KR101379489B1 - Apparatus for cleaning of gas distribution unit - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 가스 공급유닛의 클리닝 장치는 메인 케이스; 상기 메인 케이스 내에 설치되는 적어도 하나 이상의 서브 케이스; 상기 서브 케이스 내부에 설치되며 가스 공급유닛에 부착된 이물질을 제거하는 브러시; 상기 메인 케이스에 설치되어 상기 서브 케이스를 회전시키는 제 1 구동부; 및 상기 서브 케이스에 설치되어 상기 브러시를 회전시키는 제 2 구동부를 구비하는 것으로, 이러한 본 발명에 따르면 가스 공급유닛의 클리닝 공정을 자동화하여 클리닝의 일관성이 유지되고, 클리닝 공정 시간이 단축되어 소자 형성 공정에 할여되는 시간이 증가되어 증착 수율이 향상되는 가스 공급유닛의 클리닝 장치를 얻는 효과가 있다.
The cleaning apparatus of the gas supply unit according to the present invention includes a main case; At least one sub case installed in the main case; A brush installed inside the sub case and removing foreign matter attached to the gas supply unit; A first driver installed in the main case to rotate the sub case; And a second driving part installed in the sub-case to rotate the brush. According to the present invention, the cleaning process of the gas supply unit is automated to maintain the cleaning consistency, and the cleaning process time is shortened. There is an effect of obtaining a cleaning device for a gas supply unit in which the time allocated to the gas is increased to improve the deposition yield.

Description

가스 공급유닛의 클리닝 장치{APPARATUS FOR CLEANING OF GAS DISTRIBUTION UNIT}Cleaning device for gas supply unit {APPARATUS FOR CLEANING OF GAS DISTRIBUTION UNIT}

본 발명은 가스 공급유닛의 클리닝 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다수개의 홀을 통해 증착 가스를 공급하는 가스 공급유닛에 부착된 이물질을 신속히 제거하여 유지보수의 시간이 단축되는 클리닝 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a cleaning apparatus for a gas supply unit, and more particularly, to a cleaning apparatus for shortening maintenance time by quickly removing foreign matter attached to a gas supply unit supplying deposition gas through a plurality of holes. .

일반적으로 조명 및 디스플레이에 사용되는 LED 제조에는 Ⅲ족 및 Ⅴ족 등의 유기 금속물질을 기화에 의한 방법으로 웨이퍼에 증착시켜 발광층 등을 형성한다.In general, in the manufacture of LEDs used for lighting and display, organic metal materials such as group III and group V are deposited on a wafer by vaporization to form a light emitting layer.

유기금속물질 증착을 위해 증착가스를 웨이퍼로 공급하는 가스 공급유닛의 형태에는 챔버 내부에 다수개의 홀이 형성된 샤워헤드를 통해 웨이퍼에 유기물을 공급하는 샤워헤드 형태 및 다수개의 노즐을 통해 유기물을 공급하는 노즐 형태가 있다.The gas supply unit supplying the deposition gas to the wafer for depositing the organometallic material has a showerhead type to supply organic matter to the wafer through a showerhead having a plurality of holes formed inside the chamber, and to supply organic matter through a plurality of nozzles. There is a nozzle form.

이러한 가스 공급유닛에는 증착 공정에 따른 유기 금속물질 등과 같은 잔여 파티클(particle)이 부착되고, 이를 제거하기 위한 클리닝 공정이 주기적으로 실시된다. 종래에 사용된 클리닝 공정은 수작업으로 진행되었으며, 클리닝을 진행하는 작업자의 숙련도에 의해 클리닝의 일관성이 유지되지 못하는 문제가 있다. 또한, 수작업에 의해 클리닝 공정이 진행되기 때문에 소요시간이 길어지고, 더욱이 가스 공급유닛이 대형화됨에 따라 클리닝 공정에 소요되는 시간이 증가되는 문제점이 있다. 이에 따라 증착 공정에 할여되는 시간이 상대적으로 줄어들어 수율이 저하되는 문제가 있다.Residual particles, such as organometallic materials, are deposited on the gas supply unit, and a cleaning process is periodically performed to remove them. The cleaning process used in the related art has been performed manually, and there is a problem in that the cleaning consistency cannot be maintained due to the skill of the operator who performs the cleaning. In addition, since the cleaning process is performed by manual labor, the required time is long, and as the gas supply unit is enlarged, the time required for the cleaning process is increased. Accordingly, the time allocated to the deposition process is relatively reduced, resulting in a decrease in yield.

이러한 문제를 해결하기 위한 가스 공급유닛의 클리닝 장치가 필요한 상황이다.There is a need for a cleaning device for a gas supply unit to solve this problem.

대한민국 공개특허공보 제 10-2007-0107711(공개일자:2007년11월7일)호, "CVD 반응기용 가스 유입요소"Republic of Korea Patent Publication No. 10-2007-0107711 (published: November 7, 2007), "Gas inlet element for CVD reactor"

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 가스 공급유닛의 클리닝 공정을 자동화하여 클리닝의 일관성이 유지되고, 클리닝 공정 시간이 단축되는 가스 공급유닛의 클리닝 장치를 제공하기 위한 것이다.
The present invention is to solve the above-mentioned problems, an object of the present invention is to provide a cleaning device of the gas supply unit to maintain the consistency of the cleaning by reducing the cleaning process time by automating the cleaning process of the gas supply unit .

본 발명에 따른 가스 공급유닛의 클리닝 장치는 메인 케이스; 상기 메인 케이스 내에 설치되는 적어도 하나 이상의 서브 케이스; 상기 서브 케이스 내부에 설치되며 가스 공급유닛에 부착된 이물질을 제거하는 브러시; 상기 메인 케이스에 설치되어 상기 서브 케이스를 회전시키는 제 1 구동부; 및 상기 서브 케이스에 설치되어 상기 브러시를 회전시키는 제 2 구동부를 포함한다.The cleaning apparatus of the gas supply unit according to the present invention includes a main case; At least one sub case installed in the main case; A brush installed inside the sub case and removing foreign matter attached to the gas supply unit; A first driver installed in the main case to rotate the sub case; And a second driver installed in the sub case to rotate the brush.

상기 메인 케이스에는 상기 브러시에 의해 이탈된 상기 이물질을 흡입하기 위한 흡착라인을 포함한다.The main case includes an adsorption line for sucking the foreign matter separated by the brush.

상기 가스 공급유닛과 마주보는 상기 메인 케이스의 둘레에는 상기 브러시에 의해 이탈된 이물질이 상기 메인 케이스의 외부로 유출되는 것을 방지하기 위한 기밀부재를 포함한다.
The gas circumference of the main case facing the gas supply unit includes an airtight member for preventing foreign substances separated by the brush from flowing out of the main case.

이상과 같은 본 발명에 따른 가스 공급유닛의 클리닝 장치는 가스 공급유닛의 클리닝 공정을 자동화하여 클리닝의 일관성이 유지되고, 클리닝 공정 시간이 단축되어 소자 형성 공정에 할여되는 시간이 증가되어 증착 수율이 향상되는 가스 공급유닛의 클리닝 장치를 얻는 효과가 있다.
The cleaning apparatus of the gas supply unit according to the present invention as described above automates the cleaning process of the gas supply unit to maintain the consistency of cleaning, the cleaning process time is shortened to increase the time that is allocated to the device forming process to increase the deposition yield There is an effect of obtaining a cleaning device for the gas supply unit.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급유닛의 클리닝 장치의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급유닛의 클리닝 장치의 분해사시도이다.
도 3은 도 1의 A-A′단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급유닛의 클리닝 장치의 단면도이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급유닛의 클리닝 장치의 작동 상태를 나타내는 도면이다.1 is a perspective view of a cleaning apparatus of a gas supply unit according to an embodiment of the present invention.
2 is an exploded perspective view of the cleaning apparatus of the gas supply unit according to the embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1.
4 is a cross-sectional view of the cleaning apparatus of the gas supply unit according to the embodiment of the present invention.
5 and 6 are views showing the operating state of the cleaning device of the gas supply unit according to an embodiment of the present invention.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 일실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.The terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms and the inventor may appropriately define the concept of the term in order to best describe its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention. Therefore, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are only examples of the present invention, and are not intended to represent all of the technical ideas of the present invention, so that various equivalents and modifications may be made thereto .

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 클리닝 장치의 사시도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 클리닝 장치의 분해사시도이다. 도 3은 도 1의 A-A′단면도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 클리닝 장치의 단면도이다.1 is a perspective view of a cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is an exploded perspective view of a cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급유닛의 클리닝 장치(100)는 메인 케이스(102), 메인 케이스(102) 내에 설치되는 적어도 하나 이상의 서브 케이스(202), 서브 케이스(202) 내부에 설치되는 브러시(302), 메인 케이스(102)에 설치되어 서브 케이스(202)를 회전시키는 제 1 구동부(280) 및 서브 케이스(202)에 설치되어 브러시(302)를 회전시키는 제 2 구동부(380)를 포함한다.1 to 4, the cleaning apparatus 100 of the gas supply unit according to the exemplary embodiment of the present invention may include a main case 102, at least one sub case 202 installed in the main case 102, Brush 302 is installed in the sub-case 202, the first drive unit 280 is installed in the main case 102 to rotate the sub-case 202 and the sub-case 202 to install the brush 302 It includes a second driver 380 to rotate.

메인 케이스(102)는 원통형상이며, 서브 케이스(202)는 메인 케이스(102)의 내측에 설치되어 제 1 구동부(280)에 의해 회전하는 것으로, 유성기어와 같은 형태이다.The main case 102 is cylindrical in shape, and the sub case 202 is installed inside the main case 102 and rotated by the first driving unit 280, and is shaped like a planetary gear.

즉, 제 1 구동부(280)의 구동축(282)에 연결된 선기어(284)를 중심으로 하나 이상의 유성기어와 같은 서브 케이스(202)가 배치되어 메인 케이스(102) 내에서 회전한다. 메인 케이스(102)의 내측에는 내접기어(102a)가 형성된다. That is, the sub case 202 such as one or more planetary gears is disposed around the sun gear 284 connected to the drive shaft 282 of the first drive unit 280 to rotate in the main case 102. An internal gear 102a is formed inside the main case 102.

서브 케이스(202)의 상부측에는 유성기어 역할의 서브 기어(202a)가 형성되어 선기어(284) 및 내접기어(102a)와 맞물리고, 하부측에는 브러시(302)가 구비된다.On the upper side of the sub case 202, a sub gear 202a serving as a planetary gear is formed to engage with the sun gear 284 and the internal gear 102a, and a brush 302 is provided on the lower side.

브러시(302)는 제 1 구동부(280)에 의해 메인 케이스(102) 내에서 회전함과 동시에 서브 케이스(202)의 제 2 구동부(380)에 의한 회전 즉, 공전과 자전을 함께하는 형태이다.The brush 302 is rotated in the main case 102 by the first driving unit 280 and rotates by the second driving unit 380 of the sub case 202, that is, the revolution and the rotation.

메인 케이스(102)에는 브러시(302)에 의해 가스 공급유닛(400)으로부터 이탈된 증착 이물질(p)을 흡입하기 위한 흡착라인(290)이 구비된다.The main case 102 is provided with an adsorption line 290 for sucking the deposition foreign matter p separated from the gas supply unit 400 by the brush 302.

그리고 가스 공급유닛(400)과 마주보는 메인 케이스(102)의 둘레에는 브러시(302)에 의해 이탈된 이물질(p)이 메인 케이스(102)의 외부로 유출되는 것을 방지하기 위한 기밀부재(420)가 구비된다.In addition, an airtight member 420 may be provided around the main case 102 facing the gas supply unit 400 to prevent foreign substances p separated by the brush 302 from leaking out of the main case 102. Is provided.

이하에서는 전술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 가스 분사유닛의 클리닝 장치(100)의 작동 상태에 대하여 설명한다.Hereinafter will be described the operating state of the cleaning device 100 of the gas injection unit according to the embodiment of the present invention configured as described above.

도 5와 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 가스 분사유닛의 클리닝 장치(100)의 동작 상태를 설명하기 위한 도면이다.5 and 6 are views for explaining the operating state of the cleaning device 100 of the gas injection unit according to an embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이 가스 분사유닛(400)의 상부에 메인 케이스(102)를 위치시킨 상태에서 제 1 구동부(280)와 제 2 구동부(380)를 작동시켜 브러시(302)를 회전시킨다.As shown in FIG. 6, the brush 302 is rotated by operating the first driving unit 280 and the second driving unit 380 in a state where the main case 102 is positioned above the gas injection unit 400.

이후 메인 케이스(102)를 잡고 가스 공급유닛(400)의 표면에서 도 5와 같은 형태로 클리닝을 실시한다. 클리닝을 진행할 경우 가스 공급유닛(400)으로부터 이탈된 이물질(p)은 흡착라인(290)을 통해 외부로 배출된다. 흡착라인(290)은 필요에 따라 그 수를 증가하거나 흡착이 원활하게 진행되는 메인 케이스(102)의 다른 부분에 옮겨 설치할 수 있다.Thereafter, the main case 102 is held and the surface of the gas supply unit 400 is cleaned as shown in FIG. 5. In the case of cleaning, the foreign substance p separated from the gas supply unit 400 is discharged to the outside through the adsorption line 290. Adsorption line 290 may be installed in other parts of the main case 102 to increase the number or smoothly adsorbed as necessary.

클리닝 진행 도중에 발생하는 이물질(p)은 기밀부재(420)에 의해 메인 케이스(102)의 외부로 배출되지 않게 된다. 이처럼 가스 공급유닛(400)의 표면 곳곳을 옮겨가며 클리닝을 완료한다.
The foreign matter p generated during the cleaning process is not discharged to the outside of the main case 102 by the airtight member 420. Thus, the surface of the gas supply unit 400 is moved to complete the cleaning.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예와 다르게 다양한 변형 실시예가 도출될 수 있다. 예를 들어, 실시예에 도시된 모든 구성 요건들의 일부는 생략될 수도 있다. 또한 추가적인 이점 및 변형은 당해 기술분야의 통상의 기술자에게는 용이하게 이해될 것이다. 그러므로, 더 넓은 관점에서의 본 발명은 여기에서 도시되고 설명된 구체적인 세부 사항 및 대표 실시예에 한정되지 않는다. 따라서, 후술하는 청구범위와 그 등가물에 의해 규정되는 전반적인 발명 개념의 사상 또는 범위를 벗어나지 않고도 다양한 변형이 이루어질 수 있다.
Various modifications may be derived from the embodiments of the present invention described above. For example, some of all the configuration requirements shown in the embodiment may be omitted. Further advantages and modifications will be readily appreciated by those skilled in the art. Therefore, the invention in its broader aspects is not limited to the specific details and representative embodiments shown and described herein. Accordingly, various modifications may be made without departing from the spirit or scope of the general inventive concept as defined by the following claims and their equivalents.

102...메인 케이스
202...서브 케이스
280...제 1 구동부
290...흡착라인
302...브러시
380...제 2 구동부102 ... main case
202 ... subcase
280 ... first drive unit
290 Adsorption Line
302 Brush
380 ... 2nd drive part

Claims (4)

메인 케이스;
상기 메인 케이스 내에 설치되는 적어도 하나 이상의 서브 케이스;
상기 서브 케이스 내부에 설치되며 가스 공급유닛에 부착된 이물질을 제거하는 브러시;
상기 메인 케이스에 설치되어 상기 서브 케이스를 회전시키는 제 1 구동부; 및
상기 서브 케이스에 설치되어 상기 브러시를 회전시키는 제 2 구동부를 포함하고,
상기 메인 케이스에는 상기 브러시에 의해 이탈된 상기 이물질을 흡입하기 위한 흡착라인 구비되는 것을 특징으로 하는 가스 공급유닛의 클리닝 장치.
Main case;
At least one sub case installed in the main case;
A brush installed inside the sub case and removing foreign matter attached to the gas supply unit;
A first driver installed in the main case to rotate the sub case; And
A second driving part installed in the sub case to rotate the brush;
The main case has a cleaning device for a gas supply unit, characterized in that provided with a suction line for sucking the foreign matter separated by the brush.
삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 가스 공급유닛과 마주보는 상기 메인 케이스의 둘레에는 상기 브러시에 의해 이탈된 이물질이 상기 메인 케이스의 외부로 유출되는 것을 방지하기 위한 기밀부재를 포함하는 가스 공급유닛의 클리닝 장치.The cleaning apparatus of claim 1, further comprising an airtight member around the main case facing the gas supply unit to prevent foreign substances separated by the brush from leaking out of the main case. . 제 1 항에 있어서, 상기 서브 케이스는 상기 제1 구동부의 구동축에 형성된 선기어 및 상기 메인 케이스의 내측에 형성된 내접 기어와 맞물린 상태로 회전하는 것을 특징으로 하는 가스 공급유닛의 클리닝 장치.
The cleaning apparatus of claim 1, wherein the sub case is rotated in engagement with a sun gear formed on a drive shaft of the first driving unit and an internal gear formed inside the main case.
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