KR101326665B1

KR101326665B1 - 클린룸의 플로어시스템

Info

Publication number: KR101326665B1
Application number: KR1020060086705A
Authority: KR
Inventors: 송남헌
Original assignee: 엘지디스플레이 주식회사
Priority date: 2006-09-08
Filing date: 2006-09-08
Publication date: 2013-11-07
Also published as: KR20080022898A

Abstract

본 발명은 클린룸(clean room)의 바닥을 구현하기 위해, 다수의 억세스플로어(access floor)를 수평하게 지지하는 페데스탈(pedestal) 및 이를 이용한 클린룸의 플로어시스템(floor system)에 관한 것이다.

본 발명의 특징은 클린룸의 바닥 구현을 위한 다수의 억세스플로어를 수평하게 지지하는 페데스탈의 높낮이 조절이 가능한 너트를 상기 억세스플로어 상으로 노출되도록 구성하는 것으로, 페데스탈의 높낮이 조절을 상기 억세스플로어의 상부 또는 하부의 필요에 따라 원하는 위치에서 조절이 가능하다.

따라서, 억세스플로어의 높낮이 편차가 발생할 시, 상기 억세스플로어를 들어내지 않고도 상기 억세스플로어의 모서리부에 노출된 페데스탈의 너트를 통해 상기 억세스플로어의 높낮이를 조절할 수 있으므로 공정의 효율성이 향상된다.

아울러 본 발명에 따른 페데스탈은 보다 안정적으로 제어된 클린룸의 바닥을 구현할 수 있고, 이를 통해 평판표시장치의 제조공정에 대한 신뢰도를 향상시킬 수 있다.

클린룸, 플로어시스템, 페데스탈, 억세스플로어

Description

클린룸의 플로어시스템{Floor system of clean room}

도 1은 일반적인 클린룸의 플로어시스템에 대한 측면도.

도 2는 도 1의 페데스탈의 형상을 개략적으로 도시한 사시도.

도 3은 본 발명에 따른 페데스탈의 구조를 개략적으로 도시한 사시도.

도 4는 커버의 구조를 개략적으로 도시한 사시도.

도 5는 억세스플로어의 개략적인 구조를 평면적으로 도시한 평면도.

도 6은 본 발명에 따른 클린룸의 플로어시스템에 대한 측면도.

도 7은 본 발명에 따른 페데스탈의 높이 고정을 위한 다양한 실시예를 개략적으로 도시한 사시도.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

100 : 페데스탈 120 : 베이스부

122 : 베이스플렌지 124 : 파이프

130 : 지지부 132 : 스크류샤프트

134(A, B) : 너트 136 : 지지헤드

138 : 커버 150 : 고정스크류

152 : 나사홀

본 발명은 페데스탈(pedestal) 및 이를 이용한 클린룸(clean room)의 플로어시스템(floor system)에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 클린룸의 바닥 구현을 위한 다수의 억세스플로어(access floor)를 수평하게 지지하는 페데스탈에 관한 것이다.

일반적으로 널리 사용되고 있는 표시장치들 중의 하나인 CRT(cathode ray tube)는 TV를 비롯해서 계측기기, 정보단말기기 등의 모니터에 주로 이용되어 오고 있으나, CRT 자체의 큰 무게나 크기로 인하여 전자 제품의 소형화, 경량화의 요구에 적극 대응할 수 없었다.

이러한 CRT를 대체하기 위해 소형, 경량화의 장점을 갖고 있는 액정표시장치(liquid crystal display device : LCD), 플라즈마표시장치(plasma display panel device : PDP) 등이 활발하게 개발되어 왔다.

이들은 공통적으로 고유의 형광 또는 편광층을 사이에 두고 한쌍의 투명기판을 대면 합착시킨 평판표시패널(flat display panel)을 필수적인 구성요소로 갖추고 있는데, 이와 같은 패널은 소정물질의 박막을 형성하는 증착(deposition)공정, 포토리소그라피(photo lithography)공정, 식각(etching)공정을 여러 번 반복하여 구성하며 이 외에 세정, 합착, 절단 등의 여러 가지 서로 다른 공정이 수반된다.

그리고 이들 평판표시장치의 여러 제조공정은 온도, 습도, 조도, 기류, 공기 압 등의 여러 가지 요인이 환경적으로 제어된 밀폐공간인 클린룸(clean room)에서 진행되는데, 이러한 클린룸의 천정과 바닥에는 각각 팬(pan) 필터장치가 설치되며, 이들을 통해 내부온도와 습도의 조절은 물론 클린룸 내에서의 공기를 순환시킴과 동시에 높은 청정도를 유지한다.

아울러 이러한 클린룸에는 각종 공정장비가 놓여지거나 AGV 등과 같은 기판 반송수단의 이동면을 위한 고정밀의 수평 바닥이 제공되어야 하고, 상기 팬 필터장치와 전기배선 등의 은폐와 동시에 습기차단 그리고 정전기 방지 역할을 겸하는 플로어시스템이 구축된다.

도 1은 일반적인 클린룸의 플로어시스템에 대한 측면도이다.

도시한 바와 같이, 층간 구분을 위해 건물로부터 제공되는 기초바닥면(2) 상에 소정높이의 페데스탈(10)이 위치하여 있고, 이러한 페데스탈(10)에는 억세스플로어(40)가 안착되어 수평한 바닥이 형성된다.

이때, 상기 기초바닥면(2)은 상기 페데스탈(10)의 지지력 보강을 위해 통상 H빔 또는 스퀘어빔 등으로 이루어진다.

또한, 상기 억세스플로어(40)는 사각의 평면형상을 갖는 부재로써, 다수의 홀(hole)들이 형성되어 있으며, 이러한 4개의 억세스플로어(40)의 모서리부가 서로 인접하는 부분의 하부에 하나의 페데스탈(10)이 위치함으로써, 상기 페데스탈(10)에 의하여 상기 4개의 억세스플로어(40)가 동시에 지지되게 되며, 상기 억세스플로어(40) 설비는 용도, 용량에 따라 상기 억세스플로어(40)와 기초바닥면(2) 사이의 높낮이를 조절해야 하는데, 이는 상기 페데스탈(10)을 통해 이루어진다.

한편, 클린룸 내에 배치되는 각 공정장비나 AGV의 하중이 불균일하거나 치중되는 등의 여러 요인에 의하여 일부 페데스탈(10)이 과중된 힘을 받게 되는데 이는, 페데스탈(10)에 의해 지지되는 억세스플로어(40) 상하 위치 편차를 발생시킨다.

이로 인하여, 공정장비의 성능에도 중대한 결함을 유발하게 되고, 이물질 및 먼지의 유입을 수반하여 결국 제품생산의 전반에 걸쳐 심각한 장애를 초래하게 된다.

따라서, 상기 억세스플로어(40)를 지지하는 페데스탈(10)을 조절하여, 상기 높낮이의 편차가 발생한 억세스플로어(40)의 상하 위치 편차를 맞춰 안정적인 고정밀의 수평 바닥을 형성하게 된다.

도 2는 도 1의 페데스탈의 형상을 개략적으로 도시한 도면이다.

도시한 바와 같이, 페데스탈(10)은 크게 하부의 베이스부(20) 그리고 상단의 지지부(30)로 구분되는데, 이중 베이스부(20)는 기초바닥면(도 1의 2)에 밀착 고정되는 베이스플렌지(22) 및 이로부터 직립된 파이프(24)를 포함하고, 지지부(30)는 파이프(24)에 삽입되는 스크류샤프트(32) 및 여기에 체결된 너트(34)와 상기 스크류샤프트(32) 상단에 결합되어 억세스플로우(도 1의 40)가 안착되는 지지헤드(36)를 포함한다.

이때 도시하지는 않았지만, 상기 지지헤드(36)의 상기 억세스플로어(도 1의 40)가 안착되는 상부면과 상기 억세스플로어(도 1의 40)의 하부면에는 각각 수직 돌출부와 홈이 서로 대응되도록 형성되어, 상기 억세스플로어(도 1의 40)의 좌,우 유동이 발생하지 않도록 고정하게 된다.

상기 지지헤드(36)는 평면상으로 상하좌우로 배치되는 4개의 억세스플로우(도 1의 40) 각각의 일 모서리를 지지하게 되며, 상기 스크류샤프트(32)에 체결된 너트(34)를 회전시켜 스크류샤프트(32)의 삽입길이를 조절함으로써 페데스탈(10)의 전체높이를 조절할 수 있다. 이때, 상기 너트(34)는 상기 스크류샤프트(32)의 삽입길이 조절 및 상기 스크류샤프트(32)의 삽입길이를 유지하기 위한 고정 역할 또한 하게 된다.

이로써, 지지헤드(36)에 안착되는 4개의 억세스플로우(도 1의 40)에 대한 수평제어가 가능하다.

그러나, 앞서 설명한 바와 같이 억세스플로어(도 1의 40)의 상하 위치 편차로 인한 문제점을 해결하기 위해 상기 각각의 페데스탈(10)의 높낮이를 조절하고자 할 시, 상기 페데스탈(10)의 높낮이 조절은 상기 억세스플로어(도 1의 40)를 지지하는 지지헤드(36) 하부의 너트(34) 회전에 의한 스크류샤프트(32)를 통해서 이루어지므로, 상기 억세스플로어(도 1의 40)를 모두 들어내어 작업자의 작업공간을 확보한 후, 상기 스크류샤프트(32)의 높낮이를 조절해야 하므로 이는 불필요한 시간과 인력의 낭비를 초래하게 된다.

또한, 상기 억세스플로어(도 1의 40) 상에 공정장비가 놓여지거나 또는 AGV를 이동 시, 상기 공정장비 또는 AGV 하부의 억세스플로어(도 1의 40)는 들어내기가 힘들어지게 되므로, 억세스플로어(도 1의 40)의 높낮이의 편차를 개선할 수 없게 된다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 억세스플로어의 높낮이 편차로 인한 문제점을 미연에 방지하고자 하는 것을 제 1 목적으로 한다.

또한, 공정의 효율성 향상을 제 2 목적으로 한다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 기초바닥면에 밀착 고정되는 베이스플렌지와; 상기 베이스플렌지로부터 직립된 파이프와; 상기 파이프에 삽입되어, 상하 승강운동하는 스크류샤프트(screw shaft)와; 상기 스크류샤프트에 체결되어 상기 스크류샤프트의 상하 승강운동을 조절하며, 중심부에 지지헤드가 결합된 너트(nut)와; 상기 지지헤드를 통해 모서리가 지지되는 다수의 억세스플로어(access floor)와; 상기 스크류샤프트의 조절된 높이를 고정하기 위한 고정스크류를 포함하며, 상기 이웃하는 다수의 억세스플로어의 모서리부를 통해 상기 너트의 일부가 노출되는 것을 특징으로 하는 클린룸(clean room) 플로어시스템을 제공한다.

상기 너트는 상기 지지헤드를 중심으로 상측부와 하측부로 구분되는 것을 특징으로 하며, 상기 너트는 상측부 또는 하측부를 회전시킬수 있는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 너트 상측부에 커버(cover)를 더욱 구성하며, 상기 커버는 상기 억세스플로어와 동일 평면을 이루는 것을 특징으로 하며, 상기 지지헤드는 적어도 4개의 억세스플로어의 모서리부를 동시에 지지하는 것을 특징으로 한다.

이때, 상기 억세스플로어의 각 모서리는 상기 억세스플로어의 중심을 향해 오목하게 곡선으로 형성되는 것을 특징으로 하며, 상기 이웃하는 다수의 억세스플로어의 모서리부가 서로 인접하는 부분에는 상기 너트가 노출되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 억세스플로어는 사방 연속으로 배열되어 바닥을 구성하는 것을 특징으로 하며, 상기 억세스플로어는 사각의 평면형상으로, 다수의 개구홀이 형성되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 너트에는 이를 관통하는 볼트공이 구성되며, 상기 볼트공을 통해 상기 고정스크류가 관통되는 것을 특징으로 하며, 상기 지지헤드에는 이를 관통하는 볼트공이 구성되며, 상기 볼트공을 통해 상기 고정스크류가 관통되는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 파이프 상에는 다수의 나사홀이 구성되며, 상기 나사홀에 상기 너트 또는 지지헤드를 관통한 고정스크류가 삽입되는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 지지헤드를 관통하는 볼트공은 상기 커버 내측으로 형성되는 것을 특징으로 하며, 상기 기초바닥면은 H빔 또는 스퀘어빔의 철재빔으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

또한, 지지헤드는 상기 너트의 직경을 늘려 형성하거나, 개스켓(gasket) 또는 와셔(washer) 중 선택된 하나로 형성하는 것을 특징으로 한다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.

도 3은 본 발명에 따른 페데스탈의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.

도시한 바와 같이, 페데스탈(100)은 크게 하부의 베이스부(120) 그리고 상단의 지지부(130)로 구분되는데, 이중 베이스부(120)는 기초바닥면(도 1의 2)에 밀착 고정되는 베이스플렌지(122) 및 이로부터 직립된 파이프(124)를 포함하고, 지지부(130)는 파이프(124)에 삽입되는 스크류샤프트(132) 및 여기에 체결된 너트(134)와 상기 너트의 중심부에 결합되어 억세스플로우(도 1의 40) 각각의 모서리부를 지지하는 지지헤드(136)를 포함한다.

상기 스크류샤프트(132)는 상기 파이프(124)와 함께 실린더(cylinder)와 같은 형상으로 상기 스크류샤프트(132)가 상하로 승강운동 하게 되는데, 상기 스크류샤프트(132)는 나사산이 형성된 축 형상으로 상기 너트(134)와 체결 결합되며, 상기 너트(134)의 회전에 의해 상하로 승강운동하게 되는 것이다.

이때, 상기 너트(134)의 중심부에 결합되는 지지헤드(136)는 상기 너트(134)에 의해 관통되어 지는 형태로 구성되는데 따라서, 상기 너트(134)는 중심부의 지지헤드(136)를 중심으로 상측부(A)와 하측부(B)로 구분되어진다.

상기 지지헤드(136)는 상기 너트(134)의 중심부의 직경을 늘림으로써 형성하거나, 개스켓(gasket) 또는 와셔(washer)를 사용하여 형성할 수도 있다.

이로 인하여, 상기 스크류샤프트(132)에 체결된 너트(134)를 회전시켜 스크류샤프트(132)의 삽입길이를 조절함으로써 페데스탈(100)의 전체높이를 조절할 수 있다.

또한, 이 같은 페데스탈(100)의 전체높이를 조절한 후 상기 조절된 페데스탈(100)의 높이 고정을 위해, 상기 너트(134)를 관통하여 하부에 구비된 파이 프(124)의 상면 가장자리를 따라 삽입되는 다수의 고정스크류(150)를 구성한다. 이를 위하여 너트(134)에는 적어도 두 개의 볼트공(미도시)이 상하 관통되어 있고 이와 대응되는 파이프(124)의 가장자리를 따라서는 각각의 내면으로 나사산이 형성된 다수의 나사홀(152)이 형성되어 있다.

따라서, 상기 페데스탈(100)의 전체 높이를 조절한 후, 상기 너트(134)와 파이프(124)의 서로 대응되는 볼트공(미도시)과 나사홀(152)로 고정스크류(150)를 삽입하여 체결함으로써, 상기 높이 조절된 페데스탈(100)에 외부 힘이 가해져도 안정적으로 고정되어 초기 조절된 높이를 유지하게 된다.

이때, 상기 고정스크류(150)는 상기 페데스탈(100)의 조절 가능한 높이에 여유분을 갖는 길이로 구성한다.

이러한 본 발명에 따른 페데스탈(100)은 지지헤드(136)의 상부에 노출된 너트(A)를 회전시켜 높낮이를 조절하거나, 상기 지지헤드(136)의 하부에 노출된 너트(B)를 회전시켜 페데스탈(100)의 높낮이를 조절할 수 있는 특징이 있다.

이때, 상기 지지헤드(136)의 상, 하부에 노출된 너트(134)는 스패너(spanner)를 사용하여 회전시키며, 상기 지지헤드(136)의 상부에 노출된 너트(A)를 회전시키기 위한 스패너는 손잡이부가 상향 절곡되어 구성되는 것을 사용하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 지지헤드(136)의 상부에 노출된 너트(A) 상에 이물질 적체 또는 너트(134)의 풀림 방지를 위해 커버(138)를 더욱 구성한다.

도 4는 커버의 구조를 개략적으로 도시한 도면으로, 상기 커버(138)는 상기 지지헤드(도 3의 136)의 상부에 노출된 너트(도 3의 A)를 포함하여 상기 지지헤드(도 3의 136)의 일부를 덮는 구조로써, 상기 상부노출된 너트(도 3의 A)가 삽입되는 홈(142)이 구성되어 있으며, 상기 지지헤드(도 3의 136)와 동일한 재질로 구성할 수 있다.

또한, 상기 커버(138)는 상기 페데스탈(도 3의 100)로부터 탈부착이 가능하도록 형성하여, 상기 페데스탈(도 3의 100)의 지지헤드(도 3의 136) 상부에 노출된 너트(도 3의 A)를 통해 상기 페데스탈(도 3의 100)의 높낮이를 조절할 시에는 손쉽게 탈착되도록 하고, 이외에는 너트(도 3의 134) 상에 이물질 등의 적체를 방지하기 위해 부착할 수 있도록 형성한다.

이때, 상기 페데스탈(도 3의 100)의 너트(도 3의 134)를 포함한 커버(138)는 상기 억세스플로어(도 1의 40)의 각 모서리에 노출되게 되는데, 이는 도 5를 참조하여 자세하게 설명하도록 하겠다.

도 5는 억세스플로어의 개략적인 구조를 평면적으로 도시한 도면이다.

도시한 바와 같이, 억세스플로어(140)는 사각의 평면형상을 갖는 부재로써, 다수의 개구홀(hole : 144)들이 형성되어 있다. 이는 상기 클린룸 내부의 이물질이 함유된 공기를 상기 각 억세스플로어(140)에 형성된 개구홀(144)을 통해 억세스플로어(140)와 기초바닥면(도 1의 2) 사이에 형성된 공간으로 유출하고, 이들을 다시 외부로 배출하기 위함이다.

이때, 상기 억세스플로어(140)에 형성된 개구홀(144)의 형상에 따라, 블라인드타입(blind type), 관통타입(perforate type) 그리고 격자타입(grating type)으 로 구분되며, 상기 개구홀(144)을 통해 클린룸 내부의 공기 흐름을 원활하게 유지하게 된다.

이러한 4개의 억세스플로어(140)의 모서리부가 서로 인접하는 부분의 하부에 하나의 페데스탈(도 3의 100)이 위치함으로써, 상기 억세스플로어(140)가 상기 페데스탈(도 3의 100)에 의하여 지지되게 되는데 이때, 상기 억세스플로어(140)의 각 모서리부는 상기 억세스플로어(140)의 중심을 향해 오목하게 곡선처리하여 형성한다.

따라서, 4개의 억세스플로어(140)의 모서리부가 서로 인접하는 부분은 원형의 홀(146)이 형성되게 되며, 이러한 4개의 억세스플로어(140)의 모서리부의 홀(146)을 통해 상기 페데스탈(도 3의 100)의 너트(134)를 포함한 커버(138)가 노출되게 된다.

이때, 상기 억세스플로어(140)와 상기 페데스탈(도 3의 100)의 커버(138)는 서로 동일 평면을 이루도록 구성하여, 상기 클린룸 내부의 억세스플로어(140) 상에 공정장비 또는 AGV를 배치하는 과정에서 공정 상의 불편함이 없도록 한다.

따라서, 본 발명에 따라 지지헤드(도 3의 136)의 상부와 하부에 노출된 너트(134)를 통해 상기 페데스탈(도 3의 100)의 높낮이를 조절할 수 있게 되는데 특히, 클린룸의 억세스플로어(140)를 수평하게 지지하기 위해 기존과 같이 억세스플로어(140)를 들어내지 않고도 페데스탈(도 3의 100)의 높낮이를 조절할 수 있다.

도 6은 본 발명에 따른 클린룸의 플로어시스템에 대한 측면도이다.

도시한 바와 같이, 기초바닥면(102) 상에 본 발명에 따른 페데스탈(100)이 복수 개 직립하여 있고, 여기에 억세스플로어(140)가 안착되어 사방으로 연속 배열됨으로써 평판표시장치 등의 제조를 위한 클린룸의 바닥을 제공하고 있다.

상기 기초바닥면(102)은 층간을 구분하는 건물의 일부가 될 수 있고, 일례로 콘크리트도 가능하지만, 페데스탈(100)의 지지력 보강을 위해 도시된 바와 같이 H빔 또는 스퀘어빔과 같은 철제빔으로 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 억세스플로어(140)는 상기 페데스탈(100)을 통해 지지되며, 상기 페데스탈(100)의 너트(134)의 상부를 포함한 커버(138)는 상기 억세스플로어(140)의 모서리부에 형성된 홀(146)을 통해 외부로 노출되어, 페데스탈(100)의 높낮이 조절은 상기 억세스플로어(140)의 상부 또는 하부의 필요에 따라 원하는 위치에서 조절이 가능하다.

즉, 상기 억세스플로어(140)의 하부에서 높낮이를 조절할 시에는 상기 억세스플로어(140)를 들어낸 후에, 상기 페데스탈(100)의 지지헤드(136)의 하부에 노출된 너트(B)를 통해 높낮이를 조절하면 되며, 상기 억세스플로어(140) 상에 공정장비 또는 AGV등이 배치되어 있어 상기 억세스플로어(140)를 들어내기 힘든 경우, 상기 페데스탈(100)의 상기 지지헤드(136)의 상부에 노출된 너트(A)를 통해 높낮이를 조절하면 된다.

상기 상부 및 하부의 노출된 너트(134)를 통해 페데스탈(100)의 높이 조절이 끝난 후에는 상기 고정스크류(150)를 통해 상기 페데스탈(100)의 조절된 높이를 고정시키면 된다.

이때, 상기 공정장비를 놓거나 AGV 등과 같은 기판 반송수단의 이동시에는, 상기 사방으로 연속 배열된 억세스플로어(140) 상에 다수의 시트(148)를 개재하는데, 이는 억세스플로어(140) 및 페데스탈(100)로 가해지는 하중을 덜기 위함이다.

따라서, 상기 공정장비를 놓거나 AGV 등과 같은 기판 반송수단의 이동시에는 상기 억세스플로어(140)와 동일 평면상에 위치하게 되는 페데스탈(100)의 커버(138)가 노출되지 않게 된다.

이러한 페데스탈(100)은 그 목적에 따라 그 구체적인 형태나 구성은 얼마든지 변형이 가능한데, 앞서의 설명에서 상기 페데스탈(100)의 지지헤드(136)에 4개의 억세스플로어(140)의 곡선처리된 각각의 모서리를 지지하는 것으로 전술하였지만, 억세스플로어(140)가 사각형이라는 전제 하에 하나의 페데스탈(100)에 2개의 억세스플로어(140)가 지지될 수 있다.

또한, 상기 억세스플로어(140)의 각 모서리부가 상기 억세스플로어(140)의 중심을 향해 오목하게 곡선처리하여 형성되는 것 외에도, 상기 억세스플로어(140) 상으로 노출되는 상기 페데스탈(100) 너트(134)의 형태에 따라 다양한 형상으로도 형성가능하다.

또한, 상기 페데스탈(100)의 높이 조절 후 상기 페데스탈(100)의 조절된 높이를 고정하기 위한 고정방법 역시, 그 구체적인 형태나 구성을 변형할 수 있다.

도 7은 본 발명에 따른 페데스탈의 높이 고정을 위한 다양한 실시예를 개략적으로 도시한 사시도이다.

도시한 바와 같이, 조절된 페데스탈(100)의 높이 고정을 위해 구비되는 고정스크류(250)가 지지헤드(136)를 관통하도록 볼트공(미도시)을 형성하는 구성이다.

이때, 지지헤드(136)를 관통하는 볼트공(미도시)을 상기 지지헤드(136)의 상부에 노출된 너트(A)를 덮는 커버(138) 내측으로 위치하도록 하여, 상기 억세스플로어(도 6의 140)를 지지하는 영역에 구성되지 않도록 한다.

이는 상기 고정스크류(250) 상에 이물질 적체 또는 상기 억세스플로어(도 6의 140)를 지지헤드(136) 상에 안착 시 상기 고정스크류(250)의 돌출된 헤드로 인한 불편함을 줄이기 위함이다.

이렇듯 고정스크류(250)를 상기 지지헤드(136)를 관통하면서 커버(138) 내측으로 위치하도록 구성하게 되면 도시하지는 않았지만 상기 커버(138)는 상기 너트(134)가 삽입되는 홈(도 4의 142) 외에도, 상기 고정스크류(250)의 헤드가 삽입될 홈이 더욱 구비된다.

이때, 상기 지지헤드(136)의 볼트공(미도시)과 대응되는 파이프(124)의 가장자리를 따라서 각각의 내면으로 나사산이 형성된 다수의 나사홀(152)이 형성되어 있다.

따라서, 상기 페데스탈(100)의 전체 높이를 조절한 후, 상기 지지헤드(136)와 파이프(124)의 서로 대응되는 볼트공(미도시)과 나사홀(152)로 고정스크류(250)를 삽입하여 체결함으로써, 상기 높이 조절된 페데스탈(100)에 외부 힘이 가해져도 안정적으로 고정되어 초기 조절된 높이를 유지하게 된다.

이때, 상기 고정스크류(250)는 상기 페데스탈(100)의 조절 가능한 높이에 여유분을 갖는 길이로 구성한다.

또한, 도시하지는 않았지만 상기 지지헤드(136)를 관통하는 고정스크류(250) 를 상기 커버(138) 내측으로 형성하는 것 외에도, 상기 커버(138)의 외측으로 형성할 수도 있는데 이때는 상기 고정스크류(250)의 헤드가 상기 지지헤드(136) 상에 돌출되지 않도록 상기 지지헤드(136) 상에 소정의 홈을 형성하여 구성할 수도 있다.

전술한 바와 같이, 클린룸의 플로어시스템에 있어서, 클린룸의 바닥 구현을 위한 다수의 억세스플로어(140)를 수평하게 지지하는 페데스탈(100)의 높낮이 조절이 가능한 너트(134)를 상기 억세스플로어(140) 상으로 노출되도록 구성함으로써, 페데스탈(100)의 높낮이 조절을 상기 억세스플로어(140)의 상부 또는 하부의 필요에 따라 원하는 위치에서 조절이 가능하다.

이로 인하여, 상기 억세스플로어(140) 상에 공정장비 또는 AGV등이 배치되어 있는 경우에도, 상기 페데스탈(100)의 상기 억세스플로어(140) 상에 노출된 너트(134)를 통해 높낮이를 조절할 수 있다.

본 발명은 상기 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.

위에 상술한 바와 같이, 본 발명에 따라 페데스탈은 억세스플로어들의 상하 위치 편차가 발생할 시, 상기 억세스플로어를 들어내지 않고도 상기 억세스플로어의 모서리부에 노출된 페데스탈의 너트를 통해 상기 억세스플로어의 높낮이를 조절할 수 있으므로 공정의 효율성이 향상되는 효과가 있다.

아울러 본 발명에 따른 페데스탈은 보다 안정적으로 고정밀 제어된 클린룸의 바닥을 구현할 수 있고, 이를 통해 평판표시장치의 제조공정에 대한 신뢰도를 향상시키는 효과가 있다.

Claims

기초바닥면에 밀착 고정되는 베이스플렌지와;

상기 베이스플렌지로부터 직립된 파이프와;

상기 파이프에 삽입되어, 상하 승강운동하는 스크류샤프트(screw shaft)와;

상기 스크류샤프트에 체결되어 상기 스크류샤프트의 상하 승강운동을 조절하며, 중심부에 지지헤드가 결합된 너트(nut)와;

상기 지지헤드를 통해 모서리가 지지되는 다수의 억세스플로어(access floor)와;

상기 스크류샤프트의 조절된 높이를 고정하기 위한 고정스크류

를 포함하며,

상기 너트는 상기 지지헤드를 중심으로 상측부와 하측부로 구분되고,

상기 다수의 억세스플로어 중 이웃하는 상기 억세스플로어의 모서리부를 통해 상기 너트의 상기 상측부가 노출되는 것을 특징으로 하는 클린룸(clean room) 플로어시스템.
삭제
제 1 항에 있어서,

상기 너트는 상측부 또는 하측부를 회전시킬수 있는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.
기초바닥면에 밀착 고정되는 베이스플렌지와;

상기 베이스플렌지로부터 직립된 파이프와;

상기 파이프에 삽입되어, 상하 승강운동하는 스크류샤프트(screw shaft)와;

상기 스크류샤프트에 체결되어 상기 스크류샤프트의 상하 승강운동을 조절하며, 중심부에 지지헤드가 결합된 너트(nut)와;

상기 지지헤드를 통해 모서리가 지지되는 다수의 억세스플로어(access floor)와;

상기 스크류샤프트의 조절된 높이를 고정하기 위한 고정스크류

를 포함하며,

상기 다수의 억세스플로어 중 이웃하는 상기 억세스플로어의 모서리부를 통해 상기 너트의 일부가 노출되고,

상기 너트는 상기 지지헤드를 중심으로 상측부와 하측부로 구분되고,

상기 너트 상측부에 커버(cover)를 더욱 구성하며, 상기 커버는 상기 억세스플로어와 동일 평면을 이루는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.
기초바닥면에 밀착 고정되는 베이스플렌지와;

상기 베이스플렌지로부터 직립된 파이프와;

상기 파이프에 삽입되어, 상하 승강운동하는 스크류샤프트(screw shaft)와;

상기 스크류샤프트에 체결되어 상기 스크류샤프트의 상하 승강운동을 조절하며, 중심부에 지지헤드가 결합된 너트(nut)와;

상기 지지헤드를 통해 모서리가 지지되는 다수의 억세스플로어(access floor)와;

상기 스크류샤프트의 조절된 높이를 고정하기 위한 고정스크류

를 포함하며,

상기 다수의 억세스플로어 중 이웃하는 상기 억세스플로어의 모서리부를 통해 상기 너트의 일부가 노출되고,

상기 지지헤드는 2 ~ 4개의 억세스플로어의 모서리부를 동시에 지지하는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.
제 5 항에 있어서,

상기 억세스플로어의 각 모서리는 상기 억세스플로어의 중심을 향해 오목하게 곡선으로 형성되는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.
삭제
제 1 항에 있어서,

상기 억세스플로어는 사방 연속으로 배열되어 바닥을 구성하는 클린룸의 플로어시스템.
제 8 항에 있어서,

상기 억세스플로어는 사각의 평면형상으로, 다수의 개구홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.
기초바닥면에 밀착 고정되는 베이스플렌지와;

상기 베이스플렌지로부터 직립된 파이프와;

상기 파이프에 삽입되어, 상하 승강운동하는 스크류샤프트(screw shaft)와;

상기 스크류샤프트에 체결되어 상기 스크류샤프트의 상하 승강운동을 조절하며, 중심부에 지지헤드가 결합된 너트(nut)와;

상기 지지헤드를 통해 모서리가 지지되는 다수의 억세스플로어(access floor)와;

상기 스크류샤프트의 조절된 높이를 고정하기 위한 고정스크류

를 포함하며,

상기 다수의 억세스플로어 중 이웃하는 상기 억세스플로어의 모서리부를 통해 상기 너트의 일부가 노출되고,

상기 너트에는 이를 관통하는 볼트공이 구성되며, 상기 볼트공을 통해 상기 고정스크류가 관통되는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.
기초바닥면에 밀착 고정되는 베이스플렌지와;

상기 베이스플렌지로부터 직립된 파이프와;

상기 파이프에 삽입되어, 상하 승강운동하는 스크류샤프트(screw shaft)와;

상기 스크류샤프트에 체결되어 상기 스크류샤프트의 상하 승강운동을 조절하며, 중심부에 지지헤드가 결합된 너트(nut)와;

상기 지지헤드를 통해 모서리가 지지되는 다수의 억세스플로어(access floor)와;

상기 스크류샤프트의 조절된 높이를 고정하기 위한 고정스크류

를 포함하며,

상기 다수의 억세스플로어 중 이웃하는 상기 억세스플로어의 모서리부를 통해 상기 너트의 일부가 노출되고,

상기 지지헤드에는 이를 관통하는 볼트공이 구성되며, 상기 볼트공을 통해 상기 고정스크류가 관통되는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.
제 10 항 및 제 11 항 중 선택된 한 항에 있어서,

상기 파이프 상에는 다수의 나사홀이 구성되며고, 상기 나사홀에 상기 너트 또는 지지헤드를 관통한 고정스크류가 삽입되는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.
제 11 항에 있어서,

상기 너트 상측부에 커버를 더욱 구성하며, 상기 지지헤드를 관통하는 볼트공은 상기 커버 내측으로 형성되는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.
제 1항에 있어서

상기 기초바닥면은 H빔 또는 스퀘어빔의 철재빔으로 이루어진 클린룸 플로어시스템.
기초바닥면에 밀착 고정되는 베이스플렌지와;

상기 베이스플렌지로부터 직립된 파이프와;

상기 파이프에 삽입되어, 상하 승강운동하는 스크류샤프트(screw shaft)와;

상기 스크류샤프트에 체결되어 상기 스크류샤프트의 상하 승강운동을 조절하며, 중심부에 지지헤드가 결합된 너트(nut)와;

상기 지지헤드를 통해 모서리가 지지되는 다수의 억세스플로어(access floor)와;

상기 스크류샤프트의 조절된 높이를 고정하기 위한 고정스크류

를 포함하며,

상기 다수의 억세스플로어 중 이웃하는 상기 억세스플로어의 모서리부를 통해 상기 너트의 일부가 노출되고,

상기 지지헤드는 상기 너트의 직경을 늘려 형성하거나, 개스켓(gasket) 또는 와셔(washer) 중 선택된 하나로 형성하는 것을 특징으로 하는 클린룸 플로어시스템.