KR101433932B1 - 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치 - Google Patents

이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명의 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치는, 전원부의 직류전원으로 구동되고, 이온 출력 기능, 중주파 출력 기능 및 열 출력 기능 중 하나 이상의 기능을 선택하여 구동신호를 출력하는 입력 스위치부; 전원부의 직류전원으로 구동되고, 입력 스위치부로부터 구동신호를 전송받아 하나 이상의 기능에 대한 구동을 제어하는 구동제어신호를 출력하는 작동 제어부, 작동 제어부로부터 구동제어신호를 전송받아 직류전원을 기 설정된 주파수 영역으로 설정하는 주파수 제어부 및 주파수 제어부에서 설정된 주파수 영역을 직류전원의 진폭과 동일한 진폭을 갖는 펄스파형의 주파수 신호로 출력하는 주파수 카운터를 포함하는 마이콤; 입력 스위치부에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우, 마이콤의 주파수 카운터로부터 펄스파형의 주파수 신호를 전송받아 주파수 신호 레벨을 가변하는 이온 주파수 레벨 제어부, 이온 주파수 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 양이온에 해당하는 + 주파수 신호와 음이온에 해당하는 - 주파수 신호를 각각 증폭하고 증폭된 + 주파수 신호와 - 주파수 신호의 레벨을 가변시켜 증폭 주파수 신호를 발생시키는 이온 주파수 증폭부, 이온 주파수 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호를 교류전압으로 변환하고 변환된 주파수 신호 파형에서 + 주파수 신호와 - 주파수 신호를 각각 정류하고 평활하여 직류 신호를 발생시키는 이온 전압 발생부, 이온 주파수 증폭부에서 발생시킨 증폭 주파수 신호와 이온 전압 발생부에서 발생시킨 직류 신호에서 + 직류 신호를 합성하는 제1 합성부, 및 이온 주파수 증폭부에서 발생시킨 증폭 주파수 신호와 이온 전압 발생부에서 발생시킨 직류 신호에서 - 직류 신호를 합성하는 제2 합성부를 포함하는 이온 증폭 및 합성부; 입력 스위치부에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우, 마이콤으로부터 펄스파형의 주파수 신호를 전송받아 주파수 레벨을 가변하는 중주파 레벨 제어부, 중주파 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 + 주파수 신호를 분리하는 제1 펄스 처리부, 중주파 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 - 주파수 신호를 분리하는 제2 펄스 처리부, 제1 펄스 처리부에서 분리된 + 주파수 신호를 증폭하는 제1 펄스 증폭부, 제2 펄스 처리부에서 분리된 - 주파수 신호를 증폭하는 제2 펄스 증폭부 및 제1 펄스 증폭부에서 증폭된 + 주파수 신호와 제2 펄스 증폭부에서 증폭된 - 주파수 신호를 교번처리하는 교번 처리부를 포함하는 중주파 증폭 및 처리부; 전원부의 직류전원으로 구동되고, 입력 스위치부에서 열 출력 기능이 선택되었을 경우, 작동 제어부로부터 구동제어신호를 전송받아 펄스 폭 변조제어(Pulse Width Modulation : PWM)를 통해 직류전원을 펄스파형의 주파수 신호로 출력하는 PWM 제어부, PWM 제어부에서 출력된 펄스파형의 주파수 신호 전압을 가변하는 전압 변환부, 전압 변환부에서 가변된 전압을 전송받아 구동되는 열전소자, 열전소자의 일측에 결합되어 온열이 출력되는 온열패드, 열전소자의 타측에 결합되어 냉열이 출력되는 냉열패드 및 온열패드와 냉열패드의 온도를 작동 제어부에 전달하는 온도 검출부를 포함하는 온열 및 냉열 발생부; 및 입력 스위치부에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우, 온열 및 냉열 발생부의 온열패드를 통해 이온 증폭 및 합성부에서 합성된 양이온에 해당하는 + 주파수 신호와 음이온에 해당하는 - 주파수 신호가 출력되고, 입력 스위치부에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우, 중주파 증폭 및 처리부에서 교번처리된 + 주파수 신호와 - 주파수 신호가 출력되도록 하는 출력 제어부;를 포함한다.

Description

이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치{Warm and Cold Skin Massage Apparatus with Ion and Medium Frequency.}
본 발명은 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이온 출력 기능, 중주파 출력 기능 및 열 출력 기능을 모두 구비하고, 이온 출력에 양이온과 음이온의 흡수율을 높이기 위해 직류파와 펄스파를 합성한 주파수를 사용하여 피부 흡수도를 높일 수 있는 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치에 관한 것이다.
일반적으로 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치는 이온 출력 기능, 중주파 출력 기능 및 열 출력 기능이 모두 구비되지 않아 각각의 기능을 갖는 장치들을 모두 구비해야 하고, 이들 장비들의 크기가 커서 휴대하기 어렵다는 문제점이 있었다.
또한, 이온 출력 기능을 구비한 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치의 경우, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 이온 출력에 직류파의 전압이 사용되어 피부에 양이온과 음이온의 피부 흡수도가 낮다는 문제점이 있었다.
이와 관련하여, 한국공개특허 제2011-0001629호에는 휴대용 복합 비만 및 피부 의료기기에 대한 발명이 개시되어 있으나, 이는 저주파, 중주파 및 초음파만 출력되고, 이온 출력과 열 출력은 되지 않아 사용자가 이온 출력과 열 출력 기능을 사용해야 할 경우, 각각의 기능이 구비된 장비들을 모두 구비해야 한다는 문제점이 있었다.
상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명의 목적은 이온 출력 기능, 중주파 출력 기능 및 열 출력 기능을 모두 구비하고, 이온 출력에 양이온과 음이온의 흡수율을 높이기 위해 직류파와 펄스파를 합성한 주파수를 사용하여 피부 흡수도를 높일 수 있는 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치를 제공하기 위함이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명의 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치는, 전원부의 직류전원으로 구동되고, 이온 출력 기능, 중주파 출력 기능 및 열 출력 기능 중 하나 이상의 기능을 선택하여 구동신호를 출력하는 입력 스위치부; 전원부의 직류전원으로 구동되고, 입력 스위치부로부터 구동신호를 전송받아 하나 이상의 기능에 대한 구동을 제어하는 구동제어신호를 출력하는 작동 제어부, 작동 제어부로부터 구동제어신호를 전송받아 직류전원을 기 설정된 주파수 영역으로 설정하는 주파수 제어부 및 주파수 제어부에서 설정된 주파수 영역을 직류전원의 진폭과 동일한 진폭을 갖는 펄스파형의 주파수 신호로 출력하는 주파수 카운터를 포함하는 마이콤; 입력 스위치부에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우, 마이콤의 주파수 카운터로부터 펄스파형의 주파수 신호를 전송받아 주파수 신호 레벨을 가변하는 이온 주파수 레벨 제어부, 이온 주파수 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 양이온에 해당하는 + 주파수 신호와 음이온에 해당하는 - 주파수 신호를 각각 증폭하고 증폭된 + 주파수 신호와 - 주파수 신호의 레벨을 가변시켜 증폭 주파수 신호를 발생시키는 이온 주파수 증폭부, 이온 주파수 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호를 교류전압으로 변환하고 변환된 주파수 신호 파형에서 + 주파수 신호와 - 주파수 신호를 각각 정류하고 평활하여 직류 신호를 발생시키는 이온 전압 발생부, 이온 주파수 증폭부에서 발생시킨 증폭 주파수 신호와 이온 전압 발생부에서 발생시킨 직류 신호에서 + 직류 신호를 합성하는 제1 합성부, 및 이온 주파수 증폭부에서 발생시킨 증폭 주파수 신호와 이온 전압 발생부에서 발생시킨 직류 신호에서 - 직류 신호를 합성하는 제2 합성부를 포함하는 이온 증폭 및 합성부; 입력 스위치부에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우, 마이콤으로부터 펄스파형의 주파수 신호를 전송받아 주파수 레벨을 가변하는 중주파 레벨 제어부, 중주파 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 + 주파수 신호를 분리하는 제1 펄스 처리부, 중주파 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 - 주파수 신호를 분리하는 제2 펄스 처리부, 제1 펄스 처리부에서 분리된 + 주파수 신호를 증폭하는 제1 펄스 증폭부, 제2 펄스 처리부에서 분리된 - 주파수 신호를 증폭하는 제2 펄스 증폭부 및 제1 펄스 증폭부에서 증폭된 + 주파수 신호와 제2 펄스 증폭부에서 증폭된 - 주파수 신호를 교번처리하는 교번 처리부를 포함하는 중주파 증폭 및 처리부; 전원부의 직류전원으로 구동되고, 입력 스위치부에서 열 출력 기능이 선택되었을 경우, 작동 제어부로부터 구동제어신호를 전송받아 펄스 폭 변조제어(Pulse Width Modulation : PWM)를 통해 직류전원을 펄스파형의 주파수 신호로 출력하는 PWM 제어부, PWM 제어부에서 출력된 펄스파형의 주파수 신호 전압을 가변하는 전압 변환부, 전압 변환부에서 가변된 전압을 전송받아 구동되는 열전소자, 열전소자의 일측에 결합되어 온열이 출력되는 온열패드, 열전소자의 타측에 결합되어 냉열이 출력되는 냉열패드 및 온열패드와 냉열패드의 온도를 작동 제어부에 전달하는 온도 검출부를 포함하는 온열 및 냉열 발생부; 및 입력 스위치부에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우, 온열 및 냉열 발생부의 온열패드를 통해 이온 증폭 및 합성부에서 합성된 양이온에 해당하는 + 주파수 신호와 음이온에 해당하는 - 주파수 신호가 출력되고, 입력 스위치부에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우, 중주파 증폭 및 처리부에서 교번처리된 + 주파수 신호와 - 주파수 신호가 출력되도록 하는 출력 제어부;를 포함한다.
또한, 온열패드는 스위치부;를 더 포함하고 스위치부는 출력 제어부와 연결되어 끝단은 접지되어 있으며, 입력 스위치부에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우 작동 제어부를 통해 스위치부가 닫히고, 입력 스위치부에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우 작동 제어부를 통해 스위치부가 열리는 것을 특징으로 한다.
또한, 입력 스위치부로부터 선택된 하나 이상의 기능을 표시하는 표시부;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 이온 주파수 증폭부는 이온 주파수 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 양이온에 해당하는 + 주파수 신호를 증폭하는 제1 증폭부; 이온 주파수 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 음이온에 해당하는 - 주파수 신호를 증폭하는 제2 증폭부; 제1 증폭부에서 증폭된 + 주파수 신호의 레벨을 가변시키는 제1 레벨 시프터; 제2 증폭부에서 증폭된 - 주파수 신호를 역변환하는 인버터부; 및 인버터부에서 역변환된 - 주파수 신호의 레벨을 가변시키는 제2 레벨 시프터;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 이온 전압 발생부는 이온 주파수 레벨 제어부에서 가변된 주파수 신호를 교류전압으로 변환하는 DC/AC 변환부; DC/AC 변환부에서 변환된 주파수 파형에서 + 주파수 신호를 정류하는 제1 정류부; DC/AC 변환부에서 변환된 주파수 파형에서 - 주파수 신호를 정류하는 제2 정류부; 제1 정류부에서 정류된 + 주파수 신호를 평활하여 + 직류 신호를 발생시키는 제1 평활부; 및 제2 정류부에서 정류된 - 주파수 신호를 평활하여 - 직류 신호를 발생시키는 제2 평활부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이상 살펴본 바와 같은 본 발명에 따르면, 이온 출력 기능, 중주파 출력 기능 및 열 출력 기능을 모두 구비하고, 이온 출력에 양이온과 음이온의 흡수율을 높이기 위해 직류파와 펄스파를 합성한 주파수를 사용하여 피부 흡수도를 높일 수 있는 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 기존의 이온 발생 장치에서 사용되는 이온 주파수 중 + 주파수에 해당하는 직류전압 파형도이고,
도 2는 기존의 이온 발생 장치에서 사용되는 이온 주파수 중 - 주파수에 해당하는 직류전압 파형도이며,
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치에 대한 블록도이며,
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치의 제1 합성부에서 합성되는 + 이온 주파수에 대한 파형도이며,
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치의 제1 합성부에서 합성되는 - 이온 주파수에 대한 파형도이며,
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치의 제1 펄스 처리부 및 제1 펄스 증폭부에서 증폭된 중주파 Channel a에 대한 파형도이며,
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치의 제2 펄스 처리부 및 제2 펄스 증폭부에서 증폭된 중주파 Channel b에 대한 파형도이며,
도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치의 교번 처리부에서 중주파 Channel a와 중주파 Channel b가 합성되어 교번 처리되는 파형도이며,
도 9 내지 도 11은 도 1에 도시된 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치의 각 부분별 파형도이며,
도 12는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치의 사시도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하, 본 발명의 실시예들에 의하여 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치를 설명하기 위한 도면들을 참고하여 본 발명에 대해 설명하도록 한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치에서 설명되는 주파수 신호는 펄스파형으로 출력되는 주파수를 의미한다. 또한, 본 발명에서 설명되는 각각의 주파수 신호에 대한 펄스파형은 도 9 내지 도 11에 도시되어 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치는 도 3에 도시된 바와 같이, 입력 스위치부(110), 마이콤(120), 표시부(130), 이온 증폭 및 합성부(140), 중주파 증폭 및 처리부(150), 온열 및 냉열 발생부(160) 및 출력 제어부(170)를 포함한다.
입력 스위치부(110)는 전원부(10)의 직류전원으로 구동되고, 이온 출력 기능, 중주파 출력 기능 및 열 출력 기능 중 하나 이상의 기능을 선택하여 구동신호를 출력한다.
마이콤(120)은 전원부(10)의 직류전원으로 구동되고, 작동 제어부(121), 주파수 제어부(122) 및 주파수 카운터(123)를 포함한다.
작동 제어부(121)는 입력 스위치부(110)로부터 구동신호를 전송받아 하나 이상의 기능데 대한 구동을 제어하는 구동제어신호를 출력한다.
주파수 제어부(122)는 작동 제어부(121)로부터 구동제어신호를 전송받아 직류전원을 기 설정된 주파수 영역으로 설정한다.
주파수 카운터(123)는 주파수 제어부(122)에서 설정된 주파수 영역을 직류전원의 진폭과 동일한 진폭을 갖는 주파수 신호로 출력한다. 여기서, 주파수 카운터(123)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B1에 도시된 바와 같다.
표시부(130)는 입력 스위치부(110)로부터 선택된 하나 이상의 기능을 표시한다. 이와 같은, 표시부(130)는 LED로 구성되어 입력 스위치부(110)에서 선택되는 하나 이상의 기능이 각각 구분되도록 표시한다.
이와 같은, 표시부(130)는 도 12에 도시된 바와 같이, 입력 스위치부(110)로부터 선택된 하나 이상의 기능이 표시되도록 다수의 LED로 구성된다.
이온 증폭 및 합성부(140)는 레벨 제어부(141), 이온 주파수 증폭부(142), 이온 전압 발생부(143), 제1 합성부(144) 및 제2 합성부(145)를 포함한다.
레벨 제어부(141)는 입력 스위치부(110)에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우, 마이콤(120)의 주파수 카운터(123)로부터 펄스파형의 주파수 신호를 전송받아 주파수 신호 레벨을 가변한다. 여기서, 레벨 제어부(141)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B2에 도시된 바와 같다.
이온 주파수 증폭부(142)는 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 양이온에 해당하는 + 주파수 신호와 음이온에 해당하는 - 주파수 신호를 각각 증폭하고 증폭된 + 주파수 신호와 - 주파수 신호의 레벨을 가변시켜 증폭 주파수 신호를 발생시킨다.
이와 같은, 이온 주파수 증폭부(142)는 제1 증폭부(142a), 제2 증폭부(142b), 제1 레벨 시프터(142c), 인버터부(142d) 및 제2 레벨 시프터(142e)를 포함한다.
제1 증폭부(142a)는 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 양이온에 해당하는 + 주파수 신호를 증폭한다. 여기서, 제1 증폭부(142a)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B3에 도시된 바와 같다.
제2 증폭부(142b)는 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 음이온에 해당하는 - 주파수 신호를 증폭한다. 여기서, 제2 증폭부(142b)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B3에 도시된 바와 같다.
제1 레벨 시프터(142c)는 제1 증폭부(142a)에서 증폭된 + 주파수 신호의 레벨을 가변시킨다. 여기서, 제1 레벨 시프터(142c)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B5에 도시된 바와 같다.
인버터부(142d)는 제2 증폭부(142b)에서 증폭된 - 주파수 신호를 역변환한다. 여기서, 인버터부(142d)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B4에 도시된 바와 같다.
제2 레벨 시프터(142e)는 인버터부(142d)에서 역변환된 - 주파수 신호의 레벨을 가변시킨다. 여기서, 제2 레벨 시프터(142e)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B6에 도시된 바와 같다.
여기서, 이온 주파수 증폭부(142)에서 발생시킨 증폭 주파수 신호 중 양이온에 해당하는 + 주파수 신호가 도 4의 a이고, 음이온에 해당하는 - 주파수 신호가 도 5의 e이다.
이온 전압 발생부(143)는 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호를 교류전압으로 변환하고 변환된 주파수 신호 파형에서 + 주파수 신호와 - 주파수 신호를 각각 정류하고 평활하여 직류 신호를 발생시킨다.
이와 같은, 이온 전압 발생부(143)는 DC/AC 변환부(143a), 제1 정류부(143b), 제2 정류부(143c), 제1 평활부(143d) 및 제2 평활부(143e)를 포함한다.
DC/AC 변환부(143a)는 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호를 교류전압으로 변환한다. 여기서, DC/AC 변환부(143a)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B7에 도시된 바와 같다.
제1 정류부(143b)는 DC/AC 변환부(143a)에서 변환된 주파수 신호 파형에서 + 주파수 신호를 정류한다.
제2 정류부(143c)는 DC/AC 변환부(143a)에서 변환된 주파수 신호 파형에서 - 주파수 신호를 정류한다.
제1 평활부(143d)는 제1 정류부(143b)에서 정류된 + 주파수 신호를 평활하여 + 직류 신호를 발생시킨다. 여기서, 제1 평활부(143d)에서 출력되는 직류 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B8에 도시된 바와 같다.
제2 평활부(143e)는 제2 정류부(143c)에서 정류된 - 주파수 신호를 평활하여 - 직류 신호를 발생시킨다. 여기서, 제2 평활부(143e)에서 출력되는 직류 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B9에 도시된 바와 같다.
여기서, 이온 전압 발생부(143)에서 발생시킨 직류 주파수 신호 중 + 주파수 신호가 도 4의 b이고, - 주파수 신호가 도 5의 d이다.
제1 합성부(144)는 이온 주파수 증폭부(142)에서 발생시킨 증폭 주파수 신호와 이온 전압 발생부(143)에서 발생시킨 직류 신호에서 + 직류 신호를 합성한다. 여기서, 제1 합성부(144)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B10에 도시된 바와 같다.
제2 합성부(145)는 이온 주파수 증폭부(142)에서 발생시킨 증폭 주파수 신호와 이온 전압 발생부(143)에서 발생시킨 직류 신호에서 - 직류 신호를 합성한다. 여기서, 제2 합성부(145)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 B11에 도시된 바와 같다.
이와 같은, 양이온과 음이온은 직류파의 전압을 사용하는 기존의 양이온과 음이온과는 달리 순시전류와 복귀전류를 사용한다는 점에서 양이온과 음이온이 체내에 더 빠르고 많이 흡수된다는 장점이 발생된다. 여기서, 순시전류는 도 4의 c에 해당되고, 복귀전류는 도 5의 f에 해당된다.
중주파 증폭 및 처리부(150)는 중주파 레벨 제어부(151), 제1 펄스 처리부(152), 제2 펄스 처리부(153), 제1 펄스 증폭부(154), 제2 펄스 증폭부(155) 및 교번 처리부(156)를 포함한다.
중주파 레벨 제어부(151)는 입력 스위치부(110)에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우, 마이콤(120)으로부터 펄스파형의 주파수 신호를 전송받아 주파수 레벨을 가변한다.
제1 펄스 처리부(152)는 중주파 레벨 제어부(151)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 + 주파수 신호를 분리한다. 여기서, 제1 펄스 처리부(152)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 C1에 도시된 바와 같다.
제2 펄스 처리부(153)는 중주파 레벨 제어부(151)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 - 주파수 신호를 분리한다. 여기서, 제2 펄스 처리부(153)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 C2에 도시된 바와 같다.
제1 펄스 증폭부(154)는 제1 펄스 처리부(152)에서 분리된 + 주파수 신호를 증폭한다. 여기서, 제1 펄스 증폭부(154)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 C3에 도시된 바와 같다.
제2 펄스 증폭부(155)는 제2 펄스 처리부(153)에서 분리된 - 주파수 신호를 증폭한다. 여기서, 제2 펄스 증폭부(155)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 C4에 도시된 바와 같다.
교번 처리부(156)는 제1 펄스 증폭부(154)에서 증폭된 + 주파수 신호와 제2 펄스 증폭부(155)에서 증폭된 - 주파수 신호를 교번처리한다. 여기서, 교번 처리부(156)에서 출력되는 주파수 신호의 파형은 도 3 및 도 9의 C5에 도시된 바와 같다.
여기서, 중주파는 2가지의 채널(channel)인 + 주파수 신호 채널과 - 주파수 신호 채널로 분리되며, 이와 같은, + 주파수 신호 채널과 - 주파수 신호 채널이 교번처리 되어 체내에 전달되는 자극이 극대화 된다.
이와 같은, + 주파수 신호 채널은 도 6의 channel a에 해당되며, - 주파수 신호 채널은 도 7의 channel b에 해당되고, 교번처리된 + 주파수 신호 채널과 - 주파수 신호 채널은 도 8의 channel a + channel b에 해당된다.
온열 및 냉열 발생부(160)는 전원부(10)의 직류전원으로 구동되고, PWM 제어부(161), 전압 변환부(162), 열전소자(164), 온열패드(165), 냉열패트(166) 및 온도 검출부(163)를 포함한다.
PWM 제어부(161)는 입력 스위치부(110)에서 열 출력 기능이 선택되었을 경우, 작동 제어부(121)로부터 구동제어신호를 전송받아 펄스 폭 변조제어(Pulse Width Modulation : PWM)를 통해 직류전원을 펄스파형의 주파수 신호로 출력한다.
전압 변환부(162)는 PWM 제어부(161)에서 출력된 펄스파형의 주파수 신호 전압을 가변한다.
열전소자(164)는 전압 변환부(162)에서 가변된 전압을 전송받아 구동된다.
온열패드(165)는 열전소자(164)의 일측에 결합되어 온열이 출력된다.
여기서, 온열패드(165)는 스위치부(165a)를 더 포함하고 스위치부(165a)는 출력 제어부(170)와 연결되어 끝단은 접지되어 있으며, 입력 스위치부(110)에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우 작동 제어부(121)를 통해 스위치부(165a)가 닫히고, 입력 스위치부(110)에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우 작동 제어부(121)를 통해 스위치부(165a)가 열린다.
여기서, 이온 출력 기능이 선택될 때 스위치부(165a)가 닫히는 것은 이온이 체내를 통해 순환되게 하도록 하기 위함이며, 이 때, 체내는 저항과 같은 역할을 하게 된다.
또한, 중주파 출력 기능이 선택될 때 스위치부(165a)가 열리는 것은 중주파의 + 주파수 신호와 - 주파수 신호가 2개의 채널로 교번처리되기 때문에, 체내를 접지상태로 만들어 교번되는 + 주파수 신호와 - 주파수 신호를 통한 자극이 체내에 효과적으로 전달되게 하기 위함이다.
이와 같은, 스위치부(165a)는 도 12를 참고하면, 온열패드(165)와 분리된 것처럼 보일 수있으나, 스위치부(165a)는 온열패드(165)의 내부에 위치한 상태에서 끝단의 접지 부분만 도 12에 보이는 스위치부(165a)의 위치에 결합된다.
냉열패드(166)는 열전소자(164)의 타측에 결합되어 냉열이 출력된다.
온도 검출부(163)는 온열패드(165)와 냉열패드(166)의 온도를 작동 제어부(121)에 전달한다.
출력 제어부(170)는 입력 스위치부(110)에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우, 온열 및 냉열 발생부(160)의 온열패드(165)를 통해 이온 증폭 및 합성부(140)에서 합성된 양이온에 해당하는 + 주파수 신호와 음이온에 해당하는 - 주파수 신호가 출력되고, 입력 스위치부(110)에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우, 중주파 증폭 및 처리부(150)에서 교번처리된 + 주파수 신호와 - 주파수 신호가 출력되도록 한다.
앞서 설명한, 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치는 이온 출력 기능, 중주파 출력 기능 및 열 출력 기능을 모두 구비하여, 피부에 전달되는 중주파와 이온의 흡수율을 높이고, 온열과 중주파의 동시전달로 피부 탄력을 향상시키는 것이 가장 큰 특징이다.
예를 들어, 중주파 출력 기능 또는 이온 출력 기능을 사용할 때에는 온열 기능을 동시에 사용하여 온열과 중주파 또는 이온을 피부에 전달시킴으로써 모세혈관을 활성화 시키고 피부를 진정시키며 모공을 넓힐 수 있다는 장점이 발생한다.
즉, 온열 기능으로 피부의 모공이 넓히고 모세혈관을 활성화시켜 중주파 출력 기능 또는 이온 출력 기능에서 발생되는 중주파 또는 이온의 피부 흡수율을 높일 수 있다.
여기서, 중주파는 2개의 채널을 갖는 + 주파수 신호와 - 주파수 신호를 교번처리 함으로써, 피부에 자극이 효과적으로 전달되게 하는 것이 장점이고, 이온은 순시전류와 복귀전류를 사용하여 양이온과 음이온이 체내에 더 빠르고 많이 흡수되게 하는 것이 장점이다.
본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구의 범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
10 : 전원부
110 : 입력 스위치부
120 : 마이콤 121 : 작동 제어부
122 : 주파수 제어부 123 : 주파수 카운터
130 : 표시부
140 : 이온 증폭 및 합성부 141 : 이온 주파수 레벨 제어부
142 : 이온 주파수 증폭부 142a : 제1 증폭부
142b : 제2 증폭부 142c : 제1 레벨 시프터
142d : 인버터부 142e : 제2 레벨 시프터
143 : 이온 전압 발생부 143a : DC/AC 변환부
143b : 제1 정류부 143c : 제2 정류부
143d : 제1 평활부 143e : 제2 평활부
144 : 제1 합성부 145 : 제2 합성부
150 : 중주파 증폭 및 처리부 151 : 중주파 레벨 제어부
152 : 제1 펄스 처리부 153 : 제2 펄스 처리부
154 : 제1 펄스 증폭부 155 : 제2 펄스 증폭부
156 : 교번 처리부
160 : 온열 및 냉열 발생부 161 : PWM 제어부
162 : 전압변환부 163 : 온도 검출부
164 : 열전소자 165 : 온열패드
165a : 스위치부 166 : 냉열패드
170 : 출력 제어부

Claims (5)

  1. 전원부(10)의 직류전원으로 구동되고, 이온 출력 기능, 중주파 출력 기능 및 열 출력 기능 중 하나 이상의 기능을 선택하여 구동신호를 출력하는 입력 스위치부(110);
    상기 전원부(10)의 직류전원으로 구동되고, 상기 입력 스위치부(110)로부터 구동신호를 전송받아 하나 이상의 기능에 대한 구동을 제어하는 구동제어신호를 출력하는 작동 제어부(121), 상기 작동 제어부(121)로부터 구동제어신호를 전송받아 상기 직류전원을 기 설정된 주파수 영역으로 설정하는 주파수 제어부(122) 및 상기 주파수 제어부(122)에서 설정된 주파수 영역을 상기 직류전원의 진폭과 동일한 진폭을 갖는 펄스파형의 주파수 신호로 출력하는 주파수 카운터(123)를 포함하는 마이콤(120);
    상기 입력 스위치부(110)에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우, 상기 마이콤(120)의 주파수 카운터(123)로부터 펄스파형의 주파수 신호를 전송받아 주파수 신호 레벨을 가변하는 이온 주파수 레벨 제어부(141), 상기 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 양이온에 해당하는 + 주파수 신호와 음이온에 해당하는 - 주파수 신호를 각각 증폭하고 증폭된 + 주파수 신호와 - 주파수 신호의 레벨을 가변시켜 증폭 주파수 신호를 발생시키는 이온 주파수 증폭부(142), 상기 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호를 교류전압으로 변환하고 변환된 주파수 신호 파형에서 + 주파수 신호와 - 주파수 신호를 각각 정류하고 평활하여 직류 신호를 발생시키는 이온 전압 발생부(143), 상기 이온 주파수 증폭부(142)에서 발생시킨 증폭 주파수 신호와 상기 이온 전압 발생부(143)에서 발생시킨 직류 신호에서 + 직류 신호를 합성하는 제1 합성부(144), 및 상기 이온 주파수 증폭부(142)에서 발생시킨 증폭 주파수 신호와 상기 이온 전압 발생부(143)에서 발생시킨 직류 신호에서 - 직류 신호를 합성하는 제2 합성부(145)를 포함하는 이온 증폭 및 합성부(140);
    상기 입력 스위치부(110)에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우, 상기 마이콤(120)으로부터 펄스파형의 주파수 신호를 전송받아 주파수 레벨을 가변하는 중주파 레벨 제어부(151), 상기 중주파 레벨 제어부(151)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 + 주파수 신호를 분리하는 제1 펄스 처리부(152), 상기 중주파 레벨 제어부(151)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 - 주파수 신호를 분리하는 제2 펄스 처리부(153), 상기 제1 펄스 처리부(152)에서 분리된 + 주파수 신호를 증폭하는 제1 펄스 증폭부(154), 상기 제2 펄스 처리부(153)에서 분리된 - 주파수 신호를 증폭하는 제2 펄스 증폭부(155) 및 상기 제1 펄스 증폭부(154)에서 증폭된 + 주파수 신호와 상기 제2 펄스 증폭부(155)에서 증폭된 - 주파수 신호를 교번처리하는 교번 처리부(156)를 포함하는 중주파 증폭 및 처리부(150);
    상기 전원부(10)의 직류전원으로 구동되고, 상기 입력 스위치부(110)에서 열 출력 기능이 선택되었을 경우, 상기 작동 제어부(121)로부터 구동제어신호를 전송받아 펄스 폭 변조제어(Pulse Width Modulation : PWM)를 통해 상기 직류전원을 펄스파형의 주파수 신호로 출력하는 PWM 제어부(161), 상기 PWM 제어부(161)에서 출력된 펄스파형의 주파수 신호 전압을 가변하는 전압 변환부(162), 상기 전압 변환부(162)에서 가변된 전압을 전송받아 구동되는 열전소자(164), 상기 열전소자(164)의 일측에 결합되어 온열이 출력되는 온열패드(165), 상기 열전소자(164)의 타측에 결합되어 냉열이 출력되는 냉열패드(166) 및 상기 온열패드(165)와 상기 냉열패드(166)의 온도를 상기 작동 제어부(121)에 전달하는 온도 검출부(163)를 포함하는 온열 및 냉열 발생부(160); 및
    상기 입력 스위치부(110)에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우, 상기 온열 및 냉열 발생부(160)의 온열패드(165)를 통해 상기 이온 증폭 및 합성부(140)에서 합성된 양이온에 해당하는 + 주파수 신호와 음이온에 해당하는 - 주파수 신호가 출력되고, 상기 입력 스위치부(110)에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우, 상기 중주파 증폭 및 처리부(150)에서 교번처리된 + 주파수 신호와 - 주파수 신호가 출력되도록 하는 출력 제어부(170);를 포함하는 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 온열패드(165)는,
    스위치부(165a);를 더 포함하고 상기 스위치부(165a)는 상기 출력 제어부(170)와 연결되어 끝단은 접지되어 있으며, 상기 입력 스위치부(110)에서 이온 출력 기능이 선택되었을 경우 상기 작동 제어부(121)를 통해 상기 스위치부(165a)가 닫히고, 상기 입력 스위치부(110)에서 중주파 출력 기능이 선택되었을 경우 상기 작동 제어부(121)를 통해 상기 스위치부(165a)가 열리는 것을 특징으로 하는 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 입력 스위치부(110)로부터 선택된 하나 이상의 기능을 표시하는 표시부(130);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 이온 주파수 증폭부(142)는,
    상기 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 양이온에 해당하는 + 주파수 신호를 증폭하는 제1 증폭부(142a);
    상기 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호의 파형에서 음이온에 해당하는 - 주파수 신호를 증폭하는 제2 증폭부(142b);
    상기 제1 증폭부(142a)에서 증폭된 + 주파수 신호의 레벨을 가변시키는 제1 레벨 시프터(142c);
    상기 제2 증폭부(142b)에서 증폭된 - 주파수 신호를 역변환하는 인버터부(142d); 및
    상기 인버터부(142d)에서 역변환된 - 주파수 신호의 레벨을 가변시키는 제2 레벨 시프터(142e);를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 이온 전압 발생부(143)는,
    상기 이온 주파수 레벨 제어부(141)에서 가변된 주파수 신호를 교류전압으로 변환하는 DC/AC 변환부(143a);
    상기 DC/AC 변환부(143a)에서 변환된 주파수 파형에서 + 주파수 신호를 정류하는 제1 정류부(143b);
    상기 DC/AC 변환부(143a)에서 변환된 주파수 파형에서 - 주파수 신호를 정류하는 제2 정류부(143c);
    상기 제1 정류부(143b)에서 정류된 + 주파수 신호를 평활하여 + 직류 신호를 발생시키는 제1 평활부(143d); 및
    상기 제2 정류부(143c)에서 정류된 - 주파수 신호를 평활하여 - 직류 신호를 발생시키는 제2 평활부(143e);를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 및 중주파를 겸비한 온냉열 피부 마사지 장치.
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