KR101338802B1 - 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

액정표시장치 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101338802B1
KR101338802B1 KR1020060137783A KR20060137783A KR101338802B1 KR 101338802 B1 KR101338802 B1 KR 101338802B1 KR 1020060137783 A KR1020060137783 A KR 1020060137783A KR 20060137783 A KR20060137783 A KR 20060137783A KR 101338802 B1 KR101338802 B1 KR 101338802B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photosensitive organic
electrode
layer
film
source
Prior art date
Application number
KR1020060137783A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20080062242A (ko
Inventor
양준영
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020060137783A priority Critical patent/KR101338802B1/ko
Publication of KR20080062242A publication Critical patent/KR20080062242A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101338802B1 publication Critical patent/KR101338802B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13458—Terminal pads
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

액정표시장치는 기판 상에 형성되는 게이트전극과 상기 게이트전극을 커버하는 게이트절연막; 상기 게이트절연막 상에 형성되는 반도체층; 상기 반도체층 상에 형성되는 소스/드레인전극; 상기 소스/드레인전극 상에 형성되어 상기 상기 소스/드레인전극을 커버하는 감광성유기막; 상기 감광성유기막이 형성된 상기 기판 전면에 형성되는 보호막; 상기 보호막 상에 상기 드레인전극과 연결되는 화소전극;을 포함한다.
따라서 본 발명에 따른 액정표시장치는 감광성유기막에 의해서 데이터라인과 화소전극 사이에 형성된 기생 캐패시터를 저감할 수 있으며, 이로써 고개구율 및 고휘도를 구현할 수 있으므로 소비전력을 감소시키는 효과가 있다.
또한 상기 감광성유기막에 의해서 마스크공정을 줄임으로써 마스크공정에 의한 불량을 최소화시킬 수 있게 된다.

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{liquid crystal display device and a method of fabricating the same}
도 1은 종래의 액정표시장치의 단면도.
도 2는 본 발명에 따른 액정표시장치의 단면도.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법을 도시한 공정도.
<도면의 주요부분에 대한 부호 설명>
1 : 액정표시장치 5 : 박막트랜지스터
10 : 기판 20 : 게이트전극
30 : 게이트절연막 40 : 반도체층
50 : 데이터라인 50a/50b : 소스/드레인전극
55 : 데이터패드하부전극 60 : 보호막
70 : 화소전극 80 : 데이터패드상부전극
100 : 감광성유기막
본 발명은 액정표시장치에 대한 것으로, 특히 고개구율 구조의 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device: LCD), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel: PDP), 전기발광 표시 장치(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시장치로 활용되고 있다.
그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 장점으로 인하여 이동형 화상 표시장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하면서 액정 표시 장치가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비전, 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.
이와 같이 액정표시장치가 일반적인 화면 표시 장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저 소비전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 발전의 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.
일반적인 액정표시장치는, 화상을 표시하는 액정패널과 상기 액정패널에 구동신호를 인가하기 위한 구동부로 크게 구분될 수 있으며, 상기 액정패널은 일정 공간을 갖고 합착된 제 1, 제 2 기판과, 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 주입된 액정층으로 구성된다.
도 1은 종래의 액정표시장치의 단면도이다.
도 1을 참조하면, 액정표시장치는 다수의 박막트랜지스터를 구비한다.
상기 박막트랜지스터(505)는 기판(510) 상에 게이트전극(520)과 상기 게이트전극(520)을 커버하며, 상기 기판(510) 전면에 걸쳐 형성되는 게이트절연막(530)과, 상기 게이트전극(520)에 대응되는 위치에 형성된 반도체층(540)과, 상기 반도체층(540) 상에 형성되어 소정간격 이격된 소스/드레인전극(550a/550b)을 구비한다.
이와 같이 형성되는 박막트랜지스터(505)는 적층구조를 갖고 있기 때문에 전극들 간에 서로 기생캐패시던스가 발생할 수 있다.
예를 들어 데이터라인(550)과 인접한 화소전극(570) 사이에서 기생 캐패시턴스가 형성되어 화질 불량을 초래할 수 있다. 상기 기생캐패시턴스는 수직 크로스토크(vertical cross-talk)를 유발시킬 수 있다. 상기 수직 크로스토크는 상기 화소전극(570)에 화소신호가 인가되지 않았음에도 불구하고 상기 데이터라인(550)과 화소전극(570) 사이에 형성된 기생캐패시터(Cdp)에 인하여 원치 않는 이미지가 발생되는 것을 말한다.
따라서, 상기와 같은 화질 불량을 최소화하기 위하여, 상기 데이터라인(550)과 상기 데이터라인(550)에 인접한 화소전극(570) 사이에 충분한 거리를 두어 상기 기생캐패시턴스를 최소화하거나, 상기 제2보호막(600)의 재질을 저유전율의 재질로 사용하여 기생 캐패시턴스를 최소화하려는 시도가 있다.
그래서 상기와 같이 형성된 박막트랜지스터(505)에 제1보호막(560)을 형성한다. 상기 제1보호막(560)은 질화실리콘으로 형성될 수 있다.
상기 제2보호막(560) 상에는 기생캐패시던스에 의한 화질불량을 최소화할 수 있는 저유전율의 포토아크릴(photo-acryle)을 사용한다.
그리고 상기 포토아크릴 상에 제3보호막(565)을 형성한다. 상기 제3보호막(565) 또한 제1보호막(560)과 같은 질화실리콘으로 형성할 수 있다.
상기와 같이 상기 액정표시장치(1)는 기생캐패시던에 의한 화질불량 및 고개구율을 얻기 위해 보호막을 3개를 사용하게 된다.
이는 상기 포토아크릴(photo-acryle)을 사용할 경우 상기 소스/드레인전극(550a/550b) 사이에서 노출되는 채널영역의 계면특성을 악화시키게 되고 오프-커런트(off-current)를 증가시켜 박막트랜지스터(505)의 불량을 발생시키는 문제점이 있기 때문에 상기 제1보호막(560)을 채널영역인 상기 반도체층(540)과 접촉하도록 형성한다.
그리고 액정표시장치(501)는 추후에 상기 박막트랜지스터(505)가 정렬된 어레이기판과 컬러필터기판을 합착하고 광투과량을 조절하는 액정을 상기 두 기판 상에 개재하게 된다.
그런데 포토아크릴의 제2보호막(600)은 액정과 접촉하면 상기 액정의 미퍼짐현상이 발생할 수 있게 된다.
그래서 상기 포토아크릴의 제2보호막(600) 상에 액정을 용이하게 퍼지게 할 수 있는 질화실리콘으로 형성되는 같은 제3보호막(565)을 상기 제2보호막 상에 형성하게 된다.
이와 같이, 상기 박막트랜지스터(505) 상에 기생캐패시던스와 상기 기생캐패시던스를 저하시켜 고개구율의 액정표시장치(501)를 형성하기 위해 형성되는 다수의 보호막을 형성하기 패턴닝공정과 코팅공정을 반복하게 된다.
따라서 상기 코팅공정과 상기 패터닝을 공정을 반복함에 따라 마스크 공정의 증가하게 되고 상기 공정증가는 또한 불량을 증가시킬 수 있게 된다.
게다가 상기 마스크공정의 증가는 상기 액정표시장치(501)의 제조비용이 상승시키는 원인이 될 수 있다.
본 발명은 고개구율을 확보하고 화질을 향상시킬 수 있으며, 공정단순화시킬 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정표시장치는 기판 상에 형성되는 게이트전극과 상기 게이트전극을 커버하는 게이트절연막; 상기 게이트절연막 상에 형성되는 반도체층; 상기 반도체층 상에 형성되는 소스/드레인전극; 상기 소스/드레인전극 상에 형성되어 상기 상기 소스/드레인전극을 커버하는 감광성유기막; 상기 감광성유기막이 형성된 상기 기판 전면에 형성되는 보호막; 상기 보 호막 상에 상기 드레인전극과 연결되는 화소전극;을 포함한다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정표시장치는 기판 상에 형성되는 게이트절연막; 게이트절연막 상에 데이터패드 하부전극; 상기 데이터패드 하부전극 상에 형성되는 감광성유기막; 상기 감광성유기막 상에 형성되는 보호막; 상기 감광성유기막과 상기 보호막을 관통해서 상기 데이터패드 하부전극에 연결되는 데이터패드 상부전극을 포함한다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 기판 상에 게이트전극을 형성하는 단계; 상기 게이트전극을 커버하는 게이트 절연막을 기판 전면에 형성하는 단계; 상기 게이트절연막 상에 반도체층물질, 데이터금속물질과 감광성유기물을 증착하는 단계; 상기 반도체물질, 상기 데이터금속물질, 감광성유기물을 패턴닝하여 반도체층, 소스/드레인전극, 감광성유기막을 형성하는 단계; 상기 감광성유기막이 형성된 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계; 상기 보호막과 감광성유기막을 관통해서 상기 드레인전극에 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 액정표시장치 및 그 제조방법에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명이 하기의 실시예들에 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. 첨부된 도면에 있어서, 보호막, 감광성유기막, 화소전극의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 본 발명에 있어서, 보 호막, 감광성유기막, 화소전극 및 기타 구조물들이 "상에", "상부에" 또는 "하부"에 형성되는 것으로 언급되는 경우에는 보호막, 감광성유기막, 화소전극 및 기타 구조물들이 직접 보호막, 감광성유기막, 화소전극 및 기타 구조물들 위에 형성되거나 아래에 위치하는 것을 의미하거나, 다른 보호막, 감광성유기막, 화소전극 및 기타 구조물들이 기판 상에 추가로 형성될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세히 설명하도록 한다.
도 2는 본 발명에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 액정표시장치(1)의 화소영역(P)과 패드영역을 갖는다. 상기 화소영역(P)에는 다수의 박막트랜지스터(5)가 정렬되어 있으며 상기 패드영역은 데이터패드영역(DP)과 게이트패드영역을 갖는다. 여기서는 본 발명의 특징인 데이터패드영역(DP)를 도시하여 설명한다.
상기 화소영역(P)에는 기판(10) 상에 형성되는 게이트전극(20)과 상기 게이트전극(20)을 커버하는 게이트절연막(30), 상기 게이트절연막(30)상에 형성되는 반도체층(40), 상기 반도체층(40) 상에 형성되는 소스/드레인전극(50a/50b), 상기 상기 소스/드레인전극(50a/50b) 상에 형성되는 감광성유기막(100)을 포함한다.
상기 감광성유기막(100) 상에는 보호막(60)이 형성되고, 상기 보호막(60)과 상기 감광성유기막(100)에는 제1콘택홀(63)이 형성되며, 상기 제1콘택홀(63)을 통해 박막트랜지스터(5)의 상기 드레인전극(50b)과 화소전극(70)이 연결된다.
상기 감광성유기막(100)은 저유전율의 포토아크릴을 포함하는 아크릴계열 유 기막으로 형성할 수 있다.
상기 화소전극(70)과 상기 화소전극(70)에 인접한 데이터라인(50) 사이에 형성되는 기생캐패시터(Cdp)는 상기 데이터라인(50)과 상기 화소전극(70) 사이에 개재된 상기 감광성유기막(100)으로 인하여 최소화되므로 상기 데이터라인(50)과 화소전극(70) 사이에 형성된 기생캐패시터(Cdp)에 의하여 원치않는 이미지가 발생되는 것을 방지할 수 있다.
상기 화소영역(P)에 배치된 화소전극(70)들 중 최외곽 화소전극(70)은 상기 데이터라인(50)과 소정 중첩되어 형성되거나 상기 데이터라인(50)과 인접하여 형성하여 고개구율을 구현할 수 있다. 즉, 상기 감광성유기막(100)은 상기 데이터라인(50)과 상기 화소전극(70) 사이에 형성시켜 고개구율 구현을 할 수 있다.
상기 감광성유기막(100)은 상기 소스/드레인전극(50a/50b) 상에 형성됨으로 상기 반도체층(40)이 오픈된 영역에는 상기 보호막(60)이 접촉하게 된다.
상기 감광성유기막(100)은 유기절연막으로 이루어지며, 예를 들어, 포토 아크릴(photo acryle)등의 아크릴 계열 물질로 이루어진다. 상기 포토아크릴은 상기 채널이 형성되는 반도체층(40)의 계면 특성을 악화시킬 수 있음으로 상기 감광성유기막(100) 상에는 무기절연막인 질화실리콘 등으로 보호막(60)을 형성할 수 있다. 따라서 상기 반도체층(40)이 접촉하는 보호막(60)은 상기 반도체층(40)의 계면 특성을 보호할 수 있게 된다.
상기 보호막(60)은 무기절연막으로 이루어지며, 예를 들어, 실리콘질화막 (SiNx)등의 실리콘 계열 절연물질로 이루어진다.
상기 감광성유기막(100) 상에 상기 보호막(60)은 추후에 형성되는 액정과의 접촉에서 상기 액정의 퍼짐을 용이하게 할 수 있다.
그리고 상기 감광성유기막(100)은 상기 소스/드레인전극(50a/50b)을 형성하기 위한 패턴으로 이용할 수 있다.
상기 데이터패드영역(DP)의 데이터패드(90)는 기판(10) 상에 형성되는 게이트절연막(30), 게이트절연막(30) 상에 데이터패드하부전극(55), 상기 데이터패드 상에 형성되는 감광성유기막(100), 상기 감광성유기막(100) 상에 형성되는 보호막(60), 상기 감광성유기막(100)과 상기 보호막(60)을 관통하여 형성되는 데이터패드상부전극(80)을 포함한다.
상기 데이터패드하부전극(55) 밑에는 공정 진행 중에 상기 반도체물질이 남아 반도체패턴(40a)이 형성될 수 있다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법을 도시한 공정도이다.
도 3a에 도시된 바와 같이, 기판(10) 상에 게이트전극(20)과 상기 게이트전극(20) 상에 형성되는 게이트절연막(30)을 형성한다.
상기 게이트절연막(30) 상에 반도체물질(40c)과 상기 반도체물질(40c) 상에 데이터금속물질(50c)과 상기 데이터금속물질(50c) 상에 감광성유기물(100a)을 도포한다.
상기 감광성유기물(100a)은 저율전 유기절연물질로 이루어지며, 예를 들어, 포토 아크릴(photo acryle) 등의 아크릴 계열 물질로 이루어진다.
상기 포토아크릴은 감광성 절연물질로서, 상기 감광성유기물(100a)을 패터닝하여 위하여 별도의 감광성막을 형성할 필요가 없다.
여기서 상기 유기물(100a)과 상기 반도체물질(40c)과 상기 데이터금속물질(50c)을 패터닝할 수 있는 마스크공정을 실시한다.
여기서 상기 마스크는 하프톤 마스크나 회절 마스크 등으로 사용하여 상기 반도체층(40)의 액티브층을 형성할 수 있다.
상기와 같이 식각을 통해 상기 소스/드레인전극(50a/50b)과 반도체층(40)을 상기 감광성유기막(100)으로 보호하여 하나의 마스크공정으로 형성할 수 있게 된다. 따라서 상기 액정표시장치(1)를 형성하는 공정의 단순화를 도모할 수 있다.
한편, 데이트패드영역(DP)에도 또한 반도체패턴(40a)과 상기 데이터패드하부전극(55)을 형성할 수 있다.
이와 같이, 상기 마스크공정을 줄여 상기 데이터패드(90)를 형성하게 됨으로써 상기 데이터패드(90)의 불량을 저감할 수 있게 된다. 즉, 다수의 패턴을 형성하기 위해서 증착과 노광. 현상 등을 반복하여 여러번 실시함에 따라 발생될 수 있는 패턴불량을 마스크공정을 줄여 불량패턴의 발생을 최소화시킬 수 있게 된다.
도 3b에 도시된 바와 같이, 상기 감광성유기막(100)이 형성된 기판(10) 전면에 보호막(60)을 형성한다.
상기 보호막(60)은 무기절연막으로 이루어지며, 예를 들어, 실리콘질화막 (SiNx)등의 실리콘 계열 절연물질로 이루어진다.
상기 감광성유기막(100)은 상기 채널이 형성되는 반도체층(40)의 계면특성을 악화시킬 수 있음으로 상기 감광성유기막(100) 상에는 무기절연막인 질화실리콘 등으로 보호막(60)을 형성할 수 있다. 따라서 상기 반도체층(40)이 접촉하는 보호막(60)은 상기 반도체층(40)의 계면특성을 보호할 수 있게 된다.
상기 감광성유기막(100) 상에 상기 보호막(60)은 추후에 형성되는 액정과의 접촉에서 상기 액정의 퍼짐을 용이하게 할 수 있다.
그리고 상기 보호막(60)에 콘택홀을 형성할 수 있는 마스크공정을 실시하여 드레인전극(50b)에 대응되는 형성되는 제1콘택홀(63)과 데이터패드(90)에 형성되는 제2콘택홀(66)을 형성한다.
도 3c에 도시된 바와 같이, 상기 제1콘택홀(63)과 상기 제2콘택홀(66)이 형성된 기판(10) 상에 투명금속물질로 화소전극(70)과 데이터패드상부전극(80)을 형성한다.
상기 화소전극(70)은 상기 데이터라인(50)과 소정부분 중첩 또는 이격거리를 최소화시켜 액정표시장치(1)의 개구율을 향상시킬 수 있게 된다.
상기 액정표시장치(1)는 상기 데이터라인(50)과 상기 데이터라인(50)에 인접한 화소전극(70)의 사이에 개재된 감광성유기막(100)에 의해 충분한 이격거리를 확보하고 상기 유전율이 낮은 감광성유기막(100)을 사용함으로 기생 캐패시턴스가 감소될 수 있다.
즉, 상기 데이터라인(50)과 상기 화소전극(70) 사이에 형성되는 기생 캐패시터(Cdp)는 상기 데이터라인(50)과 상기 화소전극(70) 사이에 개재된 저유전율의 상기 감광성유기막(100)으로 인하여 최소화되므로 상기 데이터라인(50)과 화소전 극(70) 사이에 형성된 기생캐패시터(Cdp)에 의하여 원치 않는 이미지가 발생되는 것을 방지할 수 있다.
따라서, 상기 데이터라인(50)에 인접한 화소전극(70)은 상기 데이터라인(50)과 소정 중첩되어 형성될 수 있으므로 개구율이 향상되어 전체적인 휘도가 향상되는 효과가 있다.
도시되지는 않았으나, 상기 기판과 대향하는 기판에는, 상기 화소영역을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙매트릭스층과, 컬러색상을 표현하기 위한 적색(Red), 녹색(Green), 청색(Blue) 컬러 필터층이 형성되어 있다.
그리고, 상기 두 기판은 봉지재(sealant)에 의해 합착되며, 상기 두 기판 기판 사이에 액정층을 형성하여 액정표시장치(1)를 형성할 수 있게 된다.
본 발명을 구체적인 실시예들을 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 액정표시장치 및 그 제조방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
본 발명에 따른 액정표시장치는 감광성유기막에 의해서 데이터라인과 화소전극 사이에 형성된 기생 캐패시터를 저감할 수 있으며, 이로써 고개구율 및 고휘도를 구현할 수 있으므로 소비전력을 감소시키는 효과가 있다.
또한 상기 감광성유기막에 의해서 마스크공정을 줄임으로써 마스크공정에 의 한 불량을 최소화시킬 수 있게 된다.

Claims (15)

  1. 기판 상에 형성되는 게이트전극과 상기 게이트전극을 커버하는 게이트절연막;
    상기 게이트절연막 상에 형성되는 반도체층;
    상기 반도체층 상에 형성되는 소스/드레인전극;
    상기 소스/드레인전극 상에 형성되어 상기 소스/드레인전극을 커버하는 제1 감광성 유기막;
    상기 제1 감광성 유기막이 형성된 상기 기판 전면에 형성되는 보호막; 및
    상기 보호막 상에 형성되며 상기 드레인전극과 연결되는 화소전극을 포함하며,
    상기 제1 감광성 유기막은 상기 소스/드레인전극 사이에서 노출되는 채널영역에는 형성되지 않은 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 감광성유기막은 저유전율의 포토아크릴을 포함하는 아크릴계열 유기막인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 보호막은 질화막인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 게이트 절연막 상에 형성되는 데이터패드 하부전극 ;
    상기 데이터패드 하부전극 상에 형성되는 제2 감광성유기막 ; 및
    상기 제2 감광성유기막과 상기 보호막을 관통하여 상기 데이터패드 하부전극에 연결되는 데이터패드 상부전극을 더 포함하는 액정표시장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 제2 감광성유기막은 저유전율의 포토아크릴을 포함하는 아크릴계열 유기막인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 기판 상에 게이트전극을 형성하는 단계;
    상기 게이트전극을 커버하는 게이트 절연막을 기판 전면에 형성하는 단계;
    상기 게이트절연막 상에 반도체층물질, 데이터금속물질과 감광성유기물을 순차적으로 증착하는 단계;
    상기 반도체층물질, 데이터금속물질 및 감광성유기물을 패턴닝하여 반도체층, 소스/드레인전극 및 상기 소스/드레인전극을 커버하는 제1 감광성 유기막을 형성하는 단계;
    상기 제1 감광성 유기막이 형성된 기판 전면에 보호막을 형성하는 단계;
    상기 보호막과 제1 감광성 유기막을 관통해서 상기 드레인전극에 연결되는 화소전극을 형성하는 단계를 포함하며,
    상기 제1 감광성유기막은 상기 소스/드레인전극 사이에서 노출되는 채널영역에는 형성되지 않는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 보호막은 무기절연막인 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 무기절연막은 질화막인 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  11. 제 8항에 있어서,
    상기 제1 감광성유기막은 저유전율의 포토아크릴을 포함하는 아크릴계열 유기막인 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  12. 제 8항에 있어서,
    상기 반도체층, 소스/드레인전극 및 제1 감광성유기막을 형성하는 단계는, 상기 증착된 감광성유기물을 마스크를 이용하여 패터닝하여 제1 감광성 유기막을 형성하는 단계, 상기 제1 감광성 유기막을 식각마스크로 상기 증착된 반도체층물질 및 데이터금속물질을 식각하여 반도체층 및 소스/드레인전극을 형성하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 반도체층, 소스/드레인전극 및 제1 감광성유기막을 형성하는 단계에서, 데이터패드 하부전극 및 상기 데이터패드 하부전극 상에 형성되는 제2 감광성유기막이 함께 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  14. 제 8항에 있어서,
    상기 제1 감광성 유기막은 상기 소스전극과 연결되는 데이터 라인도 커버하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
  15. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 감광성 유기막은 상기 소스전극과 연결되는 데이터 라인도 커버하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
KR1020060137783A 2006-12-29 2006-12-29 액정표시장치 및 그 제조방법 KR101338802B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060137783A KR101338802B1 (ko) 2006-12-29 2006-12-29 액정표시장치 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060137783A KR101338802B1 (ko) 2006-12-29 2006-12-29 액정표시장치 및 그 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080062242A KR20080062242A (ko) 2008-07-03
KR101338802B1 true KR101338802B1 (ko) 2013-12-06

Family

ID=39814390

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060137783A KR101338802B1 (ko) 2006-12-29 2006-12-29 액정표시장치 및 그 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101338802B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN208848008U (zh) * 2018-10-29 2019-05-10 惠科股份有限公司 基板及显示面板

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005510064A (ja) * 2001-11-12 2005-04-14 サムスン　エレクトロニクス　カンパニー　リミテッド 半導体素子の接触部及びその製造方法、並びにこれを含む液晶表示装置用薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005510064A (ja) * 2001-11-12 2005-04-14 サムスン　エレクトロニクス　カンパニー　リミテッド 半導体素子の接触部及びその製造方法、並びにこれを含む液晶表示装置用薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080062242A (ko) 2008-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101288427B1 (ko) 표시 기판 및 그 제조방법
JP4606854B2 (ja) カラーフィルターアレイ基板及びその製造方法
US7545095B2 (en) Electroluminescent display device
US7206042B2 (en) Color filter substrate and liquid crystal display apparatus having the same
WO2020224598A1 (zh) 彩膜基板及其制作方法和显示装置
KR20070071012A (ko) 박막 트랜지스터 어레이 기판 이의 제조 방법
US11665920B2 (en) Transparent display panel having an electrode contact of auxiliary electrode connected to a portion of second electrode and transparent display device including the same
KR100404225B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
US20240099079A1 (en) Display apparatus, and display panel and manufacturing method therefor
KR100537020B1 (ko) Ips모드박막트랜지스터용액정표시소자제조방법
KR100617037B1 (ko) 반사투과형 액정표시장치 및 이의 제조방법
KR100625027B1 (ko) 액정표시소자와 그 제조방법
US20080174239A1 (en) Organic light emitting diode device
JPH10268357A (ja) 液晶表示装置
KR101338802B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
US20070178797A1 (en) Method of manufacturing liquid crystal display device
KR20040017637A (ko) 액정표시소자의 콘택 배선 및 그 형성방법
KR20080042466A (ko) 액정표시패널 및 그 제조방법
JPH06242311A (ja) 液晶ディスプレイ用カラーフィルタ
KR101885925B1 (ko) 어레이 기판 및 이를 포함하는 액정표시장치
KR101446300B1 (ko) 전기 영동 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR101318002B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20070107206A (ko) 컬러필터 기판 및 이를 포함하는 액정 표시판
KR102398551B1 (ko) 박막트랜지스터 기판 및 그를 가지는 액정 표시 패널
KR20050002410A (ko) 액정 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161118

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171116

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181114

Year of fee payment: 6