KR101409171B1 - Manufacturing method of ceramic ware using the amorphous coating of base material - Google Patents

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김종영
김응수
조우석
김효진
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한국세라믹기술원
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing ceramics by using amorphous coating to the base material of the ceramics wherein the method comprises: a step of inserting silicon and feldspar with a solvent into a stirrer; a step of stirring after inserting into the stirrer 0.1-15 parts by weight of a calcium source material and a silicon source material with respect to 100 parts by weight of the silicon and the feldspar in a mole ratio of 1:5-5:1; a step of inserting a basic material into slurry manufactured by stirring so as to control the pH range of the same at 7-12; a step of drying the pH controlled outcome and calcining at a temperature lower than the temperature where the calcium source material and the silicon source material are crystallized for acquiring the silicon and feldspar on which amorphous phase is coated; a step of mixing kaolin, clay, the silicon and feldspar where the amorphous phase is coated with water; and a step of firing the molded mixture. The present invention can lower a firing temperature by using the amorphous coating of the basic ceramics material and improve fracture toughness and bending strength.

Description

도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법{Manufacturing method of ceramic ware using the amorphous coating of base material}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing ceramics using amorphous coating of ceramics raw materials,

본 발명은 도자기의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용함으로써 소성온도를 낮출 수 있고 파괴인성 및 꺽임강도를 개선할 수 있는 도자기의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for manufacturing ceramics, and more particularly, to a method for manufacturing ceramics capable of lowering a firing temperature and improving fracture toughness and bending strength by using an amorphous coating of a ceramics raw material.

도자기는 도기(陶器)와 자기(磁器)를 포함하는 용어이다. 도자기에는 점토, 장석, 규석, 도석 등의 원료가 주로 사용되며, 도자기는 이들 원료를 일정 비율로 혼합하여 성형한 다음 소성하여 경화시킨 제품을 말한다. 도기는 흡수율이 크므로 두드려 보았을 때 탁한 음을 내고 내구성이 비교적 약하다. 자기는 흡수율이 거의 없어 두드려 보았을 때 맑은 음을 내고 내구성이 뛰어나다. Pottery is a term that includes pottery and porcelain. Ceramics are mainly made of materials such as clay, feldspar, quartz and stoneware, and ceramics are products obtained by mixing and molding these materials at a certain ratio, followed by firing and curing. Pottery has a high absorption rate, so it produces a dull sound when tapped and has a relatively low durability. It has a low absorption rate and gives a clear sound when touched and has excellent durability.

도자기를 제조하는 경우에, 성형 후 비교적 고온의 온도에서 소성이 이루어지게 되는데, 소성온도가 높게 되면 에너지의 소모가 많고 소성온도의 제어가 용이하지 않을 뿐만 아니라 입자 성장을 가져와 소성체의 기계적 특성이 좋지 않을 수 있다. 따라서, 소성온도를 낮추기 위한 많은 연구가 시도되고 있다. When ceramics are manufactured, they are sintered at a relatively high temperature after molding. When the sintering temperature is high, energy consumption is high and the sintering temperature is not easily controlled. In addition, since the mechanical characteristics of the sintering body It may not be good. Therefore, many studies have been made to lower the firing temperature.

이와 함께 도자기의 파괴인성 및 꺽임강도를 개선하려는 많은 연구가 시도되고 있다.
In addition, many attempts have been made to improve the fracture toughness and bending strength of ceramics.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용함으로써 소성온도를 낮출 수 있고 파괴인성 및 꺽임강도를 개선할 수 있는 도자기의 제조방법을 제공함에 있다.
The present invention provides a method for manufacturing ceramics which can reduce the firing temperature and improve fracture toughness and bending strength by using an amorphous coating of a ceramic material.

본 발명은, 규석 및 장석을 용매와 함께 교반기에 장입하는 단계, 상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 규석과 상기 장석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하는 단계, 교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하는 단계, pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 규석과 장석을 얻는 단계, 카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계, 혼합된 결과물을 성형하는 단계 및 성형된 결과물을 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법을 제공한다.The present invention relates to a method for producing a silicon carbide powder, comprising the steps of charging silica and feldspar with a solvent into a stirrer, mixing the calcium source material and the silicon source material in a molar ratio of 1: 5 to 5: 1 to 100 parts by weight of the total content of the silica and feldspar Adding a basic substance to the slurry to adjust the pH to a range of 7 to 12, drying the pH-adjusted resultant and adding the calcium source material and the silicon source material Calcining at a temperature lower than the crystallization temperature to obtain amorphous phase coated quartz and feldspar; mixing kaolin and clay and amorphous phase coated quartz and feldspar with water; molding the mixed result; And then calcining the resultant. The present invention also provides a method for manufacturing ceramics using the amorphous coating of a raw material for ceramics.

또한, 본 발명은, 규석을 용매와 함께 교반기에 장입하는 단계, 상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 규석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하는 단계, 교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하는 단계, pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 규석을 얻는 단계, 장석을 용매와 함께 교반기에 장입하는 단계, 상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 장석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하는 단계, 교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하는 단계, pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 장석을 얻는 단계, 카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계, 혼합된 결과물을 성형하는 단계 및 성형된 결과물을 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법을 제공한다.According to the present invention, there is provided a method for manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of charging silica with a solvent into a stirrer, mixing the calcium source material and the silicon source material in a molar ratio of 1: 5 to 5: Adding a basic substance to the slurry so as to adjust pH to a range of 7 to 12, drying the pH-adjusted product, and drying the calcium source material and the silicon source material to crystallize A step of calcining the feldspar with a solvent at a temperature lower than the temperature to charge the feldspar with a solvent, mixing the calcium source material and the silicon source material in the molar ratio of 1: 5 to 5: 0.1 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the slurry, stirring the mixture, adding a basic substance to the slurry to adjust pH to 7 to 12, And calcining the calcined product at a temperature lower than the temperature at which the calcium source material and the silicon source material are crystallized to obtain an amorphous phase coated feldspar; mixing kaolin, clay, and amorphous phase coated silica and feldspar with water A step of mixing, a step of molding the mixed product, and a step of baking the resultant product. The present invention also provides a method of manufacturing a ceramic using the amorphous coating of a ceramic raw material.

상기 칼슘 소스 물질은, 칼슘아세테이트 모노하이드레이트(calcium acetate monohydrate)(Ca(CH3COO)2·H2O), 칼슘브로마이드 디하이드레이트(calcium bromide dihydrate)(CaBr2·2H2O), 탄산칼슘(carbonate)(CaCO3), 염화칼슘(CaCl2), 칼슘클로라이드 디하이드레이트(calcium chloride dihydrate)(CaCl2·2H2O), 칼슘시트레이트 테트라하이드레이트(calcium citrate tetrahydrate)(Ca3(C6H5O7)2·4H2O), 칼슘플루오라이드(calcium fluoride)(CaF2), 칼슘하이드라이드(calcium hydride)(H2Ca), 칼슘하이드록사이드(calcium hydroxide)(Ca(OH)2), 칼슘하이포클로라이트(calcium hypochlorite)(Ca(OCl)2), 칼슘나이트레이트 테트라하이드레이트(calcium nitrate tetrahydrate)(Ca(NO3)2·4H2O), 칼슘옥사레이트 모노하이드레이트(calcium oxalate monohydrate)((COO)2Ca·H2O), 칼슘옥사이드(calcium oxide)(CaO), 칼슘프로파이오네이트(calcium propionate)((CH3CH2COO)2Ca), 칼슘스테아레이트(calcium stearate)(Ca[CH3(CH2)16COO]2), 황산칼슘(CaSO4), 칼슘설페이트 디하이드레이트(calciumsulfate dihydrate)(CaSO4·2H2O) 및 칼슘설페이트 헤미하이드레이트(calciumsulfate hemihydrate)(CaSO4·1/2H2O) 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어질 수 있다.The calcium source material, calcium acetate monohydrate (calcium acetate monohydrate) (Ca ( CH 3 COO) 2 · H 2 O), calcium bromide dihydrate (calcium bromide dihydrate) (CaBr 2 · 2H 2 O), calcium carbonate ( calcium carbonate (CaCO 3 ), calcium chloride (CaCl 2 ), calcium chloride dihydrate (CaCl 2 .2H 2 O), calcium citrate tetrahydrate (Ca 3 (C 6 H 5 O 7 ) 2 .4H 2 O), calcium fluoride (CaF 2 ), calcium hydride (H 2 Ca), calcium hydroxide (Ca (OH) 2 ) Calcium hypochlorite (Ca (OCl) 2 ), calcium nitrate tetrahydrate (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O), calcium oxalate monohydrate (calcium oxalate monohydrate) (COO) 2 Ca.H 2 O), calcium oxide (CaO), calcium propionate e) ((CH 3 CH 2 COO) 2 Ca), calcium stearate (Ca [CH 3 (CH 2 ) 16 COO] 2 ), calcium sulfate (CaSO 4 ), calcium sulfate dihydrate ) CaSO 4 .2H 2 O and calciumsulfate hemihydrate (CaSO 4 .1 / 2H 2 O).

상기 실리콘 소스 물질은, 칼슘실리케이트(calcium silicate)(CaSiO3), 칼슘실리케이트 하이드레이트(calcium silicate hydrate)(CaSiO3·nH2O, n은 양의 실수), 칼륨실리케이트(potassium silicate)(K2SiO3), 소듐헥사플루오로실리케이트(sodium hexafluorosilicate)(Na2SiF6), 소듐메타실리케이트(sodium metasilicate)(Na2SiO3), 소듐메타실리케이트 노나하이드레이트(sodium metasilicate nonahydrate)(Na2SiO3·9H2O), 소듐메타실리케이트 펜타하이드레이트(sodium metasilicate pentahydrate)(Na2SiO3·5H2O), 소듐오르소실리케이트 하이드레이트(sodium orthosilicate hydrate)(2Na2O·SiO2·nH2O, n은 양의 실수), 소듐실리코플루오라이드(sodium silicofluoride)(Na2SiF6), 테트라아릴 오르소실리케이트(tetraallyl orthosilicate)(C12H20O4Si), 테트라에틸 오르소실리케이트(tetraethyl orthosilicate)(Si(OC2H5)4), 테트라메틸암모늄 실리케이트(tetramethylammonium silicate)((CH3)4N(OH)·2SiO2), 테트라메틸 오르소실리케이트(tetramethyl orthosilicate)(Si(OCH3)4), 테트라프로필 오르소실리케이트(tetrapropyl orthosilicate) 및 테트라부틸 오르소실리케이트(tetrabutyl orthosilicate) 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어질 수 있다. Wherein the silicon source material is selected from the group consisting of calcium silicate (CaSiO 3 ), calcium silicate hydrate (CaSiO 3 .nH 2 O, n being a positive real number), potassium silicate (K 2 SiO 3 ), sodium hexafluorosilicate (Na 2 SiF 6 ), sodium metasilicate (Na 2 SiO 3 ), sodium metasilicate nonahydrate (Na 2 SiO 3 .9H 2 O), sodium metasilicate pentahydrate (Na 2 SiO 3 .5H 2 O), sodium orthosilicate hydrate (2Na 2 O SiO 2 .nH 2 O, , Sodium silicate fluoride (Na 2 SiF 6 ), tetraallyl orthosilicate (C 12 H 20 O 4 Si), tetraethyl orthosilicate (Si ( OC 2 H 5) 4), tetramethyl ammonium Silicate (tetramethylammonium silicate) ((CH 3 ) 4 N (OH) · 2SiO 2), tetramethyl ortho silicate (tetramethyl orthosilicate) (Si (OCH 3) 4), tetrapropyl orthosilicate (tetrapropyl orthosilicate) and tetrabutyl And tetrabutyl orthosilicate. The term " tetrabutyl orthosilicate "

상기 염기성 물질은, 수산화암모늄(ammonium hydroxide), 리튬하이드록사이드 모노하이드레이트(lithium hydroxide monohydrate)(HLiO·H2O), 수산화칼륨(potassium hydroxide), 소듐아마이드(sodium amide) 및 수산화나트륨(sodium hydroxide) 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어질 수 있다.The basic substance may be at least one selected from the group consisting of ammonium hydroxide, lithium hydroxide monohydrate (HLiO.H 2 O), potassium hydroxide, sodium amide and sodium hydroxide ). ≪ / RTI >

상기 칼슘 소스 물질은 칼슘나이트레이트 테트라하이드레이트(Ca(NO3)2·4H2O) 이고, 상기 실리콘 소스 물질은 테트라에틸 오르소실리케이트(Si(OC2H5)4)이며, 상기 염기성 물질은 수산화암모늄(ammonium hydroxide)일 수 있다.Wherein the calcium source material is calcium nitrate tetrahydrate (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O), the silicon source material is tetraethylorthosilicate (Si (OC 2 H 5 ) 4 ) It may be ammonium hydroxide.

상기 소성은 1125∼1300℃의 온도에서 이루어지는 것이 바람직하다.The firing is preferably performed at a temperature of 1125 to 1300 캜.

상기 하소는 500∼1000℃의 온도에서 산화 분위기에서 이루어지는 것이 바람직하다.The calcination is preferably carried out in an oxidizing atmosphere at a temperature of 500 to 1000 캜.

상기 장석은 네펠린 사이어나이트로 이루어질 수 있다.The feldspar may consist of nephelin cyanite.

상기 카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계에서, 상기 카올린 25∼34중량%, 상기 점토 5∼10중량%, 비정질상이 코팅된 규석 29∼39중량% 및 비정질상이 코팅된 장석 25∼34중량%를 혼합하며, 상기 카올린, 상기 점토, 비정질상이 코팅된 상기 규석 및 비정질상이 코팅된 상기 장석의 고형분이 50∼70중량%를 이루도록 상기 물을 혼합하는 것이 바람직하다.In the step of mixing the kaolin, the clay, and the amorphous phase coated silica and feldspar with the water, the kaolin, the clay, the clay, the amorphous phase coated silica, and the amorphous phase The water is mixed so that the solid content of the feldspar coated with the kaolin, the clay and the amorphous phase coated with the amorphous phase is 50 to 70% by weight.

상기 카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계에서, 분산성을 개선하기 위하여 카올린, 점토, 비정질상이 코팅된 규석 및 비정질상이 코팅된 장석의 고형분 100중량부에 대하여 벤질트리메틸암모늄 하이드록사이드(benzyltrimethylammonium hydroxide)(C10H17NO), 디에틸아민(diethylamine)(C4H11N), 에틸아민(ethylamine), 프로필아민(propylamine), 부틸아민(butylamine), 펜틸아민(pentyl amine), 메틸아민(methylamine)(CH5N), 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드(tetramethyl ammonium hydroxide), 테트라에틸 암모늄 하이드록사이드(tetraethyl ammonium hydroxide), 테트라프로필 암모늄 하이드록사이드(tetrapropyl ammonium hydroxide) 및 테트라부틸 암모늄 하이드록사이드(tetrabutyl ammonium hydroxide) 중에서 선택된 1종 이상의 물질 0.001∼3중량부를 첨가할 수 있다.
In order to improve dispersibility, 100 parts by weight of the solid content of feldspar coated with kaolin, clay, amorphous phase and silica coated with amorphous phase was mixed with benzyl Benzyltrimethylammonium hydroxide (C 10 H 17 NO), diethylamine (C 4 H 11 N), ethylamine, propylamine, butylamine, pentyl But are not limited to, pentyl amine, methylamine (CH 5 N), tetramethyl ammonium hydroxide, tetraethyl ammonium hydroxide, tetrapropyl ammonium and 0.001 to 3 parts by weight of at least one material selected from tetrabutyl ammonium hydroxide and tetrabutyl ammonium hydroxide.

본 발명에 의하면, 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용함으로써 소성온도를 낮출 수 있고 파괴인성 및 꺽임강도를 개선할 수 있다.According to the present invention, by using the amorphous coating of the ceramic material, the firing temperature can be lowered and the fracture toughness and bending strength can be improved.

또한, 본 발명의 도자기 제조방법은, 제조 공정이 비교적 간단하고 재현성이 높으며, 비교적 저온의 온도에서 소성이 이루어지면서도 치밀화된 도자기를 얻을 수가 있다.
In addition, the method for manufacturing ceramics of the present invention can obtain a ceramics which is relatively simple, has high reproducibility, is densified while being fired at a relatively low temperature.

도 1은 소결온도(sintering temperature)에 따른 파괴인성(fracture toughness)을 보여주는 그래프이다.
도 2는 실시예 3과 비교예 1에 따라 제조된 시편의 꺾임강도(flexural strength)를 보여주는 그래프이다.
도 3은 소결온도(sintering)에 따른 밀도(density) 변화를 주는 그래프이다.
도 4a 내지 도 4e는 비교예 1에 따라 제조된 시편으로서 1230℃에서 소성이 이루어진 경우를 보여주는 주사전자현미경(scanning electron microscope; SEM) 사진들이다.
도 5a 내지 도 5e는 실시예 1에 따라 제조된 시편으로서 1175℃에서 소성이 이루어진 경우를 보여주는 주사전자현미경(SEM) 사진들이다.
1 is a graph showing fracture toughness with respect to sintering temperature.
Fig. 2 is a graph showing the flexural strength of the specimen produced according to Example 3 and Comparative Example 1. Fig.
3 is a graph showing a density change according to sintering temperature.
4A to 4E are scanning electron microscope (SEM) photographs showing a case where firing was performed at 1,230 ° C. as a test piece manufactured according to Comparative Example 1. FIG.
5A to 5E are scanning electron microscope (SEM) photographs showing the case where firing was performed at 1175 DEG C as a specimen manufactured according to Example 1. Fig.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, it should be understood that the following embodiments are provided so that those skilled in the art will be able to fully understand the present invention, and that various modifications may be made without departing from the scope of the present invention. It is not.

도자기는 도기(陶器)와 자기(磁器)를 포함하는 용어이다. 도자기에는 점토, 장석, 규석, 도석 등의 원료가 주로 사용되며, 도자기는 이들 원료를 일정 비율로 혼합하여 성형한 다음 소성하여 경화시킨 제품을 말한다. 도기는 흡수율이 크므로 두드려 보았을 때 탁한 음을 내고 내구성이 비교적 약하다. 자기는 흡수율이 거의 없어 두드려 보았을 때 맑은 음을 내고 내구성이 뛰어나다. 이하에서, 도자기라 함은 도기와 자기를 포함하는 의미로 사용한다. Pottery is a term that includes pottery and porcelain. Ceramics are mainly made of materials such as clay, feldspar, quartz and stoneware, and ceramics are products obtained by mixing and molding these materials at a certain ratio, followed by firing and curing. Pottery has a high absorption rate, so it produces a dull sound when tapped and has a relatively low durability. It has a low absorption rate and gives a clear sound when touched and has excellent durability. In the following, the term porcelain is used to mean both porcelain and porcelain.

본 발명은, 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용함으로써 소성온도를 낮출 수 있고 파괴인성 및 꺽임강도를 개선할 수 있는 도자기의 제조방법을 제시한다. The present invention provides a method of manufacturing ceramics capable of lowering the firing temperature and improving fracture toughness and bending strength by using an amorphous coating of a ceramic material.

본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법은, 규석 및 장석을 용매와 함께 교반기에 장입하는 단계, 상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 규석과 상기 장석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하는 단계, 교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하는 단계, pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 규석과 장석을 얻는 단계, 카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계, 혼합된 결과물을 성형하는 단계 및 성형된 결과물을 소성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a ceramic using amorphous coating of a ceramic material according to a first preferred embodiment of the present invention comprises the steps of charging silica and feldspar together with a solvent into a stirrer, mixing the calcium source material and the silicon source material at a ratio of 1: To 5: 1 by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the feldspar and the feldspar, and adding a basic substance to the slurry to adjust the pH to 7 to 12 A step of drying the pH controlled product and calcining at a temperature lower than the temperature at which the calcium source material and the silicon source material are crystallized to obtain an amorphous phase coated silica and feldspar; a step of calcining kaolin, clay and amorphous phase coated silica And feldspar with water, molding the mixed product, and calcining the molded product.

본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법은, 규석을 용매와 함께 교반기에 장입하는 단계, 상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 규석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하는 단계, 교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하는 단계, pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 규석을 얻는 단계, 장석을 용매와 함께 교반기에 장입하는 단계, 상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 장석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하는 단계, 교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하는 단계, pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 장석을 얻는 단계, 카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계, 혼합된 결과물을 성형하는 단계 및 성형된 결과물을 소성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a ceramic using amorphous coating of a ceramic material according to a second preferred embodiment of the present invention comprises the steps of charging silica into a stirrer together with a solvent, mixing the calcium source material and the silicon source material at a ratio of 1: : 1 to 0.1 part by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the silica, stirring the mixture, adding a basic substance to the slurry to adjust the pH to 7 to 12, Drying the resultant product and calcining the resultant product at a temperature lower than the temperature at which the calcium source material and the silicon source material are crystallized to obtain an amorphous phase coated silica; charging the feldspar with a solvent into an agitator; And silicon source material at a molar ratio of 1: 5 to 5: 1, based on 100 parts by weight of the total feldspathic content, Adding a basic substance to the resulting slurry to adjust the pH to a range of 7 to 12, drying the pH-adjusted product and calcining the calcium source material at a temperature lower than the temperature at which the silicon source material is crystallized, Obtaining calcined feldspar, mixing kaolin and clay, and amorphous phase coated silica and feldspar with water, molding the mixed product, and calcining the molded product.

이하에서, 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법을 더욱 상세하게 설명한다. Hereinafter, a method for producing ceramics using amorphous coating of ceramics raw material will be described in more detail.

도자기원료인 규석 및 장석을 용매와 함께 교반기에 장입한다. 상기 교반기는 볼 밀링기(ball milling machine)일 수 있다. 상기 규석 및 장석의 고형분이 50∼70중량%를 이루도록 상기 용매를 혼합하는 것이 바람직하다. 상기 용매는 이소프로필알코올(isopropyl alcohol; IPA), 에탄올, 증류수 등일 수 있다. 상기 장석은 네펠린 사이어나이트(nepheline syenite)로 이루어질 수 있다.The raw materials of ceramics, silica and feldspar, are charged into the agitator together with the solvent. The stirrer may be a ball milling machine. It is preferable to mix the solvent so that the solid content of the silica and the feldspar is 50 to 70 wt%. The solvent may be isopropyl alcohol (IPA), ethanol, distilled water, or the like. The feldspar may consist of a nepheline syenite.

상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 규석과 상기 장석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반한다. 0.1 to 15 parts by weight of a calcium source material and a silicon source material are added to the agitator in a molar ratio of 1: 5 to 5: 1 based on 100 parts by weight of the total content of the silica and the feldspar.

상기 칼슘 소스 물질은, 칼슘아세테이트 모노하이드레이트(calcium acetate monohydrate)(Ca(CH3COO)2·H2O), 칼슘브로마이드 디하이드레이트(calcium bromide dihydrate)(CaBr2·2H2O), 탄산칼슘(carbonate)(CaCO3), 염화칼슘(CaCl2), 칼슘클로라이드 디하이드레이트(calcium chloride dihydrate)(CaCl2·2H2O), 칼슘시트레이트 테트라하이드레이트(calcium citrate tetrahydrate)(Ca3(C6H5O7)2·4H2O), 칼슘플루오라이드(calcium fluoride)(CaF2), 칼슘하이드라이드(calcium hydride)(H2Ca), 칼슘하이드록사이드(calcium hydroxide)(Ca(OH)2), 칼슘하이포클로라이트(calcium hypochlorite)(Ca(OCl)2), 칼슘나이트레이트 테트라하이드레이트(calcium nitrate tetrahydrate)(Ca(NO3)2·4H2O), 칼슘옥사레이트 모노하이드레이트(calcium oxalate monohydrate)((COO)2Ca·H2O), 칼슘옥사이드(calcium oxide)(CaO), 칼슘프로파이오네이트(calcium propionate)((CH3CH2COO)2Ca), 칼슘스테아레이트(calcium stearate)(Ca[CH3(CH2)16COO]2), 황산칼슘(CaSO4), 칼슘설페이트 디하이드레이트(calciumsulfate dihydrate)(CaSO4·2H2O) 및 칼슘설페이트 헤미하이드레이트(calciumsulfate hemihydrate)(CaSO4·1/2H2O) 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어질 수 있다.The calcium source material, calcium acetate monohydrate (calcium acetate monohydrate) (Ca ( CH 3 COO) 2 · H 2 O), calcium bromide dihydrate (calcium bromide dihydrate) (CaBr 2 · 2H 2 O), calcium carbonate ( calcium carbonate (CaCO 3 ), calcium chloride (CaCl 2 ), calcium chloride dihydrate (CaCl 2 .2H 2 O), calcium citrate tetrahydrate (Ca 3 (C 6 H 5 O 7 ) 2 .4H 2 O), calcium fluoride (CaF 2 ), calcium hydride (H 2 Ca), calcium hydroxide (Ca (OH) 2 ) Calcium hypochlorite (Ca (OCl) 2 ), calcium nitrate tetrahydrate (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O), calcium oxalate monohydrate (calcium oxalate monohydrate) (COO) 2 Ca.H 2 O), calcium oxide (CaO), calcium propionate e) ((CH 3 CH 2 COO) 2 Ca), calcium stearate (Ca [CH 3 (CH 2 ) 16 COO] 2 ), calcium sulfate (CaSO 4 ), calcium sulfate dihydrate ) CaSO 4 .2H 2 O and calciumsulfate hemihydrate (CaSO 4 .1 / 2H 2 O).

상기 실리콘 소스 물질은, 칼슘실리케이트(calcium silicate)(CaSiO3), 칼슘실리케이트 하이드레이트(calcium silicate hydrate)(CaSiO3·nH2O, n은 양의 실수), 칼륨실리케이트(potassium silicate)(K2SiO3), 소듐헥사플루오로실리케이트(sodium hexafluorosilicate)(Na2SiF6), 소듐메타실리케이트(sodium metasilicate)(Na2SiO3), 소듐메타실리케이트 노나하이드레이트(sodium metasilicate nonahydrate)(Na2SiO3·9H2O), 소듐메타실리케이트 펜타하이드레이트(sodium metasilicate pentahydrate)(Na2SiO3·5H2O), 소듐오르소실리케이트 하이드레이트(sodium orthosilicate hydrate)(2Na2O·SiO2·nH2O, n은 양의 실수), 소듐실리코플루오라이드(sodium silicofluoride)(Na2SiF6), 테트라아릴 오르소실리케이트(tetraallyl orthosilicate)(C12H20O4Si), 테트라에틸 오르소실리케이트(tetraethyl orthosilicate)(Si(OC2H5)4), 테트라메틸암모늄 실리케이트(tetramethylammonium silicate)((CH3)4N(OH)·2SiO2), 테트라메틸 오르소실리케이트(tetramethyl orthosilicate)(Si(OCH3)4), 테트라프로필 오르소실리케이트(tetrapropyl orthosilicate) 및 테트라부틸 오르소실리케이트(tetrabutyl orthosilicate) 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어질 수 있다. Wherein the silicon source material is selected from the group consisting of calcium silicate (CaSiO 3 ), calcium silicate hydrate (CaSiO 3 .nH 2 O, n being a positive real number), potassium silicate (K 2 SiO 3 ), sodium hexafluorosilicate (Na 2 SiF 6 ), sodium metasilicate (Na 2 SiO 3 ), sodium metasilicate nonahydrate (Na 2 SiO 3 .9H 2 O), sodium metasilicate pentahydrate (Na 2 SiO 3 .5H 2 O), sodium orthosilicate hydrate (2Na 2 O SiO 2 .nH 2 O, , Sodium silicate fluoride (Na 2 SiF 6 ), tetraallyl orthosilicate (C 12 H 20 O 4 Si), tetraethyl orthosilicate (Si ( OC 2 H 5) 4), tetramethyl ammonium Silicate (tetramethylammonium silicate) ((CH 3 ) 4 N (OH) · 2SiO 2), tetramethyl ortho silicate (tetramethyl orthosilicate) (Si (OCH 3) 4), tetrapropyl orthosilicate (tetrapropyl orthosilicate) and tetrabutyl And tetrabutyl orthosilicate. The term " tetrabutyl orthosilicate "

상기 교반은 볼 밀링 공정을 이용할 수 있다. 상기 볼 밀링 공정에 대하여 설명하면, 규석, 장석, 칼슘 소스 물질, 실리콘 소스 물질 및 용매가 담겨있는 볼 밀링기(ball milling machine)를 이용하여 일정 속도로 회전시켜 교반한다. 상기 볼 밀링에 사용되는 볼은 알루미나, 지르코니아와 같은 세라믹 재질의 볼을 사용하는 것이 바람직하며, 볼은 모두 같은 크기의 것일 수도 있고 2가지 이상의 크기를 갖는 볼을 함께 사용할 수도 있다. 볼의 크기, 밀링 시간, 볼 밀링기의 분당 회전속도 등을 조절한다. 예를 들면, 입자의 크기를 고려하여 볼의 크기는 1㎜∼50㎜ 정도의 범위로 설정하고, 볼 밀링기의 회전속도는 50∼500rpm 정도의 범위로 설정할 수 있다. 볼 밀링은 1∼48시간 동안 실시하는 것이 바람직하다. 볼 밀링에 의해 규석과 장석은 미세한 크기의 입자로 분쇄되고, 균일한 입자 크기 분포를 갖게 된다. 상기와 같이 교반에 의해 규석과 장석은 미분화되어 슬러리(slurry) 상태를 이루고 있다. The stirring may use a ball milling process. The ball milling process will be described with reference to a ball milling machine containing silica, feldspar, a calcium source material, a silicon source material, and a solvent. The ball used for the ball milling is preferably a ceramic ball such as alumina or zirconia, and the balls may be all the same size or may be used together with balls having two or more sizes. The size of the ball, the milling time, and the rotation speed per minute of the ball miller. For example, in consideration of the size of the particles, the size of the balls may be set in the range of about 1 mm to 50 mm, and the rotational speed of the ball miller may be set in the range of about 50 to 500 rpm. The ball milling is preferably performed for 1 to 48 hours. By ball milling, silica and feldspar are pulverized into fine sized particles and have a uniform particle size distribution. By stirring as described above, the silica and the feldspar are pulverized to form a slurry state.

교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절한다. 염기성 물질은 pH가 7∼12가 될 때까지 천천히 첨가하고 소정 시간(예컨대, 10분∼48시간) 동안 교반하는 것이 바람직하다. A basic substance is added to the slurry obtained by stirring to adjust the pH to 7 to 12. The basic substance is preferably slowly added until the pH is 7 to 12 and stirred for a predetermined time (for example, 10 minutes to 48 hours).

상기 염기성 물질은, 수산화암모늄(ammonium hydroxide), 리튬하이드록사이드 모노하이드레이트(lithium hydroxide monohydrate)(HLiO·H2O), 수산화칼륨(potassium hydroxide), 소듐아마이드(sodium amide) 및 수산화나트륨(sodium hydroxide) 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어질 수 있다.The basic substance may be at least one selected from the group consisting of ammonium hydroxide, lithium hydroxide monohydrate (HLiO.H 2 O), potassium hydroxide, sodium amide and sodium hydroxide ). ≪ / RTI >

pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 규석과 장석을 얻는다. 상기 건조는 60∼180℃의 온도에서 10분∼24시간 동안 수행하는 것이 바람직하다. 상기 하소는 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 500∼1000℃의 온도에서 산화 분위기(예컨대, 산소 또는 공기(air) 분위기)에서 이루어지는 것이 바람직하다. 상기 하소는 10분∼24시간 동안 수행하는 것이 바람직하다. 상기 하소에 의해 칼슘 소스 물질, 실리콘 소스 물질 및 염기성 물질에 함유된 유기물 성분 등은 태워져 없어지게 된다. The pH controlled product is dried and calcined at a temperature below the temperature at which the calcium source material and the silicon source material are crystallized to obtain amorphous phase coated silica and feldspar. The drying is preferably performed at a temperature of 60 to 180 DEG C for 10 minutes to 24 hours. The calcination is preferably performed in an oxidizing atmosphere (for example, oxygen or air atmosphere) at a temperature of 500 to 1000 DEG C lower than a temperature at which the calcium source material and the silicon source material are crystallized. The calcination is preferably performed for 10 minutes to 24 hours. By the calcination, the calcium source material, the silicon source material, and the organic component contained in the basic substance are burned away.

앞서의 실시예에서는 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 함께 혼합하여 비정질상을 코팅하는 방법을 설명하였으나, 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질에 대하여 각각 별도로 비정질상을 코팅할 수도 있으며 이 경우 비정질상의 코팅 방법은 앞서의 설명과 동일한 방식을 이용할 수 있음은 물론이다. 보다 구체적으로 설명하면, 규석을 용매와 함께 교반기에 장입하고, 상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 규석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하며, 교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하고, pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 규석을 얻을 수 있다. 장석을 용매와 함께 교반기에 장입하고, 상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 장석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하며, 교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하고, pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 장석을 얻을 수 있다.Although the method of coating the amorphous phase by mixing the calcium source material and the silicon source material together has been described in the foregoing embodiments, the amorphous phase may be separately coated on the calcium source material and the silicon source material. In this case, It is needless to say that the same method as the description of FIG. More specifically, the silica is charged into a stirrer together with a solvent, and the calcium source material and the silicon source material are mixed in a molar ratio of 1: 5 to 5: 1 in the agitator in an amount of 0.1 to 15 Adding a basic component to the slurry to adjust the pH to a range of 7 to 12, drying the pH-adjusted product, and drying the calcium source material and the silicon source material at a temperature lower than the crystallization temperature Calcined at temperatures to obtain amorphous coated silicates. The feldspar is charged into a stirrer together with a solvent and 0.1 to 15 parts by weight of a calcium source material and a silicon source material are added to the stirrer in a molar ratio of 1: 5 to 5: 1, based on 100 parts by weight of the total feldspar, A basic substance is added to the slurry to adjust the pH to a range of 7 to 12, and the pH-adjusted product is dried and calcined at a temperature lower than the temperature at which the calcium source material and the silicon source material are crystallized, Coated feldspar can be obtained.

상기와 같은 공정을 통해 규석과 장석의 표면에는 CaO-SiO2 비정질상이 코팅되게 된다. 규석과 장석의 비정질상 코팅을 이용함으로써 소성온도를 낮출 수 있고 파괴인성 및 꺽임강도를 개선할 수가 있다.Through the above process, CaO-SiO 2 amorphous phase is coated on the surface of the silica and feldspar. By using the amorphous coating of silica and feldspar, the firing temperature can be lowered and fracture toughness and bending strength can be improved.

카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합한다. 이때, 상기 카올린 25∼34중량%, 상기 점토 5∼10중량%, 비정질상이 코팅된 규석 29∼39중량% 및 비정질상이 코팅된 장석 25∼34중량%를 혼합하는 것이 바람직하며, 상기 카올린, 상기 점토, 비정질상이 코팅된 상기 규석 및 비정질상이 코팅된 상기 장석의 고형분이 50∼70중량%를 이루도록 상기 물을 혼합하는 것이 바람직하다. 이때, 분산성을 개선하기 위하여 상기 고형분 100중량부에 대하여 벤질트리메틸암모늄 하이드록사이드(benzyltrimethylammonium hydroxide)(C10H17NO), 디에틸아민(diethylamine)(C4H11N), 에틸아민(ethylamine), 프로필아민(propylamine), 부틸아민(butylamine), 펜틸아민(pentyl amine), 메틸아민(methylamine)(CH5N), 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드(tetramethyl ammonium hydroxide), 테트라에틸 암모늄 하이드록사이드(tetraethyl ammonium hydroxide), 테트라프로필 암모늄 하이드록사이드(tetrapropyl ammonium hydroxide) 및 테트라부틸 암모늄 하이드록사이드(tetrabutyl ammonium hydroxide) 중에서 선택된 1종 이상의 물질 0.001∼3중량부 첨가할 수 있다.Kaolin, clay, and amorphous coated silica and feldspar are mixed with water. The kaolin, the clay, the clay, the amorphous phase-coated silica and the amorphous phase-coated feldspar are mixed preferably in an amount of 25 to 34 wt%, 5 to 10 wt% of the clay, 29 to 39 wt% It is preferable that the water is mixed so that the solid content of the feldspar coated with the clay and the amorphous phase coated with the silica and amorphous phase is 50 to 70 wt%. In order to improve the dispersibility, benzyltrimethylammonium hydroxide (C 10 H 17 NO), diethylamine (C 4 H 11 N), and ethylamine (100 parts by weight) were added to 100 parts by weight of the solid content ethylamine, propylamine, butylamine, pentylamine, methylamine (CH 5 N), tetramethyl ammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide 0.001 to 3 parts by weight of at least one material selected from the group consisting of tetraethyl ammonium hydroxide, tetrapropyl ammonium hydroxide and tetrabutyl ammonium hydroxide can be added.

상기 혼합은 볼 밀링 공정을 이용할 수 있다. 상기 볼 밀링 공정에 대하여 설명하면, 비정질상이 코팅된 규석, 비정질상이 코팅된 장석, 카올린, 점토 및 증류수가 담겨있는 볼 밀링기(ball milling machine)를 이용하여 일정 속도로 회전시켜 혼합한다. 상기 볼 밀링에 사용되는 볼은 알루미나, 지르코니아와 같은 세라믹 재질의 볼을 사용하는 것이 바람직하며, 볼은 모두 같은 크기의 것일 수도 있고 2가지 이상의 크기를 갖는 볼을 함께 사용할 수도 있다. 볼의 크기, 밀링 시간, 볼 밀링기의 분당 회전속도 등을 조절한다. 예를 들면, 입자의 크기를 고려하여 볼의 크기는 1㎜∼50㎜ 정도의 범위로 설정하고, 볼 밀링기의 회전속도는 50∼500rpm 정도의 범위로 설정할 수 있다. 볼 밀링은 1∼48시간 동안 실시하는 것이 바람직하다. 볼 밀링에 의해 규석, 장석, 카올린 및 점토는 미세한 크기의 입자로 분쇄되고, 균일한 입자 크기 분포를 갖게 된다. 상기와 같이 혼합에 의해 슬러리(slurry) 상태를 이루고 있으며, 슬러리를 건조한다. 상기 건조는 60∼180℃의 온도에서 10분∼24시간 동안 수행하는 것이 바람직하다. 건조된 결과물에 대하여 원하는 크기기 이하의 입자만을 사용하기 위하여 체(sieve) 분급을 실시할 수도 있다.The mixing may utilize a ball milling process. The ball milling process is performed by rotating the ball milling machine at a constant speed using a ball milling machine containing amorphous phase coated silica, amorphous phase coated feldspar, kaolin, clay and distilled water. The ball used for the ball milling is preferably a ceramic ball such as alumina or zirconia, and the balls may be all the same size or may be used together with balls having two or more sizes. The size of the ball, the milling time, and the rotation speed per minute of the ball miller. For example, in consideration of the size of the particles, the size of the balls may be set in the range of about 1 mm to 50 mm, and the rotational speed of the ball miller may be set in the range of about 50 to 500 rpm. The ball milling is preferably performed for 1 to 48 hours. By ball milling, the silica, feldspar, kaolin and clay are pulverized into fine sized particles and have a uniform particle size distribution. The slurry is formed by mixing as described above, and the slurry is dried. The drying is preferably performed at a temperature of 60 to 180 DEG C for 10 minutes to 24 hours. Sieve classification may be performed to use only particles of a desired size or smaller with respect to the dried product.

혼합된 결과물을 성형한다. 상기 성형은 알반적으로 알려져 있는 주입 성형, 압출 성형 등의 다양한 방법을 이용할 수 있다. The mixed result is molded. The above-mentioned molding can be variously adopted, such as injection molding, extrusion molding, etc.

성형된 결과물을 소성한다. 이하에서, 소성 공정에 대하여 구체적으로 설명한다. The molded product is calcined. Hereinafter, the firing step will be described in detail.

성형된 결과물을 전기로와 같은 퍼니스(furnace)에 장입하고 소성 공정을 수행한다. 상기 소성 공정은 1125∼1300℃ 정도의 온도에서 10분∼48시간 정도 수행하는 것이 바람직하다. 소성하는 동안에 퍼니스 내부의 압력은 일정하게 유지하는 것이 바람직하다. The molded product is charged into a furnace such as an electric furnace, and a sintering process is performed. The firing step is preferably performed at a temperature of about 1125 to 1300 DEG C for about 10 minutes to 48 hours. It is desirable to keep the pressure inside the furnace constant during firing.

상기 소성은 1125∼1300℃ 범위의 온도에서 이루어지는 것이 바람직하다. 소성온도가 1125℃ 미만인 경우에는 불완전한 소성으로 인해 도자기의 열적 또는 기계적 특성이 좋지 않을 수 있고, 1300℃를 초과하는 경우에는 에너지의 소모가 많아 비경제적일 뿐만 아니라 과도한 입자성장을 가져와 도자기의 기계적 특성이 좋지 않을 수 있다. The firing is preferably performed at a temperature in the range of 1125 to 1300 ° C. If the sintering temperature is less than 1125 ° C, the thermal or mechanical properties of the ceramics may not be good due to incomplete sintering. If the sintering temperature is higher than 1300 ° C, energy consumption is high and not only economical but also excessive grain growth, This may not be good.

상기 소성온도까지는 1∼50℃/min의 승온속도로 상승시키는 것이 바람직한데, 승온 속도가 너무 느린 경우에는 시간이 오래 걸려 생산성이 떨어지고 승온 속도가 너무 빠른 경우에는 급격한 온도 상승에 의해 열적 스트레스가 가해질 수 있으므로 상기 범위의 승온 속도로 온도를 올리는 것이 바람직하다. The firing temperature is preferably raised at a heating rate of 1 to 50 ° C / min. If the heating rate is too slow, the time is long and productivity is deteriorated. If the heating rate is too high, thermal stress is applied due to a rapid temperature rise It is preferable to raise the temperature at the temperature raising rate in the above range.

또한, 상기 소성은 소성온도에서 10분∼48시간 동안 유지하는 것이 바람직하다. 소성 시간이 너무 긴 경우에는 에너지의 소모가 많으므로 비경제적일 뿐만 아니라 더 이상의 소성 효과를 기대하기 어려우며, 소성 시간이 작은 경우에는 불완전한 소성으로 인해 도자기의 물성이 좋지 않을 수 있다. The firing is preferably carried out at a firing temperature for 10 minutes to 48 hours. If the firing time is too long, it is not economical since the energy consumption is high. Further, it is difficult to expect further firing effect. If the firing time is small, the physical properties of the ceramic material may not be good due to incomplete firing.

또한, 상기 소성은 산화 분위기(예컨대, 산소(O2) 또는 공기(air) 분위기) 또는 환원 분위기에서 실시하는 것이 바람직하다. The firing is preferably carried out in an oxidizing atmosphere (for example, oxygen (O 2 ) or air atmosphere) or a reducing atmosphere.

소성 공정을 수행한 후, 퍼니스 온도를 하강시켜 도자기를 언로딩한다. 상기 퍼니스 냉각은 퍼니스 전원을 차단하여 자연적인 상태로 냉각되게 하거나, 임의적으로 온도 하강률(예컨대, 10℃/min)을 설정하여 냉각되게 할 수도 있다. 퍼니스 온도를 하강시키는 동안에도 퍼니스 내부의 압력은 일정하게 유지하는 것이 바람직하다.
After the firing process is performed, the furnace temperature is lowered to unload the ceramics. The furnace cooling may be effected by shutting down the furnace power source to cool it in a natural state, or optionally by setting a temperature decreasing rate (for example, 10 DEG C / min). It is preferable to keep the pressure inside the furnace constant even while the furnace temperature is being lowered.

이하에서, 본 발명에 따른 실시예들을 구체적으로 제시하며, 다음에 제시하는 실시예들에 본 발명이 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, embodiments according to the present invention will be specifically shown, and the present invention is not limited to the following embodiments.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

규석과 네펠린 사이어나이트(nepheline synite)에 비정질상을 코팅하였다. 비정질상 코팅 공정은 다음과 같이 이루어졌다. Silicate and nepheline synite were coated with amorphous phase. The amorphous coating process was as follows.

규석과 네펠린 사이어나이트를 이소프로필알코올(isopropyl alcohol; IPA)에 고형분 60중량%가 되도록 첨가하였다. 상기 규석과 상기 네펠린 사이어나이트는 29.5:34의 중량비로 첨가하였다. 상기 규석은 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였으며, 상기 네펠린 사이어나이트는 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였다. Silicate and nephelin cyanite were added to isopropyl alcohol (IPA) to a solids content of 60% by weight. The silica and the nephelin cyanite were added in a weight ratio of 29.5: 34. The silica used had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g and the nephelin cyanite had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g.

칼슘 소스인 질산칼슘(Ca(NO3)2·4H2O)과 실리콘 소스인 테트라에틸오르소실리케이트(tetraethly orthosilicate; TEOS)를 1:1의 몰비로 상기 고형분 100중량부에 대하여 1중량부 만큼 첨가하고, 2시간 동안 볼 밀링(ball milling) 하였다. 상기 볼 밀링은 200rpm 정도의 회전속도로 수행하였으며, 볼 밀링에 사용되는 볼은 알루미나 재질로 이루어진 10㎜ 크기의 볼을 사용하였다. 1 part by weight of calcium nitrate (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O) as a calcium source and tetraethly orthosilicate (TEOS) as a silicon source at a molar ratio of 1: 1 And ball milling was performed for 2 hours. The ball milling was performed at a rotating speed of about 200 rpm, and a ball used for ball milling was a 10 mm ball made of alumina.

상기와 같이 볼 밀링 공정을 거쳐 얻어진 슬러리(slurry)에 0.1몰의 수산화암모늄(Ammonium hydroxide)을 pH 9가 될 때까지 천천히 첨가하여 1시간 동안 교반한 후, 100℃의 오븐에서 건조하였다. To the slurry obtained through the ball milling process as described above, 0.1 mol of ammonium hydroxide was slowly added until the pH reached 9, and the mixture was stirred for 1 hour and then dried in an oven at 100 ° C.

건조된 결과물을 700℃의 온도로 승온하여 30분 동안 하소(calcination) 하였다. 700℃ 까지는 5℃/min의 승온속도로 승온하였다. 상기 하소는 공기(air) 분위기에서 수행하였다. The dried product was heated to a temperature of 700 캜 and calcined for 30 minutes. And the temperature was raised to 700 ° C at a heating rate of 5 ° C / min. The calcination was performed in an air atmosphere.

하소된 결과물을 분쇄하여 150㎛의 구멍 크기를 갖는 체(sieve)에 통과시켜 비정질상이 코팅된 규석과 네펠린 사이어나이트 분말을 얻었다. The calcined product was pulverized and passed through a sieve having a pore size of 150 mu m to obtain amorphous phase coated silica and nephelin cyanite powder.

비정질상이 코팅된 규석과 네펠린 사이어나이트(nepheline synite) 분말에 카올린(Kaolin)과 점토(ball clay)를 혼합하여 출발원료로 사용하였다. Kaolin and clay were mixed with amorphous coated silicate and nepheline synite powder and used as a starting material.

증류수에 비정질상이 코팅된 규석과 네펠린 사이어나이트, 그리고 카올린과 볼 클레이(ball clay)를 고형분 60중량%가 되도록 첨가하였다. 비정질상이 코팅된 규석과 네펠린 사이어나이트, 그리고 카올린과 볼 클레이는 중량비로 63.5:29.2:7.3(비정질상이 코팅된 규석과 네펠린 사이어나이트의 합한 함량:카올린의 함량:볼 클레이의 함량)를 이루도록 첨가하였다. 분산제인 세라스퍼스(cerasperse) 5468CF (SAN NOPCO KOREA Ltd.)를 고형분 대비 0.2 mg/m2의 농도로 첨가하여 슬러리(slurry) 상태로 만들었다. Silica coated with amorphous phase, nephelin cyanite, and kaolin and ball clay were added to distilled water so that the solid content was 60% by weight. Amorphous coated quartz and nephelin cyanite, and kaolin and ball clay at a weight ratio of 63.5: 29.2: 7.3 (total content of amorphous coated quartz and nepelin cyanite: kaolin content: ball clay content) . Cerasperse 5468CF (SAN NOPCO KOREA Ltd.) as a dispersant was added at a concentration of 0.2 mg / m &lt; 2 &gt; relative to the solid content to form a slurry state.

균일한 슬러리를 얻기 위해 24시간 동안 볼 밀링(ball mill)을 수행하였다. 상기 볼 밀링은 200rpm 정도의 회전속도로 수행하였으며, 볼 밀링에 사용되는 볼은 알루미나 재질로 이루어진 10㎜ 크기의 볼을 사용하였다. A ball mill was performed for 24 hours to obtain a uniform slurry. The ball milling was performed at a rotating speed of about 200 rpm, and a ball used for ball milling was a 10 mm ball made of alumina.

슬러리를 100℃에서 24시간 동안 건조한 후 75㎛의 구멍 크기를 갖는 체(sieve)에 통과시켜 분말을 얻었다. The slurry was dried at 100 DEG C for 24 hours and then passed through a sieve having a pore size of 75 mu m to obtain a powder.

4g의 분말을 바(bar)형 금속몰드(10㎜×40㎜×50㎜)를 이용하여 0.5 ton/㎠의 압력으로 1분 동안 1축 가압성형하여 분말을 바(bar) 형태로 압축한 후, 2000bar에서 1분 동안 냉간 등방 가압성형(CIP ; Cold Isotatic Pressing)을 하였다. 4 g of the powder was uniaxially pressed for 1 minute at a pressure of 0.5 ton / cm 2 using a bar-shaped metal mold (10 mm x 40 mm x 50 mm) to compress the powder into a bar shape , And cold isotatic pressing (CIP) at 2000 bar for 1 minute.

이렇게 얻어진 성형체는 5ℓ/min의 유량으로 공급되는 N2 가스 분위기에서 850℃까지 2℃/min의 속도로 승온하였고, 5ℓ/min의 유량으로 공급되는 공기(air) 가스 분위기에서 소성온도(1125℃∼1300℃)까지 5℃/min의 속도로 승온시킨 다음, 소성온도에서 1시간 동안 유지하여 소성을 한 후, 상온까지 로냉하였다.
The thus obtained molded body was 5ℓ / in N 2 gas atmosphere in which the flow rate supplied to the min was raised to 2 ℃ / min rate to 850 ℃, 5ℓ / air flow rate supplied to the min (air) from the gas atmosphere, the sintering temperature (1125 ℃ To 1300 占 폚) at a rate of 5 占 폚 / min, followed by firing at a firing temperature for 1 hour, followed by cooling to room temperature.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

규석과 네펠린 사이어나이트를 이소프로필알코올(isopropyl alcohol; IPA)에 고형분 60중량%가 되도록 첨가하였다. 상기 규석과 상기 네펠린 사이어나이트는 29.5:34의 중량비로 첨가하였다. 상기 규석은 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였으며, 상기 네펠린 사이어나이트는 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였다.Silicate and nephelin cyanite were added to isopropyl alcohol (IPA) to a solids content of 60% by weight. The silica and the nephelin cyanite were added in a weight ratio of 29.5: 34. The silica used had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g and the nephelin cyanite had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g.

칼슘 소스인 질산칼슘(Ca(NO3)2·4H2O)과 실리콘 소스인 테트라에틸오르소실리케이트(tetraethly orthosilicate; TEOS)를 1:1의 몰비로 상기 고형분 100중량부에 대하여 2중량부 만큼 첨가하고, 2시간 동안 볼 밀링(ball milling) 하였다. 상기 볼 밀링은 200rpm 정도의 회전속도로 수행하였으며, 볼 밀링에 사용되는 볼은 알루미나 재질로 이루어진 10㎜ 크기의 볼을 사용하였다. (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O) as a calcium source and tetraethly orthosilicate (TEOS) as a silicon source at a molar ratio of 1: 1 to 2 parts by weight per 100 parts by weight of the solid content And ball milling was performed for 2 hours. The ball milling was performed at a rotating speed of about 200 rpm, and a ball used for ball milling was a 10 mm ball made of alumina.

이후의 공정은 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
The subsequent steps were carried out in the same manner as in Example 1 above.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

규석과 네펠린 사이어나이트를 이소프로필알코올(isopropyl alcohol; IPA)에 고형분 60중량%가 되도록 첨가하였다. 상기 규석과 상기 네펠린 사이어나이트는 29.5:34의 중량비로 첨가하였다. 상기 규석은 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였으며, 상기 네펠린 사이어나이트는 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였다.Silicate and nephelin cyanite were added to isopropyl alcohol (IPA) to a solids content of 60% by weight. The silica and the nephelin cyanite were added in a weight ratio of 29.5: 34. The silica used had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g and the nephelin cyanite had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g.

칼슘 소스인 질산칼슘(Ca(NO3)2·4H2O)과 실리콘 소스인 테트라에틸오르소실리케이트(tetraethly orthosilicate; TEOS)를 1:1의 몰비로 상기 고형분 100중량부에 대하여 5중량부 만큼 첨가하고, 2시간 동안 볼 밀링(ball milling) 하였다. 상기 볼 밀링은 200rpm 정도의 회전속도로 수행하였으며, 볼 밀링에 사용되는 볼은 알루미나 재질로 이루어진 10㎜ 크기의 볼을 사용하였다. (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O) as a calcium source and tetraethly orthosilicate (TEOS) as a silicon source at a molar ratio of 1: 1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content And ball milling was performed for 2 hours. The ball milling was performed at a rotating speed of about 200 rpm, and a ball used for ball milling was a 10 mm ball made of alumina.

이후의 공정은 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
The subsequent steps were carried out in the same manner as in Example 1 above.

<실시예 4><Example 4>

규석과 네펠린 사이어나이트를 이소프로필알코올(isopropyl alcohol; IPA)에 고형분 60중량%가 되도록 첨가하였다. 상기 규석과 상기 네펠린 사이어나이트는 29.5:34의 중량비로 첨가하였다. 상기 규석은 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였으며, 상기 네펠린 사이어나이트는 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였다.Silicate and nephelin cyanite were added to isopropyl alcohol (IPA) to a solids content of 60% by weight. The silica and the nephelin cyanite were added in a weight ratio of 29.5: 34. The silica used had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g and the nephelin cyanite had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g.

칼슘 소스인 질산칼슘(Ca(NO3)2·4H2O)과 실리콘 소스인 테트라에틸오르소실리케이트(tetraethly orthosilicate; TEOS)를 1:1의 몰비로 상기 고형분 100중량부에 대하여 10중량부 만큼 첨가하고, 2시간 동안 볼 밀링(ball milling) 하였다. 상기 볼 밀링은 200rpm 정도의 회전속도로 수행하였으며, 볼 밀링에 사용되는 볼은 알루미나 재질로 이루어진 10㎜ 크기의 볼을 사용하였다. (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O) as a calcium source and tetraethly orthosilicate (TEOS) as a silicon source at a molar ratio of 1: 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content And ball milling was performed for 2 hours. The ball milling was performed at a rotating speed of about 200 rpm, and a ball used for ball milling was a 10 mm ball made of alumina.

이후의 공정은 상기 실시예 1과 동일하게 진행하였다.
The subsequent steps were carried out in the same manner as in Example 1 above.

상기의 실시예 1 내지 실시예 4의 특성을 보다 용이하게 파악할 수 있도록 본 발명의 실시예들과 비교할 수 있는 비교예를 제시한다. 후술하는 비교예 1은 실시예들의 특성과 단순히 비교하기 위하여 제시하는 것으로 본 발명의 선행기술이 아님을 밝혀둔다.A comparative example that can be compared with the embodiments of the present invention is shown in order to more easily grasp the characteristics of the first to fourth embodiments. It is to be noted that Comparative Example 1 described below is provided merely for comparison with the characteristics of the embodiments, and is not a prior art of the present invention.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

규석과 네펠린 사이어나이트(nepheline synite)에 카올린(Kaolin)과 점토(ball clay)를 혼합하여 출발원료로 사용하였다. 상기 규석은 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였으며, 상기 네펠린 사이어나이트는 비표면적이 1㎡/g인 것을 사용하였다.Zeolite and nepheline synite were mixed with kaolin and ball clay and used as a starting material. The silica used had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g and the nephelin cyanite had a specific surface area of 1 m &lt; 2 &gt; / g.

증류수에 규석과 네펠린 사이어나이트, 그리고 카올린과 볼 클레이(ball clay)를 고형분 60중량%가 되도록 첨가하였다. 규석, 네펠린 사이어나이트, 카올린및 볼 클레이는 중량비로 29.5:34:29.2:7.3(규석의 함량:네펠린 사이어나이트의 함량:카올린의 함량:볼 클레이의 함량)를 이루도록 첨가하였다. 분산제인 세라스퍼스(cerasperse) 5468CF (SAN NOPCO KOREA Ltd.)를 고형분 대비 0.2 mg/m2의 농도로 첨가하여 슬러리(slurry) 상태로 만들었다. Silicate and nephelin cyanite were added to distilled water, and kaolin and ball clay were added to a solid content of 60% by weight. Silicate, nephelin cyanite, kaolin and ball clay were added in a weight ratio of 29.5: 34: 29.2: 7.3 (content of silicate: content of nephelin cyanite: content of kaolin: content of ball clay). Cerasperse 5468CF (SAN NOPCO KOREA Ltd.) as a dispersant was added at a concentration of 0.2 mg / m &lt; 2 &gt; relative to the solid content to form a slurry state.

균일한 슬러리를 얻기 위해 24시간 동안 볼 밀링(ball mill)을 수행하였다. 상기 볼 밀링은 200rpm 정도의 회전속도로 수행하였으며, 볼 밀링에 사용되는 볼은 알루미나 재질로 이루어진 10㎜ 크기의 볼을 사용하였다. A ball mill was performed for 24 hours to obtain a uniform slurry. The ball milling was performed at a rotating speed of about 200 rpm, and a ball used for ball milling was a 10 mm ball made of alumina.

슬러리를 100℃에서 24시간 동안 건조한 후 75㎛의 구멍 크기를 갖는 체(sieve)에 통과시켜 분말을 얻었다. The slurry was dried at 100 DEG C for 24 hours and then passed through a sieve having a pore size of 75 mu m to obtain a powder.

4g의 분말을 바(bar)형 금속몰드(10㎜×40㎜×50㎜)를 이용하여 0.5 ton/㎠의 압력으로 1분 동안 1축 가압성형하여 분말을 바(bar) 형태로 압축한 후, 2000bar에서 1분 동안 냉간 등방 가압성형(CIP ; Cold Isotatic Pressing)을 하였다. 4 g of the powder was uniaxially pressed for 1 minute at a pressure of 0.5 ton / cm 2 using a bar-shaped metal mold (10 mm x 40 mm x 50 mm) to compress the powder into a bar shape , And cold isotatic pressing (CIP) at 2000 bar for 1 minute.

이렇게 얻어진 성형체는 5ℓ/min의 유량으로 공급되는 N2 가스 분위기에서 850℃까지 2℃/min의 속도로 승온하였고, 5ℓ/min의 유량으로 공급되는 공기(air) 가스 분위기에서 소성온도(1125℃∼1300℃)까지 5℃/min의 속도로 승온시킨 다음, 소성온도에서 1시간 동안 유지하여 소성을 한 후, 상온까지 로냉하였다.
The thus obtained molded body was 5ℓ / in N 2 gas atmosphere in which the flow rate supplied to the min was raised to 2 ℃ / min rate to 850 ℃, 5ℓ / air flow rate supplied to the min (air) from the gas atmosphere, the sintering temperature (1125 ℃ To 1300 占 폚) at a rate of 5 占 폚 / min, followed by firing at a firing temperature for 1 hour, followed by cooling to room temperature.

실시예 1 내지 실시예 4 및 비교예에 따라 제조된 시편의 특성을 평가하기 위하여 파괴인성, 꺽임강도 및 밀도를 측정하여 그 실험 결과들을 아래에 나타내었다.Fracture toughness, bending strength and density were measured to evaluate the characteristics of the specimens prepared according to Examples 1 to 4 and Comparative Examples, and the experimental results are shown below.

파괴인성을 측정하기 위하여 시편을 제작하였다. 시편은 소결체를 4㎜(W)×3㎜(B)×30㎜(L) 크기의 평행육면체 형태로 가공하여 제작하였으며, 초경 블레이드(blade)를 이용하여 시편에 깊이 1.2㎜의 V형 노치를 내었다. UTM(universal testing machine, Inspekt table 250KN, Hegewald & Peschke)을 이용하여 지지대 간 거리 16㎜에 0.5㎜/min의 크로스 헤드(cross head) 속도로 시편의 파괴 하중을 측정하였으며, 파괴인성 값은 아래의 수학식 1 내지 수학식 3을 이용하여 계산되었다. Specimens were prepared to measure fracture toughness. The specimen was fabricated by machining a sintered body into a parallelepiped shape with a size of 4 mm (W) x 3 mm (B) x 30 mm (L). Using a cemented blade, a V- I got it. Using a universal testing machine (Inspect table 250KN, Hegewald & Peschke, UTM), the fracture load of the specimen was measured at a crosshead speed of 0.5 mm / min at a distance of 16 mm between the supports. Was calculated using Equations (1) to (3).

[수학식 1][Equation 1]

Figure 112012105833467-pat00001
Figure 112012105833467-pat00001

[수학식 2]&Quot; (2) &quot;

Figure 112012105833467-pat00002
Figure 112012105833467-pat00002

[수학식 3]&Quot; (3) &quot;

Figure 112012105833467-pat00003
Figure 112012105833467-pat00003

여기서, K는 파괴인성(Fracture toughness)(MPa·m0.5)이고, P는 파괴하중(Fracture load)(MN)이며, B는 시편두께(Thickness of specimen)(m)이고, α는 초기 프리크랙의 길이(Initial precrack relative length)(m)이며, S는 지지대 간 거리(Support span)(m)이고, W는 시편넓이(Width of specimen)(m)이며, a는 노치 깊이(Notch depth)(m)이다. Where K is the fracture toughness (MPa · m 0.5 ), P is the fracture load (MN), B is the thickness of specimen (m) S is the support span m and W is the width of specimen m and a is the depth of the notch m).

도 1은 소결온도(sintering temperature)에 따른 파괴인성(fracture toughness)을 보여주는 그래프이다. 도 1에서 (a)는 비교예 1에 따라 제조된 시편의 파괴인성을 보여주고, (b)는 실시예 1에 따라 제조된 시편의 파괴인성을 보여주며, (c)는 실시예 2에 따라 제조된 시편의 파괴인성을 보여주며, (d)는 실시예 3에 따라 제조된 시편의 파괴인성을 보여주고, (e)는 실시예 4에 따라 제조된 시편의 파괴인성을 보여준다.1 is a graph showing fracture toughness with respect to sintering temperature. Fig. 1 (a) shows the fracture toughness of the specimen prepared according to Comparative Example 1, Fig. 2 (b) shows the fracture toughness of the specimen prepared according to Example 1, (D) shows the fracture toughness of the specimen prepared according to Example 3, and (e) shows the fracture toughness of the specimen prepared according to Example 4. Fig.

도 1을 참조하면, 실시예 1에 따라 칼슘 소스인 질산칼슘(Ca(NO3)2·4H2O)과 실리콘 소스인 테트라에틸오르소실리케이트(tetraethly orthosilicate; TEOS)가 규석과 네펠린 사이어나이트의 전체 함량 100중량부에 대하여 1중량부 첨가된 경우와, 실시예 2에 따라 질산칼슘(Ca(NO3)2·4H2O)과 테트라에틸오르소실리케이트(TEOS)가 규석과 네펠린 사이어나이트의 전체 함량 100중량부에 대하여 2중량부 첨가된 경우가 최대 파괴인성을 갖는 것으로 나타났다. Referring to FIG. 1, calcium nitrate (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O) as a calcium source and tetraethly orthosilicate (TEOS) as a silicon source are mixed with silica and nephelin cyanite (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O) and tetraethyl orthosilicate (TEOS) were added in an amount of 1 part by weight based on 100 parts by weight of the total amount of calcium silicate The maximum fracture toughness was found to be 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the knit.

실시예 1 내지 실시예 4의 경우에 소결온도는 1150∼1175℃로, 규석과 네펠린 사이어나이트에 비정질상을 코팅하지 않은 경우(비교예 1의 경우)보다 50℃ 이상 낮아진 것으로 밝혀졌다. 규석과 네펠린 사이어나이트에 비정질상을 코팅하지 않은 경우(비교예 1의 경우)는 1225℃ 이하가 되면 소결이 충분히 진행되지 않고 기공이 존재하게 된다. It was found that the sintering temperature was 1150 to 1175 ° C in Examples 1 to 4 and lower than 50 ° C in the case where the amorphous phase was not coated on the silica and nepaline cyanite (Comparative Example 1). When the amorphous phase is not coated on the silica and nephelin cyanite (in the case of Comparative Example 1), the sintering does not proceed sufficiently and the pores are present when the temperature is lower than 1225 ° C.

실시예 1과 실시예 2의 경우에 파괴인성은 1.5 MPam0 .5로, 규석과 네펠린 사이어나이트에 비정질상을 코팅하지 않은 경우(비교예 1의 경우)에 비하여 최대 50%정도 증가하는 것으로 밝혀졌다.
The fracture toughness of Example 1 and Example 2 was 1.5 MPam 0 .5 , which was found to increase by up to 50% compared to the case where the amorphous phase was not coated on the silica and nephelin cyanite (in the case of Comparative Example 1) lost.

꺾임강도를 측정하기 위하여 시편을 제작하였으며, 시편은 소결체를 4㎜×3㎜×30㎜ 크기로 가공하여 제작하였으며, UTM(universal testing machine, Inspekt table 250KN, Hegewald & Peschke)을 이용하여 0.5㎜/min의 크로스 헤드(cross head) 속도로 3점 굽힘강도법으로 측정하였다.The specimens were fabricated by machining the sintered body to a size of 4 mm × 3 mm × 30 mm. Using UTM (universal testing machine, Inspekt table 250KN, Hegewald & Peschke) min at a crosshead speed of 3 m / min.

도 2는 실시예 3과 비교예 1에 따라 제조된 시편의 꺾임강도(flexural strength)를 보여주는 그래프이다. 도 2에서 (a)는 비교예 1에 따라 제작된 시편에 대한 것을 보여주고, (b)는 실시예 3에 따라 제작된 시편에 대한 것을 보여준다. Fig. 2 is a graph showing the flexural strength of the specimen produced according to Example 3 and Comparative Example 1. Fig. FIG. 2 (a) shows a specimen prepared according to Comparative Example 1, and FIG. 2 (b) shows a specimen prepared according to Example 3.

도 2를 참조하면, 실시예 3에 따라 질산칼슘(Ca(NO3)2·4H2O)과 테트라에틸오르소실리케이트(TEOS)가 규석과 네펠린 사이어나이트의 전체 함량 100중량부에 대하여 5중량부 첨가된 경우에 규석과 네펠린 사이어나이트에 비정질상을 코팅하지 않은 경우(비교예 1의 경우)에 비하여 꺽임강도가 173% 증가하는 결과를 보여주었다.
2, calcium nitrate (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O) and tetraethylorthosilicate (TEOS) were added to 100 parts by weight of the total amount of silica and nephelin cyanite in accordance with Example 3 The bending strength was increased by 173% when the amorphous phase was not coated on the silica and nephelin cyanite (in the case of Comparative Example 1).

비교예 1과 실시예 1 내지 실시예 4에 따라 제조된 시편의 밀도를 아르키메데스 법을 이용하여 측정하였다. 도 3은 소결온도(sintering)에 따른 밀도(density) 변화를 주는 그래프이다. 도 3에서 (a)는 비교예 1에 따라 제조된 시편의 밀도를 보여주고, (b)는 실시예 1에 따라 제조된 시편의 밀도를 보여주며, (c)는 실시예 2에 따라 제조된 시편의 밀도를 보여주며, (d)는 실시예 3에 따라 제조된 시편의 밀도를 보여주고, (e)는 실시예 4에 따라 제조된 시편의 밀도를 보여준다.The density of the specimens prepared according to Comparative Example 1 and Examples 1 to 4 was measured using the Archimedes method. 3 is a graph showing a density change according to sintering temperature. Fig. 3 (a) shows the density of the sample prepared according to Comparative Example 1, (b) shows the density of the sample prepared according to Example 1, and (c) (D) shows the density of the specimen prepared in accordance with Example 3, and (e) shows the density of the specimen prepared according to Example 4. Fig.

도 3을 참조하면, 최대 밀도를 얻기 위한 소결온도는 1150∼1175℃로 밝혀졌다.
Referring to FIG. 3, the sintering temperature for obtaining the maximum density was found to be 1150 to 1175 ° C.

비교예 1과 실시예 1에 따라 제조된 시편의 미세구조를 분석하였다. 도 4a 내지 도 4e는 비교예 1에 따라 제조된 시편으로서 1230℃에서 소성이 이루어진 경우를 보여주는 주사전자현미경(scanning electron microscope; SEM) 사진들로서 배율을 다르게 하여 나타내었다. 도 5a 내지 도 5e는 실시예 1에 따라 제조된 시편으로서 1175℃에서 소성이 이루어진 경우를 보여주는 주사전자현미경(scanning electron microscope; SEM) 사진들로서 배율을 다르게 하여 나타내었다. The microstructures of the specimens prepared according to Comparative Example 1 and Example 1 were analyzed. 4A to 4E are SEM photographs showing the case where the sample was produced at 1,230 DEG C as a sample prepared according to Comparative Example 1, and the magnifications were varied. 5A to 5E are SEM photographs showing the case where firing was performed at 1175 DEG C as a specimen manufactured according to Example 1, and the magnifications are shown in different magnifications.

도 4a 내지 도 5e를 참조하면, 미세구조 분석 결과 규석과 네펠린 사이어나이트에 비정질상을 코팅하지 않은 경우(비교예 1의 경우)에 비하여 규석과 네펠린 사이어나이트에 비정질상을 코팅한 경우(실시예 1의 경우)가 소결온도가 낮음에도 불구하고 기공이 적고 결함이 적은 미세구조를 가짐을 알 수 있다. 이로 인하여 꺽임강도 및 파괴인성이 증가하는 것으로 생각된다.
4A to 5E, when the amorphous phase was coated on the silica and nephelin cyanite in comparison with the case where the amorphous phase was not coated on the silica and nephelin cyanite (Comparative Example 1) 1) has a microstructure with few pores and few defects even though the sintering temperature is low. This suggests that the bending strength and fracture toughness are increased.

이상, 본 발명의 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, This is possible.

Claims (11)

규석 및 장석을 용매와 함께 교반기에 장입하는 단계;
상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 규석과 상기 장석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하는 단계;
교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하는 단계;
pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 규석과 장석을 얻는 단계;
카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계;
혼합된 결과물을 성형하는 단계; 및
성형된 결과물을 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
Charging silica and feldspar together with a solvent into an agitator;
Adding a calcium source material and a silicon source material in a molar ratio of 1: 5 to 5: 1 to the agitator in an amount of 0.1 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the total content of the silica and the feldspar;
Adding a basic substance to the slurry to adjust the pH to a range of 7 to 12;
drying the pH controlled product and calcining at a temperature below the temperature at which the calcium source material and the silicon source material are crystallized to obtain amorphous phase coated silica and feldspar;
Mixing kaolin, clay, and amorphous coated silica and feldspar with water;
Molding the mixed result; And
And calcining the resultant product. The method of claim 1, wherein the amorphous coating of the ceramics is performed using the amorphous coating.
규석을 용매와 함께 교반기에 장입하는 단계;
상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 규석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하는 단계;
교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하는 단계;
pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 규석을 얻는 단계;
장석을 용매와 함께 교반기에 장입하는 단계;
상기 교반기에 칼슘 소스 물질과 실리콘 소스 물질을 1:5∼5:1의 몰비로 상기 장석의 전체 함량 100중량부에 대하여 0.1∼15중량부 첨가하여 교반하는 단계;
교반되어 얻어진 슬러리에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 7∼12 범위로 조절하는 단계;
pH가 조절된 결과물을 건조하고 상기 칼슘 소스 물질과 상기 실리콘 소스 물질이 결정화되는 온도 보다 낮은 온도에서 하소하여 비정질상이 코팅된 장석을 얻는 단계;
카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계;
혼합된 결과물을 성형하는 단계; 및
성형된 결과물을 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
Charging the silica with the solvent into an agitator;
Adding a calcium source material and a silicon source material to the agitator in a molar ratio of 1: 5 to 5: 1 in an amount of 0.1 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the silica;
Adding a basic substance to the slurry to adjust the pH to a range of 7 to 12;
drying the pH controlled product and calcining at a temperature below the temperature at which the calcium source material and the silicon source material are crystallized to obtain an amorphous phase coated silica;
Charging feldspar with a solvent into an agitator;
Adding a calcium source material and a silicon source material to the agitator in a molar ratio of 1: 5 to 5: 1 in an amount of 0.1 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the total feldspar;
Adding a basic substance to the slurry to adjust the pH to a range of 7 to 12;
drying the pH controlled product and calcining the calcium source material and the silicon source material at a temperature below the crystallization temperature to obtain an amorphous phase coated feldspar;
Mixing kaolin, clay, and amorphous coated silica and feldspar with water;
Molding the mixed result; And
And calcining the resultant product. The method of claim 1, wherein the amorphous coating of the ceramics is performed using the amorphous coating.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 칼슘 소스 물질은,
칼슘아세테이트 모노하이드레이트(Ca(CH3COO)2·H2O), 칼슘브로마이드 디하이드레이트(CaBr2·2H2O), 탄산칼슘(CaCO3), 염화칼슘(CaCl2), 칼슘클로라이드 디하이드레이트(CaCl2·2H2O), 칼슘시트레이트 테트라하이드레이트(Ca3(C6H5O7)2·4H2O), 칼슘플루오라이드(CaF2), 칼슘하이드라이드(CaH2), 칼슘하이드록사이드(Ca(OH)2), 칼슘하이포클로라이트(Ca(OCl)2), 칼슘나이트레이트 테트라하이드레이트(Ca(NO3)2·4H2O), 칼슘옥사레이트 모노하이드레이트((COO)2Ca·H2O), 칼슘옥사이드(CaO), 칼슘프로파이오네이트((CH3CH2COO)2Ca), 칼슘스테아레이트(Ca[CH3(CH2)16COO]2), 황산칼슘(CaSO4), 칼슘설페이트 디하이드레이트(CaSO4·2H2O) 및 칼슘설페이트 헤미하이드레이트(CaSO4·1/2H2O) 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
3. The method of claim 1 or 2,
Calcium carbonate monohydrate (Ca (CH 3 COO) 2 .H 2 O), calcium bromide dihydrate (CaBr 2 .2H 2 O), calcium carbonate (CaCO 3 ), calcium chloride (CaCl 2 ), calcium chloride dihydrate 2 · 2H 2 O), calcium citrate tetrahydrate (Ca 3 (C 6 H 5 O 7 ) 2 · 4H 2 O), calcium fluoride (CaF 2 ), calcium hydride (CaH 2 ), calcium hydroxide (Ca (OH) 2), calcium hypochlorite (Ca (OCl) 2), calcium nitrate tetrahydrate (Ca (NO 3) 2 · 4H 2 O), calcium-oxa rate monohydrate ((COO) 2 Ca · H 2 O), calcium oxide (CaO), calcium propionate ((CH 3 CH 2 COO) 2 Ca), calcium stearate (Ca [CH 3 (CH 2 ) 16 COO] 2), calcium sulfate (CaSO 4 ), calcium sulfate dihydrate (CaSO 4 · 2H 2 O) and calcium sulfate hemihydrate (CaSO 4 · 1 / 2H 2 O) , characterized in that ceramic source consisting of one or more materials that are selected from The method of pottery with the amorphous coating.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 실리콘 소스 물질은,
칼슘실리케이트(CaSiO3), 칼슘실리케이트 하이드레이트(CaSiO3·nH2O, n은 양의 실수), 칼륨실리케이트(K2SiO3), 소듐헥사플루오로실리케이트(Na2SiF6), 소듐메타실리케이트(Na2SiO3), 소듐메타실리케이트 노나하이드레이트(Na2SiO3·9H2O), 소듐메타실리케이트 펜타하이드레이트(Na2SiO3·5H2O), 소듐오르소실리케이트 하이드레이트(2Na2O·SiO2·nH2O, n은 양의 실수), 소듐실리코플루오라이드(Na2SiF6), 테트라아릴 오르소실리케이트(C12H20O4Si), 테트라에틸 오르소실리케이트(Si(OC2H5)4), 테트라메틸암모늄 실리케이트((CH3)4N(OH)·2SiO2), 테트라메틸 오르소실리케이트(Si(OCH3)4), 테트라프로필 오르소실리케이트 및 테트라부틸 오르소실리케이트 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
3. The method of claim 1 or 2,
Calcium silicate (CaSiO 3 ), calcium silicate hydrate (CaSiO 3 .nH 2 O, where n is a positive real number), potassium silicate (K 2 SiO 3 ), sodium hexafluorosilicate (Na 2 SiF 6 ), sodium metasilicate Na 2 SiO 3 ), sodium metasilicate nonahydrate (Na 2 SiO 3 .9H 2 O), sodium metasilicate pentahydrate (Na 2 SiO 3 .5H 2 O), sodium orthosilicate hydrate (2Na 2 O SiO 2 · nH 2 O, n is a positive real number), sodium silico fluoride (Na 2 SiF 6), tetra-aryl ortho silicate (C 12 H 20 O 4 Si ), tetraethyl orthosilicate (Si (OC 2 H 5 ) 4 ), tetramethylammonium silicate ((CH 3 ) 4 N (OH) 2SiO 2 ), tetramethyl orthosilicate (Si (OCH 3 ) 4 ), tetrapropyl orthosilicate and tetrabutyl orthosilicate Characterized in that the amorphous coating of the ceramic material is made of at least one material. Yonghan method of pottery.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 염기성 물질은,
수산화암모늄, 리튬하이드록사이드 모노하이드레이트(HLiO·H2O), 수산화칼륨, 소듐아마이드 및 수산화나트륨 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
Characterized in that it is made of at least one material selected from the group consisting of ammonium hydroxide, lithium hydroxide monohydrate (HLiO.H 2 O), potassium hydroxide, sodium amide and sodium hydroxide.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 칼슘 소스 물질은 칼슘나이트레이트 테트라하이드레이트(Ca(NO3)2·4H2O) 이고,
상기 실리콘 소스 물질은 테트라에틸 오르소실리케이트(Si(OC2H5)4)이며,
상기 염기성 물질은 수산화암모늄인 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
The method of claim 1 or 2, wherein the calcium source material is calcium nitrate tetrahydrate (Ca (NO 3 ) 2 .4H 2 O)
The silicon source material is tetraethyl silicate (Si (OC 2 H 5) 4),
Wherein the basic material is ammonium hydroxide. &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 11. &lt; / RTI &gt;
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 소성은 1125∼1300℃의 온도에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
The method according to claim 1 or 2, wherein the calcination is performed at a temperature of 1125 to 1300 ° C.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하소는 500∼1000℃의 온도에서 산화 분위기에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
The method according to claim 1 or 2, wherein the calcination is performed in an oxidizing atmosphere at a temperature of 500 to 1000 캜.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 장석은 네펠린 사이어나이트로 이루어진 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
The method of claim 1 or 2, wherein the feldspar comprises nephelin sialonite.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계에서,
상기 카올린 25∼34중량%, 상기 점토 5∼10중량%, 비정질상이 코팅된 규석 29∼39중량% 및 비정질상이 코팅된 장석 25∼34중량%를 혼합하며,
상기 카올린, 상기 점토, 비정질상이 코팅된 상기 규석 및 비정질상이 코팅된 상기 장석의 고형분이 50∼70중량%를 이루도록 상기 물을 혼합하는 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
3. The method of claim 1 or 2, wherein in mixing the kaolin, clay, and amorphous coated silica and feldspar with water,
25 to 34% by weight of the kaolin, 5 to 10% by weight of the clay, 29 to 39% by weight of an amorphous phase coated silica, and 25 to 34% by weight of an amorphous phase coated feldspar,
Wherein the water is mixed so that the solid content of the feldspar coated with the kaolin, the clay, the amorphous phase-coated quartz and the amorphous phase is 50 to 70% by weight, and the amorphous phase-coated amorphous phase is mixed with the water.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 카올린과 점토, 그리고 비정질상이 코팅된 규석 및 장석을 물과 혼합하는 단계에서,
분산성을 개선하기 위하여 카올린, 점토, 비정질상이 코팅된 규석 및 비정질상이 코팅된 장석의 고형분 100중량부에 대하여 벤질트리메틸암모늄 하이드록사이드(benzyltrimethylammonium hydroxide)(C10H17NO), 디에틸아민(diethylamine)(C4H11N), 에틸아민(ethylamine), 프로필아민(propylamine), 부틸아민(butylamine), 펜틸아민(pentyl amine), 메틸아민(methylamine)(CH5N), 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드(tetramethyl ammonium hydroxide), 테트라에틸 암모늄 하이드록사이드(tetraethyl ammonium hydroxide), 테트라프로필 암모늄 하이드록사이드(tetrapropyl ammonium hydroxide) 및 테트라부틸 암모늄 하이드록사이드(tetrabutyl ammonium hydroxide) 중에서 선택된 1종 이상의 물질 0.001∼3중량부를 첨가하는 것을 특징으로 하는 도자기원료의 비정질상 코팅을 이용한 도자기의 제조방법.
3. The method of claim 1 or 2, wherein in mixing the kaolin, clay, and amorphous coated silica and feldspar with water,
In order to improve the dispersibility, benzyltrimethylammonium hydroxide (C 10 H 17 NO 3), diethylamine (C 10 H 17 NO 3) were added to 100 parts by weight of solids of feldspar coated with kaolin, clay and amorphous phase, diethylamine (C 4 H 11 N), ethylamine, propylamine, butylamine, pentylamine, methylamine (CH 5 N), tetramethylammonium hydroxide One or more substances selected from tetramethyl ammonium hydroxide, tetraethyl ammonium hydroxide, tetrapropyl ammonium hydroxide and tetrabutyl ammonium hydroxide 0.001 To 3 parts by weight of an amorphous coating of a ceramics raw material.
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JP2000109381A (en) 1998-08-07 2000-04-18 Tadashi Kawai Lightweight pottery product and its production
JP2002068861A (en) 2000-08-28 2002-03-08 Soka Kawara Kogyo Kk Middle and low temperature coating compound for clay roof tile
KR20090113497A (en) * 2008-04-28 2009-11-02 한국세라믹기술원 Manufacturing method of ceramic ware with low deformation

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