KR101410527B1 - Etching solution control system and etching apparatus and etching solution control method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 식각액을 보관하는 제1식각액보관탱크; 상기 제1식각액보관탱크에 연결된 식각액폐기라인; 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여, 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 식각액분석장치; 상기 제1식각액보관탱크와 연결된 제2식각액보관탱크; 상기 제2식각액보관탱크와 연결된 식각기; 및 상기 식각액분석장치의 분석결과에 따라 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각액폐기라인과 상기 제2식각액보관탱크 중 어느 하나로 이송하도록 제어하는 제어부를 포함하는 식각액 관리 시스템으로서, 상기 식각액 관리 시스템은 구리합금과 몰리브덴합금층의 이중금속막 배선형성 제조공정에 사용되는 식각액을 분석하여 관리하는 것인 식각액 관리 시스템, 식각 장치 및 이에 의한 식각액 관리 방법을 제공한다.The present invention relates to a first etching liquid storage tank for storing an etching liquid; An etchant waste line connected to the first etchant storage tank; An etchant analyzer for measuring the absorbance of the etchant stored in the first etchant storage tank and analyzing the state of the etchant stored in the first etchant storage tank; A second etchant storage tank connected to the first etchant storage tank; An extractor connected to the second etchant storage tank; And a controller for controlling the transfer of the etchant in the first etchant storage tank to one of the etchant retention line and the second etchant storage tank according to the analysis result of the etchant analysis apparatus, The present invention provides an etchant management system, an etching apparatus, and a method for managing an etchant using the etchant, wherein the etchant used in the manufacturing process of the double metal film wiring of the copper alloy and the molybdenum alloy layer is analyzed and managed.

Description

식각액 관리 시스템, 식각 장치 및 이에 의한 식각액 관리 방법{ETCHING SOLUTION CONTROL SYSTEM AND ETCHING APPARATUS AND ETCHING SOLUTION CONTROL METHOD THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an etching solution management system, an etching apparatus,

본 발명은, 식각액의 농도변화에 따른 색변화도를 실시간으로 자동분석하여 식각액의 보관 및 교환 시점을 포함한 사용기준을 설정하여 식각액을 관리할 수 있는 식각액 관리 시스템, 식각 장치 및 이에 의한 식각액 관리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an etchant management system capable of managing the etchant by setting the use standard including the storage and exchange time of the etchant by automatically analyzing the color change degree according to the concentration change of the etchant in real time and an etching apparatus and an etchant management method therefor .

반도체 소자, 액정표시장치 등의 제조공정 중 식각공정에는 다양한 종류의 식각액이 사용되는데, 이러한 식각액은 식각주성분인 산과, 각종 첨가제로 구성된다. A variety of etching solutions are used in the etching process during the manufacturing process of semiconductor devices, liquid crystal display devices, etc. The etching solution is composed of acid, which is an etching main component, and various additives.

그러나, 이러한 식각액의 성능변화를 관리하여 안정적인 에칭액을 공급하는 시스템이 존재하지 않으므로, 잘못 관리할 경우 시간 및 온도에 따라서 상기 조성이 변하여 초기 상태의 식각액에 비해 색상 변화가 나타날 수 있다. 만약 이러한 식각액으로 액정표시장치의 어레이 기판을 식각하게 되면 식각불량이 발생하게 되고, 이러한 불량은 식각공정을 마친 후에야 검출되어 불량 처리될 수 밖에 없거나 액정표시장치의 어레이 기판을 재생(Rework)하여 사용할 수 밖에 없었다.However, since there is no system for supplying the stable etchant by managing the change in the performance of the etchant, if the erroneous control is performed, the composition changes depending on the time and temperature, and the color change may be caused as compared with the etchant in the initial state. If the array substrate of the liquid crystal display device is etched with such an etchant, an etching failure occurs. Such defects may be detected only after the etching process is completed, and the defective process may be ineffective, or the array substrate of the liquid crystal display device may be reworked I could not help it.

KR10-1998-0074108호KR10-1998-0074108

따라서, 본 발명의 목적은, 식각액의 농도변화에 따른 색변화도를 실시간으로 자동분석하여 식각액의 보관 및 교환 시점을 포함한 사용기준을 설정하여 식각액을 관리할 수 있는 식각액 관리 시스템, 식각 장치 및 이에 의한 식각액 관리 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide an etchant management system, an etching apparatus, and a manufacturing method thereof capable of managing an etchant by setting a use standard including automatic storage and replacement of an etchant by automatically analyzing color change degree according to concentration change of the etchant in real time The present invention also provides a method for managing an etchant.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 실시 상태는 식각액을 보관하는 제1식각액보관탱크; 상기 제1식각액보관탱크에 연결된 식각액폐기라인; 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여, 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 식각액분석장치; 상기 제1식각액보관탱크와 연결된 제2식각액보관탱크; 상기 제2식각액보관탱크와 연결된 식각기; 및 상기 식각액분석장치의 분석결과에 따라 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각액폐기라인과 상기 제2식각액보관탱크 중 어느 하나로 이송하도록 제어하는 제어부를 포함하는 식각액 관리 시스템을 제공한다. According to an aspect of the present invention, there is provided an etching apparatus comprising: a first etchant storage tank for storing an etchant; An etchant waste line connected to the first etchant storage tank; An etchant analyzer for measuring the absorbance of the etchant stored in the first etchant storage tank and analyzing the state of the etchant stored in the first etchant storage tank; A second etchant storage tank connected to the first etchant storage tank; An extractor connected to the second etchant storage tank; And a controller for controlling the transfer of the etchant in the first etchant storage tank to one of the etchant retention line and the second etchant storage tank according to an analysis result of the etchant analyzer.

여기서, 상기 식각액분석장치는 상기 제1식각액보관탱크의 식각액이 유입되는 플로우셀; 상기 플로우셀의 식각액에 측정광을 조사하는 광원부; 상기 플로우셀의 식각액의 흡광도를 측정하는 분광기; 및 상기 분광기에서 측정된 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 출력하는 식각액분석제어부를 포함할 수 있다.Here, the etching liquid analyzer may include a flow cell into which the etchant of the first etchant storage tank flows; A light source for irradiating measurement light onto the etchant of the flow cell; A spectroscope for measuring the absorbance of the etchant of the flow cell; And an etchant analysis controller for calculating and outputting an absorbance conversion value based on the absorbance measurement value measured by the spectroscope.

그리고, 본 발명에 따른 식각액 관리 시스템은 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 플로우셀로 공급하는 플로우셀공급라인; 및 상기 플로우셀의 식각액을 상기 제1식각액보관탱크로 공급하는 제1식각액보관탱크공급라인을 더 포함할 수 있다. The etchant management system according to the present invention further comprises: a flow cell supply line for supplying the etchant of the first etchant storage tank to the flow cell; And a first etchant storage tank supply line for supplying the etchant of the flow cell to the first etchant storage tank.

여기서, 상기 제어부는, 상기 식각액분석제어부에서 출력된 데이터에 기초하여 상기 흡광도환산값이 10 이상인 경우 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 제2식각액보관탱크로 이송시키고, 상기 흡광도환산값이 10미만인 경우 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각액폐기라인으로 방출하도록 제어한다. 여기서, 초기 상기 제1식각액보관탱크에 보관되는 식각액의 흡광도환산값을 초기 흡광도환산값이라고 하였을 때, 상기 플로우셀로 공급된 식각액의 흡광도환산값은 초기 흡광도환산값을 초과하지 않는다. 상기 초기 흡광도환산값은 상기 제1식각액보관탱크에 보관되는 식각액의 종류에 따라 그 값이 다 다르다.The control unit may transfer the etchant of the first etchant storage tank to the second etchant storage tank when the absorbance conversion value is 10 or more based on the data output from the etchant analysis control unit, The etching liquid in the first etching liquid storage tank is controlled to be discharged to the etching liquid disposal line. Here, when the initial absorbance conversion value of the etchant stored in the first etchant storage tank is taken as an initial absorbance conversion value, the absorbance conversion value of the etchant supplied to the flow cell does not exceed the initial absorbance conversion value. The initial absorbance conversion value is different depending on the kind of etchant stored in the first etchant storage tank.

본 발명에 따른 식각액 관리 시스템은 상기 제2식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여 상기 제2식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 추가의 식각액분석장치; 및 상기 제2식각액보관탱크에 연결된 추가의 식각액폐기라인을 더 포함할 수 있다. The etchant management system according to the present invention further comprises an etchant analyzer for measuring the absorbance of the etchant stored in the second etchant storage tank and analyzing the state of the etchant stored in the second etchant storage tank; And an additional etchant waste line connected to the second etchant storage tank.

이때, 상기 제어부는 상기 추가의 식각액분석장치의 분석결과에 따라 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 추가의 식각액폐기라인과 상기 식각기 중 어느 하나로 이송하도록 제어할 수 있다.At this time, the controller may control the transfer of the etching liquid in the second etching liquid storage tank to one of the additional etching liquid disposal line and the etching unit, according to the analysis result of the additional etching liquid analysis apparatus.

여기서, 상기 추가의 식각액분석장치는 상기 제2식각액보관탱크의 식각액이 유입되는 추가의 플로우셀; 상기 추가의 플로우셀의 식각액에 측정광을 조사하는 추가의 광원부; 상기 추가의 플로우셀의 식각액의 흡광도를 측정하는 추가의 분광기; 및 상기 추가의 분광기에서 측정된 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 출력하는 추가의 식각액분석제어부를 포함한다.The additional etchant analyzer may further include a flow cell into which the etchant of the second etchant storage tank flows; An additional light source for irradiating the etchant of the additional flow cell with measurement light; An additional spectrometer to measure the absorbance of the etchant of the further flow cell; And an additional etchant analysis controller for calculating and outputting the absorbance conversion value based on the absorbance measurement value measured in the additional spectroscope.

그리고 본 발명에 따른 식각액 관리 시스템은 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 추가의 플로우셀로 공급하는 추가의 플로우셀공급라인; 및 상기 추가의 플로우셀의 식각액을 상기 제2식각액보관탱크로 공급하는 추가의 제2식각액보관탱크공급라인을 더 포함할 수 있다.The etchant management system according to the present invention further comprises a flow cell supply line for supplying etchant of the second etchant storage tank to the additional flow cell; And an additional second etchant storage tank supply line for supplying the etchant of the additional flow cell to the second etchant storage tank.

이때, 상기 제어부는, 상기 추가의 식각액분석제어부에서 출력된 데이터에 기초하여 상기 흡광도환산값이 10이상인 경우 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각기로 이송시키고, 상기 흡광도환산값이 10미만인 경우 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 추가의 식각액폐기라인으로 방출하도록 제어한다.At this time, if the absorbance conversion value is 10 or more, the etchant of the second etchant storage tank is transferred to the etcher, based on the data output from the further etchant analysis control unit, and if the absorbance conversion value is less than 10 So as to discharge the etchant of the second etchant storage tank to the additional etchant waste line.

한편, 상기 식각액은 과산화수소를 포함하는 식각액일 수 있으며,한 예로, 상기 식각액은 조성물의 총 중량에 대해 5 내지 15 중량%의 과산화수소, 1 내지 5 중량%의 유기산, 0.5 내지 5 중량% 의 황산염, 0.2 내지 5 중량%의 고리형 아민 화합물, 및 70 내지 93.3 중량%의 물을 포함할 수 있다.The etchant may be an etchant containing hydrogen peroxide, for example, the etchant may comprise 5 to 15 wt% of hydrogen peroxide, 1 to 5 wt% of organic acid, 0.5 to 5 wt% of sulfate, 0.2 to 5% by weight of a cyclic amine compound, and 70 to 93.3% by weight of water.

전술한 본 발명에 따른 식각액 관리 시스템은 구리합금과 몰리브덴합금층의 이중금속막 배선형성 제조공정에 사용되는 식각액을 분석하여 관리할 수 있다.The etchant management system according to the present invention can be managed by analyzing an etchant used in a process of forming a wiring of a double metal film of a copper alloy and a molybdenum alloy layer.

본 발명의 다른 하나의 실시 상태는 (a) 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여, 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 단계; (b) 분석결과에 따라 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 제1식각액보관탱크에 연결된 제1식각액폐기라인과 상기 제1식각액보관탱크에 연결된 제2식각액보관탱크 중 어느 하나로 이송하는 단계; 및 (c) 상기 제2식각액보관탱크로 이송된 식각액을 상기 제2식각액보관탱크에 연결된 식각기로 공급하는 단계를 포함하는 식각액의 관리 방법을 제공한다.In another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: (a) measuring an absorbance of an etchant stored in a first etchant storage tank and analyzing a state of an etchant stored in the first etchant storage tank; (b) transferring the etchant of the first etchant storage tank to one of the first etchant storage line connected to the first etchant storage tank and the second etchant storage tank connected to the first etchant storage tank according to the analysis result; And (c) supplying the etchant transferred to the second etchant storage tank to an etcher connected to the second etchant storage tank.

여기서, 상기 (a) 단계는 (a1) 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 플로우셀로 유입시키는 단계; (a2) 상기 플로우셀의 식각액에 측정광을 조사하는 단계; (a3) 상기 플로우셀의 식각액의 흡광도를 측정하는 단계; 및 (a4) 상기 측정된 식각액의 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 출력하는 단계를 포함할 수 있다.The step (a) includes the steps of: (a1) introducing the etchant of the first etchant storage tank into the flow cell; (a2) irradiating the etchant of the flow cell with measurement light; (a3) measuring the absorbance of the etchant of the flow cell; And (a4) calculating and outputting the absorbance conversion value based on the measured absorbance of the etchant.

그리고 본 발명에 따른 식각액 관리 방법은 상기 플로우셀을 통과한 식각액을 상기 제1식각액보관탱크로 공급하는 단계를 더 포함할 수 있다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of controlling an etchant, the method comprising: supplying an etchant having passed through the flow cell to the first etchant storage tank.

상기 (b) 단계에서는 상기 흡광도환산값이 10이상인 경우 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 제2식각액보관탱크로 이송시키고, 상기 흡광도환산값이 10미만인 경우 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 제1식각액폐기라인으로 이송할 수 있다.In the step (b), if the absorbance conversion value is 10 or more, the etchant of the first etchant storage tank is transferred to the second etchant storage tank, and if the absorbance conversion value is less than 10, To the first etchant discard line.

본 발명의 또 다른 하나의 실시 상태는 (a) 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여, 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 단계; (b) 분석결과에 따라 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 제1식각액보관탱크에 연결된 식각액폐기라인과 상기 제1식각액보관탱크에 연결된 제2식각액보관탱크 중 어느 하나로 이송하는 단계; (c) 상기 제2식각액보관탱크로 이송된 식각액의 흡광도를 측정하여, 상기 제2식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 단계; 및 (d) 분석결과에 따라 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 제2식각액보관탱크에 연결된 추가의 식각액폐기라인과 상기 제2식각액보관탱크에 연결된 식각기 중 어느 하나로 이송하는 단계를 포함하는 식각액의 관리 방법을 제공한다. 여기서, 상기 (a) 단계와 상기 (b)단계는 전술한 내용과 동일하므로 구체적인 설명을 생략하기로 한다.In another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: (a) analyzing the state of an etchant stored in the first etchant storage tank by measuring an absorbance of the etchant stored in the first etchant storage tank; (b) transferring the etchant of the first etchant storage tank to one of an etchant disposal line connected to the first etchant storage tank and a second etchant storage tank connected to the first etchant storage tank according to the analysis result; (c) analyzing the state of the etchant stored in the second etchant storage tank by measuring the absorbance of the etchant transferred to the second etchant storage tank; And (d) transferring the etchant from the second etchant storage tank to either the additional etchant retention line connected to the second etchant storage tank and the extractor connected to the second etchant storage tank, depending on the analysis result Provides a method of managing the etchant. Here, since the steps (a) and (b) are the same as those described above, a detailed description thereof will be omitted.

상기 (c) 단계는 (c1) 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 플로우셀로 유입시키는 단계; (c2) 상기 플로우셀의 식각액에 측정광을 조사하는 단계; (c3) 상기 플로우셀의 식각액의 흡광도를 측정하는 단계; 및 (c4) 상기 측정된 식각액의 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 출력하는 단계를 포함할 수 있다.(C) introducing the etchant of the second etchant storage tank into the flow cell; (c2) irradiating the etchant of the flow cell with measurement light; (c3) measuring the absorbance of the etchant of the flow cell; And (c4) calculating and outputting the absorbance conversion value based on the measured absorbance of the etchant.

그리고, 상기 본 발명에 따른 식각액 관리 방법은 상기 플로우셀을 통과한 식각액을 상기 제2식각액보관탱크로 공급하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method of managing etchant according to the present invention may further include supplying the etchant that has passed through the flow cell to the second etchant storage tank.

상기 (d) 단계에서는 상기 흡광도환산값이 10이상인 경우 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각기로 이송시키고, 상기 흡광도환산값이 10미만인 경우 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 추가의 식각액폐기라인으로 이송할 수 있다.In the step (d), if the absorbance conversion value is 10 or more, the etchant of the second etchant storage tank is transferred to the etcher, and if the absorbance conversion value is less than 10, the etchant of the second etchant storage tank is transferred to the additional etchant It can be transported to the waste line.

본 발명의 또 다른 하나의 실시 상태는 식각액을 보관하는 제1식각액보관탱크; 상기 제1식각액보관탱크에 연결된 식각액폐기라인; 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여, 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 식각액분석장치; 상기 제1식각액보관탱크와 연결된 제2식각액보관탱크; 상기 제2식각액보관탱크와 연결된 식각기; 및 상기 식각액분석장치의 분석결과에 따라 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각액폐기라인과 상기 제2식각액보관탱크 중 어느 하나로 이송하도록 제어하는 제어부를 포함하는 식각 장치를 제공한다. Another embodiment of the present invention is a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a first etchant storage tank for storing an etchant; An etchant waste line connected to the first etchant storage tank; An etchant analyzer for measuring the absorbance of the etchant stored in the first etchant storage tank and analyzing the state of the etchant stored in the first etchant storage tank; A second etchant storage tank connected to the first etchant storage tank; An extractor connected to the second etchant storage tank; And a controller for controlling the transfer of the etchant of the first etchant storage tank to one of the etchant retention line and the second etchant storage tank according to an analysis result of the etchant analysis apparatus.

이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명을 구리합금과 몰리브덴합금층의 이중금속막의 배선형성제조공정(한국공개특허 10-2004-0011041)중 사용되는 식각액을 관리하는 식각액 관리 시스템, 식각 장치 및 이에 의한 식각액 관리 방법에 적용하여 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the present embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like elements throughout. The present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited thereto.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 식각액 관리 시스템 및 식각 장치는 식각액을 보관하는 제1식각액보관탱크(10); 제1식각액보관탱크(10)에 연결된 제1식각액폐기라인(11); 제1식각액보관탱크(10)에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여, 제1식각액보관탱크(10)에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 제1식각액분석장치(100); 제1식각액보관탱크(10)와 연결된 제2식각액보관탱크(20); 제2식각액보관탱크(20)와 연결된 식각기(30); 및 제1식각액분석장치(100)의 분석결과에 따라 제1식각액보관탱크(10)의 식각액을 제1식각액폐기라인(11)과 제2식각액보관탱크(20) 중 어느 하나로 이송하도록 제어하는 제어부(40)를 포함한다.As shown in FIG. 1, the etchant management system and the etching apparatus according to the first embodiment of the present invention include a first etchant storage tank 10 for storing an etchant; A first etchant waste line (11) connected to the first etchant storage tank (10); A first etching solution analyzer 100 for measuring the absorbance of the etching solution stored in the first etching solution storage tank 10 and analyzing the state of the etching solution stored in the first etching solution storage tank 10; A second etchant storage tank 20 connected to the first etchant storage tank 10; An extractor 30 connected to the second etchant storage tank 20; And a control unit for controlling the transfer of the etchant in the first etchant storage tank 10 to one of the first etchant retention line 11 and the second etchant storage tank 20 according to the analysis results of the first etchant analysis apparatus 100, (40).

제1식각액보관탱크(10)로는 식각공정에서 사용되는 식각액을 초기 보관하게 되는 탱크로서, CCSS(CENTRAL CHEMICAL SUPPLY SYSTEM)탱크를 사용한다.As the first etching liquid storage tank 10, a CCSS (CENTRAL CHEMICAL SUPPLY SYSTEM) tank is used as an initial storage tank for the etchant used in the etching process.

식각액은 한 예로 조성물의 총 중량에 대해 5 내지 15 중량%의 과산화수소, 1 내지 5 중량%의 유기산, 0.5 내지 5 중량% 의 황산염, 0.2 내지 5 중량%의 고리형 아민 화합물, 및 70 내지 93.3 중량%의 물을 포함하는 식각액으로서 액정표시장치용 어레이 기판의 금속배선막 중에서 구리합금층과 몰리브덴합금층의 이중 금속막을 식각하는 식각액일 수 있다.The etchant may, for example, comprise from 5 to 15 wt% of hydrogen peroxide, from 1 to 5 wt% of organic acid, from 0.5 to 5 wt% of sulfate, from 0.2 to 5 wt% of cyclic amine compound, and from 70 to 93.3 wt% % Of water as an etchant for etching the double metal film of the copper alloy layer and the molybdenum alloy layer in the metal wiring film of the array substrate for a liquid crystal display device.

이러한 식각액의 제1식각액보관탱크(10)에서 온도 및 시간의 변화에 따라 과산화수소 함량 변화 없이 과산화수소와 첨가제의 상호작용에 의해 초기 수용된 식각액에 비해 식각액의 색상변화가 나타날 수 있다. 이 색상변화에 따른 흡광도 변화를 분광기를 이용하여 측정함으로써 식각액의 경시변화를 감시할 수 있다.The change in temperature of the etchant in the first etchant storage tank 10 may cause color change of the etchant compared to the initially received etchant by the interaction of hydrogen peroxide and the additive without changing the hydrogen peroxide content. The change in absorbance due to this color change can be monitored using a spectrometer to monitor changes over time in the etchant.

즉, 제1식각액분석장치(100)를 포함하는 본 발명에 따른 식각액 관리 시스템 및 식각 장치는 온도 및 시간에 따라 식각액의 성능이 변화하여 액정표시장치용 어레이 기판의 금속배선막 중에서 구리합금층과 몰리브덴합금층의 이중 금속막의 식각 특성이 불량을 야기시키고 생산 공정 상 수율 및 제품의 불량을 초래하는 것을 방지할 수 있게 된다. 한편, 상기 분광기는 UV-VIS 분광기일 수 있으며, 조사되는 광의 파장은 바람직하게 340nm 내지 360nm이며, 더욱 바람직하게는 350nm이다. 그러나 이에 한정되는 것은 아니다.In other words, the etchant management system and the etching apparatus according to the present invention including the first etching liquid analyzer 100 may change the performance of the etchant depending on the temperature and the time so that the copper alloy layer and the copper alloy layer in the metal wiring film of the array substrate for a liquid crystal display It is possible to prevent the etch characteristics of the double metal film of the molybdenum alloy layer from becoming defective and causing yield and product defects in the production process. Meanwhile, the spectroscope may be a UV-VIS spectroscope, and the wavelength of the irradiated light is preferably 340 nm to 360 nm, more preferably 350 nm. However, the present invention is not limited thereto.

제1식각액폐기라인(11)은 제1식각액분석장치(100)의 분석결과에 따라 제어부(40)가 제1식각액보관탱크(10)의 식각액이 사용될 수 없는 것이라고 판단하는 경우, 제1식각액보관탱크(10)의 식각액을 제1식각액보관탱크(10) 외부로 배출시키는 역할을 한다.If the controller 40 determines that the etching solution in the first etching solution storage tank 10 can not be used in accordance with the analysis result of the first etching solution analyzer 100, the first etching solution discarding line 11 may store the first etching solution storage And discharges the etching liquid in the tank 10 to the outside of the first etching liquid storage tank 10.

제1식각액분석장치(100)는 제1식각액보관탱크(10)의 식각액이 유입되는 제1플로우셀(101); 제1플로우셀(101)의 식각액에 측정광을 조사하는 제1광원부(102); 제1플로우셀(101)의 식각액의 흡광도를 측정하는 제1분광기(103); 및 제1분광기(103)에서 측정된 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 출력하는 제1식각액분석제어부(104)를 포함한다. 여기서, 분광기를 통해 측정되는 흡광도 값은 전류 값으로 나타내어지는데, 상기 흡광도 환산값이란 분광기로 측정한 표준액(물)의 흡광도 값을 전류 값으로 나타낸 표준액 전류 값, 분광기로 측정한 제1플로우셀로 공급된 식각액의 흡광도 값을 전류값으로 나타낸 식각액 전류 값, 및 초기 제1식각액보관탱크에 보관되는 식각액의 흡광도 값을 전류값으로 나타낸 초기 식각액 전류값을 가지고 환산한 값이다.The first etching solution analyzer 100 includes a first flow cell 101 through which the etching solution in the first etching solution storage tank 10 flows; A first light source part (102) for irradiating measurement light to the etchant of the first flow cell (101); A first spectrometer (103) for measuring the absorbance of the etchant of the first flow cell (101); And a first etchant analysis control unit 104 for calculating and outputting an absorbance conversion value based on the absorbance measurement value measured by the first spectroscope 103. Here, the absorbance value measured through the spectroscope is represented by a current value. The absorbance conversion value is a value obtained by dividing the absorbance value of the standard solution (water) measured by the spectrometer into the first flow cell measured by the spectroscope The etching current value indicating the absorbance value of the supplied etching liquid as the current value and the initial etching current value indicating the absorbance value of the etching liquid stored in the initial first etching liquid storage tank as the current value.

제1식각액보관탱크(10)의 식각액이 제1플로우셀(101)로 공급될 수 있도록 제1식각액보관탱크(10)와 제1플로우셀(101) 사이에는 제1플로우셀공급라인(12)이 마련되어 있고, 제1플로우셀(101)의 식각액을 제1식각액보관탱크(10)로 공급할 수 있도록 제1플로우셀(101)과 제1식각액보관탱크(10) 사이에는 제1식각액보관탱크공급라인(13)이 마련되어 있다.A first flow cell supply line 12 is provided between the first etchant storage tank 10 and the first flow cell 101 so that the etchant of the first etchant storage tank 10 can be supplied to the first flow cell 101. [ And a first etchant storage tank 10 is provided between the first flow cell 101 and the first etchant storage tank 10 so that the etchant of the first flow cell 101 can be supplied to the first etchant storage tank 10, Line 13 is provided.

제2식각액보관탱크(20)로는 식각공정에서 식각기(30)로 공급되는 식각액을 보관하게되는 탱크로서, ACQC(AUTOMATIC CLEAN QUICK COUPLER)탱크를 사용할 수 있다.As the second etchant storage tank 20, an ACQC (AUTOMATIC CLEAN QUICK COUPLER) tank can be used as a tank for storing the etchant supplied to the mold 30 in the etching process.

제2식각액보관탱크(20)의 일측은 제1연결라인(14)에 의해 제1식각액보관탱크(10)와 연결되어 있어, 제1식각액보관탱크(10)로부터 식각액을 공급받게 되고, 타측은 제2연결라인(24)에 의해 식각기(30)와 연결되어 있어 제2식각액보관탱크(10) 내의 식각액을 식각기(30)로 공급할 수 있게 된다.One side of the second etchant storage tank 20 is connected to the first etchant storage tank 10 by the first connection line 14 so that the etchant is supplied from the first etchant storage tank 10, And is connected to the molding machine 30 by the second connection line 24 so that the etching solution in the second etching solution storage tank 10 can be supplied to the molding machine 30.

제어부(40)는, 제1식각액분석제어부(104)에서 출력된 데이터에 기초하여 흡광도환산값이 10이상인 경우 제1식각액보관탱크(10)의 식각액을 제2식각액보관탱크(20)로 이송시키고, 흡광도환산값이 10미만인 경우 제1식각액보관탱크(10)의 식각액을 제1식각액폐기라인(11)으로 방출하도록 제어한다.Based on the data output from the first etchant analysis control unit 104, the control unit 40 transfers the etchant of the first etchant storage tank 10 to the second etchant storage tank 20 when the absorbance conversion value is 10 or more And controls the release of the etchant in the first etchant storage tank 10 to the first etchant waste line 11 when the absorbance conversion value is less than 10.

한편, 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 식각액 관리 시스템 및 식각 장치에 있어서, 제1식각액관리장치(100)와 동일한 원리와 구성을 갖는 제2식각액관리장치(200)를 제2식각액보관탱크(20)에 연결할 수도 있다.2, in the etchant management system and the etching apparatus according to the second embodiment of the present invention, the second etchant management apparatus 200 (see FIG. 2) having the same principle and structure as the first etchant management apparatus 100 ) To the second etchant storage tank (20).

제2식각액분석장치(200)는 제2식각액보관탱크(20)의 식각액이 유입되는 제2플로우셀(201); 제2플로우셀(201)의 식각액에 측정광을 조사하는 제2광원부(202); 제2플로우셀(201)의 식각액의 흡광도를 측정하는 제2분광기(203); 및 제2분광기(203)에서 측정된 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 출력하는 제2식각액분석제어부(204)로 구성된다.The second etchant analyzer 200 includes a second flow cell 201 into which the etchant of the second etchant storage tank 20 flows; A second light source part (202) for irradiating measurement light to the etchant of the second flow cell (201); A second spectrometer (203) for measuring the absorbance of the etchant of the second flow cell (201); And a second etchant analysis control unit 204 for calculating and outputting an absorbance conversion value based on the absorbance measurement value measured by the second spectroscope 203.

그리고, 제2식각액보관탱크(20)의 식각액이 제2플로우셀(201)로 공급될 수 있도록 제2식각액보관탱크(20)와 제2플로우셀(201) 사이에는 제2플로우셀공급라인(22)이 마련되어 있고, 제2플로우셀(201)의 식각액을 제2식각액보관탱크(20)로 공급할 수 있도록 제2플로우셀(201)과 제2식각액보관탱크(20) 사이에는 제2식각액보관탱크공급라인(23)이 마련되어 있다.A second flow cell supply line (not shown) is connected between the second etchant storage tank 20 and the second flow cell 201 so that the etchant of the second etchant storage tank 20 can be supplied to the second flow cell 201 And a second etchant storage tank 20 is provided between the second flow cell 201 and the second etchant storage tank 20 so that the etchant of the second flow cell 201 can be supplied to the second etchant storage tank 20. [ A tank supply line 23 is provided.

여기서, 제어부(40)는, 제2식각액분석제어부(204)에서 출력된 데이터에 기초하여 흡광도환산값이 10이상인 경우 제2식각액보관탱크(20)의 식각액을 식각기(30)로 이송시키고, 흡광도환산값이 10미만인 경우 제2식각액보관탱크(20)의 식각액을 제2식각액폐기라인(21)으로 방출하도록 제어한다.Here, the control unit 40 transfers the etchant of the second etchant storage tank 20 to the extractor 30 when the absorbance conversion value is 10 or more based on the data output from the second etchant analysis control unit 204, And controls the release of the etchant in the second etchant storage tank 20 to the second etchant waste line 21 when the absorbance conversion value is less than 10.

이하에서는 본 발명에 따른 식각액 관리 시스템 및 식각 장치를 이용한 식각액 관리 방법에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, an etchant management system and an etchant management method using the etchant according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 식각액 관리 방법은 제1식각액보관탱크(10)에 보관된 식각액을 제1플로우셀공급라인(12)을 통해 제1플로우셀(101)로 공급하고, 제1광원부(102)를 통해 제1플로우셀(101)로 측정광을 조사한 다음, 제1분광기(103)에서 흡광도를 측정하고, 제1식각액보관탱크공급라인(13)을 통해 제1플로우셀(101)의 식각액을 제1식각액보관탱크(10)로 복귀시키며, 제1식각액분석제어부(104)에서는 측정된 식각액의 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 이를 출력하는 단계; 제1식각액분석제어부(104)에서 출력된 데이터에 기초하여 흡광도환산값이 10이상 인 경우 제어부(40)는 제1식각액보관탱크(10)의 식각액을 제1연결라인(14)을 통해 제2식각액보관탱크(20로 이송시키고, 흡광도환산값이 10미만인 경우 제1식각액보관탱크(10)의 식각액을 제1식각액폐기라인(11)으로 방출하도록 제어하는 단계; 제2식각액보관탱크(20)로 이송된 식각액은 제2연결라인(24)을 통해 식각기(30)로 공급하도록 제어부(40)가 제어하는 단계를 포함한다.The etchant management method according to the present invention is a method in which the etchant stored in the first etchant storage tank 10 is supplied to the first flow cell 101 through the first flow cell supply line 12, The measurement light is irradiated to the first flow cell 101 through the first etchant storage tank supply line 13 and then the absorbance of the first flow cell 101 is measured by the first spectroscope 103 and the etchant of the first flow cell 101 is supplied through the first etchant storage tank supply line 13 1 etchant storage tank 10, the first etchant analysis control unit 104 calculates the absorbance conversion value based on the measured absorbance of the etchant and outputs the calculated absorbance conversion value; When the absorbance conversion value is 10 or more based on the data output from the first etching liquid analysis control unit 104, the control unit 40 controls the etching liquid in the first etching liquid storage tank 10 through the first connection line 14 to the second Controlling the release of the etchant of the first etchant storage tank 10 to the first etchant retention line 11 when the absorbance conversion value is less than 10, transferring the second etchant storage tank 20 to the second etchant storage tank 20, The control unit 40 controls the etching unit 30 to supply the etchant transferred to the etching unit 30 through the second connection line 24. [

여기서, 제2식각액보관탱크(20)에서 식각기(30)로 식각액을 공급하기 전에 제1식각액분석장치(100)와 동일한 원리로서 제2식각액분석장치(200)를 이용하여 제2식각액보관탱크(20)의 식각액을 분석하고 그 결과에 따라 제2식각액보관탱크(20)의 식각액을 식각기(30) 또는 제2식각액폐기라인(21)으로 방출시킬 수 있다.Here, before the etching liquid is supplied from the second etching liquid storage tank 20 to the molding machine 30, the second etching liquid analyzer 200 is used as the same principle as the first etching liquid analyzer 100, The etchant of the second etchant storage tank 20 may be discharged into the mold opening unit 30 or the second etchant waste disposal line 21 according to the result of the analysis.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 식각액의 농도변화에 따른 색변화도를 실시간으로 자동분석하여 식각액의 보관 및 교환 시점을 포함한 사용기준을 설정하여 식각액을 관리할 수 있는 식각액 관리 시스템, 식각 장치 및 이에 의한 식각액 관리 방법이 제공된다.As described above, according to the present invention, it is possible to provide an etchant management system capable of managing the etchant by automatically analyzing the color change degree according to the concentration change of the etchant in real time, And an etching liquid management method therefor.

또한, 본 발명에 따른 식각액분석장치의 분석결과에 따라 식각액의 성능변화를 실시간으로 정확하게 분석할 수 있음에 따라 식각공정에서 안정적으로 식각액을 사용할 수 있어 식각불량 발생을 억제할 수 있고, 식각액의 폐기비용을 절감할 수 있다. In addition, according to the analysis result of the etching solution analyzing apparatus according to the present invention, it is possible to accurately analyze the performance change of the etching solution in real time, so that the etching solution can be stably used in the etching process, The cost can be reduced.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 식각액 관리 시스템 및 식각 장치의 개략도,
도 2는 본 발명의 제2실시예에 따른 식각액 관리 시스템 및 식각 장치의 개략도,
도 3은 시간변화에 대한 온도별 흡광도 환산값과의 관계를 나타낸 그래프,
도 4는 시간에 따라 색상변화된 식각액으로 에칭한 후의 전자주사현미경 사진이다. 1 is a schematic view of an etchant management system and an etching apparatus according to a first embodiment of the present invention,
2 is a schematic view of an etchant management system and an etching apparatus according to a second embodiment of the present invention,
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the temperature change and the absorbance conversion value per temperature,
4 is an electron micrograph after etching with an etchant that has changed color with time.

이하에서는 본 발명의 이해를 돕기 위해 바람직한 실시예 1(제품명:MA-S07L, 동우화인켐)을 설명하기로 하나, 본 발명의 범위가 이로 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, preferred embodiments 1 (product name: MA-S07L, Dongwha Fine-Chem) for explaining the present invention will be described, but the scope of the present invention is not limited thereto.

하기 실시예1는 시간에 따른 식각액의 흡광도의 변화 특성을 분석하고, 온도와 보관일 수에 따른 식각액의 특성변화와 연계하여 사용에 대한 안정적인 범위를 설정하는 실시예이다. In the following Example 1, the characteristics of the change of the absorbance of the etchant over time are analyzed, and a stable range for use is set in connection with the change in the characteristics of the etchant depending on the temperature and the number of days of storage.

실시예 1Example 1

Figure 112013080979708-pat00001
Figure 112013080979708-pat00001

상기 실시예 1 및 시간변화에 대한 온도에 따른 흡광도 환산값과의 관계를 나타낸 그래프(도 3 참조 )에서 볼 수 있는 바와 같이, 13.56 ~ 10.030 범위 안의 식각액은 안정적으로 사용할 수 있다는 것을 확인할 수 있다. As can be seen from the graph showing the relationship between the absorbance conversion value and the temperature change with time in Example 1 (see FIG. 3), it can be seen that the etchant in the range of 13.56 to 10.030 can be used stably.

1일1 day 21일21st 23일23rd 24일24th 온도Temperature 18℃18 ℃ 22℃22 ℃ 25℃25 ℃ 30℃30 ℃ 환산값Conversion value 13.56013.560 11.18011.180 10.51010.510 10.03010.030 37일37th 29일29th 온도Temperature 25℃25 ℃ 30℃30 ℃ 환산값Conversion value 9.7479.747 9.8349.834

또한, 실시예 1에서 선별하여 측정한 전자주사현미경의 측정 결과(시간에 따라 색도변화된 식각액을 스프레이모드로 식각하여 프로파일 변화를 흡광도 환산값과의 관계를 나타내는 측정결과; 도 4참조)와 이를 표로 정리한 표 1를 통해서도 13.56 ~ 10.030 범위 안의 식각액은 안정적으로 사용할 수 있다는 것을 확인할 수 있다. Further, the measurement result of the electron-scanning microscope (the measurement result showing the relationship between the profile change and the absorbance conversion value by etching the etchant with the chromaticity change in the spray mode over time, as shown in FIG. 4) Table 1 also shows that the etching solution within the range of 13.56 to 10.030 can be used stably.

10 : 제1식각액보관탱크
11 : 제1식각액폐기라인
12 : 제1플로우셀공급라인
13 : 제1식각액보관탱크공급라인
14 : 제1연결라인
20 : 제2식각액보관탱크
21 : 제2식각액폐기라인
22 : 제2플로우셀공급라인
23 : 제2식각액보관탱크공급라인
24 : 제2연결라인
30 : 식각기
40 : 제어부
100, 200 : 제1 및 제2 식각액분석장치
101, 201 : 제1 및 제2플로우셀
102, 202 : 광원부(light source)
103, 203 : 제1 및 제2분광기
104, 204 : 제1 및 제2식각액분석제어부10: First etching liquid storage tank
11: First etching liquid disposal line
12: first flow cell supply line
13: First etching liquid storage tank supply line
14: first connection line
20: second etching liquid storage tank
21: Second etching liquid disposal line
22: second flow cell supply line
23: Second etching liquid storage tank supply line
24: second connection line
30: Expression
40:
100, 200: first and second etching liquid analyzing apparatus
101, 201: first and second flow cells
102, 202: light source,
103, 203: first and second spectrometers
104, 204: first and second etchant analysis control unit

Claims (15)

식각액을 보관하는 제1식각액보관탱크;
상기 제1식각액보관탱크에 연결된 식각액폐기라인;
상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여, 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 식각액분석장치;
상기 제1식각액보관탱크와 연결된 제2식각액보관탱크;
상기 제2식각액보관탱크와 연결된 식각기; 및
상기 식각액분석장치의 분석결과에 따라 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각액폐기라인과 상기 제2식각액보관탱크 중 어느 하나로 이송하도록 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 제2식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여 상기 제2식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 추가의 식각액분석장치; 및
상기 제2식각액보관탱크에 연결된 추가의 식각액폐기라인을 더 포함하며,
상기 제어부는 상기 추가의 식각액분석장치의 분석결과에 따라 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 추가의 식각액폐기라인과 상기 식각기 중 어느 하나로 이송하도록 제어하는 식각액 관리 시스템으로서,
상기 식각액 관리 시스템은 구리합금과 몰리브덴합금층의 이중금속막 배선형성 제조공정에 사용되는 식각액을 분석하여 관리하는 것인 식각액 관리 시스템. A first etchant storage tank for storing the etchant;
An etchant waste line connected to the first etchant storage tank;
An etchant analyzer for measuring the absorbance of the etchant stored in the first etchant storage tank and analyzing the state of the etchant stored in the first etchant storage tank;
A second etchant storage tank connected to the first etchant storage tank;
An extractor connected to the second etchant storage tank; And
And a controller for controlling the transfer of the etchant of the first etchant storage tank to one of the etchant retention line and the second etchant storage tank according to an analysis result of the etchant analyzer,
A further etchant analyzer for measuring the absorbance of the etchant stored in the second etchant storage tank and analyzing the state of the etchant stored in the second etchant storage tank; And
Further comprising an additional etchant retention line connected to the second etchant storage tank,
Wherein the control unit controls the transfer of the etching liquid in the second etching liquid storage tank to one of the additional etching liquid disposal line and the molding machine according to the analysis result of the additional etching liquid analyzer,
Wherein the etchant management system analyzes and manages the etchant used in the process of forming the double metal film interconnections of the copper alloy and the molybdenum alloy layer. 청구항 1에 있어서,
상기 식각액분석장치는
상기 제1식각액보관탱크의 식각액이 유입되는 플로우셀;
상기 플로우셀의 식각액에 측정광을 조사하는 광원부;
상기 플로우셀의 식각액의 흡광도를 측정하는 분광기; 및
상기 분광기에서 측정된 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 출력하는 식각액분석제어부
를 포함하는 식각액 관리 시스템.The method according to claim 1,
The etchant analyzer
A flow cell through which the etchant of the first etchant storage tank flows;
A light source for irradiating measurement light onto the etchant of the flow cell;
A spectroscope for measuring the absorbance of the etchant of the flow cell; And
Calculating an absorbance conversion value based on the measured absorbance value measured by the spectroscope, and outputting the converted absorbance value;
And an etchant. 청구항 2에 있어서,
상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 플로우셀로 공급하는 플로우셀공급라인; 및
상기 플로우셀의 식각액을 상기 제1식각액보관탱크로 공급하는 제1식각액보관탱크공급라인
을 더 포함하는 식각액 관리 시스템. The method of claim 2,
A flow cell supply line for supplying an etchant of the first etchant storage tank to the flow cell; And
A first etchant storage tank supply line for supplying the etchant of the flow cell to the first etchant storage tank,
And an etchant. 청구항 2에 있어서, 상기 제어부는, 상기 식각액분석제어부에서 출력된 데이터에 기초하여 상기 흡광도환산값이 10이상인 경우 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 제2식각액보관탱크로 이송시키고, 상기 흡광도환산값이 10미만인 경우 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각액폐기라인으로 방출하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 식각액 관리 시스템.The method according to claim 2, wherein the control unit transfers the etching solution in the first etching solution storage tank to the second etching solution storage tank when the absorbance conversion value is 10 or more based on the data output from the etching solution analysis control unit, And to release the etchant of the first etchant storage tank to the etchant waste line when the value of the etchant storage tank is less than 10. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 추가의 식각액분석장치는
상기 제2식각액보관탱크의 식각액이 유입되는 추가의 플로우셀;
상기 추가의 플로우셀의 식각액에 측정광을 조사하는 추가의 광원부;
상기 추가의 플로우셀의 식각액의 흡광도를 측정하는 추가의 분광기; 및
상기 추가의 분광기에서 측정된 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 출력하는 추가의 식각액분석제어부
를 포함하는 식각액 관리 시스템.The method according to claim 1,
The additional etchant analyzer
An additional flow cell into which the etchant of the second etchant storage tank flows;
An additional light source for irradiating the etchant of the additional flow cell with measurement light;
An additional spectrometer to measure the absorbance of the etchant of the further flow cell; And
An additional etchant analysis control unit for calculating and outputting the absorbance conversion value based on the absorbance measurement value measured in the additional spectroscope,
And an etchant. 청구항 6에 있어서,
상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 추가의 플로우셀로 공급하는 추가의 플로우셀공급라인; 및
상기 추가의 플로우셀의 식각액을 상기 제2식각액보관탱크로 공급하는 추가의 제2식각액보관탱크공급라인
을 더 포함하는 식각액 관리 시스템.The method of claim 6,
An additional flow cell supply line for supplying an etchant of said second etchant storage tank to said additional flow cell; And
The additional etchant storage tank supply line supplying the etchant of the additional flow cell to the second etchant storage tank
And an etchant. 청구항 6에 있어서, 상기 제어부는, 상기 추가의 식각액분석제어부에서 출력된 데이터에 기초하여 상기 흡광도환산값이 10이상인 경우 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각기로 이송시키고, 상기 흡광도환산값이 10미만인 경우 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 추가의 식각액폐기라인으로 방출하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 식각액 관리 시스템.The etching apparatus according to claim 6, wherein the control unit transfers the etching solution in the second etching solution storage tank to the etching unit when the absorbance conversion value is 10 or more, based on the data output from the additional etching solution analysis control unit, And to discharge the etchant of the second etchant storage tank to the additional etchant waste line when the amount of the etchant is less than 10. 청구항 1에 있어서, 상기 식각액은 과산화수소를 포함하는 것을 특징으로 하는 식각액 관리 시스템.The etchant management system of claim 1, wherein the etchant comprises hydrogen peroxide. 청구항 9에 있어서, 상기 식각액은 조성물의 총 중량에 대해 5 내지 15 중량%의 과산화수소, 1 내지 5 중량%의 유기산, 0.5 내지 5 중량% 의 황산염, 0.2 내지 5 중량%의 고리형 아민 화합물, 및 70 내지 93.3 중량%의 물을 포함하는 것인 식각액 관리 시스템.10. The method of claim 9, wherein the etchant is selected from the group consisting of 5-15 wt% hydrogen peroxide, 1-5 wt% organic acid, 0.5-5 wt% sulfate, 0.2-5 wt% cyclic amine compound, 70 to 93.3% by weight of water. 청구항 1에 따른 식각액 관리 시스템을 이용한 식각액 관리 방법으로,
(a) 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여, 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 단계;
(b) 분석결과에 따라 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 제1식각액보관탱크에 연결된 제1식각액폐기라인과 상기 제1식각액보관탱크에 연결된 제2식각액보관탱크 중 어느 하나로 이송하는 단계; 및
(c) 상기 제2식각액보관탱크로 이송된 식각액을 상기 제2식각액보관탱크에 연결된 식각기로 공급하는 단계를 포함하는 식각액의 관리 방법으로서,
상기 식각액 관리 방법은 구리합금과 몰리브덴합금층의 이중금속막 배선형성 제조공정에 사용되는 식각액을 분석하여 관리하는 것인 식각액 관리 방법.A method for managing an etchant using an etchant management system according to claim 1,
(a) analyzing the state of the etchant stored in the first etchant storage tank by measuring the absorbance of the etchant stored in the first etchant storage tank;
(b) transferring the etchant of the first etchant storage tank to one of the first etchant storage line connected to the first etchant storage tank and the second etchant storage tank connected to the first etchant storage tank according to the analysis result; And
(c) supplying the etchant transferred to the second etchant storage tank to an etcher connected to the second etchant storage tank,
Wherein the etchant management method includes analyzing and managing an etchant used in a process for forming a double metal film wiring of a copper alloy and a molybdenum alloy layer. 청구항 11에 있어서,
상기 (a) 단계는
(a1) 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 플로우셀로 유입시키는 단계;
(a2) 상기 플로우셀의 식각액에 측정광을 조사하는 단계;
(a3) 상기 플로우셀의 식각액의 흡광도를 측정하는 단계; 및
(a4) 상기 측정된 식각액의 흡광도 측정값을 기초로 하여 흡광도환산값을 계산하여 출력하는 단계
를 포함하는 식각액의 관리 방법. The method of claim 11,
The step (a)
(a1) flowing the etchant of the first etchant storage tank into the flow cell;
(a2) irradiating the etchant of the flow cell with measurement light;
(a3) measuring the absorbance of the etchant of the flow cell; And
(a4) calculating and outputting the absorbance conversion value based on the measured absorbance of the etchant;
Wherein the etchant comprises a first etchant. 청구항 12에 있어서, 상기 플로우셀을 통과한 식각액을 상기 제1식각액보관탱크로 공급하는 단계를 더 포함하는 식각액의 관리 방법.13. The method of claim 12, further comprising supplying the etchant that has passed through the flow cell to the first etchant storage tank. 청구항 12에 있어서,
상기 (b) 단계에서는 상기 흡광도환산값이 10이상인 경우 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 제2식각액보관탱크로 이송시키고, 상기 흡광도환산값이 10미만인 경우 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 제1식각액폐기라인으로 이송하는 것인 식각액의 관리 방법. The method of claim 12,
In the step (b), if the absorbance conversion value is 10 or more, the etchant of the first etchant storage tank is transferred to the second etchant storage tank, and if the absorbance conversion value is less than 10, And transferring the etchant to the first etchant waste line. 식각액을 보관하는 제1식각액보관탱크;
상기 제1식각액보관탱크에 연결된 식각액폐기라인;
상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여, 상기 제1식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 식각액분석장치;
상기 제1식각액보관탱크와 연결된 제2식각액보관탱크;
상기 제2식각액보관탱크와 연결된 식각기; 및
상기 식각액분석장치의 분석결과에 따라 상기 제1식각액보관탱크의 식각액을 상기 식각액폐기라인과 상기 제2식각액보관탱크 중 어느 하나로 이송하도록 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 제2식각액보관탱크에 보관된 식각액의 흡광도를 측정하여 상기 제2식각액보관탱크에 보관된 식각액의 상태를 분석하는 추가의 식각액분석장치; 및
상기 제2식각액보관탱크에 연결된 추가의 식각액폐기라인을 더 포함하며,
상기 제어부는 상기 추가의 식각액분석장치의 분석결과에 따라 상기 제2식각액보관탱크의 식각액을 상기 추가의 식각액폐기라인과 상기 식각기 중 어느 하나로 이송하도록 제어하는 식각액 식각 장치로서,
상기 식각 장치는 구리합금과 몰리브덴합금층의 이중금속막 배선형성 제조공정에 사용되는 식각액을 분석하여 관리하는 것인 식각 장치. A first etchant storage tank for storing the etchant;
An etchant waste line connected to the first etchant storage tank;
An etchant analyzer for measuring the absorbance of the etchant stored in the first etchant storage tank and analyzing the state of the etchant stored in the first etchant storage tank;
A second etchant storage tank connected to the first etchant storage tank;
An extractor connected to the second etchant storage tank; And
And a controller for controlling the transfer of the etchant of the first etchant storage tank to one of the etchant retention line and the second etchant storage tank according to an analysis result of the etchant analyzer,
A further etchant analyzer for measuring the absorbance of the etchant stored in the second etchant storage tank and analyzing the state of the etchant stored in the second etchant storage tank; And
Further comprising an additional etchant retention line connected to the second etchant storage tank,
Wherein the controller controls the transfer of the etchant of the second etchant storage tank to one of the additional etchant disposal line and the emitter according to an analysis result of the additional etchant analyzer,
Wherein the etching apparatus analyzes and manages an etchant used in a process for manufacturing a double metal film wiring of a copper alloy and a molybdenum alloy layer.
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