JP2012109300A - Base unit of semiconductor testing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体試験装置のベースユニットに係り、特に被試験デバイスとの接触時に受けるコンタクト荷重を支える機構に関する。 The present invention relates to a base unit of a semiconductor test apparatus, and more particularly to a mechanism for supporting a contact load received when contacting a device under test.
半導体デバイスの製造工程において、半導体デバイスの性能・機能等を試験するために半導体試験装置が用いられている。半導体試験装置では、テストヘッドに実装されたベースユニットを、プローバに実装されたプローブカードに接続して被試験デバイス(DUT:Device Under Test)の試験を行なう。 In the manufacturing process of a semiconductor device, a semiconductor test apparatus is used to test the performance and function of the semiconductor device. In a semiconductor test apparatus, a device under test (DUT) is tested by connecting a base unit mounted on a test head to a probe card mounted on a prober.
図3は、従来のベースユニットの構成を模式的に示す図である。本図において、ベースユニット本体300は、本図上方向に位置する図示しないテストヘッドによって保持され、トッププレート310は、本図下方向に位置する図示しないプローバにより保持されている。 FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of a conventional base unit. In this figure, the base unit main body 300 is held by a test head (not shown) located in the upward direction of the figure, and the top plate 310 is held by a prober (not shown) located in the downward direction of the figure.
リング320は、着脱可能なプローブカード200を固着するユニットであり、トッププレート310に固定されている。リング320の上面には、本図左右方向に斜面が形成されたテーパブロック330が設けられている。 The ring 320 is a unit for fixing the removable probe card 200 and is fixed to the top plate 310. On the upper surface of the ring 320, there is provided a taper block 330 having a slope formed in the horizontal direction in the figure.
ベースユニット本体300の下面には、シリンダ340によってベースユニット本体とテーパブロック330との間を左右に移動するくさび350が備えられている。シリンダ340およびくさび350は、テーパブロック330の斜面に対応して1対備えられており、シリンダ340の動作は、外部のシーケンサ等からの制御信号に基づいて駆動制御部360により行なわれる。 A lower surface of the base unit main body 300 is provided with a wedge 350 that moves left and right between the base unit main body and the tapered block 330 by a cylinder 340. The cylinder 340 and the wedge 350 are provided in a pair corresponding to the slope of the taper block 330, and the operation of the cylinder 340 is performed by the drive control unit 360 based on a control signal from an external sequencer or the like.
図3に示すように、シリンダ340によりくさび350が中央方向に位置しているときには、くさび350がテーパブロック330およびベースユニット本体300に接触することにより、被試験デバイスとの接触時にプローブカード200にかかるコンタクト荷重をベースユニット本体300でも支えることができるようになる。この機構がないと、図4に示すように、コンタクト荷重を受けたときに、プローブカード200が変形してしまい、プローブカード200のコンタクト高さにバラツキが生じ、プローブカードと被試験デバイスとが正常にコンタクトできなくなってしまう。 As shown in FIG. 3, when the wedge 350 is positioned in the center direction by the cylinder 340, the wedge 350 comes into contact with the taper block 330 and the base unit main body 300, so that the probe card 200 is brought into contact with the device under test. Such a contact load can be supported also by the base unit main body 300. Without this mechanism, as shown in FIG. 4, when a contact load is applied, the probe card 200 is deformed, resulting in variations in the contact height of the probe card 200, and the probe card and the device under test are not connected. It becomes impossible to contact normally.
一方、プローブカード200のオートレベリング時には、トッププレート310の傾きを変化させることができるように、図5に示すように、シリンダ340によりくさび350を外側方向に移動させる。これにより、くさび350とテーパブロック330との接触状態が解除され、トッププレート310が動けるようになって、傾きを調整することができるようになる。ここで、オートレベリングは、図6に示すように、ウエハチャック211に搭載された被試験デバイス212と、プローブカード200とを平行にするために、トッププレート310の傾きをプローバが調整する動作である。 On the other hand, when the probe card 200 is automatically leveled, the wedge 350 is moved outward by the cylinder 340 as shown in FIG. 5 so that the inclination of the top plate 310 can be changed. Thereby, the contact state between the wedge 350 and the taper block 330 is released, and the top plate 310 can move, so that the inclination can be adjusted. Here, as shown in FIG. 6, the auto leveling is an operation in which the prober adjusts the inclination of the top plate 310 so that the device under test 212 mounted on the wafer chuck 211 and the probe card 200 are parallel to each other. is there.
図3に示した機構において、テーパブロック330とくさび350との接触箇所の摩擦係数が小さいと、コンタクト荷重を支えようとするときに、くさび350が逃げてしまうことになる。一方で、テーパブロック330とくさび350の接触箇所の摩擦係数が大きいと、くさび350を外側方向に移動させる必要のあるオートレベリング時に、くさび350が抜けなくなってしまい、円滑なオートレベリング動作に支障をきたすことになる。したがって、テーパブロック330とくさび350の接触箇所の摩擦係数のコントロールが重要であるが、摩擦係数を適正に調整することは一般に困難である。 In the mechanism shown in FIG. 3, when the friction coefficient at the contact portion between the taper block 330 and the wedge 350 is small, the wedge 350 escapes when trying to support the contact load. On the other hand, if the friction coefficient at the contact point between the taper block 330 and the wedge 350 is large, the wedge 350 cannot be removed during auto-leveling in which it is necessary to move the wedge 350 outward, which hinders smooth auto-leveling operation. Will come. Therefore, although it is important to control the friction coefficient at the contact point between the taper block 330 and the wedge 350, it is generally difficult to properly adjust the friction coefficient.
さらに、オートレベリングによりトッププレート310の傾きが変わると、トッププレート310とベースユニット本体300とが平行でなくなり、くさび350の斜面とテーパブロック330の斜面とが一致せず、コンタクト荷重をうまく受けられなくなるという問題もある。 Further, when the inclination of the top plate 310 is changed by auto-leveling, the top plate 310 and the base unit main body 300 are not parallel to each other, the slope of the wedge 350 and the slope of the taper block 330 do not coincide with each other, and the contact load can be received well. There is also a problem of disappearing.
そこで、本発明は、半導体試験装置のベースユニットにおいて、コンタクト荷重を支えるとともに、オートレベリング動作に支障をきたさない機構を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a mechanism that supports a contact load and does not hinder an automatic leveling operation in a base unit of a semiconductor test apparatus.
上記課題を解決するため、本発明の半導体試験装置のベースユニットは、ベースユニット本体と、前記ベースユニット本体の下方向に配置され、前記ベースユニット本体に対する傾きを変更可能な、プローブカードを固着するユニットの上部に設けられ、両側に斜面が形成されたテーパブロックと、前記ベースユニットの下部において、前記テーパブロックの傾斜方向に設けられたガイド沿って直線移動可能な1対のプレートとを備え、前記1対のプレートは弾性手段により互いに連結され、それぞれのプレートは、前記ガイドに対する停止手段と、前記テーパブロックの斜面と接触する位置に設けられ、前記移動方向に回転する回転手段とを備えていることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, a base unit of a semiconductor test apparatus according to the present invention has a base unit main body and a probe card that is disposed in a downward direction of the base unit main body and can change an inclination with respect to the base unit main body. A taper block provided on the upper part of the unit and having slopes formed on both sides thereof, and a pair of plates that can move linearly along guides provided in the inclination direction of the taper block at the lower part of the base unit; The pair of plates are connected to each other by elastic means, and each plate includes a stopping means for the guide and a rotating means provided at a position in contact with the inclined surface of the tapered block and rotating in the moving direction. It is characterized by being.
ここで、前記プローブカードを固着するユニットの前記ベースユニット本体に対する傾きを変更する際に、前記停止手段を解除し、傾きの変更終了後に、前記停止手段を動作させる駆動制御部をさらに備えることができる。 Here, when changing the inclination of the unit that fixes the probe card with respect to the base unit main body, the apparatus further includes a drive control unit that releases the stop means and operates the stop means after the change of the inclination is completed. it can.
また、前記テーパブロックは、前記両側の斜面に加え、直交する両方向にも斜面が形成され、前記ベースユニットの下部において、前記ガイドと直交する方向に設けられた第2ガイドに沿って直線移動可能な1対の第2プレートをさらに備え、前記1対の第2プレートは第2弾性手段により互いに連結され、それぞれのプレートは、前記第2ガイドに対する停止手段と、前記テーパブロックの第2ガイド方向の斜面と接触する位置に設けられ、前記移動方向に回転する回転手段とを備えるようにしてもよい。 In addition to the slopes on both sides, the taper block has slopes in both orthogonal directions, and can be linearly moved along the second guide provided in the direction perpendicular to the guides at the bottom of the base unit. A pair of second plates, the pair of second plates being connected to each other by a second elastic means, each plate having a stop means for the second guide and a second guide direction of the taper block. It may be provided with a rotating means that is provided at a position in contact with the slope and rotates in the moving direction.
本発明によれば、半導体試験装置のベースユニットにおいて、コンタクト荷重を支えるとともに、オートレベリング動作に支障をきたさない機構が提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, in the base unit of a semiconductor test device, while supporting a contact load, the mechanism which does not cause trouble in an auto leveling operation | movement is provided.
本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。図1は、本実施形態におけるベースユニットの構成を模式的に示す図である。本図おいて、ベースユニット本体100は、本図上方向に位置する図示しないテストヘッドによって保持され、トッププレート110は、本図下方向に位置する図示しないプローバにより保持されている。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a base unit in the present embodiment. In this figure, the base unit main body 100 is held by a test head (not shown) located in the upward direction of the figure, and the top plate 110 is held by a prober (not shown) located in the downward direction of the figure.
リング120は、着脱可能なプローブカード200を固着するユニットであり、トッププレート110に固定されている。リング120の上面には、本図左右方向に斜面が形成されたテーパブロック130が設けられている。 The ring 120 is a unit for fixing the removable probe card 200 and is fixed to the top plate 110. On the upper surface of the ring 120, a tapered block 130 having a slope formed in the left-right direction in the figure is provided.
ベースユニット本体100の下面には、リニアガイド140がテーパブロック130の傾斜方向に設けられており、リニアガイド140に沿って本図左右方向に直線移動する1対のプレート150が備えられている。 On the lower surface of the base unit main body 100, a linear guide 140 is provided in the inclination direction of the taper block 130, and a pair of plates 150 that move linearly in the horizontal direction of the figure along the linear guide 140 are provided.
それぞれのプレート150は、弾性手段である引っ張りバネ154によって連結されており、リニアガイド140に沿った移動を行なうためのリニアガイドブロック151と、リニアガイド140に対して停止する停止手段として機能するブレーキ152とを備えている。ブレーキ152は、例えば、エア駆動によって作動時にリニアガイドを挟み込む構造とすることができる。 Each plate 150 is connected by a tension spring 154 that is an elastic means, and a linear guide block 151 for moving along the linear guide 140 and a brake that functions as a stopping means for stopping the linear guide 140. 152. For example, the brake 152 may have a structure in which a linear guide is sandwiched when operated by air drive.
また、それぞれのプレート150には、テーパブロック130の斜面と接触する位置に、プレート150の移動方向に回転するローラ153が備えられている。ローラ153は、回転手段として機能する。ローラ153は、例えば、車輪型や円筒型とすることができるが、球状等としてもよい。 Each plate 150 is provided with a roller 153 that rotates in the moving direction of the plate 150 at a position in contact with the inclined surface of the taper block 130. The roller 153 functions as a rotating unit. The roller 153 can be, for example, a wheel type or a cylindrical type, but may be a spherical shape or the like.
ブレーキ152の動作は、外部のシーケンサ等からの制御信号に基づいて駆動制御部160により行なわれる。オートレベリング時において、駆動制御部160は、図2に示すように、ブレーキ152を解除して、プレート150が左右に動けるようにする。1対のプレート150は、引っ張りバネ154により中央方向に動こうとするので、両ローラ153は、常にテーパブロック130の斜面に接することになる。 The operation of the brake 152 is performed by the drive control unit 160 based on a control signal from an external sequencer or the like. During auto-leveling, the drive control unit 160 releases the brake 152 so that the plate 150 can move left and right as shown in FIG. Since the pair of plates 150 tends to move in the central direction by the tension spring 154, both the rollers 153 are always in contact with the inclined surface of the taper block 130.
駆動制御部160は、オートレベリングが終了するとブレーキ152を作動させて、プレート150をリニアガイド140に固定し、動かないようにする。この状態でプローブカード200を被試験デバイスと接触させると、プローブカード200にかかるコンタクト荷重を、テーパブロック130に接触しているローラ153を介してベースユニット本体100でも支えることができ、プローブカード200の変形を防ぐことができる。 When the automatic leveling is completed, the drive control unit 160 operates the brake 152 to fix the plate 150 to the linear guide 140 and prevent it from moving. When the probe card 200 is brought into contact with the device under test in this state, the contact load applied to the probe card 200 can be supported also by the base unit main body 100 via the roller 153 in contact with the taper block 130. Can prevent deformation.
本実施形態のベースユニットによれば、従来のくさび350に代えてローラ153を用いたことにより、くさび350とテーパブロック130との摩擦によるオートレベリングへの悪影響を排除することができる。また、ブレーキ152を解除することにより、トッププレート110のオートレベリング動作が可能となり、ブレーキ152を作動させることにより、プローブカード200と被試験デバイスとの接触時にコンタクト荷重を支えることができるようになる。 According to the base unit of the present embodiment, by using the roller 153 instead of the conventional wedge 350, it is possible to eliminate an adverse effect on auto-leveling due to friction between the wedge 350 and the taper block 130. Further, by releasing the brake 152, an automatic leveling operation of the top plate 110 becomes possible, and by operating the brake 152, a contact load can be supported when the probe card 200 and the device under test are in contact with each other. .
ブレーキ152を解除した状態で、ローラ153は引っ張りバネ154により常にテーパブロック130の斜面に接した状態となるため、トッププレート110の動きに追従することができ、また、ベースユニット本体100とトッププレート110とが平行でない状態でも、コンタクト荷重をベースユニット本体100で支えることができる。 In a state where the brake 152 is released, the roller 153 is always in contact with the inclined surface of the taper block 130 by the tension spring 154, so that the movement of the top plate 110 can be followed, and the base unit body 100 and the top plate The contact load can be supported by the base unit main body 100 even in a state where 110 is not parallel.
なお、ブレーキ152の停止力を一定とすると、テーパブロック130の斜面の角度を緩やかにすることで、より大きなコンタクト荷重を支えることができるようになる。また、上記の例では、左右1対のプレート150を用い、ローラ153がテーパブロック130に接触する2点でコンタクト荷重をベースユニット本体100方向に伝達するようにしているが、テーパブロックの左右の斜面に直交する前後方向にも斜面を形成するとともに、リニアガイド140に直交する前後方向にもリニアガイドを設け、プレート150と同様の構成の引っ張りバネにより連結された1対のプレートを備えることで、4点でコンタクト荷重を受けることになり、より大きなコンタクト荷重を支えることが可能となる。 If the stopping force of the brake 152 is constant, a larger contact load can be supported by making the angle of the inclined surface of the taper block 130 gentle. In the above example, a pair of left and right plates 150 are used, and the contact load is transmitted toward the base unit main body 100 at two points where the roller 153 contacts the taper block 130. By forming a slope also in the front-rear direction orthogonal to the slope, providing a linear guide in the front-rear direction orthogonal to the linear guide 140, and having a pair of plates connected by a tension spring having the same configuration as the plate 150 The contact load is received at four points, and a larger contact load can be supported.
100…ベースユニット本体
110…トッププレート
120…リング
130…テーパブロック
140…リニアガイド
150…プレート
151…リニアガイドブロック
152…ブレーキ
153…ローラ
154…引っ張りバネ
160…駆動制御部
200…プローブカード
211…ウエハチャック
212…被試験デバイス
300…ベースユニット本体
310…トッププレート
320…リング
330…テーパブロック
340…シリンダ
350…くさび
360…駆動制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Base unit main body 110 ... Top plate 120 ... Ring 130 ... Taper block 140 ... Linear guide 150 ... Plate 151 ... Linear guide block 152 ... Brake 153 ... Roller 154 ... Tensile spring 160 ... Drive control part 200 ... Probe card 211 ... Wafer Chuck 212 ... Device under test 300 ... Base unit body 310 ... Top plate 320 ... Ring 330 ... Taper block 340 ... Cylinder 350 ... Wedge 360 ... Drive controller
Claims (3)
前記ベースユニット本体の下方向に配置され、前記ベースユニット本体に対する傾きを変更可能な、プローブカードを固着するユニットの上部に設けられ、両側に斜面が形成されたテーパブロックと、
前記ベースユニットの下部において、前記テーパブロックの傾斜方向に設けられたガイド沿って直線移動可能な1対のプレートとを備え、
前記1対のプレートは弾性手段により互いに連結され、それぞれのプレートは、前記ガイドに対する停止手段と、前記テーパブロックの斜面と接触する位置に設けられ、前記移動方向に回転する回転手段とを備えていることを特徴とする半導体試験装置のベースユニット。 The base unit body,
A taper block that is disposed in the lower direction of the base unit body and can be changed in inclination with respect to the base unit body, provided on the upper part of the unit that fixes the probe card, and has slopes formed on both sides;
A pair of plates that are linearly movable along guides provided in the inclination direction of the taper block at the bottom of the base unit;
The pair of plates are connected to each other by elastic means, and each plate includes a stopping means for the guide and a rotating means provided at a position in contact with the inclined surface of the tapered block and rotating in the moving direction. A base unit for a semiconductor test apparatus.
前記ベースユニットの下部において、前記ガイドと直交する方向に設けられた第2ガイドに沿って直線移動可能な1対の第2プレートをさらに備え、
前記1対の第2プレートは第2弾性手段により互いに連結され、それぞれのプレートは、前記第2ガイドに対する停止手段と、前記テーパブロックの前記第2ガイド方向の斜面と接触する位置に設けられ、前記移動方向に回転する回転手段とを備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体試験装置のベースユニット。 In addition to the slopes on both sides, the taper block has slopes formed in both orthogonal directions,
A lower portion of the base unit further comprising a pair of second plates movable linearly along a second guide provided in a direction orthogonal to the guide;
The pair of second plates are connected to each other by second elastic means, and each plate is provided at a position in contact with a stopping means for the second guide and an inclined surface of the tapered block in the second guide direction, The base unit of the semiconductor test apparatus according to claim 1, further comprising a rotating unit that rotates in the moving direction.
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