KR101332369B1 - Method for applying soldering material on conductive pillar of wafer and apparatus thereof - Google Patents

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Abstract

A method for applying a soldering material on the conductive pillar of a wafer includes a step for providing a soldering material furnace with an upper opening part, loading a melted soldering material in the soldering material furnace, and connecting the soldering material furnace to an input source, a step for providing a plate to the upper opening part and forming holes in the plate, a step for forming soldering material bumps by using the upper hole the soldering material of the input source, a step for performing a size analysis step by providing a visual device, a step for providing a work piece and forming conductive fillers on the work piece, moving the plate against the work piece, and making the conductive filler face a soldering bump, and a step for making the conductive filler touch the soldering material bump and arranging the soldering material bump on the conductive filler. [Reference numerals] (S101) Providing a soldering material furnace with an upper opening part, loading a melted soldering material in the soldering material furnace, and connecting the soldering material furnace to an input source;(S103) Providing a plate to the upper opening part and having, a plate has multiple drilling and multiple first location mark;(S105) Forming multiple soldering material bumps projected in plate by using pressure to pressurize melt soldering material source into drilling through upper opening part and plate;(S107) performing a size analysis step by providing a visual device and stopping pressurizing the pressure source when the size of soldering material bumper reaches predetermined value;(S109) Providing a work piece and forming conductive fillers on the work piece, moving the plate against the work piece, and making the conductive filler face a soldering bump;(S111) Making the conductive filler touch the soldering material bump and arranging the soldering material bump on the conductive filler

Description

웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조 방법 및 그 장치{METHOD FOR APPLYING SOLDERING MATERIAL ON CONDUCTIVE PILLAR OF WAFER AND APPARATUS THEREOF }TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION A method for manufacturing a solder joint material applied to a conductive filler of a wafer, and a device therefor {METHOD FOR APPLYING SOLDERING MATERIAL ON CONDUCTIVE PILLAR OF WAFER AND APPARATUS THEREOF}

본 발명은 일종의 웨이퍼의 도전성 필러에 응용되는 납접재료의 제조 방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼상의 도전 필러에 응용되는 납접재료 도포방법 및 그의 납접재료 도포 장치에 관한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method for manufacturing a soldering material applied to a conductive filler of a wafer, and more particularly, to a soldering material applying method applied to a conductive filler on a wafer, and a soldering material applying device thereof.

휴대식 멀티미디어 상품과 휴대용 모바일 기기는 가볍고 얇고 작은 상품 외형이 추세이며, 전자상품의 회로기판 면적은 더욱 작지만 큰 값어치가 있다. 그리고 3D IC에 의해 효과적으로 칩의 체적을 축소할 수 있으므로 또한 소형화의 제조 공정이 주목을 받는다. Portable multimedia products and portable mobile devices tend to be lighter, thinner, and smaller in appearance, and the circuit board area of electronic products is smaller but of great value. In addition, since the volume of the chip can be effectively reduced by the 3D IC, the miniaturization manufacturing process attracts attention.

3D IC는 칩 입체 적층 집적 모드(mode)이며, 다수의 칩에 3D 공간의 집적을 진행하며, 그 최대 특징은 다른 기능, 성질의 칩이고, 선행 제작 후에 연결기술을 이용하여 칩의 입체 적층 집적을 진행하여 금속 도선 및 연결 라인 전기저항 길이를 효과적으로 단축하며, 나아가 칩 면적을 감소한다. 작은 체적, 높은 집적도, 고효율, 저 소모 전기량, 산열이 빠르며 원가의 우수성을 가진다. 게다가 동시에 디지털 전자의 경박단소 추세요구에 부합한다. 일반적으로 말하면 상술의 연결기술은 Through-Si Via, TSV기술, Direct Bond Interconnect(DBI)기술을 포함하며, TSV기술은 주요 적으로 미세 홀(hole) 내에 금속을 채워 전기 도통을 달성한다. 그리고 DBI기술은 산화물 접합기술이며, 니켈 금속을 구리, 텅스턴, 혹은 알루미늄 등의 금속재질의 TSV홀상에 접합하며, 산화물과 금속간에 완전한 평면을 형성시킴으로서 신뢰성과 강도가 높은 접합을 생성한다. 3D IC is a chip three-dimensional stacked integration mode, the integration of 3D space on a large number of chips, the biggest feature is the chip of different functions, properties, after the pre-fabrication of the three-dimensional stacked integration of the chip By proceeding to effectively shorten the length of the metal conductor and connecting line electrical resistance, and further reduce the chip area. Small volume, high integration, high efficiency, low power consumption, fast heat dissipation and excellent cost. And at the same time, it meets the light and light weight of digital electronics. Generally speaking, the above-described connection technology includes Through-Si Via, TSV technology, and Direct Bond Interconnect (DBI) technology, and TSV technology mainly fills metals in micro holes to achieve electrical conduction. DBI technology is an oxide bonding technology. Nickel metal is bonded on a TSV hole made of metal such as copper, tungsten, or aluminum, and a perfect plane is formed between oxide and metal to create a high reliability and strength bond.

이외에, 구리 필러 범프(copper pillar bump)를 사용한 연접기술 또한 3D IC의 제조 공정에 응용되며, 주요적 특징은 기판상에 복수의 상당히 정밀한 구리 필러를 제작한다. 예를 들면 직경이 약 15~20um, 간격이 약 30~40um, 높이가 약 20~30um이 되며, 구리 필러가 전도 주축이 되는 것을 이용하여 신호 전달의 용량과 신뢰성을 대폭 증가시킨다. In addition, splicing techniques using copper pillar bumps are also applied in the manufacturing process of 3D ICs, the main feature of which is to fabricate a plurality of highly precise copper fillers on a substrate. For example, the diameter is about 15 to 20um, the spacing is about 30 to 40um, the height is about 20 to 30um, and the copper filler is used as the conducting spindle to greatly increase the capacity and reliability of signal transmission.

하지만, 구리 필러 상에 반드시 납접재료(soldering material)를 도포해야하며, 후속의 연결 작업을 진행한다. 그러나 구리 필러의 미세함에 의해 상기의 납접재료 도포 작업은 상당히 곤란하다. 현재 업자는 입경이 10~20um의 납땜(soldering)(주석)입자를 제작하며 납땜(주석)입자룰 무작위로 고무 물질 상에 분산하여 고무를 형성하고, 다시 고무를 기판에 배치하여 납땜(주석)입자로 하여금 구리 필러상에 적합하게 배치하며, 최후에 특수한 스탠드의 가열을 통하여 납땜(주석)입자를 융화하고 구리 필러 상에 성형한다. 그러면 상술한 미세 납땜(주석)입자는 제작의 난이도 때문에 재료 비용이 상당히 높고, 또한 고무 상에 점착되지만 납접재료 상의 납땜(주석)입자로 전달되지 않으며 회수 사용할 방법이 없으며 전체 제조과정 비용이 중요하기 때문에 재료의 관리 통제가 어렵다. However, a soldering material must be applied on the copper filler and subsequent connection work is carried out. However, due to the fineness of the copper filler, the above soldering material coating operation is quite difficult. Currently, the manufacturer produces soldering (tin) particles with a particle diameter of 10-20um, and the solder (tin) particles are randomly dispersed on the rubber material to form rubber, and the rubber is placed on the substrate to solder (tin). The particles are suitably placed on the copper filler, and finally the solder (tin) particles are melted and molded on the copper filler through heating of a special stand. The fine solder (tin) particles described above will then have a significantly higher material cost due to the difficulty of fabrication, and will also adhere to the rubber but will not be transferred to the solder (tin) particles on the solder material, there is no way to use them and the overall manufacturing process cost is important. It is difficult to control the management of materials.

본 발명의 목적 중 하나는, 도전 필러의 납접재료의 도포 방법 및 그의 도포 장치를 제공하는 것이다.One of the objectives of this invention is providing the coating method of the soldering material of a conductive filler, and its coating apparatus.

본 발명에 따르면 사이즈가 상당히 미세한 도전 필러에 납접재료의 도포를 진행하며, 기타 현재 방법에 비하여, 본 발명의 제조 과정이 간단하며, 또한 대량 생산이 가능하고 더욱이 원가를 대폭으로 절감할 수 있다. According to the present invention, the soldering material is applied to a conductive filler having a very small size, and compared with other current methods, the manufacturing process of the present invention is simpler, mass production is possible, and the cost can be greatly reduced.

본 발명의 실시예는 도전 필러의 납접재료 도포방법을 제공하며, 이하의 단계를 포함한다.An embodiment of the present invention provides a method for applying a solder material of a conductive filler, and includes the following steps.

제1단계: 상개구를 가지는 납접재료 노를 제공하며, 상기 납접재료 노 중에 용해 상태의 납접재료을 적재하며, 상기 납접재료 노는 압력원에 연결된다. Step 1: Provide a solder material furnace having an upper opening, load the solder material in the molten state into the solder material furnace, the solder material furnace is connected to the pressure source.

제2단계: 상기 납접재료 노의 상기 상개구에 플레이트를 제공하고, 상기 플레이트는 복수의 천공 및 복수의 제1 정위 표기를 가진다.Step 2: Provide a plate in the top opening of the solder material furnace, the plate having a plurality of perforations and a plurality of first orientation marks.

제3단계: 상기 압력원을 이용하여 상기 용해 상태의 납접재료을 상기 상개구와 상기 플레이트의 천공들을 통해서 가압하여 상기 플레이트에 돌출된 복수 납접재료 범프를 형성한다.The third step: using the pressure source to press the molten solder material in the molten state through the upper opening and the perforations of the plate to form a plurality of solder bumps protruding from the plate.

제4단계: 시각 장치를 제공하여 크기 분석단계를 진행하며, 상기 납접재료 범프들의 크기가 예정치에 도달하면 상기 압력원은 즉시 가압을 정지한다. Step 4: Providing a visual device to proceed the size analysis step, and when the size of the solder bumps reaches a predetermined value, the pressure source immediately stops pressurizing.

제5단계: 워크피스를 제공하여, 그 위에 복수의 도전 필러 및 복수의 제2정위 표기를 성형하며, 상기 제1정위 표기와 상기 제2정위 표기를 이용하여 상기 플레이트와 상기 워크 피스를 대립으로 진행하고 상기 도전 필러들을 상기 납접재료 범프들에 향하게 한다. Step 5: Providing a workpiece, forming a plurality of conductive fillers and a plurality of second positioning marks thereon, using the first positioning mark and the second positioning mark to oppose the plate and the workpiece Proceed and direct the conductive fillers to the solder bumps.

제6단계: 상기 도전 필러들을 상기 납접재료 범퍼들에 접촉하고, 상기 납접재료 범퍼들을 상기 도전 필러들 상에 배치한다. Step 6: The conductive fillers are in contact with the solder bumpers, and the solder bumpers are disposed on the conductive fillers.

본 발명 실시예는 도전 필러의 납땜 도포 장치를 더 제공하며, 상개구를 가지는 납접재료 노, 상기 납접재료 노 중에 용해 상태의 납접재료을 적재하고, 상기 납접재료 노는 압력원에 연결된다.; 상기 납접재료 노의 상기 상개구에 설치되는 플레이트, 상기 플레이트는 복수의 천공 및 복수의 제1정위 표기를 가진다.;상기 플레이트의 상방에 대응적으로 배치되는 시각 장치 및 흡취 헤드를 포함한다. .An embodiment of the present invention further provides a solder coating apparatus for a conductive filler, and includes a soldering material furnace having an upper opening, a soldering material in a molten state in the soldering material furnace, and the soldering material furnace is connected to a pressure source; A plate installed in the upper opening of the solder material furnace, the plate having a plurality of perforations and a plurality of first orientation markings; a vision device and a suction head disposed correspondingly above the plate. .

본 발명의 일 실시예에 의하면, 본 발명은 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조 방법을 제공하며, 이하의 단계를 포함한다. According to one embodiment of the present invention, the present invention provides a method of manufacturing a soldering material applied to a conductive filler of a wafer, and includes the following steps.

하개부를 가지는 주석 파우더 공급 장치를 제공하며, 상기 주석 파우더 공급 장치 중에 파우더 상태의 납접재료를 적재하며, 상기 주석 파우더 공급장치는 압력원에 연결된다. A tin powder supply device having a lower portion is provided, and a powdered solder material is loaded in the tin powder supply device, and the tin powder supply device is connected to a pressure source.

이 주석 파우더 공급장치의 상기 하개구의 아래쪽에 플레이트를 제공하며, 상기 플레이트는 복수의 천공 및 복수의 제1정위 표기를 가진다. A plate is provided below the lower opening of the tin powder supply device, the plate having a plurality of perforations and a plurality of first orientation marks.

정밀 평대을 상기 플레이트의 아래쪽에 이동하며, 상기 정밀 평대의 꼭대기면에는 복수의 전재 정위 표기를 설치하며, 상기 제1정위 표기들과 상기 전재 정위 표기들을 이용하여 상기 플레이트와 상기 정밀 평대를 대립으로 진행한다. ;The precision flat plate is moved below the plate, and a plurality of material positioning marks are installed on the top surface of the precision plate, and the plate and the precision plate are opposed to each other by using the first location markings and the material positioning marks. do. ;

파우더 상태의 납접재료를 상기 플레이트의 천공들을 관통(통과)하도록 하여 상기 정밀 평대의 꼭대기면상에 대응적으로 배치한다.A powdered solder material is disposed correspondingly on the top surface of the precision flat plate, through the perforations of the plate.

기체를 충분히 보호하는 밀폐강실을 제공하고 상기 정밀 평대를 상기 밀폐강실내로 이동한다.Provide a sealed chamber to sufficiently protect the gas and move the precision flat into the sealed chamber.

상기 정밀 평대를 가열하여 상기 납접재료들이 용해 상태의 납접재료 범퍼를 형성하도록 한다. The precision flat plate is heated to allow the soldering materials to form a soldering material bumper in a molten state.

워크 피스을 제공하며, 거기에 복수의 도전 필러 및 복수의 제2정위 표기를 성형하며, 상기 제2정위 표기들 및 상기 전재 정위 표기들을 이용하여 상기 워크 피스와 상기 정밀 평대를 대립으로 진행하며, 상기 도전 필러들을 상기 납접재료 범퍼에 향하게 한다; 및Providing a workpiece, shaping a plurality of conductive fillers and a plurality of second orientation marks thereon, and proceeding opposing the workpiece and the precision flat using the second orientation marks and the warp position markings; Directing conductive fillers to the solder bumper; And

상기 도전 필러들을 상기 납접재료 범퍼들에 접촉하여 상기 납접재료 범퍼들을 상기 도전 필러들 상으로 옮긴다. The conductive fillers contact the solder bumpers to move the solder bumpers onto the conductive fillers.

본 발명의 다른 일 실시예에 의하면, 본 발명은 웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치를 더 제공하며, 이는 워크 피스의 복수 도전 필러에 납접재료을 더하는데 쓰인다. 이는 아래를 포함한다.:According to another embodiment of the present invention, the present invention further provides an apparatus for applying a conductive filler solder material of a wafer, which is used to add a solder material to a plurality of conductive fillers of a workpiece. This includes:

하개부를 가지는 주석 파우더 공급장치, 상기 주석 파우더 공급장치 중에 파우더 상태의 납접재료를 적재하며, 상기 파우더 상태의 납접재료에 압력원을 연결한다.Tin powder supply device having a lower portion, the powdered solder material is loaded in the tin powder supply device, the pressure source is connected to the powdered solder material.

플레이트, 주석 파우더 공급장치의 상기 하개부 아래쪽에 유동적으로 설치되며, 상기 플레이트는 복수의 천공 및 복수의 제1정위 표기를 가진다.The plate is installed fluidly below the lower portion of the tin powder supply device, the plate having a plurality of perforations and a plurality of first orientation markings.

정밀 평대, 평평한 꼭대기면 및 가열기를 가져 그 꼭대기면을 가열하며, 상기 꼭대기면에 복수의 전재 정위 표기를 설치하며, 상기 천공들을 관통한 상기 파우더 상태의 납접재료를 지탱한다.It has a precision flat surface, a flat top surface and a heater to heat the top surface, to install a plurality of material orientation markings on the top surface, and to support the powdered solder material passing through the perforations.

시각장치, 상기 플레이트의 상기 제1정위 표기와 상기 정밀 평대의 상기 전재 정위 표기에 대립한다.A visual device opposes the first positional representation of the plate and the transpositional position representation of the precision flat.

밀폐강실, 기체 엑세스부를 가지며, 상기 정밀 평대와 상기 워크 피스를 수용한다. It has a sealed steel chamber, a gas access portion, and accommodates the precision flat and the workpiece.

흡취장치, 상기 워크 피스를 흡취하며, 상기 도전 필러들로 하여금 상기 납접재료 범퍼들을 접촉하게 하고 상기 납접재료 범퍼들을 상기 도전 필러들 상에 옮긴다.A suction device, suctions the workpiece, causes the conductive fillers to contact the solder bumpers and transfers the solder bumpers onto the conductive fillers.

본 발명은 이하의 유익한 효과를 가진다.: 본 발명은 용해 상태의 납접재료를 이용하여 특수한 강판을 통하여 납접재료 범퍼를 형성하며, 납접재료 범퍼는 곧 각 도전 필러상에 대응적으로 도포될 수 있으며, 제조 과정상의 원가가 비교적 낮아진다. The present invention has the following beneficial effects: The present invention forms a solder material bumper through a special steel sheet using a solder material in a molten state, and the solder material bumper can be applied on each conductive filler correspondingly. As a result, manufacturing costs are relatively low.

본 발명은 또한 시각 대립의 방식을 이용하여 워크 피스(예를 들면 웨이퍼)와 강판을 정확한 대립을 진행하고, 각 도전 필러 상으로 하여금 균일하고 정확하게 납접재료를 피복시켜 도전 필러 사이의 단락이 조성될 수 없다The present invention also uses a method of visual opposition to precisely oppose the workpiece (e.g. wafer) and the steel sheet, and allows each conductive filler phase to uniformly and accurately cover the soldering material to form a short circuit between the conductive fillers. Cannot

도1은 본 발명의 납접재료 도포 방법를 나타내는 설명도이다.
도2a는 본 발명의 납접재료 노와 플레이트를 나타내는 분해도이다.
도2b는 본 발명의 납접재료 노와 플레이트를 나타내는 조합도이다.
도3은 본 발명의 워크 피스가 플레이트에 배치되는 것을 나타내는 분해도이다.
도4a는 본 발명의 워크 피스가 플레이트에 배치되는 것을 나타내는 설명도이다.
도4b는 본 발명이 압력을 이용하여 납접재료 범퍼를 성형하는 것을 나타내는 설명도이다.
도4c 본 발명의 도전 필러가 납접재료 범퍼에 접촉되는 것을 나타내는 설명도이다.
도4d는 본 발명의 납접재료 범퍼가 도전 필러상에 접촉하는 것을 나타내는 설명도이다.
도5는 본 발명의 주석 파우더 공급장치, 플레이트와 정밀 평대을 나타내는 설명도이다.
도6은 본 발명의 밀폐강실, 워크 피스 및 정밀 평대을 나타내는 설명도이다.
도7은 발명의 도전 필러에 의한 납접재료 도포 장치 정합후의 조감도이다.
도8은 본 발명의 도전 필러에 의한 납접재료 도포 장치 정합 후의 입체조합도이다.
1 is an explanatory view showing a soldering material application method of the present invention.
Figure 2a is an exploded view showing the solder material furnace and plate of the present invention.
Fig. 2B is a combination diagram showing a solder material furnace and a plate of the present invention.
3 is an exploded view showing that the workpiece of the present invention is disposed on a plate.
4A is an explanatory diagram showing that the workpiece of the present invention is disposed on a plate.
4B is an explanatory diagram showing that the present invention uses a pressure to mold a solder bumper.
4C is an explanatory diagram showing that the conductive filler of the present invention is in contact with a solder bumper.
4D is an explanatory diagram showing that the solder bumper of the present invention is in contact with the conductive filler.
5 is an explanatory view showing a tin powder supply device, a plate and a precision flat plate of the present invention.
6 is an explanatory view showing a hermetically sealed steel chamber, a workpiece and a precision flat plate of the present invention.
Fig. 7 is a bird's eye view after registration of a soldering material applying device by the conductive filler of the invention.
Fig. 8 is a three-dimensional combination diagram after registration of a soldering material application device by the conductive filler of the present invention.

본 발명의 특징 및 기술내용을 더욱더 명료하기 하기 위해 이하 본 발명에 관련한 상세 설명과 도면을 참고한다. 도식은 오직 참고와 설명용으로 제공되며 본 발명에 대해 한정하지 않는다. In order to further clarify the features and technical details of the present invention, reference is made to the following detailed description and drawings. The schemes are provided for reference and explanation only and do not limit the invention.

본 발명은 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법 및 그 장치에 관한 것이다. 본 발명이 제기하는 납접재료 도포 방법은 상당히 정밀하고 크기가 상당히 작은 도전 필러에 납접재료 피복을 형성하여 전체 제조 과정의 원가를 낮춘다. The present invention relates to a method for manufacturing a soldering material applied to a conductive filler of a wafer and an apparatus thereof. The method of applying the solder material proposed by the present invention forms a solder material coating on a highly precise and considerably smaller conductive filler, thereby lowering the cost of the entire manufacturing process.

[제1 실시예][First Embodiment]

도1은 본 발명의 흐름도이며, 본 발명의 납접재료 도포 방법은 적어도 이하의 단계를 포함한다. 1 is a flowchart of the present invention, and the method of applying a solder material of the present invention includes at least the following steps.

단계 S101: 상개구(111)를 가지는 납접재료 노(11)를 제공하며, 상기 납접재료 노(11) 중에 용해 상태의 납접재료(S)(도 4a 내지 도 4d에 더 상세히 표시되어 있음)를 적재한다.(도2a 및 도2b를 동시 참고)Step S101: provide a soldering material furnace 11 having an upper opening 111, wherein the soldering material S (shown in more detail in Figs. 4A to 4D) in the soldering material furnace 11 is shown. (See FIG. 2A and FIG. 2B simultaneously.)

이 단계에서, 본 실시예는 용해 상태의 납접재료(S)를 납접재료 노(11)중에 배치하고, 납접재료 노(11)의 노 온도는 대체적으로 상기 납접재료의 용해점과 같으며, 대략 220℃~260℃및/혹은 대략 300℃~330℃(납접재료 용해점 정도 되며, 납땜 성분을 직시하여 정한다.), 250℃가 가장 좋으며, 납접재료(S)의 유동성을 유지하기 위함이다.; 다른 방면에서, 납접재료 노(11)는 압력원(13)에 연결되며, 압력원(13)은 납접재료(S)에 압력을 제공하는데 쓰인다. 납접재료(S)를 압력이 작은 지역으로 유통시키고 구체적인 실시예에서, 압력원(13)은 펌프일 수 있으며, 기체 압축 후에 납접재료 노(11)에 주입하고, 납접재료(S)로 하여금 유동의 효과를 생성하게 한다. In this step, the present embodiment arranges the molten solder material S in the solder material furnace 11, and the furnace temperature of the solder material furnace 11 is generally equal to the melting point of the solder material. 220 ° C ~ 260 ° C and / or approximately 300 ° C ~ 330 ° C (about the melting point of the soldering material, determine the soldering components directly), 250 ° C is the best, to maintain the fluidity of the soldering material (S). ; In another aspect, the solder material furnace 11 is connected to a pressure source 13, which is used to provide pressure to the solder material S. The solder material S is distributed to a region of low pressure, and in a specific embodiment, the pressure source 13 may be a pump, which is injected into the solder material furnace 11 after gas compression and causes the solder material S to flow. To produce the effect of.

다음으로, 납접재료 노(11)와 펌프의 사이에 컨트롤 밸브(미도시)를 설치하며, 상기 컨트롤 밸브는 조절판(throttle) 및/혹은 전자 밸브일 수 있으며 압력원(13)이 납접재료(S)에 대해 수출하는 압력을 확실하게 제어한다. Next, a control valve (not shown) is installed between the solder material furnace 11 and the pump, the control valve may be a throttle and / or a solenoid valve, and the pressure source 13 may be a solder material (S). Control the export pressure.

단계 S103: 상기 납접재료 노(11)의 상개구(111)에 플레이트(12)를 제공한다. 본 단계에서 플레이트(12)는 납접재료 노(11)의 상개구(111)에 고정되며, 납접재료(S)가 압력원(13)의 압력을 받은 후 생성되는 유동형태를 제어한다. 본 구체적인 실시예에서 플레이트(12)는 전기주조강판이며, 상당히 높은 크기 안정성을 가지며 만약 납접재료(S)에 접촉한다는 조건 하에, 상기의 전기주조강판은 여전히 그 사이즈의 안정을 유지한다. 플레이트(12)상에는 복수의 천공(121) 및 복수의 제1정위 표기(122)를 가진다. 예를 들면 가공방법을 이용하면, 식각, 전기주조 혹은 기계 가공 등의 방법은 상기 전기주조강판상에 직경 약20um, 간격 약 40um의 천공(121)을 만들지만 천공(121)의 크기, 간격 등은 일반적으로 후속의 도전 필러의 크기에 의거하여 변화한다. Step S103: The plate 12 is provided in the upper opening 111 of the solder material furnace 11. In this step, the plate 12 is fixed to the upper opening 111 of the soldering material furnace 11, and controls the flow pattern generated after the soldering material (S) is subjected to the pressure of the pressure source (13). In this specific embodiment, the plate 12 is an electroformed steel sheet, which has a fairly high size stability and under the condition that it contacts the solder material S, the electroformed steel sheet still maintains its size stability. The plate 12 has a plurality of perforations 121 and a plurality of first orientation marks 122. For example, using a processing method, such as etching, electroforming or machining process makes a perforation 121 having a diameter of about 20 μm and a spacing of about 40 μm on the electroformed steel sheet, but the size, spacing, etc. of the perforation 121. Is generally changed based on the size of the subsequent conductive filler.

다음의 단계는 주요적으로 납접재료(S)가 천공(121)을 투과하여 납접재료 범퍼(SP)를 형성하고 다시 워크 피스(2)가 대립 후 워크 피스(2)상의 도전 필러(21)로 하여금 성형한 납땜 범퍼(SP)에 접촉시키고, 납접재료 범퍼(SP)를 도전 필러(21)상에 옮긴다. 본 구체적인 실시예 중에서 워크 피스(2)는 웨이퍼일 수 있으며 도전 필러(21)는 원주 형태의 도전성 필러일 수 있으며, 예를 들면 직경 약 15~20um, 간격은 약 30~40um, 높이는 약 20~30um의 도전성 필러이다. In the next step, the soldering material S mainly penetrates the perforations 121 to form the soldering material bumper SP, and then the work piece 2 is opposed to the conductive filler 21 on the work piece 2. The molded solder bumper SP is brought into contact with the molded solder bumper SP, and the solder material bumper SP is transferred onto the conductive filler 21. In this specific embodiment, the workpiece 2 may be a wafer and the conductive filler 21 may be a cylindrical conductive filler, for example, about 15 to 20 um in diameter, about 30 to 40 um in interval, and about 20 to 20 in height. 30um of conductive filler.

그러나 다음의 단계 S105~단계S111은 제조 과정 순서에 한계를 가지지 않으며, 이하 단지 특정의 구체적 실시 순서로 설명한다. However, the following steps S105 to S111 do not have limitations in the manufacturing process sequence, and will be described below only with specific specific implementation procedures.

단계S105: 압력원(13)을 이용하여 용해 상태의 납접재료(S)를 상개구(111)과 플레이트(12)를 통하는 천공(121)에 가압하여 플레이트(12)에 돌출된 복수의 납접재료 범퍼(SP)를 형성한다. 도4b를 참조하면 본 단계에서 압력원(13)이 납접재료(S)에 가하는 압력은 납접재료(S)를 천공(121)에 투과시켜 복수의 납접재료 범퍼(SP)를 형성하며, 상술한 것에 의해, 본 발명의 플레이트(12) 상에 특정 규격의 천공(121)을 만들수 있으며, 최후 돌출 성형의 납접재료 범퍼(SP)가 예정된 구경을 가지도록 한다. 환언하면, 본 발명은 특정의 플레이트(12)를 선택하여 사용할 수 있으며, 성형한 납접재료 범퍼(SP)를 워크 피스(2) 상의 도전 필러(21)의 직경, 간격 등 규격을 대응시킬 수 있다. Step S105: using the pressure source 13 to press the molten solder material S into the perforations 121 through the upper opening 111 and the plate 12 to protrude on the plate 12. The bumper SP is formed. Referring to FIG. 4B, in this step, the pressure applied by the pressure source 13 to the soldering material S transmits the soldering material S through the perforations 121 to form a plurality of soldering material bumpers SP. This makes it possible to make perforations 121 of a particular specification on the plate 12 of the present invention, and to make the solder bumper SP of the last extrusion molding have a predetermined aperture. In other words, the present invention can select and use a specific plate 12, and the molded solder joint material bumper SP can correspond to specifications such as diameter and spacing of the conductive filler 21 on the workpiece 2. .

S107: 시각장치(미도시)를 제공하여 크기 분석 단계를 진행한다. 납접재료 범퍼(SP)의 크기가 예정치에 도달하면, 상기 압력원(13)은 가압을 멈춘다. 본 발명에서 시각장치는 적어도 시각 판별 및 정위 판별의 두 개의 기능을 가진다. 본 단계에서 시각장치(예를 들면CCD)는 납접재료 범퍼(SP)의 영상을 획득하고, 납접재료 범퍼(SP)의 크기를 분석한다. 환언하면, 단계S105의 압력원(13)에 가압을 진행하는 과정 중에 납접재료 범퍼(SP)는 점점 성장할 수 있으며, 시각 장치는 납접재료 범퍼(SP)가 성장 과정 중의 영상을 획득하고 시각 장치가 분석한 결과가 납접재료 범퍼(SP)의 크기가 설정의 예정치에 도달한 것을 확인하면, 시각 장치는 정보를 내보내어 압력원(13)이 가압을 정지하는 것을 제어한다. 이때, 납접재료 범퍼(SP)는 상기의 크기의 예정치를 유지할 수 있다. S107: Provide a visual device (not shown) to proceed with the size analysis step. When the size of the solder material bumper SP reaches a predetermined value, the pressure source 13 stops pressurizing. In the present invention, the visual apparatus has at least two functions of visual discrimination and stereotactic discrimination. In this step, the visual device (eg, CCD) acquires an image of the solder material bumper SP and analyzes the size of the solder material bumper SP. In other words, during the process of pressurizing the pressure source 13 in step S105, the solder material bumper SP may gradually grow, and the visual device may acquire an image of the solder material bumper SP during the growth process, When the result of the analysis confirms that the size of the solder material bumper SP has reached the predetermined value of the setting, the visual device sends out information and controls the pressure source 13 to stop pressurization. At this time, the solder material bumper (SP) can maintain the predetermined value of the size.

단계S109: 상기의 워크 피스(2)를 플레이트(12)와 대면하도록 한다. 도3A, 도3B에 나타내듯이 플레이트(12)상에 복수의 제1정위 표기(122)를 가지고, 워크 피스(2)는 복수의 제2정위 표기(22)를 가지며, 워크 피스(2)는 흡취 헤드를 이용하여 흡취하여 플레이트(12)의 위쪽으로 이동하고, 워크 피스(2)상의 도정 필러(21)를 납접재료 범퍼(SP)를 향하게 한다(도4b를 재 참고); 본 단계는 시각장치를 제1정위 표기(122)와 제2정위 표기(22)에 대한 촬영에 이용하고, 그 상대위치를 이용하여 위치를 판별하고, 상기의 흡취부를 재이용하여 시각장치의 판별/분석 결과에 따라 플레이트(12)에 상대되는 워크 피스(2)의 위치를 조정한다. 바꾸어 말하면 워크 피스(2)는 정위 단계를 투과할 수 있고, 시각장치를 이용하여 제1정위 표기(122)와 제2정위표기(22)의 영상을 획득하고 영상 분석 결과에 의거하여 플레이트(12)와 워크 피스(2)를 대립으로 한다. Step S109: The work piece 2 faces the plate 12. As shown in Figs. 3A and 3B, the plate 12 has a plurality of first positioning marks 122, the work piece 2 has a plurality of second positioning marks 22, and the work piece 2 is Suction by using the suction head to move upward of the plate 12 and direct the cutting filler 21 on the work piece 2 to the solder bumper SP (refer to FIG. 4B again); In this step, the visual apparatus is used for photographing the first stereotographic notation 122 and the second stereotactic notation 22, the position is determined by using the relative position, and the visual device is determined by reusing the suction unit. Adjust the position of the workpiece 2 relative to the plate 12 according to the analysis result. In other words, the workpiece 2 can penetrate the stereotactic step, and acquire an image of the first stereotographic notation 122 and the second stereotactic notation 22 using a vision device and based on the image analysis result, the plate 12 ) And the work piece 2 are opposed to each other.

다른 방면에서, 납접재료 범퍼(SP)를 효율적으로 도전 필러(21)상에 이동시키고, 본 단계에서 워크 피스(2)에 대해 가열을 진행하는 가열단계를 더 포함하며, 상기의 흡취 헤드는 가열 후의 워크 피스(2)를 플레이트(11)의 위쪽에 배치한다. In another aspect, the method further comprises a heating step of efficiently moving the solder bumper SP onto the conductive filler 21 and heating the workpiece 2 in this step, wherein the suction head is heated. The later work piece 2 is disposed above the plate 11.

단계S111: 도전 필러(21)를 납접재료 범퍼(SP)에 접촉하여, 납접재료 범퍼(SP)를 도전 필러(21)상으로 이동한다. 도4c, 도4d를 종합하면, 상기의 대립/정위 후에 흡취 헤드는 워크 피스(2)를 아래로 이동시키고 도전 필러(21)를 납접재료 범퍼(SP)에 접촉시킨다.; 워크 피스(2)가 가열후 상대적으로 고온을 가짐으로써 납접재료 범퍼(SP)가 납접재료(S)를 벗어나도록 하고 도전 필러(21) 상까지 전이한다. 이로 인해 각 도전 필러(21)는 납접재료 범퍼(SP)를 균일하게 성형할 수 있다. Step S111: The conductive filler 21 is brought into contact with the soldering material bumper SP to move the soldering material bumper SP onto the conductive filler 21. 4C and 4D, after the opposition / orientation, the suction head moves the work piece 2 downward and makes the conductive filler 21 contact the solder material bumper SP; The workpiece 2 has a relatively high temperature after heating so that the solder material bumper SP leaves the solder material S and transitions onto the conductive filler 21. For this reason, each electrically conductive filler 21 can shape | mold the solder joint material bumper SP uniformly.

결과적으로, 본 발명은 크기가 상당히 미세한 도전 필러(21)에 대하여 용접 재료의 도포를 진행하며, 용해 상태의 납접재료(S)는 원가에서 상대적으로 저렴하며 납접재료는 또한 회수하여 사용이 가능하므로 전체 제조과정이 간단하고 원가가 낮다.As a result, the present invention proceeds to apply the welding material to the conductive filler 21 of a very fine size, the soldering material (S) in the dissolved state is relatively inexpensive at cost and the soldering material can also be recovered and used The whole manufacturing process is simple and the cost is low.

다른 방면에서, 본 발명은 또한 납접재료 도포 장치를 제공하며, 그것은 상기의 납접재료 노(11), 플레이트(12), 시각장치 및 흡취 헤드를 포함한다. 납접재료 노(11)와 플레이트(12)의 구조는 전문을 참조하고 추가 설명하지 않는다. 시각 장치는 위 시각장치일 수 있으며 그것은 플레이트(12)와 워크 피스(2)의 위 표면의 영상을 획득하는데 쓰이며, 제1정위 표기(122)와 제2정위표기(22)를 이용하여 상대 위치한 보상을 진행한다. 시각 장치는 상기의 흡취 헤드에 전기적으로 연결될 수 있으며, 대응 위치 완성 시에 시각 장치는 흡취 헤드가 워크 피스(2)를 아래로 이동시킴으로 도정 필러(12)를 납접재료 범퍼(SP)에 접촉하게 하는 신호를 내보낼 수 있다. 상기 외에, 시각 장치는 상기의 압력원(13)에 전기적으로 연결되며, 시각 장치가 영상 분석을 통해 납접재료 범퍼(SP)의 사이즈가 설정한 예정치에 도달하는 것을 알게 되면, 시각 장치는 신호를 내보낼 수 있어 압력원(13)이 가압을 정지하는 것을 제어한다. In another aspect, the present invention also provides a solder material applying apparatus, which includes the solder material furnace 11, the plate 12, the visual device, and the suction head. The structure of the brazing material furnace 11 and plate 12 is referred to in its entirety and is not further explained. The visual aid may be a visual aid, which is used to acquire an image of the upper surface of the plate 12 and the workpiece 2 and is located relative to the first stereotactic notation 122 and the second stereotactic notation 22. Proceed with compensation. The visual device may be electrically connected to the suction head, and upon completion of the corresponding position, the visual device may cause the suction filler 12 to contact the solder material bumper SP by moving the workpiece 2 downward. To send out a signal. In addition to the above, the visual device is electrically connected to the pressure source 13, and when the visual device finds that the size of the solder material bumper SP reaches a predetermined value through image analysis, the visual device signals. The pressure source 13 controls the stop of pressurization.

이 외에 본 발명의 납접재료 도포 장치는 가열장치를 더 포함하며, 이는 납접재료 노(11)와 워크 피스(2)에 연결할 수 있으며, 가열장치는 납접재료 노(11)의 로 온도를 유지하는 데 쓰이며 워크 피스(2)에 대하여 가열의 동작을 진행하며, 가열장치는 설정 가열 온도, 가열 시간의 컨트롤 모듈을 가지는 것이 좋다.In addition, the soldering material applying apparatus of the present invention further includes a heating device, which can be connected to the soldering material furnace 11 and the work piece 2, and the heating device maintains the furnace temperature of the soldering material furnace 11. It is used to carry out a heating operation on the workpiece 2, and the heating device preferably has a control module having a set heating temperature and a heating time.

[제2실시예][Second Embodiment]

도5 및 도6을 참조하면, 이는 본 발명의 도전 필러의 납접재료 도포 장치 설명도이다. 5 and 6, this is an explanatory view of a soldering material applying apparatus of the conductive filler of the present invention.

이 납접재료 도포 장치는 워크 피스(2)의 복수 도전 필러(21)에 납접재료를 더하는데 쓰이며, 하개구(160)를 가지는 주석 파우더 공급장치(16), 플레이트(12), 정밀 평대(3), 및 밀폐강실(4)을 포함한다. 워크 피스(2)는 상기 실시예와 동일하므로 추가 설명하지 않겠다. This solder material application device is used to add the solder material to the plurality of conductive fillers 21 of the work piece 2, the tin powder supply device 16 having the lower opening 160, the plate 12, the precision flat plate 3 ), And the hermetic chamber 4. The workpiece 2 is the same as the above embodiment and will not be described further.

주석 파우더 공급장치(16) 중에 파우더 형태의 납접재료(S)를 적재하고, 상기 주석 파우더 공급장치(16)에 압력원(162)을 연결한다. 압력원(162)은 납접재료 (S)에 압력을 제공하는데 쓰이며, 납접재료(S)를 아래로 이동시킨다. 본 실시예의 압력원(162)는 피스톤이다. 주석 파우도 공급장치(16)는 준비한 작업영역에서 주석 파우더를 적재하며, 궤도식 캐리어에 의해 도포 작업 영역까지 이동된다. The solder powder (S) in the form of powder is loaded in the tin powder supply device 16, and a pressure source 162 is connected to the tin powder supply device 16. The pressure source 162 is used to provide pressure to the soldering material S, and moves the soldering material S down. The pressure source 162 in this embodiment is a piston. The tin pouch supply device 16 loads tin powder in the prepared work area and is moved to the application work area by an orbital carrier.

플레이트(12)는 상기 실시예와 동일하며 전기주조강판이다. 본 실시예는 고정 프레임(15)을 설치하여 상기 플레이트(12)를 고정한다. 상기 주석 파우더 공급장치(16)의 상기 하개구(160) 아래쪽에 상기 플레이트(12)는 복수의 천공(121) 및 복수의 제1정위 표기(122)를 가진다. The plate 12 is the same as the above embodiment and is an electrocast steel sheet. In this embodiment, the fixing frame 15 is installed to fix the plate 12. Below the lower opening 160 of the tin powder supply device 16, the plate 12 has a plurality of perforations 121 and a plurality of first orientation marks 122.

정밀 평대(3)는 평평한 꼭대기면(32) 및 가열기(H)를 가져 꼭대기면(32)을 가열하며, 상기 꼭대기면(32)에 복수의 전재 정위 표기(322)가 설치된다. 정밀 평대(3)의 평평한 꼭대기면(32)은 천공(121)을 관통하는 상기 파우더 형태의 납접재료(S)를 승재하는 데 쓰인다. 상기 파우더 형태의 납접재료(S)는 가열을 통해 용해 상태의 납접재료 범퍼(S)를 형성한다. The precision flat 3 has a flat top surface 32 and a heater H to heat the top surface 32, and a plurality of material positioning representations 322 are installed on the top surface 32. The flat top surface 32 of the precision flat 3 is used to ride the powdered solder material S through the perforations 121. The powdered solder material S forms a solder material bumper S in a molten state through heating.

이 정밀 강실(4)은 제1강체(41), 제2강체(42) 및 제2강체(42)에 형성되는 기체 통과부(420)를 포함하여 보호 기체(G)가 통과하도록 하며, 예를 들면 포름산(formic acid)을 통과하도록 하며, 정밀 강실(4)은 상기 정밀 평대(3)와 상기 워크 피스(2)를 수용하는데 쓰인다. 상기 본 실시예의 정밀 강실(4)에는 한 쌍의 시각 장치(43)가 설치되며, 상기 플레이트(12)의 상기 제1정위 표기(122)와 상기 정밀 평대(3)의 상기 전재 정위 표기(322)가 대립한다. The precision chamber 4 includes a gas passage portion 420 formed in the first rigid body 41, the second rigid body 42, and the second rigid body 42 to allow the protective gas G to pass therethrough. For example, it passes through formic acid, and the precision chamber 4 is used to receive the precision flat 3 and the workpiece 2. In the precision chamber 4 of the present embodiment, a pair of visual devices 43 are provided, and the first positional representation 122 of the plate 12 and the transpositional orientation representation of the precision flat 3 are 322. ) Conflict.

이 정밀 강실(4)은 흡취 장치(48)를 구비하여, 상기 워크 피스(2)를 흡취하며, 도전 필러(21)를 납접재료 범퍼(S)에 접촉시키며, 납접재료 범퍼(S)를 도전 필러(21)상에 이동배치시킨다. 흡취 장치(48)는 이동가능한 캐리어(46)에 연결되고, 워크 피스(2)를 볼 그리드 어레이(BGA) 공작품 내까지 이동한다. 캐리어(46)는 궤도, 혹은 기계 암 등이어도 좋다. 정밀 평대(3)의 정면(32)이 세라믹으로 제조되므로, 납접재료 범퍼(SP)는 상기 정밀 평대(3)의 꼭대기면(32)상에 잔류할 수 없다. 상기 워크 피스(2)는 최후에는 상기 실시예의 도4d와 같다.The precision chamber 4 includes a suction device 48 to suck the work piece 2, to contact the conductive filler 21 to the solder material bumper S, and to conduct the solder material bumper S. It moves and arranges on the pillar 21. The suction device 48 is connected to the movable carrier 46 and moves the workpiece 2 into the ball grid array (BGA) workpiece. The carrier 46 may be a track, a mechanical arm, or the like. Since the front face 32 of the precision platform 3 is made of ceramic, the solder material bumper SP cannot remain on the top surface 32 of the precision platform 3. The work piece 2 is finally as shown in Fig. 4D of the embodiment.

본 실시예는 높이 측정 장치(44)를 더욱이 포함할 수 있으며, 또한 상하동축 시각 모듈로 칭할 수 있으며, 상기 정밀 강실(4)내에 배치된다. 승강 가능한 기계암(46)이 흡취 장치(48)를 이동할 시에 상기 정밀 평대(3) 정수리면(32)에 대한 워크 피스(2)의 높이를 측정한다. 워크 피스(2)는 정밀 평대(3)에 부딪힐 필요 없으며, 양자의 거리는 약 1mm이다. This embodiment may further include a height measuring device 44, and may also be referred to as a vertical coaxial vision module, and is arranged in the precision chamber 4. The height of the workpiece 2 with respect to the precision flat 3 parietal surface 32 is measured when the movable mechanical arm 46 moves the suction device 48. The work piece 2 does not have to hit the precision flat 3, and the distance between them is about 1 mm.

본 실시예는 상기의 도전 필러의 납접재료 도포 장치에 의하며, 그 도전 필러의 납접재료 도포 방법은 이하의 단계를 포함한다. The present embodiment is based on the above-described solder paste material applying apparatus of the conductive filler, and the solder paste material applying method of the conductive filler includes the following steps.

먼저, 하개구(160)를 가지는 주석 파우더 공급장치(16)를 제공하며, 상기 주석 파우더 공급장치(16)에 파우더 상태의 납접재료(S)를 적재하고 상기 주석 파우더공급장치(16)는 압력원(162)에 연결한다. First, a tin powder supply device 16 having a lower opening 160 is provided, and the tin powder supply device 16 is loaded with a solder material S in a powder state, and the tin powder supply device 16 is pressurized. To a circle 162.

이 주석파우더 공급장치(16)의 상기 하개부(160) 아래쪽에 플레이트(12)를 제공하며, 상기 플레이트(12)는 복수의 천공(121) 및 복수의 제1정위 표기(122)를 가진다.A plate 12 is provided below the lower portion 160 of the tin powder feeder 16, the plate 12 having a plurality of perforations 121 and a plurality of first orientation marks 122.

정밀 평대(3)를 상기 플레이트(2)의 아래쪽까지 이동하며, 상기 정밀 평대(3)의 꼭대기면(32)에 복수의 전재 정위 표기(322)를 설치하며, 이들 제1정위 표기(122)와 이들 전재 정위 표기(322)를 이용하여 상기 플레이트(2)와 상기 정밀 평대(3)을 대립으로 진행한다. The precision plate 3 is moved to the bottom of the plate 2, and a plurality of warp-position markers 322 are installed on the top surface 32 of the precision plate 3, and these first-position markers 122 are provided. And the plate 2 and the precision flat plate 3 are opposed to each other by using these electrodeposition positioning marks 322.

이들 파우더 상태의 납접재료(S)를 상기 플레이트(12)의 천공(121)에 관통시켜 정밀 평대(3)의 꼭대기면(32)상에 대응으로 배치한다.These powdered soldering materials S are perforated through the perforations 121 of the plate 12 and are disposed correspondingly on the top surface 32 of the precision flat plate 3.

기체를 충분히 보호하는 밀폐강실(4)을 제공하며, 상기 정밀 평대(3)를 상기 정밀 강실(4)내에 이동한다. 상기 정밀 평대(3)를 가열하여 이들 납땜(S)을 용해 상태의 납접재료 범퍼(SP)로 형성시킨다.; A sealed steel chamber 4 is provided to sufficiently protect the gas, and the precision flat plate 3 is moved into the precision steel chamber 4. The precision flat plate 3 is heated to form these solders S into solder material bumpers SP in a molten state.

워크 피스(2)를 제공하며, 그 위에 복수 도전 필러(21) 및 복수 제2정위 표기(22)를 형성하고, 이들 제2정위 표기(22)와 이들 전재 정위표기(322)를 이용하여 상기 워크 피스(2)와 상기 정밀 평대(3)를 대립으로 진행시키고 이들 도전 필러(21)를 이들 납접재료 범퍼(SP)에 향하게 한다. A workpiece 2 is provided, and a plurality of conductive fillers 21 and a plurality of second stereotactic marks 22 are formed thereon, using these second stereotactic marks 22 and these transpositional notations 322 above. The work piece 2 and the precision flat plate 3 are opposed to each other and these conductive fillers 21 are directed to these solder material bumpers SP.

이들 도전 필러(21)를 이들 납접재료 범퍼(SP)에 접촉하여, 이들 납접재료 범퍼(SP)를 이들 도전 필러(21)상에 이동 배치한다. These conductive fillers 21 are brought into contact with these solder material bumpers SP to move these solder material bumpers SP on these conductive fillers 21.

그 중 상기 정밀 평대(3)를 가열하여 이들 납접재료(S)를 용해상태의 납접재료 범퍼(SP)로 형성시키는 단계에서, 그 온도는 대체로 납접재료의 용해점과 같으며 220℃~260℃ 및/혹은 약300℃~330℃ 사이이다.(납접재료의 성분을 직시하여 정한다.)Among them, in the step of heating the precision flat plate 3 to form these solder material S into a solder material bumper SP in a dissolved state, the temperature is generally the same as the melting point of the solder material and is 220 ° C. to 260 ° C. And / or between about 300 ° C and 330 ° C.

상기 밀폐강실(4)에서의 보호 기체는 포믹(formic) 혹은 N2이다. The protective gas in the hermetic chamber 4 is formic or N2.

워크 피스(2)를 제공하는 단계에서, 상기 정위 단계를 더 포함하며, 시각 장치(43)을 이용하여 이들 제1정위 표기(122)와 이들 전재 정위 표기(322)의 영상을 획득한다. 그리고 상기 흡취 헤드(48)는 상기의 영상 분석 결과에 의해 상기 정밀 평대(3)와 상기 워크 피스(2)를 대립으로 진행한다. In the providing of the workpiece 2, the method further includes the positioning step, and the image of these first positioning notation 122 and these transpositional positioning notation 322 is obtained by using the visual apparatus 43. And the suction head 48 advances the said precision flat plate 3 and the workpiece | work 2 in opposition by the said image analysis result.

이들 도전필러(21)를 이들 납접재료 범퍼(SP)를 접촉하는 단계에서, 높이 측정 장치(44)를 제공하여 상기 정밀 평대(3) 꼭대기면(32)에 상대하는 높이를 측정하는 것을 더 포함한다. In the step of bringing these conductive fillers 21 into contact with these solder material bumpers SP, the method further includes providing a height measuring device 44 to measure a height relative to the top surface 32 of the precision flat plate 3. do.

도7 및 도8을 참조하면, 본 발명의 도전 필러에 의한 도포 장치 정합 후의 부시도 및 입체조합도이다. 상기 제2실시예에 의하면, 본 발명은 정합후의 도전 필러의 납접재료 도포 장치(100)를 예를 들어 설명하며, 스탠드(P)상에 설치한다. 도7에서 나타내듯이 위에서 아래로 5개 작업 영역이 나누어진다. 처음은 주석 파우더 준비영역(A1)이며, 주석파우더를 적재하여 주석파우더 공급장치(16)에 진입하며, X축에 따라 이동하는 X축 캐리어 1Rx 및 Y축에 따라 이동하는 Y축 캐리어 1Ry에 의해 주석 파우도 공급장치(16)를 아래 작업영역으로 이동한다. 7 and 8 show a bush diagram and a stereo combination diagram after registration of the coating apparatus by the conductive filler of the present invention. According to the second embodiment, the present invention describes, by way of example, the solder material application device 100 of the conductive filler after registration, and is installed on the stand P. FIG. As shown in Fig. 7, five working areas are divided from the top to the bottom. The first is a tin powder preparation area (A1), the tin powder is loaded into the tin powder supply device 16, and is moved by the X-axis carrier 1Rx moving along the X axis and the Y-axis carrier 1Ry moving along the Y axis. The tin powder also moves the feeder 16 to the lower work area.

주석 파우더 도포 작업 영역(A2)는 주요적으로 플레이트(12)가 천공(121)을 설치하는 영역이며, 플레이트(12)는 고정 프레임(15)에 의해 스탠드(P)상에 고정한다. 플레이트(12)의 아래쪽에는 정밀 평대(3)를 이동하는데 쓰이는 Y축 이동 캐리어 3Ry를 설치하며, 그것은 아래 작업영역인 볼 그리드 어레이 작업 영역(A3)으로 연장된다. 환언하면, 정밀 평대(3)는 주석 파우더 도포 작업 영역(A2)와 볼 그리드 어레이 작업 영역(A3)사이에 이동하도록 설계된다. 우선은 정밀 평대(3)를 주석 파우더 도포 작업 영역(A2)로 이동하고, 상기 도5 같은 작업을 진행하며 주석 파우더 혹은 파우더 상태 납접재료(S)를 플레이트(12)의 천공(121)을 투과하여 정밀 평대(3)의 꼭대기면(32)상에 도포한다.; 그 다음 Y축을 이용하여 캐리어 3Ry를 이동하고 정밀 평대(3)를 볼 그리드 어레이 작업 영역(A3)으로 이동한다. 주석 볼 그리드 어레이 작업 영역(A3)은 주요적으로 정밀 평대(3)를 밀폐강실(4)내로 이동하여 볼 그리드 어레이를 워크 피스(2) 아래에 달한다. 밀폐강실(4)의 다른 한측은 플레이트 취득배치 영역(A4) 및 플레이트 공급 영역(A5)이며, 가공할 워크 피스(2)는 플레이트 공급 영역(A5)에 배치한다. 그 중 플레이트 공급부(A5)는 플레이트 캐리어(2C)를 플레이트 취득배치 영역(A4)로 이동한다. 본 실시예의 플레이트 취득배치 영역(A4)에는 4개 축의 캐리어를 설치하며, 상기 캐리어(46)를 대표로 하여 각각 X축 캐리어 2Rx, Y축 캐리어 2Ry, R축 캐리어 2Rr 및 Z축 캐리어 2Rz를 각각 포함한다. 상기 X축 캐리어 2Rx는 흡취 장치(48)를 설치하여 워크 피스(2)를 얻는다. 워크 피스(2)를 시각 모듈(V)에 의해 정확하게 상기 정밀 평대(3)의 꼭대기면(32) 상에 이동한다. 본 실시예의 시각 모듈(V)는 적합한 높이에 고정될 수 있어 워크 피스(2)를 정확히 정밀 평대(3)의 위쪽으로 공급한다. 이외에, 시각 모듈V는 또한 X축 및 Y축의 이동탑재 모듈 4Rx, 4Ry에 의해 상기 시각 장치 (43) 및 높이 측정장치(44)를 동시에 겸할수 있다. The tin powder application working area A2 is mainly an area where the plate 12 installs the perforations 121, and the plate 12 is fixed on the stand P by the fixing frame 15. At the bottom of the plate 12 is a Y-axis moving carrier 3Ry, which is used to move the precision flat 3, which extends to the ball grid array working area A3, which is the lower working area. In other words, the precision flat 3 is designed to move between the tin powder application working area A2 and the ball grid array working area A3. First, the precision flat plate 3 is moved to the tin powder application work area A2, and the work as shown in FIG. 5 is performed, and the tin powder or powder state solder material S passes through the perforations 121 of the plate 12. To the top surface 32 of the precision flat plate 3; Then, the carrier 3Ry is moved using the Y axis and the precision flat plate 3 is moved to the ball grid array working area A3. The tin ball grid array working area A3 mainly moves the precision flats 3 into the hermetic chamber 4 to reach the ball grid array below the workpiece 2. The other side of the sealed steel chamber 4 is a plate acquisition arrangement area A4 and a plate supply area A5, and the workpiece 2 to be processed is disposed in the plate supply area A5. The plate supply part A5 moves the plate carrier 2C to the plate acquisition arrangement area | region A4. Four-axis carriers are provided in the plate acquisition arrangement area A4 of this embodiment, and the X-axis carriers 2Rx, Y-axis carriers 2Ry, R-axis carriers 2Rr and Z-axis carriers 2Rz are respectively represented by the carriers 46, respectively. Include. The X-axis carrier 2Rx is provided with a suction device 48 to obtain the workpiece 2. The workpiece 2 is moved by the visual module V exactly on the top face 32 of the precision platform 3. The visual module V of this embodiment can be fixed at a suitable height to feed the workpiece 2 exactly above the precision platform 3. In addition, the visual module V can also serve as the visual device 43 and the height measuring device 44 simultaneously by the mobile mounting modules 4Rx and 4Ry on the X and Y axes.

종합적으로 말하면, 본 발명은 사이즈가 상당히 미세한 도전 필러(21)에 대하여 납접재료의 도포를 진행하며, 용해 상태의 납접재료(SP)는 원가가 상당히 저렴하고 납접재료은 또한 회수하여 사용가능하며, 그러므로 모든 제조과정이 간단하고 원가가 낮다. In general terms, the present invention proceeds to apply the solder material to the conductive filler 21 having a very small size, and the solder material in the molten state (SP) is significantly inexpensive and the solder material can also be recovered and used. All manufacturing processes are simple and low cost.

이상 상기 본 발명은 단지 실시예를 행하는 것이 가장 좋으며 본 발명의 특허범위에 국한되지 않으므로 본 발명 설명서 및 도시한 내용에 일부 기술 변화가 있어도 일반적으로 본 발명의 범위 내에 포함된다. As described above, the present invention is best only to practice the embodiment and is not limited to the patent scope of the present invention, even if there are some technical changes in the description and the present invention is generally included within the scope of the present invention.

11 납접재료 노
111 상개구
12 플레이트
121 천공
122 제1정위표기
13 압력원
2 워크 피스
21 도전 필러
22 제2정위 표기
S 납접재료
SP 납접재료 범퍼
S101~S111 제조과정 단계
15 고정 프레임
16 주석 파우더 공급장치
160 하개구
162 압력원
3 정밀 평대
32 꼭대기면
322 전재 정위 표기
4 밀폐강실
41 제1홀
42 제2홀
420 기체 통과부
43 시각장치
44 높이 측정 장치
46 캐리어
48 흡취 장치
100 납접재료 도포 장치
P 스탠드
2C 플레이트 캐리어
A1 주석 파우더 예비 준비 영역
A2 주석 파우더 도포 작업 영역
A3 볼 그리드 어레이 작업 영역
A4 플레이트 취득배치 영역
A5 플레이트 공급 영역
1Rx X축 캐리어
1Ry Y축 캐리어
2Rx X축 캐리어
2Ry Y축 캐리어
2Rr R축 캐리어
2Rz Z축 캐리어
3Ry Y축 이동 캐리어
4Rx, 4Ry 이동탑재 모듈
5Ry 플레이트 트레일 트랙
V 시각 모듈
11 soldering material furnace
111 upper opening
12 plate
121 perforated
122 First Notation
13 pressure source
2 workpiece
21 challenging filler
22 2nd position notation
S soldering material
SP solder material bumper
S101 ~ S111 manufacturing process steps
15 fixed frame
16 Tin Powder Feeder
160 lower mouth
162 pressure source
3 precision flat
32 top
322 Repositioning
4 sealed chamber
41 Hall 1
42 Hall 2
420 gas passage
43 Visual Aids
44 height measuring device
46 carrier
48 suction device
100 solder material application device
P stand
2C plate carrier
A1 tin powder preliminary preparation area
A2 Tin Powder Coating Work Area
A3 Ball Grid Array Work Area
A4 plate acquisition area
A5 plate feed area
1 Rx X-axis carrier
1Ry Y-axis carrier
2Rx X-Axis Carrier
2Ry Y-axis carrier
2Rr R-axis carrier
2Rz Z-Axis Carrier
3Ry Y axis moving carrier
4Rx, 4Ry Mobile Mount Module
5Ry Plate Trail Track
V visual module

Claims (20)

상개구를 가지는 납접재료 노를 제공하며, 상기 납접재료 노중에 용해 상태의 납접재료을 적재하며, 상기 납접재료 노는 압력원에 연결되는 단계;
상기 납접재료 노의 상기 상개구에 플레이트를 제공하며, 상기 플레이트는 복수의 천공 및 복수의 제1정위표기를 가지는 단계;
상기 압력원을 이용하여 상기의 용해 상태의 납접재료를 상기 상개구 및 상기 플레이트의 천공을 통하여 상기 플레이트에 돌출하는 복수 납접재료 범퍼를 형성하는 단계;
시각장치를 제공하여 크기 분석단계를 진행하며, 상기 납접재료 범퍼들의 크기가 예정치에 도달하면, 상기 압력원은 가압을 중지하는 단계;
워크 피스을 제공하며, 상기 워크 피스위에 복수의 도전필러 및 복수의 제2정위 표기를 성형하고, 상기 제1정위 표기 및 상기 제2정위 표기를 이용하여 상기 플레이트 및 상기 워크 피스를 대립으로 진행하며, 상기 도전 필러를 상기 납접재료 범퍼에 향하도록 하는 단계; 그리고,
상기 도전 필러를 상기 납접재료 범퍼에 접촉하여, 상기 납접재료 범퍼를 상기 도전 필러상에 옮기는 단계를 포함하는 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조 방법.
Providing a solder material furnace having an upper opening, loading the solder material in a molten state into the solder material furnace, and connecting the solder material furnace to a pressure source;
Providing a plate in said top opening of said solder material furnace, said plate having a plurality of perforations and a plurality of first stereomarkers;
Using the pressure source to form a plurality of solder material bumpers that project the molten solder material into the plate through perforations of the upper opening and the plate;
Providing a visual device to perform a size analysis step, and when the size of the solder bumpers reaches a predetermined value, the pressure source stops pressurizing;
Providing a workpiece, molding a plurality of conductive fillers and a plurality of second positioning marks on the work piece, and advancing the plate and the workpiece in opposition using the first positioning mark and the second positioning mark, Directing the conductive filler toward the solder bumper; And,
And contacting the conductive filler with the solder material bumper to move the solder material bumper onto the conductive filler.
제1항에 있어서,
상기 상개구를 가지는 상기 납접재료 노를 제공하는 단계에서 상기 납접재료 노의 노 온도는 상기 납접재료의 용해점과 동일한 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
The method of claim 1,
And a furnace temperature of the solder material furnace in the step of providing the solder material furnace having the top opening is applied to the conductive filler of the wafer having the same melting point of the solder material.
제2항에 있어서,
상기 상개구를 가지는 상기 납접재료 노를 제공하는 단계에서, 상기 압력원은 펌프이며, 상기 납접재료 노 및 상기 펌프의 사이에 컨트롤 밸브를 설치하는 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
3. The method of claim 2,
In the step of providing the solder material furnace having the upper opening, the pressure source is a pump, the manufacturing method of the solder material is applied to the conductive filler of the wafer to install a control valve between the solder material furnace and the pump.
제1항에 있어서,
상기 워크 피스을 제공하는 단계에서, 상기 워크 피스에 대해 가열을 진행하는 가열단계 및 흡취 헤드를 이용하여 가열 후의 상기 워크 피스를 상기 플레이트의 위쪽에 놓고, 상기 도전 필러를 상기 납접재료 범퍼에 향하도록 하는 단계를 더 포함하는 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
The method of claim 1,
In the step of providing the workpiece, a heating step for heating the workpiece and a suction head are used to place the workpiece after heating on the plate and to direct the conductive filler to the solder bumper. A method of manufacturing a soldering material applied to a conductive filler of a wafer further comprising the step.
제4항에 있어서,
상기 워크 피스을 제공하는 단계에서 정위 단계를 더 포함하며, 상기 시각 장치를 이용하여 상기 제1정위표기 및 상기 제2정위 표기의 영상을 획득하고, 상기 흡취 헤드는 상기의 영상 분석 결과에 의해 상기 플레이트 및 상기 워크 피스를 대립으로 하는 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
5. The method of claim 4,
In the step of providing the workpiece further comprises a positioning step, by using the visual device to obtain an image of the first stereo notation and the second stereo notation, the suction head is the plate by the image analysis result of the plate And a solder joint material applied to a conductive filler of a wafer having the workpiece as opposed to each other.
상개구를 가지는 납접재료 노;
상기 납접재료 노의 상기 상개구에 설치되는 플레이트; 그리고,
상기 플레이트의 위쪽에 대응하여 설치되는 시각 장치 및 흡취 헤드를 포함하는 도전성 필러 납접재료 도포 장치로서,
상기 납접재료 노에 용해 상태의 납접재료가 적재되며, 상기 납접재료 노는 압력원에 연결되고,
상기 플레이트는 복수의 천공 및 복수의 제1정위 표기를 가지는
웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치.
Soldering material furnace with top opening;
A plate installed at the upper opening of the solder material furnace; And,
A conductive filler solder material applying device comprising a visual device and a suction head installed corresponding to an upper portion of the plate,
A solder material in a molten state is loaded in the solder material furnace, the solder material furnace is connected to a pressure source,
The plate has a plurality of perforations and a plurality of first orientation marks.
Apparatus for applying conductive filler solder material to a wafer.
제6항에 있어서,
상기 납접재료 노의 온도는 상기 납접재료의 용해점과 같은 웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치.
The method according to claim 6,
And a temperature of the solder material furnace is about the same as the melting point of the solder material.
제6항에 있어서,
상기 압력원은 펌프이며, 상기 납접재료 노 및 상기 펌프의 사이에 컨트롤 밸브가 더 구비되는 웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치.
The method according to claim 6,
And the pressure source is a pump, and a control valve is further provided between the solder material furnace and the pump.
제6항에 있어서,
시각 장치는 상기 압력원 및 상기 흡취 헤드를 전기적으로 연결하는 웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치.
The method according to claim 6,
And a visual device is a conductive filler solder material application device for a wafer that electrically connects the pressure source and the suction head.
제6항에 있어서,
상기 납접재료 노와 상기 워크 피스에 연결되는 가열장치를 더 포함하는 웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치.
The method according to claim 6,
And a heating device connected to the solder material furnace and the workpiece.
하개구를 가지는 주석 파우더 공급장치를 제공하여, 상기 주석 파우더 공급장치중에 파우더 상태의 납접재료를 적재하고 상기 주석 파우더 공급장치는 압력원에 연결되는 단계;
상기 주석 파우더 공급장치의 상기 하개구 아래쪽에 플레이트를 제공하되, 상기 플레이트는 복수의 천공 및 복수의 제1정위 표기를 가지는 단계;
정밀 평대을 상기 플레이트의 아래쪽으로 이동하되, 상기 정밀 평대의 꼭대기면에는 복수의 전재 정위 표기를 설치하며, 상기 제1정위 표기 및 상기 전재 정위 표기를 이용하여 상기 플레이트 및 상기 정밀 평대을 대립으로 진행하는 단계;
상기 파우더 형태의 납접재료를 상기 플레이트의 천공에 투과시켜 상기 정밀 평대의 꼭대기 면에 대응하게 배치하는 단계;
기체를 충분히 보호하는 밀폐강실을 제공하되, 상기 정밀 평대를 상기 밀폐강실 내에 이동하는 단계;
상기 정밀 평대을 가열하여 상기 납접재료를 용해 상태의 납접재료 범퍼로 형성시키는 단계;
워크 피스를 제공하되, 상기 워크 피스 위에 복수의 도전 필러 및 복수의 제2정위 표기를 성형하고, 상기 제2정위 표기 및 상기 전재 정위 표기를 이용하여 상기 워크 피스 및 상기 정밀 평대을 대립으로 진행하고, 상기 도전 필러를 상기 납접재료 범퍼에 향하도록 하는 단계; 그리고,
상기 도전 필러를 상기 납접재료 범퍼에 접촉하되, 상기 납접재료 범퍼를 상기 도전 필러 상에 옮기는 단계를 포함하는 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
Providing a tin powder supply device having a lower opening, loading a solder material in a powder state into the tin powder supply device, and connecting the tin powder supply device to a pressure source;
Providing a plate beneath the lower opening of the tin powder supply device, the plate having a plurality of perforations and a plurality of first orientation marks;
Moving the precision flat plate to the bottom of the plate, and installing a plurality of material positioning marks on the top surface of the precision flat plate, and proceeding to oppose the plate and the precision flat plate using the first position marking and the material positioning mark. ;
Transmitting the powder solder material into the perforation of the plate so as to correspond to the top surface of the precision flat plate;
Providing a hermetically sealed chamber that sufficiently protects a gas, wherein the precision flat plate is moved into the hermetically sealed chamber;
Heating the precision flat to form the solder material into a solder material bumper in a molten state;
Providing a work piece, forming a plurality of conductive fillers and a plurality of second positioning marks on the work piece, and using the second positioning mark and the warping positioning mark to oppose the work piece and the precision flat plate, Directing the conductive filler toward the solder bumper; And,
Contacting the conductive filler with the solder bumper, and transferring the solder bumper onto the conductive filler, wherein the solder filler is applied to the conductive filler of the wafer.
제11항에 있어서,
상기 정밀 평대를 가열하여 상기 납접재료를 용해 상태의 납접재료 범퍼로 형성시키는 단계에서 그 온도는 상기 납접재료의 용해점과 동일한 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
12. The method of claim 11,
Heating the precision flat to form the soldering material into a soldering material bumper in a molten state, the temperature of which is applied to the conductive filler of the wafer having the same melting point as the soldering material.
제11항에 있어서,
상기 밀폐강실의 보호 기체가 포름산 혹은 질소인 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
12. The method of claim 11,
A method for producing a solder joint material applied to a conductive filler for a wafer wherein the protective gas of the hermetic chamber is formic acid or nitrogen.
제11항에 있어서,
상기 워크 피스을 제공하는 단계에서, 상기 워크 피스에 대해 가열을 진행하는 가열 단계 및 흡취 헤드를 이용하여 가열 후의 상기 워크 피스를 상기 정밀 평대의 위쪽에 배치하고, 상기 도전 필러를 상기 납접재료 범퍼에 향하도록 하는 단계를 더 포함하는 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
12. The method of claim 11,
In the step of providing the work piece, the heated work piece is heated above the precision flat plate using a heating step and a suction head for heating the work piece, and the conductive filler is directed to the solder material bumper. A method of manufacturing a soldering material applied to a conductive filler of a wafer further comprising a step to make.
제14항에 있어서,
상기 워크 피스을 제공하는 단계에서, 정위 단계를 더 포함하며, 시각장치를 이용하여 상기 제2정위 표기 및 상기 전재 정위 표기의 영상을 획득하고, 상기 흡취 헤드는 상기의 영상 분석 결과에 근거하여 상기 정밀 평대 및 상기 워크 피스를 대립으로 진행하는 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
15. The method of claim 14,
In the providing of the workpiece, the method may further include a positioning step, wherein an image of the second positioning mark and the all-position positioning mark is obtained by using a visual apparatus, and the suction head is configured to perform the precision based on the image analysis result. A method for producing a solder joint material that is applied to a conductive filler of a wafer that runs on a flat surface and the workpiece in opposition.
제11항에 있어서,
상기 도전 필러를 상기 납접재료 범퍼에 접촉하는 단계에서, 높이 측정 장치를 제공하여 상기 정밀 평대 꼭대기 면에 대한 상기 워크 피스의 높이를 측정하는 웨이퍼의 도전성 필러에 적용되는 납접재료의 제조방법.
12. The method of claim 11,
In the step of contacting the conductive filler to the solder material bumper, providing a height measuring device to apply the conductive filler of the wafer to measure the height of the workpiece relative to the top surface of the precision flat.
파우더 형태의 납접재료을 적재하며 하개구를 구비하고 압력원에 연결되는 주석 파우더 공급장치;
복수의 천공 및 복수의 제1정위 표기를 가지며, 상기 주석 파우더 공급장치의 상기 하개구 아래쪽에 이동가능하도록 설치되는 플레이트;
평평한 꼭대기 면 및 가열기를 가져서 상기 꼭대기면을 가열하며, 상기 꼭대기면에는 복수의 전재 정위 표기가 구비되고 상기 천공을 통과하는 상기 파우더 형태 납접재료를 승재하는 정밀 평대;
상기 플레이트의 상기 제1정위 표기 및 상기 정밀 평대의 상기 전재 정위 표기를 대립하게 하는 시각장치;
기체 통과부를 가지며, 상기 정밀 평대 및 워크 피스를 수용하는 밀폐강실;
상기 워크 피스를 흡취하고, 도전 필러를 상기 납접재료 범퍼에 접촉시키며, 상기 납접재료 범퍼를 상기 도전 필러 상에 옮기는 흡취 장치
를 포함하는 워크 피스의 복수 도전 필러에 납접재료를 가하는데 쓰이는 웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치.
Tin powder supply device for loading the solder material of the powder form and having a lower opening and connected to the pressure source;
A plate having a plurality of perforations and a plurality of first orientation marks, the plate being movable below the lower opening of the tin powder supply device;
A precision flat surface having a flat top surface and a heater to heat the top surface, wherein the top surface is provided with a plurality of material positioning markings and rides through the perforated powder form solder material;
A visual device for opposing the first stereotactic representation of the plate and the transposition stereoscopic representation of the precision flat;
An airtight steel chamber having a gas passage and accommodating the precision flat plate and the workpiece;
A suction device for sucking the workpiece, bringing a conductive filler into contact with the solder material bumper, and transferring the solder material bumper onto the conductive filler.
Electroconductive filler solder material coating apparatus of the wafer used to apply the soldering material to the plurality of conductive fillers of the workpiece.
제17항에 있어서,
상기 플레이트는 강판으로 이루어진 웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치.
18. The method of claim 17,
The plate is a conductive filler solder material coating apparatus for a wafer made of a steel sheet.
제17항에 있어서,
상기 정밀 평대의 꼭대기면은 세라믹 재료로 이루어진 웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치.
18. The method of claim 17,
The top surface of the precision flat plate is a conductive filler solder material coating apparatus of a wafer made of a ceramic material.
제17항에 있어서,
상기 정밀 평대 꼭대기면의 높이에 상대하는 워크 피스의 높이를 측정하는 높이 측정장치를 더 포함하는 웨이퍼의 도전성 필러 납접재료 도포 장치.
18. The method of claim 17,
And a height measuring device for measuring a height of the work piece corresponding to the height of the top surface of the precision flat plate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20090069044A (en) * 2007-12-24 2009-06-29 주식회사 에이디피엔지니어링 Solder, and method forming solder bump using solder
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KR20110019477A (en) * 2009-08-20 2011-02-28 세크론 주식회사 Apparatus for transferring solder bumps

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