KR101433536B1 - Photomask vacuum cleaner retainer - Google Patents

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KR101433536B1
KR101433536B1 KR1020130120444A KR20130120444A KR101433536B1 KR 101433536 B1 KR101433536 B1 KR 101433536B1 KR 1020130120444 A KR1020130120444 A KR 1020130120444A KR 20130120444 A KR20130120444 A KR 20130120444A KR 101433536 B1 KR101433536 B1 KR 101433536B1
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이대준
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씨티에스(주)
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Abstract

The present invention relates to vacuum fixing devices for a photomask cleaner, and more specifically, to devices disposed at both inner sides of a cleaner for cleaning a photomask, respectively, to allow a vertical movement of an introduced photomask and fix the photomask in a cleaning process. The devices comprise: a vertical movement part (100), which includes support bars (110) longitudinally disposed at both lateral upper sides thereof, and an elevating plate (120) having both sides fitted on the support bars (110) to vertically move; a movement part (200), which includes a movement plate (210) disposed on the upper side of the elevating plate (120) to laterally move, and a vacuum plate (220) that is disposed on the upper side of the movement plate (210), that includes a plurality of vacuum holes (222) at a side thereof, and that supports and fixes the lower part of the photomask (p); and a vacuum part (300) connected to the vacuum holes (222) of the vacuum plate (220) and performing a holding operation with suction force. When the photomask (p) is placed on the vacuum plate (220) and is cleaned by a cleaning device (500), the lower part of the photomask (p) is held and fixed with vacuum suction force, and thus, the photomask (p) is prevented from being lifted, so that the photomask (p) can be prevented from being broken. In addition, the devices are selectively moved and fixed according to a model type of the photomask (p) and are thus used without a separate variable configuration. Thus, the present invention is useful to improve economical efficiency.

Description

포토마스크 세정기용 진공고정장치{Photomask vacuum cleaner retainer}[0001] The present invention relates to a photomask vacuum cleaner retainer,

본 발명은 포토마스크 세정기용 진공고정장치에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 상, 하, 좌, 우로 유동되도록 구성되어 인입된 포토마스크의 하부를 지지하면서 세정장치에 의해 세정 시 상기 포토마스크의 하부를 진공으로 흡착하여 견고한 고정력을 확보 하여 상기 포토마스크의 들림 현상으로 인해 파손되는 것을 방지 할 수 있는 포토마스크 세정기용 진공고정장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a vacuum fixing apparatus for a photomask cleaner, and more particularly, to a vacuum fixing apparatus for a photomask cleaner, which is configured to flow upward, downward, leftward and rightward, To a vacuum fixing device for a photomask cleaner which can secure a firm fixing force to prevent damage due to lifting of the photomask.

유기발광표시소자 및 박막트랜지스터 액정표시소자와 같은 평판표시소자의 양극기판을 제조함에 있어 통상 사진 공정이 이용되고 있다.BACKGROUND ART [0002] Conventionally, a photolithography process is used in manufacturing a positive electrode substrate of a flat panel display device such as an organic light emitting display device and a thin film transistor liquid crystal display device.

이러한 사진 공정은 식각대상층 상에 감광성 수지를 도포하는 단계와, 상기 감광성 수지의 특정 부분에 포토마스크를 이용해서 빛을 조사시키는 노광단계와, 소정 화학용액을 이용해서 노광되거나 또는 노광되지 않는 감광성 수지 부분을 제거하는 현상 단계로 구성된다.This photolithography process includes a step of applying a photosensitive resin on a layer to be etched, an exposure step of irradiating a specific portion of the photosensitive resin with light using a photomask, a photosensitive resin exposed or not exposed using a predetermined chemical solution And a development step of removing the part.

이러한 사진 공정에 있어서, 노광 공정에서 사용하는 포토마스크의 세정 상태는 생산 소율에 큰 영향을 미치는 중요한 요인이 된다.In such a photolithography process, the cleaning state of the photomask used in the exposure process is an important factor that greatly affects the production rate.

일반적으로 포토마스크 세정은 그 효과를 높이기 위해 감광성 수지 박리액, 이소프로필 알코올 등과 같은 화약 약품을 사용하여 수행하게 되며, 또한, 상기 포토마스크는 고가의 유리기판 위에 미세한 회로를 구성한 것인데, 발광 가능한 라이트를 이용하여 현미경으로 일일이 육안으로 확인하며 에어 또는 붓을 이용하여 이물질을 제거하기도 하였으나, 이러한 방법은 작업자의 땀방울, 비듬, 머리카락 등 이물질을 제거하기 보단 오히려 이물질이 더 쌓일 수밖에 없는 작업이었다.
In general, the photomask cleaning is performed by using an explosive medicine such as a photosensitive resin stripping solution, isopropyl alcohol or the like in order to enhance the effect. The photomask is a fine circuit formed on an expensive glass substrate. And the foreign body was removed by using air or a brush. However, this method was a task in which foreign substances were accumulated rather than removing the foreign substances such as sweat, dandruff, hair, etc. of the worker.

우선 종래의 기술들을 살펴보면, First of all,

등록번호 (실) 20-0346519 포토마스크가 놓여져 고정되는 마스크 고정대와, 상기 마스크 고정대를 회전시키는 모터와, 상기 모터의 회전수를 제어하는 모터 제어부로 구성된 회전부; 상기 회전부의 마스크 고정대 주위에 설치된 슬릿 지지대와, 상기 슬릿 지지대를 통해 위치 이동 가능하도록 장착되며 슬릿을 통해 포토마스크로 고압 증류수를 분사하는 슬릿 모듈과, 상기 슬릿 모듈에서의 슬릿 위치, 높이, 각도를 조절하기 위한 슬릿 제어부로 구성된 슬릿부; 및 상기 회전 및 고압 증류수 분사를 통한 세정이 완료된 포토마스크로부터 잔여 유기물을 제거하기 위해 구비된 자외선세정기를 포함하는 것이다.Registration number (room) 20-0346519 A rotating part composed of a mask fixing table on which a photomask is placed and fixed, a motor for rotating the mask fixing table, and a motor control part for controlling the rotation number of the motor. A slit module installed to be movable through the slit support and spraying high-pressure distilled water through a slit through a photomask; and a slit module for positioning the slit in the slit module, A slit control unit configured to control the slit control unit; And an ultraviolet cleaner provided to remove residual organic matter from the photomask that has been cleaned through the rotary and high pressure distilled water spraying.

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등록번호 (특) 10-0230694 기판을 회전판부재와 함께 회전시키는 회전수단과, 상기 회전 판부재와 하면과의 상호간에 공간이 형성되도록 기판을 유지하는 유지수단과, 기판의 상면에 세정액을 뿌리는 세정액공급수단과, 기판의 상면을 회전브러시로 세정하는 브러시 세정수단과, 기판의 하면에 유체를 내뿜는 취출수단을 가지며, 상기 유체 취출수단의 유체통로가, 상기 회전수단의 회전구동축의 안에 형성되며, 상기 상호간 공간에 연결되어 통하여 있는 기판 세정처리장치에 관한 것이다.A rotation means for rotating the substrate with the rotation plate member; a holding means for holding the substrate such that a space is formed between the rotation plate and the lower surface; A cleaning liquid supply means, a brush cleaning means for cleaning the upper surface of the substrate with a rotary brush, and a blowout means for blowing out fluid to the lower surface of the substrate, wherein a fluid passage of the fluid extraction means is formed in the rotary drive shaft of the rotation means And a substrate cleaning apparatus connected to the mutual space.

등록번호 (특) 10-0316374 반도체 제조의 사진제판공정에 있어서 원반으로서 사용되는 포토마스크의 표면에 존재하는 유기물을 분해하고, 금속 불순물을 제거하기 위해 고온의 황산과 과산화수소수의 혼합액을 사용하여 상기 포토마스크의 표면을 세정하는 산조와, 전해수 생성유니트에서 생성된 양극수를 사용하여 상기 포토마스크의 표면을 세정하는 린스조와, 상기 전해수 생성유니트에서 생성된 음극수를 사용하여 상기 포토마스크의 표면을 세정하는 이물질 제거조와, 세정된 상기 포토마스크를 건조하는 건조조와, 상기 산조, 상기 린스조 및 상기 이물질 제거조의 각각에 공급되는 세정액을 소정의 농도 또는 온도로 제어하는 세정액공급, 제어수단을 구비한 것이다.
Registration number (10-0316374) In order to remove organic impurities from the surface of a photomask used as a disk in the photolithography process of semiconductor fabrication, a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution A rinsing tank for cleaning the surface of the photomask using an anode water generated in the electrolytic water producing unit; and a cathode tank for cleaning the surface of the photomask using the cathode water generated in the electrolytic water generating unit, And a cleaning liquid supply control means for controlling the cleaning liquid supplied to each of the acid tank, the rinse tank and the foreign matter removing tank to a predetermined concentration or temperature, will be.

상기한 종래 기술은 포토마스크를 고정하는 고정대가 회전되도록 하여 고압 증류수를 분사시켜 상기 포토마스크를 세정하도록 되어 있으나, 이러한 장치는 포토마스를 고정한 후 회전되기 때문에 그 중심이 흐트러질 수가 있을 뿐만 아니라, 자칫 고가의 포토마스크의 파손을 초래할 수 있는 문제점이 있고, 포토마스크의 모델에 따라 가변시키는 구성이 전혀 없기 때문에 크기 및 형태에 따라 세정장치를 구비해야하는 경제적 효율성이 매우 떨어지는 문제점을 갖고 있다.In the above-described conventional technique, the fixing table for fixing the photomask is rotated to spray the high-pressure distilled water to clean the photomask. However, since the apparatus is rotated after fixing the photomask, the center of the photomask can be disturbed, There is a problem that expensive photomasks may be damaged, and since there is no configuration that varies depending on the model of the photomask, there is a problem that the economical efficiency of providing a cleaning device depending on the size and shape is very low.

다른 형태의 기술을 살펴보면, 포토마스크의 이물질을 제거하도록 구성되어 있으나, 이러한 장치의 구성으로는 세정 시 견고한 고정력을 확보 할 수 없어 포토마스크의 파손을 초래할 수가 있다. In another type of technology, foreign substances in the photomask are removed. However, in the structure of such a device, a firm fixation force can not be ensured when cleaning the photomask, which may cause breakage of the photomask.


따라서 본 발명의 목적은 세정장치에 의해 포토마스크를 세정 하되, 상기 포토마스크의 위치를 정렬하면서도 고정하고, 세정장치가 구성된 위치까지 자동적으로 위치시키되, 상기 포토마스크의 하부를 진공으로 한 번 더 흡착시켜 견고한 고정력을 확보 할 수 있도록 하여 세정장치에 의해 상기 포토마스크를 세정 시 들림 현상을 억제하여 파손을 방지 할 수 있는 장치를 제공함에 주안점을 두고 완성해낸 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method of cleaning a photomask with a cleaning apparatus, which fixes the photomask while aligning the position of the photomask, automatically positioning the photomask to a position where the cleaning apparatus is constructed, The present invention has been accomplished on the basis of the provision of a device capable of securing a firm fixing force so as to prevent damage to the photomask by cleaning the photomask with a cleaning device.

상기 목적을 달성하기 위한 기술적 사상으로서, 포토마스크를 세정하는 세정기에 구성되되, 상기 세정기의 내부 양측에 각각 구성되어 인입되는 포토마스크의 승하강이 이루어질 수 있도록 하며 세정 시 상기 포토마스크를 고정하는 장치에 있어서, 양측에 상측 길이방향으로 구성되는 지지봉(110)과, 상기 지지봉(110)에 양측이 끼움 되어 상, 하부로 유동하는 승하강판(120)으로 구성되는 상하승강부(100)와, 상기 승하강판(120)의 상측에 구성되어 좌, 우로 유동하는 유동판(210)과, 상기 유동판(210)의 상측에 구성되되, 일측에 다수개의 진공홀(222)이 구성되며 상기 포토마스크(p)의 하부를 지지하며 고정하는 진공판(220)으로 구성되는 유동부(200)와, 상기 진공판(220)의 진공홀(222)과 연결되는 흡착하는 진공부(300)로 구성되어, 상기 진공판(220)에 안착되어 세정장치(500)에 의해 세정 시 포토마스크(p)의 하부를 진공 흡착하여 고정시켜 상기 포토마스크(p)의 들림 현상을 방지하는 것을 기술적 특징으로 한다.
In order to accomplish the above object, the present invention provides a cleaning apparatus for cleaning a photomask, comprising: a cleaning unit for cleaning the photomask, A vertical lift unit 100 composed of a support rod 110 formed on both sides in an upper longitudinal direction and a vertical lift plate 120 having both sides thereof inserted into the support bar 110 and flowing upward and downward, A flow plate 210 which is formed on the upper side of the lifting plate 120 and flows left and right and a plurality of vacuum holes 222 which are formed on the upper side of the flow plate 210, p and a vacuum plate 220 for supporting and fixing the lower part of the vacuum plate 220 and a vacuum 300 for absorbing the vacuum to be connected to the vacuum hole 222 of the vacuum plate 220, And is mounted on the vacuum plate 220, Is secured by vacuum suction to the bottom of the photomask (p) when cleaned by the value 500, and as the technical feature of preventing the phenomenon possession of the photo mask (p).

본 발명에 포토마스크 세정기용 진공고정장치에 의하면, 투입된 포토마스크의 모델 즉, 형태에 전혀 상관없이 상, 하, 좌, 우로 유동하도록 하되, 좌, 우 유동이 다단으로 한 번 더 유동할 수 있게 되고, 상기 포토마스크의 하부를 고정하되, 진공 흡착하도록 하여 세정장치에 의해 포토마스크를 세정 시 불량률을 최소화하면서도 들림 현상을 억제하여 파손을 방지 할 수 있어 경제적 효율성을 높을 뿐만 아니라, 한 번의 작업으로 작업시간을 단축시킬 수 있는 유용한 발명인 것이다.
According to the vacuum fastening apparatus for a photomask cleaner according to the present invention, it is possible to make a flow of upward, downward, leftward and rightward flows irrespective of the model or shape of a loaded photomask, The lower part of the photomask is fixed, and the photomask is vacuum-adsorbed by the cleaning unit. The photomask can be cleaned while minimizing the defective rate while preventing the damage, thereby improving the economic efficiency. It is a useful invention that can shorten the working time.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 정면도, 확대도
도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 평면도
도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 측면도
도 4는 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 작동상태도
도 5는 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 작동상태도
도 6은 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 사용상태도
도 7은 본 발명의 바람직한 실시 예를 나타내는 사용상태도
도 8은 본 발명의 다른 실시 예를 나타내는 도면1 is a front view showing a preferred embodiment of the present invention,
2 is a plan view showing a preferred embodiment of the present invention.
3 is a side view showing a preferred embodiment of the present invention
4 is an operational state diagram illustrating a preferred embodiment of the present invention.
Figure 5 is an operating state diagram illustrating a preferred embodiment of the present invention.
Fig. 6 is a diagram showing the state of use showing the preferred embodiment of the present invention
Fig. 7 is a diagram showing the state of use showing the preferred embodiment of the present invention
8 is a view showing another embodiment of the present invention

본 발명은 포토마스크 세정기용 진공고정장치에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 상, 하, 좌, 우로 유동되도록 구성되어 인입된 포토마스크(p)의 하부를 지지하면서 세정장치(500)에 의해 세정 시 상기 포토마스크(p)의 하부를 진공으로 흡착하여 상기 포토마스크(p)의 들림 현상으로 인해 파손되는 것을 방지 할 수 있는 포토마스크 세정기용 진공고정장치를 제공한다.
The present invention relates to a vacuum fixture for a photomask cleaner, and more particularly to a vacuum fixture for a photomask cleaner, which is configured to flow upward, downward, leftward and rightward, Provided is a vacuum fixture for a photomask cleaner that can absorb a lower portion of a photomask (p) by vacuum to prevent damage due to lifting of the photomask (p).

첨부되는 도면과 관련하여 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도 1 내지 8을 참고로 하여 설명하면 다음과 같다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects, features and advantages of the present invention will be more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG.

우선 본 발명은 설명하기에 앞서 그 구성을 살펴보면, 도 1 내지 3에 도시된 바와 같이 포토마스크를 세정하는 세정기에 구성되되, 상기 세정기의 내부 양측에 각각 구성되어 인입되는 포토마스크의 승하강이 이루어질 수 있도록 하며 세정 시 상기 포토마스크를 고정하는 장치에 있어서, 양측에 상측 길이방향으로 구성되는 지지봉(110)과, 상기 지지봉(110)에 양측이 끼움 되어 상, 하부로 유동하는 승하강판(120)으로 구성되는 상하승강부(100)와, 상기 승하강판(120)의 상측에 구성되어 좌, 우로 유동하는 유동판(210)과, 상기 유동판(210)의 상측에 구성되되, 일측에 다수개의 진공홀(222)이 구성되며 상기 포토마스크(p)의 하부를 지지하며 고정하는 진공판(220)로 구성되는 유동부(200)와, 상기 진공판(220)의 진공홀(222)과 연결되는 흡착하는 진공부(300)로 구성되어, 상기 진공판(220)에 안착되어 세정장치(500)에 의해 세정 시 포토마스크(p)의 하부를 진공 흡착하여 고정시켜 상기 포토마스크(p)의 들림 현상을 방지할 수 있도록 구성된다.
1 to 3, the photomask according to the present invention is constituted as a scrubber for cleaning a photomask, the photomask being formed on both sides of the scrubber, (120) having both sides thereof inserted into the support rods (110) and flowing upward and downward. The apparatus for fixing a photomask according to claim 1, wherein the support rods (110) A flow plate 210 which is disposed on the upper side of the up / down steel plate 120 and flows to the left and right, and a plurality of flow plates 210 disposed on the upper side of the flow plate 210, A moving part 200 constituted of a vacuum hole 222 and composed of a vacuum plate 220 for supporting and fixing the lower part of the photomask p and a connection part 220 connected to the vacuum hole 222 of the vacuum plate 220 (300) for adsorbing the adsorbing material, The photomask p is mounted on the vacuum plate 220 so that the lower portion of the photomask p is vacuum-sucked and fixed when the photomask p is cleaned by the cleaning device 500 to prevent lifting of the photomask p.

상기 상하승강부(100)는 도 3 내지 4에 도시된 바와 같이 양측에 상측 길이방향으로 지지봉(110)이 각각 구성되고, 상기 지지봉(110)에 양측이 끼움 되어 상, 하부로 유동하는 승하강판(120)으로 구성된다. As shown in FIGS. 3 to 4, the upper and lower lifting unit 100 includes support rods 110 on both sides in the lengthwise direction of the upper side, and both sides of the support rods 110 are inserted, (120).

상기 상하승강부(100)를 더욱 자세하게 설명하면, 각각의 상기 지지봉(110)과 상호 대응하는 방향으로 일정간격 이격되게 상, 하 길이방향으로 설치되는 안내레일(121)과, 상기 지지봉(110)에 끼움되는 각각 끼움부재(130)와, 상기 승하강판(120)의 양측 상부에 구성되되 상기 끼움부재(130)와 연결 구성되는 결합부재(122)로 구성된다.The guide rails 121 are installed upward and downward at predetermined intervals in a direction corresponding to each of the support rods 110, And an engaging member 122 formed on both sides of the up-and-down lifting plate 120 and connected to the engaging member 130. As shown in FIG.

즉, 상기 안내레일(121)은 상하승강부(100)의 승하강판(120)이 상기 안내레일(121)을 타며 상, 하로 유동할 수 있도록 구성되는 것이고, 상기 끼움부재(130)는 상기 지지봉(110)에 끼움 되어 승하강판(120)이 흔들림 없이 고정될 수 있도록 하기 위한 구성이며 상기 결합부재(122)는 상기 승하간판(120)의 양측과 끼움부재(130)를 상호 연결하는 역할을 하게 되는 것이다.That is, the guide rails 121 are configured so that the up-and-down lifting plate 120 of the up-down lifting unit 100 can move up and down while riding on the guide rails 121, The upper and lower steel plates 120 and 120 may be fixed to the upper and lower plates 110 and 120. The upper and lower plates 120 and 120 may be fixed to each other. .

상기한 바와 같이 상하승강부(100)는 안내레일(121)을 타며 상, 하로 유동하되 끼움부재(130)에 의해 흔들림 없이 용이하게 작동가능하게 되는 것이다.As described above, the upper and lower lifting and lowering part 100 is moved upward and downward while riding on the guide rail 121, and can be easily operated without shaking by the shim 130.

도 2 또는 5에 도시된 바와 같이 구성된 유동부(200)는 본 발명의 핵심 구성요소로서, 상기 승하강판(120)의 상측에 구성되어 좌, 우로 유동하는 유동판(210)과, 상기 유동판(210)의 상측에 구성되되, 일측에 다수개의 진공홀(222)이 구성되며 상기 포토마스크(p)의 하부를 지지하며 고정하는 진공판(220)으로 구성된다.The moving unit 200 constructed as shown in FIG. 2 or 5 is a core component of the present invention. The moving unit 200 is formed on the upper side of the uplifting plate 120 and flows left and right, And a vacuum plate 220 which is formed on the upper side of the photomask 210 and has a plurality of vacuum holes 222 at one side thereof and supports and fixes the lower portion of the photomask p.

상기 유동판(210)과 진공판(220)은 좌, 우로 각각 유동가능하게 구성되는데, 도 5에 도시된 바와 같이 승하강판(120)과 유동판(210)의 사이에 구성되는 제1레일(201)이 구성되고, 상기 유동판(210)과 진공판(220)의 사이에 구성되는 제2레일(203)이 구성되어, 상기 유동판(210)과 진공판(220)이 상기 제1레일(201)과 제2레일(203)에 각각 안착 구성되어 각각 유동될 수 있도록 구성된다.The flow plate 210 and the vacuum plate 220 are configured to flow left and right respectively. As shown in FIG. 5, a first rail (not shown) formed between the lifting plate 120 and the flow plate 210 And a second rail 203 constituted between the flow plate 210 and the vacuum plate 220. The flow plate 210 and the vacuum plate 220 are connected to the first rail 201, (201) and the second rail (203), respectively.

이러한 상기 유동판(210)과 진공판(220)이 각각 유동가능하게 구성됨으로써, 세정기의 내부에 투입되는 포토마스크(p)의 형태에 따라 선택적으로 제어하여 유동시킬 수 있는 장점이 있는 것이다.Since the flow plate 210 and the vacuum plate 220 are configured to be flowable, the flow plate 210 and the vacuum plate 220 can be selectively controlled and flowed according to the shape of the photomask p that is injected into the washer.

종래에 있어서, 통상의 포토마스크를 고정하는 장치를 보면 세정하려는 포토마스크(p)에 맞는 형태로 구성하여 작업을 진행하였으나, 형태 및 크기가 변형될 경우 고가의 장치를 별도로 구성하는 등 작업에 있어 어려움이 많았었다.Conventionally, an apparatus for fixing a conventional photomask has been configured to have a shape suitable for the photomask (p) to be cleaned. However, if the shape and size of the apparatus are changed, There were many difficulties.

그러나 본 발명의 진공고정장치(10)로 인해 어떠한 형태 및 크기의 포토마스크(p)가 투입된다 하더라도 용이하게 위치를 가변시킬 수 있도록 구성되어 별도의 장치를 구성할 필요가 없어 경제적 효율성을 높일 수 있을 뿐만 아니라, 작업시간을 단축시킬 수 있게 되는 것이다.However, since the vacuum fixing apparatus 10 of the present invention is constructed so that the position can be easily changed regardless of the shape and size of the photomask p, it is not necessary to construct a separate apparatus, In addition, it is possible to shorten the working time.

또한, 본 발명에서 상기 제1레일(201)과 제2레일(203)로 구성되는 것으로 설명하고 도시하였지만, 필요에 따라 통상의 슬라이딩 가능한 구성을 적용하여 구성할 수도 있는 등 본 발명의 실시 예로써 한정짓지 아니한다.
Although the first rail 201 and the second rail 203 are illustrated and described in the present invention, the first rail 201 and the second rail 203 may be constructed by applying a general slidable structure according to need, Do not limit.

또한, 상기 진공판(220)은 포토마스크(p)를 안착시킨 다음 세정장치를 이용하여 상기 포토마스크를 세정하게 되는데 이때, 포토마스크(p)의 하부를 지지하면서도 진공흡착할 수 있는 역할을 하게 된다. 상기 진공판(220)은 일측 끝부에 진공홀(222)이 구성되는 진공부재(221)가 구성되되, 선택적으로 상기 진공판(220)과 결합 및 분리가 가능하도록 구성된다.In addition, the vacuum plate 220 is provided with a photomask p, and then the photomask is cleaned using a cleaning device. At this time, the photomask p supports a lower portion of the photomask p, do. The vacuum plate 220 includes a vacuum member 221 having a vacuum hole 222 at one end thereof and is configured to be selectively engaged with and separated from the vacuum plate 220.

상기 진공부재(221)가 선택적으로 결합 및 분리가 가능하게 되어 필요에 따라 용이하게 상기 진공부재(221)만을 교체하여 사용할 수 있는 장점이 있어 경제적 효율성을 높일 수 있게 되는 것이다.The vacuum member 221 can be selectively engaged and disengaged, and the vacuum member 221 can be easily replaced with the vacuum member 221 as needed, thereby improving the economic efficiency.

여기서, 상기 진공판(220)의 진공홀(222)이 진공흡착이 가능하도록 상기 진공홀(222)과 연결 구성되는 진공부(300)가 더 포함되어 구성된다.The vacuum plate 220 further includes a vacuum 300 connected to the vacuum hole 222 so that the vacuum hole 222 can be vacuum-sucked.

상기 진공부(300)는 상기 진공부재(221)로 포토마스크(p)가 안착이 되면 작동하여 상기 포토마스크(p)가 진공흡착이 될 수 있게 구성되며, 작업자가 선택적으로 세정장치(500)에 의해 세정 시 진공흡착을 할 수도 있으며, 진공부재(221)에 안착을 함과 동시에 진공흡착을 할 수 있도록 할 수도 있다.
The vacuum chamber 300 is operated when the photomask p is placed on the vacuum member 221 so that the photomask p can be vacuum adsorbed. Or vacuum adsorption may be performed at the same time that the vacuum member 221 is placed on the vacuum member 221.

여기서, 상기 진공판(220)에는 상기 진공부재(221)와 진공홀(222)은 적어도 하나 이상 다수개 구성될 수 있으며, 상기 진공홀(222)은 홈형태로 다수개로 형성할 수 있으며, 일측 길이방향으로 길게 구성될 수 있다. 예를 들면, 도 8에 도시된 바와 같이 상기 진공부재(221)를 진공판(220)의 일측 길이방향으로 길게 일체형으로 형성한 후, 상기 진공홀(222) 또한 상기 진공부재(221)의 일측 길이방향으로 길게 형성하여 포토마스크(p)의 하부를 지지하는 부분의 전체를 진공흡착 할 수 있도록 하여 흡착력을 높일 수가 있고, 다른 실시 예로써 상기 진공부재(221)를 부분적으로 구성한 후, 상기 진공부재(221)의 일측에 다수의 홈을 형성할 수도 있다.
Here, the vacuum plate 220 may include at least one vacuum member 221 and a plurality of vacuum holes 222, and the vacuum holes 222 may be formed in a plurality of grooves, And may be configured to be long in the longitudinal direction. 8, the vacuum member 221 may be integrally formed in the longitudinal direction of one side of the vacuum plate 220, and then the vacuum hole 222 may be formed at one side of the vacuum member 221 It is possible to increase the attraction force by making the entire portion of the portion supporting the lower portion of the photomask p vacuum-absorbed by forming the vacuum member 221 in the longitudinal direction. In another embodiment, after the vacuum member 221 is partially constituted, A plurality of grooves may be formed on one side of the member 221.

본 발명에서는 상기 진공부재(221)가 부분적으로 결합 및 교체할 수 있도록 하였으며 각각의 상기 진공부재(221)의 상부 일측 길이방향으로 길게 형성된 진공홀(222)이 형성되도록 도시하였으며, 본 발명의 실시 예로써 한정짓지 아니한다.In the present invention, the vacuum member 221 can be partly coupled and replaced, and the vacuum hole 222 is formed to be long in the longitudinal direction of the upper portion of each of the vacuum members 221. It is not limited to an example.

이러한 상기 진공판(220)의 구성으로 인하여 앞서 설명한 바와 같이 포토마스크(p)의 하부를 지지하는 진공부재(221)와 상기 진공부재(221)에 구성된 진공홀(222)이 진공흡착을 하여 견고히 고정된 상태에서 세정장치에 의해 상측 표면을 세정할 수 있게 되어 세정 시 상기 포토마스크(p)의 들림 현상을 억제하여 그로 인해 작업의 불량률을 최소화 하면서도 파손을 방지 할 수 있는 것이다.
Due to the structure of the vacuum plate 220, as described above, the vacuum member 221 supporting the lower portion of the photomask p and the vacuum hole 222 formed in the vacuum member 221 are vacuum- The upper surface of the photomask p can be cleaned by the cleaning device in a fixed state, thereby suppressing lifting of the photomask p during cleaning, thereby minimizing the failure rate of the operation and preventing breakage.

상기한 바와 같이 상, 하로 유동하는 상하승강부(100)와 좌, 우로 유동 가능한 유동부(200)가 구성되어 투입되는 포토마스크(p)의 형태 및 크기에 따라 선택적으로 유동시킬 수 있게 되는 것이다.As described above, the up-and-down lifting part 100 that flows upward and downward and the moving part 200 that can move leftward and rightward can be configured to selectively flow according to the shape and size of the photomask p to be charged .

또한, 본 발명의 진공고정장치(10)는 상하승강부(100)와 유동부(200)는 고가의 포토마스크(p)의 하부를 지지하면서도 진공 흡착하여 고정하기 때문에 유동 시 흔들림이 없어야 함으로써 미세한 유동이 가능하도록 서브모터(m)에 의해 각각 유동되도록 구성된다.In addition, since the upper and lower lifting unit 100 and the moving unit 200 of the vacuum fixture 10 of the present invention support the lower portion of the expensive photomask p while being vacuum-absorbed and fixed, (M) so as to be able to flow.

도시된 바와 같이 서브모터(m)는 상측과 하측에 각각 구성되어 상하로 유동할 때 2개의 서브모터(m)에 의해 작동하며 전, 후로 유동할 때 또한 각각 서브모터(m)를 이용하여 미세한 동작을 취하며 오차 없이 작동 가능하도록 구성된 것이다.
As shown in the figure, the sub motor m is constituted by the upper and lower parts and is operated by the two sub motors m when flowing upward and downward. When the sub motor m flows forward and backward, And is configured to be able to operate without error.

상기한 본 발명의 포토마스크 세정기용 진공고정장치의 작동을 설명하면 다음과 같다.The operation of the vacuum fixture for the photomask cleaner of the present invention will be described as follows.

최초, 작업자에 의해 투입된 포토마스크(p)를 도 6에 도시된 바와 같이 고정부(600)에 안착되고, 상기 고정부(600)에 안착된 포토마스크(p)를 감싸고 있는 커버(미도시)를 흡착부(400)가 상부에서 내려와 상기 커버를 분리시킨 후, 포토마스크(p)의 양측 방향에서 제1레일(201)을 타며 유동판(210)이 상호 대응하는 방향으로 유동하게 된다. 이때, 포토마스크(p)의 형태 및 크기에 따라 제2레일(203)을 타며 진공판(220)이 더 유동하게 되며 최종적으로 진공부재(221)가 포토마스크(p)의 하부를 지지하게 되며, 상기 상하승강부(100)에 의해 상부로 이격되게 되는데 이때, 진공부(300)를 작동시켜 진공홀(222)을 통해 포토마스크(p)의 하부를 진공흡착 할 수도 있으며 도 7에 도시된 바와 같이 상기 포토마스크(p)를 세정장치(500)에 근접되게 위치한 후에 진공부(300)를 제어하여 진공흡착 할 수도 있다.6, a photomask (p) charged by a worker is placed on a cover (not shown) which is seated on the fixing portion 600 and which surrounds the photomask p which is seated on the fixing portion 600, The adsorbing part 400 descends from the top and separates the cover and then flows along the first rail 201 in both directions of the photomask p and flows in the direction corresponding to each other. At this time, depending on the shape and size of the photomask p, the vacuum plate 220 is further flowed through the second rails 203, and finally the vacuum member 221 supports the lower portion of the photomask p The upper portion of the photomask p may be vacuum-adsorbed through the vacuum hole 222 by operating the vacuum 300. At this time, The photomask p may be positioned close to the cleaning apparatus 500 and then the vacuum 300 may be controlled to perform vacuum adsorption.

상기 진공부(300)를 작동 시킨 후, 유동할 시에는 견고한 고정력을 확보 하여 흔들림 없이 포토마스크(p)를 고정시킨 상태에서 유동할 수 있게 되어 고가의 포토마스크(p)의 파손을 방지 할 수 있게 되는 것이다.
When the vacuum chamber 300 is operated, a firm fixation force is ensured when the vacuum chamber 300 is operated, so that the photomask p can be moved in a state in which the photomask p is fixed without shaking. Thus, damage to the expensive photomask p can be prevented It will be.

이렇게 세정장치(500)에 근접되게 위치된 후 세정장치(500)에 의해 세정을 하게 되며 상기한 순서의 반대로 세정기가 유동하여 순차적으로 포토마스크(p)를 단시간 안에 세정이 가능하게 되는 것이다.
After the cleaning apparatus 500 is positioned close to the cleaning apparatus 500, the cleaning apparatus 500 cleans the photomask p in a short period of time.

본 발명에 포토마스크 세정기용 진공고정장치에 의하면, 투입된 포토마스크의 모델 즉, 형태에 전혀 상관없이 상, 하, 좌, 우로 유동하도록 하되, 좌, 우 유동이 다단으로 한 번 더 유동할 수 있게 되고, 상기 포토마스크(p)의 하부를 고정하되, 진공 흡착하도록 하여 세정장치(500)에 의해 포토마스크(p)를 세정 시 불량률을 최소화하면서도 들림 현상을 억제하여 파손을 방지 할 수 있어 경제적 효율성을 높을 뿐만 아니라, 한 번의 작업으로 작업시간을 단축시킬 수 있는 유용한 발명인 것이다.
According to the vacuum fastening apparatus for a photomask cleaner according to the present invention, it is possible to make a flow of upward, downward, leftward and rightward flows irrespective of the model or shape of a loaded photomask, The lower part of the photomask p is fixed and vacuum suction is carried out. Thus, when the photomask p is cleaned by the cleaning device 500, the defective rate is minimized while suppressing the lifting phenomenon, And it is a useful invention that can shorten the working time in a single operation.

10 : 진공고정장치
100 : 상하승강부 110 : 지지봉 120 : 승하강판
121 : 안내레일 122 : 결합부재 130 : 끼움부재
200 : 유동부 201 : 제1레일 203 : 제2레일
210 : 유동판 220 : 진공판 221 : 진공부재
222 : 진공홀 300 : 진공부 400 : 흡착부
500 : 세정장치 600 : 고정부 m : 서브모터10: Vacuum fixing device
100: Up and down elevating part 110: Supporting rod 120: Upward descending steel plate
121: guide rail 122: engaging member 130:
200: moving part 201: first rail 203: second rail
210: flow plate 220: vacuum plate 221: vacuum member
222: vacuum hole 300: vacuum chamber 400: suction part
500: Cleaning device 600: Fixed portion m: Servomotor

Claims (7)

포토마스크를 세정하는 세정기에 구성되되, 상기 세정기의 내부 양측에 각각 구성되어 인입되는 포토마스크의 승하강이 이루어질 수 있도록 하며 세정 시 상기 포토마스크를 고정하는 장치에 있어서,
양측에 상측 길이방향으로 구성되는 지지봉(110)과, 상기 지지봉(110)에 양측이 끼움 되어 상, 하부로 유동하는 승하강판(120)으로 구성되는 상하승강부(100);
상기 승하강판(120)의 상측에 구성되어 좌, 우로 유동하는 유동판(210)과, 상기 유동판(210)의 상측에 구성되되, 일측에 다수개의 진공홀(222)이 구성되며 상기 포토마스크(p)의 하부를 지지하며 고정하는 진공판(220)으로 구성되는 유동부(200);
상기 진공판(220)의 진공홀(222)과 연결되는 흡착하는 진공부(300); 로 구성되어,
상기 진공판(220)에 안착되어 세정장치(500)에 의해 세정 시 포토마스크(p)의 하부를 진공 흡착하여 고정시켜 상기 포토마스크(p)의 들림 현상을 방지하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 세정기용 진공고정장치
An apparatus for cleaning a photomask, the apparatus comprising: a cleaning unit for cleaning the photomask, the photomask being installed on both sides of the cleaner,
A vertical support portion 110 formed on both sides of the support shaft 110 in a longitudinal direction thereof, and a vertical lift plate 120 having both sides thereof inserted into the support shaft 110 and flowing upward and downward;
A flow plate 210 which is formed on the upper side of the uplifting steel plate 120 and flows left and right and a plurality of vacuum holes 222 formed on one side of the flow plate 210, (200) composed of a vacuum plate (220) for supporting and fixing the lower part of the pit (p);
A vacuum concentrator 300 connected to the vacuum hole 222 of the vacuum plate 220; Lt; / RTI >
The photomask p is held on the vacuum plate 220 and is vacuum-chucked and fixed by the lower part of the photomask p when the photomask p is cleaned by the cleaning device 500 to prevent lifting of the photomask p. Vacuum Locking Device
제 1항에 있어서,
상기 유동부(200)는 승하강판(120)과 유동판(210)의 사이에 구성되는 제1레일(201)과,
상기 유동판(210)과 진공판(220)의 사이에 구성되는 제2레일(203)이 구성되어,
상기 유동판(210)과 진공판(220)이 상기 제1레일(201)과 제2레일(203)에 각각 안착 구성되어 각각 유동되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 세정기용 진공고정장치
The method according to claim 1,
The moving part 200 includes a first rail 201 formed between the lifting plate 120 and the flow plate 210,
A second rail 203 is formed between the flow plate 210 and the vacuum plate 220,
Wherein the flow plate (210) and the vacuum plate (220) are respectively mounted on the first rail (201) and the second rail (203)
제 1항에 있어서,
상기 진공판(220)은 일측 끝부에 진공홀(222)이 구성되는 진공부재(221)가 구성되되, 선택적으로 상기 진공판(220)과 결합 및 분리가 가능한 것을 특징으로 하는 포토마스크 세정기용 진공고정장치
The method according to claim 1,
Wherein the vacuum plate 220 comprises a vacuum member 221 having a vacuum hole 222 formed at one end thereof and is capable of being selectively engaged with and separated from the vacuum plate 220. [ Fixing device
제 3항에 있어서,
상기 진공부재(221)는 다수개로 구성되는 것을 특징으로 하는 포토마스 세정기용 진공고정장치
The method of claim 3,
Characterized in that the vacuum member (221) is composed of a plurality of vacuum fixtures
제 3항에 있어서,
상기 진공홀(222)은 홈 형태로 다수개로 형성할 수 있으며, 일측 길이방향으로 길게 구성될 수 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크 세정기용 진공고정장치
The method of claim 3,
The vacuum hole (222) may be formed in a plurality of grooves, and may be elongated in one longitudinal direction.
제 1항에 있어서,
상기 상하승강부(100)는,
각각의 상기 지지봉(110)과 상호 대응하는 방향으로 일정간격 이격되게 상, 하 길이방향으로 설치되는 안내레일(121)과,
상기 지지봉(110)에 끼움되는 각각 끼움부재(130)와,
상기 승하강판(120)의 양측 상부에 구성되되 상기 끼움부재(130)와 연결 구성되는 결합부재(122)로 구성되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 세정기용 진공고정장치
The method according to claim 1,
The upper and lower lifting and lowering part (100)
A guide rail 121 installed vertically and horizontally spaced apart from each other in a direction corresponding to each of the support rods 110,
A shim member 130 fitted in the support rod 110,
And a coupling member (122) formed on both sides of the vertical plate (120) and connected to the fitting member (130). The vacuum fixing device for a photomask cleaner
제 1항에 있어서,
상기 진공고정장치(10)는 미세한 위치를 조절할 수 있도록 서브모터(m)로 작동되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 세정기용 진공고정장치

The method according to claim 1,
Characterized in that the vacuum fixing device (10) is operated by a sub motor (m) so as to adjust a fine position.

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JPH0585039U (en) * 1992-04-17 1993-11-16 富士通株式会社 Substrate holder for cleaning
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