133)는 삽입부(131)의 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 내측으로 오목하게 함몰 형성된다. 그리고, 제 1 곡면부(133)는 삽입홈(116)의 외측으로 노출된다.The insertion portion 131 is formed in a shape of a cross section in a favorable arc shape and inserted into the insertion groove 116. At this time, it is natural that the end face of the insertion portion 131, which is a plane portion, faces the outside of the insertion groove 116. The first curved surface portion 133 extends from an end surface of the insertion portion 131, and both side surfaces thereof are recessed inwardly. The first curved surface portion 133 is exposed to the outside of the insertion groove 116.

제 2 곡면부(135)는 삽입홈(116)의 외측을 향하는 제 1 곡면부의 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 외측으로 볼록하게 돌출 형성된다. 경사부(137)는 삽입홈(116)의 외측을 향하는 제 2 곡면부(135)의 단면(端面)에서 연장 형성되며 제 2 곡면부(135)로부터 멀어질수록 양측면 사이의 폭이 점점 감소하는 형태로 경사지게 형성된다.The second curved surface portion 135 extends from an end surface of the first curved surface portion facing the outside of the insertion groove 116, and both side surfaces are protruded outwardly. The inclined portion 137 extends from the end face of the second curved face portion 135 toward the outside of the insertion groove 116 and gradually decreases in width between the two curved face portions 135 away from the second curved face portion 135 As shown in FIG.

접촉부(139)는 삽입홈(116)의 외측을 향하는 경사부(137)의 단면(端面)에서 연장 형성되며, 외측으로 볼록하게 돌출된다. 접촉부(139)의 단부는 도어(120)와 접촉한다.The contact portion 139 extends from the end face of the inclined portion 137 toward the outside of the insertion groove 116 and protrudes outward convexly. The end of the contact portion 139 contacts the door 120.

그리하여, 도어(120)에 의하여 접촉부(139)가 본체(110)측으로 압착되면, 접촉부(139)와 경사부(137)와 제 2 곡면부(135)는 도어(120)의 이동방향으로 압착된다. 이와 동시에, 내측으로 오목하게 함몰 형성된 제 1 곡면부(133)로 인하여, 접촉부(139)와 경사부(137)와 제 2 곡면부(135)는 도어(120)의 이동방향과 수직하는 방향인 제 2 곡면부(135)의 돌출 방향으로 퍼진다.When the contact portion 139 is pressed toward the main body 110 by the door 120, the contact portion 139, the inclined portion 137, and the second curved portion 135 are pressed in the moving direction of the door 120 . At the same time, the contact portion 139, the inclined portion 137, and the second curved surface portion 135 are formed in a direction perpendicular to the moving direction of the door 120, due to the first curved portion 133 formed concavely inwardly concave And spread in the projecting direction of the second curved surface portion 135.

그러면, 도어(120)와 실링부재(130)의 접촉 면적이 넓어지므로, 도어(120)의 일측 부위가 열에 의하여 변형되어도, 실링부재(130)는 변형된 도어(120) 부위뿐만 아니라, 변형된 도어(120) 부위의 외측 부위와도 접촉하므로, 도어(120)와 실링부재(130) 사이가 완전하게 실링된다. 이로 인해, 이물질이 챔버(112)로 유입되지 못하고, 챔버(112)의 열이 외부로 누설되지 못하므로, 기판이 균일하게 처리된다. 따라서, 기판 처리 공정의 신뢰성이 향상된다.Since the contact area between the door 120 and the sealing member 130 is widened, even if one side of the door 120 is deformed by heat, the sealing member 130 is not only deformed at the door 120, The door 120 is also in contact with the outer portion of the door 120, so that the door 120 and the sealing member 130 are completely sealed. As a result, the foreign matter can not flow into the chamber 112, and the heat of the chamber 112 can not leak to the outside, so that the substrate is uniformly processed. Therefore, the reliability of the substrate processing process is improved.

본 실시예에 따른 기판 처리 장치의 실링부재(130)는 경도(硬度)가 60∼75Hv인 것이 바람직하다. 그리고, 삽입부(131)의 반경을 R1, 제 1 곡면부(133)의 곡률반경을 R2, 제 2 곡면부(135)의 곡률반경을 R3, 접촉부(139)의 곡률반경을 R4라 할 때, R1 : R2 : R3 : R4 = 1 : 0.35∼0.45 : 0.25∼0.35 : 0.55∼0.65인 것이 바람직하고, 경사부(137)의 양측면이 이루는 각도를 θ라 할 때, θ = 70°∼78°인 것이 바람직하다.The sealing member 130 of the substrate processing apparatus according to the present embodiment preferably has a hardness of 60 to 75 Hv. When the radius of the insertion portion 131 is R1, the radius of curvature of the first curved portion 133 is R2, the radius of curvature of the second curved portion 135 is R3, and the radius of curvature of the contact portion 139 is R4 The angle formed by both side surfaces of the inclined portion 137 is?, And the angle? = 70 to 78 占.

실링부재(130)는 기판 처리 장치 이외에 다른 장치에도 설치되어 사용될 수 있다. 이때, 실링부재(130)의 삽입부(131)가 삽입 결합되는 본체(110) 등이 제 1 상대물이고, 접촉부(139)를 압착하는 도어(120) 등이 제 2 상대물이다.The sealing member 130 may be installed and used in a device other than the substrate processing apparatus. At this time, the main body 110 or the like to which the insertion portion 131 of the sealing member 130 is inserted is the first mounter, and the door 120 or the like for pressing the mating portion 139 is the second mounter.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 실링부재의 단면도이고, 도 6은 도 5에 도시된 실링부재의 사시도로써, 이를 설명한다.FIG. 5 is a sectional view of a sealing member according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a perspective view of a sealing member shown in FIG. 5, which will be described.

도시된 바와 같이, 실링부재(230)는 삽입부(231)와 접촉부(235)를 가진다.As shown, the sealing member 230 has an insertion portion 231 and a contact portion 235.

삽입부(231)는 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 본체(210)의 삽입홈(216)에 삽입된다. 이때, 평면(平面) 부위인 삽입부(231)의 단면(端面)은 삽입홈(216)의 외측으로 노출된다.The insertion portion 231 is formed in a shape of a cross section and inserted into the insertion groove 216 of the main body 210. At this time, the end face of the insertion portion 231, which is a plane portion, is exposed to the outside of the insertion groove 216.

접촉부(235)는 삽입부(231)의 단면(端面)에서 연장 형성되며, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성된다. 삽입홈(216)의 외측을 향하는 접촉부(235)의 단부측은 도어(220)와 접촉한다.The contact portion 235 extends from an end face of the insertion portion 231 and has a sectional shape formed in a favorable arc shape. The end side of the contact portion 235 facing the outside of the insertion groove 216 comes into contact with the door 220.

그리하여, 도어(220)에 의하여 접촉부(235)가 본체(210)측으로 압착되면, 접촉부(231)는 도어(220)의 이동방향으로 압착된다. 이와 동시에, 삽입부(231)와 접촉부(235)가 만나는 부위가 내측으로 오목하게 함몰됨으로 인하여, 접촉부(235)는 도어(120)의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼진다.When the contact portion 235 is pressed toward the main body 210 by the door 220, the contact portion 231 is pressed in the moving direction of the door 220. At the same time, the contact portion 235 spreads in a direction perpendicular to the moving direction of the door 120 because the portion where the insertion portion 231 and the contact portion 235 meet is recessed inward.

그러면, 도어(220)와 실링부재(230)의 접촉 면적이 넓어지므로, 도어(220)의 일측 부위가 열에 의하여 변형되어도, 실링부재(230)는 변형된 도어(220) 부위뿐만 아니라, 변형된 도어(220) 부위의 외측 부위와도 접촉하므로, 도어(220)와 실링부재(230) 사이가 완전하게 실링된다.As a result, since the contact area between the door 220 and the sealing member 230 is widened, even if one side of the door 220 is deformed by heat, the sealing member 230 can be deformed not only by the deformed door 220, Since the door 220 is also in contact with the outer portion of the door 220, the door 220 and the sealing member 230 are completely sealed.

본 실시예에 따른 기판 처리 장치의 실링부재(230)는 경도(硬度)가 55∼75Hv인 것이 바람직하다. 그리고, 삽입부(231)의 반경을 R1, 접촉부(235)의 반경을 R2라 할 때, R1 : R2 = 1 : 0.75∼0.85인 것이 바람직하다.The sealing member 230 of the substrate processing apparatus according to the present embodiment preferably has a hardness of 55 to 75 Hv. When the radius of the insertion portion 231 is R1 and the radius of the contact portion 235 is R2, R1: R2 = 1: 0.75 to 0.85 is preferable.

상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략하여, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.The above-described embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, in which the detailed contour lines are omitted and portions belonging to the technical idea of the present invention are easily seen. It should be noted that the above-described embodiments are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but merely as a reference for understanding the technical idea included in the claims of the present invention.

110: 본체
120: 도어
130: 실링부재110:
120: Door
130: sealing member

Claims (12)

폐루프를 이루고, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 제 1 상대물에 삽입 결합되는 삽입부;
상기 삽입부의 평면(平面) 부위인 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 내측으로 오목하게 함몰 형성되어 상기 제 1 상대물의 외측으로 노출되는 제 1 곡면부;
제 1 곡면부의 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 외측으로 볼록하게 돌출 형성된 제 2 곡면부;
상기 제 2 곡면부의 단면(端面)에서 연장 형성되며 상기 제 2 곡면부로부터 멀어질수록 양측면 사이의 폭이 점점 감소하는 형태로 경사진 경사부;
상기 경사부의 단면(端面)에서 연장 형성되고, 외측으로 볼록하게 돌출되어 제 2 상대물과 접촉하는 접촉부를 포함하며,
상기 접촉부가 제 2 상대물에 의하여 상기 제 1 상대물측으로 압착되면, 상기 접촉부와 상기 경사부와 상기 제 2 곡면부는 상기 제 2 상대물의 이동방향으로 압착됨과 동시에 상기 제 2 상대물의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼지고,
경도(硬度)는 60∼75Hv인 것을 특징으로 하는 실링부재.An insertion portion formed in a closed loop and having a sectional shape in a favorable arc shape and inserted and coupled to the first mating member;
A first curved surface portion extending from an end surface of a plane portion of the insertion portion and having both sides recessed inward and exposed to the outside of the first mating portion;
A second curved surface portion extending from an end surface of the first curved surface portion and having both side surfaces projected outwardly convexly;
An inclined portion extending from an end surface of the second curved surface portion and inclined in such a manner that the width between the both side surfaces gradually decreases as the distance from the second curved surface portion increases;
And a contact portion extending from an end face of the inclined portion and projecting outwardly convexly to be in contact with the second object,
The contact portion, the inclined portion, and the second curved portion are pressed in the moving direction of the second object and at the same time, when the contact portion is pressed to the first object by the second object, Spreading direction,
And a hardness of 60 to 75 Hv. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 삽입부의 반경을 R1, 상기 제 1 곡면부의 곡률반경을 R2, 상기 제 2 곡면부의 곡률반경을 R3, 상기 접촉부의 곡률반경을 R4, 상기 경사부의 양측면이 이루는 각도를 θ라 할 때,
R1 : R2 : R3 : R4 = 1 : 0.35∼0.45 : 0.25∼0.35 : 0.55∼0.65이고,
θ = 70°∼78°인 것을 특징으로 하는 실링부재.The method according to claim 1,
When the radius of the insertion portion is R1, the radius of curvature of the first curved portion is R2, the radius of curvature of the second curved portion is R3, the radius of curvature of the contact portion is R4, and the angle formed by both side surfaces of the inclined portion is?
R1: R2: R3: R4 = 1: 0.35 to 0.45: 0.25 to 0.35: 0.55 to 0.65,
lt; RTI ID = 0.0 > 70 = 78. < / RTI > 폐루프를 이루고, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 제 1 상대물에 삽입 결합되되, 평면(平面) 부위인 단면(端面)은 상기 제 1 상대물의 외측으로 노출되는 삽입부;
상기 삽입부의 단면(端面)에서 연장 형성되고, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되며, 제 2 상대물과 접촉하는 접촉부를 포함하고,
상기 제 2 상대물에 의하여 상기 접촉부가 상기 제 1 상대물측으로 압착되면, 상기 접촉부는 상기 제 2 상대물의 이동방향으로 압착됨과 동시에 상기 제 2 상대물의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼지고,
경도(硬度)는 55∼75Hv인 것을 특징으로 하는 실링부재.A closed loop shape is formed in a favorable arc shape so as to be inserted into the first mating member and the end face of the flat mating member is exposed to the outside of the first mating member An insertion portion;
A contact portion extending from an end face of the insertion portion and having a sectional shape formed in a favorable arc shape and in contact with the second mating member,
When the contact portion is squeezed by the second mating member toward the first mating member, the contact portion is pressed in the moving direction of the second mating member and spreads in a direction perpendicular to the moving direction of the second mating member,
And a hardness of 55 to 75 Hv. 삭제delete 제4항에 있어서,
상기 삽입부의 반경을 R1, 상기 접촉부의 반경을 R2라 할 때,
R1 : R2 = 1 : 0.75∼0.85인 것을 특징으로 하는 실링부재.5. The method of claim 4,
When the radius of the insertion portion is R1 and the radius of the contact portion is R2,
R1: R2 = 1: 0.75 to 0.85. 내부에는 기판이 처리되는 공간인 챔버가 형성되고, 전면에는 출입구가 형성되며, 상기 출입구 외측의 상기 전면에는 상기 출입구를 감싸는 형태로 폐루프를 이루는 삽입홈이 형성된 본체;
상기 본체의 전면에 설치되어 상기 출입구를 개폐하는 도어;
일측은 상기 삽입홈에 삽입되고 타측은 상기 본체의 외측에 위치되어 상기 도어의 일면과 접촉하며, 상기 도어에 의하여 상기 본체의 전면측으로 압착되어 상기 챔버를 실링하는 실링부재를 포함하며,
상기 실링부재는,
단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 상기 삽입홈에 삽입되는 삽입부;
상기 삽입부의 평면(平面) 부위인 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 내측으로 오목하게 함몰 형성되어 상기 삽입홈의 외측으로 노출되는 제 1 곡면부;
제 1 곡면부의 단면(端面)에서 연장 형성되며 양측면이 외측으로 볼록하게 돌출 형성된 제 2 곡면부;
상기 제 2 곡면부의 단면(端面)에서 연장 형성되며 상기 제 2 곡면부로부터 멀어질수록 양측면 사이의 폭이 점점 감소하는 형태로 경사진 경사부;
상기 경사부의 단면(端面)에서 연장 형성되고, 외측으로 볼록하게 돌출되어 상기 도어와 접촉하는 접촉부를 가지고,
상기 접촉부가 상기 도어에 의하여 상기 본체측으로 압착되면, 상기 접촉부와 상기 경사부와 상기 제 2 곡면부는 상기 도어의 이동방향으로 압착됨과 동시에 상기 도어의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼지고,
경도(硬度)는 60∼75Hv인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.Wherein a chamber is formed in a space in which a substrate is processed, an entrance is formed in a front surface of the chamber, and an insertion groove is formed in the front surface of the door to form a closed loop in such a manner as to surround the doorway.
A door installed on a front surface of the main body and opening / closing the door;
And a sealing member which is inserted into the insertion groove at one side and is located at the outside of the main body so as to be in contact with one side of the door and is pressed to the front side of the main body by the door to seal the chamber,
Wherein the sealing member comprises:
An insertion portion formed in a shape of a cross section in a favorable shape and inserted into the insertion groove;
A first curved surface portion extending from an end surface of a plane portion of the insertion portion and having both side surfaces recessed inward to be exposed to the outside of the insertion groove;
A second curved surface portion extending from an end surface of the first curved surface portion and having both side surfaces projected outwardly convexly;
An inclined portion extending from an end surface of the second curved surface portion and inclined in such a manner that the width between the both side surfaces gradually decreases as the distance from the second curved surface portion increases;
A contact portion extending from an end surface of the inclined portion and projecting outwardly convexly to contact the door,
The contact portion, the inclined portion, and the second curved portion are pressed in the moving direction of the door and spread in a direction perpendicular to the moving direction of the door, and when the contact portion is pressed to the body side by the door,
And the hardness is 60 to 75 Hv. 삭제delete 제7항에 있어서,
상기 삽입부의 반경을 R1, 상기 제 1 곡면부의 곡률반경을 R2, 상기 제 2 곡면부의 곡률반경을 R3, 상기 접촉부의 곡률반경을 R4, 상기 경사부의 양측면이 이루는 각도를 θ라 할 때,
R1 : R2 : R3 : R4 = 1 : 0.35∼0.45 : 0.25∼0.35 : 0.55∼0.65이고,
θ = 70°∼78°인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.8. The method of claim 7,
When the radius of the insertion portion is R1, the radius of curvature of the first curved portion is R2, the radius of curvature of the second curved portion is R3, the radius of curvature of the contact portion is R4, and the angle formed by both side surfaces of the inclined portion is?
R1: R2: R3: R4 = 1: 0.35 to 0.45: 0.25 to 0.35: 0.55 to 0.65,
and? = 70 ° to 78 °. 내부에는 기판이 처리되는 공간인 챔버가 형성되고, 전면에는 출입구가 형성되며, 상기 출입구 외측의 상기 전면에는 상기 출입구를 감싸는 형태로 폐루프를 이루는 삽입홈이 형성된 본체;
상기 본체의 전면에 설치되어 상기 출입구를 개폐하는 도어;
일측은 상기 삽입홈에 삽입되고 타측은 상기 본체의 외측에 위치되어 상기 도어의 일면과 접촉하며, 상기 도어에 의하여 상기 본체의 전면측으로 압착되어 상기 챔버를 실링하는 실링부재를 포함하며,
상기 실링부재는,
단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되어 상기 삽입홈에 삽입되되, 평면(平面) 부위인 단면(端面)은 상기 삽입홈의 외측으로 노출된 삽입부;
상기 삽입부의 단면(端面)에서 연장 형성되고, 단면(斷面) 형상이 우호(優弧) 형상으로 형성되며, 상기 도어와 접촉하는 접촉부를 가지고,
상기 도어에 의하여 상기 접촉부가 상기 본체측으로 압착되면, 상기 접촉부는 상기 도어의 이동방향으로 압착됨과 동시에 상기 도어의 이동방향과 수직하는 방향으로 퍼지고,
경도(硬度)는 55∼75Hv인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.Wherein a chamber is formed in a space in which a substrate is processed, an entrance is formed in a front surface of the chamber, and an insertion groove is formed in the front surface of the door to form a closed loop in such a manner as to surround the doorway.
A door installed on a front surface of the main body and opening / closing the door;
And a sealing member which is inserted into the insertion groove at one side and is located at the outside of the main body so as to be in contact with one side of the door and is pressed to the front side of the main body by the door to seal the chamber,
Wherein the sealing member comprises:
An insertion portion formed in a shape of a superior arc and inserted into the insertion groove, the end surface being a plane portion exposed to the outside of the insertion groove;
And a contact portion extending from an end face of the insertion portion and having a sectional shape formed in a favorable arc shape and in contact with the door,
When the contact portion is pressed to the main body side by the door, the contact portion is pressed in the moving direction of the door and spreads in a direction perpendicular to the moving direction of the door,
And the hardness is 55 to 75 Hv. 삭제delete 제10항에 있어서,
상기 삽입부의 반경을 R1, 상기 접촉부의 반경을 R2라 할 때,
R1 : R2 = 1 : 0.75∼0.85인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.11. The method of claim 10,
When the radius of the insertion portion is R1 and the radius of the contact portion is R2,
R1: R2 = 1: 0.75 to 0.85.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20000021211U (en) * 1999-05-24 2000-12-26 김영환 Vacuum apparatus for semiconductor manufacturing system
KR100485192B1 (en) * 2002-01-23 2005-04-22 주식회사 씰테크 o-ring sealing method
KR20070058876A (en) * 2005-12-05 2007-06-11 두산인프라코어 주식회사 O-ring receptacle

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000021211U (en) * 1999-05-24 2000-12-26 김영환 Vacuum apparatus for semiconductor manufacturing system
KR100485192B1 (en) * 2002-01-23 2005-04-22 주식회사 씰테크 o-ring sealing method
KR20070058876A (en) * 2005-12-05 2007-06-11 두산인프라코어 주식회사 O-ring receptacle

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