KR101347259B1 - Evaporating apparatus of organic matter - Google Patents

Evaporating apparatus of organic matter Download PDF

Info

Publication number
KR101347259B1
KR101347259B1 KR1020120015717A KR20120015717A KR101347259B1 KR 101347259 B1 KR101347259 B1 KR 101347259B1 KR 1020120015717 A KR1020120015717 A KR 1020120015717A KR 20120015717 A KR20120015717 A KR 20120015717A KR 101347259 B1 KR101347259 B1 KR 101347259B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
unit
injection unit
support controller
deposit
crucible
Prior art date
Application number
KR1020120015717A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130094460A (en
Inventor
최동권
Original Assignee
성안기계 (주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 성안기계 (주) filed Critical 성안기계 (주)
Priority to KR1020120015717A priority Critical patent/KR101347259B1/en
Publication of KR20130094460A publication Critical patent/KR20130094460A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101347259B1 publication Critical patent/KR101347259B1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/246—Replenishment of source material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/453—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Abstract

본 발명은 증착 공정이 대기압에서 연속적으로 이루어질 수 있도록 한 유기물 증착장치에 관한 것이다.
그 구성은, 피증착물 언와인더 및 리와인더, 그리고 상기 언와인더 및 리와인더에 개재되어 이송되는 상기 피증착물을 받치게 되는 서포트롤러를 포함하는 이송유닛; 상기 서포트롤러 상측에 배치되고, 기상(氣相)의 유기물을 상기 서포트롤러에 지지된 피증착물을 향해 토출하게 되는 분사유닛; 상기 유기물을 기화시켜 상기 분사유닛으로 공급하게 되는 피딩유닛; 및 하방 개구부를 갖고 상기 서포트롤러 상측에 배치되되, 상기 분사유닛 주위를 감싸도록 배치되어 분사유닛에서 토출되는 기상 유기물의 외부 확산을 방지하게 되는 스크린유닛;을 포함하여 이루어진다.
이와 같은 구성에 의하면, 이송유닛에 의해 피증착물이 연속적으로 이송될 수 있으며, 스크린유닛에 의해 분사유닛에서 토출되는 기상 유기물의 외부 확산이 방지됨으로써 유기물 증착 공정이 대기압에서 연속적으로 이루어질 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to an organic material deposition apparatus in which a deposition process can be continuously performed at atmospheric pressure.
The configuration includes a transfer unit including a deposit unwinder and a rewinder and a support controller supporting the deposit to be transported through the unwinder and the rewinder; An injection unit disposed above the support controller and discharging an organic substance in a gaseous phase toward an object to be supported by the support controller; A feeding unit for vaporizing the organic material and supplying the organic material to the injection unit; And a screen unit having a lower opening and disposed above the support controller, the screen unit being disposed to surround the injection unit to prevent external diffusion of the gaseous organic matter discharged from the injection unit.
According to this configuration, the deposit can be continuously transferred by the transfer unit, and the diffusion of the vapor phase organic matter discharged from the spray unit by the screen unit is prevented, so that the organic deposition process can be continuously performed at atmospheric pressure. have.

Figure R1020120015717
Figure R1020120015717

Description

대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치{EVAPORATING APPARATUS OF ORGANIC MATTER}Organic vapor deposition apparatus capable of atmospheric and continuous processes {EVAPORATING APPARATUS OF ORGANIC MATTER}

본 발명은 증착 공정이 대기압에서 연속적으로 이루어질 수 있도록 한 유기물 증착장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an organic material deposition apparatus in which a deposition process can be continuously performed at atmospheric pressure.

유기물 증착장치에 관한 기술로는 대한민국 등록특허공보 제10-0477546호(2005년 03월 18일 공고, 이하 '선행기술'이라고 함) "유기물질 증착방법 및 이를 적용한 장치"가 제시되어 있다.As a technology related to an organic material deposition apparatus, Republic of Korea Patent Publication No. 10-0477546 (announced on March 18, 2005, hereinafter referred to as "advanced technology") "organic material deposition method and apparatus applied thereto" is presented.

상기 선행기술은,The prior art,

"일측에 배기부가 마련된 증착챔버와;A deposition chamber provided with an exhaust unit at one side;

상기 증착챔버 내에 마련되어 유기물의 증착대상인 기판 및 이를 마스킹하는 메탈마스크를 장착하는 기판홀더와;A substrate holder provided in the deposition chamber to mount a substrate to be deposited with an organic material and a metal mask for masking the substrate;

상기 기판에 대면하여 외부로부터의 유기물 증기를 상기 기판으로 공급하는 것으로, 유입된 유기물 증기를 다단으로 확산 공급하기 위한 복수의 증기 유동공간을 가지며, 증기 유동공간의 사이에는 증기 확산판이 마련되어 있는 매니폴드와;Supplying organic vapor from the outside facing the substrate to the substrate, and has a plurality of vapor flow space for diffusing and supplying the introduced organic vapor in multiple stages, the manifold having a vapor diffusion plate between the vapor flow space Wow;

상기 증착챔버의 외부에 마련되어, 상기 유기물 증기를 발생하는 유기물 증기 발생부와;An organic vapor generator provided outside the deposition chamber to generate the organic vapor;

상기 증기 발생부로부터의 증기를 상기 매니폴드로 이송하는 증기 이송부와;A vapor transfer unit transferring the steam from the steam generator to the manifold;

상기 증기발생부에 캐리어가스를 공급하는 캐리어 가스 공급부"Carrier gas supply unit for supplying a carrier gas to the steam generating unit "

로 이루어진 것으로서,Consisting of,

대면적의 기판에 유기 물질을 균일하게 증착시킬 수 있도록 한 기술이다.
It is a technology that enables the uniform deposition of organic materials on large area substrates.

상기 선행기술은 증기 발생부에서 발생시킨 유기물 증기를 이송 가스와 혼합하여 증착챔버 내에 장착된 기판에 분사함으로써 증착을 진행하되, 유기물 증기가 매니폴드에 의해 확산되도록 함으로써 대면적의 기판에 대한 효과적인 증착이 가능하도록 하고는 있으나,The prior art is to perform the deposition by mixing the organic vapor generated in the steam generating unit with the transport gas and sprayed on the substrate mounted in the deposition chamber, the organic vapor is diffused by the manifold for effective deposition on a large area substrate Although this is possible,

유기물 증기의 증착 시 증착챔버 내에 진공상태가 유지되어야 함으로써 이를 롤투롤(roll to roll) 방식에 적용하기가 곤란한 문제가 있다.Since the vacuum state must be maintained in the deposition chamber during the deposition of the organic vapor, there is a problem that it is difficult to apply to the roll to roll method.

즉, 유기물의 증착이 대기압에서 연속적으로 이루어질 수 있도록 하는 별도의 기술이 요구되는 바이다.
That is, a separate technique is required to allow the deposition of the organic material to be continuously performed at atmospheric pressure.

상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 의한 대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치는,In order to solve the above problems, the organic vapor deposition apparatus capable of an atmospheric pressure process and a continuous process according to the present invention,

피증착물 언와인더 및 리와인더, 그리고 상기 언와인더 및 리와인더에 개재되어 이송되는 상기 피증착물을 받치게 되는 서포트롤러를 포함하는 이송유닛;A transfer unit including a deposit unwinder and a rewinder and a support controller supporting the deposit to be transported by being interposed between the unwinder and the rewinder;

상기 서포트롤러 상측에 배치되고, 기상(氣相)의 유기물을 상기 서포트롤러에 지지된 피증착물을 향해 토출하게 되는 분사유닛;An injection unit disposed above the support controller and discharging an organic substance in a gaseous phase toward an object to be supported by the support controller;

상기 유기물을 기화시켜 상기 분사유닛으로 공급하게 되는 피딩유닛; 및A feeding unit for vaporizing the organic material and supplying the organic material to the injection unit; And

하방 개구부를 갖고 상기 서포트롤러 상측에 배치되되, 상기 분사유닛 주위를 감싸도록 배치되어 분사유닛에서 토출되는 기상 유기물의 외부 확산을 방지하게 되는 스크린유닛;A screen unit having a lower opening and disposed above the support controller, the screen unit being disposed to surround the injection unit to prevent external diffusion of the gaseous organic matter discharged from the injection unit;

을 포함하여 이루어진다.
.

본 발명의 다른 특징에 의하면,According to another aspect of the present invention,

상기 스크린유닛을 가열하기 위한 히팅수단이 더 구비된다.
Heating means for heating the screen unit is further provided.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면,According to another feature of the invention,

상기 스크린유닛 내부의 잉여 기상 유기물을 배출하기 위한 흡입유닛이 더 구비된다.
A suction unit for discharging excess gaseous organic matter inside the screen unit is further provided.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면,According to another feature of the invention,

상기 흡입유닛은 상기 분사유닛 전방 및 후방에 각각 배치되는 두 흡입노즐을 포함하여 이루어진다.
The suction unit includes two suction nozzles respectively disposed in front and rear of the injection unit.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면,According to another feature of the invention,

상기 피딩유닛은The feeding unit

상기 유기물이 수용되는 도가니,Crucibles in which the organic material is accommodated,

상기 도가니를 감싸고, 상기 유기물의 기화를 위해 상기 도가니를 가열하게 되는 제1히팅모듈,A first heating module surrounding the crucible and heating the crucible for vaporizing the organic material;

상기 분사유닛과 상기 도가니를 연결하는 이송라인,A transfer line connecting the injection unit and the crucible,

상기 도가니에 연결되고, 도가니 내의 기상 유기물을 위한 이송가스를 공급하게 되는 가스공급부, 그리고A gas supply unit connected to the crucible and configured to supply a transfer gas for gaseous organic matter in the crucible, and

상기 도가니와 상기 가스공급부에 개재되고, 상기 도가니로 공급되는 이송가스를 가열하게 되는 제2히팅모듈A second heating module interposed between the crucible and the gas supply unit and heating the transfer gas supplied to the crucible

을 포함하여 이루어진다.
.

본 발명에 의한 대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치는,The organic vapor deposition apparatus capable of atmospheric pressure process and continuous process according to the present invention,

이송유닛에 의해 피증착물이 연속적으로 이송될 수 있으며, 스크린유닛에 의해 분사유닛에서 토출되는 기상 유기물의 외부 확산이 방지됨으로써 유기물 증착 공정이 대기압에서 연속적으로 이루어질 수 있는 효과가 있다.
The deposit can be continuously transported by the transfer unit, and the diffusion of the vapor phase organic matter discharged from the spray unit by the screen unit is prevented, so that the organic material deposition process can be continuously performed at atmospheric pressure.

또한, 스크린유닛을 가열하기 위한 히팅수단이 구비됨에 따라, 분사유닛에서 토출되는 기상 유기물이 스크린유닛 내벽면에 접촉되어 응축되는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
In addition, the heating means for heating the screen unit is provided, there is an effect that can prevent the phenomenon that the vapor phase organic substance discharged from the injection unit is in contact with the inner wall surface of the screen unit condensation.

또한, 흡입유닛이 구비됨에 따라, 스크린유닛 내부의 잉여 기상 유기물을 용이하게 배출할 수 있는 효과가 있다.
In addition, as the suction unit is provided, there is an effect that can easily discharge the excess gaseous organic matter inside the screen unit.

도 1은 본 발명의 실시예에 의한 대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치의 개략도.
도 2는 도 1에 도시된 도가니 및 제1히팅모듈을 절개하여 도시한 사시도.1 is a schematic diagram of an organic vapor deposition apparatus capable of an atmospheric pressure process and a continuous process according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a perspective view showing the crucible and the first heating module shown in Figure 1 cut.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 도 2에서와 같이, 본 발명의 실시예에 의한 대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치는 크게 이송유닛(100), 분사유닛(200), 피딩유닛(300), 스크린유닛(400) 및 흡입유닛(500)으로 이루어진다.1 and 2, the organic vapor deposition apparatus capable of an atmospheric pressure process and a continuous process according to an embodiment of the present invention largely transfer unit 100, injection unit 200, feeding unit 300, screen unit 400 ) And the suction unit 500.

이하 각 구성에 대해 살펴보면,
Looking at each configuration below,

상기 이송유닛(100)은The transfer unit 100

피증착물(10)을 이송하기 위한 것으로서,As for conveying the deposit 10,

피증착물(10) 언와인더(unwinder)(110) 및 리와인더(rewinder)(120), 그리고 Unwinder 110 and rewinder 120, and

상기 언와인더(110) 및 리와인더(120)에 개재(介在)되어 이송되는 상기 피증착물(10)을 받치게 되는 서포트롤러(130)를 포함하여 이루어진다.
And a support controller 130 supporting the deposit 10 to be transported by being interposed between the unwinder 110 and the rewinder 120.

여기서 상기 피증착물(10)은 가요성(可撓性)이 있는 기판으로써 웨브(web) 형태로 이루어져 상기 언와인더(110)에서 상기 리와인더(120)로 연속적으로 이송된다.
In this case, the deposit 10 is a flexible substrate and has a web shape, and is continuously transferred from the unwinder 110 to the rewinder 120.

상기 분사유닛(200)은The injection unit 200 is

상기 서포트롤러(130) 상측에 배치되는 것으로서,As disposed above the support controller 130,

후술될 피딩유닛(300)에 의해 공급되는 기상(氣相)의 유기물을 상기 서포트롤러(130)에 지지된 피증착물(10)을 향해 토출하게 된다.
The organic substance in the gaseous phase supplied by the feeding unit 300 to be described later is discharged toward the deposit 10 supported by the support controller 130.

상기 분사유닛(200)은 토출되는 기상 유기물이 상기 서포트롤러(130)에 지지된 피증착물(10)에 집중될 수 있도록 상기 서포트롤러(130)에 근접 배치된다.The injection unit 200 is disposed close to the support controller 130 so that the gaseous organic substance discharged may be concentrated on the deposit 10 supported by the support controller 130.

그리고 이때 상기 분사유닛(200)과 상기 서포트롤러(130)의 간격은 10㎜이내로 유지되도록 하되, 상기 피증착물(10)에 증착된 유기물의 두께 균일도를 확보하기 위하여 그 거리가 가변될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.
And at this time, the interval between the injection unit 200 and the support controller 130 is to be maintained within 10mm, so that the distance can be varied to ensure the thickness uniformity of the organic material deposited on the deposition object 10 It is preferable.

상기 분사유닛(200)은 공지의 각종 노즐로 이루어질 수 있으며, 상기 선행기술에서와 같이 매니폴드(manifold) 형태로 이루어질 수도 있다.
The injection unit 200 may be made of a variety of known nozzles, it may be made in the form of a manifold (manifold) as in the prior art.

상기 피딩유닛(300)은The feeding unit 300 is

고상(固相) 또는 액상(液相)의 유기물을 기화(氣化)시켜 상기 분사유닛(200)으로 공급하게 되는 것으로서,It is to be supplied to the injection unit 200 by vaporizing a solid or liquid organic matter,

상기 유기물이 수용되는 도가니(310),Crucible 310 is the organic material is accommodated,

상기 도가니(310)를 감싸고, 상기 유기물의 기화를 위해 상기 도가니(310)를 가열하게 되는 제1히팅모듈(320),A first heating module 320 which surrounds the crucible 310 and heats the crucible 310 for vaporization of the organic material;

상기 분사유닛(200)과 상기 도가니(310)를 연결하는 이송라인(330),Transfer line 330 for connecting the injection unit 200 and the crucible 310,

상기 도가니(310)에 연결되고, 도가니(310) 내의 기상 유기물을 위한 이송가스를 공급하게 되는 가스공급부(340), 그리고A gas supply unit 340 connected to the crucible 310 to supply a transfer gas for gaseous organic substances in the crucible 310, and

상기 도가니(310)와 상기 가스공급부(340)에 개재되고, 상기 도가니(310)로 공급되는 이송가스를 가열하게 되는 제2히팅모듈(350)을 포함하여 이루어진다.
Interposed between the crucible 310 and the gas supply unit 340, and comprises a second heating module 350 for heating the feed gas supplied to the crucible (310).

상기 도가니(310)는 상부가 개방된 원통 형상을 갖고, 그 하부 중앙에는 상기 가스공급부(340)에 의해 공급되는 이송가스가 도가니(310) 내부로 유입될 수 있도록 이송가스 유입라인(360)이 관통 배치된다.
The crucible 310 has a cylindrical shape with an open upper portion, and a transfer gas inflow line 360 is provided at a lower center thereof so that the transfer gas supplied by the gas supply unit 340 can be introduced into the crucible 310. Placed through.

여기서 상기 도가니(310)는 석영(quartz)으로 이루어지는 것이 바람직하다.Here, the crucible 310 is preferably made of quartz.

그리고 상기 이송가스는 질소가스가 사용되는 것이 바람직하며, 필요에 따라 알곤가스나 헬륨가스 등의 불활성 가스가 사용될 수 있다.
In addition, nitrogen gas may be used as the transport gas, and an inert gas such as argon gas or helium gas may be used as necessary.

상기 제1히팅모듈(320)은 저항가열(resistance heating) 방식의 히터로 이루어지되, 상기 도가니(310)의 하면 및 외주면을 감싸는 바디부(321)와, 상기 도가니(310) 상부에 결합되어 도가니(310)를 밀폐시키게 되는 캡부(322)로 이루어지며, 상기 캡부(322)의 중앙에는 상기 이송라인(330)이 연결된다.
The first heating module 320 is made of a heater of the resistance heating method, the body portion 321 surrounding the lower surface and the outer peripheral surface of the crucible 310 and the crucible 310 is coupled to the upper portion of the crucible It is made of a cap portion 322 to seal the 310, the transfer line 330 is connected to the center of the cap portion 322.

결국, 상기 제1히팅모듈(320)은 상기 도가니(310)를 가열함으로써 도가니(310)에 수용된 유기물을 기화시키고, 이에 의해 발생한 기상 유기물은 상기 가스공급부(340)로부터 공급되는 이송가스와 함께 상기 이송라인(330) 및 상기 분사유닛(200)을 지나 토출되어 상기 피증착물(10) 표면에 증착된다.
As a result, the first heating module 320 vaporizes the organic matter contained in the crucible 310 by heating the crucible 310, and the gaseous organic matter generated by the first heating module 320 together with the transfer gas supplied from the gas supply part 340. Discharged through the transfer line 330 and the injection unit 200 is deposited on the surface of the deposit 10.

상기 제2히팅모듈(350)은 상기 가스공급부(340)에서 상기 도가니(310)로 공급되는 이송가스를 가열함으로써 상기 이송가스와 상기 기상 유기물의 온도차에 의해 기상 유기물이 응축되는 것을 방지하게 된다.
The second heating module 350 heats the transport gas supplied from the gas supply unit 340 to the crucible 310 to prevent the gaseous organic matter from being condensed by the temperature difference between the transport gas and the gaseous organic matter.

그리고 상기 이송라인(330) 및 상기 유입라인(360)에는 각각 밸브(V1, V2)가 설치되며, 상기 각 밸브(V1, V2)는 각각 기상 유기물 및 이송가스의 흐름을 단속하게 된다.
In addition, valves V1 and V2 are respectively installed in the transfer line 330 and the inflow line 360, and each of the valves V1 and V2 interrupts the flow of gaseous organic material and the transfer gas, respectively.

한편, 상기 이송라인(330)에도 별도의 가열수단을 마련함으로써 상기 도가니(310)에서 상기 분사유닛(200)으로 공급되는 기상 유기물이 온도 하강에 의해 응축되지 않도록 관리하는 것이 바람직하다.
On the other hand, by providing a separate heating means in the transfer line 330, it is preferable to manage so that the gaseous organic substance supplied from the crucible 310 to the injection unit 200 is not condensed by the temperature drop.

상기 스크린유닛(400)은The screen unit 400

하방 개구부(410)를 갖고 상기 서포트롤러(130) 상측에 배치되되, 상기 분사유닛(200) 주위를 감싸도록 배치된다.
The lower opening 410 is disposed above the support controller 130, and is disposed to surround the injection unit 200.

즉, 상기 스크린유닛(400)은 상기 분사유닛(200) 주위를 외부와 차단함으로써 분사유닛(200)에서 토출되는 기상 유기물의 외부 확산을 방지하게 된다.
That is, the screen unit 400 prevents the external diffusion of the gaseous organic matter discharged from the injection unit 200 by blocking the surroundings of the injection unit 200 from the outside.

한편, 상기 분사유닛(200)에서 토출되는 기상 유기물의 원활한 증착을 위해 상기 스크린유닛(400)에는 히팅수단(미도시)이 구비되고, 상기 서포트롤러(130)에는 쿨링수단(미도시)이 구비될 수 있다.
Meanwhile, a heating means (not shown) is provided on the screen unit 400 and a cooling means (not shown) is provided on the support controller 130 for smooth deposition of the gaseous organic substance discharged from the injection unit 200. Can be.

여기서 상기 히팅수단은 상기 스크린유닛(400)을 가열함으로써 상기 분사유닛(200)에서 토출되는 기상 유기물이 상기 스크린유닛(400) 내벽면에 접촉되어 응축되는 것을 방지하게 되고,Here, the heating means prevents the vapor phase organic substance discharged from the injection unit 200 from contacting the inner wall surface of the screen unit 400 by condensation by heating the screen unit 400.

상기 쿨링수단은 상기 서포트롤러(130) 및 이에 지지된 상기 피증착물(10)을 냉각시킴으로써 상기 분사유닛(200)에서 토출되는 기상 유기물이 상기 피증착물(10)에 더욱 용이하게 증착될 수 있게 한다.
The cooling means cools the support controller 130 and the deposit 10 supported therein, so that the gaseous organic matter discharged from the injection unit 200 may be more easily deposited on the deposit 10. .

상기 흡입유닛(500)은The suction unit 500 is

상기 스크린유닛(400) 내부의 잉여 기상 유기물을 배출하기 위한 것으로서,As to discharge the excess gaseous organic matter inside the screen unit 400,

상기 스크린유닛(400) 내부에 배치되는 흡입노즐(510),Suction nozzle 510 disposed inside the screen unit 400,

상기 흡입노즐(510)과 연결되는 배출라인(520), 그리고A discharge line 520 connected to the suction nozzle 510, and

상기 배출라인(520)에 설치되는 흡입펌프(530)를 포함하여 이루어진다.
It includes a suction pump 530 is installed in the discharge line 520.

여기서 상기 흡입노즐(510)은 두 개가 구비되어 상기 분사유닛(200)의 전방 및 후방에 각각 배치되는데,Here, two suction nozzles 510 are provided, which are disposed at the front and the rear of the injection unit 200, respectively.

이에 따라 상기 흡입유닛(500)은 증착 후 남은 기상 유기물 및 이송가스가 곧바로 배출될 수 있도록 함으로써 잉여 기상 유기물 및 이송가스의 확산을 최소화하게 된다.
Accordingly, the suction unit 500 minimizes the diffusion of the surplus gaseous organic material and the transport gas by allowing the gaseous organic material and the transport gas remaining after deposition to be immediately discharged.

그리고 상기 배출라인(520)은 상기 두 흡입노즐(510)에 각각 연결되는 두 분기라인(521)을 갖고, 상기 두 분기라인(521)에는 각각 제어밸브(V3)가 설치된다.
The discharge line 520 has two branch lines 521 connected to the two suction nozzles 510, respectively, and control valves V3 are installed at the two branch lines 521, respectively.

상기 각 제어밸브(V3)는 니들밸브(needle valve)로 이루어져 상기 두 분기라인(521)의 배기 컨덕턴스(conductance)를 조절하게 된다.
Each control valve (V3) is composed of a needle valve (needle valve) to adjust the exhaust conductance (conductance) of the two branch lines (521).

이상에서 본 발명을 설명함에 있어 첨부된 도면을 참조하여 특정 형상과 구조를 갖는 "대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치"를 위주로 설명하였으나 본 발명은 당업자에 의하여 다양한 변형 및 변경이 가능하고, 이러한 변형 및 변경은 본 발명의 보호범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.
In the above description of the present invention, with reference to the accompanying drawings, the organic vapor deposition apparatus having a specific shape and structure with a specific shape and structure, but mainly focusing on the present invention can be variously modified and changed by those skilled in the art, Such modifications and variations are to be interpreted as falling within the protection scope of the present invention.

100 ; 이송유닛
110 ; 언와인더 120 ; 리와인더 130 ; 서포트롤러
200 ; 분사유닛
300 ; 피딩유닛
310 ; 도가니 320 ; 제1히팅모듈 330 ; 이송라인
340 ; 가스공급부 350 ; 제2히팅모듈 360 ; 유입라인
400 ; 스크린유닛
410 ; 개구부
500 ; 흡입유닛
510 ; 흡입노즐 520 ; 배출라인 530 ; 흡입펌프100; Transfer unit
110; Unwinder 120; Rewinder 130; Support Controller
200; Injection unit
300; Feeding unit
310; Crucible 320; First heating module 330; Transfer line
340; Gas supply unit 350; Second heating module 360; Inflow line
400; Screen unit
410; Opening
500; Suction unit
510; Suction nozzle 520; Discharge line 530; Suction pump

Claims (5)

피증착물(10) 언와인더(110) 및 리와인더(120), 그리고 상기 언와인더(110) 및 리와인더(120)에 개재되어 이송되는 상기 피증착물(10)을 받치게 되는 서포트롤러(130)를 포함하는 이송유닛(100);
상기 서포트롤러(130) 상측에 배치되고, 기상(氣相)의 유기물을 상기 서포트롤러(130)에 지지된 피증착물(10)을 향해 토출하게 되는 분사유닛(200);
상기 유기물을 기화시켜 상기 분사유닛(200)으로 공급하게 되는 피딩유닛(300);
하방 개구부(410)를 갖고 상기 서포트롤러(130) 상측에 배치되되, 상기 분사유닛(200) 주위를 감싸도록 배치되어 분사유닛(200)에서 토출되는 기상 유기물의 외부 확산을 방지하게 되는 스크린유닛(400); 및
상기 스크린유닛(400)을 가열하기 위한 히팅수단;
을 포함하여 이루어진 대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치.
The support controller 130 which receives the deposit 10 and the unwinder 110 and the rewinder 120 and the deposit 10 that is interposed between the unwinder 110 and the rewinder 120. Transfer unit 100 comprising a;
An injection unit (200) disposed above the support controller (130) and discharging the organic substance in a gaseous phase toward the deposit (10) supported by the support controller (130);
Feeding unit 300 for vaporizing the organic material to be supplied to the injection unit 200;
The screen unit having a lower opening 410 is disposed above the support controller 130, is wrapped around the injection unit 200 to prevent the external diffusion of the gaseous organic matter discharged from the injection unit 200 ( 400); And
Heating means for heating the screen unit 400;
Atmospheric pressure process and continuous process made of organic material deposition comprising a.
피증착물(10) 언와인더(110) 및 리와인더(120), 그리고 상기 언와인더(110) 및 리와인더(120)에 개재되어 이송되는 상기 피증착물(10)을 받치게 되는 서포트롤러(130)를 포함하는 이송유닛(100);
상기 서포트롤러(130) 상측에 배치되고, 기상(氣相)의 유기물을 상기 서포트롤러(130)에 지지된 피증착물(10)을 향해 토출하게 되는 분사유닛(200);
상기 유기물을 기화시켜 상기 분사유닛(200)으로 공급하게 되는 피딩유닛(300);
하방 개구부(410)를 갖고 상기 서포트롤러(130) 상측에 배치되되, 상기 분사유닛(200) 주위를 감싸도록 배치되어 분사유닛(200)에서 토출되는 기상 유기물의 외부 확산을 방지하게 되는 스크린유닛(400); 및
상기 스크린유닛(400) 내부의 잉여 기상 유기물을 배출하기 위한 흡입유닛(500);
을 포함하여 이루어진 대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치.
The support controller 130 which receives the deposit 10 and the unwinder 110 and the rewinder 120 and the deposit 10 that is interposed between the unwinder 110 and the rewinder 120. Transfer unit 100 comprising a;
An injection unit (200) disposed above the support controller (130) and discharging the organic substance in a gaseous phase toward the deposit (10) supported by the support controller (130);
Feeding unit 300 for vaporizing the organic material to be supplied to the injection unit 200;
The screen unit having a lower opening 410 is disposed above the support controller 130, is wrapped around the injection unit 200 to prevent the external diffusion of the gaseous organic matter discharged from the injection unit 200 ( 400); And
A suction unit (500) for discharging excess gaseous organic matter inside the screen unit (400);
Atmospheric pressure process and continuous process made of organic material deposition comprising a.
제2항에 있어서,
상기 흡입유닛(500)은 상기 분사유닛(200) 전방 및 후방에 각각 배치되는 두 흡입노즐(510)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치.
3. The method of claim 2,
The suction unit (500) is an organic vapor deposition apparatus capable of atmospheric and continuous process, characterized in that it comprises two suction nozzles (510) disposed respectively in front and rear of the injection unit (200).
피증착물(10) 언와인더(110) 및 리와인더(120), 그리고 상기 언와인더(110) 및 리와인더(120)에 개재되어 이송되는 상기 피증착물(10)을 받치게 되는 서포트롤러(130)를 포함하는 이송유닛(100);
상기 서포트롤러(130) 상측에 배치되고, 기상(氣相)의 유기물을 상기 서포트롤러(130)에 지지된 피증착물(10)을 향해 토출하게 되는 분사유닛(200);
상기 유기물을 기화시켜 상기 분사유닛(200)으로 공급하게 되는 피딩유닛(300); 및
하방 개구부(410)를 갖고 상기 서포트롤러(130) 상측에 배치되되, 상기 분사유닛(200) 주위를 감싸도록 배치되어 분사유닛(200)에서 토출되는 기상 유기물의 외부 확산을 방지하게 되는 스크린유닛(400);을 포함하되,
상기 피딩유닛(300)은
상기 유기물이 수용되는 도가니(310),
상기 도가니(310)를 감싸고, 상기 유기물의 기화를 위해 상기 도가니(310)를 가열하게 되는 제1히팅모듈(320),
상기 분사유닛(200)과 상기 도가니(310)를 연결하는 이송라인(330),
상기 도가니(310)에 연결되고, 도가니(310) 내의 기상 유기물을 위한 이송가스를 공급하게 되는 가스공급부(340), 그리고
상기 도가니(310)와 상기 가스공급부(340)에 개재되고, 상기 도가니(310)로 공급되는 이송가스를 가열하게 되는 제2히팅모듈(350)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 대기압 공정 및 연속 공정이 가능한 유기물 증착장치.
The support controller 130 which receives the deposit 10 and the unwinder 110 and the rewinder 120 and the deposit 10 that is interposed between the unwinder 110 and the rewinder 120. Transfer unit 100 comprising a;
An injection unit (200) disposed above the support controller (130) and discharging the organic substance in a gaseous phase toward the deposit (10) supported by the support controller (130);
Feeding unit 300 for vaporizing the organic material to be supplied to the injection unit 200; And
The screen unit having a lower opening 410 is disposed above the support controller 130, is wrapped around the injection unit 200 to prevent the external diffusion of the gaseous organic matter discharged from the injection unit 200 ( 400);
The feeding unit 300 is
Crucible 310 is the organic material is accommodated,
A first heating module 320 which surrounds the crucible 310 and heats the crucible 310 for vaporization of the organic material;
Transfer line 330 for connecting the injection unit 200 and the crucible 310,
A gas supply unit 340 connected to the crucible 310 to supply a transfer gas for gaseous organic substances in the crucible 310, and
An atmospheric pressure process and a continuous process interposed between the crucible 310 and the gas supply part 340 and including a second heating module 350 that heats the feed gas supplied to the crucible 310. Possible organic material deposition apparatus.
삭제delete
KR1020120015717A 2012-02-16 2012-02-16 Evaporating apparatus of organic matter KR101347259B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120015717A KR101347259B1 (en) 2012-02-16 2012-02-16 Evaporating apparatus of organic matter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120015717A KR101347259B1 (en) 2012-02-16 2012-02-16 Evaporating apparatus of organic matter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130094460A KR20130094460A (en) 2013-08-26
KR101347259B1 true KR101347259B1 (en) 2014-01-06

Family

ID=49218227

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120015717A KR101347259B1 (en) 2012-02-16 2012-02-16 Evaporating apparatus of organic matter

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101347259B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104561905B (en) * 2014-12-29 2017-07-14 昆山国显光电有限公司 A kind of linear evaporation source

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950007670B1 (en) * 1993-03-31 1995-07-14 동부제강주식회사 Apparatus of a deposition by an evaporating sprayer in a normal pressure
JP2006104497A (en) 2004-10-01 2006-04-20 Hitachi Zosen Corp Vapor deposition apparatus
KR100620664B1 (en) * 2001-11-27 2006-09-13 닛본 덴끼 가부시끼가이샤 Device and method for vacuum film formation
KR20110022513A (en) * 2009-08-27 2011-03-07 삼성모바일디스플레이주식회사 Apparatus for thin layer deposition and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950007670B1 (en) * 1993-03-31 1995-07-14 동부제강주식회사 Apparatus of a deposition by an evaporating sprayer in a normal pressure
KR100620664B1 (en) * 2001-11-27 2006-09-13 닛본 덴끼 가부시끼가이샤 Device and method for vacuum film formation
JP2006104497A (en) 2004-10-01 2006-04-20 Hitachi Zosen Corp Vapor deposition apparatus
KR20110022513A (en) * 2009-08-27 2011-03-07 삼성모바일디스플레이주식회사 Apparatus for thin layer deposition and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130094460A (en) 2013-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100230693B1 (en) Apparatus and method for semiconductor treatment
US10066287B2 (en) Direct liquid deposition
JP2004036004A (en) Method and device for pulsatively feeding vaporized liquid reactant
JP4074574B2 (en) Organic vapor deposition equipment
KR20130042719A (en) Deposition apparatus having linear evaporating source
KR20120035788A (en) Apparatus for supplying organic matter and apparatus for depositing organic matter using the same
JP2016540892A5 (en)
EP3077567A1 (en) Depositing arrangement, deposition apparatus and methods of operation thereof
KR101347259B1 (en) Evaporating apparatus of organic matter
KR20180027779A (en) Vaporizer
KR950014354A (en) Evaporator for Vacuum Web Coating
JP2007534842A (en) Continuous thermal vacuum deposition apparatus and method
KR101217517B1 (en) Apparatus for injecting deposition meterial and apparatus for depositing thin film having the same
JP6982695B2 (en) Deposition source and vacuum processing equipment
KR101741806B1 (en) Linear evaporating source and deposition apparatus comprising the same
KR101773038B1 (en) Depositing apparatus having vaporizer and depositing method
KR20150101564A (en) Linear source for OLED deposition apparatus
JP7078462B2 (en) Thin-film deposition source for vacuum-film deposition equipment
US6706647B1 (en) Method of and apparatus for manufacturing semiconductors
KR20150121453A (en) Device for providing deposition material and Deposition apparatus including the same
KR20150118691A (en) Device for providing deposition material and Deposition apparatus including the same
KR101351438B1 (en) Apparatus for supplying source and system for deopsing thin film having the same
CN113227436A (en) Vapor deposition apparatus and method for coating a substrate in a vacuum chamber
KR102329250B1 (en) Deposition apparatus and deposition method using the same
KR101388225B1 (en) Depositing apparatus of the vaporizer

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161103

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190926

Year of fee payment: 7