KR101336793B1 - 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치에 관한 것이다. 본 발명의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치는: 부하로 전원을 공급하는 전원 공급원; 상기 전원 공급원으로부터 상기 부하로 공급되는 전원의 출력 파형을 검출하는 전류 전압 센서; 상기 전류 전압 센서에서 검출된 출력 파형의 위상 지연하여 출력하는 제1 위상 지연 회로; 상기 제1 위상 지연 회로의 출력과 상기 전류 전압 센서의 출력을 비교하는 비교기하여 차이분을 출력하는 제1 비교기; 상기 제1 비교기의 출력을 검파하는 검파 회로; 및 상기 검파 회로를 통하여 출력되는 값과 기준 값을 비교하여 출력하는 제2 비교기를 포함하고, 상기 제2 비교기의 출력에 기초하여 상기 전원 공급원의 출력 파형에 왜율이 발생되는 것을 감지한다. 본 발명의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법 및 장치는 무선 주파수 발생기 또는 교류 전원 공급원에서 출력 왜율을 감지하고 경고함으로서 플라즈마 발생을 위한 전원 공급시 발생되는 왜율에 의한 공정 수율에 미치는 악영향을 사전에 차단할 수 있다.
Description
본 발명은 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법 및 장치에 관한 것으로, 구체적으로는 무선 주파수 발생기 또는 교류 전원 공급원에서 출력 왜율을 감지하고 경고함으로서 플라즈마 발생을 위한 전원 공급시 발생되는 왜율에 의한 공정 수율에 미치는 악영향을 사전에 차단할 수 있는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법 및 장치에 관한 것이다.
플라즈마를 발생하기 위한 전원 공급 장치로 무선 주파수 발생기가 사용되고 있다. 무선 주파수 발생기에서 공급되는 전력은 여러 가지 원인에 의해서 왜율이 발생될 수 있다. 이러한 왜율 발생은 공정 효율이 영향을 주기 때문에 적절히 모니터링 되어야 하며 필요에 따라 작업자에게 경고하여 공정 수율에 악영향을 미치는 것을 차단하여야 한다.
본 발명의 목적은 무선 주파수 발생기 또는 교류 전원 공급원에서 출력 왜율을 감지하고 경고함으로서 플라즈마 발생을 위한 전원 공급시 발생되는 왜율에 의한 공정 수율에 미치는 악영향을 사전에 차단할 수 있는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법 및 장치를 제공하는데 있다.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면은 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치에 관한 것이다. 본 발명의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치는: 부하로 전원을 공급하는 전원 공급원; 상기 전원 공급원으로부터 상기 부하로 공급되는 전원의 출력 파형을 검출하는 전류 전압 센서; 상기 전류 전압 센서에서 검출된 출력 파형의 위상 지연하여 출력하는 제1 위상 지연 회로; 상기 제1 위상 지연 회로의 출력과 상기 전류 전압 센서의 출력을 비교하는 비교기하여 차이분을 출력하는 제1 비교기; 상기 제1 비교기의 출력을 검파하는 검파 회로; 및 상기 검파 회로를 통하여 출력되는 값과 기준 값을 비교하여 출력하는 제2 비교기를 포함하고, 상기 제2 비교기의 출력에 기초하여 상기 전원 공급원의 출력 파형에 왜율이 발생되는 것을 감지한다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 위상 지연 회로는 360도 위상 지연이 이루어진다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 위상 지연 회로는 로우 패스 필터로 구성되어 파형 보상이 이루어진다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 위상 지연 회로는 밴드 패스 필터로 구성되어 파형 보상이 이루어진다.
일 실시예에 있어서, 상기 검파 회로와 상기 제2 비교기 사이에 제2 위상 지연 회로를 더 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 제2 위상 지연 회로에 의해 상기 전원 공급원의 출력 파형의 순간적인 변동은 배제된다.
일 실시예에 있어서, 상기 출력 파형의 순간저인 변동은 아크이다.
본 발명의 다른 일면은 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법에 관한 것이다. 본 발명의 다른 일면에 따른 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법은 전원 공급원의 출력 파형을 센싱하는 단계; 위상차 보정된 출력 파형과 센싱된 출력 파형을 비교하여 차이분을 검출하는 단계; 검출된 차이분 값과 기준 값을 비교하여 왜율 발생 여부를 판단하는 단계를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 위상차 보정된 출력 파형은 센싱된 출력 파형보다 360도 앞서 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 왜율 발생 여부를 판단하는 단계에서 왜율 발생으로 판단되는 경우 경고 알람을 발생하는 단계를 더 포함한다.
일 실시예에 있어서, 위상 지연을 통하여 출력 파형의 순간적인 변동을 제외하는 단계를 더 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 순간적인 변동은 아크이다.
본 발명의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법 및 장치는 무선 주파수 발생기 또는 교류 전원 공급원에서 출력 왜율을 감지하고 경고함으로서 플라즈마 발생을 위한 전원 공급시 발생되는 왜율에 의한 공정 수율에 미치는 악영향을 사전에 차단할 수 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 발생을 위한 전원 공급치를 보여주는 블록도이다.
도 2는 도 1의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치의 동작 과정을 보여주는 순서도이다.
도 2는 도 1의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치의 동작 과정을 보여주는 순서도이다.
본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공 되어지는 것이다. 각 도면에서 동일한 구성은 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 발생을 위한 전원 공급치를 보여주는 블록도이고, 도 2는 도 1의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치 의 동작 과정을 보여주는 순서도이다.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면은 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치에 관한 것이다. 본 발명의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치는: 부하로 전원을 공급하는 전원 공급원; 상기 전원 공급원으로부터 상기 부하로 공급되는 전원의 출력 파형을 검출하는 전류 전압 센서; 상기 전류 전압 센서에서 검출된 출력 파형의 위상 지연하여 출력하는 제1 위상 지연 회로; 상기 제1 위상 지연 회로의 출력과 상기 전류 전압 센서의 출력을 비교하는 비교기하여 차이분을 출력하는 제1 비교기; 상기 제1 비교기의 출력을 검파하는 검파 회로; 및 상기 검파 회로를 통하여 출력되는 값과 기준 값을 비교하여 출력하는 제2 비교기를 포함하고, 상기 제2 비교기의 출력에 기초하여 상기 전원 공급원의 출력 파형에 왜율이 발생되는 것을 감지한다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 위상 지연 회로는 360도 위상 지연이 이루어진다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 위상 지연 회로는 로우 패스 필터로 구성되어 파형 보상이 이루어진다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 위상 지연 회로는 밴드 패스 필터로 구성되어 파형 보상이 이루어진다.
일 실시예에 있어서, 상기 검파 회로와 상기 제2 비교기 사이에 제2 위상 지연 회로를 더 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 제2 위상 지연 회로에 의해 상기 전원 공급원의 출력 파형의 순간적인 변동은 배제된다.
일 실시예에 있어서, 상기 출력 파형의 순간저인 변동은 아크이다.
본 발명의 다른 일면은 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법에 관한 것이다. 본 발명의 다른 일면에 따른 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법은 전원 공급원의 출력 파형을 센싱하는 단계; 위상차 보정된 출력 파형과 센싱된 출력 파형을 비교하여 차이분을 검출하는 단계; 검출된 차이분 값과 기준 값을 비교하여 왜율 발생 여부를 판단하는 단계를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 위상차 보정된 출력 파형은 센싱된 출력 파형보다 360도 앞서 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 왜율 발생 여부를 판단하는 단계에서 왜율 발생으로 판단되는 경우 경고 알람을 발생하는 단계를 더 포함한다.
일 실시예에 있어서, 위상 지연을 통하여 출력 파형의 순간적인 변동을 제외하는 단계를 더 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 순간적인 변동은 아크이다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 발생을 위한 전원 공급치를 보여주는 블록도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 전원 공급장치는 전원 공급원(10), 전류 전압 센서(15), 위상차 보상회로(30), 제1 비교기(36), 검파기(38) 및 제2 비교기(42)로 구성된다.
전원 공급원(10)은 플라즈마를 발생시키기 위해 부하(20)로 전원을 공급한다.
전류 전압 센서(15)는 전원 공급원(10)으로부터 부하(20)로 공급되는 전원의 출력 파형을 센싱하여 검출한다.
위상차 보상회로(30)는 제1 위상 지연 회로로써 전류 전압 센서(15)에서 검출한 전원의 출력 파형의 위상을 360도 지연하여 출력한다. 여기서, 전압 전류 센서(15)에 의해 센싱되어 출력된 파형보다 한주기 이전의 출력 파형을 360도 위상을 지연한 출력 파형으로 명칭한다.
제1 비교기(36)는 전류 전압 센서(15)를 통해 검출된 전원의 출력 파형과 위상차 보상회로(30)에 의해 360도 위상 지연된 출력 파형을 입력받아 비교하여 차이분을 출력한다. 다시 말해 위상차 보상회로(30)를 통해 한주기(360도 앞선 출력 파형) 이전의 출력 파형과 전류 전압 센서(15)를 통해 비교하고자하는 전원의 출력 파형을 입력받아 비교한 후 차이분을 출력한다. 제1 비교기(36)는 전류 전압 센서(15)와 위상차 보상 회로(30) 사이에 가변 저항(32, 34)이 각각 연결될 수 있다.
검파기(38)는 검파 회로로써 제1 비교기(36)의 출력을 검파한다. 전원의 출력 파형에 왜율이 발생하지 않았다면 측정 순간의 전원 출력 파형과 한주기 이전의 전원 출력 파형은 계속 정상이기 때문에 검파기(38)를 통해 검파되는 차이분이 없을 것이다. 그러나 측정 순간의 전원 출력 파형에 왜율이 발생했다면 정상적이었던 한주기 이전의 전원 출력 파형과 비교했을 때 왜율에 의한 차이분이 발생하므로 검파기(38)를 통해 차이분이 검파된다. 검파기(38)에서 검파된 차이분은 왜율 모니터링을 통해 관찰하여 전원 출력 파형의 왜율 발생 여부를 확인할 수 있다.
제2 비교기(42)는 검파기(38)를 통하여 출력되는 값과 기준값을 비교하여 출력한다. 기준값은 전원 출력 파형에 발생된 왜율이 부하(20)에 미치는 영향 정도를 판단하여 설정하는데, 기준값 설정부(44)를 통해 설정된다. 검파기(38)에서 검파된 차이분은 제2 비교기(42)를 통해 기준값과 비교되고, 차이분이 기준값보다 높은 경우에는 경고 알람을 동작하여 작업자에게 알린다. 작업자는 경고 알람이 동작된 경우에는 전원 출력 파형에 발생된 왜율에 의해 부하(20)가 영향을 받는다고 판단하여 전원 공급원(10)으로부터 공급되는 전원을 조절할 수 있다.
위상차 보상 회로(30)는 로우 패스 필터(Law Pass Filter) 또는 밴드 패스 필터(Band Pass Filter)로 구성되어 파형 보상이 이루어질 수 있다. 로우 패스 필터는 특정 값 이하의 주파수 대역만 통과시키기는 역할을 하는 필터 회로이고, 밴드 패스 필터는 어떤 주파수를 중심으로 한정된 범위의 주파수 대역만 통과시키는 필터 회로이다. 로우 패스 필터 또는 밴드 패스 필터를 사용함으로써 위상 지연된 전원 출력 파형의 잡음을 제거함으로써 파형 보상을 이룬다.
검파기(38)에서 검출된 차이분은 지연회로(40)를 통해 제2 비교기(42)로 제공된다. 지연회로(40)는 위상차 보상 회로(30)와 동일한 구성으로 전원 출력 파형에 순간적인 변동, 예를 들어 아크와 같은 것이 발생한 경우를 필터링함으로써 전원 출력 파형에 왜율이 발생한 경우에만 모니터링한다. 아크는 순간적으로 출력 파형에 영향을 줄 뿐 왜율로 작용하여 전원 출력 파형에 지속적으로 영향을 미치는 요소는 아니기 때문에 지연회로(40)를 통해 필터링한다. 여기서, 왜율 모니터링은 지연회로(40)로 제공되기 전의 출력 파형을 검출하여 모니터링한다.
도 2는 도 1의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치의 동작 과정을 보여주는 순서도이다.
도 2를 참조하면, 전원 공급 장치는 전압 전류 센서(15)를 이용하여 전원 공급원(10)으로부터 부하(20)로 공급되는 전원의 출력 파형을 센싱한다(S10). 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 전원 출력 파형은 위상차 보상 회로(30)로 입력되어 360도 위상 지연이 이루어진다. 360도 위상을 지연하는 이유는 측정하고자 하는 전원의 출력 파형과 측정하기 360도 이전의 출력 파형을 비교하기 위함이다. 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 출력 파형의 위상을 위상차 보상 회로(30)를 이용하여 위상 보정된 출력 파형과 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 출력 파형을 제1 비교기(36)를 통해 비교하여 차이분을 출력한다(S20). 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 전원 출력 파형에 왜율이 발생한 경우, 위상차 보상 회로(30)에 의해 위상차가 보정된 360도 이전의 출력 파형은 왜율이 발생하지 않은 정상적인 출력 파형이기 때문에 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 전원 출력 파형과 비교하여 차이분을 출력할 수 있다. 출력된 차이분은 검파기(38)를 통해 검파된다. 전원 출력 파형에 왜율이 발생했다면 출력된 차이분은 왜율에 의한 차이분이 검파된다. 출력된 차이분은 제2 비교기(42)에 입력되고, 제2 비교기(42)는 출력된 차이분과 설정된 기준값을 비교한다(S30). 제2 비교기(42)에서는 출력된 차이분이 설정된 기준값을 초과하면, 경고 알람을 동작하여 작업자에게 전원 출력 파형에 왜율이 발생한 것을 알린다(S40). 여기서, 위상차 보상 회로(30)를 통해 위상이 지연된 출력 파형은 지연회로(40)를 이용하여 순간적인 변동, 예를 들어 아크와 같은 것이 발생한 경우를 필터링함으로써 전원 출력 파형에 왜율이 발생한 경우만을 모니터링한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 발생을 위한 전원 공급치를 보여주는 블록도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 전원 공급장치는 전원 공급원(10), 전류 전압 센서(15), 위상차 보상회로(30), 제1 비교기(36), 검파기(38) 및 제2 비교기(42)로 구성된다.
전원 공급원(10)은 플라즈마를 발생시키기 위해 부하(20)로 전원을 공급한다.
전류 전압 센서(15)는 전원 공급원(10)으로부터 부하(20)로 공급되는 전원의 출력 파형을 센싱하여 검출한다.
위상차 보상회로(30)는 제1 위상 지연 회로로써 전류 전압 센서(15)에서 검출한 전원의 출력 파형의 위상을 360도 지연하여 출력한다. 여기서, 전압 전류 센서(15)에 의해 센싱되어 출력된 파형보다 한주기 이전의 출력 파형을 360도 위상을 지연한 출력 파형으로 명칭한다.
제1 비교기(36)는 전류 전압 센서(15)를 통해 검출된 전원의 출력 파형과 위상차 보상회로(30)에 의해 360도 위상 지연된 출력 파형을 입력받아 비교하여 차이분을 출력한다. 다시 말해 위상차 보상회로(30)를 통해 한주기(360도 앞선 출력 파형) 이전의 출력 파형과 전류 전압 센서(15)를 통해 비교하고자하는 전원의 출력 파형을 입력받아 비교한 후 차이분을 출력한다. 제1 비교기(36)는 전류 전압 센서(15)와 위상차 보상 회로(30) 사이에 가변 저항(32, 34)이 각각 연결될 수 있다.
검파기(38)는 검파 회로로써 제1 비교기(36)의 출력을 검파한다. 전원의 출력 파형에 왜율이 발생하지 않았다면 측정 순간의 전원 출력 파형과 한주기 이전의 전원 출력 파형은 계속 정상이기 때문에 검파기(38)를 통해 검파되는 차이분이 없을 것이다. 그러나 측정 순간의 전원 출력 파형에 왜율이 발생했다면 정상적이었던 한주기 이전의 전원 출력 파형과 비교했을 때 왜율에 의한 차이분이 발생하므로 검파기(38)를 통해 차이분이 검파된다. 검파기(38)에서 검파된 차이분은 왜율 모니터링을 통해 관찰하여 전원 출력 파형의 왜율 발생 여부를 확인할 수 있다.
제2 비교기(42)는 검파기(38)를 통하여 출력되는 값과 기준값을 비교하여 출력한다. 기준값은 전원 출력 파형에 발생된 왜율이 부하(20)에 미치는 영향 정도를 판단하여 설정하는데, 기준값 설정부(44)를 통해 설정된다. 검파기(38)에서 검파된 차이분은 제2 비교기(42)를 통해 기준값과 비교되고, 차이분이 기준값보다 높은 경우에는 경고 알람을 동작하여 작업자에게 알린다. 작업자는 경고 알람이 동작된 경우에는 전원 출력 파형에 발생된 왜율에 의해 부하(20)가 영향을 받는다고 판단하여 전원 공급원(10)으로부터 공급되는 전원을 조절할 수 있다.
위상차 보상 회로(30)는 로우 패스 필터(Law Pass Filter) 또는 밴드 패스 필터(Band Pass Filter)로 구성되어 파형 보상이 이루어질 수 있다. 로우 패스 필터는 특정 값 이하의 주파수 대역만 통과시키기는 역할을 하는 필터 회로이고, 밴드 패스 필터는 어떤 주파수를 중심으로 한정된 범위의 주파수 대역만 통과시키는 필터 회로이다. 로우 패스 필터 또는 밴드 패스 필터를 사용함으로써 위상 지연된 전원 출력 파형의 잡음을 제거함으로써 파형 보상을 이룬다.
검파기(38)에서 검출된 차이분은 지연회로(40)를 통해 제2 비교기(42)로 제공된다. 지연회로(40)는 위상차 보상 회로(30)와 동일한 구성으로 전원 출력 파형에 순간적인 변동, 예를 들어 아크와 같은 것이 발생한 경우를 필터링함으로써 전원 출력 파형에 왜율이 발생한 경우에만 모니터링한다. 아크는 순간적으로 출력 파형에 영향을 줄 뿐 왜율로 작용하여 전원 출력 파형에 지속적으로 영향을 미치는 요소는 아니기 때문에 지연회로(40)를 통해 필터링한다. 여기서, 왜율 모니터링은 지연회로(40)로 제공되기 전의 출력 파형을 검출하여 모니터링한다.
도 2는 도 1의 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치의 동작 과정을 보여주는 순서도이다.
도 2를 참조하면, 전원 공급 장치는 전압 전류 센서(15)를 이용하여 전원 공급원(10)으로부터 부하(20)로 공급되는 전원의 출력 파형을 센싱한다(S10). 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 전원 출력 파형은 위상차 보상 회로(30)로 입력되어 360도 위상 지연이 이루어진다. 360도 위상을 지연하는 이유는 측정하고자 하는 전원의 출력 파형과 측정하기 360도 이전의 출력 파형을 비교하기 위함이다. 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 출력 파형의 위상을 위상차 보상 회로(30)를 이용하여 위상 보정된 출력 파형과 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 출력 파형을 제1 비교기(36)를 통해 비교하여 차이분을 출력한다(S20). 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 전원 출력 파형에 왜율이 발생한 경우, 위상차 보상 회로(30)에 의해 위상차가 보정된 360도 이전의 출력 파형은 왜율이 발생하지 않은 정상적인 출력 파형이기 때문에 전압 전류 센서(15)를 통해 센싱된 전원 출력 파형과 비교하여 차이분을 출력할 수 있다. 출력된 차이분은 검파기(38)를 통해 검파된다. 전원 출력 파형에 왜율이 발생했다면 출력된 차이분은 왜율에 의한 차이분이 검파된다. 출력된 차이분은 제2 비교기(42)에 입력되고, 제2 비교기(42)는 출력된 차이분과 설정된 기준값을 비교한다(S30). 제2 비교기(42)에서는 출력된 차이분이 설정된 기준값을 초과하면, 경고 알람을 동작하여 작업자에게 전원 출력 파형에 왜율이 발생한 것을 알린다(S40). 여기서, 위상차 보상 회로(30)를 통해 위상이 지연된 출력 파형은 지연회로(40)를 이용하여 순간적인 변동, 예를 들어 아크와 같은 것이 발생한 경우를 필터링함으로써 전원 출력 파형에 왜율이 발생한 경우만을 모니터링한다.
10: 전원 공급원 15: 전류 전압 센서
20: 부하 30: 위상차 보상 회로
32, 34: 가변 저항 36: 제1 비교기
38: 검파기 40: 지연회로
44: 기준값 설정부 42: 제2 비교기
20: 부하 30: 위상차 보상 회로
32, 34: 가변 저항 36: 제1 비교기
38: 검파기 40: 지연회로
44: 기준값 설정부 42: 제2 비교기
Claims (12)
- 부하로 전원을 공급하는 전원 공급원;
상기 전원 공급원으로부터 상기 부하로 공급되는 전원의 출력 파형을 검출하는 전류 전압 센서;
상기 전류 전압 센서에서 검출된 출력 파형의 위상을 지연하여 출력하는 제1 위상 지연 회로;
상기 제1 위상 지연 회로의 출력과 상기 전류 전압 센서의 출력을 비교하여 차이분을 출력하는 제1 비교기;
상기 제1 비교기의 출력을 검파하는 검파 회로; 및
상기 검파 회로를 통하여 출력되는 값과 설정된 기준 값을 비교하여 출력하는 제2 비교기를 포함하고,
상기 제2 비교기에서 출력된 값이 상기 설정된 기준값을 초과하면 상기 전원 공급원으로부터 공급되는 전원의 출력 파형에 왜율이 발생된 것으로 감지하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제1 위상 지연 회로는 상기 전류 전압 센서에서 검출된 출력 파형의 360도 위상 지연이 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치. - 제2항에 있어서,
상기 제1 위상 지연 회로는 로우 패스 필터로 구성되어 파형 보상이 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치. - 제2항에 있어서,
상기 제1 위상 지연 회로는 밴드 패스 필터로 구성되어 파형 보상이 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치. - 제1항에 있어서,
상기 검파 회로와 상기 제2 비교기 사이에 제2 위상 지연 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치. - 제5항에 있어서,
상기 제2 위상 지연 회로에 의해 상기 전원 공급원의 출력 파형의 순간적인 변동은 배제되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치. - 제6항에 있어서,
상기 출력 파형의 순간적인 변동은 아크인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 장치. - 전원 공급원으로부터 공급되는 전원의 출력 파형을 센싱하는 단계;
센싱된 출력 파형의 위상을 지연하여 보정된 출력 파형과 센싱된 출력 파형을 비교하여 차이분을 검출하는 단계;
검출된 차이분 값과 설정된 기준 값을 비교하여 검출된 차이분 값이 설정된 기준 값을 초과하면 상기 전원 공급원의 출력 파형에 왜율이 발생한 것으로 판단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법. - 제8항에 있어서,
상기 위상을 지연하여 보정된 출력 파형은 센싱된 출력 파형보다 360도 앞서 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법. - 제8항에 있어서,
상기 왜율 발생 판단 단계에서 왜율 발생으로 판단되는 경우 경고 알람을 발생하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법. - 제8항에 있어서,
위상 지연을 통하여 출력 파형의 순간적인 변동을 제외하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법. - 제11항에 있어서,
상기 순간적인 변동은 아크인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생을 위한 전원 공급 방법.
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