KR101180379B1 - Exposure Apparatus - Google Patents

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윤양수
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    • H01L21/0274—Photolithographic processes

Abstract

PURPOSE: An exposure apparatus is provided to rapidly and conveniently process an aligning process by including a free align-module controlling the location of a substrate settled on a stage. CONSTITUTION: A feeding unit(300) supplies a substrate. A stage(400) receives the substrate from the feeding unit and settles the substrate. A discharging unit(500) receives the substrate from the stage and discharges it. An optical unit radiates light to the substrate on the stage. An align-unit(800) controls the alignment of the substrate settled on the stage. A mask holder is arranged in a space between the optical unit and the stage. A mask is mounted on the mask holder in order to pass through the light of the optical unit. A transport shuttle unit transfers the substrate from the feeding unit to the stage. The transport shuttle unit transfers the substrate from the stage to the discharge unit.

Description

노광 장치{Exposure Apparatus}Exposure Apparatus {Exposure Apparatus}

본 발명은 노광 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 다수개의 기판을 동시에 이송시킬 수 있는 셔틀 본체를 구비함으로써, 셔틀 본체 하나의 구성에 대한 이송 동작을 통해 다수개의 기판을 동시에 이송 전달할 수 있고, 이에 따라 각 기판에 대한 개별적인 이송 장치 및 구동부가 불필요하여 구성을 단순화할 수 있고, 제작이 용이하며, 더욱 신속한 노광 공정을 수행할 수 있으며, 공급 유닛 및 배출 유닛의 구조를 다양한 크기 및 종류의 기판에 적용할 수 있도록 가변적으로 구성함으로써, 별도의 장치를 부가하거나 장치 교환 없이 다양한 기판에 대해 적용할 수 있고, 스테이지에 안착된 기판의 위치를 1차적으로 정렬하는 프리 얼라인 모듈을 구비함으로써, 얼라인 작업을 더욱 편리하고 신속하게 진행할 수 있는 노광 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an exposure apparatus. More specifically, by having a shuttle body capable of simultaneously transferring a plurality of substrates, it is possible to transfer and transfer a plurality of substrates at the same time through a transfer operation for one configuration of the shuttle body, and thus a separate transfer device for each substrate and By eliminating the need for a driving unit, the configuration can be simplified, manufacturing is easy, a faster exposure process can be performed, and the structure of the supply unit and the discharge unit is variably configured to be applied to various sizes and types of substrates, It can be applied to various substrates without adding a separate device or changing devices, and has a pre-align module that primarily aligns the position of the substrate seated on the stage, so that the alignment work can be performed more conveniently and quickly. The present invention relates to an exposure apparatus.

일반적으로, 컴퓨터 및 각종 전자 제품에 적용되는 반도체 소자나, 화상 표시 소자인 액정 표시 소자(LCD: Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(PDP: Plasma Display Panel), 전자 부품이 실장되는 회로기판(PCB) 등의 제조 과정 중에서 미세 패턴을 정밀하게 형성하기 위해 포토 리소그래피(photo-lithography) 방법을 널리 이용한다.Generally, a semiconductor device applied to a computer and various electronic products, a liquid crystal display (LCD) which is an image display device, a plasma display panel (PDP), and a circuit board on which electronic components are mounted Photolithography (photo-lithography) method is widely used to precisely form a fine pattern during the manufacturing process.

포토 리소그래피 방법은 피처리 기판 상에 감광 물질(photo-resist)을 균일하게 도포하여 감광 물질 막을 형성하는 단계와, 형성된 감광 물질 막을 선택적으로 노광용 광에 노출시켜 노출된 부분의 감광 물질의 성질을 변화시키는 단계와, 현상액 등을 이용하여 성질이 변화된 부분을 선택적으로 제거하여 목적하는 감광 물질 막 패턴을 형성하는 단계로 이루어지며, 이후 형성된 감광 물질 막 패턴을 이용하여 식각(etching) 공정 등을 통해 피처리 기판 상에 패턴을 형성시키게 된다.The photolithography method is performed by uniformly applying a photo-resist on a substrate to be formed to form a photosensitive material film, and selectively exposing the formed photosensitive material film to exposure light to change the properties of the photosensitive material in the exposed part. And forming a desired photoresist film pattern by selectively removing a portion whose properties have been changed by using a developing solution, and the like, by using an formed photoresist film pattern and then etching through an etching process or the like. A pattern is formed on the processing substrate.

포토 리소그래피 공정에 속하는 노광(exposure) 공정은 특정 패턴이 디자인된 레티클(reticle) 또는 마스크(mask)를 광원과 피처리 기판 사이에 위치시키고, 광원으로부터 피처리 기판을 향해 광을 조사시킴으로써 광이 레티클 또는 마스크 상의 패턴에 따라 피처리 기판을 선택적으로 노출시키는 방식으로 진행된다.An exposure process, a photolithography process, involves placing a reticle or mask in which a specific pattern is designed between a light source and a target substrate and irradiating light from the light source toward the target substrate so that the light is reticle. Or by selectively exposing the substrate to be processed according to the pattern on the mask.

이러한 노광 공정을 수행하는 노광 장치는 자동화된 장비를 통해 이루어지는데, 일반적으로 셀 단위의 기판을 별도의 공급 유닛으로부터 공급받아 이송하는 로봇 암과, 로봇 암으로부터 기판을 전달받는 스테이지와, 스테이지의 상부에 위치하는 마스크 및 광학 유닛과, 배출 유닛 등을 포함하는 형태로 구성된다. An exposure apparatus that performs such an exposure process is performed through an automated equipment. In general, a robot arm for receiving and transferring a substrate in a cell unit from a separate supply unit, a stage for receiving a substrate from the robot arm, and an upper portion of the stage And a mask and an optical unit, and an ejection unit.

이러한 일반적인 노광 장치를 구성하는 구성 요소들은 각각의 기판을 공정 상태에 따라 이송하는 과정에서 각각 별도의 독립적인 구동부를 통해 X축, Y축 및 Z축 방향으로 계속 반복적으로 이동하는 방식으로 구성된다. 이러한 구조는 다수개의 구동부를 필요로 하게 되어 부품 수가 증가할 뿐만 아니라 구조가 복잡하여 제작의 어려움 및 각 구동부의 제어 로직 또한 복잡해지며, 공정 처리 속도 및 정확도에 있어서 한계가 발생하는 등의 문제가 있었다. The components constituting the general exposure apparatus are configured to continuously move in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions through separate independent driving units in the process of transferring each substrate according to the process state. Such a structure requires a large number of driving units, which increases the number of components, and the complicated structure leads to difficulty in manufacturing and control logic of each driving unit, and has limitations in process speed and accuracy. .

특히, 스테이지와 광학 유닛 등은 노광 공정에서 기판에 형성되는 패턴의 정확도를 유지하기 위해 매우 정확하게 얼라인되어야 하는데, 스테이지와 광학 유닛 등이 계속적으로 이동하게 되므로, 그 얼라인 작업이 복잡하고 어려울 뿐만 아니라 정확도 또한 저하되어 제품의 불량률이 증가하는 등의 문제가 있었다.In particular, the stage and the optical unit must be aligned very accurately in order to maintain the accuracy of the pattern formed on the substrate in the exposure process, and the alignment work is complicated and difficult because the stage and the optical unit are continuously moved. In addition, the accuracy is also reduced, there is a problem such as an increase in the defective rate of the product.

선행 기술로는 국내공개특허 제10-2011-59207호 등이 있다.
Prior arts include Korean Patent Publication No. 10-2011-59207.

본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 발명한 것으로서, 본 발명의 목적은 다수개의 기판을 동시에 이송시킬 수 있는 셔틀 본체를 구비함으로써, 셔틀 본체 하나의 구성에 대한 이송 동작을 통해 다수개의 기판을 동시에 이송 전달할 수 있고, 이에 따라 각 기판에 대한 개별적인 이송 장치 및 구동부가 불필요하여 구성을 단순화할 수 있고, 제작이 용이하며, 더욱 신속한 노광 공정을 수행할 수 있는 노광 장치를 제공하는 것이다.The present invention is invented to solve the problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a plurality of substrates through a transfer operation for one configuration of the shuttle body by having a shuttle body capable of simultaneously transferring a plurality of substrates The present invention provides an exposure apparatus capable of transfer transfer at the same time, thereby simplifying the configuration, making it easy to manufacture, and performing a faster exposure process, since a separate transfer apparatus and a driving unit for each substrate are unnecessary.

본 발명의 다른 목적은 셔틀 본체를 통해 기판을 이송 전달함으로써, 스테이지의 위치를 고정할 수 있어 노광 공정을 더욱 정확하게 진행할 수 있는 노광 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of fixing the position of the stage by transferring the substrate through the shuttle body, thereby allowing the exposure process to proceed more accurately.

본 발명의 또 다른 목적은 공급 유닛 및 배출 유닛의 구조를 다양한 크기 및 종류의 기판에 적용할 수 있도록 가변적으로 구성함으로써, 별도의 장치를 부가하거나 장치 교환 없이 다양한 기판에 대해 모두 노광 공정을 진행할 수 있는 노광 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to variably configure the structure of the supply unit and the discharge unit to be applied to a variety of substrates of different sizes and types, so that the exposure process can be performed on a variety of substrates without adding a separate device or device replacement It is to provide an exposure apparatus.

본 발명의 또 다른 목적은 스테이지에 안착된 기판의 위치를 1차적으로 정렬하는 프리 얼라인 모듈을 구비함으로써, 얼라인 작업을 더욱 편리하고 신속하게 진행할 수 있는 노광 장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an exposure apparatus that can perform alignment operation more conveniently and quickly by providing a pre-align module that primarily aligns the position of the substrate seated on the stage.

본 발명의 또 다른 목적은 마스크 홀더의 진공 흡착 그루브와 스테이지의 진공 흡착 그루브가 하나의 진공 흡입 펌프에 의해 동시에 작동하도록 서로 연통되게 구성함으로써, 마스크와 기판에 대한 상대 위치 변경이 발생하지 않아 얼라인 공정 및 노광 공정을 더욱 정확하게 진행할 수 있는 노광 장치를 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to configure the vacuum suction groove of the mask holder and the vacuum suction groove of the stage to be in communication with each other so as to operate simultaneously by one vacuum suction pump, so that a relative position change with respect to the mask and the substrate does not occur and is aligned. It is to provide an exposure apparatus that can proceed the process and the exposure process more accurately.

본 발명은, 기판(S)을 공급하는 공급 유닛(300); 상기 공급 유닛(300)으로부터 기판(S)을 전달받아 기판(S)을 안착 고정시키는 스테이지(400); 상기 스테이지(400)로부터 기판(S)을 전달받아 배출하는 배출 유닛(500); 상기 스테이지(400)의 상부에 배치되어 상기 스테이지(400)의 기판(S)에 광을 조사하는 광학 유닛(200); 상기 광학 유닛(200)의 광이 통과하도록 마스크(M)가 장착되어 상기 광학 유닛(200)과 스테이지(400) 사이 공간에 배치되는 마스크 홀더(700); 기 스테이지(400)에 안착된 기판(S)의 위치 정렬 상태를 측정 조절하는 얼라인 유닛(800); 및 기판(S)을 상기 공급 유닛(300)으로부터 상기 스테이지(400)에 이송 전달함과 동시에 상기 스테이지(400)로부터 상기 배출 유닛(500)에 이송 전달하는 이송 셔틀 유닛(900)을 포함하고, 상기 이송 셔틀 유닛(900)은 셔틀 본체(910)와, 상기 셔틀 본체(910)에 장착되며 기판(S)을 파지할 수 있도록 형성되는 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)와, 상기 셔틀 본체(910)를 이동시키는 셔틀 구동부(930)를 포함하고, 상기 셔틀 본체(910)가 이동함에 따라 상기 공급 유닛(300)의 기판(S)은 상기 제 1 핑거부(921)에 파지되고 상기 스테이지(400)의 기판(S)은 상기 제 2 핑거부(922)에 파지되어 각각 상기 스테이지(400) 또는 배출 유닛(500)으로 동시에 이송 전달되는 것을 특징으로 하는 노광 장치를 제공한다.The present invention, the supply unit 300 for supplying a substrate (S); A stage 400 receiving the substrate S from the supply unit 300 and seating and fixing the substrate S; A discharge unit 500 receiving and discharging the substrate S from the stage 400; An optical unit 200 disposed on the stage 400 to irradiate light onto the substrate S of the stage 400; A mask holder 700 mounted with a mask M to allow light of the optical unit 200 to pass therethrough and disposed in a space between the optical unit 200 and the stage 400; An alignment unit 800 for measuring and adjusting a position alignment state of the substrate S seated on the stage 400; And a transfer shuttle unit 900 which transfers and transfers the substrate S from the supply unit 300 to the stage 400, and at the same time, transfers the substrate S from the stage 400 to the discharge unit 500. The transfer shuttle unit 900 includes a shuttle body 910, first and second fingers 921 and 922 mounted to the shuttle body 910 and formed to hold a substrate S, and the shuttle body And a shuttle driver 930 for moving the 910, and as the shuttle body 910 moves, the substrate S of the supply unit 300 is gripped by the first finger 921 and the stage is moved. The substrate S of the 400 is gripped by the second finger 922 to provide an exposure apparatus, characterized in that simultaneously transferred to the stage 400 or the discharge unit 500, respectively.

이때, 상기 스테이지(400), 광학 유닛(200), 마스크 홀더(700) 및 얼라인 유닛(800)은 복수개 구비되고, 상기 이송 셔틀 유닛(900)의 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)는 각각 복수개의 기판(S)을 동시에 이송 전달할 수 있도록 각각 복수개 장착될 수 있다.In this case, the stage 400, the optical unit 200, the mask holder 700, and the align unit 800 are provided in plural, and the first and second fingers 921 and 922 of the transfer shuttle unit 900 are provided. Each of the plurality of substrates (S) may be mounted in plurality, respectively, so as to transfer and transfer at the same time.

또한, 상기 셔틀 구동부(930)는 상기 셔틀 본체(910)를 좌우 방향으로 수평 왕복 이동시키는 셔틀 수평 구동부(931); 및 상기 셔틀 본체(910)를 상하 방향으로 수직 왕복 이동시키는 셔틀 수직 구동부(932)를 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)는 상기 셔틀 본체(910)가 상향 이동함에 따라 상기 공급 유닛(300) 및 스테이지(400)로부터 각각 기판(S)을 상향 이동시키며 파지하고, 상기 셔틀 본체(910)가 수평 이동함에 따라 각각 기판(S)을 파지한 상태로 수평 방향으로 이동시키며, 상기 셔틀 본체(910)가 하향 이동함에 따라 각각 기판(S)을 하향 이동시키며 상기 스테이지(400) 또는 배출 유닛(500)에 안착시키도록 구성될 수 있다.The shuttle driver 930 may include: a shuttle horizontal driver 931 for horizontally reciprocating the shuttle body 910 in a horizontal direction; And a shuttle vertical driver 932 for vertically reciprocating the shuttle body 910 in the vertical direction, wherein the first and second fingers 921 and 922 are supplied as the shuttle body 910 moves upward. The substrate S is moved upward and gripping from the unit 300 and the stage 400, respectively, and the substrate S is moved in the horizontal direction while the substrate S is held horizontally as the shuttle body 910 moves horizontally. As the shuttle body 910 moves downward, the substrate S may move downward, respectively, and may be configured to be seated on the stage 400 or the discharge unit 500.

또한, 상기 셔틀 수평 구동부(931)는 좌우 양측단부에 구동 롤러(931-2) 및 종동 롤러(931-3)가 장착되고, 상기 셔틀 본체(910)가 수평 방향으로 직선 이동 가능하게 결합되는 셔틀 수평 지지대(931-1); 양단이 상기 구동 롤러(931-2) 및 종동 롤러(931-3)에 권취되어 수평 이동하는 이동 벨트(931-4); 및 상기 이동 벨트(931-4)가 수평 이동하도록 상기 구동 롤러(931-2)를 회전 구동하는 셔틀 수평 구동 모터(931-7)를 포함하고, 상기 셔틀 본체(910)는 상기 이동 벨트(931-4)의 일측에 결합되어 상기 이동 벨트(931-4)와 함께 수평 이동하도록 구성될 수 있다.In addition, the shuttle horizontal drive unit 931 is equipped with a driving roller 931-2 and a driven roller 931-3 at both left and right end ends, the shuttle main body 910 is coupled to the linear movement in the horizontal direction Horizontal support 931-1; A moving belt 931-4 whose both ends are wound around the drive roller 931-2 and the driven roller 931-3 to move horizontally; And a shuttle horizontal drive motor 931-7 for rotationally driving the drive roller 931-2 so that the moving belt 931-4 moves horizontally, and the shuttle body 910 has the moving belt 931. It may be coupled to one side of -4) and configured to move horizontally with the moving belt 931-4.

또한, 상기 셔틀 수직 구동부(932)는 셔틀 수직 구동 모터(932-1); 및 상기 셔틀 수직 구동 모터(932-1)에 의해 회전 구동되는 회전 샤프트(932-2)에 결합되어 일체로 회전하는 캠 플레이트(932-3)를 포함하고, 상기 셔틀 수평 지지대(931-1)는 하단에 상기 캠 플레이트(932-3)와 맞물림되어 상하 직선 이동하는 연결 지지대(931-5)가 결합되어 상하 직선 이동하고, 상기 셔틀 본체(910)는 상기 셔틀 수평 지지대(931-1)와 함께 상하 직선 이동하도록 구성될 수 있다.In addition, the shuttle vertical drive unit 932 includes a shuttle vertical drive motor 932-1; And a cam plate 932-3 which is integrally rotated by being coupled to a rotation shaft 932-2 that is rotationally driven by the shuttle vertical drive motor 932-1, and wherein the shuttle horizontal support 931-1 is provided. Is coupled to the cam plate (932-3) is coupled to the lower and vertically moving connecting support (931-5) is coupled up and down linear movement, the shuttle body 910 is the shuttle horizontal support (931-1) It can be configured to move up and down linearly together.

또한, 상기 공급 유닛(300)은 서로 평행하게 2열로 배치되는 다수개의 회전 롤러(310); 각 열을 이루는 다수개의 상기 회전 롤러(310)를 따라 서로 평행하게 각각 권취되어 상기 회전 롤러(310)를 따라 이동하는 한 쌍의 콘베이어 벨트(320); 및 상기 콘베이어 벨트(320)가 이동하도록 상기 회전 롤러(310)를 회전 구동하는 공급 구동 모터(340)를 포함하고, 기판(S)은 상기 콘베이어 벨트(320)에 안착되어 순차적으로 공급 이송되며, 상기 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송되는 기판(S)을 특정 위치에 정지 고정시킬 수 있도록 별도의 스토퍼 모듈(330)이 한 쌍의 상기 콘베이어 벨트(320) 사이에 배치되고, 상기 스토퍼 모듈(330)은 기판(S)의 정지 고정 위치를 변경 조절할 수 있도록 형성될 수 있다.In addition, the supply unit 300 includes a plurality of rotating rollers 310 arranged in two rows in parallel with each other; A pair of conveyor belts 320 which are respectively wound in parallel with each other along the plurality of rotating rollers 310 forming each row and moving along the rotating rollers 310; And a supply drive motor 340 which rotationally drives the rotating roller 310 so that the conveyor belt 320 moves, and the substrate S is mounted on the conveyor belt 320 and sequentially supplied and transported. A separate stopper module 330 is disposed between the pair of conveyor belts 320 to stop and fix the substrate S transported by the conveyor belt 320 at a specific position, and the stopper module 330 ) May be formed to change and adjust the stationary fixed position of the substrate (S).

이때, 상기 스토퍼 모듈(330)은 중단부 일측에 랙 기어(334)가 형성된 스토퍼 지지바(331); 상기 랙 기어(334)에 맞물림되도록 일단부에 피니언 기어(335)가 형성되는 스토퍼 샤프트(336); 상기 스토퍼 샤프트(336)를 회전 구동하는 스토퍼 이동 모터(337); 및 상기 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송되는 기판(S)이 맞물림되며 정지하도록 상기 콘베이어 벨트(320)보다 상향 돌출되게 상기 스토퍼 지지바(331)에 결합되는 스토퍼 블록(332,333)을 포함하고, 상기 스토퍼 지지바(331) 및 상기 스토퍼 블록(332,333)이 상기 스토퍼 이동 모터(337)의 구동에 의해 상기 콘베이어 벨트(320)의 이동 방향을 따라 직선 이동함으로써, 기판(S)의 정지 고정 위치가 변경 조절되도록 구성될 수 있다.At this time, the stopper module 330 is a stopper support bar 331, the rack gear 334 is formed on one side of the stop; A stopper shaft 336 having a pinion gear 335 formed at one end thereof to be engaged with the rack gear 334; A stopper moving motor 337 which rotationally drives the stopper shaft 336; And stopper blocks 332 and 333 coupled to the stopper support bar 331 to protrude upwardly from the conveyor belt 320 so that the substrate S transferred by the conveyor belt 320 is engaged and stopped. The stopper support bar 331 and the stopper blocks 332 and 333 are linearly moved along the moving direction of the conveyor belt 320 by the drive of the stopper moving motor 337, whereby the stop fixing position of the substrate S is changed. It can be configured to be adjusted.

또한, 상기 스토퍼 블록(332,333)은 상기 콘베이어 벨트(320)의 이동 방향을 따라 상기 스토퍼 지지바(331)의 전단 및 후단에 각각 결합되고, 상기 스토퍼 지지바(331)의 전단에 결합되는 스토퍼 블록(332)은 별도의 액츄에이터(338)에 의해 상하 이동 가능하게 결합되어 기판(S)을 선택적으로 정지시키도록 구성될 수 있다.In addition, the stopper blocks 332 and 333 are respectively coupled to the front end and the rear end of the stopper support bar 331 along the moving direction of the conveyor belt 320, and the stopper blocks coupled to the front end of the stopper support bar 331. 332 may be configured to be vertically coupled by a separate actuator 338 to selectively stop the substrate S. Referring to FIG.

또한, 상기 공급 유닛(300)은 상기 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송되는 기판(S)의 이동 경로를 가이드하는 공급 가이드 모듈(340)을 더 포함하고, 상기 공급 가이드 모듈(340)은 가이드 지지판(343); 기판(S)의 양측단에 접촉할 수 있도록 서로 평행하게 이격 배치되고, 상호 이격 간격이 조절될 수 있도록 상기 가이드 지지판(343)에 직선 이동 가능하게 결합되는 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342); 및 상기 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342)의 이격 간격을 조절하는 간격 조절 수단(345)을 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the supply unit 300 further includes a supply guide module 340 for guiding a movement path of the substrate S transported by the conveyor belt 320, and the supply guide module 340 includes a guide support plate. (343); The first and second guide plates 341 and 342 are disposed in parallel to each other so as to be in contact with both ends of the substrate S, and are linearly coupled to the guide support plate 343 so as to be mutually spaced apart. ; And a spacing adjusting means 345 for adjusting the spacing between the first and second guide plates 341 and 342.

이때, 상기 간격 조절 수단(345)은 상기 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342)의 서로 대향하는 면에 각각 직각 방향으로 결합되며, 일면에 랙 기어(345-3)가 형성되는 제 1 및 제 2 랙바(345-1,345-2); 상기 제 1 및 제 2 랙바(345-1,345-2)의 랙 기어(345-3)와 동시에 맞물림되도록 일단에 피니언 기어(345-4)가 형성되는 간격 조절 샤프트(345-5); 및 상기 간격 조절 샤프트(345-5)를 회전 구동하는 간격 조절 모터(345-6)를 포함하여 구성될 수 있다.In this case, the gap adjusting means 345 is coupled to the surfaces of the first and second guide plates 341 and 342 facing each other at right angles, respectively, and includes first and second rack gears 345-3 formed on one surface thereof. Two rack bars 345-1,345-2; An interval adjusting shaft 345-5 having a pinion gear 345-4 at one end thereof to be engaged with the rack gears 345-3 of the first and second rack bars 345-1 and 345-2 at the same time; And a spacing motor 345-6 for rotationally driving the spacing shaft 345-5.

또한, 상기 공급 가이드 모듈(340)은 상기 셔틀 구동부(930)에 의해 구동되어 상기 셔틀 본체(910)와 함께 상하 직선 이동하며, 상향 이동한 상태에서 기판(S)의 이동 경로를 가이드하도록 구성될 수 있다.In addition, the supply guide module 340 is driven by the shuttle driving unit 930 to move up and down linearly with the shuttle body 910, to be configured to guide the movement path of the substrate (S) in the upward movement state Can be.

한편, 상기 얼라인 유닛(800)은 상기 스테이지(400)에 안착된 기판(S)의 위치가 1차적으로 정렬되도록 상기 스테이지(400) 상에서 기판(S)을 이동시키는 프리 얼라인 모듈(830); 상기 프리 얼라인 모듈(830)에 의해 1차 위치 정렬된 기판(S)의 위치 정렬 상태를 카메라 모듈(811)을 이용하여 측정하는 비젼 시스템(810); 및 상기 비젼 시스템(810)의 측정 결과에 따라 기판(S)의 위치 정렬 상태를 최종 조절하도록 상기 스테이지(400)의 위치를 미세 조정하는 메인 얼라인 모듈(820)을 포함하여 구성될 수 있다.Meanwhile, the alignment unit 800 moves the substrate S on the stage 400 so that the position of the substrate S seated on the stage 400 is primarily aligned. ; A vision system 810 for measuring a position alignment state of the substrate S primarily aligned by the prealign module 830 using the camera module 811; And a main alignment module 820 finely adjusting the position of the stage 400 to finally adjust the position alignment state of the substrate S according to the measurement result of the vision system 810.

이때, 상기 프리 얼라인 모듈(830)은 상기 스테이지(400)의 상면으로부터 상향 돌출될 수 있도록 배치되며, X축 방향을 따라 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 직선 이동하는 X축 가이드바(831); 및 상기 스테이지(400)의 상면으로부터 상향 돌출될 수 있도록 배치되며, 상기 X축과 직각인 Y축 방향을 따라 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 직선 이동하는 Y축 가이드바(832)를 포함하고, 상기 X축 가이드바(831)가 서로 근접하는 방향으로 이동하며 기판(S)의 X축 방향 양단에 접촉하여 기판(S)의 X축 방향 위치를 조절하고, 상기 Y축 가이드바(832)가 서로 근접하는 방향으로 이동하며 기판(S)의 Y축 방향 양단에 접촉하여 Y축 방향 위치를 조절하도록 구성될 수 있다.At this time, the pre-align module 830 is disposed so as to protrude upward from the upper surface of the stage 400, the X-axis guide bar 831 to move in a straight line in a direction near or far away from each other along the X-axis direction; And a Y-axis guide bar 832 disposed to protrude upward from an upper surface of the stage 400 and linearly moving in a direction near or away from each other along a Y-axis direction perpendicular to the X-axis. The axis guide bar 831 moves in a direction close to each other and is in contact with both ends of the X axis direction of the substrate S to adjust the X axis direction position of the substrate S, and the Y axis guide bar 832 is close to each other. It may be configured to adjust the position in the Y-axis direction in contact with both ends of the Y-axis direction of the substrate (S) to move in the direction.

한편, 상기 마스크 홀더(700)에는 상기 마스크(M)가 진공 흡착 고정되도록 그루브(720)가 형성되고, 상기 스테이지(400)에는 상기 스테이지(400) 상에 안착된 기판(S)이 진공 흡착 고정되도록 그루브(410)가 형성되며, 상기 마스크 홀더(700)에 형성된 그루브(720)와 상기 스테이지(400)에 형성된 그루브(410)는 상호 연통되도록 형성되어 하나의 진공 흡입 펌프에 의해 각각 상기 마스크(M) 및 기판(S)을 동시에 진공 흡착 고정하도록 구성될 수 있다.
Meanwhile, a groove 720 is formed in the mask holder 700 so that the mask M is fixed to vacuum suction, and the substrate S is vacuum suction fixed to the stage 400 on the stage 400. The grooves 410 are formed to be formed, and the grooves 720 formed in the mask holder 700 and the grooves 410 formed in the stage 400 are formed to communicate with each other by the vacuum suction pump. M) and the substrate S can be configured to vacuum-adsorb at the same time.

본 발명에 의하면, 다수개의 기판을 동시에 이송시킬 수 있는 셔틀 본체를 구비함으로써, 셔틀 본체 하나의 구성에 대한 이송 동작을 통해 다수개의 기판을 동시에 이송 전달할 수 있고, 이에 따라 각 기판에 대한 개별적인 이송 장치 및 구동부가 불필요하여 구성을 단순화할 수 있고, 제작이 용이하며, 더욱 신속한 노광 공정을 수행할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, by having a shuttle body capable of transferring a plurality of substrates at the same time, it is possible to transfer and transfer a plurality of substrates at the same time through the transfer operation for one shuttle body configuration, and thus a separate transfer device for each substrate And since the driving unit is unnecessary, the configuration can be simplified, manufacturing is easy, and there is an effect of performing a faster exposure process.

또한, 셔틀 본체를 통해 기판을 이송 전달함으로써, 스테이지의 위치를 고정할 수 있어 노광 공정을 더욱 정확하게 진행할 수 있는 효과가 있다.In addition, by transferring the substrate through the shuttle body, the position of the stage can be fixed, so that the exposure process can be performed more accurately.

또한, 공급 유닛 및 배출 유닛의 구조를 다양한 크기 및 종류의 기판에 적용할 수 있도록 가변적으로 구성함으로써, 별도의 장치를 부가하거나 장치 교환 없이 다양한 기판에 대해 모두 노광 공정을 진행할 수 있는 효과가 있다.In addition, by varying the structure of the supply unit and the discharge unit to be applied to a variety of substrates of different sizes and types, there is an effect that the exposure process can be performed on a variety of substrates without adding a separate device or device replacement.

또한, 스테이지에 안착된 기판의 위치를 1차적으로 정렬하는 프리 얼라인 모듈을 구비함으로써, 얼라인 작업을 더욱 편리하고 신속하게 진행할 수 있는 효과가 있다.In addition, by providing a pre-align module that primarily aligns the position of the substrate seated on the stage, there is an effect that the alignment operation can be carried out more conveniently and quickly.

또한, 마스크 홀더의 진공 흡착 그루브와 스테이지의 진공 흡착 그루브가 하나의 진공 흡입 펌프에 의해 동시에 작동하도록 서로 연통되게 구성함으로써, 마스크와 기판에 대한 상대 위치 변경이 발생하지 않아 얼라인 공정 및 노광 공정을 더욱 정확하게 진행할 수 있는 효과가 있다.
In addition, the vacuum suction groove of the mask holder and the vacuum suction groove of the stage are configured to communicate with each other so as to operate simultaneously by one vacuum suction pump, so that a relative position change with respect to the mask and the substrate does not occur, thereby aligning the alignment process and the exposure process. There is an effect that can proceed more accurately.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 전체 외형을 개략적으로 도시한 사시도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 일부 구성에 대한 배치 상태를 개략적으로 도시한 평면도,
도 3은 도 2에 도시된 도면에 대한 측면도,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 공급 유닛, 배출 유닛 및 이송 셔틀 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 사시도,
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 이송 셔틀 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 사시도,
도 7 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 공급 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면,
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 공급 유닛과 이송 셔틀 유닛에 대한 결합 관계를 개략적으로 도시한 도면,
도 12 내지 도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 공급 유닛, 배출 유닛 및 이송 셔틀 유닛에 대한 작동 상태를 개략적으로 도시한 도면,
도 15 내지 도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 메인 얼라인 모듈과 프리 얼라인 모듈에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면,
도 20 및 도 21은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 비젼 시스템에 대한 구성 및 작동 상태를 개략적으로 도시한 도면,
도 22는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 마스크 홀더에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a perspective view schematically showing an overall appearance of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;
2 is a plan view schematically showing an arrangement state of some components of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;
3 is a side view of the drawing shown in FIG. 2;
4 is a perspective view schematically illustrating a configuration of a supply unit, a discharge unit, and a transfer shuttle unit of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;
5 and 6 are a perspective view schematically showing the configuration of the transfer shuttle unit of the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention,
7 to 10 schematically show a configuration of a supply unit of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;
11 is a view schematically showing a coupling relationship between a supply unit and a transfer shuttle unit of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;
12 to 14 schematically show the operating states of the supply unit, the discharge unit and the transfer shuttle unit of the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention,
15 to 19 schematically illustrate the configuration of the main alignment module and the pre-align module of the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;
20 and 21 schematically illustrate a configuration and an operating state of a vision system of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention;
FIG. 22 is a diagram schematically illustrating a configuration of a mask holder of an exposure apparatus according to an embodiment of the present disclosure.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to designate the same or similar components throughout the drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 전체 외형을 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 일부 구성에 대한 배치 상태를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 3은 도 2에 도시된 도면에 대한 측면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 공급 유닛, 배출 유닛 및 이송 셔틀 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 이송 셔틀 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 7 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 공급 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면이고, 도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 공급 유닛과 이송 셔틀 유닛에 대한 결합 관계를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 12 내지 도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 공급 유닛, 배출 유닛 및 이송 셔틀 유닛에 대한 작동 상태를 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a perspective view schematically showing an overall appearance of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view schematically showing an arrangement state of some components of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a side view of the drawing illustrated in FIG. 2, and FIG. 4 is a perspective view schematically illustrating a configuration of a supply unit, a discharge unit, and a transfer shuttle unit of an exposure apparatus according to an embodiment of the present disclosure; 5 and 6 are perspective views schematically showing the configuration of the transfer shuttle unit of the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, Figures 7 to 10 is a supply unit of the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention FIG. 11 is a view schematically showing a configuration for FIG. 11, and FIG. 11 schematically illustrates a coupling relationship between a supply unit and a transfer shuttle unit of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 to 14 are diagrams schematically showing operating states of a supply unit, a discharge unit and a transfer shuttle unit of the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치는 공급 유닛(300), 스테이지(400), 배출 유닛(500), 광학 유닛(200), 마스크 홀더(700), 얼라인 유닛(800) 및 이송 셔틀 유닛(900)을 포함하여 구성된다. 이러한 구성 요소들은 기본 구조를 이루는 베이스 프레임(100)에 의해 지지 결합된다.Exposure apparatus according to an embodiment of the present invention is the supply unit 300, the stage 400, the discharge unit 500, the optical unit 200, the mask holder 700, the alignment unit 800 and the transfer shuttle unit And 900. These components are supported by the base frame 100 forming a basic structure.

공급 유닛(300)은 별도의 공급 장치(미도시)로부터 기판(S)을 전달받아 연속적으로 공급하는 장치이며, 공급 유닛(300)에 의해 공급된 기판(S)은 이송 셔틀 유닛(900)에 의해 스테이지(400)로 이송 전달된다. The supply unit 300 is a device that receives the substrate S from a separate supply device (not shown) and continuously supplies the substrate S, and the substrate S supplied by the supply unit 300 is transferred to the transfer shuttle unit 900. By transfer to the stage 400.

스테이지(400)는 공급 유닛(300)으로부터 이송 셔틀 유닛(900)을 통해 전달받은 기판(S)을 안착 고정시키도록 형성되며, 스테이지(400)에 안착 고정된 기판(S)에 광학 유닛(200)으로부터 광이 조사되어 노광 공정이 진행된다. 광학 유닛(200)을 통해 조사되는 광은 스테이지 상부에 배치된 마스크(M)를 통과하여 기판(S)으로 조사되며, 이를 통해 마스크(M)에 형성된 패턴을 따라 기판(S) 상에 특정 패턴이 형성되도록 조사된다.The stage 400 is formed to seat and fix the substrate S received from the supply unit 300 through the transfer shuttle unit 900, and the optical unit 200 to the substrate S seated and fixed to the stage 400. ) Is irradiated with light and the exposure process proceeds. The light irradiated through the optical unit 200 passes through the mask M disposed on the stage and is irradiated onto the substrate S, and thus a specific pattern is formed on the substrate S along the pattern formed on the mask M. It is irradiated to form.

이와 같이 스테이지(400)에 안착 고정된 상태로 기판(S)의 노광 공정이 완료되면, 기판(S)은 이송 셔틀 유닛(900)에 의해 스테이지(400)로부터 배출 유닛(500)으로 이송 전달되고, 배출 유닛(500)은 이송 셔틀 유닛(900)의 의해 전달된 기판(S)을 별도의 적재 장치(미도시) 등으로 배출시킨다. 이때, 공급 유닛(300), 스테이지(400) 및 배출 유닛(500)은 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 어느 한 방향으로 일렬 배치되도록 구성될 수 있다.As such, when the exposure process of the substrate S is completed while being fixed to the stage 400, the substrate S is transferred and transferred from the stage 400 to the discharge unit 500 by the transfer shuttle unit 900. The discharge unit 500 discharges the substrate S transferred by the transfer shuttle unit 900 to a separate stacking device (not shown). In this case, the supply unit 300, the stage 400, and the discharge unit 500 may be configured to be arranged in one direction as shown in FIGS. 1 to 3.

광학 유닛(200)은 스테이지(400)의 상부에 배치되어 스테이지(400)의 기판(S)에 광을 조사하도록 형성되는데, 광 발생기, 반사 미러, 렌즈 등을 포함하여 구성되며, 이는 일반적인 노광 장치에 널리 사용되는 것으로 상세한 설명은 생략한다.The optical unit 200 is disposed above the stage 400 and is formed to irradiate light onto the substrate S of the stage 400. The optical unit 200 includes a light generator, a reflection mirror, a lens, and the like, which is a general exposure apparatus. Since it is widely used in the detailed description thereof will be omitted.

마스크 홀더(700)는 광학 유닛(200)의 광이 통과하도록 마스크(M)가 고정 장착되도록 형성되며, 광학 유닛(200)과 스테이지(400)의 사이 공간에 배치된다.The mask holder 700 is formed so that the mask M is fixedly mounted so that light of the optical unit 200 passes, and is disposed in a space between the optical unit 200 and the stage 400.

얼라인 유닛(800)은 스테이지(400)에 안착된 기판(S)의 위치 정렬 상태를 측정하고, 측정된 결과에 따라 기판(S)의 위치 정렬 상태를 조절하도록 구성된다. 이러한 얼라인 유닛(800)은 본 발명의 일 실시예에 따라 기판(S)이 이송 셔틀 유닛(900)에 의해 스테이지(400)에 안착 공급된 상태에서 기판(S)을 이동시켜 기판(S)의 위치를 1차적으로 조절하는 프리 얼라인 모듈(830)과, 프리 얼라인 모듈(830)에 의해 1차적으로 위치 정렬된 기판(S)의 위치 정렬 상태를 카메라 모듈(811)을 이용하여 측정하는 비젼 시스템(810)과, 비젼 시스템(810)에 의해 측정된 기판(S)의 위치 정렬 상태를 정확하게 최종 조절하도록 스테이지(400)의 위치를 미세 조절하는 메인 얼라인 모듈(820)을 포함하여 구성될 수 있다.The alignment unit 800 measures the position alignment state of the substrate S mounted on the stage 400, and adjusts the position alignment state of the substrate S according to the measured result. The alignment unit 800 moves the substrate S in a state in which the substrate S is seated and supplied to the stage 400 by the transfer shuttle unit 900 according to an embodiment of the present invention. Measuring the alignment state of the pre-alignment module 830 to adjust the position of the primary and the substrate S primarily aligned by the pre-alignment module 830 using the camera module 811. Including the vision system 810 and the main alignment module 820 for fine-adjusting the position of the stage 400 to precisely finally adjust the position alignment state of the substrate S measured by the vision system 810. Can be configured.

이송 셔틀 유닛(900)은 기판(S)을 공급 유닛(300)으로부터 스테이지(400)에 이송 전달함과 동시에 스테이지(400)로부터 배출 유닛(500)에 이송 전달하도록 구성된다. 이러한 이송 셔틀 유닛(900)은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 직선 이동 가능하게 배치되는 셔틀 본체(910)와, 셔틀 본체(910)에 장착되며 기판(S)을 파지할 수 있도록 형성되는 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)와, 셔틀 본체(910)를 수평 및 수직 방향으로 직선 이동시키는 셔틀 구동부(930)를 포함하여 구성된다.The transfer shuttle unit 900 is configured to transfer and transfer the substrate S from the supply unit 300 to the stage 400, and at the same time, transfer the substrate S from the stage 400 to the discharge unit 500. The transfer shuttle unit 900 is a shuttle body 910 is arranged to be linearly movable as shown in Figures 4 and 5, and is mounted to the shuttle body 910 is formed to hold the substrate (S) The first and second fingers 921 and 922 and the shuttle driver 930 linearly move the shuttle body 910 in the horizontal and vertical directions.

이때, 셔틀 본체(910)가 직선 이동함에 따라 공급 유닛(300)의 기판(S)은 제 1 핑거부(921)에 파지되고 스테이지(400)의 기판(S)은 제 2 핑거부(922)에 파지되어 각각 스테이지(400) 또는 배출 유닛(500)으로 동시에 이송 전달되도록 구성된다.At this time, as the shuttle body 910 moves linearly, the substrate S of the supply unit 300 is gripped by the first finger 921 and the substrate S of the stage 400 is the second finger 922. It is configured to be transported to the stage 400 or the discharge unit 500 at the same time, respectively.

즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 이송 셔틀 유닛(900)은 셔틀 본체(910)에 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)가 형성되고, 셔틀 본체(910)가 1회 직선 이동하는 과정에서, 제 1 핑거부(921)는 공급 유닛(300)의 기판(S)을 파지하여 스테이지(400)로 이송 전달하고 이와 동시에 제 2 핑거부(922)는 스테이지(400)의 기판(S)을 파지하여 배출 유닛(500)으로 이송 전달한다.That is, in the transfer shuttle unit 900 according to an embodiment of the present invention, the first and second finger parts 921 and 922 are formed on the shuttle body 910, and the shuttle body 910 is linearly moved once. The first finger 921 grips the substrate S of the supply unit 300 and transfers the transfer to the stage 400. At the same time, the second finger 922 moves the substrate S of the stage 400. The gripper is transported to and delivered to the discharge unit 500.

따라서, 셔틀 본체(910)를 1회 직선 이동시키는 동작을 통해 공급 유닛(300)으로부터 스테이지(400)로 기판(S)을 안착시킴과 동시에 스테이지(400)로부터 배출 유닛(500)으로 기판(S)을 이송시킬 수 있으므로, 셔틀 본체(910) 하나의 구성에 대한 이송 동작을 통해 2개의 기판(S)을 동시에 이송 전달할 수 있다. 즉, 종래 기술과 달리 각 기판(S)에 대해 개별적인 이송 장치 및 구동부를 통해 이송시키지 않아도 되며, 이에 따라 구성을 단순화할 수 있고, 제작이 용이하며, 더욱 신속한 노광 공정을 완료할 수 있다.Therefore, the substrate S is seated from the supply unit 300 to the stage 400 by the linear movement of the shuttle body 910 once, and at the same time, the substrate S is discharged from the stage 400 to the discharge unit 500. ), It is possible to transfer transfer of the two substrates (S) at the same time through the transfer operation for one configuration of the shuttle body 910. That is, unlike the prior art, it is not necessary to transfer each substrate S through a separate transfer device and a driving unit. Accordingly, the configuration can be simplified, manufacturing is easy, and a more rapid exposure process can be completed.

이때, 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치는 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 스테이지(400), 광학 유닛(200), 마스크 홀더(700) 및 얼라인 유닛(800)이 복수개 구비되고, 이송 셔틀 유닛(900)의 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)는 각각 복수개의 기판을 동시에 이송 전달할 수 있도록 각각 스테이지(400)의 개수에 대응되게 복수개 장착될 수 있다. 예를 들면, 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)는 2개씩 장착될 수 있으며, 이를 통해 2개의 기판(S)을 공급 유닛(300)으로부터 2개의 스테이지(400)로 이송 전달하고, 이와 동시에 2개의 스테이지(400)로부터 각각의 기판(S)을 배출 유닛(500)으로 이송 전달할 수 있다. 즉, 셔틀 본체(910)의 1회 직선 이동을 통해 4개의 기판(S)을 동시에 이송 전달할 수 있다. 따라서, 더욱 신속한 노광 공정이 가능하다.
At this time, the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention is provided with a plurality of stage 400, the optical unit 200, the mask holder 700 and the alignment unit 800 as shown in Figure 1 to 3 The plurality of first and second fingers 921 and 922 of the transfer shuttle unit 900 may be mounted to correspond to the number of stages 400 so as to transfer and transfer a plurality of substrates at the same time. For example, as illustrated in FIGS. 2 to 4, two first and second fingers 921 and 922 may be mounted, and two stages S may be provided from the supply unit 300 by two stages. Transferring to the 400, and at the same time it can transfer transfer each substrate (S) from the two stages 400 to the discharge unit (500). That is, four substrates S may be simultaneously transferred and transferred through one linear movement of the shuttle body 910. Thus, a more rapid exposure process is possible.

다음으로, 각각의 구성에 대해 좀더 자세히 살펴본다.Next, let's look at each configuration in more detail.

이송 셔틀 유닛(900)은 전술한 바와 같이 직선 이동하는 셔틀 본체(910)와, 셔틀 본체(910)에 장착되는 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)와, 셔틀 본체(910)를 직선 이동시키는 셔틀 구동부(930)를 포함하여 구성되는데, 이때, 셔틀 구동부(930)는 셔틀 본체(910)를 좌우 방향으로 수평 왕복 이동시키는 셔틀 수평 구동부(931)와, 셔틀 본체(910)를 상하 방향으로 수직 왕복 이동시키는 셔틀 수직 구동부(932)를 포함하여 구성된다.As described above, the transfer shuttle unit 900 moves the shuttle main body 910 to move linearly, the first and second fingers 921 and 922 mounted to the shuttle main body 910, and the shuttle main body 910. The shuttle driver 930 is configured to include the shuttle driver 930. The shuttle driver 930 vertically moves the shuttle body 910 horizontally in a horizontal direction and the shuttle body 910 in a vertical direction. It comprises a shuttle vertical drive unit 932 for reciprocating movement.

셔틀 수평 구동부(931)는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 좌우 양측단부에 구동 롤러(931-2) 및 종동 롤러(931-3)가 장착되고 셔틀 본체(910)가 수평 가이드 레일(931-8)을 따라 수평 방향으로 직선 이동 가능하게 결합되는 셔틀 수평 지지대(931-1)와, 양단이 구동 롤러(931-2) 및 종동 롤러(931-3)에 권취되어 수평 이동하는 이동 벨트(931-4)와, 이동 벨트(931-4)가 수평 이동하도록 구동 롤러(931-2)를 회전 구동하는 셔틀 수평 구동 모터(931-7)를 포함하여 구성된다. 이때, 셔틀 본체(910)는 별도의 결합 블록(911)을 통해 이동 벨트(931-4)의 일측에 결합되어 이동 벨트(931-4)와 함께 수평 이동한다. 한편, 셔틀 수평 지지대(931-1)는 상하 가이드 레일(931-6)을 따라 상하 방향으로 직선 이동 가능하게 장착된다.As shown in FIGS. 4 and 5, the shuttle horizontal drive part 931 is equipped with drive rollers 931-2 and driven rollers 931-3 at left and right ends thereof, and the shuttle body 910 is provided with a horizontal guide rail 931. The shuttle horizontal support 931-1 coupled to the linear movement in the horizontal direction along the -8), and both ends are wound on the drive roller 931-2 and the driven roller 931-3 to move horizontally ( 931-4 and the shuttle horizontal drive motor 931-7 which rotationally drives the drive roller 931-2 so that the movement belt 931-4 may move horizontally. In this case, the shuttle body 910 is coupled to one side of the moving belt 931-4 through a separate coupling block 911 to move horizontally with the moving belt 931-4. On the other hand, the shuttle horizontal support 931-1 is mounted to be movable in a vertical direction along the upper and lower guide rails 931-6.

셔틀 수직 구동부(932)는 도 4 및 도 6에 도시된 바와 같이 셔틀 수직 구동 모터(932-1)와, 셔틀 수직 구동 모터(932-1)에 의해 회전 구동되는 회전 샤프트(932-2)에 결합되어 일체로 회전하는 캠 플레이트(932-3)를 포함하여 구성된다. 캠 플레이트(932-3)는 도 6에 도시된 바와 같이 원판 형태로 편심되게 회전 샤프트(932-2)에 결합된다. 이때, 셔틀 수평 지지대(931-1)에는 하단에 캠 플레이트(932-3)와 맞물림되어 상하 직선 이동하는 연결 지지대(931-5)가 결합되고, 연결 지지대(931-5)가 캠 플레이트(932-3)에 의해 상하 직선 이동함에 따라 셔틀 본체(910)가 셔틀 수평 지지대(931-1)와 함께 상하 직선 이동하도록 구성된다.As shown in FIGS. 4 and 6, the shuttle vertical drive unit 932 includes a shuttle vertical drive motor 932-1 and a rotation shaft 932-2 that is rotationally driven by the shuttle vertical drive motor 932-1. Combination is configured to include a cam plate (932-3) to rotate integrally. The cam plate 932-3 is coupled to the rotating shaft 932-2 eccentrically in the form of a disk as shown in FIG. At this time, the connecting support 931-5 which is engaged with the cam plate 932-3 at the bottom and moves up and down linearly is coupled to the shuttle horizontal support 931-1, and the connecting support 931-5 is connected to the cam plate 932. The shuttle main body 910 moves up and down linearly together with the shuttle horizontal support 931-1 by vertically moving by -3).

또한, 회전 샤프트(932-2)에는 다수개의 캠 플레이트(932-3)가 결합되는데, 이 중 일부는 전술한 바와 같이 셔틀 수평 지지대(931-1)의 연결 지지대(931-5)와 맞물림되어 셔틀 수평 지지대(931-1) 및 셔틀 본체(910)를 상하 이동시키며, 나머지 일부는 후술하는 공급 유닛(300)의 공급 가이드 모듈(340)의 연결 지지대(346)(도 11 참조)와 맞물림되어 공급 가이드 모듈(340)을 상하 이동시키는데, 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.In addition, a plurality of cam plates 932-3 are coupled to the rotating shaft 932-2, some of which are engaged with the connecting support 931-5 of the shuttle horizontal support 931 -5 as described above. The shuttle horizontal support 931-1 and the shuttle body 910 is moved up and down, and the remaining part is engaged with the connecting support 346 (see FIG. 11) of the supply guide module 340 of the supply unit 300 described later. The supply guide module 340 moves up and down, which will be described later.

이와 같은 구성에 따라 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)는 셔틀 본체(910)가 셔틀 수직 구동부(932)에 의해 상향 이동함에 따라 공급 유닛(300) 및 스테이지(400)로부터 각각 기판(S)을 상향 이동시키며 파지하고, 셔틀 본체(910)가 셔틀 수평 구동부(931)에 의해 수평 이동함에 따라 각각 기판(S)을 파지한 상태로 수평 방향으로 이동시킨다. 즉, 제 1 핑거부(921)는 공급 유닛(300)의 기판(S)을 파지한 상태에서 공급 유닛(300)으로부터 스테이지(400)를 향해 수평 이동시키고, 제 2 핑거부(922)는 스테이지(400)의 기판(S)을 파지한 상태에서 스테이지(400)로부터 배출 유닛(500)을 향해 이동시킨다.According to such a configuration, the first and second fingers 921 and 922 may have a substrate S from the supply unit 300 and the stage 400 as the shuttle main body 910 moves upward by the shuttle vertical driver 932. The holding unit 910 is moved upward in the horizontal direction by holding the substrate S as the shuttle body 910 is horizontally moved by the shuttle horizontal driver 931. That is, the first finger 921 moves horizontally from the supply unit 300 toward the stage 400 while holding the substrate S of the supply unit 300, and the second finger 922 moves the stage. In the state of holding the board | substrate S of 400, it moves to the discharge unit 500 from the stage 400. FIG.

이와 같이 기판(S)을 해당 위치에 이동시킨 후, 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)는 셔틀 본체(910)가 셔틀 수직 구동부(932)에 의해 하향 이동함에 따라 기판(S)을 각각 스테이지(400) 또는 배출 유닛(500)에 안착시키며 이송 전달 완료한다.After the substrate S is moved to the position as described above, the first and second fingers 921 and 922 stage the substrate S as the shuttle body 910 moves downward by the shuttle vertical driver 932, respectively. It is seated on the 400 or the discharge unit 500 to complete the transfer transfer.

공급 유닛(300)은 도 7에 도시된 바와 같이 서로 평행하게 2열로 배치되는 다수개의 회전 롤러(310)와, 각 열을 이루는 다수개의 회전 롤러(310)를 따라 서로 평행하게 각각 권취되어 회전 롤러(310)를 따라 이동하는 한 쌍의 콘베이어 벨트(320)와, 콘베이어 벨트(320)가 이동하도록 회전 롤러(310)를 구동하는 공급 구동 모터(340)을 포함하여 구성되며, 기판(S)은 별도의 공급 장치로부터 콘베이어 벨트(320)에 안착되어 순차적으로 공급 이송된다.As shown in FIG. 7, the supply unit 300 is a plurality of rotating rollers 310 arranged in two rows in parallel with each other, and a plurality of rotating rollers 310 wound in parallel with each other along the plurality of rotating rollers 310 forming each row. And a pair of conveyor belts 320 moving along the 310 and a supply drive motor 340 for driving the rotating roller 310 to move the conveyor belt 320, wherein the substrate S is It is seated on the conveyor belt 320 from a separate supply device and is sequentially supplied and fed.

이때, 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송되는 기판(S)을 특정 위치에 정지 고정시킬 수 있도록 콘베이어 벨트(320) 사이에는 별도의 스토퍼 모듈(330)이 장착되고, 스토퍼 모듈(330)은 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이 기판(S)의 정지 고정 위치를 변경 조절할 수 있도록 콘베이어 벨트(320)의 이동 방향을 따라 직선 이동 가능하게 장착될 수 있다.In this case, a separate stopper module 330 is mounted between the conveyor belts 320 so as to stop and fix the substrate S transferred by the conveyor belts 320 to a specific position, and the stopper module 330 is shown in FIG. 7. And as shown in Figure 8 may be mounted so as to be linearly movable along the moving direction of the conveyor belt 320 to change and adjust the stationary fixed position of the substrate (S).

스토퍼 모듈(330)은 도 9에 도시된 바와 같이 중단부 일측에 랙 기어(334)가 형성된 스토퍼 지지바(331)와, 랙 기어(334)에 맞물림되도록 일단부에 피니언 기어(335)가 형성되는 스토퍼 샤프트(336)와, 스토퍼 샤프트(336)를 회전 구동하는 스토퍼 이동 모터(337)와, 콘베이어 벨트(320)에 안착되어 이송되는 기판(S)이 맞물림되며 정지하도록 콘베이어 벨트(320)보다 상향 돌출되게 스토퍼 지지바(331)에 결합되는 스토퍼 블록(332,333)을 포함하여 구성된다. As shown in FIG. 9, the stopper module 330 includes a stopper support bar 331 having a rack gear 334 formed on one side of the stop part, and a pinion gear 335 formed at one end thereof to be engaged with the rack gear 334. The stopper shaft 336, the stopper movement motor 337 for rotationally driving the stopper shaft 336, and the substrate S seated on the conveyor belt 320 to be transported are engaged with and stopped from the conveyor belt 320. It is configured to include a stopper block (332,333) coupled to the stopper support bar 331 to protrude upward.

이러한 구성에 따라 스토퍼 이동 모터(337)를 작동시키게 되면, 랙 기어(334)와 피니언 기어(335)에 의해 스토퍼 지지바(331)가 콘베이어 벨트(320)의 이동 방향을 따라 직선 이동하게 되고, 이에 따라 스토퍼 지지바(331)에 결합된 스토퍼 블록(332,333)이 직선 이동함으로써, 기판(S)의 정지 고정 위치가 콘베이어 벨트(320)의 이동 방향을 따라 전후 조절된다.When the stopper movement motor 337 is operated according to this configuration, the stopper support bar 331 is linearly moved along the moving direction of the conveyor belt 320 by the rack gear 334 and the pinion gear 335, Accordingly, the stopper blocks 332 and 333 coupled to the stopper support bar 331 are linearly moved so that the stop fixing position of the substrate S is adjusted back and forth along the moving direction of the conveyor belt 320.

이때, 스토퍼 블록(332,333)은 예를 들면, 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)가 각각 2개 형성되어 각각 2개의 기판(S)을 동시에 이송시키는 것과 대응되도록 스토퍼 지지바(331)의 양단에 각각 장착될 수 있다. 즉, 스토퍼 블록(332,333)은 도 7 내지 도 9에 도시된 바와 같이 콘베이어 벨트(320)의 이동 방향을 따라 스토퍼 지지바(331)의 전단 및 후단에 각각 장착될 수 있다. 이때, 스토퍼 지지바(331)의 전단에 결합되는 스토퍼 블록(332)(이하 전단 스토퍼 블록이라 함)은 별도의 액츄에이터(338)에 의해 상하 이동 가능하게 결합되어 기판(S)을 선택적으로 정지시키도록 구성될 수 있다.In this case, the stopper blocks 332 and 333 may include, for example, two first and second finger parts 921 and 922, respectively, to correspond to simultaneously transferring two substrates S, respectively. Can be mounted on each. That is, the stopper blocks 332 and 333 may be mounted at the front end and the rear end of the stopper support bar 331 along the moving direction of the conveyor belt 320 as shown in FIGS. 7 to 9, respectively. At this time, the stopper block 332 (hereinafter referred to as the shear stopper block) coupled to the front end of the stopper support bar 331 is coupled to the vertical movement by a separate actuator 338 to selectively stop the substrate (S). It can be configured to.

즉, 기판(S)이 콘베이어 벨트(320)를 따라 순차적으로 이송되는 과정에서, 최초 기판(S)이 이송될 때, 전단 스토퍼 블록(332)은 액츄에이터(338)에 의해 하향 이동하여 최초 기판(S)이 정지하지 않고 계속 이동하도록 작동한다. 이후, 최초 기판(S)이 전단 스토퍼 블록(332)을 통과한 이후, 전단 스토퍼 블록(332)은 다시 액츄에이터(338)에 의해 상향 이동하도록 작동한다. 따라서, 최초 기판(S) 이후에 콘베이어 벨트(320)를 따라 이송되는 두번째 기판(S)은 전단 스토퍼 블록(332)에 맞물림되어 정지 고정된다. 한편, 전단 스토퍼 블록(332)을 통과한 최초 기판(S)은 전단 스토퍼 블록(332)에 맞물림되지 않고 콘베이어 벨트(320)를 따라 계속 이동하여 스토퍼 지지바(331)의 후단에 결합되는 스토퍼 블록(333)(이하 후단 스토퍼 블록이라 함)에 맞물림되며 정지 고정된다.That is, in the process of sequentially transporting the substrate S along the conveyor belt 320, when the initial substrate S is transferred, the shear stopper block 332 moves downward by the actuator 338 to move the initial substrate ( S) works to keep moving without stopping. Then, after the initial substrate S has passed through the shear stopper block 332, the shear stopper block 332 again operates to move upward by the actuator 338. Therefore, the second substrate S transferred along the conveyor belt 320 after the first substrate S is engaged with the shear stopper block 332 and fixedly stopped. Meanwhile, the first substrate S that has passed through the front end stopper block 332 is not engaged with the front end stopper block 332 and continues to move along the conveyor belt 320 to be coupled to the rear end of the stopper support bar 331. 333 (hereinafter referred to as a rear stopper block) and is fixed stop.

이러한 구조를 통해 하나의 콘베이어 벨트(320)를 통해 순차적으로 공급 이송되는 2개의 기판(S)이 전단 스토퍼 블록(332)과 후단 스토퍼 블록(333)에 각각 맞물림되며 정지 고정된다. 이러한 스토퍼 블록을 다수개 장착함으로써, 다수개의 기판(S)을 각각 정지 고정시킬 수도 있을 것이다.Through this structure, the two substrates S, which are sequentially supplied and conveyed through one conveyor belt 320, are engaged and fixed to the front stopper block 332 and the rear stopper block 333, respectively. By mounting a plurality of such stopper blocks, the plurality of substrates S may be stationarily fixed, respectively.

한편, 공급 유닛(300)은 도 7에 도시된 바와 같이 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송되는 기판(S)의 이동 경로를 가이드하는 공급 가이드 모듈(340)을 더 포함하여 구성될 수 있다.Meanwhile, as illustrated in FIG. 7, the supply unit 300 may further include a supply guide module 340 for guiding a movement path of the substrate S transferred by the conveyor belt 320.

공급 가이드 모듈(340)은 가이드 지지판(343)과, 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송되는 기판(S)의 양측단에 접촉할 수 있도록 서로 평행하게 이격 배치되고 상호 이격 간격이 조절될 수 있도록 가이드 지지판(343)에 가이드 레일(344)을 따라 직선 이동 가능하게 결합되는 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342)와, 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342)의 이격 간격을 조절하는 간격 조절 수단(345)을 포함하여 구성될 수 있다.The supply guide module 340 is spaced apart in parallel to each other so as to be in contact with both ends of the guide support plate 343 and the substrate (S) conveyed by the conveyor belt 320, the guide so that the mutual separation interval can be adjusted Spacing adjusting means for adjusting the separation distance between the first and second guide plates 341 and 342 and the first and second guide plates 341 and 342 which are coupled to the support plate 343 so as to be linearly movable along the guide rail 344. 345 may be configured.

이때, 간격 조절 수단(345)은 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342)의 서로 대향하는 면에 각각 직각 방향으로 결합되며 일면에 랙 기어(345-3)가 형성되는 제 1 및 제 2 랙바(345-1,345-2)와, 제 1 및 제 2 랙바(345-1,345-2)의 랙 기어(345-3)와 동시에 맞물림되도록 일단에 피니언 기어(345-4)가 형성되는 간격 조절 샤프트(345-5)(도 11 참조)와, 간격 조절 샤프트(345-5)를 회전 구동하는 간격 조절 모터(345-6)(도 11 참조)를 포함하여 구성된다.In this case, the gap adjusting means 345 is coupled to the surfaces of the first and second guide plates 341 and 342 facing each other at right angles, and the first and second rack bars having the rack gear 345-3 formed on one surface thereof ( 345-1, 345-2 and a pinion gear 345-4 at one end thereof to be engaged with the rack gears 345-3 of the first and second rack bars 345-1, 345-2 simultaneously. -5) (see FIG. 11) and a spacing motor 345-6 (see FIG. 11) for rotationally driving the spacing shaft 345-5.

이러한 구성에 따라 공급 가이드 모듈(340)은 도 10에 도시된 바와 같이 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342)가 그 이격 간격이 조절되므로, 다양한 크기의 기판(S)에 대해서도 그 이동 경로를 가이드하도록 적용할 수 있다.According to this configuration, the supply guide module 340 has a first and second guide plates 341 and 342, as shown in FIG. Can be applied.

한편, 이러한 공급 가이드 모듈(340)은 도 11에 도시된 바와 같이 셔틀 수직 구동부(932)에 의해 구동되어 셔틀 본체(910)와 함께 상하 직선 이동하도록 구성될 수 있으며, 공급 가이드 모듈(340)이 상향 이동한 상태에서만 기판(S)의 이동 경로를 가이드하도록 구성될 수 있다.On the other hand, the supply guide module 340 is driven by the shuttle vertical drive unit 932 as shown in Figure 11 may be configured to move up and down linearly with the shuttle body 910, the supply guide module 340 is It may be configured to guide the movement path of the substrate (S) only in the state of moving upward.

이때, 공급 가이드 모듈(340)의 가이드 지지판(343)의 하단에는 도 11에 도시된 바와 같이 연결 지지대(346)가 결합되고, 연결 지지대(346)는 셔틀 수직 구동부(932)의 캠 플레이트(932-3)와 맞물림되어 상하 이동하도록 구성된다. 따라서, 공급 가이드 모듈(340)은 셔틀 수직 구동부(932)에 의해 셔틀 본체(910)와 함께 상하 직선 이동하게 된다.At this time, the connecting support 346 is coupled to the lower end of the guide support plate 343 of the supply guide module 340, and the connecting support 346 is the cam plate 932 of the shuttle vertical drive unit 932. -3) is configured to move up and down in engagement with. Therefore, the supply guide module 340 is linearly moved up and down with the shuttle body 910 by the shuttle vertical drive unit 932.

따라서, 셔틀 본체(910)가 상향 이동하며 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)가 기판(S)을 파지하는 과정에서 공급 가이드 모듈(340) 또한 동시에 상향 이동하고, 공급 가이드 모듈(340)이 상향 이동한 상태에서 공급 유닛(300)의 콘베이어 벨트(320)에 의해 기판(S)이 경로 가이드되며 이송 공급된다. 이후, 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송된 기판(S)이 공급 유닛(300)의 스토퍼 모듈(330)에 의해 정지 고정된 상태에서, 공급 가이드 모듈(340)은 셔틀 본체(910)의 하향 이동과 함께 하향 이동하게 된다. 셔틀 본체(910)가 수평 이동하여 기판(S)을 이송 완료한 후, 다시 공급 유닛(300) 측으로 이동하여 상향 이동하며 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)가 기판(S)을 파지할 때, 공급 가이드 모듈(340)이 다시 상향 이동하는 순환 동작을 반복하게 된다.Accordingly, the supply guide module 340 simultaneously moves upward while the shuttle body 910 moves upward and the first and second fingers 921 and 922 hold the substrate S, and the supply guide module 340 moves upward. The substrate S is path-guided and conveyed by the conveyor belt 320 of the supply unit 300 in the upwardly moved state. Thereafter, in a state in which the substrate S transferred by the conveyor belt 320 is stationarily fixed by the stopper module 330 of the supply unit 300, the supply guide module 340 moves downward of the shuttle body 910. Will move downward. After the shuttle main body 910 moves horizontally to complete the transfer of the substrate S, the shuttle body 910 moves upward to the supply unit 300 to move upward, and the first and second fingers 921 and 922 hold the substrate S. The supply guide module 340 repeats the circular motion of moving upward again.

배출 유닛(500)은 공급 유닛(300)과 동일한 방식으로 구성되는데, 예를 들면, 2열을 이루는 다수개의 회전 롤러(510)에 서로 평행하게 콘베이어 벨트(520)가 권취되어 이동하고, 별도의 배출 구동 모터(미도시)에 의해 회전 롤러(510)가 회전 구동된다. 또한, 배출 가이드 모듈(540)이 셔틀 본체(910)와 함께 상하 직선 이동하도록 장착되어 기판(S)의 배출 이동 경로를 가이드하도록 구성되며, 마찬가지로 배출 가이드 모듈(540)은 한 쌍의 가이드 플레이트가 상호 이격 간격 조절되게 구성되어 다양한 기판에 대해 적용 가능하다. 공급 유닛(300)과 비교하여 스토퍼 모듈(330)의 구성만 불필요하므로, 스토퍼 모듈(330)이 장착되지 않는 점 이외에는 다른 구성이 모두 공급 유닛(300)과 동일한 방식으로 구성되므로, 상세한 설명은 생략한다.
The discharge unit 500 is configured in the same manner as the supply unit 300, for example, the conveyor belt 520 is wound and moved in parallel to each other in a plurality of rotating rollers 510 forming two rows, the separate The rotary roller 510 is rotationally driven by the discharge drive motor (not shown). In addition, the discharge guide module 540 is mounted to move up and down linearly with the shuttle body 910 is configured to guide the discharge movement path of the substrate (S), likewise the discharge guide module 540 is a pair of guide plates It is configured to be spaced apart from each other can be applied to a variety of substrates. Since only the configuration of the stopper module 330 is unnecessary as compared with the supply unit 300, all other configurations are configured in the same manner as the supply unit 300 except that the stopper module 330 is not mounted, so the detailed description is omitted. do.

이와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 동작 과정을 살펴보면, 먼저, 도 12에 도시된 바와 같이 2개의 기판(S)이 공급 유닛(300)에 공급되어 각각 전단 스토퍼 블록(332) 및 후단 스토퍼 블록(333)에 맞물림되어 정지 고정된 상태로 위치하게 된다. 이때, 셔틀 본체(910) 및 공급 가이드 모듈(340)은 하향 이동한 상태로 유지된다. 이 상태에서 2개의 스테이지(400)에는 각각 기판(S)이 안착 고정된 상태이고, 이 과정에서 얼라인 유닛(800)에 의해 기판(S)의 위치가 정렬되고, 광학 유닛(200)에 의해 광이 조사되어 노광 공정이 진행된다. 한편, 배출 유닛(500)에는 노광 공정이 완료된 2개의 기판(S)이 안착된 상태로 유지된다.Looking at the operation of the exposure apparatus according to an embodiment configured as described above, first, two substrates (S) are supplied to the supply unit 300 as shown in FIG. And it is engaged with the rear stopper block 333 is positioned in a stationary fixed state. At this time, the shuttle body 910 and the supply guide module 340 is maintained in a downward movement state. In this state, the substrate S is seated and fixed to each of the two stages 400. In this process, the position of the substrate S is aligned by the alignment unit 800, and the optical unit 200 is aligned. Light is irradiated and an exposure process advances. On the other hand, the discharge unit 500 is maintained in a state where the two substrates (S) on which the exposure process is completed are seated.

이 상태에서 스테이지(400)에 안착된 기판(S)에 대한 노광 공정이 완료되면, 도 13에 도시된 바와 같이 셔틀 본체(910)가 셔틀 수직 구동부(932)에 의해 상향 이동하며 제 1 핑거부(921)가 공급 유닛(300)의 기판(S)을 파지하고, 제 2 핑거부(922)가 스테이지(400)의 기판(S)을 파지한다. 이와 동시에 공급 가이드 모듈(340) 및 배출 가이드 모듈(540)이 셔틀 수직 구동부(932)에 의해 상향 이동한다.In this state, when the exposure process for the substrate S seated on the stage 400 is completed, as shown in FIG. 13, the shuttle main body 910 is moved upward by the shuttle vertical driver 932 and the first finger part. The 921 grips the substrate S of the supply unit 300, and the second finger part 922 grips the substrate S of the stage 400. At the same time, the supply guide module 340 and the discharge guide module 540 are moved upward by the shuttle vertical drive unit 932.

이후, 도 14에 도시된 바와 같이 셔틀 본체(910)가 셔틀 수평 구동부(931)에 의해 우측 방향으로 수평 이동하며, 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)에 의해 파지된 기판(S)을 각각 스테이지(400) 또는 배출 유닛(500)을 향해 수평 이동시킨다. 이 과정에서 공급 구동 모터(340) 및 배출 구동 모터가 작동하여 공급 유닛(300)에는 콘베이어 벨트(320)를 따라 새로운 기판(S)이 공급되고, 배출 유닛(500)으로부터는 콘베이어 벨트(520)를 따라 기존에 안착된 기판(S)이 배출된다.Subsequently, as shown in FIG. 14, the shuttle body 910 is horizontally moved in the right direction by the shuttle horizontal driver 931, and the substrate S held by the first and second fingers 921 and 922 is respectively moved. It is horizontally moved toward the stage 400 or the discharge unit 500. In this process, the supply drive motor 340 and the discharge drive motor operate to supply the new substrate S along the conveyor belt 320 to the supply unit 300, and the conveyor belt 520 from the discharge unit 500. The substrate (S) previously seated along the discharge is discharged.

이후, 셔틀 본체(910)가 셔틀 수직 구동부(932)에 의해 하향 이동하게 되면, 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)에 파지된 기판(S)이 각각 스테이지(400) 및 배출 유닛(500)에 새롭게 안착된다. 이 상태에서 셔틀 본체(910)는 다시 셔틀 수평 구동부(931)에 의해 좌측 방향으로 수평 이동하게 되는데, 이 상태는 도 12에 도시된 상태이며, 이후 다시 반복적인 순환 과정을 거쳐 계속적으로 기판에 대한 노광 공정을 진행하게 된다.
Subsequently, when the shuttle body 910 is moved downward by the shuttle vertical driver 932, the substrate S held by the first and second fingers 921 and 922 may be the stage 400 and the discharge unit 500, respectively. Newly seated on In this state, the shuttle main body 910 is horizontally moved to the left direction by the shuttle horizontal drive part 931 again. This state is shown in FIG. The exposure process is performed.

도 15 내지 도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 메인 얼라인 모듈과 프리 얼라인 모듈에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면이고, 도 20 및 도 21은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 비젼 시스템에 대한 구성 및 작동 상태를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 22는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 마스크 홀더에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.15 to 19 are diagrams schematically showing the configuration of the main alignment module and the pre-align module of the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, Figures 20 and 21 is an embodiment of the present invention FIG. 22 is a diagram schematically illustrating a configuration and an operating state of a vision system of an exposure apparatus, and FIG. 22 is a diagram schematically illustrating a configuration of a mask holder of an exposure apparatus according to an embodiment of the present disclosure.

본 발명의 일 실시예에 따른 얼라인 유닛(800)은 전술한 바와 같이 스테이지(400)에 안착된 기판(S)의 위치가 1차적으로 정렬되도록 스테이지(400) 상에서 기판(S)을 이동시키는 프리 얼라인 모듈(830)과, 프리 얼라인 모듈(830)에 의해 1차 위치 정렬된 기판(S)의 위치 정렬 상태를 카메라 모듈(811)을 이용하여 측정하는 비젼 시스템(810)과, 비젼 시스템(810)의 측정 결과에 따라 기판(S)의 위치 정렬 상태를 최종 조절하도록 스테이지(400)의 위치를 미세 조정하는 메인 얼라인 모듈(820)을 포함하여 구성된다.The alignment unit 800 according to an embodiment of the present invention moves the substrate S on the stage 400 so that the position of the substrate S seated on the stage 400 is primarily aligned as described above. The vision system 810 for measuring the position alignment state of the substrate S primarily aligned by the pre-align module 830, the pre-align module 830, and the vision. And a main alignment module 820 for fine-adjusting the position of the stage 400 to finally adjust the position alignment of the substrate S according to the measurement result of the system 810.

비젼 시스템(810)은 도 20 및 도 21에 도시된 바와 같이 마스크 홀더(700)의 상부에 배치되며, 카메라 모듈(811)을 이용하여 마스크(M)와 기판(S)에 형성된 특정 마크를 통해 기판(S)의 위치 정렬 상태를 측정한다. 이러한 비젼 시스템(810)은 별도의 이동 장치(812)를 통해 직선 이동 가능하게 구성되며, 기판(S)에 대한 위치 정렬 상태를 측정하기 위해 마스크(M)의 연직 상부에 위치하도록 전진 이동하고, 광학 유닛(200)에 의해 광이 조사되는 노광 공정 진행시에는 마스크(M)의 연직 상부로부터 후진 이동한다. 이러한 비젼 시스템(810)은 일반적인 얼라인 공정에서 널리 사용되는 것이므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.The vision system 810 is disposed above the mask holder 700 as shown in FIGS. 20 and 21, and through a specific mark formed on the mask M and the substrate S using the camera module 811. The position alignment state of the board | substrate S is measured. This vision system 810 is configured to be linearly moved through a separate moving device 812, and moves forward to be located vertically above the mask (M) to measure the position alignment with respect to the substrate (S), At the time of the exposure process in which light is irradiated by the optical unit 200, it moves backward from the vertical upper part of the mask M. FIG. Since the vision system 810 is widely used in a general alignment process, a detailed description thereof will be omitted.

프리 얼라인 모듈(830)은 스테이지(400) 상에서 기판(S)의 위치를 가이드하며 이동 조절하는 구성이며, 메인 얼라인 모듈(820)은 기판(S)이 안착 고정된 스테이지(400)의 위치를 조절하여 기판(S)의 위치를 조절하는 구성이다. 메인 얼라인 모듈(820)은 도 15 및 도 17에 도시된 바와 같이 다수개의 얼라인 모터(821)를 통해 스테이지(400)를 X축 및 Y축 방향으로 미세 직선 이동시키고, 아울러 Z축을 중심으로 회전 이동시키도록 구성된다. The pre-align module 830 is configured to guide and move the position of the substrate S on the stage 400. The main align module 820 is a position of the stage 400 on which the substrate S is seated and fixed. It is configured to adjust the position of the substrate (S) by adjusting the. As shown in FIGS. 15 and 17, the main alignment module 820 moves the stage 400 finely in the X-axis and Y-axis directions through a plurality of align motors 821, and also has a Z-axis. And rotate to move.

한편, 스테이지(400)는 이러한 메인 얼라인 모듈(820)에 의한 위치 조절 이외에 별도의 상하 실린더(822)를 통해 상하 방향으로 직선 이동하도록 구성된다. 또한, 스테이지(400)의 상면에는 기판(S)을 안착 고정시킬 수 있도록 그루브(410)가 형성되며, 그루브(410)는 별도의 진공 흡입 펌프(미도시)에 연결되어 기판(S)이 진공 흡착 방식으로 스테이지(400)에 고정되도록 구성된다.On the other hand, the stage 400 is configured to linearly move in the vertical direction through a separate vertical cylinder 822 in addition to the position adjustment by the main alignment module 820. In addition, a groove 410 is formed on the upper surface of the stage 400 to seat and fix the substrate S. The groove 410 is connected to a separate vacuum suction pump (not shown) so that the substrate S is vacuumed. It is configured to be fixed to the stage 400 by the adsorption method.

따라서, 메인 얼라인 모듈(820)이 스테이지(400)의 위치를 미세 조절하게 되면, 스테이지(400)에 안착 고정된 기판(S)의 위치가 스테이지(400)와 함께 미세 조절된다.Therefore, when the main alignment module 820 finely adjusts the position of the stage 400, the position of the substrate S seated and fixed to the stage 400 is finely adjusted together with the stage 400.

본 발명의 일 실시예에 따른 얼라인 유닛(800)은 이러한 메인 얼라인 모듈(820) 이외에 별도의 프리 얼라인 모듈(830)이 구비되어 기판(S)의 위치를 1차적으로 정렬시키도록 구성된다. 따라서, 메인 얼라인 모듈(820)의 기판(S) 위치 정렬 작업이 상대적으로 더욱 용이하며, 더욱 신속하고 정확하게 기판 얼라인 작업을 수행할 수 있다.The alignment unit 800 according to the exemplary embodiment of the present invention is provided with a separate pre-align module 830 in addition to the main alignment module 820 to primarily align the position of the substrate S. do. Therefore, the substrate S position alignment operation of the main alignment module 820 is relatively easier, and the substrate alignment operation can be performed more quickly and accurately.

프리 얼라인 모듈(830)은 도 15 및 도 16에 도시된 바와 같이 스테이지(400)의 상면으로부터 상향 돌출될 수 있도록 배치되며, X축 방향을 따라 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 직선 이동하는 X축 가이드바(831)와, 스테이지(400)의 상면으로부터 상향 돌출될 수 있도록 배치되며, X축과 동일 평면 상에서 직각 방향인 Y축 방향을 따라 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 직선 이동하는 Y축 가이드바(832)를 포함하여 구성된다.As shown in FIGS. 15 and 16, the pre-align module 830 is disposed to protrude upward from the top surface of the stage 400, and moves in an X-axis guide line that moves linearly in a direction near or away from each other along the X-axis direction. The bar 831 and the Y-axis guide bar 832 disposed to protrude upward from the upper surface of the stage 400 and linearly move in a direction near or away from each other along the Y-axis direction perpendicular to the X-axis. It is configured to include).

X축 가이드바(831)는 서로 근접하는 방향으로 이동하며 기판(S)의 X축 방향 양단에 접촉하여 기판(S)의 X축 방향 위치를 조절하고, Y축 가이드바(832)는 서로 근접하는 방향으로 이동하며 기판(S)의 Y축 방향 양단에 접촉하여 Y축 방향 위치를 조절한다.The X-axis guide bar 831 moves in a direction close to each other and is in contact with both ends of the X-axis direction of the substrate S to adjust the X-axis direction position of the substrate S, and the Y-axis guide bar 832 is close to each other. It moves in the direction to be in contact with both ends of the Y-axis direction of the substrate S to adjust the Y-axis direction position.

즉, 기판(S)이 이송 셔틀 유닛(900)에 의해 스테이지(400) 상에 안착 전달되면, 이 상태에서 X축 가이드바(831)가 스테이지(400) 상부로 돌출된 후 서로 근접하는 방향으로 이동하며 기판(S)을 가이드하여 X축 방향 위치를 조절하고, 이와 동시에 Y축 가이드바(832)가 마찬가지로 스테이지(400) 상부로 돌출된 후 서로 근접하는 방향으로 이동하며 기판(S)을 가이드하여 Y축 방향 위치를 조절한다.That is, when the substrate S is seated and transferred to the stage 400 by the transfer shuttle unit 900, in this state, the X-axis guide bar 831 protrudes above the stage 400 and then approaches in a direction close to each other. It moves and guides the substrate S to adjust the X-axis position, and at the same time, the Y-axis guide bar 832 similarly protrudes above the stage 400 and then moves in a direction close to each other and guides the substrate S. To adjust the Y-axis position.

따라서, 기판(S)은 스테이지(400) 상에 안착된 상태에서 X축 가이드바(831) 및 Y축 가이드바(832)에 의해 이동 가이드되며 1차적으로 위치 정렬된다.Therefore, the substrate S is moved and guided by the X-axis guide bar 831 and the Y-axis guide bar 832 in a state seated on the stage 400 and is primarily aligned.

이때, X축 가이드바(831)를 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 이동시키는 X축 가이드 구동 수단은 도 18에 도시된 바와 같이 X축 방향으로 길게 배치되며 중심부를 기준으로 좌우측으로 서로 다른 방향의 나사산(P1,P2)이 형성되는 X축 회전 로드(831-2)와, X축 회전 로드(831-2)의 서로 다른 방향의 나사산(P1,P2)에 각각 결합되는 X축 이동 로드(831-3)와, X축 회전 로드(831-2)를 축방향으로 회전 구동하는 X축 구동 모터(831-1)를 포함하여 구성되고, X축 가이드바(831)는 이동 로드(831-3)에 결합된다.At this time, the X-axis guide driving means for moving the X-axis guide bar 831 in a direction closer or farther away from each other is arranged long in the X-axis direction, as shown in Figure 18 and the thread in different directions left and right with respect to the center ( X-axis rotating rods 831-2, in which P1 and P2 are formed, and X-axis moving rods 831-3 respectively coupled to threads P1 and P2 in different directions of the X-axis rotating rod 831-2. And an X-axis driving motor 831-1 for rotationally driving the X-axis rotating rod 831-2 in the axial direction, and the X-axis guide bar 831 is attached to the moving rod 831-3. Combined.

따라서, X축 구동 모터(831-1)에 의해 X축 회전 로드(831-2)가 회전하면, X축 이동 로드(831-3)는 서로 다른 방향의 나사산(P1,P2)을 따라 서로 근접하거나 서로 멀어지는 방향으로 이동하고, 이에 따라 X축 가이드바(831) 또한 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 이동한다. 한편, 이러한 X축 가이드 구동 수단은 별도의 X축 승강 실린더(831-4)에 의해 상하 직선 이동하도록 구성되며, 이를 통해 X축 가이드바(831)가 스테이지(400)의 상부로 돌출되거나 돌출 해제되도록 구성된다.Therefore, when the X-axis rotation rod 831-2 is rotated by the X-axis drive motor 831-1, the X-axis movement rods 831-3 are close to each other along the threads P1 and P2 in different directions. Or move in a direction away from each other, and thus the X-axis guide bar 831 also moves in a direction closer or away from each other. On the other hand, the X-axis guide driving means is configured to move up and down linearly by a separate X-axis lifting cylinder (831-4), through which the X-axis guide bar 831 protrudes or releases the upper portion of the stage 400 It is configured to be.

Y축 가이드바(832)를 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 이동시키는 Y축 가이드 구동 수단 또한 X축 가이드 구동 수단과 마찬가지 방식으로 구성되는데, 도 19에 도시된 바와 같이 Y축 방향으로 길게 배치되며 중심부를 기준으로 좌우측으로 서로 다른 방향의 나사산(P1,P2)이 형성되는 Y축 회전 로드(832-2)와, Y축 회전 로드(832-2)의 서로 다른 방향의 나사산(P1,P2)에 각각 결합되는 Y축 이동 로드(832-3)와, Y축 회전 로드(832-2)를 축방향으로 회전 구동하는 Y축 구동 모터(832-1)를 포함하여 구성되고, Y축 가이드바(832)는 이동 로드(832-3)에 결합된다.The Y-axis guide driving means for moving the Y-axis guide bar 832 in a direction closer or farther from each other is also configured in the same manner as the X-axis guide driving means, which is arranged long in the Y-axis direction as shown in FIG. On the Y-axis rotating rod 832-2 in which the threads P1 and P2 in different directions are formed on the left and right sides, and the threads P1 and P2 in the different directions of the Y-axis rotating rod 832-2, respectively. Y-axis moving rod 832-3 coupled to the Y-axis driving rod 832-2, and Y-axis driving motor 832-1 for rotationally driving in the axial direction, comprising a Y-axis guide bar 832 ) Is coupled to the moving rod 832-3.

따라서, 마찬가지로 Y축 구동 모터(832-1)에 의해 Y축 회전 로드(832-2)가 회전하면, Y축 이동 로드(832-3)는 서로 다른 방향의 나사산(P1,P2)을 따라 서로 근접하거나 서로 멀어지는 방향으로 이동하고, 이에 따라 Y축 가이드바(832) 또한 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 이동한다. 한편, 이러한 Y축 가이드 구동 수단은 별도의 Y축 승강 실린더(832-4)에 의해 상하 직선 이동하도록 구성되며, 이를 통해 Y축 가이드바(832)가 스테이지(400)의 상부로 돌출되거나 돌출 해제되도록 구성된다.Therefore, when the Y-axis rotating rod 832-2 is rotated by the Y-axis driving motor 832-1, the Y-axis moving rods 832-3 are mutually along the threads P1 and P2 in different directions. Moving in a direction closer or farther from each other, the Y-axis guide bar 832 also moves in a direction closer or farther from each other. On the other hand, the Y-axis guide driving means is configured to move up and down linearly by a separate Y-axis lifting cylinder (832-4), through which the Y-axis guide bar 832 protrudes or releases the upper portion of the stage 400 It is configured to be.

이때, Y축 가이드바(832)는 도 19에 도시된 바와 같이 2개씩 서로 대향하도록 배치되어 1개의 스테이지(400)에 적용되도록 구성될 수 있으며, 2개의 스테이지(400)에 각각 적용되는 Y축 가이드바(832)가 하나의 Y축 가이드 구동 수단에 의해 동시에 Y축 방향으로 이동하도록 구성될 수 있다.In this case, as shown in FIG. 19, the Y-axis guide bar 832 may be disposed to face each other and applied to one stage 400, and the Y-axis guide bar 832 may be applied to each of the two stages 400. The guide bar 832 may be configured to move in the Y-axis direction at the same time by one Y-axis guide driving means.

도 20 및 도 21에는 전술한 바와 같이 비젼 시스템(810)이 전진 및 후진하는 동작 상태가 각각 도시되는데, 이때, 비젼 시스템(810)의 하부에는 마스크 홀더(700)가 배치되며, 마스크 홀더(700)에는 특정 패턴이 형성되는 마스크(M)가 고정 장착된다.20 and 21 illustrate an operation state in which the vision system 810 moves forward and backward, as described above. In this case, a mask holder 700 is disposed below the vision system 810 and the mask holder 700 is shown. ) Is fixedly mounted with a mask M in which a specific pattern is formed.

마스크 홀더(700)에는 도 20 내지 도 22에 도시된 바와 같이 별도의 고정구(730)를 통해 마스크(M)가 고정 장착되도록 구성되는데, 특히, 기판(S)에 대한 얼라인 작업이 진행되는 과정 및 광학 유닛(200)에 의한 광이 조사되는 과정 중에는 마스크(M)가 더욱 안정적으로 고정 장착되어야 하므로, 마스크(M)의 안정적인 고정을 위해 마스크 홀더(700)에는 도 22에 도시된 바와 같이 마스크(M)가 진공 흡착되도록 그루브(720)가 형성된다. 이러한 그루브(720)는 진공 흡입 포트(710)를 통해 별도의 진공 흡입 펌프(미도시)와 연결되어 마스크(M)를 진공 흡착하도록 구성된다.The mask holder 700 is configured to be fixedly mounted to the mask M through a separate fixture 730 as shown in FIGS. 20 to 22. In particular, a process in which an alignment operation is performed on the substrate S is performed. Since the mask M needs to be more stably fixed while the light is being irradiated by the optical unit 200, the mask holder 700 may have a mask as shown in FIG. 22 to stably fix the mask M. FIG. The groove 720 is formed so that the M is vacuum adsorbed. The groove 720 is connected to a separate vacuum suction pump (not shown) through the vacuum suction port 710 is configured to vacuum suction the mask (M).

이때, 마스크 홀더(700)에 형성된 그루브(720)와 스테이지(400)에 형성된 그루브(410)는 연결 호스(미도시)를 통해 상호 연통되도록 형성되며, 하나의 진공 흡입 펌프에 의해 각각 마스크(M) 및 기판(S)을 동시에 진공 흡착 고정하도록 구성될 수 있다.In this case, the groove 720 formed in the mask holder 700 and the groove 410 formed in the stage 400 are formed to communicate with each other through a connection hose (not shown), and each mask M is formed by one vacuum suction pump. ) And the substrate S at the same time may be configured to vacuum suction fixed.

이러한 구성에 따라, 마스크 홀더(700)에 고정된 마스크(M)와 스테이지(400)에 고정된 기판(S)은 각각 동시에 진공 흡착 방식으로 고정되므로, 얼라인 및 노광 공정 진행 중에는 서로에 대한 상대 이동 변위가 발생하지 않아 더욱 정밀한 얼라인 및 노광 공정이 가능하다. 물론, 마스크(M)와 기판(S)을 진공 흡착하기 위한 진공 흡입 펌프를 하나만 구비해도 되므로, 구조의 단순화 및 제작 비용의 절감 등의 효과를 거둘 수 있다.According to this configuration, since the mask M fixed to the mask holder 700 and the substrate S fixed to the stage 400 are fixed at the same time by vacuum adsorption, relative to each other during the alignment and exposure process. Moving displacement does not occur, enabling more precise alignment and exposure processes. Of course, since only one vacuum suction pump for vacuum suction of the mask M and the substrate S may be provided, the effect of simplifying the structure and reducing the manufacturing cost can be obtained.

또한, 마스크(M)는 별도의 마스크 홀더(700)를 이용하여 장착 및 조절하므로 마스크(M)의 파손을 줄일 수 있고, 유지 관리가 용이한 장점을 가진다.
In addition, since the mask M is mounted and adjusted using a separate mask holder 700, damage of the mask M may be reduced, and maintenance may be easy.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas falling within the scope of the same shall be construed as falling within the scope of the present invention.

100: 베이스 프레임 200: 광학 유닛
300: 공급 유닛 310: 회전 롤러
320: 콘베이어 벨트 330: 스토퍼 모듈
331: 스토퍼 지지바 332,333: 스토퍼 블록
334: 랙 기어 335: 피니언 기어
336: 스토퍼 샤프트 337: 스토퍼 이동 모터
338: 액츄에이터 340: 공급 가이드 모듈
341: 제 1 가이드 플레이트 342: 제 2 가이드 플레이트
343: 가이드 지지판 344: 가이드 레일
345: 간격 조절 수단 345-1: 제 1 랙바
345-2: 제 2 랙바 345-3: 랙 기어
345-4: 피니언 기어 345-5: 간격 조절 샤프트
345-6: 간격 조절 모터 400: 스테이지
410: 그루브 500: 배출 유닛
510: 회전 롤러 520: 콘베이어 벨트
540: 배출 가이드 모듈 700: 마스크 홀더
710: 진공 흡입 포트 720: 그루브
730: 고정구 800: 얼라인 유닛
810: 비젼 시스템 811: 카메라 모듈
812: 이동 장치 820: 메인 얼라인 모듈
821: 얼라인 모터 822: 상하 실린더
830: 프리 얼라인 모듈 831: X축 가이드바
831-1: X축 구동 모터 831-2: X축 회전 로드
831-3: X축 이동 로드 831-4: X축 승강 실린더
832: Y축 가이드바 832-1: Y축 구동 모터
832-2: Y축 회전 로드 832-3: Y축 이동 로드
832-4: Y축 승강 실린더 900: 이송 셔틀 유닛
910: 셔틀 본체 921: 제 1 핑거부
922: 제 2 핑거부 930: 셔틀 구동부
931: 셔틀 수평 구동부 931-1: 셔틀 수평 지지대
931-2: 구동 롤러 931-3: 종동 롤러
931-4: 이동 벨트 931-5: 연결 지지대
931-6: 상하 가이드 레일 931-7: 셔틀 수평 구동 모터
931-8: 수평 가이드 레일 932: 셔틀 수직 구동부
932-1: 셔틀 수직 구동 모터 932-2: 회전 샤프트
932-3: 캠 플레이트100: base frame 200: optical unit
300: supply unit 310: rotary roller
320: conveyor belt 330: stopper module
331: stopper support bar 332,333: stopper block
334: rack gear 335: pinion gear
336: stopper shaft 337: stopper moving motor
338: actuator 340: supply guide module
341: first guide plate 342: second guide plate
343: guide support plate 344: guide rail
345: gap adjusting means 345-1: first rack bar
345-2: second rack bar 345-3: rack gear
345-4: Pinion gear 345-5: Spacing shaft
345-6: Spacing motor 400: Stage
410 groove 500: discharge unit
510: rotary roller 520: conveyor belt
540: discharge guide module 700: mask holder
710: vacuum suction port 720: groove
730: fixture 800: alignment unit
810: vision system 811: camera module
812: Mobile device 820: Main alignment module
821: alignment motor 822: upper and lower cylinders
830: pre-align module 831: X-axis guide bar
831-1: X-axis drive motor 831-2: X-axis rotating rod
831-3: X-axis moving rod 831-4: X-axis lifting cylinder
832: Y-axis guide bar 832-1: Y-axis drive motor
832-2: Y-axis rotation rod 832-3: Y-axis movement rod
832-4: Y-axis lifting cylinder 900: transfer shuttle unit
910: shuttle body 921: first finger portion
922: second finger portion 930: shuttle driving portion
931: shuttle horizontal drive 931-1: shuttle horizontal support
931-2: drive roller 931-3: driven roller
931-4: Transfer belt 931-5: Connecting support
931-6: Vertical guide rail 931-7: Shuttle horizontal drive motor
931-8: Horizontal guide rail 932: Shuttle vertical drive
932-1: shuttle vertical drive motor 932-2: rotating shaft
932-3: cam plate

Claims (14)

기판(S)을 공급하는 공급 유닛(300);
상기 공급 유닛(300)으로부터 기판(S)을 전달받아 기판(S)을 안착 고정시키는 스테이지(400);
상기 스테이지(400)로부터 기판(S)을 전달받아 배출하는 배출 유닛(500);
상기 스테이지(400)의 상부에 배치되어 상기 스테이지(400)의 기판(S)에 광을 조사하는 광학 유닛(200);
상기 광학 유닛(200)의 광이 통과하도록 마스크(M)가 장착되어 상기 광학 유닛(200)과 스테이지(400) 사이 공간에 배치되는 마스크 홀더(700);
상기 스테이지(400)에 안착된 기판(S)의 위치 정렬 상태를 측정 조절하는 얼라인 유닛(800); 및
기판(S)을 상기 공급 유닛(300)으로부터 상기 스테이지(400)에 이송 전달함과 동시에 상기 스테이지(400)로부터 상기 배출 유닛(500)에 이송 전달하는 이송 셔틀 유닛(900)
을 포함하고, 상기 이송 셔틀 유닛(900)은
셔틀 본체(910)와, 상기 셔틀 본체(910)에 장착되며 기판(S)을 파지할 수 있도록 형성되는 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)와, 상기 셔틀 본체(910)를 이동시키는 셔틀 구동부(930)를 포함하고, 상기 셔틀 본체(910)가 이동함에 따라 상기 공급 유닛(300)의 기판(S)은 상기 제 1 핑거부(921)에 파지되고 상기 스테이지(400)의 기판(S)은 상기 제 2 핑거부(922)에 파지되어 각각 상기 스테이지(400) 또는 배출 유닛(500)으로 동시에 이송 전달되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
A supply unit 300 for supplying the substrate S;
A stage 400 receiving the substrate S from the supply unit 300 and seating and fixing the substrate S;
A discharge unit 500 receiving and discharging the substrate S from the stage 400;
An optical unit 200 disposed on the stage 400 to irradiate light onto the substrate S of the stage 400;
A mask holder 700 mounted with a mask M to allow light of the optical unit 200 to pass therethrough and disposed in a space between the optical unit 200 and the stage 400;
An alignment unit 800 for measuring and adjusting a position alignment state of the substrate S seated on the stage 400; And
Transfer shuttle unit 900 which transfers and transfers the substrate S from the supply unit 300 to the stage 400 and at the same time transfers the substrate S from the stage 400 to the discharge unit 500.
To include, the transfer shuttle unit 900 is
A shuttle body 910, first and second fingers 921 and 922 mounted to the shuttle body 910 and formed to hold the substrate S, and a shuttle driver to move the shuttle body 910. 930, wherein the substrate S of the supply unit 300 is gripped by the first finger 921 and the substrate S of the stage 400 as the shuttle body 910 moves. Is gripped by the second finger (922) and is simultaneously transferred to the stage (400) or the discharge unit (500).
제 1 항에 있어서,
상기 스테이지(400), 광학 유닛(200), 마스크 홀더(700) 및 얼라인 유닛(800)은 복수개 구비되고, 상기 이송 셔틀 유닛(900)의 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)는 각각 복수개의 기판(S)을 동시에 이송 전달할 수 있도록 각각 복수개 장착되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method of claim 1,
The stage 400, the optical unit 200, the mask holder 700, and the alignment unit 800 may be provided in plural, and the first and second fingers 921 and 922 of the transfer shuttle unit 900 may each be provided in plural. Exposure apparatus characterized in that a plurality of each mounted so as to transfer transfer of the two substrates (S) at the same time.
제 2 항에 있어서,
상기 셔틀 구동부(930)는
상기 셔틀 본체(910)를 좌우 방향으로 수평 왕복 이동시키는 셔틀 수평 구동부(931); 및
상기 셔틀 본체(910)를 상하 방향으로 수직 왕복 이동시키는 셔틀 수직 구동부(932)
를 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 핑거부(921,922)는 상기 셔틀 본체(910)가 상향 이동함에 따라 상기 공급 유닛(300) 및 스테이지(400)로부터 각각 기판(S)을 상향 이동시키며 파지하고, 상기 셔틀 본체(910)가 수평 이동함에 따라 각각 기판(S)을 파지한 상태로 수평 방향으로 이동시키며, 상기 셔틀 본체(910)가 하향 이동함에 따라 각각 기판(S)을 하향 이동시키며 상기 스테이지(400) 또는 배출 유닛(500)에 안착시키는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method of claim 2,
The shuttle driver 930 is
A shuttle horizontal driver 931 for horizontally reciprocating the shuttle body 910 in a horizontal direction; And
Shuttle vertical drive unit 932 for vertically reciprocating the shuttle body 910 in the vertical direction
The first and second fingers 921 and 922 may move upward and gripping the substrate S from the supply unit 300 and the stage 400 as the shuttle body 910 moves upward. As the shuttle body 910 moves horizontally, the substrate S moves in a horizontal direction while holding the substrate S, and as the shuttle body 910 moves downward, the substrate S moves downward, respectively. An exposure apparatus characterized by seating on the 400 or the discharge unit (500).
제 3 항에 있어서,
상기 셔틀 수평 구동부(931)는
좌우 양측단부에 구동 롤러(931-2) 및 종동 롤러(931-3)가 장착되고, 상기 셔틀 본체(910)가 수평 방향으로 직선 이동 가능하게 결합되는 셔틀 수평 지지대(931-1);
양단이 상기 구동 롤러(931-2) 및 종동 롤러(931-3)에 권취되어 수평 이동하는 이동 벨트(931-4); 및
상기 이동 벨트(931-4)가 수평 이동하도록 상기 구동 롤러(931-2)를 회전 구동하는 셔틀 수평 구동 모터(931-7)
를 포함하고, 상기 셔틀 본체(910)는 상기 이동 벨트(931-4)의 일측에 결합되어 상기 이동 벨트(931-4)와 함께 수평 이동하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method of claim 3, wherein
The shuttle horizontal drive 931 is
A shuttle horizontal support 931-1 on which left and right driving rollers 931-2 and driven rollers 931-3 are mounted, and the shuttle body 910 is linearly movable in a horizontal direction;
A moving belt 931-4 whose both ends are wound around the drive roller 931-2 and the driven roller 931-3 to move horizontally; And
Shuttle horizontal drive motor 931-7 for rotationally driving the drive roller 931-2 so that the moving belt 931-4 moves horizontally.
And the shuttle body (910) is coupled to one side of the moving belt (931-4) to move horizontally with the moving belt (931-4).
제 4 항에 있어서,
상기 셔틀 수직 구동부(932)는
셔틀 수직 구동 모터(932-1); 및
상기 셔틀 수직 구동 모터(932-1)에 의해 회전 구동되는 회전 샤프트(932-2)에 결합되어 일체로 회전하는 캠 플레이트(932-3)
를 포함하고, 상기 셔틀 수평 지지대(931-1)는 하단에 상기 캠 플레이트(932-3)와 맞물림되어 상하 직선 이동하는 연결 지지대(931-5)가 결합되어 상하 직선 이동하고, 상기 셔틀 본체(910)는 상기 셔틀 수평 지지대(931-1)와 함께 상하 직선 이동하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method of claim 4, wherein
The shuttle vertical drive unit 932
Shuttle vertical drive motor 932-1; And
Cam plate 932-3 which is integrally rotated by being coupled to a rotating shaft 932-2 that is rotationally driven by the shuttle vertical drive motor 932-1.
It includes, the shuttle horizontal support (931-1) is engaged with the cam plate (932-3) at the bottom is coupled to the connecting support (931-5) to move up and down linearly, the vertical linear movement, the shuttle body ( 910 is an up-and-down linear movement with the shuttle horizontal support (931-1).
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 공급 유닛(300)은
서로 평행하게 2열로 배치되는 다수개의 회전 롤러(310);
각 열을 이루는 다수개의 상기 회전 롤러(310)를 따라 서로 평행하게 각각 권취되어 상기 회전 롤러(310)를 따라 이동하는 한 쌍의 콘베이어 벨트(320); 및
상기 콘베이어 벨트(320)가 이동하도록 상기 회전 롤러(310)를 회전 구동하는 공급 구동 모터(340)
를 포함하고, 기판(S)은 상기 콘베이어 벨트(320)에 안착되어 순차적으로 공급 이송되며, 상기 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송되는 기판(S)을 특정 위치에 정지 고정시킬 수 있도록 별도의 스토퍼 모듈(330)이 한 쌍의 상기 콘베이어 벨트(320) 사이에 배치되고, 상기 스토퍼 모듈(330)은 기판(S)의 정지 고정 위치를 변경 조절할 수 있도록 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The supply unit 300
A plurality of rotating rollers 310 arranged in two rows in parallel with each other;
A pair of conveyor belts 320 which are respectively wound in parallel with each other along the plurality of rotating rollers 310 forming each row and moving along the rotating rollers 310; And
Supply drive motor 340 for rotationally driving the rotary roller 310 to move the conveyor belt 320
It includes, the substrate (S) is seated on the conveyor belt 320 is sequentially supplied and transported, a separate stopper so as to stop and fix the substrate (S) transported by the conveyor belt 320 at a specific position Exposure module, characterized in that the module (330) is disposed between a pair of the conveyor belt (320), the stopper module (330) is configured to change and adjust the stationary fixed position of the substrate (S).
제 6 항에 있어서,
상기 스토퍼 모듈(330)은
중단부 일측에 랙 기어(334)가 형성된 스토퍼 지지바(331);
상기 랙 기어(334)에 맞물림되도록 일단부에 피니언 기어(335)가 형성되는 스토퍼 샤프트(336);
상기 스토퍼 샤프트(336)를 회전 구동하는 스토퍼 이동 모터(337); 및
상기 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송되는 기판(S)이 맞물림되며 정지하도록 상기 콘베이어 벨트(320)보다 상향 돌출되게 상기 스토퍼 지지바(331)에 결합되는 스토퍼 블록(332,333)
을 포함하고, 상기 스토퍼 지지바(331) 및 상기 스토퍼 블록(332,333)이 상기 스토퍼 이동 모터(337)의 구동에 의해 상기 콘베이어 벨트(320)의 이동 방향을 따라 직선 이동함으로써, 기판(S)의 정지 고정 위치가 변경 조절되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method according to claim 6,
The stopper module 330 is
A stopper support bar 331 having a rack gear 334 formed on one side of the stop;
A stopper shaft 336 having a pinion gear 335 formed at one end thereof to be engaged with the rack gear 334;
A stopper moving motor 337 which rotationally drives the stopper shaft 336; And
Stopper blocks 332 and 333 coupled to the stopper support bar 331 to protrude upwardly from the conveyor belt 320 to engage and stop the substrate S transferred by the conveyor belt 320.
And the stopper support bar 331 and the stopper blocks 332 and 333 linearly move along the moving direction of the conveyor belt 320 by driving the stopper moving motor 337. An exposure apparatus, characterized in that the stop fixing position is changed and adjusted.
제 7 항에 있어서,
상기 스토퍼 블록(332,333)은 상기 콘베이어 벨트(320)의 이동 방향을 따라 상기 스토퍼 지지바(331)의 전단 및 후단에 각각 결합되고,
상기 스토퍼 지지바(331)의 전단에 결합되는 스토퍼 블록(332)은 별도의 액츄에이터(338)에 의해 상하 이동 가능하게 결합되어 기판(S)을 선택적으로 정지시키는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method of claim 7, wherein
The stopper blocks 332 and 333 are respectively coupled to the front end and the rear end of the stopper support bar 331 along the moving direction of the conveyor belt 320.
The stopper block 332 coupled to the front end of the stopper support bar 331 is coupled to the vertical movement by a separate actuator 338 to selectively stop the substrate (S).
제 6 항에 있어서,
상기 공급 유닛(300)은
상기 콘베이어 벨트(320)에 의해 이송되는 기판(S)의 이동 경로를 가이드하는 공급 가이드 모듈(340)을 더 포함하고,
상기 공급 가이드 모듈(340)은
가이드 지지판(343);
기판(S)의 양측단에 접촉할 수 있도록 서로 평행하게 이격 배치되고, 상호 이격 간격이 조절될 수 있도록 상기 가이드 지지판(343)에 직선 이동 가능하게 결합되는 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342); 및
상기 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342)의 이격 간격을 조절하는 간격 조절 수단(345)
을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method according to claim 6,
The supply unit 300
Further comprising a supply guide module 340 for guiding the movement path of the substrate (S) conveyed by the conveyor belt 320,
The supply guide module 340 is
Guide support plate 343;
The first and second guide plates 341 and 342 are disposed in parallel to each other so as to be in contact with both ends of the substrate S, and are linearly coupled to the guide support plate 343 so as to be mutually spaced apart. ; And
Interval adjusting means 345 for adjusting the separation interval of the first and second guide plates 341 and 342
Exposure apparatus comprising a.
제 9 항에 있어서,
상기 간격 조절 수단(345)은
상기 제 1 및 제 2 가이드 플레이트(341,342)의 서로 대향하는 면에 각각 직각 방향으로 결합되며, 일면에 랙 기어(345-3)가 형성되는 제 1 및 제 2 랙바(345-1,345-2);
상기 제 1 및 제 2 랙바(345-1,345-2)의 랙 기어(345-3)와 동시에 맞물림되도록 일단에 피니언 기어(345-4)가 형성되는 간격 조절 샤프트(345-5); 및
상기 간격 조절 샤프트(345-5)를 회전 구동하는 간격 조절 모터(345-6)
를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method of claim 9,
The gap adjusting means 345 is
First and second rack bars 345-1 and 345-2 coupled to the surfaces of the first and second guide plates 341 and 342 that face each other at right angles, respectively, and having a rack gear 345-3 formed on one surface thereof;
An interval adjusting shaft 345-5 having a pinion gear 345-4 at one end thereof to be engaged with the rack gears 345-3 of the first and second rack bars 345-1 and 345-2 at the same time; And
A spacing motor 345-6 for rotationally driving the spacing shaft 345-5
Exposure apparatus comprising a.
제 9 항에 있어서,
상기 공급 가이드 모듈(340)은 상기 셔틀 구동부(930)에 의해 구동되어 상기 셔틀 본체(910)와 함께 상하 직선 이동하며, 상향 이동한 상태에서 기판(S)의 이동 경로를 가이드하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method of claim 9,
The supply guide module 340 is driven by the shuttle driver 930 to move up and down linearly with the shuttle body 910, and guides the movement path of the substrate S in a state of upward movement. Exposure apparatus.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 얼라인 유닛(800)은
상기 스테이지(400)에 안착된 기판(S)의 위치가 1차적으로 정렬되도록 상기 스테이지(400) 상에서 기판(S)을 이동시키는 프리 얼라인 모듈(830);
상기 프리 얼라인 모듈(830)에 의해 1차 위치 정렬된 기판(S)의 위치 정렬 상태를 카메라 모듈(811)을 이용하여 측정하는 비젼 시스템(810); 및
상기 비젼 시스템(810)의 측정 결과에 따라 기판(S)의 위치 정렬 상태를 최종 조절하도록 상기 스테이지(400)의 위치를 미세 조정하는 메인 얼라인 모듈(820)
을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The alignment unit 800
A pre-align module (830) for moving the substrate (S) on the stage (400) such that the position of the substrate (S) seated on the stage (400) is primarily aligned;
A vision system 810 for measuring a position alignment state of the substrate S primarily aligned by the prealign module 830 using the camera module 811; And
Main alignment module 820 to finely adjust the position of the stage 400 to finally adjust the position alignment of the substrate (S) according to the measurement result of the vision system 810
Exposure apparatus comprising a.
제 12 항에 있어서,
상기 프리 얼라인 모듈(830)은
상기 스테이지(400)의 상면으로부터 상향 돌출될 수 있도록 배치되며, X축 방향을 따라 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 직선 이동하는 X축 가이드바(831); 및
상기 스테이지(400)의 상면으로부터 상향 돌출될 수 있도록 배치되며, 상기 X축과 직각인 Y축 방향을 따라 서로 근접하거나 멀어지는 방향으로 직선 이동하는 Y축 가이드바(832)
를 포함하고, 상기 X축 가이드바(831)가 서로 근접하는 방향으로 이동하며 기판(S)의 X축 방향 양단에 접촉하여 기판(S)의 X축 방향 위치를 조절하고, 상기 Y축 가이드바(832)가 서로 근접하는 방향으로 이동하며 기판(S)의 Y축 방향 양단에 접촉하여 Y축 방향 위치를 조절하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
The method of claim 12,
The pre-align module 830
An X-axis guide bar 831 disposed to protrude upward from an upper surface of the stage 400 and linearly moving in a direction near or away from each other along the X-axis direction; And
The Y-axis guide bar 832 is disposed so as to protrude upward from the upper surface of the stage 400, and linearly moving in a direction approaching or away from each other along the Y-axis direction perpendicular to the X-axis.
Includes, the X-axis guide bar 831 moves in a direction close to each other and in contact with both ends of the X-axis direction of the substrate (S) to adjust the X-axis direction position of the substrate (S), the Y-axis guide bar And (832) move in a direction close to each other, and in contact with both ends of the Y-axis direction of the substrate (S) to adjust the Y-axis direction position.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 마스크 홀더(700)에는 상기 마스크(M)가 진공 흡착 고정되도록 그루브(720)가 형성되고, 상기 스테이지(400)에는 상기 스테이지(400) 상에 안착된 기판(S)이 진공 흡착 고정되도록 그루브(410)가 형성되며, 상기 마스크 홀더(700)에 형성된 그루브(720)와 상기 스테이지(400)에 형성된 그루브(410)는 상호 연통되도록 형성되어 하나의 진공 흡입 펌프에 의해 각각 상기 마스크(M) 및 기판(S)을 동시에 진공 흡착 고정하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.

6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Grooves 720 are formed in the mask holder 700 so that the mask M is fixed to vacuum suction, and grooves are formed in the stage 400 so that the substrate S mounted on the stage 400 is vacuum suction fixed. 410 is formed, and the grooves 720 formed in the mask holder 700 and the grooves 410 formed in the stage 400 are formed to communicate with each other by the vacuum suction pump, respectively. And vacuum suction fixing the substrate S at the same time.

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