KR101421282B1 - Multi-exposure system - Google Patents

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KR101421282B1
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최규원
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Abstract

멀티 노광시스템 장치가 구비된 공정장치가 개시된다. 다수개의 기판이 각각 놓이는 핑거와 핑거에 놓인 다수개의 기판을 노광이 이루어지는 고정평판으로 각각 안착시키는 구동장치가 구비된 셔틀장치 고정평판에 안착된 기판을 x축 방향으로 정렬하기 위하여 기판의 양측에서 x축 방향으로 접근하여 기판을 정렬하는 x축 정렬장치와 기판을 y축 방향으로 정렬하기 위하여 기판의 양측에서 y축 방향으로 접근하여 기판을 정렬하는 y축 정렬장치를 구비하는 정렬장치 및 정렬장치에 의해 정렬된 기판에 대하여 수직면에 위치되어 노광을 하는 노광부를 포함하는 멀티 노광장치를 제공한다.A process apparatus having a multi-exposure system device is disclosed. A substrate mounted on a fixed plate of a shuttle equipped with a driving device for placing a finger on which a plurality of substrates are respectively placed and a plurality of substrates placed on the fingers in a fixed plate for exposure are arranged in the x- An x-axis aligning device for aligning the substrates in the axial direction and a y-axis aligning device for aligning the substrates in the y-axis direction on both sides of the substrate in order to align the substrates in the y-axis direction And an exposure unit positioned on a vertical plane with respect to the substrate aligned by the exposure unit and performing exposure.

Description

멀티 노광장치 {Multi-exposure system}Multi-exposure system

본 발명은 다중 노광장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기판 사이즈의 소형화에 맞춰서 다수개의 기판을 이동하고 다수개의 기판에 대한 노광을 신속히 진행 가능한 멀티 노광장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multiple exposure apparatus, and more particularly, to a multi-exposure apparatus capable of rapidly moving a plurality of substrates and exposing a plurality of substrates in accordance with miniaturization of a substrate size.

최근 반도체 산업을 중심으로 회로 패턴이 미세화 되면서 이에 맞게 노광 기술이 발전하여 마스크 얼라이너, 스텝퍼 등 다양한 장비가 개발되어 생산현장에서 활용되고 있다. 이에 회로 패턴을 형성하는 산업이 점차 LCD, OLED, LED, PCB 등의 소자를 만드는 산업과 태양전지 등의 전지 패턴을 형성화하는 데도 노광기술이 사용되고 있다. 또한 최근에 스마트폰 및 노트패드 등의 시장이 점차 확대됨에 따라 터치스크린 디스플레이 산업이 급속히 팽창되면서 기판의 사이즈가 작은 분야에서는 공급이 부족한 상황이다.In recent years, as the circuit pattern has become finer with the semiconductor industry as its center, exposure technology has been developed accordingly, and various equipment such as mask aligner and stepper have been developed and used in the production site. Accordingly, an exposure technology is used to form a battery pattern of a solar cell or the like in an industry in which a circuit pattern is gradually formed, such as an LCD, an OLED, an LED, and a PCB. In addition, as the market for smartphones and notepads has been expanding recently, the touch screen display industry is rapidly expanding, and supply is lacking in small-sized substrates.

기존생산 공정에서는 반도체의 웨이퍼 및 기판 사이즈의 대형화에 초점을 맞추어져 있어서 노광 공정 시 하나의 기판을 이송 받아 광원을 이용하여 한번에 1매의 웨이퍼 또는 기판을 처리하는 공정을 진행하였다. 하지만, 스마트폰 시장의 활성화로 기판의 사이즈가 점차 작아져서 기존생산 공정효율이 오히려 비 효율화 되었다.In the existing production process, focusing on enlargement of wafer and substrate size of semiconductors, one substrate was transferred during the exposure process and a process of processing one wafer or substrate at a time using a light source was performed. However, as the size of the substrate gradually decreased due to the activation of the smartphone market, the efficiency of the existing production process was rather inefficient.

이에따라, 기존 노광공정에서 생산 공정의 비 효율화 측면이 개선된, 기판 사이즈에 맞는 노광 장치에 대한 요청이 증대되고 있다. 또한, 기판 한 장을 노광하는 시스템이 아니라 신속하게 다수개의 기판을 노광처리가 가능하면서 유지보스가 용이하도록 시스템 자체의 싸이즈가 작은 멀티노광장치가 필요 하였다.
Accordingly, there is an increasing demand for an exposure apparatus that meets the substrate size in which the inefficiency of the production process is improved in the conventional exposure process. In addition, a multi-exposure apparatus having a small size of the system itself is needed to expose a plurality of substrates quickly and to facilitate the maintenance boss, not a system for exposing a single substrate.

본 발명은 전술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로, 기판 대형화로 인하여 기판 생산 속도의 비 효율화 측면을 개선하여 기판의 소형화에 맞는 생산 효율이 향상된 멀티 노광장치를 제공함을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a multi-exposure apparatus which is improved in production efficiency in accordance with miniaturization of a substrate by improving the inefficiency of substrate production speed due to enlargement of a substrate .

또한, 생산성을 향상시키기 위해 복수개의 기판을 한번에 노광하면서 유지보스가 용이하도록 멀티노광장치를 제공함을 목적으로 한다.
Another object of the present invention is to provide a multi-exposure apparatus which exposes a plurality of substrates at a time in order to improve the productivity, while facilitating maintenance bosses.

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따라, 다수개의 기판을 이송하는 이송장치;In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a transfer device for transferring a plurality of substrates;

상기 다수개의 기판이 각각 놓이는 핑거와 상기 다수개의 핑거가 체결되는 플레이트와 상기 플레이트를 노광이 이루어지는 고정평판으로 이송하여 각각의 상기 기판을 상기 고정평판에 안착시키는 구동장치를 구비하는 셔틀장치;A shuttle device having a plurality of fingers, a plate to which the plurality of fingers are coupled, and a driving device for transferring the plate to a fixed flat plate on which the plurality of fingers are mounted,

상기 고정평판에 안착된 기판을 x축 방향으로 정렬하기 위하여, 상기 기판의 양측에서 x축 방향으로 접근하여 상기 기판을 정렬하는 x축 정렬장치와 상기 기판을 y축 방향으로 정렬하기 위하여 상기 기판의 양측에서 y축 방향으로 접근하여 상기 기판을 정렬하는 y축 정렬장치를 구비하는 정렬장치;An x-axis aligning device for aligning the substrate in the x-axis direction on both sides of the substrate in order to align the substrates mounted on the fixed plate in the x-axis direction, An alignment device having a y-axis alignment device for aligning the substrate in a y-axis direction on both sides;

클린룸 면적을 작게 하기 위하여 상기 이송장치의 진행방향으로 배치되고 상기 정렬장치에 의해 정렬된 상기 기판에 대하여 수직면에 위치하여 노광을 하는 노광부; 및
상기 정렬장치에 의해 기판의 정렬이 완료되면 기판의 상단부로 접근하여 기판의 정렬상태를 확인하는 카메라
를 포함하고,
상기 카메라에 의해 기판의 정렬이 틀어져 있는 것이 확인되면 상기 정렬장치가 재 작동하여 기판을 정렬하며,
상기 카메라는,
정렬이 완료된 것이 최종 확인되면 노광범위를 벗어나며,
상기 노광부는,
수은 램프를 사용하고,
제1 평면경, 제2 평면경 및 제3 평면경을 사용하여 노광을 조사하며,
상기 제1 평면경, 제2 평면경 및 제3 평면경이 이루는 경사각은, 수은램프에서 조사되는 광과 노광범위까지의 거리를 최단거리로 하도록 구성되고,
제3 평면경과 기판의 표면은 수직상태를 유지하도록 구성되는 멀티 노광장치가 제공된다. An exposure unit arranged in a traveling direction of the transfer device to reduce a clean room area and positioned on a vertical plane with respect to the substrate aligned by the alignment device to perform exposure; And
When the alignment of the substrate is completed by the aligning device, the alignment state of the substrate approaches the upper end of the substrate,
Lt; / RTI >
If it is confirmed that the substrate is misaligned by the camera, the aligning device is operated again to align the substrate,
The camera comprises:
Once the alignment is completed,
The exposure unit includes:
Using a mercury lamp,
A first planar mirror, a second planar mirror, and a third planar mirror are used to illuminate the exposure,
The inclination angle formed by the first plane mirror, the second plane mirror, and the third plane mirror is configured so that the distance from the mercury lamp to the light and the light-
A third plane mirror and a surface of the substrate are configured to maintain a vertical state.

바람직하게는, 상기 이송장치와 상기 셔틀장치 사이에 배치되고 기판과 접촉하여 진행을 멈추게 하도록 면적을 갖는 차폐부재와 상기 차폐부재의 일측 단부에 체결되고 상기 차폐부재를 회전시키는 회전부재를 구비하는 기판고정 장치를 더 구비하는 것이 좋다. Preferably, a substrate is disposed between the transfer device and the shuttle device, and includes a shielding member having an area for contacting the substrate and stopping the progress of the substrate, and a rotating member coupled to one end of the shielding member and rotating the shielding member It is preferable to further include a fixing device.

또한, 상기 회전부재의 회전에 의해서 상기 차폐부재와 이송장치가 수직상태로 놓이면 다수개의 기판의 진입을 막고 상기 회전부재가 회전하여 상기 차폐부재와 이송장치가 수평을 이루면 기판이 다음 공정으로 진행 되는 것이 바람직하다. When the shielding member and the transfer device are placed in a vertical state by rotation of the rotary member, the entry of a plurality of substrates is prevented. When the rotary member rotates and the transfer device and the shielding member are horizontal, the substrate proceeds to the next process .

또, 상기 구동장치는 상기 기판을 핑거로부터 분리하고 상기 고정평판에 안착시키기 위하여 상기 플레이트를 상하로 이동하는 제1 구동장치와 상기 플레이트를 수평으로 이동하는 제2 구동장치를 구비하는 것이 좋다.The driving device may include a first driving device for moving the plate up and down to separate the substrate from the finger and to seat the plate on the fixed plate, and a second driving device for moving the plate horizontally.

또한, 상기 제1 구동장치는 상기 플레이트를 상하로 이동하도록 실린더와 파워시트를 사용하는 것이 바람직하다.Preferably, the first driving device uses a cylinder and a power seat to move the plate up and down.

본 발명의 다른 형태에 따르면, 기재된 멀티 노광장치를 구비하는 공정장치.
According to another aspect of the present invention, there is provided a process apparatus having the multi-exposure apparatus described.

본 발명에 따른 멀티 노광장치는, 생산 공정의 클린룸 면적을 콤팩트하게 함으로써, 노광 공정의 효율화가 기존 노광공정에 비행 향상된 멀티 노광장치를 제공하는 효과가 있다. The multi-exposure apparatus according to the present invention has the effect of providing a multi-exposure apparatus in which the efficiency of the exposure process is improved in the conventional exposure process by making the clean room area of the production process compact.

또한, 생산 공정의 증가를 위해 복수개의 기판을 동시에 노광이 가능하고 유지보스가 용이하며 공정 중에 클린룸 면적이 컴팩트한 멀티 노광장치를 제공하는 효과가 있다. Further, there is an effect of providing a multi-exposure apparatus in which a plurality of substrates can be simultaneously exposed to increase the production process, the maintenance boss is easy, and the clean room area is compact during the process.

또, 다수개의 기판이 신속히 정렬이 가능한 멀티 노광장치를 제공하는 효과가 있다.
Further, there is an effect of providing a multi-exposure apparatus capable of rapidly aligning a plurality of substrates.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 다수개의 노광이 가능한 노광장치의 사시도.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 다수개의 노광이 가능한 노광장치의 정면도.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 다수개의 노광이 가능한 노광장치의 평면도.
도 4는 도 1에 대한 A부분 확대도.
도 5는 도 2에 대한 B-B의 단면도.
도 6는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 셔틀장치의 사시도.
도 7은 도 9에 대한 정면도.
도 8은 도6에 대한 평면도.
도 9은 도5에 대한 C의 부분 확대도.
도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 노광부의 예시도.
1 is a perspective view of an exposure apparatus capable of a plurality of exposures according to an embodiment of the present invention;
2 is a front view of an exposure apparatus capable of a plurality of exposures according to an embodiment of the present invention;
3 is a plan view of an exposure apparatus capable of a plurality of exposures according to an embodiment of the present invention.
4 is a partially enlarged view of Fig. 1; Fig.
Figure 5 is a cross-sectional view of BB of Figure 2;
6 is a perspective view of a shuttle apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
Figure 7 is a front view of Figure 9;
Figure 8 is a plan view of Figure 6;
9 is a partial enlarged view of C in Fig.
10 is an exemplary view of an exposure unit according to a preferred embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면과 연계하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 따른 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 상세한 설명은 생략한다. 들어가기에 앞서, 본 발명을 설명하는데 있어서, 그 실시 예가 상이하더라도 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조번호를 사용하고, 필요에 따라 그 설명을 생략할 수 있다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. Before describing the present invention, the same reference numerals are used for explaining the present invention even if the embodiments are different, and description thereof may be omitted if necessary.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 다수개의 노광이 가능한 노광장치의 사시도, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 다수개의 노광이 가능한 노광장치의 정면도, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 다수개의 노광이 가능한 노광장치의 평면도이다.
FIG. 1 is a perspective view of an exposure apparatus capable of exposing a plurality of exposures according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a front view of a plurality of exposable exposure apparatuses according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a plan view of an exposure apparatus capable of a plurality of exposures according to an embodiment.

도면을 참조하여 설명하면, 본 발명의 일실시예에 따른 다수개의 노광이 가능한 노광장치는, 다수개의 기판(7)을 이송하는 이송장치(2)와 이송장치(2)에서 기판(7)을 인계 받아 다수개의 기판(7)을 이송하는 셔틀장치(4)와 셔틀장치(4)에서 기판(7)을 인계 받아 정렬하는 정렬장치(6) 및 정렬된 기판(7)에 노광을 하는 복수개의 노광부(3)를 포함한다.A plurality of exposure apparatuses capable of exposing a plurality of substrates according to an embodiment of the present invention includes a transfer apparatus 2 for transferring a plurality of substrates 7 and a transfer apparatus 2 for transferring a substrate 7 from the transfer apparatus 2. [ (6) for aligning and aligning the substrate (7) in the shuttle device (4), and a plurality of aligning devices (6) for exposing the aligned substrate (7) And an exposure unit 3.

이송장치(2)는 다수개의 기판(7)을 순차적으로 이송한다. 이송장치(2)는 로울러를 사용하는 것이 바람직하다. 이송장치(2)는 이동시에 발생되는 파티클을 최소화하기 위하여 타이밍 벨트를 사용하는 것이 좋다. 이송장치(2)는 패널형태의 대상물을 이송하는 데 적합한 장치는 모두 이용가능하며, 이송장치(2)를 로울러로 한정하기 위함은 아니다. 이송장치(2)는 셔틀장치(4)의 양 끝단에 각각 배치된다. 이송장치(2)는 셔틀장치의 일측 단부로 공정을 진행할 수 있도록 다수개의 기판을 공급하는 제1 이송장치(20)가 배치되고 타측 단부는 공정이 완료된 기판을 다음공정으로 배출하는 제2 이송장치(22)가 배치된다. 이송장치(2)는 기판이 공급되는 이송장치와 기판이 배출되는 이송장치가 각각 따로 구동되는 것이 좋다.
The transfer device 2 transfers a plurality of substrates 7 sequentially. The transfer device 2 preferably uses a roller. It is preferable to use a timing belt in order to minimize the particles generated during the movement of the transfer device 2. The conveying device 2 can be any device suitable for conveying an object in the form of a panel, and is not intended to limit the conveying device 2 to a roller. The transfer device 2 is disposed at both ends of the shuttle device 4. The transfer device 2 is provided with a first transfer device 20 for supplying a plurality of substrates to one end of the shuttle device and a second transfer device 20 for transferring the processed substrates to the next process, (22). In the transfer device 2, the transfer device to which the substrate is supplied and the transfer device to which the substrate is discharged are separately driven.

도 4는 도 1에 대한 A부분 확대도, 도 5는 도 2에 대한 B-B의 단면도이다. 도면을 참조하여 설명하면, 제1 이송장치(20)는 다수개의 기판을 정렬시키는 기판정렬장치(200) 및 기판고정 장치(210)가 배치된다. 이는 다수개의 기판을 셔틀장치(4)로 인계하기 위하여 정해진 위치에 기판을 위치시키기 위함이다. 기판고정 장치(210)는 다수개의 기판의 진행을 막아 준다. Fig. 4 is an enlarged view of A in Fig. 1, and Fig. 5 is a sectional view of B-B in Fig. Referring to the drawings, the first transfer device 20 includes a substrate aligning device 200 and a substrate securing device 210 for aligning a plurality of substrates. This is for positioning the substrate in a predetermined position to take over the plurality of substrates to the shuttle device 4. [ The substrate holding device 210 prevents the progress of the plurality of substrates.

기판고정 장치(210)는 다수개 기판(7)의 진행 방향을 멈추게 한다. 기판고정 장치(210)는 제1 이송장치(200)에서 일정거리 이격되어 다수개 기판97)의 진행을 멈추게 한다. 기판고정 장치(210)는 기판의 흐름을 막는 차폐부재(212)와 차폐부재(212)를 회전하는 회전부재(214)가 배치된다. The substrate holding device 210 stops the traveling direction of the plurality of substrates 7. [ The substrate holding device 210 is spaced a predetermined distance from the first transfer device 200 to stop the progress of the plurality of substrates 97). The substrate holding apparatus 210 is provided with a shielding member 212 for blocking the flow of the substrate and a rotating member 214 for rotating the shielding member 212.

차폐부재(212)는 다수개의 기판(7)과 접촉하여 기판의 진행을 막아 준다. 차폐부재(212)는 넓은 면을 갖는 것이 바람직하다. 이는, 차폐부재의 모양을 한정하기 위함은 아니다. 차폐부재(212)는 회전부재(214)와 연결된다. The shielding member 212 contacts the plurality of substrates 7 to prevent the substrate from advancing. The shielding member 212 preferably has a large surface. This is not intended to limit the shape of the shielding member. The shielding member 212 is connected to the rotating member 214.

회전부재(214)는 차폐부재(212)를 회전하여 기판의 진행에 방해가 되지 않도록 한다. 예를 들어 제1 이송장치(20)와 차폐부재(212)가 서로 수직일 경우 다수개 기판의 진행을 멈추게 한다. 또한, 제1 이송장치(20)와 차폐부재(212)가 수평상태로 놓이면 다수개 기판(7)은 다음공정으로 진행한다. 회전부재(214)는 제1 이송장치(20)의 상단부에 차폐부재(212)를 위치시킨다. 회전부재(214)는 회전이 용이하도록 원통형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 이는 회전부재(214)의 형상을 한정하기 위함은 아니다. 회전부재(214)를 구동하는 회전 구동부(미도시)가 배치된다. 회전 구동부는 공기압을 사용하는 것이 바람직하다. 회전 구동부는 모터,서보모터, 실린더 등의 다양한 동력원을 이용할 수도 있다.The rotating member 214 rotates the shielding member 212 so as not to interfere with the progress of the substrate. For example, when the first conveying device 20 and the shielding member 212 are perpendicular to each other, the progress of the plurality of substrates is stopped. Also, if the first transfer device 20 and the shielding member 212 are placed in a horizontal state, the plurality of substrates 7 proceed to the next process. The rotary member 214 positions the shielding member 212 at the upper end of the first transfer device 20. The rotating member 214 is preferably formed in a cylindrical shape to facilitate rotation. This is not intended to limit the shape of the rotating member 214. (Not shown) for driving the rotary member 214 is disposed. It is preferable that the rotation drive unit uses air pressure. The rotation drive unit may use various power sources such as a motor, a servo motor, and a cylinder.

기판 정렬장치(200)는 y축 방향에 대하여 다수개 기판(7)을 정렬한다. 기판 정렬장치(200)는 차폐부재가 x축으로 진행을 막아 주면 y축 방향에 대하여 다수개 기판을 정렬한다. 기판 정렬장치(200)는 y축 정렬이 완료 되면 하강하여 다음 공정이 진행시 간섭을 피한다.
The substrate aligning apparatus 200 aligns a plurality of substrates 7 in the y-axis direction. The substrate alignment apparatus 200 aligns a plurality of substrates with respect to the y-axis direction when the shielding member blocks the progress of the substrate in the x-axis direction. When the y-axis alignment is completed, the substrate aligning apparatus 200 descends to avoid interference when the next process proceeds.

도 5는 도 2에 대한 B-B의 단면도, 도 6는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 셔틀장치의 사시도, 도 7은 도 9에 대한 정면도, 도 8은 도6에 대한 평면도이다. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 2, FIG. 6 is a perspective view of a shuttle apparatus according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 7 is a front view of FIG. 9, and FIG.

도면을 참조하여 설명하면, 셔틀장치(4)는 이송장치(2)로부터 다수개의 기판(7)을 인계받는다. 셔틀장치(4)는 다수개의 기판(7)이 각각 놓이는 핑거(40)와 핑거(40)를 지지하고 노광이 진행되는 고정평판(30)까지 이동하는 플레이트(44)와 플레이트(44)를 수평과 수직으로 이동시켜 기판(7)을 안착시키는 구동장치(42)를 포함한다.
Referring to the drawings, the shuttle device 4 takes over a plurality of substrates 7 from the transfer device 2. [ The shuttle device 4 includes a plate 44 supporting a finger 40 and a finger 40 on which a plurality of substrates 7 are placed and moving to a fixed flat plate 30 on which exposure is performed, And a driving device 42 for moving the substrate 7 vertically.

셔틀장치(4)는 다수개의 기판(7)을 노광이 진행되는 공정실로 이송시킨다. 셔틀장치(4)는 이송장치(2)에서 투입되는 기판(7)을 인계받아 노광이 진행되는 공정실로 이송시키고 노광공정이 끝난 기판(7)을 배출하는 이송장치로 이송하여 인계한다.
The shuttle device 4 transfers a plurality of substrates 7 to a processing chamber where exposure is performed. The shuttle device 4 transfers the substrate 7 transferred from the transfer device 2 to a process chamber where the exposure is carried out, and transfers the substrate 7 to a transfer device for discharging the substrate 7 after the exposure process.

핑거(40)는 기판(7)이 안착되어 이동한다. 핑거(40)는 플레이트(44)에 체결된다. 핑거(40)는 기판(40)이 안착되도록 일정간격 이격되어 4개의 바가 한쌍으로 구비되는 것이 좋다. 핑거(40)는 일정거리 이격되어 기판(7)이 안착되는 안착홈(400)이 형성되는 것이 바람직하다. 안착홈(400)은 기판(7)이 이동 중에 떨어지지 않도록 실리콘 재질을 구비 하는 것이 좋다.
The fingers 40 move and move the substrate 7. The fingers 40 are fastened to the plate 44. It is preferable that the fingers 40 are spaced apart from each other by a predetermined distance so that the substrate 40 is seated, and the four bars are provided in pairs. It is preferable that the fingers 40 are spaced apart from each other by a predetermined distance to form a seating groove 400 on which the substrate 7 is seated. It is preferable that the seating groove 400 is made of a silicon material so that the substrate 7 does not fall off during movement.

플레이트(44)는 핑거(40)를 지지한다. 플레이트(44)의 내부에 핑거(40)가 배치되어 고정평판(30)에 기판(7)이 안착할 수 있도록 내부가 개구되어 있다. 플레이트(44)는 신속히 노광공정을 진행할 수 있도록 4쌍의 핑거(40)를 구비하는 것이 바람직하다. 이는, 핑거(40)의 개수를 한정 하는 것은 아니다. 플레이트(44)는 구동장치(42)에 체결된다. 플레이트(44)는 구동장치의 구동에 의해 기판(7)을 수평과 수직으로 이송한다.
The plate 44 supports the fingers 40. A finger 40 is disposed inside the plate 44 and the inside is opened so that the substrate 7 can be seated on the stationary flat plate 30. The plate 44 preferably includes four pairs of fingers 40 to facilitate the exposure process. This does not limit the number of fingers 40. The plate 44 is fastened to the drive device 42. The plate 44 transports the substrate 7 horizontally and vertically by driving the driving device.

구동장치(42)는 플레이트(44)를 수직으로 이동하는 제1 구동장치(420)와 플레이트를 수평으로 이동하는 제2 구동장치(422)를 포함한다. The driving device 42 includes a first driving device 420 for vertically moving the plate 44 and a second driving device 422 for moving the plate horizontally.

제1 구동장치(420)는 플레이트(44)를 수직으로 상승시킨다. 제1 구동장치(420)는 이송장치(2)에서 투입되는 기판(7)을 핑거(40)에 안착시킨다. 제1 구동장치(420)는 캠을 회전시켜 플레이트(44)와 핑거(40)를 수직으로 이동시킨다. 이는, 이송장치(2)에서 기판(7)을 분리하기 위함이다. 즉, 제1 구동장치(420)는 기판(7)이 핑거(40)에 안착되면 기판(7)을 이송장치(2)에서 분리하기 위하여 실린더를 사용하여 수직으로 플레이트(44)와 핑거(40)를 동시에 수직으로 상승시킨다. 이때, 실린더가 수직으로 이동시 수평으로 이동하기 위하여 파워시트를 함께 사용하는 것이 바람직하다. 이는 파워시트가 플레이트(44)를 전체적으로 균일하게 수직으로 상승시킨다. 더욱이 파워시트를 사용함으로써 비상시에 장비를 즉시 멈출수 있다.The first driving device 420 vertically lifts the plate 44. [ The first driving device 420 places the substrate 7 loaded in the transfer device 2 on the fingers 40. The first driving device 420 rotates the cam to move the plate 44 and the finger 40 vertically. This is for separating the substrate 7 from the transfer device 2. That is, when the substrate 7 is seated on the fingers 40, the first driving device 420 vertically moves the plate 44 and the fingers 40 using a cylinder to separate the substrate 7 from the transfer device 2 ) At the same time. At this time, it is preferable to use a power sheet together to move horizontally when the cylinder moves vertically. This causes the power sheet to lift the plate 44 vertically uniformly throughout. Furthermore, by using the power sheet, the equipment can be stopped immediately in an emergency.

또한, 제1 구동장치(420)는 실린더와 파워시트를 이용하여 플레이트(44)와 핑거(40)를 하강하여 고정평판(30)에 기판(7)을 안착시킨다. 이는 구동장치(42)를 상승 또는 하강하는 장치를 실린더와 파워시트로 한정하는 것은 아니며 모터, 캠 등을 사용할 수도 있다.In addition, the first driving device 420 uses the cylinder and the power sheet to lower the plate 44 and the finger 40 to seat the substrate 7 on the fixed flat plate 30. This does not limit the device for raising or lowering the drive device 42 to a cylinder and a power seat, but may use a motor, a cam, or the like.

제2 구동장치는(422)는 플레이트(44)를 수평으로 이동 시킨다. 제2 구동장치(422)는 핑거(40)를 이동하여 공정실에 배치된 고정평판(30) 상부까지 이동시킨다. 제2 구동장치(422)는 제1 구동장치(420)가 작동하면 플레이트(44)가 하강하면서 핑거(40)에 있는 기판(7)을 고정평판(30)에 안착시킨다. 제2 구동장치(422)는 플레이트(44)를 수평으로 이동하기 위해서 타이밍벨트를 사용하는 것이 바람직하다. 이는 제2 구동장치(422)를 타이밍벨트로 한정하는 것은 아니다. 제2 구동장치(422)는 플레이트(44)를 수평으로 이동하여 노광이 진행되는 공정실과 노광공정을 위해 대기하는 곳 이동한다.
The second driving device 422 moves the plate 44 horizontally. The second driving device 422 moves the finger 40 to an upper portion of the fixed plate 30 disposed in the process chamber. The second driving device 422 places the substrate 7 in the finger 40 on the fixed plate 30 while the plate 44 descends when the first driving device 420 is operated. The second drive device 422 preferably uses a timing belt to move the plate 44 horizontally. This does not limit the second driving device 422 to the timing belt. The second driving device 422 moves the plate 44 horizontally and moves to the waiting room for the exposure process and the waiting room for the exposure process.

셔틀장치(4)는 이송장치(2)에서 4개의 기판(7a,7b,7c,7d)을 인계받는다. 셔틀장치(4)는 4개의 기판((7a,7b,7c,7d)을 수직으로 상승하여 이송장치(2)에서 기판을 분리한다. 셔틀장치(4)는 이송장치(2)에서 분리된 4개의 기판(7a,7b,7c,7d)을 노광이 이루어지는 공정실로 이동한다. 셔틀장치(4)는 노광을 대기하는 위치에 기판(7a,7b)를 대기하고 노광을 받는 공정실에 기판(7c,7d)을 위치시킨다. 셔틀장치(4)는 기판(7a,7b,7c,7d)을 하강하여 공정실에 위치하는 고정평판(30)에 기판(7c,7d)을 안착한다. 셔틀장치는 기판(7c,7d)의 노광공정이 완료될 때까지 대기상태를 유지한다.
The shuttle device 4 takes over the four substrates 7a, 7b, 7c, and 7d from the transfer device 2. [ The shuttle device 4 vertically lifts the four substrates 7a, 7b, 7c and 7d and separates the substrate from the transfer device 2. The shuttle device 4 transfers the substrate 4 separated from the transfer device 2 The substrate 7a, 7b, 7c, 7d is moved to the process chamber in which the exposure is performed. The shuttle device 4 waits for the substrates 7a, 7b at a position waiting for exposure, The shuttle device 4 descends the substrates 7a, 7b, 7c and 7d and seats the substrates 7c and 7d on the fixed flat plate 30 located in the process chamber. And remains in a standby state until the exposure process of the substrates 7c and 7d is completed.

이후, 노광이 완료되면 구동장치(42)가 구동하여 고정평판(30)에서 기판을 분리하여 핑거(40)에 안착시킨다. 셔틀장치(4)는 노광공정을 받아야 되는 기판(7a,7b)을 고정평판(30) 위치에 대기시키고 공정이 완료된 기판(7c,7d)은 배출 이송장치로 인계한다. 셔틀장치(4)는 구동장치(42)를 이용하여 기판(7a,7b,7c,7d)을 하강 한다. 셔틀장치(4)는 기판(7a,7b)을 고정평판(30) 위치에 안착시키고 완료된 기판(7c,7d)은 배출하는 이송장치에 안착시킨다. 셔틀장치는 기판(7)의 노광공정을 진행하기 위하여 인계받는 위치로 복귀한다. 서술한 동작을 반복하여 공정을 진행한다.
Thereafter, when the exposure is completed, the driving device 42 is driven to separate the substrate from the fixed flat plate 30 and to place the substrate on the finger 40. The shuttle apparatus 4 waits the substrates 7a and 7b to be subjected to the exposure process at the position of the fixed flat plate 30 and transfers the processed substrates 7c and 7d to the discharge transfer apparatus. The shuttle device 4 descends the substrates 7a, 7b, 7c, and 7d using the drive device 42. [ The shuttle apparatus 4 seats the substrates 7a and 7b at the position of the stationary flat plate 30 and places the completed substrates 7c and 7d on the transferring device for discharging. The shuttle device returns to the position where it is taken over to proceed with the exposure process of the substrate 7. [ The above-described operation is repeated to carry out the process.

도 9은 도5에 대한 C의 부분 확대도이다. 도면을 참조하여 설명하면, 정렬장치(6)는 셔틀장치(4)로부터 기판(7)을 인계받아 노광이 진행되는 고정평판(30)에서 정렬시킨다. 정렬장치(6)는 셔틀장치(4)에서 인계받을 때 기판(7)이 셔틀장치(4)에서 분리되면서 받는 충격으로 인해 기판(7)이 틀어진 것을 정렬시킨다. 정렬장치(6)는 기판(7)이 이송되는 방향으로 정렬하는 x축 정렬장치(60)와 기판(7)이 충격으로 틀어진 것을 y축으로 정렬하는 y축 정렬장치(62)를 포함한다.
9 is a partial enlarged view of C in Fig. Referring to the drawings, the aligning device 6 aligns the substrate 7 from the shuttle device 4 on a fixed flat plate 30 on which the exposure progresses. The alignment device 6 aligns the substrate 7 with the substrate 7 when the substrate 7 is taken over by the shuttle device 4, The aligning device 6 includes an x-axis aligning device 60 for aligning the substrate 7 in the direction in which the substrate 7 is conveyed and a y-axis aligning device 62 for aligning the substrate 7 in the y-axis.

x축 정렬장치(60)는 x축방향에 대하여 기판(7)을 정렬한다. x축 정렬장치(60)는 서보모터를 사용하여 x축 방향으로 정렬 핀(600)를 이동하여 정렬한다. x축 정렬장치(60)는 고정평판(30)을 기준으로 x축 방향에서 양쪽으로 기판(7)을 정렬핀(600)이 밀어서 정렬시킨다. x축 정렬장치(60)는 x축 방향으로 2개가 배치된다. 이는, x축 정렬장치(60)의 배치를 한정하기 위함은 아니다. x축 정렬장치(60)는 2개의 기판(7)을 각각 x축에 대해서 정렬한다. x축 정렬장치(60)는 x축으로 정렬된 기판(7)을 각각 정렬함으로써 만약에 있을 기판(7)이 노광공정 실에서 이탈되는 것을 방지하기 위함이다. x축 정렬장치(60)는 x축으로 동시에 움직이는 x축 정렬 핀(600)이 고정평판(30)의 양 끝단에 배치되어 x축으로 기판(7)의 이탈과 노광위치를 잡아 주는 역할을 한다. 이는 노광공정을 진행하기위해서 기판(7)이 공정실에 놓이면 공정실의 양 끝단에 배치된 x축 정렬 핀이 서로 가까워 져서 기판(7)을 각각 정렬한다. x축의 정렬이 끝나면 x축 정렬 핀의 간격이 서로 멀어진 후 x축 정렬장치(60)가 노광공정에 걸리지 않는 위치까지 벌어진다. x축 정렬장치(60)는 경우에 따라서는 프레임(5)의 하부로 하강할 수도 있다.
The x-axis aligning device 60 aligns the substrate 7 with respect to the x-axis direction. The x-axis aligning apparatus 60 moves and aligns the alignment pins 600 in the x-axis direction using a servo motor. The x-axis aligning device 60 aligns the alignment pins 600 by sliding the substrate 7 on both sides in the x-axis direction with respect to the stationary flat plate 30. [ Two x-axis alignment devices 60 are arranged in the x-axis direction. This is not for limiting the arrangement of the x-axis aligning device 60. The x-axis aligning device 60 aligns the two substrates 7 with respect to the x-axis, respectively. The x-axis alignment apparatus 60 is arranged to align the substrates 7 aligned in the x-axis, respectively, so as to prevent the substrate 7 from being separated from the exposure processing chamber. The x-axis aligning apparatus 60 has an x-axis aligning pin 600 which is moved at the same time along the x-axis and is disposed at both ends of the stationary plate 30 so as to position the substrate 7 in the x- . When the substrate 7 is placed in the process chamber to advance the exposure process, the x-axis alignment pins disposed at both ends of the process chamber are brought close to each other to align the substrates 7 with each other. When the alignment of the x-axis ends, the x-axis aligning pins are spaced apart from each other, and then the x-axis aligning device 60 is extended to a position where the aligning process is not performed. The x-axis aligning device 60 may be lowered to the lower portion of the frame 5 as the case may be.

y축 정렬장치(62)는 y축이 신속히 정렬하기 위하여 2개의 기판을 동시에 정렬한다. y축 정렬장치(62)는 y축이 신속히 정렬하기 위하여 2개의 고정평판(30)에 대하여 y축 방향으로 각각 2개의 y축 정렬 핀(620)이 배치된다. y축 정렬장치(62)는 x축 정렬장치(60)에 대하여 수직으로 움직여서 2개의 기판(7)을 y축에 대하여 정렬한다. 이는 x축 정렬과 y축 정렬이 동시에 가능할 수 있으며 경우에 따라서는 각각 따로 구동될 수도 있다. 또한 y축 정렬장치(62)는 정렬이 완료되면 y축 정렬 핀(620)의 간격은 서로 멀어진 후 노광공정에 걸리지 않는 위치까지 벌어진다. y축 정렬장치(62)는 경우에 따라서는 프레임(5)의 하부로 하강할 수도 있다.
The y-axis alignment device 62 aligns the two substrates simultaneously for quick alignment of the y-axis. The y-axis alignment device 62 is provided with two y-axis alignment pins 620 in the y-axis direction with respect to the two fixed flat plates 30 for quick alignment of the y-axis. The y-axis aligning device 62 moves vertically with respect to the x-axis aligning device 60 to align the two substrates 7 with respect to the y-axis. This can be done simultaneously with the x-axis alignment and the y-axis alignment, and in some cases, it can be separately driven. When the alignment is completed, the y-axis aligning devices 62 are separated from each other by a distance of the y-axis aligning pins 620, and are then moved to a position where they are not exposed to the exposure process. The y-axis aligning device 62 may be lowered to the lower portion of the frame 5 in some cases.

카메라(8)는 공정실에 놓이는 2개의 기판을 x축,y축에 대하여 각각 정렬상태를 확인하는 총 4대 이상의 카메라가 배치된다. 카메라는 노광이 일어나는 노광범위(32)에서 카메라가 신속하게 노광범위(32)를 벗어날 수 있는 공간을 제공한다. 카메라는 노광을 하기 위해 기판의 정렬상태를 확인하기 위해서는 노광범위(32)에 있고, 노광을 할 때는 노광범위(32)에서 벗어나 대기상태를 유지한다. 카메라는 고정평판(30)에서 기판(7)이 틀어져 있을 경우는 정렬장치(6)를 재사용하여 정렬한다.
The camera 8 is provided with four or more cameras for confirming the alignment state of the two substrates placed in the processing room with respect to the x-axis and the y-axis, respectively. The camera provides a space in which the camera can quickly get out of the light range 32 in the light range 32 where exposure occurs. The camera is in an exposed area 32 in order to confirm the alignment of the substrate for exposure, and is kept out of the exposed area 32 when exposed. The camera reuses and aligns the alignment device 6 when the substrate 7 is tilted at the stationary flat plate 30. [

도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 노광부의 예시도이다. 도면을 참조하여 설명하면, 노광부(3)는 초고압수은 램프를 사용하고 노광이 이루어지는 간격을 최대한 작게 하도록 미러 방식을 취하고 있다. 노광부는 2개의 기판(7)에 대하여 각각 동시에 노광공정을 수행할 수 있도록 2개를 배치한다. 노광부(3)는 이송장치(2)의 진행방향으로 배치되는 것이 바람직하다. 노광부(3)는 클린룸 면적을 최소화하기 위하여 이송장치(2)의 상단부에 배치되어 전체적인 시스템 형태를 직사각형상으로 하기 위함이다. 노광부(3)로 인한 돌출 면적을 없애도록 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 전체적인 멀티 노광장치(1)의 형상을 컴팩트하게 유지하기 위하여 직사각 형태를 유지하는 것이 좋다. 이는 멀티노광장치(1)의 클린룸 면적을 잦게 하기 위함이다. 더욱이 노광부(3)가 이송장치(2)의 진행방향으로 이동함에 따라 클린룸 사용공간이 작아지고(클린룸상태를 유지하는)유지비가 적게 발생하였다. 노광부(3)의 개수를 한정하기 위함은 아니다. 노광부(3)는 제1 평면경(36)과 제2 평명경(38) 및 제3 평면경(39)을 사용하여 노광을 조사한다. 노광부(3)는 제3 평면경(39)과 기판(7)까지의 거리에서 카메라가 이동 가능하도록 노광범위(32)가 형성된다. 노광부(3)는 수은램프(34)에서 방출(발사)되는 광과 노광범위(32)까지의 거리를 최단거리로 하기 위하여 제1 평면경(36), 제2 평면경(38) 및 제3 평면경(39)은 경사각을 갖는다. 노광부(3)는 기판(7)에 수직으로 노광을 쬐도록 배치되는 것이 바람직하다. 이는, 제3 평면경(39)는 기판(7)의 표면은 수직상태를 유지하는 것이 좋다. 10 is an exemplary view of an exposure unit according to a preferred embodiment of the present invention. Explanation will be made with reference to the drawings. The exposure unit 3 uses a super high pressure mercury lamp and adopts a mirror system so as to minimize the interval at which exposure is performed. The exposure unit arranges two of the two substrates 7 so as to perform the exposure process at the same time. It is preferable that the exposure unit 3 is disposed in the traveling direction of the transfer device 2. [ The exposure unit 3 is disposed at the upper end of the transfer device 2 to minimize the clean room area so that the overall system shape is rectangular. It is preferable that the protruding area due to the exposed portion 3 be eliminated. That is, it is preferable to maintain a rectangular shape in order to keep the overall shape of the multi-exposure apparatus 1 compact. This is to increase the clean room area of the multi-exposure apparatus 1. Further, as the exposed portion 3 moves in the traveling direction of the transfer device 2, the clean room use space becomes smaller and the maintenance cost for maintaining the clean room condition is decreased. It is not intended to limit the number of the exposed portions 3. The exposure section 3 irradiates the exposure using the first plane mirror 36, the second plane mirror 38, and the third plane mirror 39. [ The exposure section 3 is formed with an exposure range 32 so that the camera can be moved at a distance from the third plane mirror 39 to the substrate 7. [ The exposure unit 3 is provided with a first plane mirror 36, a second plane mirror 38, and a third plane mirror 38 in order to make the distance from the mercury lamp 34 to the light- (39) has an inclination angle. It is preferable that the exposure section 3 is disposed so as to expose the substrate 7 in a vertical direction. It is preferable that the surface of the substrate 7 in the third plane mirror 39 maintain a vertical state.

이하 본 발명의 실시예에 의한 작용을 첨부도면과 연계하여 설명하면 다음과 같다.   Hereinafter, the operation of the embodiment of the present invention will be described in connection with the accompanying drawings.

기판(7)은 이송장치(2)를 통하여 투입된다. 투입된 기판(7)은 노광 공정을 받기 위하여 셔틀장치(4)로 인계된다. 기판(7)은 안착홈(400)에 안착되어 노광공정실로 이동한다. 기판(7)은 셔틀장치(4)에 의해 2개의 고정평판(30)에 안착된다. 고정평판(30)에 안착된 기판(7)은 정렬장치(6)가 작동하여 x축 정렬장치(60)와 y축 정렬장치(62)에 의해 정렬된다. 기판(7)의 정렬이 완료되면 카메라가 기판(7)의 상단부로 접근하여 기판(7)의 정렬상태를 확인한다. 이때, 기판(7)의 정렬이 틀어져 있으면 정렬장치(6)가 재 작동하여 정렬한다. The substrate 7 is fed through the transfer device 2. The charged substrate 7 is transferred to the shuttle device 4 to receive the exposure process. The substrate 7 is seated in the seating groove 400 and moves to the exposure process chamber. The substrate 7 is seated on the two fixed flat plates 30 by the shuttle device 4. The substrate 7 mounted on the fixed plate 30 is aligned by the x-axis aligning device 60 and the y-axis aligning device 62 by operating the aligning device 6. When the alignment of the substrate 7 is completed, the camera approaches the upper end of the substrate 7 to check the alignment state of the substrate 7. At this time, if the alignment of the substrate 7 is wrong, the aligning device 6 is re-operated and aligned.

기판(7)의 정렬이 완료되면 카메라는 노광범위(32)를 벗어난다. 기판(7)의 정렬이 완료되면 고정평판(30)은 흔들리지 않도록 기판(7)을 고정한다. 노광부(3)는 기판(7)으로 수은램프 광(34)을 조사한다. 제1 평면경(36), 제2 평면경(38), 제3 평면경(39)을 거쳐 기판(7)에 수직으로 광을 조사한다. 조사가 완료 되면 수은램프는 멈추고 셔틀장치(4)을 이용하여 노광이 완료된 기판(7)을 배출 이송장치로 이송한다.
When the alignment of the substrate 7 is completed, the camera goes out of the light range 32. When the alignment of the substrate 7 is completed, the fixing plate 30 is fixed so that the substrate 7 is not shaken. The exposure section 3 irradiates the mercury lamp light 34 with the substrate 7. The substrate 7 is irradiated with light vertically through the first plane mirror 36, the second plane mirror 38 and the third plane mirror 39. [ When the irradiation is completed, the mercury lamp is stopped and the substrate 7, on which the exposure has been completed, is transferred to the discharge conveying device by using the shuttle device 4. [

이상과 같이, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. It is therefore to be understood that the embodiments described above are illustrative and not restrictive in every respect and that the scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the foregoing description, And all changes or modifications derived from equivalents thereof should be construed as being included within the scope of the present invention.

1: 멀티 노광장치
2: 이송장치
20: 제1 이송장치 22: 제2 이송장치
3: 노광부
30: 고정평판 32: 노광범위 34: 수은램프 광 36: 제1 평면경
38: 제2 평면경 39: 제3 평면경
4: 셔틀장치 (공압으로 이루어 진다.)
40: 핑거 42: 구동장치 44: 플레이트
400: 안착홈 420: 제1 구동장치 422: 제2 구동장치
5: 프레임
6: 정렬장치
60: x축 정렬장치 62: y축 정렬장치 600: x축 정렬핀
620: y축 정렬핀
7(7a, 7b,7c,7d): 기판
8:카메라1: Multi exposure apparatus
2: Feeding device
20: first conveying device 22: second conveying device
3: Exposure section
30: Fixed plate 32: Exposure range 34: Mercury lamp light 36: First plane mirror
38: second plane mirror 39: third plane mirror
4: Shuttle device (pneumatic)
40: finger 42: drive device 44: plate
400: seat groove 420: first driving device 422: second driving device
5: Frame
6: Alignment device
60: x-axis aligning device 62: y-axis aligning device 600: x-axis aligning pin
620: Y-axis alignment pin
7 (7a, 7b, 7c, 7d): substrate
8: Camera

Claims (7)

다수개의 기판을 이송하는 이송장치;
상기 다수개의 기판이 각각 놓이는 핑거와 상기 다수개의 핑거가 체결되는 플레이트와 상기 플레이트를 노광이 이루어지는 고정평판으로 이송하여 각각의 상기 기판을 상기 고정평판에 안착시키는 구동장치를 구비하는 셔틀장치;
상기 고정평판에 안착된 기판을 x축 방향으로 정렬하기 위하여, 상기 기판의 양측에서 x축 방향으로 접근하여 상기 기판을 정렬하는 x축 정렬장치와 상기 기판을 y축 방향으로 정렬하기 위하여 상기 기판의 양측에서 y축 방향으로 접근하여 상기 기판을 정렬하는 y축 정렬장치를 구비하는 정렬장치;
클린룸상태의 면적을 작게하기 위하여 상기 이송장치의 진행방향으로 배치되고 상기 정렬장치에 의해 정렬된 상기 기판에 대하여 수직면에 위치하여 노광을 하는 노광부; 및
상기 정렬장치에 의해 기판의 정렬이 완료되면 기판의 상단부로 접근하여 기판의 정렬상태를 확인하는 카메라
를 포함하고,
상기 카메라에 의해 기판의 정렬이 틀어져 있는 것이 확인되면 상기 정렬장치가 재 작동하여 기판을 정렬하며,
상기 카메라는,
정렬이 완료된 것이 최종 확인되면 노광범위를 벗어나며,
상기 노광부는,
수은 램프를 사용하고,
제1 평면경, 제2 평면경 및 제3 평면경을 사용하여 노광을 조사하며,
상기 제1 평면경, 제2 평면경 및 제3 평면경이 이루는 경사각은, 수은램프에서 조사되는 광과 노광범위까지의 거리를 최단거리로 하도록 구성되고,
제3 평면경과 기판의 표면은 수직상태를 유지하도록 구성되는 것
을 특징으로 하는 멀티 노광장치.
A transfer device for transferring a plurality of substrates;
A shuttle device having a plurality of fingers, a plate to which the plurality of fingers are coupled, and a driving device for transferring the plate to a fixed flat plate on which the plurality of fingers are mounted,
An x-axis aligning device for aligning the substrate in the x-axis direction on both sides of the substrate in order to align the substrates mounted on the fixed plate in the x-axis direction, An alignment device having a y-axis alignment device for aligning the substrate in a y-axis direction on both sides;
An exposure unit arranged in a traveling direction of the transfer device for reducing an area of a clean room state and located on a vertical plane with respect to the substrate aligned by the alignment device to perform exposure; And
When the alignment of the substrate is completed by the aligning device, the alignment state of the substrate approaches the upper end of the substrate,
Lt; / RTI >
If it is confirmed that the substrate is misaligned by the camera, the aligning device is operated again to align the substrate,
The camera comprises:
Once the alignment is completed,
The exposure unit includes:
Using a mercury lamp,
A first planar mirror, a second planar mirror, and a third planar mirror are used to illuminate the exposure,
The inclination angle formed by the first plane mirror, the second plane mirror, and the third plane mirror is configured so that the distance from the mercury lamp to the light and the light-
The third planar mirror and the surface of the substrate being configured to maintain a vertical state
And a plurality of exposure units.
청구항 1에 있어서,
상기 이송장치와 상기 셔틀장치 사이에 배치되고 기판과 접촉하여 진행을 멈추게 하도록 면적을 갖는 차폐부재와 상기 차폐부재의 일측 단부에 체결되고 상기 차폐부재를 회전시키는 회전부재를 구비하는 기판고정 장치를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 멀티 노광장치.
The method according to claim 1,
A substrate holding device disposed between the transfer device and the shuttle device and including a shielding member having an area for stopping the process in contact with the substrate and a rotating member coupled to one end of the shielding member and rotating the shielding member Wherein said exposure unit is provided with a plurality of exposure units.
청구항 2에 있어서
상기 회전부재의 회전에 의해서 상기 차폐부재와 이송장치가 수직상태로 놓이면 다수개의 기판의 진입을 막고 상기 회전부재가 회전하여 상기 차폐부재와 이송장치가 수평을 이루면 기판이 다음 공정으로 진행 되는 것을 특징으로 하는 멀티 노광장치.
Claim 2
If the shielding member and the transfer device are placed in a vertical state by rotation of the rotary member, the entry of a plurality of substrates is prevented, and when the rotary member rotates and the transfer device and the shielding member are horizontal, the substrate proceeds to the next process .
청구항 3에 있어서,
상기 x축 정렬장치는 다수개가 배치되고,
x축 방향에 대하여 각각 구동하고, x축 방향으로 이동하면서 상기 기판을 정렬하기 위한 x축 정렬 핀을 구비하는 것을 특징으로 하는 멀티 노광장치.
The method of claim 3,
A plurality of the x-axis alignment devices are disposed,
and an x-axis alignment pin for aligning the substrate while moving in the x-axis direction.
청구항 2에 있어서,
상기 구동장치는
상기 기판을 핑거로부터 분리하고 상기 고정평판에 안착시키기 위하여 상기 플레이트를 상하로 이동하는 제1 구동장치와 상기 플레이트를 수평으로 이동하는 제2 구동장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 멀티 노광장치.
The method of claim 2,
The drive device
And a second driving device for horizontally moving the plate, the first driving device moving the plate vertically to separate the substrate from the finger and placing the plate on the fixed plate, and a second driving device moving the plate horizontally.
청구항 5에 있어서,
상기 제1 구동장치는
상기 플레이트를 상하로 이동하도록 실린더와 파워시트를 사용하는 것을 특징으로 하는 멀티 노광장치.
The method of claim 5,
The first driving device
Wherein a cylinder and a power sheet are used to move the plate up and down.
청구항 1에 기재된 멀티 노광장치를 포함하는 공정장치. A process apparatus including the multi-exposure apparatus according to claim 1.
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