KR101356854B1

KR101356854B1 - 고 청정 용강 정련 장치

Info

Publication number: KR101356854B1
Application number: KR1020120051031A
Authority: KR
Inventors: 최자용; 한승민; 김선구
Original assignee: 주식회사 포스코
Priority date: 2012-05-14
Filing date: 2012-05-14
Publication date: 2014-01-28
Also published as: KR20130127252A

Abstract

본 발명은 고 청정 용강 정련 장치에 관한 것으로서, 턴디쉬 본체, 및 상기 턴디쉬 본체의 일측을 커버하는 턴디쉬 커버를 포함하는 턴디쉬, 및 상기 턴디쉬 본체 내부를 제1 위어로 가로막아 형성되는 용강 수용부, 및 상기 턴디쉬 본체 내부에 상기 용강 수용부에 인접하게 위치되어 상기 용강 수용부로부터 전달되는 용강을 액적화하는 액적 형성부를 포함하는 액적 형성장치를 포함하며, 개재물 및 전산소양을 감소시켜 고 청정 용강을 제조하는 고 청정 용강 정련 장치를 제공한다.

Description

고 청정 용강 정련 장치{Refining device of high purity molten steel}

본 발명은 고 청정 용강 정련 장치에 관한 것으로, 특히 용강을 액적(droplets)으로 형성하는 고 청정 용강 정련 장치에 관한 것이다.

일반적으로 강중에 존재하는 비금속 개재물이 제강공정과 연주공정 사이에서 제거되지 못하고 주편에 잔존하는 경우, 강판에서는 대형 개재물성 결함(scab) 또는 슬리버(sliver) 결함을 유발한다. 또한, 선재 강판의 경우에는 단선의 원인이 되기도 한다. 한편, 스테인리스 강판의 경우에는 상기 비금속 개재물이 강판에 잔류하면 내식성에 문제가 발생하게 되어, 결국 최종제품의 품질에 악영향을 미치게 된다.

일반적으로 용강의 탈탄 목적으로 여러 설비(전로, RH, AOD, VOD)에서 강중에 산소가스를 취입하게 되는데, 목표 농도로의 탈탄이 도달된 후에 용강은 높은 산소농도를 갖게 된다. 따라서 이러한 산소농도를 감소시킬 목적으로 탈산제를 첨가하게 되는데, 주로 Al, Si, Mn 등을 주원료로 하는 합금 또는 순물질을 사용한다. 그러나, 탈산생성물로 알루미나(Al₂O₃), 실리카(SiO₂) 또는 탈산제를 복합 첨가하였을 경우에는 복합산화물이 강중에 존재하게 된다. 한편, AOD 정련로에서 출강시 슬래그와 동시 출강으로 인한 슬래그성 개재물이 강중에 존재하기도 하며, 이러한 슬래그성 개재물은 온도하락에 따라 고융점 스피넬 개재물이 석출하기도 한다.

결국 용강의 응고가 완료하기 이전 공정인 제강공정에서 연주공정까지 개재물 생성을 억제하거나 제거하여 최종 제품에 미치는 품질의 악영향을 최소화 하는 것이 필요하다.

본 발명은 제강공정에서 연주공정까지의 개재물 생성을 억제하거나 제거하여 고 청정 용강을 제조할 수 있는 고 청정 용강 정련 장치를 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 실시예에 따른 고 청정 용강 정련 장치는, 턴디쉬 본체, 및 상기 턴디쉬 본체의 일측을 커버하는 턴디쉬 커버를 포함하는 턴디쉬, 및 상기 턴디쉬 본체 내부를 제1 위어로 가로막아 형성되는 용강 수용부, 및 상기 턴디쉬 본체 내부에 상기 용강 수용부에 인접하게 위치되어 상기 용강 수용부로부터 전달되는 용강을 액적화하는 액적 형성부를 포함하는 액적 형성장치를 포함할 수 있다.

여기서, 상기 용강 수용부는 상기 제1 위어 및 상기 턴디쉬 본체의 내측벽 간의 공간일 수 있다.

또한, 상기 액적 형성부는 상기 제1 위어를 기준으로 상기 용강 수용부의 반대편에 위치될 수 있다.

또한, 상기 턴디쉬 본체의 내측벽에 지지되되 상기 액적 형성부를 지지하는 제2 위어를 더 포함할 수 있다.

또한, 상기 액적 형성부는 상기 제1 위어 및 상기 제2 위어 간의 공간에서 상기 제1 위어 및 상기 제2 위어에 의해 지지될 수 있다.

또한, 상기 제2 위어의 하부는 개방되어 있을 수 있다.

또한, 상기 용강은 상기 용강 수용부로부터 유동하여 상기 액적 형성부로 전달될 수 있다.

또한, 상기 액적 형성부를 거쳐 액적화된 상기 용강은 상기 턴디쉬로 낙하할 수 있다.

또한, 상기 턴디쉬로 낙하한 용강의 상면에는 슬래그가 위치하고, 상기 액적 형성부를 거쳐 액적화된 상기 용강은 상기 슬래그를 거쳐 정련될 수 있다.

또한, 상기 액적 형성부에는 상기 용강 수용부로부터 전달된 상기 용강이 액적화될 수 있도록 다수의 액적홀이 형성될 수 있다.

또한, 상기 액적 형성부에는 단차부가 구비되되, 상기 단차부 중 상기 용강 수용부와 인접한 일측 단차부는 상기 용강 수용부와 먼 타측 탄차부에 비하여 높이가 낮을 수 있다.

또한, 상기 용강 수용부는 롱노즐을 통해 래들로부터 상기 용강을 공급받을 수 있다.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로부터 더욱 명백해질 것이다.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.

본 발명에 따른 고 청정 용강 정련 장치는, 개재물 생성량 및 전산소양을 낮춰 고 청정 용강을 제조할 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 제1 위어로써 턴디쉬 본체를 가로막아 용강 수용부를 형성하는바, 용강 수용부와 액적 형성부 사이의 공간을 별도의 고려 없이 최소화할 수 있고, 이에 따라 시공시간을 짧게 하고 구조를 간단하게 할 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 용강 수용부의 내부 크기 및 액적 형성부의 면적을 상대적으로 크게 할 수 있어 요구되는 주조속도를 용이하게 충족시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고 청정 용강 정련 장치의 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치에 용강이 채워진 모습을 나타낸 단면도이다.
도 3은 도 2에 도시한 A 부분의 확대도이다.
도 4는 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치의 액적 형성부의 사시도이다.
도 5는 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치의 액적화된 용강이 슬래그를 통과하는 과정을 설명하기 위한 공정 개략도이다.
도 6은 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치의 액적화된 용강이 슬래그에서 반응하는 현상을 연속적으로 도시한 사진도이다.
도 7 및 도 8은 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치와 비교하기 위한 도면이다.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고 청정 용강 정련 장치(100)의 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치(100)에 용강(200)이 채워진 모습을 나타낸 단면도이다. 이하, 이를 참조하여 본 실시예에 따른 고 청정 용강 정련 장치(100)에 대해 설명하기로 한다.

도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 본 실시예에 따른 고 청정 용강 정련 장치(100)는 턴디쉬(110), 및 턴디쉬(110) 내에 설치되되 용강(200)을 액적화하는 액적 형성장치(120)를 포함할 수 있다.

턴디쉬(110)는 래들(130)로부터 용강(200)을 공급받아 이를 일시적으로 수용하고 주형 등으로 연속적으로 전달하는 부재로서, 턴디쉬 본체(111)와 턴디쉬 커버(112)를 포함할 수 있다.

여기서, 턴디쉬 본체(111)는 래들(130)로부터 공급된 용강(200)을 수용할 수 있고 액적 형성장치(120)를 통해 액적화된 용강(200a)을 저장하여 예를 들어 주형 등으로 전달할 수 있다. 또한, 턴디쉬 커버(112)는 턴디쉬 본체(111)의 개구된 일측을 커버하여 턴디쉬 본체(111) 내에 저장된 용강(200b)에 불순물이 침투되지 않도록 할 수 있다. 이때, 턴디쉬 커버(112)에는 턴디쉬 본체(111) 내에 슬래그(202) 또는 턴디쉬 플럭스(203) 등을 삽입하기 위한 투입홀(115), 및 용강(200)을 주입할 수 있도록 개방된 개구부(114)가 형성될 수 있다. 또한, 턴디쉬 본체(111) 내에는 액적화된 용강(200a)을 가이드할 수 있도록 댐(118)이 구비될 수 있고, 턴디쉬 본체(111)의 내측벽 일측에는 용강 수용부(121)에서 오버플로우(over flow)되는 용강(200)을 외부로 배출하는 오버플로우 홀(117)이 형성될 수 있다. 또한, 턴디쉬 본체(111)에는 저장된 용강(200b)을 예를 들어, 주형 등으로 배출하는 용강출구(116)가 형성될 수 있다.

한편, 턴디쉬 커버(112)에 형성된 개구부(114)를 통하여 롱노즐(150)이 삽입될 수 있으며, 이에 따라 롱노즐(150)은 턴디쉬 커버(112)를 관통하여 턴디쉬 본체(111) 내에 도달할 수 있고 롱노즐(150)을 통해 용강(200)을 용강 수용부(121) 내로 공급할 수 있다. 이때, 롱노즐(150)을 통해 용강(200)을 공급하는 경우, 용강(200)이 용강 수용부(121)에 낙하할 때 낙하 충격이 저하될 수 있어 용강(200)의 비산 등을 방지할 수 있다. 단, 본 발명은 이에 한정되지 않고 롱노즐(150) 없이 용강스트림의 형태로 용강 수용부(121) 내로 용강(200)을 공급하는 것도 가능하다. 또한, 래들(130)에 저장된 용강(200)은 예를 들어 컬렉터 노즐과 같은 개폐부(131)의 개폐에 의하여, 롱노즐(150)을 통해 용강 수용부(121)에 공급될 수 있다.

액적 형성장치(120)는 턴디쉬(110) 내에 설치되어 용강(200)을 액적화하는 장치로서, 용강 수용부(121) 및 액적 형성부(122)를 포함할 수 있다.

여기서, 용강 수용부(121)는 턴디쉬 본체(111)의 내부를 제1 위어(123)로써 가로막아 형성될 수 있다. 이때, 제1 위어(123)의 폭은 턴디쉬 본체(111)의 폭과 동일하여, 제1 위어(123)로써 턴디쉬 본체(111)를 양분할 수 있으며, 양분된 턴디쉬 본체(111) 중 턴디쉬 커버(112)의 개구부(114)에 인접한 영역이 용강 수용부(121)가 될 수 있다. 따라서, 용강 수용부(121)는 턴디쉬 본체(111)의 내측벽 및 제1 위어(123)에 의해 상부를 제외하고 밀폐될 수 있으며, 개방된 상부를 통해 롱노즐(150)이 삽입되어 용강(200)을 공급받을 수 있다. 한편, 용강 수용부(121)는 래들(130)로부터 낙하되는 용강(200)의 낙하 충격을 일정 부분 흡수한 후 수용된 용강(200) 중 유동하는 부분, 예를 들어 넘치는 부분을 액적 형성부(122)에 전달하는바, 액적 형성부(122)는 용강 수용부(121)의 존재로 인하여 상대적으로 큰 힘을 받지 않아 충격에 의해 손상될 가능성이 감소될 수 있다. 또한, 용강 수용부(121)는 일정한 속도 및 양으로 용강(200)을 액적 형성부(122)에 전달할 수 있어, 공정 효율이 향상될 수 있다.

한편, 액적 형성부(122)는 용강 수용부(121)로부터 전달되는 용강(200)을 액적화하는 부재로서 용강 수용부(121)에 인접하게 위치될 수 있다. 더욱 구체적으로, 액적 형성부(122)는 제1 위어(123)를 기준으로 용강 수용부(121)의 반대편에 위치할 수 있다. 이때, 도 2에 도시한 바와 같이, 용강 수용부(121)에 용강(200)이 계속 공급되어 용강 수용부(121)에서 용강(200)이 넘치는 경우, 넘치는 용강(200)은 인접한 액적 형성부(122)로 전달될 수 있고, 액적 형성부(122)에 전달된 용강(200)은 액적화되어 제1 위어(123)에 의해 양분된 턴디쉬 본체(111) 중 용강 수용부(121)의 반대편에 위치한 용강 저장부(113)로 낙하할 수 있다.

한편, 본 실시예에 따른 고 청정 용강 정련 장치(100)는 턴디쉬 본체(111)의 내부에 제2 위어(140)를 더 포함할 수 있다. 이때, 제2 위어(140)는 턴디쉬 본체(111)의 내측벽에 의해 지지될 수 있으며 상부에는 액적 형성부(122)가 위치할 수 있다. 따라서, 액적 형성부(122)는 제1 위어(123) 및 제2 위어(140)에 의해 지지될 수 있다. 또한, 액적 형성부(122)는 턴디쉬 본체(111)의 내측벽에 의해 폭 방향으로 지지될 수 있다.

이때, 제2 위어(140)의 하부에는 개방부(141)가 구비될 수 있다. 따라서, 액적 형성부(122)를 통과하여 액적화된 용강(200a)은 제2 위어(140)의 개방부(141)를 통해 용강 저장부(113) 내에서 자유롭게 이동이 가능하며, 용강 저장부(113) 내에 저장된 용강(200b)은 용강출구(116)를 통해 주형 등으로 배출될 수 있다. 한편, 용강 저장부(113) 내에 저장된 용강(200b) 상면에는 턴디쉬 플럭스(203)를 투입하여 용강(200b)을 보호할 수 있다.

도 3은 도 2에 도시한 A 부분의 확대도이고, 도 4는 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치(100)의 액적 형성부(122)의 사시도이다. 이하, 이를 참조하여 본 실시예에 따른 액적 형성부(122)에 대해 더욱 구체적으로 살펴보기로 한다.

도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이, 액적 형성부(122)에는 다수의 액적홀(124)이 구비될 수 있다. 따라서, 용강 수용부(121)에서 전달된 용강(200)은 액적홀(124)을 통과하면서 작은 크기로, 즉 액적화되어 토출될 수 있다. 한편, 이러한 액적홀(124)의 크기는 6.5mm 이상인 경우 액적 정련을 실시하지 않는 경우와 큰 차이가 없어 액적 정련 효과가 거의 나타나지 않을 수 있으므로, 액적홀(124)의 크기를 6.5mm 이하로 확보하는 것이 바람직하다. 또한, 액적홀(124)의 크기가 6.5mm 이하에서도 작을수록 용강(200) 내의 전산소 함량을 낮출 수 있지만 주조속도가 느려질 수 있으므로, 통상적인 주조속도, 정련 공정의 효율성을 고려하여 액적홀(124)의 크기 및 개수를 설정하는 것이 바람직하다.

또한, 액적 형성부(122)는 대략적으로 턴디쉬 본체(111)의 내측벽에 대응되도록 직사각형의 용기 형태로 이루어질 수 있고, 액적 형성부(122)의 외측벽은 제1 위어(123), 제2 위어(140), 및 턴디쉬 본체(111)의 내측벽에 안착되어 장착될 수 있다. 또한, 용강 수용부(121)로부터 전달된 용강(200)이 액적 형성부(122) 상에서 넘쳐 액적화되지 않은 상태로 용강 저장부(113)로 바로 전달되는 일이 없도록, 액적 형성부(122)에는 단차부(125, 126)가 구비될 수 있다. 이때, 액적 형성부(122)의 일측 단차부(126)는 용강 수용부(121)에 인접하므로 높이를 상대적으로 낮게 하여 용강(200)이 용강 수용부(121)로부터 액적 형성부(122)로 원활하게 전달될 수 있도록 하면서도, 타측 단차부(125)는 용강 수용부(121)의 반대편에 인접하므로 높이를 상대적으로 높게 하여 액적 형성부(122) 상에서 용강(200)이 넘치지 않게 할 수 있다.

도 5는 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치(100)의 액적화된 용강(200a)이 슬래그(202)를 통과하는 과정을 설명하기 위한 공정 개략도이고, 도 6은 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치(100)의 액적화된 용강(200a)이 슬래그(202)에서 반응하는 현상을 연속적으로 도시한 사진도이다. 이하, 이를 참조하여 액적화된 용강(200a)이 정련되는 과정을 설명하기로 한다.

도 5에 도시한 바와 같이, 액적 형성부(122)의 액적홀(124)을 통과한 용강(200a)은 일정한 크기의 미세 액적으로 형성될 수 있다. 이후, 일정한 크기를 갖는 액적화된 용강(200a)은 낙하하여 용강 저장부(113)에 저장된 용강(200b)의 상면에 형성된 슬래그(202)의 표면에 충돌한다. 액적화된 용강(200a)이 슬래그(202)를 통과하는 동안, 충돌 과정에서 용강(200a) 내 개재물은 슬래그(202)로 흡수되고 비중차에 의해 낙하된 용강(200a)은 용강 저장부(113)에 저장된 용강(200b)에 흡수된다(도 2 참조). 이 경우 슬래그(202)를 통과한 액적화된 용강(200a)은 개재물이 제거되어 청정도가 우수해질 수 있다.

또한, 액적화된 용강(200a)은 슬래그(202)를 통과하면서 전산소양이 감소될 수 있다. 이때, 액적화된 용강(200a)은 슬래그(202)에 대한 반응 면적이 기존에 비하여 커지므로, 전산소양이 현저히 감소될 수 있다. 또한, 슬래그(202)의 조성비는CaO : 30~45%, SiO₂ : 15~35%, Al₂O₃ : 15~30%, MgO : 10~20%인 것이 바람직한데, 슬래그(202)가 상기와 같은 조성비를 갖는 경우 액적화된 용강(200a)의 전산소양이 32~39ppm 감소되어 고 청정 용강을 제조할 수 있기 때문이다. 또한, 액적화된 용강(200a)의 전산소양을 더욱 감소시키기 위해서는 슬래그(202)의 두께를 적어도 20mm 이상 확보하는 것이 바람직하다.

한편, 도 6을 참조하여 액적화된 용강(200a)이 슬래그(202) 표면에서 반응하는 현상을 살펴보기로 한다. 도면에서 알 수 있는 바와 같이 액적화된 용강(200a)은 슬래그(202) 표면에 충돌하여 통과할 때, 개재물이 제거될 수 있다. 먼저 액적화된 용강(200a)이 슬래그(202) 표면에 낙하할 때 시간에 따른 액적화된 용강(200a)의 형상 변화(t₀ ~ t₈)를 살펴보기로 한다. 상기 연속 사진도를 보면, 먼저 액적화된 용강(200a)이 슬래그(202)의 표면과 접촉하게 된다(t₀). 이후 상기 슬래그(202) 표면에 충돌한 액적화된 용강(200a)은 시간 경과에 따라 슬래그(202) 표면에서 슬래그(202)와 50%이상 접촉하여 얇게 퍼지는 현상(Spreading, t₁ ~ t₈)이 나타나며, 이에 따라 액적화된 용강(200a)의 개재물의 이동거리가 감소하고 이동속도 또한 증가하게 되어 개재물 제거가 용이하게 일어나게 된다.

도 7 및 도 8은 도 1에 도시한 고 청정 용강 정련 장치(100)와 비교하기 위한 도면이다. 이하, 이를 참조하여, 본 실시예에 따른 고 청정 용강 정련 장치(100)의 특징을 보다 상세히 살펴보기로 한다.

도 7 및 도 8에 도시한 바와 같은 고 청정 용강 정련 장치(10)는 용강 수용부로서 별도의 용기 형태의 서포터(11; supporter)를 사용하고 있다. 이러한 서포터(11)는 턴디쉬 본체(12)의 일측에 밀착되게 형성될 수 있으며, 래들(13)로부터 공급되는 용강(20)을 수용한 후 액적 형성부(14)로 전달할 수 있다. 또한, 서포터(11)에 용강(20)이 공급되는 방식은, 도 7에 도시한 바와 같이 턴디쉬 커버(15) 상에 주입박스(16 ; pouring box)를 설치하고 용강 스트림의 형태로 공급하거나, 도 8에 도시한 바와 같이 롱노즐(17)을 통해 용강(20)을 바로 공급하는 방식을 이용할 수 있다. 그러나, 상기와 같이 용강 수용부로서 별도의 서포터(11)를 이용하는 경우, 용강(20)의 유출을 최소화하기 위해 서포터(11)와 액적 형성부(14) 사이의 공간을 최소화하는 것이 필요하다. 따라서, 턴디쉬 본체(12)의 내부에 서포터(11) 및 액적 형성부(14)를 설치할 때 내화물 시공시간이 오래 소요되는 문제점이 있다. 또한, 래들(13)에서 용강(20)을 공급할 때 용강류 편차가 발생하는바, 서포터(11)의 내부 크기를 크게 할 필요가 있고, 이에 따라 액적 형성부(14)의 면적이 감소되어 요구되는 주조속도를 충족시키기 어려운 문제점이 있다.

반면, 도 1에 도시한 바와 같은 고 청정 용강 정련 장치(100)는 별도의 서포터 없이 제1 위어(123)로 턴디쉬 본체(111)를 가로막아 용강 수용부(121)를 형성하기 때문에, 용강 수용부(121) 및 액적 형성부(122) 사이의 공간이 별도의 고려 없이 최소화될 수 있다. 따라서, 제1 위어(123) 및 액적 형성부(122)의 시공시간이 짧고 구조가 간단할 수 있다. 또한, 별도의 서포터가 구비되지 않기 때문에 같은 공간 내에서 용강 수용부(121)의 내부 크기를 상대적으로 크게 할 수 있고, 이에 따라 액적 형성부(122)의 면적도 크게 할 수 있어 요구되는 주조속도를 용이하게 충족시킬 수 있다. 또한, 상대적으로 넓은 용강 수용부(121)에 용강(200)이 공급되기 때문에, 래들 용강류의 에너지가 쉽게 상쇄될 수 있어 탕면 안정성이 용이하게 확보될 수 있다.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 고 청정 용강 정련 장치는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.

110 : 턴디쉬 111 : 턴디쉬 본체
112 : 턴디쉬 커버 113 : 용강 저장부
120 : 액적 형성장치 121 : 용강 수용부
122 : 액적 형성부 123 : 제1 위어
124 : 액적홀 130 : 래들
140 : 제2 위어 200 : 용강

Claims

턴디쉬 본체, 및 상기 턴디쉬 본체의 일측을 커버하는 턴디쉬 커버를 포함하는 턴디쉬; 및
상기 턴디쉬 본체 내부를 제1 위어로 가로막아 형성되되 래들로부터 공급되는 용강을 수용하는 용강 수용부, 및 상기 턴디쉬 본체 내부에 상기 용강 수용부에 인접하게 위치되어 상기 용강 수용부로부터 전달되는 상기 용강을 액적화하는 액적 형성부를 포함하는 액적 형성장치;
를 포함하는 고 청정 용강 정련 장치.
제1항에 있어서,
상기 용강 수용부는 상기 제1 위어 및 상기 턴디쉬 본체의 내측벽 간의 공간인 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제1항에 있어서,
상기 액적 형성부는 상기 제1 위어를 기준으로 상기 용강 수용부의 반대편에 위치되는 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제1항에 있어서,
상기 턴디쉬 본체의 내측벽에 지지되되 상기 액적 형성부를 지지하는 제2 위어;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제4항에 있어서,
상기 액적 형성부는 상기 제1 위어 및 상기 제2 위어 간의 공간에서 상기 제1 위어 및 상기 제2 위어에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제4항에 있어서,
상기 제2 위어의 하부는 개방되어 있는 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제1항에 있어서,
상기 용강은 상기 용강 수용부로부터 유동하여 상기 액적 형성부로 전달되는 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제1항에 있어서,
상기 액적 형성부를 거쳐 액적화된 상기 용강은 상기 턴디쉬 내로 낙하하는 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제8항에 있어서,
상기 턴디쉬 내로 낙하한 용강의 상면에는 슬래그가 위치하고, 상기 액적 형성부를 거쳐 액적화된 상기 용강은 상기 슬래그를 거쳐 정련되는 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제1항에 있어서,
상기 액적 형성부에는 상기 용강 수용부로부터 전달된 상기 용강이 액적화될 수 있도록 다수의 액적홀이 형성된 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제1항에 있어서,
상기 액적 형성부에는 단차부가 구비되되, 상기 단차부 중 상기 용강 수용부와 인접한 일측 단차부는 상기 용강 수용부와 먼 타측 탄차부에 비하여 높이가 낮은 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.
제1항에 있어서,
상기 용강 수용부는 롱노즐을 통해 래들로부터 상기 용강을 공급받는 것을 특징으로 하는 고 청정 용강 정련 장치.