KR101411139B1 - Method for producing glass sheet - Google Patents
Method for producing glass sheet Download PDFInfo
- Publication number
- KR101411139B1 KR101411139B1 KR1020127012722A KR20127012722A KR101411139B1 KR 101411139 B1 KR101411139 B1 KR 101411139B1 KR 1020127012722 A KR1020127012722 A KR 1020127012722A KR 20127012722 A KR20127012722 A KR 20127012722A KR 101411139 B1 KR101411139 B1 KR 101411139B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- molten glass
- glass
- temperature
- blue
- mass
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
- C03B5/43—Use of materials for furnace walls, e.g. fire-bricks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
- C03B18/02—Forming sheets
- C03B18/18—Controlling or regulating the temperature of the float bath; Composition or purification of the float bath
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/02—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating
- C03B5/027—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating by passing an electric current between electrodes immersed in the glass bath, i.e. by direct resistance heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/04—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in tank furnaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/167—Means for preventing damage to equipment, e.g. by molten glass, hot gases, batches
- C03B5/1672—Use of materials therefor
- C03B5/1675—Platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/235—Heating the glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B7/00—Distributors for the molten glass; Means for taking-off charges of molten glass; Producing the gob, e.g. controlling the gob shape, weight or delivery tact
- C03B7/02—Forehearths, i.e. feeder channels
- C03B7/06—Means for thermal conditioning or controlling the temperature of the glass
- C03B7/07—Electric means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
Abstract
본 발명은 적어도 SnO2를 포함하는 용융 유리를 용해조 (101)로부터 청징조 (102)에, 백금 또는 백금 합금제의 제1 이송관 (105a)(접속관)를 통해 반송하는 공정과, 탈포에 의한 가스를 수납하는 공간을 갖는 백금 또는 백금 합금제의 청징조 (102)에 있어서, 용융 유리 중에 포함되는 기포를 용융 유리 밖으로 탈포하는 청징 공정을 갖는 유리판의 제조 방법이다. 상기 유리판의 제조 방법에서는, 제1 이송관 (105a)(접속관) 내에서 용융 유리의 온도를 1500 ℃ 내지 1690 ℃로 가열하고, 청징조 (102) 내에서 용융 유리의 온도를 1600 내지 1780 ℃로 가열한다. 청징조 (102) 내의 용융 유리의 온도는 제1 이송관 (105a)(접속관) 내의 용융 유리의 온도보다 높다.The present invention relates to a process for producing a molten glass containing at least SnO 2 from a molten bath (101) to a blue screen (102) through a first transfer pipe (105a) made of platinum or a platinum alloy And a purifying step of defoaming the bubbles contained in the molten glass out of the molten glass in the blue oven 102 made of platinum or a platinum alloy having a space for accommodating the gas by the molten glass. In the manufacturing method of the glass plate, the temperature of the molten glass is heated in the first conveyance pipe 105a (connecting pipe) to 1500 to 1690 DEG C, and the temperature of the molten glass is set to 1600 to 1780 DEG C . The temperature of the molten glass in the blue oven 102 is higher than the temperature of the molten glass in the first transfer pipe 105a (connecting pipe).
Description
본 발명은 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a glass plate.
유리 제조업자는 제조 과정에서 유리 중에 형성되는 기포로 고민해 왔다. 특히 액정 표시 장치의 유리 기판용이나 커버 유리용 유리판은 극소의 기포 함유량이 요구된다. 따라서, 기포를 제거하기 위해서 용융 유리를 청징하는 것이 행해지고 있는데, 청징하기 위한 다양한 방법이 개발되어 왔다. 예를 들면, 특허문헌 1(일본 특허 공표 제2008-539162호 공보)에서는, 용융 유리의 청징을 효과적으로 행하기 위해서 청징조 주변의 분위기 제어를 하는 기술이 제안되어 있다.Glass manufacturers have been troubled by bubbles formed in glass during manufacturing. Particularly, a glass substrate for a liquid crystal display device or a glass plate for a cover glass requires a very small amount of air bubbles. Therefore, in order to remove bubbles, refining of molten glass has been carried out, and various methods for refining have been developed. For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2008-539162) proposes a technique of controlling the atmosphere around the blue circle in order to effectively purify the molten glass.
상기 청징은 As2O3 등의 청징제를 사용하는 것으로도 행해지고 있다. 그러나, 최근 환경 부하의 감소 측면에서, 종래 사용되고 있었던 독성이 높은 As2O3의 사용을 제한하는 것이 요구되고 있다. 따라서 As2O3을 대신하여, As2O3에 비하여 청징 기능이 떨어지고, 청징(탈포) 기능을 발휘하는 온도, 즉 심하게 산소를 방출하는 온도가 높은 SnO2 등이 청징제로서 이용되고 있다. 이 때문에, SnO2 등을 청징제로서 사용하는 경우에는, As2O3을 청징제로서 사용하는 경우와 비교하여 유리판 중의 기포수를 충분히 감소시킬 수 없다는 문제가 있었다.The refining is also carried out by using a refining agent such as As 2 O 3 . However, recently, from the viewpoint of reducing the environmental load, it is required to limit the use of As 2 O 3 , which has been conventionally used, and which is highly toxic. Therefore, in place of As 2 O 3, the temperature, that is hard, and when a temperature SnO to release oxygen 2, such as the refining function falling, exert the refining (degassing) function as compared to As 2 O 3 is used as a refining agent. For this reason, when SnO 2 or the like is used as the fining agent, there is a problem that the number of bubbles in the glass plate can not be sufficiently reduced as compared with the case where As 2 O 3 is used as the fining agent.
여기서 상기 특허문헌 1에 기재된 기술은, 환경 부하 인자인 As2O3 이외의 SnO2 등의 청징제를 사용하는 경우, 청징제의 청징 기능을 충분히 도출할 수 없다는 문제가 있었다. 또한, 최근 디스플레이 등의 전기 제품 등에 사용되는 유리판의 기포수에 대한 요구는 점점 더 강해지고 있어, 상기 특허문헌 1에 기재된 기술만으로는, 그 요구에 충분히 응할 수 있는 것도 아니었다.The technique described in Patent Document 1 has a problem in that it can not sufficiently derive the refining function of the refining agent when a refining agent such as SnO 2 other than As 2 O 3 which is an environmental load factor is used. In addition, recently, the demand for the number of bubbles in glass plates used in electric products such as displays has become stronger, and the technology described in Patent Document 1 can not sufficiently meet the demand.
상기한 방법은 복잡한 분위기 제어를 필요로 하고, 설비도 복잡해진다. 따라서, 간편하고 효과적으로 용융 유리를 청징하는 방법이 여전히 요청되고 있다.The above-described method requires complicated atmosphere control, and facilities are complicated. Therefore, a simple and effective method for refining molten glass is still required.
본 발명의 목적은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, As2O3 이외의 SnO2 등의 청징제를 사용한 경우라도 충분히 기포수를 감소시키는 것이 가능한 유리판의 제조 방법을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 다른 목적은 간편하고 효과적으로 용융 유리를 청징하는 것이 가능한 유리판의 제조 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a glass plate capable of sufficiently reducing the number of bubbles even when a refining agent such as SnO 2 other than As 2 O 3 is used. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a glass plate capable of purifying a molten glass easily and effectively.
본 발명에 따른 유리판의 제조 방법은, 적어도 SnO2를 포함하는 용융 유리를 용해조로부터 청징조로, 백금 또는 백금 합금제 접속관을 통해 반송하는 공정과, 탈포에 의한 가스를 수납하는 공간을 갖는 백금 또는 백금 합금제의 청징조에서, 용융 유리 중에 포함되는 기포를 용융 유리 밖으로 탈포하는 청징 공정을 갖는다. 접속관 내에서 용융 유리의 온도를 1500 ℃ 내지 1690 ℃로 가열하고, 청징조 내에서 용융 유리의 온도를 1600 내지 1780 ℃로 가열하고, 청징조 내의 용융 유리의 온도는 접속관 내의 용융 유리의 온도보다 높은 것을 특징으로 한다.A method of manufacturing a glass plate according to the present invention comprises the steps of transporting a molten glass containing at least SnO 2 from a melting tank to a blue screen through a platinum or platinum alloy connecting pipe, Or a purifying step of defoaming bubbles contained in the molten glass out of the molten glass in a blue sign made of a platinum alloy. The temperature of the molten glass in the connecting pipe is heated to 1500 to 1690 DEG C, the temperature of the molten glass in the blue oven is heated to 1600 to 1780 DEG C, and the temperature of the molten glass in the blue oven is the temperature .
본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 용융 유리는 청징조로 이송되기 전에 이미 접속관에서 청징에 적합한 온도까지 가열되어 있기 때문에, 용융 유리의 청징은 용융 유리가 청징조로 이송된 직후부터 촉진된다. 따라서, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에 따르면, As2O3 이외의 SnO2 등의 청징제를 사용한 경우라도 청징 효과를 충분히 도출하는 것이 가능해져, 유리판 중의 기포수를 충분히 감소시킬 수 있다.In the method of manufacturing a glass sheet according to the present invention, since the molten glass is already heated to a temperature suitable for refining in the connecting pipe before being conveyed to the blue sign, the refining of the molten glass is promoted immediately after the molten glass is transferred to the blue sign . Therefore, according to the method for producing a glass sheet according to the present invention, even when a refining agent such as SnO 2 other than As 2 O 3 is used, it is possible to sufficiently obtain the refining effect, and the number of bubbles in the glass plate can be sufficiently reduced.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는 접속관 내에서 용융 유리의 온도를 1550 ℃ 내지 1690 ℃로 가열하고, 청징조 내에서 용융 유리의 온도를 1620 ℃ 내지 1780 ℃로 가열하는 것이 바람직하다.In the method of manufacturing a glass plate according to the present invention, it is preferable that the temperature of the molten glass in the connecting pipe is heated to 1550 to 1690 占 폚 and the temperature of the molten glass is heated to 1620 to 1780 占 폚 in the blue oven.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법은, 유리의 재료를 용해조에서 가열하여 용해시켜 용융 유리를 생성하는 용해 공정과, 용융 유리를 용해조로부터, 백금 또는 백금 합금제의 접속관을 통해 백금 또는 백금 합금제 청징조로 흘리는 공정과, 용융 유리를 청징조 내에서 가열하고, 청징하는 청징 공정을 포함한다. 접속관을 통해서 흐르는 용융 유리가 접속관에 의해서 약 1600 ℃ 내지 약 1650 ℃로 가열되고, 청징조 내의 용융 유리가 청징조에 의해서 약 1650 내지 약 1700 ℃로 가열되는 것을 특징으로 한다.A method of manufacturing a glass plate according to the present invention includes a melting step of melting and melting glass materials in a melting tank to produce a molten glass; And a cleaning process of heating and refining the molten glass in the blue screen. The molten glass flowing through the connecting pipe is heated by the connecting pipe to about 1600 DEG C to about 1650 DEG C, and the molten glass in the blue oven is heated to about 1650 DEG C to about 1700 DEG C by the blue oven.
여기서는, 용융 유리는 청징조에 이송되기 전에 이미 접속관에서 청징에 적합한 온도까지 가열되어 있기 때문에, 용융 유리의 청징은 용융 유리가 청징조에 이송된 직후부터 촉진된다. 이와 같이, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에 따르면, 간편하고 효과적으로 용융 유리를 청징할 수 있다.Here, since the molten glass is already heated to a temperature suitable for refinement in the connecting pipe before being conveyed to the blue sign, the refining of the molten glass is promoted immediately after the molten glass is transferred to the blue sign. As described above, according to the manufacturing method of the glass sheet according to the present invention, it is possible to purify the molten glass easily and effectively.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 접속관 내의 용융 유리에 가해지는 압력은 청징조 내의 용융 유리에 가해지는 압력보다 높은 것이 바람직하다.Further, in the method of manufacturing a glass plate according to the present invention, it is preferable that the pressure applied to the molten glass in the connecting pipe is higher than the pressure applied to the molten glass in the blue sealing tank.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 접속관 내의 용융 유리의 점도는 500 내지 2000 poise이고, 청징조 내의 용융 유리의 점도는 200 내지 800 poise인 것이 바람직하다.In the method of manufacturing a glass plate according to the present invention, it is preferable that the viscosity of the molten glass in the connecting pipe is 500 to 2000 poise and the viscosity of the molten glass in the blue oven is 200 to 800 poise.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 접속관의 길이 방향에 수직인 단면적이 청징조의 길이 방향에 수직인 단면적보다 작은 것이 바람직하다.In the method of manufacturing a glass plate according to the present invention, it is preferable that the cross-sectional area perpendicular to the longitudinal direction of the connection pipe is smaller than the cross-sectional area perpendicular to the longitudinal direction of the blue sign.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 접속관의 가열을 통전 가열로 행하고, 청징조의 가열을 통전 가열로 행하는 것이 바람직하다.Further, in the method of manufacturing a glass plate according to the present invention, it is preferable that heating of the connection pipe is performed by energization heating, and heating of the blue sign is performed by energization heating.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 유리판은 0.10 질량% 초과 2.0 질량% 이하의 R'2O(단, R'은 Li, Na 및 K으로부터 선택되는 적어도 1종임)를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에서는 R'2O란 Li2O, Na2O 및 K2O의 합계량을 나타낸다.Further, in the manufacturing method of a glass sheet according to the present invention, the glass plate is 0.10% by weight greater than 2.0 mass% of R '2 O (However, R' preferably containing at least one jongim selected from Li, Na and K) Do. In the present specification, R ' 2 O represents the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 유리판은 R'2O(단, R'은 Li, Na 및 K으로부터 선택되는 적어도 1종임)를 실질적으로 함유하지 않은 무알칼리 유리인 것이 바람직하다.In the method for producing a glass plate according to the present invention, it is preferable that the glass plate is an alkali-free glass substantially free of R ' 2 O (provided that R' is at least one selected from Li, Na and K).
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, logη=2.5인 온도가 1500 ℃ 내지 1750 ℃인 것이 바람직하다.Further, in the production method of the glass sheet according to the present invention, it is preferable that the temperature at which log? = 2.5 is 1500 占 폚 to 1750 占 폚.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 용융 유리가 청징조에 의해서 1600 ℃ 이상으로 가열된 후, 용융 유리를 1600 ℃부터 1500 ℃의 온도 범위에서 2 ℃/분 이상의 강온 속도로 강온시키는 것이 바람직하다.Further, in the method of manufacturing a glass sheet according to the present invention, after the molten glass is heated to 1600 DEG C or higher by a blue sign, the molten glass is cooled at a temperature lowering rate of 2 DEG C / min or more in a temperature range of 1600 DEG C to 1500 DEG C desirable.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 용융 유리를 접속관의 내경의 전체 둘레에 있어서 접속관과 접촉시켜 흘리는 것이 바람직하다.Further, in the method of manufacturing a glass plate according to the present invention, it is preferable that the molten glass is allowed to flow in contact with the connecting pipe all around the inner diameter of the connecting pipe.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 유리판은 하기의 조성을 함유하는 것이 바람직하다.Further, in the method of manufacturing a glass plate according to the present invention, it is preferable that the glass plate contains the following composition.
(a) SiO2: 50 내지 70 질량%, (a) 50 to 70% by mass of SiO 2 ,
(b) B2O3: 5 내지 18 질량%, (b) 5 to 18 mass% of B 2 O 3 ,
(c) Al2O3: 10 내지 25 질량%, (c) 10 to 25% by mass of Al 2 O 3 ,
(d) MgO: 0 내지 10 질량%, (d) 0 to 10% by mass of MgO,
(e) CaO: 0 내지 20 질량%, (e) 0 to 20% by mass of CaO,
(f) SrO: 0 내지 20 질량%, (f) 0 to 20 mass% of SrO,
(o) BaO: 0 내지 10 질량%, (o) BaO: 0 to 10 mass%
(p) RO: 5 내지 20 질량%(단, R은 Mg, Ca, Sr 및 Ba으로부터 선택되는 적어도 1종임).(p) RO: 5 to 20 mass% (provided that R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba).
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 접속관은 용해조로부터 청징조까지 경사지어 상승하도록 용해조와 청징조를 접속시키는 것이 바람직하다.Further, in the method of manufacturing a glass plate according to the present invention, it is preferable that the melting vessel and the blue vessel are connected so that the connecting tube is inclined from the melting vessel to the blue vessel.
또한, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에서는, 청징조는 소정 두께의 벽을 갖고, 접속관은 청징조의 벽 두께보다 두꺼운 내화 금속제의 벽을 갖는 것이 바람직하다.Further, in the method of manufacturing a glass plate according to the present invention, it is preferable that the blue sign has a wall of a predetermined thickness, and the connecting pipe has a wall made of refractory metal that is thicker than the wall thickness of the blue sign.
또한, 본 명세서에서 RO란 MgO, CaO, SrO 및 BaO의 합계량을 나타낸다.In the present specification, RO represents the total amount of MgO, CaO, SrO, and BaO.
본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에 따르면, As2O3 이외의 SnO2 등의 청징제를 사용한 경우라도 기포수를 충분히 감소시킬 수 있다. 또한, 간편하고 효과적으로 용융 유리를 청징할 수 있다.According to the method for producing a glass sheet according to the present invention, even when a refining agent such as SnO 2 other than As 2 O 3 is used, the number of bubbles can be sufficiently reduced. In addition, it is possible to purify the molten glass easily and effectively.
[도 1] 본 발명의 실시 형태에 따른 유리판의 제조 방법의 흐름도.
[도 2] 본 발명의 실시 형태에 따른 유리판 제조 라인의 개략도.
[도 3] 용해조, 접속관 및 청징조의 확대도.1 is a flow chart of a method of manufacturing a glass plate according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic view of a glass sheet production line according to an embodiment of the present invention.
[Fig. 3] An enlarged view of a melting tank, a connecting pipe and a blue sign.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 한 실시 형태를 설명한다. 또한, 이하의 설명은 본 발명의 일례에 관한 것으로, 본 발명이 이들에 의해서 한정되는 것은 아니다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The following description relates to an example of the present invention, and the present invention is not limited thereto.
(1) 유리판의 제조 방법(1) Manufacturing method of glass plate
본 발명의 한 실시 형태에 따른 유리판의 제조 방법은 도 1의 흐름도가 나타내는 일련의 공정을 포함하며, 도 2가 나타내는 유리판 제조 라인 (100)을 이용한다.A method of manufacturing a glass sheet according to an embodiment of the present invention includes a series of steps shown in the flowchart of FIG. 1, and uses the glass
(1-1) 제1 로(爐)에서 행해지는 공정 (1-1) A step performed in a first furnace
유리의 원료는, 우선 용해 공정(스텝 S101)에서 용해된다. 원료는 제1 로인 용해조 (101)에 투입되고 소정의 제1 온도(T1)까지 가열된다. T1은, 예를 들면 1450 ℃ 내지 1650 ℃인 것이 바람직하고, 1500 ℃ 내지 1630 ℃인 것이 바람직하다. 또한 T1은, 예를 들면 하기 (2)의 조성을 갖는 평판 디스플레이용 유리 기판인 경우, 특히 액정 디스플레이용 유리판이나 유기 EL 디스플레이용 유리 기판에 바람직한, R'2O(단, R'은 Li, Na 및 K으로부터 선택되는 적어도 1종임)를 실질적으로 포함하지 않는 무알칼리 유리판인 경우, 또는 R'2O를 0.10 질량% 초과 2.0 질량% 이하밖에 포함하지 않는 알칼리 미량 함유 유리판의 경우, 1500 ℃ 내지 1650 ℃인 것이 보다 바람직하고, 1550 ℃ 이상 1630 ℃ 미만인 것이 바람직하다. 상술한 바와 같은 하한 온도로 함으로써, 유리 원료를 충분히 용해시키는 것이 가능해지고, 실리카 등의 미용해물에서 기인하는 기포의 발생을 억제할 수 있다. 한편, 상술한 바와 같은 상한 온도로 함으로써, SnO2 등의 청징제가 용해조 (101)에서 심하게 가스 성분(예를 들면 산소)을 방출시키는 것을 방지할 수 있고, 청징 공정에서 청징제의 청징 기능을 발휘시키는 것이 가능해진다. 가열된 원료는 용해되어 용융 유리를 형성한다. 용융 유리는 제1 이송관 (105a)(접속관)를 통해 다음 청징 공정(스텝 S102)이 행해지는 청징조 (102)로 이송된다. 다시 말해서, 용융 유리는 용해조 (101)로부터 청징조 (102)로 제1 이송관 (105a)(백금 또는 백금 합금제 접속관)를 통해 반송된다.The glass raw material is first dissolved in the dissolution step (step S101). The raw material is introduced into the first
또한, 용해조 (101)과 제1 이송관 (105a)(백금 또는 백금 합금제 접속관)가 접속되는 영역 근방에서의 용융 유리의 온도는 1500 ℃ 내지 1690 ℃인 것이 바람직하고, 1550 ℃ 내지 1650 ℃인 것이 보다 바람직하다.The temperature of the molten glass in the vicinity of the region to which the
(1-2) 접속관에 있어서의 공정(1-2) Process in connection pipe
제1 이송관 (105a)(접속관) 중에서, 용융 유리는 상기 T1보다 높은 제3 온도(T3)까지 가열되는 것이 바람직하다. 구체적으로, T3은 T1보다 50 ℃ 이상 높은 것이 바람직하다. 또한, T3은 T1보다 100 ℃ 이상 높은 것이 바람직하다. T1은 1450 ℃ 내지 1650 ℃인 데에 반해, T3은 1500 ℃ 내지 1720 ℃인 것이 바람직하고, 약 1550 ℃ 내지 약 1690 ℃인 것이 보다 바람직하다. 이 때, 제1 이송관 (105a)(접속관) 내의 용융 유리의 점도는 500 내지 2000 poise인 것이 바람직하다. 예를 들면 하기 (2)의 조성을 갖는 평판 디스플레이용 유리 기판인 경우, T1은 약 1500 ℃ 내지 1610 ℃(예를 들면, 약 1550 ℃)인 데에 반해, T3은 1550 ℃ 내지 1690 ℃인 것이 바람직하고, 약 1600 ℃ 내지 약 1650 ℃인 것이 보다 바람직하다. 이 때, 제1 이송관 (105a)(접속관) 내의 용융 유리의 점도는 500 내지 2000 poise인 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 용융 유리를 후술하는 청징에 적합한 온도 또는 그에 가까운 온도로 한 상태에서 다음 청징 공정(스텝 S102)이 행해지는 청징조 (102)(제2 로)로 이송할 수 있어, 용융 유리의 청징을 청징조 (102)의 입구에서부터 효과적으로 촉진시킬 수 있다. 이에 따라, 청징조 (102)에 있어서의 용융 유리의 체재 시간을 비교적 짧게 할 수 있고, 용융 유리가 분위기에 노출되는 시간을 짧게 할 수 있기 때문에, 용융 유리 내의 기존의 기포 내로 SO2의 확산이 촉진되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 분위기 중 질소 등이 용융 유리 중에 용해되는 것을 방지할 수 있다. 여기서, 용융 유리 내의 기존의 기포 내로 SO2의 확산이 촉진되면, 용융 유리에 대한 용해도가 작은 SO2가 기포로서 유리판 내에 잔존하게 되는 경우가 있다. 한편, 질소 등이 용융 유리에 용해되면, 용융 유리의 온도를 저하시키는 공정에서 재비등(reboil) 기포로서 N2가 발생하는 것이 생각된다. 즉, 청징조 (102)에서의 용융 유리의 체재 시간을 비교적 짧게 할 수 있으면, SO2나 N2 등의 재비등 기포를 억제할 수 있고, 유리판의 기포수를 감소시킬 수 있다. 한편, 상기 상한 온도보다 용융 유리의 온도를 높이고자 하면, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 온도를, 제1 이송관 (105a)(접속관)를 구성하는 백금 또는 백금 합금의 융점 근방까지 가열해야 하는 경우가 있어, 제1 이송관 (105a)(접속관)가 침식(erosion)될 우려가 있기 때문에 바람직하지 않다. 또한, T3은 후술하는 청징조 (102)에서 용융 유리가 가열되어 도달하는 제2 온도(T2) 이하인 것이 바람직하다.In the
여기서 용융 유리의 청징에 적합한 온도란, 사용하는 청징제와 유리의 조성에 따라 변동된다. 본 실시 형태의 유리판은, 청징제로서 SnO2를 함유하고 있다. SnO2가 청징제로서 기능하는, 즉 산소를 효과적으로 방출하기 시작하는 온도는 1600 ℃ 이상이고, 온도가 상승함에 따라 심하게 산소를 방출한다. 즉, 청징제로서 SnO2를 함유하는 경우에 청징에 적합한 온도는 1620 ℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 1650 ℃ 이상이다. 한편, 본 실시 형태에 나타내는 유리판은 R'2O(단, R'은 Li, Na 및 K으로부터 선택되는 적어도 1종임)를 실질적으로 포함하지 않는 무알칼리 유리판, 또는 R'2O를 0.10 질량% 초과 2.0 질량% 이하밖에 포함하지 않는 알칼리 미량 함유 유리판이다. 이와 같이 무알칼리 유리 또는 알칼리 미량 함유 유리는, 알칼리를 2.0 질량% 초과 포함하는 유리와 비교하여 고온에서의 점도(고온 점성)가 높다. 예를 들면, 무알칼리 유리 또는 알칼리 미량 함유 유리가 logη=2.5가 되는 경우의 온도는 1500 ℃ 내지 1750 ℃이다.Here, the temperature suitable for refining the molten glass varies depending on the composition of the refining agent and glass used. The glass plate of the present embodiment contains SnO 2 as a fining agent. The temperature at which SnO 2 functions as a refining agent, that is, the temperature at which oxygen effectively starts to emit, is 1600 ° C or higher, and the oxygen is severely released as the temperature rises. That is, when SnO 2 is contained as a refining agent, the temperature suitable for refining is not lower than 1620 ° C, and more preferably not lower than 1650 ° C. On the other hand, the glass sheet shown in this embodiment is R '2 O (However, R' is at least one jongim selected from Li, Na and K) a non-alkali glass plate that is substantially free of, or R '2 O to 0.10% by weight By mass and not more than 2.0% by mass. As described above, the alkali-free or alkali-containing glass has a high viscosity (high-temperature viscosity) at a high temperature as compared with a glass containing more than 2.0% by mass of alkali. For example, the temperature at which the alkali-free glass or alkali-alkali-containing glass becomes log? = 2.5 is 1500 占 폚 to 1750 占 폚.
여기서 용융 유리 중의 기포가 부상하는 속도는 용융 유리의 점도의 영향을 받는 것으로, 용융 유리의 점도가 낮을수록 기포의 부상 속도는 상승한다. 효율적으로 청징을 행하기 위해서, 청징조 (102) 내에서의 용융 유리의 점도는 예를 들면 200 내지 800 poise인 것이 바람직하다. 이 때문에, 무알칼리 유리 또는 알칼리 미량 함유 유리의 청징을 행하기 위해서는, 용융 유리의 점도를 낮게 하기 위해서, 알칼리 유리와 비교하여 용융 유리의 온도를 더 상승시킬 필요가 있다. 보다 상세하게는, 무알칼리 유리판 또는 알칼리 미량 함유 유리판의 제조에서는, 청징조 (102)에 있어서의 용융 유리의 온도를 예를 들면 1650 ℃ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 상기에서 말하는 청징이란, 용융 유리 중의 기포를 용융 유리 밖으로 배출시켜 탈포하는 것을 나타낸다.Here, the rate at which the bubbles rise in the molten glass is influenced by the viscosity of the molten glass, and the lower the viscosity of the molten glass, the higher the rate of rise of the bubbles. In order to perform refining efficiently, the viscosity of the molten glass in the
또한, 용융 유리의 가열은 급전(給電) 단자 (201a, 201b)를 구비한 전기 가열 장치 (201)에 의해 내화 금속제의 제1 이송관 (105a)(접속관)를 통전시키고, 그의 줄열에 의해 발열시킴으로써 행하는 것이 바람직하다. 급전 단자 (201a, 201b)는 제1 이송관 (105a)(접속관)의 양 끝에 부착되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같이 백금 또는 백금 합금으로 이루어지는 제1 이송관 (105a)(접속관)를 통전 가열함으로써, 청징제로서 SnO2를 함유하는 유리판의 제조에서도, SnO2에 의한 청징 효과를 충분히 도출하기 위한 용융 유리의 온도 제어를 용이하게 실현할 수 있다.The heating of the molten glass is carried out by energizing the
또한, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 길이 방향에 수직인 단면적은, 청징조 (102)의 길이 방향에 수직인 단면적보다 작은 것이 바람직하다. 즉, 청징조 (102)의 길이 방향에 수직인 단면적이, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 길이 방향에 수직인 단면적보다 큰 것이 바람직하다.The cross-sectional area perpendicular to the longitudinal direction of the
구체적으로, 청징조 (102)의 상기 단면적은 제1 이송관 (105a)(접속관)의 내경에 관한 단면적보다 100 % 초과로 큰 것이 바람직하다. 청징조 (102)의 상기 단면적은, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 내경에 관한 단면적보다 150 % 이상 큰 것이 보다 바람직하다. 예를 들면, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 내경이 200 mm(단면적 약 31416 mm2)이면, 청징조 (102)의 내경은 약 316 mm, 길이 방향에 수직인 단면적은 약 78540 mm2 이상인 것이 바람직하다. 이에 따라, 용융 유리가 제1 이송관 (105a)(접속관)로부터 청징조 (102)로 나왔을 때에 용융 유리에 가해지는 압력이 감소하고, 용융 유리 중의 가스 성분이 기포로서 용융 유리 밖으로 빠져나오기 쉬워져, 용융 유리의 청징이 청징조 (102)의 입구에서부터 촉진된다. 여기서 청징조 (102)는, 청징조 (102) 내에 용융 유리로부터 탈포된 기체를 수용하는 공간을 갖는다. 즉, 제1 이송관 (105a)(접속관) 내의 용융 유리에 가해지는 압력을 청징조 (102) 내의 용융 유리에 가해지는 압력보다 높게 함으로써, 용융 유리 중에서 발생한 기포를 청징조 (102)에 설치된 상기 공간으로 배출시킬 수 있다.Specifically, it is preferable that the cross-sectional area of the
또한 제1 이송관 (105a)(접속관)는, 용해조 (101)과 청징조 (102)를 도 3에 나타낸 바와 같이 대략 수평으로 접속시킬 수도 있지만, 용해조 (101)과 청징조 (102)를, 용해조 (101)로부터 청징조 (102)까지 경사지어 상승하도록 접속시키는 것이 바람직하다. 즉, 제1 이송관 (105a)(접속관) 안을 통과하는 용융 유리가 용해조 (101)로부터 청징조 (102)를 향하여 경사가 있는 사면을 오르도록, 제1 이송관 (105a)(접속관)가 용해조 (101)과 청징조 (102)를 접속하고 있는 것이 바람직하다. 상기 경사는 15도 이상 90도 미만인 것이 바람직하고, 20도 이상 90도 미만인 것이 보다 바람직하며, 30도 이상 90도 미만인 것이 더욱 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 하류단을 제외한 제1 이송관 (105a)(접속관) 안을 흐르는 용융 유리에는 자체 중량에 의한 압력이 가해지지만, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 하류단, 즉 청징조 (102)로의 출구에서는 이러한 압력은 가해지지 않아, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 청징조 (102)로의 출구에서 용융 유리에 가해지는 압력이 감소한다. 이러한 감압 환경에서는, 용융 유리 중의 가스 성분이 기포로서 용융 유리 밖으로 빠져나오기 쉬워져, 용융 유리의 청징이 청징조 (102)의 입구에서부터 촉진된다.3, the
또한, 제1 이송관 (105a)(접속관)에는 고온의 용융 유리가 유입되기 때문에, 제1 이송관 (105a)(접속관)는 내화 금속으로 이루어지는 벽을 갖는 것이 바람직하고, 상기 벽은 특히 백금 또는 백금 합금으로 이루어지는 것이 바람직하다. 그리고, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽 두께는 두꺼운 것이 바람직하고, 예를 들면 벽의 두께는 약 1 mm 이상인 것이 바람직하다. 또한, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽은 후술하는 제2 로인 청징조 (102)의 벽보다 두꺼운 것이 바람직하다. 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽은 청징조 (102)의 벽보다 10 % 이상 두꺼운 것이 바람직하고, 예를 들면 청징조 (102)의 벽 두께가 1 mm이면, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽은 1.1 mm인 것이 바람직하다. 또한, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽은 청징조 (102)의 벽보다 20 % 이상 두꺼운 것이 바람직하고, 예를 들면 청징조 (102)의 벽 두께가 1 mm이면, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽은 1.2 mm인 것이 바람직하다. 또한, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽은 청징조 (102)의 벽보다 50 % 이상 두꺼운 것이 바람직하고, 예를 들면 청징조 (102)의 벽 두께가 1 mm이면, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽은 1.5 mm인 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 제1 이송관 (105a)(접속관)를, 그 중에서 용융 유리를 예를 들면 1600 ℃ 이상의 고온으로 가열하더라도 견딜 수 있도록 할 수 있다. 또한, 용융 유리에 의한 내측으로부터의 압력에 대한 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽의 강도도 증가한다.Since the molten glass of high temperature flows into the
또한, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽과 용융 유리 사이에 간극이 있으면 상기 간극에 있는 공기는 용융 유리보다 고온이 되고, 이에 따라 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽도 고온이 되어, 백금 또는 백금 합금 등의 내화 금속의 산화 또는 휘발을 촉진시켜 제1 이송관 (105a)(접속관)의 내구성을 현저히 감소시킨다. 이 때문에, 제1 이송관 (105a)(접속관)에 있어서, 용융 유리는 제1 이송관 (105a)(접속관)의 내경의 전체 둘레에 접한 상태에서, 즉 용융 유리와 제1 이송관 (105a)(접속관)의 벽 사이에 간극이 없는 상태에서 유입되는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 제1 이송관 (105a)(접속관)의 파손 및 수명의 단축을 방지할 수 있다.Further, if there is a gap between the wall of the
(1-3) 제2 로에서 행해지는 공정(1-3) Step performed in the second furnace
다음 청징 공정(스텝 S102)에서는 용융 유리가 청징된다. 구체적으로는, 청징조 (102)에서 용융 유리가 소정의 제2 온도(T2)까지 가열되면 용융 유리 중에 포함되는 가스 성분은 기포를 형성하거나, 또는 기화하여 용융 유리의 밖으로 빠져나간다. T2는 상기 T1보다 높은 것이 바람직하고, 상기 T3보다 높은 것이 바람직하다. T2는 1600 ℃ 내지 1780 ℃인 것이 바람직하고, 1620 ℃ 내지 1780 ℃인 것이 보다 바람직하다. 또한, 예를 들면 하기 (2)의 조성을 갖는 평판 디스플레이용 유리 기판인 경우, T2는 1620 ℃ 내지 1780 ℃인 것이 바람직하고, 1650 ℃ 내지 1740 ℃인 것이 보다 바람직하며, 약 1650 ℃ 내지 약 1700 ℃인 것이 더욱 바람직하다. 이에 따라 청징조 (102)의 파손을 방지하면서, 용융 유리의 점도를 충분히 작게 할 수 있기 때문에, 충분한 기포의 부상 속도를 실현할 수 있어 효과적으로 용융 유리를 청징할 수 있다. 용융 유리의 가열은 급전 단자(도시하지 않음)를 구비한 전기 가열 장치(도시하지 않음)에 의해 내화 금속제의 벽을 갖는 청징조 (102) 자체를 통전시키고, 그의 줄열에 의해 발열시킴으로써 행하는 것이 바람직하다. 내화 금속제의 벽은 백금 또는 백금 합금제인 것이 바람직하다. 이와 같이 백금 또는 백금 합금으로 이루어지는 청징조 (102)를 통전 가열함으로써, 청징제로서 SnO2를 함유하는 유리판의 제조에 있어서도, SnO2에 의한 청징 효과를 충분히 도출하기 위한 용융 유리의 온도 제어를 용이하게 실현할 수 있다.In the next refining step (step S102), the molten glass is refined. Specifically, when the molten glass is heated to the predetermined second temperature (T2) in the
또한, 제1 이송관 (105a)(접속관)와 청징조 (102)에서 용해 온도를 상승시키는 경우, 2 ℃/분 이상의 승온 속도로 용융 유리의 온도를 1630 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 1650 ℃ 내지 1740 ℃로 승온시키는 것이 바람직하다. 이는 승온 속도를 2 ℃/분 이상으로 하면, O2 가스의 방출량이 급격히 커지기 때문이다. 즉, 2 ℃/분 이상의 승온 속도로 용융 유리의 온도를 1630 ℃ 이상으로 승온시키면, 용융 유리의 온도를 제1 이송관 (105a)(접속관)와 청징조 (102)에서 휘발이 촉진될 정도로 가열하지 않아도(예를 들면, 1740 ℃ 초과로 하지 않아도) SnO2의 청징 기능을 충분히 도출하는 것이 가능해지고, 제1 이송관 (105a)(접속관)나 청징조 (102) 등의 파손을 방지하면서 유리판 중의 기포수를 감소시킬 수 있다.When the melting temperature is raised in the
청징된 용융 유리는, 제2 이송관 (105b)를 통해 다음 공정인 균질화 공정(스텝 S103)이 행해지는 교반조 (103)으로 이송된다.The refined molten glass is transferred to the
이 때, 상기 청징조 (102)에서 용융 유리의 온도를 1600 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 1600 ℃ 내지 1780 ℃, 더욱 바람직하게는 1620 ℃ 내지 1780 ℃로 가열하여 탈포 처리를 행한 후, 용융 유리를 1600 ℃부터 1500 ℃의 온도 범위에서 2 ℃/분 이상의 강온 속도로 강온시킴으로써, 상기 용융 유리 중의 기포를 상기 용융 유리에 흡수(吸收)시키는 것이 바람직하다. 용융 유리를 1600 ℃부터 1500 ℃의 온도 범위에서 2 ℃/분 이상의 강온 속도로 강온시키는 것이 바람직한 이유는 하기와 같다.At this time, after the degassing treatment is performed by heating the temperature of the molten glass in the
청징조 (102)에서는, SnO2가 산소를 방출하여 환원되는 온도인 1600 ℃ 이상으로 용융 유리가 승온되기 때문에, 용융 유리 내에 존재하는 기포에 SnO2가 방출한 산소의 취입이 촉진될 뿐 아니라, 고온이 되어 용융 유리 내에 용존하는 O2, CO2, SO2의 확산이 촉진되어, 상기 기포 내에 용융 유리 내에 용존하는 O2, CO2, SO2도 취입된다. 또한, 용융 유리 중으로의 가스 성분의 용해도는 유리 성분에 따라 변하는데, SO2의 경우 알칼리 금속 성분의 함유량이 많은 유리에서는 비교적 용해도가 높지만, 알칼리 금속 성분을 포함하지 않는 무알칼리 유리판이나, 포함하더라도 소량인 알칼리 미량 함유 유리판에서는 용융 유리 중에 용해시킬 수 있는 용해도는 낮다. 무알칼리 유리판 또는 알칼리 미량 함유 유리판에서는, 본래 유리 원료로서 인위적으로 S(황) 성분을 가하지 않는 것이 바람직하지만, 원료 중의 불순물로서, 또는 용해조 (101)에서 이용하는 연소 가스(천연 가스, 도시 가스, 프로판 가스 등)에 불순물로서 미량 포함되어 있다. 이 때문에, 이들 불순물로서 포함되는 S 성분이 산화되어 SO2가 되고, 용융 유리에 포함되어 있는 기포 내에 확산되어 들어간다. SO2는 재흡수되기 어렵기 때문에 기포로서 남는다. 이 현상은 청징제로서 SnO2를 사용한 경우에, 종래의 As2O3을 청징제로서 사용하고 있었을 때와 비교하여 매우 현저히 나타난다.The blue sign (102), SnO 2 is because the temperature at which the reduction and release oxygen melt above 1600 ℃ glass is raised, not only the blowing of oxygen a SnO 2 is released to promote the air bubbles present in the molten glass, The diffusion of O 2 , CO 2 , and SO 2 dissolved in the molten glass is accelerated, and O 2 , CO 2 , and SO 2 dissolved in the molten glass are also blown into the bubbles. The solubility of the gas component in the molten glass changes depending on the glass component. In the case of SO 2 , the solubility of the glass component is relatively high in the glass having a large content of the alkali metal component. However, In a small amount of an alkali-containing glass plate having a small amount, the solubility that can be dissolved in the molten glass is low. It is preferable that an alkali-free glass plate or an alkali-containing glass plate is originally not added with an S (sulfur) component artificially as a glass raw material. However, it is preferable to use as a raw material impurities or a combustion gas (natural gas, Gas and the like). Therefore, the S component contained as these impurities is oxidized to become SO 2 , and diffuses into the air bubbles contained in the molten glass. SO 2 remains as air bubbles because it is difficult to be reabsorbed. This phenomenon is very remarkable when SnO 2 is used as a fining agent as compared with the case where conventional As 2 O 3 is used as a fining agent.
SnO2를 청징제로서 사용한 유리 조성의 경우, 용융 유리의 고온에서의 유지 시간이 길어질수록, 용융 유리 내의 기존의 기포 내로 SO2의 확산이 촉진된다. 이는 고온이 되어 SO2의 용융 유리 중의 확산 속도가 빨라져, 기포에 진입하기 쉬워졌기 때문이라고 생각된다.In the case of the glass composition using SnO 2 as the refining agent, the longer the holding time at the high temperature of the molten glass is, the more the diffusion of SO 2 into the existing bubbles in the molten glass is promoted. This is considered to be due to the fact that the temperature becomes high and the diffusion rate of SO 2 in the molten glass is accelerated and it is easy to enter the bubble.
그 후 용융 유리의 강온을 행할 때, SnO2의 환원에 의해 얻어진 SnO는 산화 반응에 의해 산소를 흡수하여 산화되려고 한다. 따라서, 용융 유리 내에 잔존하는 기포에 있는 O2는 SnO에 흡수된다. 그러나 용융 유리 중의 SO2나 CO2의, 기존의 기포 내로의 확산은 여전히 유지된다. 이 때문에, 청징조 (102)보다 하류에서의 기포 내의 가스 성분은, 청징조 (102) 내의 기포와 비교하여 SO2, CO2의 농도가 높다. 특히, 무알칼리 또는 알칼리 미량 함유 유리의 용융 유리에서는, SO2의 용융 유리 MG에서의 용해도가 작다. 이 때문에 SO2가 가스로서 일단 기포에 취입되면, 이 SO2는 흡수 처리에서 용융 유리 내로 흡수되기 어렵다.Then, when the molten glass is cooled down, SnO 2 obtained by reducing SnO 2 tends to be oxidized by absorbing oxygen by the oxidation reaction. Therefore, O 2 in the bubbles remaining in the molten glass is absorbed by SnO 2 . However, the diffusion of SO 2 or CO 2 in the molten glass into the existing bubbles is still maintained. Therefore, the gas component in the air bubbles downstream of the
이상, 예를 들면 청징조 (102)의 후반에서 교반조 (103)까지의 공정에 있어서, 기포 내의 O2는 SnO의 산화 반응에 의해 SnO에 흡수되고, SO2, CO2의, 기존의 기포 내로의 확산이 여전히 유지되기 때문에, 이 기간을 단기간으로 함으로써 SO2, CO2의, 기존의 기포 내로의 확산을 적게 하여 기포의 성장을 억제할 수 있다.For example, in the process from the second half of the
(1-4) 상기 이후의 공정(1-4)
다음 균질화 공정(스텝 S103)에서는 용융 유리가 균질화된다. 구체적으로, 용융 유리는 교반조 (103)에 있어서 교반조 (103)이 구비하는 교반익(도시하지 않음)에 의해 교반됨으로써 균질화된다. 교반조 (103)에 이송되는 용융 유리는 소정의 온도 범위가 되도록 가열된다. 소정의 온도 범위는, 예를 들면 하기 (2)의 조성을 갖는 평판 디스플레이용 유리 기판인 경우 1440 ℃ 내지 1500 ℃인 것이 바람직하다. 균질화된 용융 유리는 교반조 (103)으로부터 제3 이송관 (105c)로 이송된다.In the next homogenization process (step S103), the molten glass is homogenized. Concretely, the molten glass is homogenized by stirring in a
다음 공급 공정(스텝 S104)에서는, 용융 유리는 제3 이송관 (105c)에서 성형하는 데에 적합한 온도가 되도록 가열되며, 다음 성형 공정(스텝 S105)이 행해지는 성형 장치 (104)로 이송된다. 성형에 적합한 온도는, 예를 들면 하기 (2)의 조성을 갖는 평판 디스플레이용 유리 기판의 경우 약 1200 ℃인 것이 바람직하다. 특히, 하기의 성형 공정에서 오버플로우 다운드로우법을 이용하는 경우, 제3 이송관 (105c)의 가장 하류의 영역에서는 약 1300 내지 1200 ℃인 것이 바람직하다.In the next supply step (step S104), the molten glass is heated to a temperature suitable for molding in the
다음 성형 공정(스텝 S105)에서는 용융 유리가 판상의 유리로 성형된다. 본 실시 형태에서, 용융 유리는 오버플로우 다운드로우법에 의해 연속적으로 리본상으로 성형된다. 성형된 리본상의 유리는 절단되어 유리판이 된다. 오버플로우 다운드로우법은 그 자체가 공지된 방법이며, 예를 들면 미국 특허 제3,338,696호 명세서에 기재되어 있는 바와 같이, 성형체에 유입시켜 흘러 넘친 용융 유리가 상기 성형체의 각 외표면을 따라 흘러 내려, 상기 성형체의 바닥에서 합류된 부분을 아래쪽으로 연신하여 리본상의 유리로 성형하는 방법이다.In the next molding step (step S105), the molten glass is formed into a plate-like glass. In the present embodiment, the molten glass is continuously formed into a ribbon shape by an overflow down-draw method. The glass on the molded ribbon is cut to a glass plate. The overflow down-draw method is a method known per se. For example, as described in U.S. Patent No. 3,338,696, molten glass that flows into a formed body to flow over the outer surface of the formed body, And the portion joined at the bottom of the molded body is drawn downward to be formed into glass on a ribbon.
(2) 유리 원료의 혼합(2) Mixing of glass raw materials
본 발명에 따른 유리판의 제조 방법은 모든 유리판의 제조에 적용 가능하지만, 특히 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치나 플라즈마 디스플레이 장치 등의 평판 디스플레이용 유리 기판, 또는 표시부를 덮는 커버 유리의 제조에 바람직하다.The method of producing a glass plate according to the present invention is applicable to the production of all glass plates, but is particularly suitable for the production of glass substrates for flat panel displays such as liquid crystal display devices, organic EL display devices, and plasma display devices, or cover glasses for covering display portions .
본 발명에 따라 유리판을 제조하기 위해서는, 우선 원하는 유리 조성이 되도록 유리 원료를 조합한다. 예를 들면, 평판 디스플레이용 유리 기판을 제조하는 경우에는, 이하의 조성을 갖도록 원료를 혼합하는 것이 바람직하다.In order to produce a glass sheet according to the present invention, glass raw materials are first combined to obtain a desired glass composition. For example, in the case of producing a glass substrate for a flat panel display, it is preferable to mix the raw materials so as to have the following composition.
(a) SiO2: 50 내지 70 질량%, (a) 50 to 70% by mass of SiO 2 ,
(b) B2O3: 5 내지 18 질량%, (b) 5 to 18 mass% of B 2 O 3 ,
(c) Al2O3: 10 내지 25 질량%, (c) 10 to 25% by mass of Al 2 O 3 ,
(d) MgO: 0 내지 10 질량%, (d) 0 to 10% by mass of MgO,
(e) CaO: 0 내지 20 질량%, (e) 0 to 20% by mass of CaO,
(f) SrO: 0 내지 20 질량%, (f) 0 to 20 mass% of SrO,
(o) BaO: 0 내지 10 질량%, (o) BaO: 0 to 10 mass%
(p) RO: 5 내지 20 질량%(단, R은 Mg, Ca, Sr 및 Ba으로부터 선택되는 적어도 1종임),(p) RO: 5 to 20 mass% (provided that R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba)
(q) R'2O: 0.10 질량% 초과 2.0 질량% 이하(단, R'은 Li, Na 및 K으로부터 선택되는 적어도 1종임), (q) R ' 2 O: more than 0.10 mass% to 2.0 mass% (provided that R' is at least one selected from Li, Na and K)
(r) 산화주석, 산화철 및 산화세륨 등으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 산화물을 합계로 0.05 내지 1.5 질량%. (r) at least one kind of metal oxide selected from tin oxide, iron oxide and cerium oxide in a total amount of 0.05 to 1.5% by mass.
또한, (q) R'2O는 필수가 아니기 때문에 함유시키지 않아도 된다. 이 경우, R'2O를 실질적으로 포함하지 않는 무알칼리 유리가 되며, 유리판으로부터 R'2O가 유출되어 TFT를 파괴시키는 우려를 감소시킬 수 있다. 한편, 일부러 (q) R'2O를 0.10 질량% 초과 2.0 질량% 이하 함유시킴으로써, TFT 특성의 열화나 유리의 열팽창을 일정 범위 내로 억제하면서 유리의 염기성도를 높이고, 가수 변동하는 금속의 산화를 용이하게 하여 청징성을 높일 수 있다. 또한, 유리의 비저항을 저하시킬 수 있기 때문에 용해조 (101)에서 전기 용융을 행하기 위해서는 바람직해진다.Also, (q) R ' 2 O is not essential and may not be included. In this case, R 'is an alkali-free glass that does not contain 2 O substantially, R from the glass plate, it is possible to reduce the fear that the destruction of the TFT 2 O flows out. On the other hand, by containing (q) R ' 2 O in excess of 0.10 mass% to 2.0 mass% or less on the other hand, the basicity of the glass can be increased while suppressing the deterioration of the TFT characteristics and the thermal expansion of the glass within a certain range, Thereby making it easy to improve the purifying property. In addition, since the resistivity of the glass can be lowered, it is preferable to conduct the electric melting in the
또한, 최근 추가적인 고정밀화를 실현하기 위해 α-Si·TFT가 아닌, P-Si(저온 폴리실리콘)·TFT나 산화물 반도체를 이용한 디스플레이가 요구되고 있다. 여기서, P-Si(저온 폴리실리콘) TFT나 산화물 반도체의 형성 공정에서는 α-Si·TFT의 형성 공정보다 고온의 열 처리 공정이 존재한다. 이 때문에, P-Si(저온 폴리실리콘) TFT나 산화물 반도체가 형성되는 유리판으로는 열수축률이 작은 것이 요구되고 있다. 열수축률을 작게 하기 위해서는 유리의 변형점을 높이는 것이 바람직하지만, 변형점이 높은 유리는 고온시의 점도(고온 점성)가 높아지는 경향이 있다. 이 때문에, 청징조 (102)에 있어서 보다 용융 유리의 온도를 상승시킬 필요가 있지만, 용융 유리의 온도를 상승시키기 위해서 청징조 (102)를 지나치게 가열하면 청징조 (102)가 파손될 우려가 있다. 즉, 청징조 (102)에 있어서 SnO2의 청징 효과를 충분히 도출할 수 있는 본 발명은, 고온 점성이 높아지기 쉬운 고변형점 유리의 제조에 바람직하다.Recently, a display using P-Si (low-temperature polysilicon) TFT or oxide semiconductor instead of? -Si TFT has been demanded to realize further high definition. Here, in a process of forming a P-Si (low-temperature polysilicon) TFT or an oxide semiconductor, there is a heat treatment process at a higher temperature than a process of forming an? -Si TFT. For this reason, a glass plate on which a P-Si (low-temperature polysilicon) TFT or an oxide semiconductor is formed is required to have a low heat shrinkage ratio. In order to reduce the heat shrinkage ratio, it is preferable to increase the strain point of the glass, but a glass having a high strain point tends to have a high viscosity (high temperature viscosity) at a high temperature. Therefore, it is necessary to raise the temperature of the molten glass in the
즉, 예를 들면 변형점이 655 ℃ 이상인 유리판의 제조에는 본 발명이 바람직해진다. 특히 P-Si(저온 폴리실리콘)·TFT나 산화물 반도체에도 바람직한, 변형점이 675 ℃ 이상인 유리판이 본 발명에 바람직하고, 변형점 680 ℃ 이상인 유리판이 더욱 바람직하며, 변형점 690 ℃ 이상인 유리판이 특히 바람직하다.That is, for example, the present invention is preferable for the production of a glass plate having a strain point of 655 DEG C or higher. Especially, a glass plate having a strain point of 675 DEG C or higher, which is preferable for P-Si (low temperature polysilicon) TFT or oxide semiconductor, is preferable for the present invention, more preferably a glass plate having a strain point of 680 DEG C or higher, Do.
변형점이 675 ℃ 이상인 유리판의 조성으로는, 예를 들면 유리판이 질량% 표시로 이하의 성분을 포함하는 것이 예시된다.As a composition of the glass plate having a strain point of 675 DEG C or more, for example, the glass plate includes the following components in mass%.
SiO2 52 내지 78 질량%, Al2O3 3 내지 25 질량%, B2O3 3 내지 15 질량%, RO(단, RO는 MgO, CaO, SrO 및 BaO의 합계량) 3 내지 20 질량%, 질량비(SiO2+Al2O3)/B2O3은 7 이상의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 변형점을 보다 상승시키기 위해서 질량비(SiO2+Al2O3)/RO는 7.5 이상인 것이 바람직하다. 또한, 변형점을 상승시키기 위해서 β-OH값을 0.1 내지 0.3 mm-1로 하는 것이 바람직하다. 한편, 용해시에 유리가 아닌 용해조 (101)에 전류가 흐르지 않도록, R2O(단, R2O는 Li2O, Na2O 및 K2O의 합계량)를 0.01 내지 0.8 질량%로 하여 유리의 비저항을 저하시키는 것이 바람직하다. 또는, 유리의 비저항을 저하시키기 위해 Fe2O3을 0.01 내지 1 질량%로 하는 것이 바람직하다. 또한, 높은 변형점을 실현하면서 실투(失透) 온도의 상승을 방지하기 위해서 CaO/RO는 0.65 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또는, 질량비(SiO2+Al2O3)/B2O3은 7.5 내지 20의 범위인 것이 바람직하다. 실투 온도를 1250 ℃ 이하로 함으로써, 오버플로우 다운드로우법의 적용이 가능해진다. 또한 모바일 기기 등에 적용되는 것을 고려하면, 경량화 측면에서는 SrO 및 BaO의 합계 함유량이 0 내지 2 질량% 미만인 것이 바람직하다.3 to 20 mass% of SiO 2 , 3 to 25 mass% of Al 2 O 3, 3 to 15 mass% of B 2 O 3, 3 to 20 mass% of RO (RO is a total amount of MgO, CaO, SrO and BaO) The mass ratio (SiO 2 + Al 2 O 3 ) / B 2 O 3 is preferably in the range of 7 or more. In order to further increase the strain point, the mass ratio (SiO 2 + Al 2 O 3 ) / RO is preferably 7.5 or more. In order to increase the strain point, it is preferable that the value of? -OH is 0.1 to 0.3 mm -1 . On the other hand, R 2 O (R 2 O is the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O) is set to 0.01 to 0.8% by mass so that current does not flow in the
또한, 상기한 평판 디스플레이용 유리 기판은 비소를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하고, 비소 및 안티몬을 실질적으로 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다. 즉, 이들 물질을 포함한다고 해도 그것은 불순물로서이고, 구체적으로는 이들 물질은 As2O3 및 Sb2O3이라는 산화물인 것도 포함시켜 0.1 질량% 이하인 것이 바람직하다.Further, the above-mentioned glass substrate for a flat panel display preferably does not substantially contain arsenic, and more preferably does not substantially contain arsenic and antimony. That is, even if these materials are included, they are impurities, and specifically, these materials are As 2 O 3 And It is preferably 0.1 mass% or less including an oxide of Sb 2 O 3 .
상술한 성분에 추가로, 본 발명의 유리는 유리의 다양한 물리적, 용융, 청징 및 성형의 특성을 조절하기 위해서 다양한 다른 산화물을 함유하여도 관계없다. 그러한 다른 산화물의 예로는 이하로 한정되지 않지만, SnO2, TiO2, MnO, ZnO, Nb2O5, MoO3, Ta2O5, WO3, Y2O3 및 La2O3을 들 수 있다. 여기서, 액정 디스플레이나 유기 EL 디스플레이 등의 평판 디스플레이용 유리 기판은 기포에 대한 요구가 특히 엄격하기 때문에, 상기 산화물 중에서는 청징 효과가 큰 SnO2를 적어도 함유하는 것이 바람직하다.In addition to the above components, the glass of the present invention may contain various other oxides to control the various physical, melting, refining and shaping properties of the glass. Examples of such other oxides include, but are not limited to, SnO 2 , TiO 2 , MnO, ZnO, Nb 2 O 5 , MoO 3 , Ta 2 O 5 , WO 3 , Y 2 O 3 and La 2 O 3 have. Here, glass substrates for flat panel displays such as liquid crystal displays and organic EL displays are particularly strict in their demand for bubbles, so that at least the above-mentioned oxides preferably contain at least SnO 2 having a high clarifying effect.
상기 (a) 내지 (r) 중 (p)에 있어서의 RO의 공급원으로는 질산염이나 탄산염을 사용할 수 있다. 또한, 용융 유리의 산화성을 높이기 위해서는, RO의 공급원으로서 질산염을 공정에 적합한 비율로 이용하는 것이 보다 바람직하다.As the source of RO in (p) of (a) to (r), nitrate or carbonate can be used. Further, in order to increase the oxidizing property of the molten glass, it is more preferable to use nitrate as a supply source of RO at a ratio suitable for the process.
본 실시 형태에서 제조되는 유리판은, 일정량의 유리 원료를 용해용 로에 공급하여 배치 처리를 행하는 방식과는 달리 연속적으로 제조된다. 본 발명의 제조 방법에 적용되는 유리판은, 어떠한 두께 및 폭을 갖는 유리판이어도 된다.The glass plate produced in the present embodiment is produced continuously, unlike the method in which a batch of glass raw materials is supplied to the melting furnace to perform batch processing. The glass plate used in the production method of the present invention may be a glass plate having any thickness and width.
(3) 구체예(3) Specific example
이하와 같이, 실제로 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법을 이용하면 효과적으로 유리 중의 기포를 억제할 수 있다.As described below, when the glass plate manufacturing method according to the present invention is actually used, bubbles in the glass can be effectively suppressed.
(실시예)(Example)
우선, 조성이 SiO2: 60.9 질량%, B2O3: 11.6 질량%, Al2O3: 16.9 질량%, MgO: 1.7 질량%, CaO: 5.1 질량%, SrO: 2.6 질량%, BaO: 0.7 질량%, K2O: 0.25 질량%, Fe2O3: 0.15 질량%, SnO2: 0.13 질량%가 되는 유리가 제조되도록 원료를 혼합하였다. 이어서, 원료를 용해조 (101) 내에 투입하고, 상술한 본 발명에 따른 유리판 제조 방법의 일련의 공정을 유리판 제조 라인 (100)을 이용하여 행함으로써 유리판을 제조하였다. 즉, 용해조 (101)에서 유리 원료를 약 1550 ℃까지 가열하여 용해시켜 용융 유리를 형성하고, 상기 용융 유리를 백금 및 로듐의 합금으로 이루어지는 제1 이송관 (105a)(접속관)를 통해 청징조 (102)에 이송하고, 청징조 (102)에서 용융 유리를 약 1700 ℃가 될 때까지 가열하였다. 제1 이송관 (105a)(접속관)의 내경의 단면적은, 청징조 (102)의 길이 방향에 수직인 단면적의 약 40 %였다. 제1 이송관 (105a)(접속관)에서는, 용융 유리를 약 1650 ℃가 될 때까지 가열하였다. 오버플로우 다운드로우법을 이용하여 유리를 판상으로 성형하고, 0.7 mm 두께로 폭 방향 길이 2000 mm×길이 방향 길이 2500 mm 크기의 유리판을 제조하였다. 제조한 유리판에 포함되는 기포의 수를 계측한 바, 기포는 유리 1 kg 중 0.05개였다.First, the composition was composed of 60.9 mass% SiO 2 , 11.6 mass% B 2 O 3 , 16.9 mass% Al 2 O 3 , 1.7 mass% MgO, 5.1 mass% CaO, 2.6 mass% SrO, , A glass containing 0.25% by mass of K 2 O, 0.15% by mass of Fe 2 O 3 , and 0.13% by mass of SnO 2 was produced. Subsequently, a raw material was charged into the
(비교예 1)(Comparative Example 1)
비교예 1로서, 용해조 (101)에서 유리 원료를 약 1550 ℃까지 가열하여 용해시켜 용융 유리를 형성하고, 상기 용융 유리를 백금 및 로듐의 합금으로 이루어지는 제1 이송관 (105a)(접속관)를 통해 청징조 (102)에 이송하고, 청징조 (102)에서 용융 유리를 약 1700 ℃가 되도록 가열한 점, 제1 이송관 (105a)(접속관)에서는 용융 유리를 약 1480 ℃가 되도록 가열한 점을 제외하고, 실시예와 마찬가지의 방법으로 유리판의 제조 방법을 행하였다. 제조한 유리판에 포함되는 기포의 수를 계측한 바, 기포는 유리 1 kg 중 0.2 내지 0.3개였다. 또한, 청징조 (102)에서 용융 유리가 약 1700 ℃에 도달하는 영역은, 실시예와 비교하여 용융 유리의 유동 방향의 하류측이었다. 또한, 실시예와 비교하여 청징조 (102)의 온도가 높아지고, 1년간 유리판을 제조한 후의 청징조 (102)의 휘발량이 실시예 1과 비교하여 50 내지 66 % 증가하였다.In Comparative Example 1, a glass raw material was heated to about 1550 DEG C in the
(비교예 2)(Comparative Example 2)
비교예 2로서, 용해조 (101)에서 유리 원료를 약 1550 ℃까지 가열하여 용해시켜 용융 유리를 형성하고, 상기 용융 유리를 백금 및 로듐의 합금으로 이루어지는 제1 이송관 (105a)(접속관)를 통해 청징조 (102)에 이송하고, 청징조 (102)에서 용융 유리를 약 1630 ℃가 되도록 가열한 점을 제외하고, 실시예와 마찬가지의 방법으로 유리판의 제조 방법을 행하였다. 제조한 유리판에 포함되는 기포의 수를 계측한 바, 기포는 유리 1 kg 중 50 내지 200개였다.As Comparative Example 2, a glass raw material was heated and dissolved to about 1550 ° C in a
(4) 특징(4) Features
상기 실시 형태에서, 유리의 원료는 제1 로인 용해조 (101)에서 제1 온도(T1), 예를 들면 약 1550 ℃로 가열되어 용해되고 용융 유리가 되며, 용융 유리는 용해조 (101)과 제2 로인 청징조 (102)를 연결하는 접속관인 제1 이송관 (105a)(접속관)에 이송된다. 제1 이송관 (105a)(접속관)에서, 용융 유리는 용해조 (101)에서의 가열 온도보다 높은 제3 온도(T3), 예를 들면 약 1650 ℃까지 가열된다. 청징조 (102)에서, 용융 유리는 제1 온도(T1)보다 높은 제2 온도(T2)까지 더욱 가열된다. 제2 온도(T2)는 용융 유리가 청징에 적합한 온도이고, 예를 들면 상기 실시 형태에 따른 평판 디스플레이용 유리 기판의 경우 1650 ℃ 내지 1700 ℃이다. 여기서 용융 유리는, 청징조 (102)에 이송되기 전에 이미 제1 이송관 (105a)(접속관)에서 청징에 적합한 온도까지 가열되어 있기 때문에, 용융 유리의 청징은 용융 유리가 청징조 (102)에 이송된 직후부터 촉진된다. 따라서, 본 발명에 따른 유리판의 제조 방법에 따르면, As2O3 이외의 SnO2 등의 청징제를 사용한 경우라도 청징 효과를 충분히 도출하는 것이 가능해져, 유리판 중의 기포수를 충분히 감소시킬 수 있다. 또한, 간편하고 효과적으로 용융 유리를 청징할 수 있다.In the above embodiment, the glass raw material is heated and melted to a first temperature (T1), for example, about 1550 ° C in the first
100 유리판 제조 라인
101 용해조
102 청징조
105a 제1 이송관(접속관)
201 전기 가열 장치100 glass plate manufacturing line
101 Melting bath
102 blue sign
105a First conveying pipe (connecting pipe)
201 Electric heating device
Claims (14)
탈포에 의한 가스를 수납하는 공간을 갖는 백금 또는 백금 합금제의 청징조에서, 용융 유리 중에 포함되는 기포를 용융 유리 밖으로 탈포하는 청징 공정
을 갖고,
상기 접속관 내에서 용융 유리의 온도를 1500 ℃ 내지 1690 ℃로 가열하고,
상기 청징조 내에서 용융 유리의 온도를 1600 ℃ 내지 1780 ℃로 가열하고,
상기 청징조 내의 용융 유리의 온도는 접속관 내의 용융 유리의 온도보다 높은 것인 유리판의 제조 방법. A step of transporting molten glass containing at least SnO 2 from a melting tank to a blue screen through a platinum or platinum alloy connecting pipe,
In a blue sign made of platinum or a platinum alloy having a space for storing gas by defoaming, a purifying step of defoaming bubbles contained in the molten glass out of the molten glass
Lt; / RTI &
Heating the temperature of the molten glass in the connecting pipe to 1500 to 1690 DEG C,
The temperature of the molten glass in the blue oven is heated to 1600 캜 to 1780 캜,
Wherein the temperature of the molten glass in the blue oven is higher than the temperature of the molten glass in the connecting pipe.
상기 청징조 내에서 용융 유리의 온도를 1620 ℃ 내지 1780 ℃로 가열하는 것인 유리판의 제조 방법. The method according to claim 1, wherein the temperature of the molten glass in the connecting pipe is heated to 1550 캜 to 1690 캜,
And the temperature of the molten glass is heated to 1620 캜 to 1780 캜 in the blue sign.
상기 용융 유리를 상기 용해조로부터, 백금 또는 백금 합금제의 접속관을 통해 백금 또는 백금 합금제 청징조로 흘리는 공정과,
상기 용융 유리를 상기 청징조 내에서 가열하고, 청징하는 청징 공정
을 포함하고,
상기 접속관을 통해 흐르는 상기 용융 유리가 상기 접속관에 의해서 1600 ℃ 내지 1650 ℃로 가열되고,
상기 청징조 내의 상기 용융 유리가 상기 청징조에 의해서 1650 ℃ 내지 1700 ℃로 가열되는 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법. A melting step of heating and melting the glass material in a melting tank to produce a molten glass;
Flowing the molten glass from the melting vessel through a connecting pipe made of platinum or a platinum alloy to a platinum or platinum alloy manufacturing vessel;
The molten glass is heated in the blue screen and is refined
/ RTI >
The molten glass flowing through the connecting pipe is heated by the connecting pipe to 1600 캜 to 1650 캜,
Wherein the molten glass in the blue oven is heated by the blue oven to 1650 캜 to 1700 캜.
(a) SiO2: 50 내지 70 질량%,
(b) B2O3: 5 내지 18 질량%,
(c) Al2O3: 10 내지 25 질량%,
(d) MgO: 0 내지 10 질량%,
(e) CaO: 0 내지 20 질량%,
(f) SrO: 0 내지 20 질량%,
(o) BaO: 0 내지 10 질량%,
(p) RO: 5 내지 20 질량%(단, R은 Mg, Ca, Sr 및 Ba으로부터 선택되는 적어도 1종임).The glass plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the glass plate contains the following composition.
(a) 50 to 70% by mass of SiO 2 ,
(b) 5 to 18 mass% of B 2 O 3 ,
(c) 10 to 25% by mass of Al 2 O 3 ,
(d) 0 to 10% by mass of MgO,
(e) 0 to 20% by mass of CaO,
(f) 0 to 20 mass% of SrO,
(o) BaO: 0 to 10 mass%
(p) RO: 5 to 20 mass% (provided that R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba).
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2011-081273 | 2011-03-31 | ||
JP2011081273 | 2011-03-31 | ||
PCT/JP2012/058023 WO2012133467A1 (en) | 2011-03-31 | 2012-03-27 | Method for producing glass plate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130001206A KR20130001206A (en) | 2013-01-03 |
KR101411139B1 true KR101411139B1 (en) | 2014-06-23 |
Family
ID=46931179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127012722A KR101411139B1 (en) | 2011-03-31 | 2012-03-27 | Method for producing glass sheet |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2012133467A1 (en) |
KR (1) | KR101411139B1 (en) |
CN (1) | CN102892719B (en) |
TW (1) | TWI469941B (en) |
WO (1) | WO2012133467A1 (en) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101663921B1 (en) * | 2011-10-11 | 2016-10-07 | 아반스트레이트 가부시키가이샤 | Method of making glass sheet |
CN103382077B (en) * | 2011-10-11 | 2015-03-25 | 安瀚视特控股株式会社 | Method for manufacturing glass plate |
JP5777590B2 (en) * | 2012-09-28 | 2015-09-09 | AvanStrate株式会社 | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus |
CN107445450B (en) * | 2013-03-27 | 2020-09-11 | 安瀚视特控股株式会社 | Method for manufacturing glass substrate and glass substrate manufacturing apparatus |
JP5976863B2 (en) * | 2014-03-31 | 2016-08-24 | AvanStrate株式会社 | Glass substrate manufacturing method and glass substrate manufacturing apparatus |
CN105431385B (en) * | 2014-06-30 | 2018-10-09 | 安瀚视特控股株式会社 | Manufacturing method, glass substrate and the glass substrate laminate of glass substrate |
TW201711967A (en) | 2015-08-26 | 2017-04-01 | 美商.康寧公司 | Glass melting system and method for increased homogeneity |
JP6630217B2 (en) * | 2016-03-31 | 2020-01-15 | AvanStrate株式会社 | Manufacturing method of glass plate |
JPWO2018084100A1 (en) | 2016-11-02 | 2019-09-19 | Agc株式会社 | Alkali-free glass and method for producing the same |
KR102417853B1 (en) * | 2017-12-08 | 2022-07-06 | 코닝 인코포레이티드 | Glass manufacturing apparatus and glass manufacturing method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080022575A (en) * | 2005-07-06 | 2008-03-11 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | Process for production of non-alkaline glass and non-alkaline glass |
KR20100016118A (en) * | 2007-04-03 | 2010-02-12 | 코닝 인코포레이티드 | Methood of reducing gaseous inclusions in a glass making process |
JP2010111533A (en) | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Avanstrate Inc | Method of producing glass plate |
WO2010093571A2 (en) | 2009-02-10 | 2010-08-19 | Corning Incorporated | Apparatus and method for reducing gaseous inclusions in a glass |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19939771B4 (en) * | 1999-08-21 | 2004-04-15 | Schott Glas | Process for refining glass melts |
JP4737709B2 (en) * | 2004-03-22 | 2011-08-03 | 日本電気硝子株式会社 | Method for producing glass for display substrate |
JP4946216B2 (en) * | 2005-07-06 | 2012-06-06 | 旭硝子株式会社 | Method for producing alkali-free glass |
US7454925B2 (en) * | 2005-12-29 | 2008-11-25 | Corning Incorporated | Method of forming a glass melt |
KR101028981B1 (en) * | 2006-07-13 | 2011-04-12 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | Alkali-free glass substrate, process for production of the same and liquid crystal display panels |
US8695378B2 (en) * | 2008-11-26 | 2014-04-15 | Corning Incorporated | Apparatus for making glass and methods |
-
2012
- 2012-03-27 KR KR1020127012722A patent/KR101411139B1/en active IP Right Grant
- 2012-03-27 CN CN201280001337.3A patent/CN102892719B/en active Active
- 2012-03-27 JP JP2012516246A patent/JPWO2012133467A1/en active Pending
- 2012-03-27 WO PCT/JP2012/058023 patent/WO2012133467A1/en active Application Filing
- 2012-03-30 TW TW101111562A patent/TWI469941B/en active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080022575A (en) * | 2005-07-06 | 2008-03-11 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | Process for production of non-alkaline glass and non-alkaline glass |
KR20100016118A (en) * | 2007-04-03 | 2010-02-12 | 코닝 인코포레이티드 | Methood of reducing gaseous inclusions in a glass making process |
JP2010111533A (en) | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Avanstrate Inc | Method of producing glass plate |
WO2010093571A2 (en) | 2009-02-10 | 2010-08-19 | Corning Incorporated | Apparatus and method for reducing gaseous inclusions in a glass |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201245070A (en) | 2012-11-16 |
CN102892719B (en) | 2015-11-25 |
WO2012133467A1 (en) | 2012-10-04 |
KR20130001206A (en) | 2013-01-03 |
JPWO2012133467A1 (en) | 2014-07-28 |
CN102892719A (en) | 2013-01-23 |
TWI469941B (en) | 2015-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101411139B1 (en) | Method for producing glass sheet | |
KR101538242B1 (en) | Method of making glass sheet | |
KR101663921B1 (en) | Method of making glass sheet | |
CN107445450B (en) | Method for manufacturing glass substrate and glass substrate manufacturing apparatus | |
JP7171600B2 (en) | Method for reducing the lifetime of bubbles on the surface of a glass melt | |
KR20070015212A (en) | Method and device for fining and homogenizing glass and products obtained with the aid of said method | |
KR101522198B1 (en) | Method for producing glass plate | |
JP2022009065A (en) | Glass plate and method for producing the same | |
JP2014009126A (en) | Glass substrate manufacturing method and manufacturing device | |
JP6722096B2 (en) | Glass substrate and glass substrate laminate | |
CN107879597B (en) | Method for manufacturing glass substrate and glass substrate manufacturing apparatus | |
KR101740159B1 (en) | Method and apparatus for making glass sheet | |
TW201728541A (en) | Method and apparatus for making glass substrate suppressing devitrification at an end portion in the width direction of a sheet glass |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170522 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180516 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190515 Year of fee payment: 6 |