KR101432468B1 - Apparatus for inspecting a transparent conductive pattern - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 투명 도전막 패턴의 검사 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 기판에 형성된 투명 도전막 패턴을 촬상하는 투명 도전막 패턴의 검사 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for inspecting a transparent conductive film pattern. More particularly, the present invention relates to an apparatus for inspecting a transparent conductive film pattern for picking up a transparent conductive film pattern formed on a substrate.
터치 스크린 패널(TSP)은 휴대전화, 태블릿, 개인용 컴퓨터 등에 적용되어 사용자가 터치 방식으로 정보를 입력할 수 있다. 상기 터치 스크린 패널은 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 순차적으로 구비된 투명 도전막 패턴, 접착 필름(OCA), 보호 필름, 강화 유리 등을 포함할 수 있다. 상기 터치 스크린 패널을 제조할 때 각각의 단위 공정 중 상기 투명 도전막 패턴을 검사할 필요가 있다. 상기 투명 도전막 패턴은 일반적으로 인듐 주석 산화물(indium tin oxide)로 이루어질 수 있다.The touch screen panel (TSP) is applied to mobile phones, tablets, personal computers and the like, so that the user can input information by a touch method. The touch screen panel may include a transparent substrate, a transparent conductive film pattern sequentially formed on the transparent substrate, an adhesive film (OCA), a protective film, a tempered glass, or the like. It is necessary to inspect the transparent conductive film pattern in each unit process at the time of manufacturing the touch screen panel. The transparent conductive film pattern may be generally formed of indium tin oxide.
하지만, 일반적인 가시광 영역의 빛을 이용한 ITO 패턴 검사 장치는 투명 기판, 보호 필름, 접착 필름 등의 두께 및 재질 성분에 의한 빛의 산란, 굴절, 흡수 등과 같은 광학적 특성에 의해 투명 도전막 패턴을 검사하기는 데 어려움이 있다. However, the ITO pattern inspecting apparatus using light in a general visible light region inspects the transparent conductive film pattern by optical properties such as light scattering, refraction, absorption, etc. due to thickness and material components of a transparent substrate, a protective film, There is a difficulty in.
따라서, 상기 투명 도전막 패턴을 촬상하여 상기 투명 도전막 패턴의 양불 여부를 판정할 수 있는 투명 도전막 패턴의 검사 장치가 요구된다.Therefore, there is a demand for a device for inspecting a transparent conductive film pattern capable of determining whether the transparent conductive film pattern is imaged by imaging the transparent conductive film pattern.
본 발명은 투명 기판 상에 형성된 투명 도전막 패턴를 촬상할 수 있는 투명 도전막 패턴의 검사 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a device for inspecting a transparent conductive film pattern capable of picking up a transparent conductive film pattern formed on a transparent substrate.
본 발명의 일 실시예에 따른 투명 도전막 패턴의 검사 장치는 투명 도전막 패턴을 포함하는 피검사체를 지지하는 지지 유닛, 상기 지지 유닛의 상부에 배치되어 상기 피검사체를 촬상하는 촬상 유닛, 상기 지지 유닛에 인접하게 배치되며, 상기 투명 도전막 패턴 투과하도록 자외선 영역의 광 중 일부를 선택적으로 필터링하여 특정 파장을 갖는 반사광을 상기 피검사체에 제공하는 반사 조명 유닛을 포함한다.An apparatus for inspecting a transparent conductive film pattern according to an embodiment of the present invention includes a support unit for supporting an object to be inspected including a transparent conductive film pattern, an imaging unit disposed on the support unit for imaging the object, And a reflective illumination unit arranged adjacent to the unit for selectively filtering a part of the light in the ultraviolet region so as to transmit the transparent conductive film pattern and providing reflected light having a specific wavelength to the subject.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 반사광은 350 내지 420nm의 파장을 갖는다.In one embodiment of the present invention, the reflected light has a wavelength of 350 to 420 nm.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 반사 조명 유닛은 광을 발생하는 제1 광원, 상기 제1 광원으로부터 발생된 광으로부터 자외선 중 특정 파장의 자외선을 선택적으로 각각 필터링하는 복수의 필터들로 구비된 밴드 패스 필터부 및 상기 피검사체과의 관계에서 상기 필터로부터 필터링된 광의 초점을 조절하도록 구비된 자외선 집광 렌즈를 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the reflective illumination unit may include a first light source for generating light, a plurality of filters for selectively filtering ultraviolet rays of a specific wavelength among ultraviolet rays from the light emitted from the first light source, A band pass filter unit and an ultraviolet condensing lens adapted to adjust a focus of light filtered from the filter in relation to the subject.
여기서, 상기 밴드 패스 필터부는 상기 필터들을 회전시켜 상기 필터들 중 하나를 선택할 수 있도록 구동력을 제공하는 구동원을 더 포함할 수 있다.The band pass filter unit may further include a driving source for providing a driving force to rotate the filters to select one of the filters.
또한, 상기 자외선 집광 렌즈는 반사방지용 코팅층을 포함할 수 있다.In addition, the ultraviolet condensing lens may include an antireflective coating layer.
한편, 상기 반사 조명 유닛은 상기 촬상 유닛 및 상기 피검사체 사이에 위치하여 상기 반사광을 상기 피검사체로 향하하도록 반사시키는 하프 미러를 더 포함할 수 있다.The reflective illumination unit may further include a half mirror positioned between the image sensing unit and the subject to reflect the reflected light toward the subject.
본 발명의 일 실시예에 따른 투명 도전막 패턴의 검사 장치는, 상기 지지 유닛의 하부에 배치되며, 상기 투명 도전막 패턴에 대하여 선택적으로 반사하도록 자외선 파장을 갖는 투과광을 발생하는 투과 조명 유닛을 더 포함할 수 있다.The apparatus for inspecting a transparent conductive film pattern according to an embodiment of the present invention may further include a transparent illumination unit disposed at a lower portion of the support unit and generating transmission light having an ultraviolet wavelength so as to selectively reflect the transparent conductive film pattern .
본 발명의 실시예들에 따른 투명 도전막 패턴의 검사 장치는 원하는 파장대를 갖는 자외선을 필터링할 수 있는 반사 조명 유닛을 구비함으로써 상기 자외선이 기판을 투과하고 상기 투명 도전막 패턴에서 흡수됨에 따라 중층 구조를 갖는 터치 스크린 패널과 같은 피검사체에 대한 우수한 해상도를 갖는 영상이 획득될 수 있다. 또한 상기 반사 조명 유닛이 밴드 패스 필터부를 구비함으로써 피검사체를 이루는 구조 및 물질에 따라 상기 자외선의 파장 영역이 선택되어 투명 도전막 패턴에 대한 영상이 선명하게 구현될 수 있다. The apparatus for inspecting a transparent conductive film pattern according to embodiments of the present invention includes a reflective illumination unit capable of filtering ultraviolet rays having a desired wavelength band so that ultraviolet rays are transmitted through the substrate and absorbed in the transparent conductive film pattern, An image having excellent resolution for an object to be inspected such as a touch screen panel having an image can be obtained. Also, since the reflection illumination unit includes the bandpass filter unit, the wavelength region of the ultraviolet light is selected according to the structure and material of the inspection object, so that the image of the transparent conductive film pattern can be clearly realized.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 도전막 패턴의 검사 장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 2는 도1의 투명 도전막 촬상 장치를 이용하여 기판 상에 형성된 투명 도전막을 촬상한 사진이다.
도 3는 일반적인 광학 현미경을 이용한 촬상 장치를 이용하여 기판 상에 형성된 투명 도전막을 촬상한 사진이다.FIG. 1 is a block diagram for explaining an apparatus for inspecting a transparent conductive film pattern according to an embodiment of the present invention.
2 is a photograph of a transparent conductive film formed on a substrate using the transparent conductive film imaging device of FIG.
3 is a photograph of a transparent conductive film formed on a substrate using an imaging device using a general optical microscope.
이하, 본 발명은 본 발명의 실시예들을 보여주는 첨부 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명된다. 그러나, 본 발명은 하기에서 설명되는 실시예들에 한정된 바와 같이 구성되어야만 하는 것은 아니며 이와 다른 여러 가지 형태로 구체화될 수 있을 것이다. 하기의 실시예들은 본 발명이 온전히 완성될 수 있도록 하기 위하여 제공된다기보다는 본 발명의 기술 분야에서 숙련된 당업자들에게 본 발명의 범위를 충분히 전달하기 위하여 제공된다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will be described in more detail below with reference to the accompanying drawings showing embodiments of the invention. However, the present invention should not be construed as limited to the embodiments described below, but may be embodied in various other forms. The following examples are provided so that those skilled in the art can fully understand the scope of the present invention, rather than being provided so as to enable the present invention to be fully completed.
하나의 요소가 다른 하나의 요소 또는 층 상에 배치되는 또는 연결되는 것으로서 설명되는 경우 상기 요소는 상기 다른 하나의 요소 상에 직접적으로 배치되거나 연결될 수도 있으며, 다른 요소들 또는 층들이 이들 사이에 게재될 수도 있다. 이와 다르게, 하나의 요소가 다른 하나의 요소 상에 직접적으로 배치되거나 연결되는 것으로서 설명되는 경우, 그들 사이에는 또 다른 요소가 있을 수 없다. 다양한 요소들, 조성들, 영역들, 층들 및/또는 부분들과 같은 다양한 항목들을 설명하기 위하여 제1, 제2, 제3 등의 용어들이 사용될 수 있으나, 상기 항목들은 이들 용어들에 의하여 한정되지는 않을 것이다.When an element is described as being placed on or connected to another element or layer, the element may be directly disposed or connected to the other element, and other elements or layers may be placed therebetween It is possible. Alternatively, if one element is described as being placed directly on or connected to another element, there can be no other element between them. The terms first, second, third, etc. may be used to describe various items such as various elements, compositions, regions, layers and / or portions, but the items are not limited by these terms .
하기에서 사용된 전문 용어는 단지 특정 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 사용되는 것이며, 본 발명을 한정하기 위한 것은 아니다. 또한, 달리 한정되지 않는 이상, 기술 및 과학 용어들을 포함하는 모든 용어들은 본 발명의 기술 분야에서 통상적인 지식을 갖는 당업자에게 이해될 수 있는 동일한 의미를 갖는다. 통상적인 사전들에서 한정되는 것들과 같은 상기 용어들은 관련 기술과 본 발명의 설명의 문맥에서 그들의 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석될 것이며, 명확히 한정되지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 외형적인 직감으로 해석되지는 않을 것이다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Furthermore, all terms including technical and scientific terms have the same meaning as will be understood by those skilled in the art having ordinary skill in the art, unless otherwise specified. These terms, such as those defined in conventional dictionaries, shall be construed to have meanings consistent with their meanings in the context of the related art and the description of the present invention, and are to be interpreted as being ideally or externally grossly intuitive It will not be interpreted.
본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들의 개략적인 도해들인 단면 도해들을 참조하여 설명된다. 이에 따라, 상기 도해들의 형상들로부터의 변화들, 예를 들면, 제조 방법들 및/또는 허용 오차들의 변화들은 예상될 수 있는 것들이다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도해로서 설명된 영역들의 특정 형상들에 한정된 바대로 설명되는 것은 아니라 형상들에서의 편차들을 포함하는 것이며, 도면들에 설명된 영역들은 전적으로 개략적인 것이며 이들의 형상들은 영역의 정확한 형상을 설명하기 위한 것이 아니며 또한 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것도 아니다.Embodiments of the present invention are described with reference to cross-sectional illustrations that are schematic illustrations of ideal embodiments of the present invention. Accordingly, changes from the shapes of the illustrations, such as changes in manufacturing methods and / or tolerances, are those that can be expected. Accordingly, it is to be understood that the embodiments of the present invention are not to be construed as limited to the specific shapes of the areas illustrated by way of illustration, but rather to include deviations in shapes, the areas described in the drawings being entirely schematic, It is not intended to describe the exact shape of the area nor is it intended to limit the scope of the invention.
이하에서는 본 발명에 의한 바람직한 실시예를 첨부도면을 기준으로 하여, 상세하게 설명한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 도전막 패턴의 검사 장치를 설명하기 위한 구성도이다.FIG. 1 is a block diagram for explaining an apparatus for inspecting a transparent conductive film pattern according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 도전막 패턴의 검사 장치(100)는 투명 기판, 투명 도전막 패턴, 접착 필름(OCA 필름), 보호 필름, 강화 유리 등이 순차적으로 적층된 피검사체를 촬상할 수 있다. 상기 기판은 예를 들면, PET 물질로 이루어지며, 상기 투명 도전막 패턴은 ITO 물질로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 1, an
상기 투명 도전막 패턴의 검사 장치(100)는 지지 유닛(110), 촬상 유닛(120) 및 반사 조명 유닛(130)을 포함한다.The transparent conductive film
상기 지지 유닛(110)은 상기 피검사체(10)를 지지한다. 상기 지지 유닛(110)은 상기 피검사체(10)를 지지할 수 있도록 투명 플레이트(111)를 포함할 수 있다. 상기 투명 플레이트(111)는 그 상부에 평탄면을 가짐으로써 상기 피검사체(10)를 균일하게 지지할 수 있다.The support unit (110) supports the subject (10). The
상기 촬상 유닛(120)은 상기 지지 유닛(110)의 상부에 배치된다. 이로써 상기 촬상 유닛(120)은 상기 피검사체(10)의 상부에 배치될 수 있다. 상기 촬상 유닛(120)은 상기 피검사체(10)를 촬상하여 촬상된 이미지를 이용하여 상기 피검사체(10)의 결함 여부를 확인하고 분석할 수 있다. The
상기 촬상 유닛(120)은 촬상 소자(121, 123), 집광 렌즈(125)를 포함할 수 있다. 상기 촬상 소자는 CCD 카메라(121) 및 CCD 어뎁터(123)를 포함할 수 있다. 상기 집광 렌즈(125)는 상하로 구동함으로써 초점의 평행광을 집점하여 촬상면을 형성하고 상기 CCD 카메라(121)에 영상을 표시하게 한다. The
상기 CCD 어뎁터(123)는 촬상 이미지를 상기 CCD 카메라(121)의 촬상면에 초점을 맞출 수 있도록 구비된다. 상기 CCD 카메라(121)는 상기 CCD 어뎁터(123)로부터 얻어진 영상을 컴퓨터 또는 모니터에 표시할 수 있도록 구비된다.The
따라서, 상기 촬상 유닛(120)은 상기 반사 조명 유닛(130)으로부터 제공된 특정 파장의 자외선을 이용하여 상기 피검사체(10)를 촬상함으로써, 상기 피검사체(10)에 형성된 투명 도전막 패턴의 결함 여부를 확인할 수 있다. 이에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다.Therefore, the
상기 반사 조명 유닛(130)은 상기 지지 유닛(110)에 인접하게 배치된다. 예를 들면, 상기 반사 조명 유닛(130)은 상기 지지 유닛(10)의 일측에 배치된다. The
상기 반사 조명 유닛(130)은 제1 광원(131), 밴드 패스 필터부(133) 및 자외선 집광 렌즈(135)를 포함할 수 있다. The
상기 제1 광원(131)은 광을 발생한다. 상기 제1 광원(131)은, 예를 들면 제논 램프 또는 중수소 램프를 포함할 수 있다.The
상기 밴드 패스 필터부(133)는 상기 제1 광원(131)으로부터 발생된 광으로부터 자외선 중 특정 파장의 자외선을 선택적으로 각각 필터링하는 복수의 필터들을 포함한다. 상기 밴드 패스 필터부(133)는 상기 제1 광원(131)으로부터 발생된 광 중 자외선, 특히 350nm부터 420nm의 자외선 영역의 광을 필터링할 수 있다. The
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 밴드 패스 필터부(133)는 복수의 필터들을 포함할 수 있다. 상기 밴드 패스 필터부(133)는, 예를 들면, 10nm의 밴드폭을 순차적으로 갖는 복수의 필터들을 포함한다. 상기 필터들은 자외선 영역대인 350nm 내지 360nm로 필터링하는 제1 필터, 360nm 내지 370nm로 필터링하는 제2 필터, 370nm 내지 380nm로 필터링하는 제3 필터, 380nm 내지 390nm로 필터링하는 제4 필터, 400nm 내지 410nm로 필터링하는 제5 필터 및 410nm 내지 420nm로 필터링하는 제6 필터를 포함할 수 있다. 상기 밴드 패스 필터부(133)에 포함된 제1 내지 제6 필터들을 회전함으로써 상기 제1 내지 제6 필터들 중 선택된 필터는 원하는 파장의 자외선을 선택적으로 필터링할 수 있다. 이와 다르게 상기 필터를 직선 운동시켜 상기 제1 광원으로부터 발생된 광 중 해당 파장의 자외선이 선택될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the
상기 해당 파장의 자외선이 상기 피검사체(10)에 조사될 경우, 상기 자외선은 우수한 투과 및 흡수 현상을 가짐에 따라 상기 기판을 투과하고 상기 투명 도전막 패턴에서 흡수됨에 따라 상기 우수한 해상도를 갖는 영상이 획득될 수 있다. When ultraviolet rays of the corresponding wavelength are irradiated onto the
또한 상기 피검사체(10)를 이루는 구조 및 물질에 따라 상기 자외선의 파장 영역이 선택됨으로써 원하는 투명 도전막 패턴에 대한 영상이 구현될 수 있다. 즉, 기판의 물질 및 두께, 투명 도전막 패턴을 이루는 물질 또는 강화 유리 등의 성분에 따라 최적의 자외선의 파장이 달라질 수 있다. 따라서, 상기 밴드 패스 필터부(133)에 포함된 제1 내지 제6 필터들 중 어느 하나가 선택될 수 있도록 구비됨으로써 상기 투명 도전막 패턴에 대한 영상이 최적화될 수 있다.Also, by selecting the wavelength region of the ultraviolet ray according to the structure and material of the
이와 다르게, 상기 밴드 패스 필터부(133)는 예를 들면 모노크로미터를 포함할 수 있다. Alternatively, the
상기 자외선 집광 렌즈(135)는 상기 피검사체(10)과의 관계에서 상기 필터로부터 필터링된 광의 초점을 조절할 수 있다 .이로써 필터링된 특정 파장의 자외선이 상기 피검사체(10)에 효과적으로 조사될 수 있다. 상기 자외선 집광 렌즈(135)는 직선 방향으로 이동함으로써 광의 초점이 조절될 수 있다.The
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 자외선 집광 렌즈(135)는 반사방지용 코팅층(미도시)을 포함할 수 있다. 이로써 상기 자외선 집광 렌즈(135)는 상기 반사광의 투과도를 개선함으로써 보다 많은 광량의 반사광이 상기 피검사체(10)에 제공될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 반사 조명 유닛(130)은 상기 필터들중 어느 하나를 선택할 수 있도록 상기 필터들을 회전시키는 구동력을 제공하는 구동원을 더 포함할 수 있다. 상기 구동원은 예를 들면,모터(미도시) 및 고니오미터(goniometer, 미도시)를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 반사 조명 유닛(130)은 하프 미러(137)를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the
상기 하프 미러(137)는 상기 촬상 유닛(120) 및 상기 피검사체(10) 사이에 위치한다. 상기 하프 미러(137)는 상기 밴드 패스 필터부(133) 및 자외선 집광 렌즈(135)를 통과한 반사광을 상기 피검사체(10)로 향하도록 반사시킨다. 또한 상기 하프 미러(137)는 상기 반사광의 일부는 투과시킬 수 있다.The
본 발명의 일 실시예에 따른 투명 도전막 패턴의 검사 장치(100)는 대물 렌즈(160)를 더 포함할 수 있다. The apparatus for inspecting a transparent
상기 대물 렌즈(160)는 하프 미러(137) 및 피검사체(10) 사이에 위치한다. 상기 대물 렌즈(160)는 상기 반사 조명 유닛(130)으로부터 조사되는 자외선의 초점을 맞추고 나아가 상기 피검사체(10)로부터 반사되어 획득되는 피검사체(10)에 대한 영상 정보를 확대하여 촬상 유닛으로 전달할 수 있다. 상기 대물 렌즈(160)는 복수의 렌즈들(161, 163)로 이루어질 수 있다.The
본 발명의 일 실시예에 따른 투명 도전막 패턴의 검사 장치(100)는 투과 조명 유닛(150)을 더 포함할 수 있다. The apparatus for inspecting a transparent
상기 투과 조명 유닛(150)은 상기 지지 유닛(110)의 하부에 배치된다. 상기 투과 조명 유닛(150)은 상기 투명 도전막 패턴에 대하여 선택적으로 흡수될 수 있는 자외선 파장을 갖는 투과광을 발생한다.The
상기 투과 조명 유닛(150)은 상기 피검사체(10)에 상기 투과광을 제공함으로써 상기 투명 도전막 패턴에 대한 영상을 보다 선명하게 할 수 있다. 상기 투과광은 자외선 영역에 해당하는 광으로서 그 파장이 선택적으로 조절될 수 있다.The
상기 투과 조명 유닛(150)은 제2 광원(151), 제2 밴드 패스 필터부(153) 및 제2 집광 렌즈(155)를 포함할 수 있다. 상기 투과 조명 유닛(150)은 상기 반사 조명 유닛(130)과 실질적으로 동일한 구성을 가지므로 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.The
도 2는 도1의 투명 도전막 촬상 장치를 이용하여 기판 상에 형성된 투명 도전막을 촬상한 사진이다. 도 3는 일반적인 광학 현미경을 이용한 촬상 장치를 이용하여 기판 상에 형성된 투명 도전막을 촬상한 사진이다.2 is a photograph of a transparent conductive film formed on a substrate using the transparent conductive film imaging device of FIG. 3 is a photograph of a transparent conductive film formed on a substrate using an imaging device using a general optical microscope.
도 2 및 도 3을 참조하면, 도2의 경우, 본 발명에 따른 투명 도전막 촬상 장치를 이용하여 자외선 영역(파장대:350 내지 420nm)의 광을 이용하였다. 한편, 피검사체는 투명 기판, ITO로 이루어진 투명 도전막 패턴, 접착 필름(OCA 필름), 보호 필름 및 강화 유리를 포함하는 터치 스크린 패널이다. 도 2에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 투명 도전막 촬상 장치는 상기 투명 도전막 패턴에 대한 선명한 촬상 이미지를 확보할 수 있다. Referring to FIG. 2 and FIG. 3, in the case of FIG. 2, the light in the ultraviolet region (wavelength band: 350 to 420 nm) was used by using the transparent conductive film imaging device according to the present invention. On the other hand, the test object is a touch screen panel including a transparent substrate, a transparent conductive film pattern made of ITO, an adhesive film (OCA film), a protective film, and tempered glass. As shown in FIG. 2, the transparent conductive film image pickup device according to the present invention can secure a clear image of the transparent conductive film pattern.
반면에, 도3의 경우 일반적인 광학 현미경을 이용한 촬상 장치는 가시광 영역(파장대:380 내지 780nm)의 광을 이용한다. 피검사체는 투명 기판, ITO로 이루어진 투명 도전막 패턴, 접착 필름(OCA 필름), 보호 필름 및 강화 유리를 포함하는 터치 스크린 패널이다. 상기 촬상 장치는 피검사체에 대한 영상을 표시한다. 도 3에 도시된 바와 같이 투명 도전막 패턴에 대한 영상이 구현되지 않음을 확인할 수 있다.On the other hand, in the case of FIG. 3, an imaging apparatus using a general optical microscope uses light in a visible light region (wavelength band: 380 to 780 nm). The object to be inspected is a touch screen panel including a transparent substrate, a transparent conductive film pattern made of ITO, an adhesive film (OCA film), a protective film, and tempered glass. The imaging device displays an image of the subject. It can be confirmed that the image for the transparent conductive film pattern is not implemented as shown in FIG.
지금까지는 본 발명의 바람직한 실시예를 기준으로 본 발명의 기술적 사상을 설명하였으나, 본 발명의 기술적 사상은 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 구체화된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범주에서 다양한 형태로 변형되어 구현될 수 있다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation, And can be implemented in various forms in a variety of forms.
본 발명에 따른 투명 도전막 패턴의 검사 장치는 투명 기판 및 투명 도전막 패턴을 포함하는 터치 스크린 패널에서 상기 투명 도전막 패턴에 대한 영상을 선명하게 구현할 수 있다.The apparatus for inspecting a transparent conductive film pattern according to the present invention can clearly image an image of the transparent conductive film pattern on a transparent substrate and a touch screen panel including a transparent conductive film pattern.
100 : 투명 도전막 패턴의 검사 장치 110 : 지지 유닛
120 : 촬상 유닛 130 : 반사 조명 유닛
131 : 제1 광원 133 : 제1 밴드 패스 필터부
135 : 자외선 집광 렌즈 137 : 하프 미러
150 : 투과 조명 유닛 160 : 대물 렌즈100: inspection device for transparent conductive film pattern 110:
120: image pickup unit 130:
131: first light source 133: first band pass filter unit
135: ultraviolet condensing lens 137: half mirror
150: Transmitted illumination unit 160: Objective lens
Claims (7)
상기 지지 유닛의 상부에 배치되어 상기 피검사체를 촬상하는 촬상 유닛; 및
상기 지지 유닛에 인접하게 배치되며, 상기 투명 도전막 패턴 투과하도록 자외선 영역의 광 중 일부를 선택적으로 필터링하여 350 내지 420 nm의 파장을 갖는 반사광을 상기 피검사체에 제공하는 반사 조명 유닛을 포함하고,
상기 반사 조명 유닛은
광을 발생하는 제1 광원;
상기 제1광원으로부터 발생된 광으로부터 자외선 중 특정 파장의 자외선을 선택적으로 각각 필터링하는 복수의 필터들 및 상기 필터들을 회전시켜 상기 필터들중 하나를 선택할 수 있도록 구동력을 제공하는 고니오미터를 갖는 밴드 패스 필터부;
상기 피검사체과의 관계에서 상기 필터로부터 필터링된 광의 초점을 조절하도록 구비되며 그 표면에 반사방지용 코팅층이 형성된 자외선 집광 렌즈; 및
상기 촬상 유닛 및 상기 피검사체 사이에 위치하여 상기 반사광을 상기 피검사체로 조사하도록 반사시키는 하프 미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 도전막 패턴의 검사 장치.A support unit for supporting a test object including a transparent conductive film pattern;
An imaging unit disposed on the support unit for imaging the subject; And
And a reflective illumination unit disposed adjacent to the support unit for selectively filtering a part of light in an ultraviolet ray region to transmit the transparent conductive film pattern and providing reflected light having a wavelength of 350 to 420 nm to the inspected object,
The reflective illumination unit
A first light source for generating light;
A plurality of filters for selectively filtering ultraviolet rays of a specific wavelength among ultraviolet rays from the light emitted from the first light source and a band having a goniometer for providing a driving force for rotating the filters to select one of the filters A pass filter section;
An ultraviolet condensing lens which is provided to adjust the focus of the light filtered from the filter in relation to the subject and has an anti-reflection coating layer formed on the surface thereof; And
And a half mirror positioned between the imaging unit and the subject to reflect the reflected light to be irradiated to the subject.
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