KR101350953B1 - Base unit of semiconductor testing device - Google Patents

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KR101350953B1
KR101350953B1 KR1020110115277A KR20110115277A KR101350953B1 KR 101350953 B1 KR101350953 B1 KR 101350953B1 KR 1020110115277 A KR1020110115277 A KR 1020110115277A KR 20110115277 A KR20110115277 A KR 20110115277A KR 101350953 B1 KR101350953 B1 KR 101350953B1
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세이지 구니노부
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와이아이케이주식회사
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets

Abstract

과제
반도체 시험 장치의 베이스 유닛에 있어서, 콘택트 하중을 지지함과 함께, 오토 레벨링 동작에 지장을 초래하지 않는 기구를 제공한다.
해결 수단
베이스 유닛 본체와, 베이스 유닛 본체의 하방향에 배치되고, 베이스 유닛 본체에 대한 기울기를 변경 가능한, 프로브 카드를 고착시키는 유닛의 상부에 형성되고, 양측에 사면이 형성된 테이퍼 블록과, 베이스 유닛의 하부에 있어서, 테이퍼 블록의 경사 방향에 형성된 가이드를 따라 직선 이동 가능한 1 쌍의 플레이트를 구비하고, 1 쌍의 플레이트는 탄성 수단에 의해 서로 연결되고, 각각의 플레이트는, 가이드에 대한 정지 수단과, 테이퍼 블록의 사면과 접촉하는 위치에 형성되고, 이동 방향으로 회전하는 회전 수단을 구비하고 있는 반도체 시험 장치의 베이스 유닛.
assignment
A base unit of a semiconductor test apparatus is provided, while supporting a contact load and providing a mechanism that does not interfere with the auto leveling operation.
Solution
A taper block formed on an upper side of the unit for fixing the probe card, the base unit main body and the base unit main body, which are disposed in a downward direction of the base unit main body and which can change the inclination with respect to the base unit main body, and which have slopes on both sides thereof; In the tapered block, a pair of plates that are linearly movable along the guide formed in the inclined direction of the tapered block, the pair of plates are connected to each other by elastic means, each plate is tapered with a stop means for the guide, A base unit of a semiconductor test apparatus, formed at a position in contact with an inclined surface of a block, and provided with rotation means rotating in a movement direction.

Figure R1020110115277
Figure R1020110115277

Description

반도체 시험 장치의 베이스 유닛{BASE UNIT OF SEMICONDUCTOR TESTING DEVICE}BASE UNIT OF SEMICONDUCTOR TESTING DEVICE

본 발명은, 반도체 시험 장치의 베이스 유닛에 관한 것으로, 특히 피시험 디바이스와의 접촉시에 받는 콘택트 하중을 지지하는 기구에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD This invention relates to the base unit of a semiconductor test apparatus. Specifically, It is related with the mechanism which supports the contact load received at the time of contact with a device under test.

반도체 디바이스의 제조 공정에 있어서, 반도체 디바이스의 성능·기능 등을 시험하기 위해서 반도체 시험 장치가 사용되고 있다. 반도체 시험 장치에서는, 테스트 헤드에 실장된 베이스 유닛을, 프로버에 실장된 프로브 카드에 접속시켜 피시험 디바이스 (DUT : Device Under Test) 의 시험을 실시한다. In the manufacturing process of a semiconductor device, the semiconductor test apparatus is used in order to test the performance, a function, etc. of a semiconductor device. In the semiconductor test apparatus, a base unit mounted on a test head is connected to a probe card mounted on a prober to test a device under test (DUT: Device Under Test).

도 3 은, 종래의 베이스 유닛의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다. 본 도면에 있어서, 베이스 유닛 본체 (300) 는, 본 도면 상방향에 위치하는 도시되지 않은 테스트 헤드에 의해 유지되고, 톱 플레이트 (310) 는, 본 도면 하방향에 위치하는 도시되지 않은 프로버에 의해 유지되고 있다. 3 is a diagram schematically showing a configuration of a conventional base unit. In this drawing, the base unit main body 300 is held by a test head (not shown) located in the upper direction of the drawing, and the top plate 310 is attached to an unshown prober located in the lower direction of the drawing. It is maintained by

링 (320) 은, 착탈 가능한 프로브 카드 (200) 를 고착시키는 유닛이고, 톱 플레이트 (310) 에 고정되어 있다. 링 (320) 의 상면에는, 본 도면 좌우 방향에 사면 (斜面) 이 형성된 테이퍼 블록 (330) 이 형성되어 있다. The ring 320 is a unit for fixing the detachable probe card 200 and is fixed to the top plate 310. On the upper surface of the ring 320, a tapered block 330 is formed in which a slope is formed in the left and right directions of the drawing.

베이스 유닛 본체 (300) 의 하면에는, 실린더 (340) 에 의해 베이스 유닛 본체와 테이퍼 블록 (330) 사이를 좌우로 이동하는 쐐기 (350) 가 구비되어 있다. 실린더 (340) 및 쐐기 (350) 는, 테이퍼 블록 (330) 의 사면에 대응하여 1 쌍 구비되어 있고, 실린더 (340) 의 동작은, 외부의 시퀀서 등으로부터의 제어 신호에 기초하여 구동 제어부 (360) 에 의해 실시된다. The lower surface of the base unit main body 300 is provided with the wedge 350 which moves to the left and right between the base unit main body and the taper block 330 by the cylinder 340. As shown in FIG. The cylinder 340 and the wedge 350 are provided with one pair corresponding to the slope of the taper block 330, and the operation | movement of the cylinder 340 is the drive control part 360 based on the control signal from an external sequencer etc. Is carried out by

도 3 에 나타내는 바와 같이, 실린더 (340) 에 의해 쐐기 (350) 가 중앙 방향에 위치하고 있을 때에는, 쐐기 (350) 가 테이퍼 블록 (330) 및 베이스 유닛 본체 (300) 에 접촉함으로써, 피시험 디바이스와의 접촉시에 프로브 카드 (200) 에 가해지는 콘택트 하중을 베이스 유닛 본체 (300) 로도 지지할 수 있게 된다. 이 기구가 없으면 도 4 에 나타내는 바와 같이, 콘택트 하중을 받았을 때에, 프로브 카드 (200) 가 변형되어, 프로브 카드 (200) 의 콘택트 높이에 편차가 생겨 프로브 카드와 피시험 디바이스가 정상적으로 콘택트할 수 없게 된다. As shown in FIG. 3, when the wedge 350 is located in the center direction by the cylinder 340, the wedge 350 contacts the taper block 330 and the base unit main body 300, and the device to be tested and It is possible to support the contact load applied to the probe card 200 by the base unit main body 300 at the time of contact. Without this mechanism, as shown in FIG. 4, when a contact load is received, the probe card 200 is deformed, and the contact height of the probe card 200 is deformed, so that the probe card and the device under test cannot be contacted normally. do.

한편, 프로브 카드 (200) 의 오토 레벨링시에는, 톱 플레이트 (310) 의 기울기를 변화시킬 수 있도록, 도 5 에 나타내는 바와 같이, 실린더 (340) 에 의해 쐐기 (350) 를 외측 방향으로 이동시킨다. 이로써, 쐐기 (350) 와 테이퍼 블록 (330) 의 접촉 상태가 해제되고, 톱 플레이트 (310) 가 움직일 수 있게 되어, 기울기를 조정할 수 있게 된다. 여기서, 오토 레벨링은, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 웨이퍼 척 (211) 에 탑재된 피시험 디바이스 (212) 와 프로브 카드 (200) 를 평행으로 하기 위해서, 톱 플레이트 (310) 의 기울기를 프로버가 조정하는 동작이다.On the other hand, at the time of auto leveling of the probe card 200, as shown in FIG. 5, the wedge 350 is moved outward by the cylinder 340 so that the inclination of the top plate 310 may be changed. Thereby, the contact state of the wedge 350 and the taper block 330 is canceled | released, and the top plate 310 can move, and it can adjust the inclination. Here, as shown in FIG. 6, in order to make the device under test 212 mounted on the wafer chuck 211 and the probe card 200 parallel, the inclination of the top plate 310 is determined by the prober. It is an operation to adjust.

일본 공개특허공보 2010-50437호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-50437

도 3 에 나타낸 기구에 있어서, 테이퍼 블록 (330) 과 쐐기 (350) 의 접촉 지점의 마찰 계수가 작으면 콘택트 하중을 지지하고자 할 때, 쐐기 (350) 가 빠지게 된다. 한편, 테이퍼 블록 (330) 과 쐐기 (350) 의 접촉 지점의 마찰 계수가 크면, 쐐기 (350) 를 외측 방향으로 이동시킬 필요가 있는 오토 레벨링시에, 쐐기 (350) 가 빠지지 않게 되어, 원활한 오토 레벨링 동작에 지장을 초래하게 된다. 따라서, 테이퍼 블록 (330) 과 쐐기 (350) 의 접촉 지점의 마찰 계수의 컨트롤이 중요한데, 마찰 계수를 적정하게 조정하는 것은 일반적으로 곤란하다. In the mechanism shown in FIG. 3, when the friction coefficient of the contact point of the taper block 330 and the wedge 350 is small, the wedge 350 will fall out when trying to support a contact load. On the other hand, when the friction coefficient of the contact point of the taper block 330 and the wedge 350 is large, the wedge 350 will not fall out at the time of auto leveling which needs to move the wedge 350 outward, and it will be smooth. This will interfere with the leveling operation. Therefore, the control of the coefficient of friction at the point of contact of the taper block 330 and the wedge 350 is important, but it is generally difficult to appropriately adjust the coefficient of friction.

또한, 오토 레벨링에 의해 톱 플레이트 (310) 의 기울기가 바뀌면, 톱 플레이트 (310) 와 베이스 유닛 본체 (300) 가 평행하지 않게 되어, 쐐기 (350) 의 사면과 테이퍼 블록 (330) 의 사면이 일치하지 않고, 콘택트 하중을 잘 받칠 수 없게 된다는 문제도 있다. In addition, when the inclination of the top plate 310 is changed by auto leveling, the top plate 310 and the base unit main body 300 do not become parallel, and the slope of the wedge 350 and the slope of the tapered block 330 coincide. There is also a problem that the contact load cannot be supported well.

그래서, 본 발명은, 반도체 시험 장치의 베이스 유닛에 있어서, 콘택트 하중을 지지함과 함께, 오토 레벨링 동작에 지장을 초래하지 않는 기구를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, an object of the present invention is to provide a mechanism in which a base unit of a semiconductor test apparatus supports a contact load and does not interfere with the auto leveling operation.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 반도체 시험 장치의 베이스 유닛은, 베이스 유닛 본체와, 상기 베이스 유닛 본체의 하방향에 배치되고, 상기 베이스 유닛 본체에 대한 기울기를 변경 가능한, 프로브 카드를 고착시키는 유닛의 상부에 형성되고, 양측에 사면이 형성된 테이퍼 블록과, 상기 베이스 유닛의 하부에 있어서, 상기 테이퍼 블록의 경사 방향에 형성된 가이드를 따라 직선 이동 가능한 1 쌍의 플레이트를 구비하고, 상기 1 쌍의 플레이트는 탄성 수단에 의해 서로 연결되고, 각각의 플레이트는, 상기 가이드에 대한 정지 수단과, 상기 테이퍼 블록의 사면과 접촉하는 위치에 형성되고, 상기 이동 방향으로 회전하는 회전 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, the base unit of the semiconductor test apparatus of the present invention is fixed to the base unit main body and the probe card, which is disposed in the downward direction of the base unit main body and which can change the inclination with respect to the base unit main body. A tapered block formed on an upper portion of the unit and having slopes on both sides thereof, and a pair of plates linearly moved along a guide formed in an inclined direction of the tapered block in a lower portion of the base unit. The plates are connected to each other by elastic means, and each plate is provided with a stop means for the guide and a rotation means formed at a position in contact with a slope of the tapered block and rotating in the direction of movement. It is done.

여기서, 상기 프로브 카드를 고착시키는 유닛의 상기 베이스 유닛 본체에 대한 기울기를 변경할 때에, 상기 정지 수단을 해제하고, 기울기의 변경 종료 후에, 상기 정지 수단을 동작시키는 구동 제어부를 추가로 구비할 수 있다. Here, when changing the inclination with respect to the base unit main body of the unit which fixes the said probe card, the drive control part which cancels the said stop means and operates the said stop means after completion | finish of a change of inclination can be further provided.

또, 상기 테이퍼 블록은, 상기 양측의 사면에 추가하여, 직교하는 양 방향에도 사면이 형성되고, 상기 베이스 유닛의 하부에 있어서, 상기 가이드와 직교하는 방향에 형성된 제 2 가이드를 따라 직선 이동 가능한 1 쌍의 제 2 플레이트를 추가로 구비하고, 상기 1 쌍의 제 2 플레이트는 제 2 탄성 수단에 의해 서로 연결되고, 각각의 플레이트는, 상기 제 2 가이드에 대한 정지 수단과, 상기 테이퍼 블록의 제 2 가이드 방향의 사면과 접촉하는 위치에 형성되고, 상기 이동 방향으로 회전하는 회전 수단을 구비하도록 해도 된다. In addition, the tapered block is in addition to the slopes on both sides, the slopes are formed in both directions perpendicular to each other, and in the lower portion of the base unit, linear movement is possible along the second guide formed in the direction orthogonal to the guides. Further comprising a pair of second plates, the pair of second plates being connected to each other by second elastic means, each plate comprising: a stop means for the second guide and a second of the tapered block It may be provided in the position which contacts the slope in the guide direction, and may be provided with the rotating means which rotates in the said moving direction.

본 발명에 의하면, 반도체 시험 장치의 베이스 유닛에 있어서, 콘택트 하중을 지지함과 함께, 오토 레벨링 동작에 지장을 초래하지 않는 기구가 제공된다.According to the present invention, in the base unit of the semiconductor test apparatus, a mechanism is provided which supports a contact load and which does not interfere with the auto leveling operation.

도 1 은 본 실시형태의 베이스 유닛의 구성을 모식적으로 나타내는 도면.
도 2 는 본 실시형태의 베이스 유닛의 오토 레벨링 동작시의 모습을 나타내는 도면.
도 3 은 종래의 베이스 유닛의 구성을 모식적으로 나타내는 도면.
도 4 는 실린더와 쐐기에 의한 기구가 없는 경우의 문제를 설명하는 도면.
도 5 는 실린더에 의해 쐐기가 외측 방향으로 이동했을 경우를 나타내는 도면.
도 6 은 오토 레벨링 동작을 설명하기 위한 도면.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The figure which shows typically the structure of the base unit of this embodiment.
2 is a diagram illustrating a state in the auto leveling operation of the base unit of the present embodiment.
3 is a diagram schematically showing a configuration of a conventional base unit.
4 is a view for explaining the problem when there is no mechanism by the cylinder and wedge.
Fig. 5 is a diagram showing a case where the wedge moves outward by a cylinder.
6 is a diagram for explaining an auto leveling operation;

본 발명의 실시형태에 대해 도면을 참조하여 설명한다. 도 1 은, 본 실시형태에 있어서의 베이스 유닛의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다. 본 도면에 있어서, 베이스 유닛 본체 (100) 는, 본 도면 상방향에 위치하는 도시되지 않은 테스트 헤드에 의해 유지되고, 톱 플레이트 (110) 는, 본 도면 하방향에 위치하는 도시되지 않은 프로버에 의해 유지되고 있다. Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1: is a figure which shows typically the structure of the base unit in this embodiment. In this figure, the base unit main body 100 is held by an unshown test head located upward in the figure, and the top plate 110 is attached to an unshown prober located in the downward direction in this figure. It is maintained by

링 (120) 은, 착탈 가능한 프로브 카드 (200) 를 고착시키는 유닛으로, 톱 플레이트 (110) 에 고정되어 있다. 링 (120) 의 상면에는, 본 도면 좌우 방향에 사면이 형성된 테이퍼 블록 (130) 이 형성되어 있다. The ring 120 is a unit for fixing the detachable probe card 200 and is fixed to the top plate 110. On the upper surface of the ring 120, a tapered block 130 having a slope formed in the left and right directions of the present drawing is formed.

베이스 유닛 본체 (100) 의 하면에는, 리니어 가이드 (140) 가 테이퍼 블록 (130) 의 경사 방향에 형성되어 있고, 리니어 가이드 (140) 를 따라 본 도면 좌우 방향으로 직선 이동하는 1 쌍의 플레이트 (150) 가 구비되어 있다.On the lower surface of the base unit main body 100, a linear guide 140 is formed in the inclined direction of the tapered block 130, and the pair of plates 150 linearly moving along the linear guide 140 in the left-right direction as shown in the drawing. ) Is provided.

각각의 플레이트 (150) 는, 탄성 수단인 인장 스프링 (154) 에 의해 연결되어 있고, 리니어 가이드 (140) 를 따른 이동을 실시하기 위한 리니어 가이드 블록 (151) 과, 리니어 가이드 (140) 에 대해 정지하는 정지 수단으로서 기능하는 브레이크 (152) 를 구비하고 있다. 브레이크 (152) 는, 예를 들어, 에어 구동에 의해 작동시에 리니어 가이드를 끼워 넣는 구조로 할 수 있다.Each plate 150 is connected by a tension spring 154 which is an elastic means, and stops with respect to the linear guide 140 and the linear guide block 151 for performing the movement along the linear guide 140. And a brake 152 functioning as a stop means to operate. The brake 152 can have a structure which fits a linear guide at the time of an operation by air drive, for example.

또, 각각의 플레이트 (150) 에는, 테이퍼 블록 (130) 의 사면과 접촉하는 위치에, 플레이트 (150) 의 이동 방향으로 회전하는 롤러 (153) 가 구비되어 있다. 롤러 (153) 는, 회전 수단으로서 기능한다. 롤러 (153) 는, 예를 들어, 차륜형이나 원통형으로 할 수 있지만, 구상 등으로 해도 된다.Moreover, each plate 150 is provided with the roller 153 which rotates in the moving direction of the plate 150 in the position which contacts the slope of the taper block 130. As shown in FIG. The roller 153 functions as a rotation means. The roller 153 can be, for example, wheel-shaped or cylindrical, but may be spherical or the like.

브레이크 (152) 의 동작은, 외부의 시퀀서 등으로부터의 제어 신호에 기초하여 구동 제어부 (160) 에 의해 실시된다. 오토 레벨링시에 있어서, 구동 제어부 (160) 는, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 브레이크 (152) 를 해제하여, 플레이트 (150) 를 좌우로 움직일 수 있게 한다. 1 쌍의 플레이트 (150) 는, 인장 스프링 (154) 에 의해 중앙 방향으로 움직이고자 하므로, 양 롤러 (153) 는, 항상 테이퍼 블록 (130) 의 사면에 접하게 된다. The operation of the brake 152 is performed by the drive control unit 160 based on a control signal from an external sequencer or the like. At the time of auto leveling, the drive control part 160 releases the brake 152, as shown in FIG. 2, and enables the plate 150 to move left and right. Since the pair of plates 150 are intended to move in the central direction by the tension springs 154, the rollers 153 always come into contact with the slopes of the tapered blocks 130.

구동 제어부 (160) 는, 오토 레벨링이 종료되면 브레이크 (152) 를 작동시키고, 플레이트 (150) 를 리니어 가이드 (140) 에 고정시켜, 움직이지 않게 한다. 이 상태에서 프로브 카드 (200) 를 피시험 디바이스와 접촉시키면, 프로브 카드 (200) 에 가해지는 콘택트 하중을, 테이퍼 블록 (130) 에 접촉하고 있는 롤러 (153) 를 통하여 베이스 유닛 본체 (100) 로도 지지할 수 있어 프로브 카드 (200) 의 변형을 방지할 수 있다. The drive control unit 160 operates the brake 152 when the auto leveling ends, and fixes the plate 150 to the linear guide 140 so as not to move. When the probe card 200 is brought into contact with the device under test in this state, the contact load applied to the probe card 200 is also transferred to the base unit main body 100 through the roller 153 which is in contact with the tapered block 130. It can be supported so that deformation of the probe card 200 can be prevented.

본 실시형태의 베이스 유닛에 의하면, 종래의 쐐기 (350) 대신에 롤러 (153) 를 사용함으로써, 쐐기 (350) 와 테이퍼 블록 (130) 의 마찰에 의한 오토 레벨링에 대한 악영향을 배제할 수 있다. 또, 브레이크 (152) 를 해제함으로써, 톱 플레이트 (110) 의 오토 레벨링 동작이 가능해지고, 브레이크 (152) 를 작동시킴으써, 프로브 카드 (200) 와 피시험 디바이스의 접촉시에 콘택트 하중을 지지할 수 있게 된다. According to the base unit of this embodiment, by using the roller 153 instead of the conventional wedge 350, the bad influence to the auto leveling by the friction of the wedge 350 and the taper block 130 can be eliminated. In addition, by releasing the brake 152, the auto leveling operation of the top plate 110 becomes possible, and by operating the brake 152, it is possible to support the contact load during contact between the probe card 200 and the device under test. It becomes possible.

브레이크 (152) 를 해제한 상태에서, 롤러 (153) 는 인장 스프링 (154) 에 의해 항상 테이퍼 블록 (130) 의 사면에 접한 상태가 되기 때문에, 톱 플레이트 (110) 의 움직임에 추종할 수 있고, 또, 베이스 유닛 본체 (100) 와 톱 플레이트 (110) 가 평행이 아닌 상태에서도, 콘택트 하중을 베이스 유닛 본체 (100) 로 지지할 수 있다. In the state where the brake 152 is released, the roller 153 is always in contact with the slope of the tapered block 130 by the tension spring 154, so that it can follow the movement of the top plate 110, In addition, even when the base unit main body 100 and the top plate 110 are not parallel, a contact load can be supported by the base unit main body 100.

또한, 브레이크 (152) 의 정지력을 일정하게 하면, 테이퍼 블록 (130) 의 사면의 각도를 완만하게 함으로써, 보다 큰 콘택트 하중을 지지할 수 있게 된다. 또, 상기의 예에서는, 좌우 1 쌍의 플레이트 (150) 를 사용하여, 롤러 (153) 가 테이퍼 블록 (130) 에 접촉하는 2 점에서 콘택트 하중을 베이스 유닛 본체 (100) 방향으로 전달하도록 하고 있지만, 테이퍼 블록의 좌우의 사면에 직교하는 전후방향에도 사면을 형성함과 함께, 리니어 가이드 (140) 에 직교하는 전후 방향에도 리니어 가이드를 형성하고, 플레이트 (150) 와 동일한 구성의 인장 스프링에 의해 연결된 1 쌍의 플레이트를 구비함으로써, 4 점에서 콘택트 하중을 받게 되어, 보다 큰 콘택트 하중을 지지할 수 있게 된다. In addition, when the stopping force of the brake 152 is made constant, a larger contact load can be supported by smoothing the angle of the slope of the tapered block 130. In the above example, the contact load is transmitted in the direction of the base unit main body 100 at two points where the roller 153 is in contact with the tapered block 130 by using the left and right pair of plates 150. In addition, the inclined surface is also formed in the front-rear direction orthogonal to the left and right slopes of the tapered block, the linear guide is also formed in the front-rear direction orthogonal to the linear guide 140 and connected by a tension spring having the same configuration as the plate 150. By providing a pair of plates, a contact load is received at four points, and a larger contact load can be supported.

100 베이스 유닛 본체
110 톱 플레이트
120 링
130 테이퍼 블록
140 리니어 가이드
150 플레이트
151 리니어 가이드 블록
152 브레이크
153 롤러
154 인장 스프링
160 구동 제어부
200 프로브 카드
211 웨이퍼 척
212 피시험 디바이스
300 베이스 유닛 본체
310 톱 플레이트
320 링
330 테이퍼 블록
340 실린더
350 쐐기
360 구동 제어부
100 base unit
110 top plate
120 ring
130 tapered blocks
140 linear guides
150 plates
151 linear guide block
152 brake
153 roller
154 tension spring
160 drive control unit
200 probe cards
211 Wafer Chuck
212 device under test
300 base unit body
310 top plate
320 ring
330 taper block
340 cylinder
350 wedge
360 drive control

Claims (3)

베이스 유닛 본체;
상기 베이스 유닛 본체와 프로브 카드 사이에 배치되고, 상기 베이스 유닛 본체에 대한 기울기를 변경할 수 있고, 서로 연결된 다수의 제1 사면(斜面)을 포함하는 테이퍼 블록; 및
상기 베이스 유닛 본체의 하부에 배치되고, 상기 테이퍼 블록과 마주보는 제1 가이드; 및
상기 제1 가이드를 따라서 직선 이동할 수 있고, 제1 탄성 수단에 의해서 서로 연결된 한쌍의 제1 플레이트를 포함하되,
각각의 상기 제1 플레이트는 상기 제1 가이드에 대한 제1 정지 수단과, 상기 테이퍼 블록의 제1 사면과 접촉하고 상기 제1 플레이트가 이동함에 따라 회전하는 제1 회전 수단을 포함하는 반도체 시험 장치의 베이스 유닛.
A base unit body;
A tapered block disposed between the base unit main body and the probe card, the taper block including a plurality of first slopes connected to each other and capable of changing an inclination with respect to the base unit main body; And
A first guide disposed below the base unit body and facing the tapered block; And
A pair of first plates that can be linearly moved along the first guide and connected to each other by a first elastic means,
Each of the first plates comprising a first stop means for the first guide and a first rotation means in contact with the first slope of the tapered block and rotating as the first plate moves. Base unit.
제 1 항에 있어서,
상기 테이퍼 블록의 상기 베이스 유닛 본체에 대한 기울기를 변경할 때에 상기 정지 수단을 해제하고, 상기 기울기의 변경 종료 후에 상기 정지 수단을 작동시키는 구동 제어부를 더 포함하는 반도체 시험 장치의 베이스 유닛.
The method of claim 1,
And a drive control section for releasing said stop means when changing the inclination of said taper block with respect to said base unit main body and operating said stop means after completion of the change of the inclination.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 테이퍼 블록은, 상기 다수의 제1 사면과 직교하도록 형성된 다수의 제2 사면을 더 포함하고,
상기 베이스 유닛 본체의 하부에 배치되고, 상기 제1 가이드와 직교하도록 형성된 제2 가이드와,
상기 제2 가이드를 따라서 직선 이동할 수 있고, 제2 탄성 수단에 의해서 서로 연결된 한쌍의 제2 플레이트를 포함하되,
각각의 상기 제2 플레이트는 상기 제2 가이드에 대한 정지 수단과, 상기 테이퍼 블록의 제2 사면과 접촉하고 상기 제2 플레이트가 이동함에 따라 회전하는 제2 회전 수단을 포함하는 반도체 시험 장치의 베이스 유닛.
3. The method according to claim 1 or 2,
The tapered block further includes a plurality of second slopes formed to be orthogonal to the plurality of first slopes,
A second guide disposed below the base unit main body and formed to be orthogonal to the first guide;
A pair of second plates that can be linearly moved along the second guide and connected to each other by a second elastic means,
Each of the second plates includes a stop means for the second guide and a second rotation means in contact with the second slope of the tapered block and rotating as the second plate moves. .
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP5796104B1 (en) 2014-05-07 2015-10-21 株式会社 Synax Contact module for measuring electronic components
KR20230106933A (en) 2022-01-07 2023-07-14 와이아이케이 주식회사 Semiconductor test apparatus

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080008271A (en) * 2006-07-19 2008-01-23 동경 엘렉트론 주식회사 Locking mechanism and locking method of probe card, and probe apparatus
KR20080005734U (en) * 2007-05-25 2008-11-28 세크론 주식회사 Jig for aligning a needle of a probe card and Apparatus for inserting a needle of a probe card having the same
KR20080005733U (en) * 2007-05-25 2008-11-28 세크론 주식회사 Jig for fixing a needle of a probe card

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2895989B2 (en) * 1991-06-10 1999-05-31 三菱電機株式会社 Prober apparatus and wafer inspection method
JP2010050437A (en) * 2008-07-25 2010-03-04 Yokogawa Electric Corp Ic tester
JP4873083B2 (en) * 2010-01-08 2012-02-08 横河電機株式会社 Semiconductor test equipment
JP2012080047A (en) * 2010-10-06 2012-04-19 Yokogawa Electric Corp Semiconductor tester

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080008271A (en) * 2006-07-19 2008-01-23 동경 엘렉트론 주식회사 Locking mechanism and locking method of probe card, and probe apparatus
KR20080005734U (en) * 2007-05-25 2008-11-28 세크론 주식회사 Jig for aligning a needle of a probe card and Apparatus for inserting a needle of a probe card having the same
KR20080005733U (en) * 2007-05-25 2008-11-28 세크론 주식회사 Jig for fixing a needle of a probe card

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