KR101317849B1 - in-line type baking appatatus having plasma treatment part - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인타입의 베이크장치는 입구와 출구에 각각 배치되어 상기 입구와 상기 출구를 개폐하는 개폐도어와, 내부를 가열하는 히터와, 상기 히터에 의해 가열된 공기를 순환시키는 팬모터와, 상기 입구로 투입된 상기 대상물을 상기 출구 측으로 이동시키는 적어도 하나의 이동장치를 포함하여 구성되는 챔버; 상기 챔버의 입구 측에 배치되되, 공급되는 상기 대상물이 투입되어 안착되는 투입부; 상기 투입부에 안착된 대상물을 집어 상기 챔버의 입구에 투입하는 투입로봇; 상기 챔버의 일측에 배치되어 상기 챔버의 출구에서 배출된 대상물을 소정 시간동안 보관하는 버퍼부; 상기 버퍼부에 보관된 대상물을 플라즈마 처리하도록 상기 챔버의 상측에 마련되는 플라즈마부; 상기 챔버에서 대상물을 집어 상기 버퍼부로 이동시키고, 상기 버퍼부로부터 상기 플라즈마부로 대상물을 이동시키는 배출로봇; 상기 플라즈마부를 통해 플라즈마 처리된 대상물을 배출하는 배출라인;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 대상물의 건조, 가열 및 플라즈마 처리를 하나의 장치에서 수행할 수 있는 플라즈마부를 구비한 인라인타입의 베이크장치가 제공된다. In-line baking device having a plasma unit according to the present invention is disposed at the inlet and outlet, respectively, the opening and closing door for opening and closing the inlet and the outlet, the heater for heating the inside, and the air heated by the heater to circulate A chamber including a fan motor and at least one moving device for moving the object introduced into the inlet to the outlet side; An input unit disposed at an inlet side of the chamber and configured to receive and supply the object to be supplied; An input robot that picks up an object seated on the input unit and inputs it to an inlet of the chamber; A buffer unit disposed at one side of the chamber to store an object discharged from the outlet of the chamber for a predetermined time; A plasma unit provided above the chamber to plasma-process an object stored in the buffer unit; A discharge robot which picks up an object in the chamber and moves the object to the buffer unit and moves the object from the buffer unit to the plasma unit; And a discharge line for discharging the plasma-processed object through the plasma unit. Thereby, an in-line type baking apparatus having a plasma section capable of performing drying, heating and plasma processing of an object in one apparatus is provided.

Description

플라즈마부를 구비한 인라인타입의 베이크 장치{in-line type baking appatatus having plasma treatment part} In-line type baking device having a plasma unit {in-line type baking appatatus having plasma treatment part}

본 발명은 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크장치에 관한 것으로, 좀더 자세하게는, 플라즈마부가 베이크 장치와 함께 설치됨으로써 대상물을 소정온도 하에서 건조된 기판을 다른 공정으로 이동시키지 않고 플라즈마 처리를 함께 수행할 수 있는 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an in-line baking apparatus having a plasma unit. More specifically, the plasma unit is installed together with the baking unit, so that the plasma processing can be performed together without moving the substrate dried under a predetermined temperature to another process. It is about a device.

일반적으로, 반도체, 디스플레이, 인쇄회로기판과 같이 기판상에 칩등이 실장된 후에 칩을 기판상에 고정시키기 위해 고온의 챔버 내에서 소정시간동안 가열 건조시키게 되는데, 이를 베이크공정이라고 한다. 이러한 베이크 공정을 수행하기 위한 베이크 장치는 일반적으로 챔버에 열풍을 분사하는 열풍팬등을 이용하여 기판상에 열풍을 공급하여 기판상에 실장된 칩등을 건조시켜 실장이 견고하게 유지되도록 한다. 또한, 베이크공정이 끝난 후에 다시 표면을 플라즈마처리를 하여 표면개질을 시키게 된다. 즉, 베이크 공정이 완료된 기판을 플라즈마 챔버내로 다시 투입시켜 플라즈마처리를 함으로써 세척을 하거나, 표면장력을 낮추거나 표면경도를 높이는 등의 표면개질을 통하여 기판의 품질을 더욱 향상시킬 수 있게 된다. In general, after a chip is mounted on a substrate such as a semiconductor, a display, or a printed circuit board, the chip is heated and dried for a predetermined time in a high temperature chamber to fix the chip on the substrate. This is called a baking process. A baking apparatus for performing such a baking process generally supplies hot air to a substrate by using a hot air fan for injecting hot air into the chamber to dry chips and the like mounted on the substrate to maintain the mounting. In addition, after the baking process is finished, the surface is subjected to plasma treatment for surface modification. That is, the quality of the substrate may be further improved through surface modification such as cleaning the substrate by lowering the surface tension or increasing the surface hardness by inserting the baked substrate into the plasma chamber and performing plasma treatment.

하지만, 플라즈마 처리를 위해서는 베이크 장치와는 별도로 마련된 플라즈마 챔버가 필요하게 되고, 이에 따라 플라즈마 챔버로 기판을 투입 및 배출시키는 부가적인 장치가 더 필요하게 되어 공간을 많이 차지하게 되며, 기판의 투입, 배출시에 공정불량이 발생하게 되는 문제점이 있어 왔다. However, the plasma processing requires a plasma chamber provided separately from the baking apparatus, and thus requires an additional device for inputting and discharging the substrate into the plasma chamber, thus taking up a lot of space, and adding and discharging the substrate. There has been a problem that a process defect occurs at the time.

한편, 베이크 장치는 인라인 공정상에 설치되어, 이전공정을 거친 기판이 컨베이어 벨트 또는 별도의 이송수단을 통해 챔버내로 투입이 되어 베이크 공정을 거치게 된다. 따라서, 인라인 타입의 베이크 장치는 공정의 특성상 한 종류의 기판만을 처리하게 되고, 다른 공정에서 오는 기판의 경우 별도의 베이크 장치를 이용하여 처리한다. 즉, 인라인 타입으로 설치되므로 이전공정과의 연속적인 공정관계로 인하여 다양한 칩들을 동시에 처리할 수 없는 문제점이 있어왔다. On the other hand, the baking apparatus is installed on the inline process, the substrate passed through the previous process is introduced into the chamber through a conveyor belt or a separate transfer means is subjected to the baking process. Therefore, the in-line baking apparatus processes only one type of substrate due to the characteristics of the process, and in the case of substrates coming from other processes, it uses a separate baking apparatus. That is, since it is installed in the inline type, there has been a problem in that various chips cannot be processed simultaneously due to the continuous process relationship with the previous process.

또한, 서로다른 칩이 실장된 서로 다른 기판을 처리하기 위해서는 여러대의 베이크 장치가 필요하여 넓은 면적이 필요한 문제점이 있어왔다. In addition, in order to process different substrates on which different chips are mounted, a plurality of baking devices are required and a large area has been required.

따라서 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 플라즈마 처리를 베이크 장치와 동일한 장치에서 진행함으로써, 플라즈마 챔버로 기판을 투입 및 배출시키는 부가적인 장치가 더 필요없는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치를 제공함에 있다. Accordingly, an object of the present invention is to solve such a conventional problem, in which the plasma processing is performed in the same apparatus as the baking apparatus, so that an additional apparatus for inputting and discharging the substrate into the plasma chamber is required. It is to provide a type of baking device.

아울러, 이를 통하여 기판의 투입, 배출시에 발생되는 공정불량을 줄일 수 있는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치를 제공함에 있다. In addition, it provides a baking apparatus of the in-line type having a plasma unit that can reduce the process defects generated during the input and discharge of the substrate through this.

또한, 협소한 공간에도 설치할 수 있는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이커 장치를 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide an in-line baker device having a plasma unit that can be installed in a narrow space.

한편, 서로 다른 종류의 칩이 실장된 서로 다른 기판을 동시에 처리할 수 있는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치를 제공함에 있다. On the other hand, there is provided an in-line type baking apparatus having a plasma unit capable of simultaneously processing different substrates on which different types of chips are mounted.

또한, 공정상태에 따라 수동 및 자동으로 대상물을 투입 및 배출할 수 있는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크장치를 제공함에 있다In addition, the present invention provides an inline type baking apparatus having a plasma unit capable of manually inputting and discharging an object according to a process state.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 소정 온도 하에서 대상물을 건조시키는 베이크 장치에 있어서, 입구와 출구에 각각 배치되어 상기 입구와 상기 출구를 개폐하는 개폐도어와, 내부를 가열하는 히터와, 상기 히터에 의해 가열된 공기를 순환시키는 팬모터와, 상기 입구로 투입된 상기 대상물을 상기 출구 측으로 이동시키는 적어도 하나의 이동장치를 포함하여 구성되는 챔버; 상기 챔버의 입구 측에 배치되되, 공급되는 상기 대상물이 안착되는 투입디버터와, 상기 투입디버터의 이동경로를 형성하는 투입가이드와, 상기 투입가이드를 따라 상기 투입디버터를 이동시키는 투입구동부를 포함하는 투입부; 상기 투입디버터에 안착된 대상물을 집어 상기 챔버의 입구에 투입하는 투입로봇; 상기 챔버의 일측에 배치되어 상기 챔버의 출구에서 배출된 대상물을 소정 시간동안 보관하는 버퍼부; 상기 버퍼부에 보관된 대상물을 플라즈마 처리하도록 상기 챔버의 상측에 마련되는 플라즈마부; 상기 챔버에서 대상물을 집어 상기 버퍼부로 이동시키고, 상기 버퍼부로부터 상기 플라즈마부로 대상물을 이동시키는 배출로봇; 상기 플라즈마부를 통해 플라즈마 처리된 대상물을 배출하는 배출라인;을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치에 의해 달성된다. According to the present invention, in the baking apparatus for drying the object under a predetermined temperature, an opening and closing door for opening and closing the inlet and the outlet, respectively, disposed at the inlet and the outlet, a heater for heating the inside, and A chamber comprising a fan motor for circulating the heated air by at least one and a moving device for moving the object introduced into the inlet to the outlet side; An input diverter disposed at an inlet side of the chamber, the input diverter on which the object to be supplied is seated, an input guide to form a movement path of the input diverter, and an input driver to move the input diverter along the input guide Including the input unit; An input robot that picks up an object seated on the input diverter and inputs it to the inlet of the chamber; A buffer unit disposed at one side of the chamber to store an object discharged from the outlet of the chamber for a predetermined time; A plasma unit provided above the chamber to plasma-process an object stored in the buffer unit; A discharge robot which picks up an object in the chamber and moves the object to the buffer unit and moves the object from the buffer unit to the plasma unit; It is achieved by an in-line type baking apparatus having a plasma unit comprising a; discharge line for discharging the object subjected to the plasma treatment through the plasma unit.

여기서, 상기 플라즈마부는 상기 버퍼부에 보관된 대상물이 안착되는 투입포트와, 상기 대상물을 플라즈마 처리하는 처리실과, 상기 처리실에서 플라즈마 처리된 대상물이 안착되는 전달디버터와, 상기 투입포트에 안착된 대상물을 집는 보조그리퍼에 의해 상기 대상물을 상기 처리실과 상기 전달디버터로 이동시키는 트랜스퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한다. The plasma unit may include an input port in which an object stored in the buffer unit is seated, a processing chamber in which the object is plasma-processed, a transfer diverter in which the object plasma-processed in the processing chamber is seated, and an object seated in the input port. And a transfer unit for transferring the object to the processing chamber and the transfer diverter by an auxiliary gripper.

상기 투입포트는 상기 대상물이 정위치에 안착되도록 돌출 형성되는 정렬돌기를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. The input port is characterized in that it further comprises an alignment protrusion protruding to be seated in the target position.

상기 배출라인은 상기 플라즈마 처리된 대상물을 배출하는 자동배출롤러부와, 상기 자동배출롤러부에서 배출되는 대상물 중 일부가 상기 배출로봇에 의해 이동되어 배출되는 수동배출롤러부를 포함하되, 상기 배출로봇은 상기 자동배출롤러부를 통해 이동되는 대상물을 집어 상기 수동배출롤러부로 이동시키는 것을 특징으로 한다. 또한, 상기 자동배출롤러부와 상기 수동배출롤러부는 양측 일측 영역에 함몰된 가이드홈이 형성될 수 있다. The discharge line includes an automatic discharge roller unit for discharging the plasma-treated object and a manual discharge roller unit in which some of the objects discharged from the automatic discharge roller unit are moved by the discharge robot and discharged. The object to be moved through the automatic discharge roller portion is characterized in that for moving to the manual discharge roller portion. In addition, the automatic discharge roller portion and the manual discharge roller portion may be formed with guide grooves recessed in one side area of both sides.

한편, 상기 투입디버터는 안착된 상기 대상물이 이동되는 이송롤러부와, 인가된 전원에 의해 상기 이송롤러부를 동작시키는 롤러구동부와, 인가된 전원에 의해 상기 이송롤러부 또는 상기 롤러구동부를 회전시키는 제1회전구동부를 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 이송롤러부는 양측 가장자리에 돌출 형성되는 지지돌부와, 상기 대상물의 이동 방향 일측 끝단부에 돌출 형성되는 스토퍼 중 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. On the other hand, the input diverter is a feed roller for moving the seated object, a roller driving unit for operating the feed roller by the applied power, and to rotate the feed roller or the roller driving by the applied power It characterized in that it comprises a first rotational drive, wherein the transfer roller portion is characterized in that it further comprises at least one of the support protrusions protruding on both side edges, and the stopper protruding on one end of the moving direction of the object. .

상기 투입로봇과 상기 배출로봇은 상기 대상물의 양측면을 집도록 하는 그리퍼가 형성되며, 상기 그리퍼는 상기 대상물의 하면을 지지하도록 하는 지지대가 돌출 형성되는 것이 대상물을 안정적으로 파지할 수 있어 바람직하다. The input robot and the discharge robot is formed with a gripper for picking up both sides of the object, the gripper is preferably a support for protruding the lower surface of the object is formed to be able to stably hold the object.

본 발명에 따르면, 플라즈마 처리를 베이크 장치와 동일한 장치에서 진행함으로써, 플라즈마 챔버로 기판을 투입 및 배출시키는 부가적인 장치가 더 필요없는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크장치가 제공된다. According to the present invention, an inline type bake apparatus is provided having a plasma portion, by which the plasma processing is performed in the same apparatus as the bake apparatus, which further requires an additional apparatus for inputting and discharging the substrate into the plasma chamber.

아울러, 이를 통하여 기판의 투입, 배출시에 발생되는 공정불량을 줄일 수 있는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크장치가 제공된다. 또한, 협소한 공간에도 설치할 수 있는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치가 제공된다. In addition, there is provided an in-line type baking apparatus having a plasma unit capable of reducing process defects generated when the substrate is inserted or discharged. In addition, an inline type baking apparatus having a plasma portion that can be installed in a narrow space is provided.

한편, 서로 다른 종류의 칩이 실장된 서로 다른 기판을 동시에 처리할 수 있는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치가 제공된다. 공정상태에 따라 수동 및 자동으로 대상물을 투입 및 배출할 수 있는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크장치가 제공된다. On the other hand, there is provided an in-line type baking apparatus having a plasma unit capable of simultaneously processing different substrates on which different types of chips are mounted. Provided is an inline type baking apparatus having a plasma unit capable of manually inputting and discharging an object according to a process state.

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치를 개략적으로 나타낸 사시도,
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 투입부를 나타낸 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 투입로봇을 나타낸 사시도,
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 플라즈마부를 나타낸 사시도,
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 수동배출롤러부를 도시한 사시도,
도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치에서 투입부의 작동을 나타낸 작동도,
도 8은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치에서 수동투입부의 작동을 나타낸 작동도,
도 9 및 도 10은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 플라즈마부의 작동을 나타낸 작동도,
도 11은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 자동배출롤러부 및 수동배출롤러부의 작동을 나타낸 작동도이다. 1 is a perspective view schematically showing an inline type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention;
Figure 2 is a perspective view showing the inlet of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention,
Figure 3 is a perspective view of the feeding robot of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention,
4 is a perspective view of the plasma unit of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention;
5 is a perspective view showing a manual discharge roller unit of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention;
6 and 7 is an operation diagram showing the operation of the input unit in the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention,
8 is an operation diagram showing the operation of the manual input unit in the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention,
9 and 10 is an operation diagram showing the operation of the plasma unit of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention,
11 is an operation diagram showing the operation of the automatic discharge roller unit and the manual discharge roller unit of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention.

도 1은 은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 도면에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 인라인 타입의 베이크 장치는 대상물(T)을 건조시키는 챔버(1)와, 챔버(1)의 입구측에 설치된 투입부(2)와, 투입부(2)로부터 챔버(1)측으로 대상물(T)을 투입하는 투입로봇(3), 챔버(1)로부터 대상물(T)을 배출하는 배출로봇(7), 챔버(1)의 일측에 설치된 버퍼부(4), 버퍼부(4)로부터 대상물(T)을 공급받아 플라즈마처리하도록 챔버(1)의 상측에 마련된 플라즈마부(5) 및 플라즈마처리된 대상물(T)을 외부로 배출하는 배출라인(6, 8)으로 구성된다.1 is a perspective view schematically showing an inline baking apparatus having a plasma unit according to the present invention. As shown in the drawings, the in-line type baking apparatus according to the present invention includes a chamber 1 for drying an object T, an input part 2 provided at an inlet side of the chamber 1, and an input part 2. An input robot 3 for introducing the object T from the chamber 1 to the chamber 1, a discharge robot 7 for discharging the object T from the chamber 1, and a buffer unit 4 provided at one side of the chamber 1. In order to receive the object T from the buffer unit 4, the plasma unit 5 provided above the chamber 1 and the discharge lines 6 and 8 for discharging the object T processed by the plasma to the outside. It consists of.

챔버(1)는 공기를 가열하는 히터(미도시)와, 히터에 의해 가열된 공기를 공급하는 팬모터(미도시)와, 챔버(1) 내부에서 대상물(T)을 이동시키는 이동장치(미도시)와, 입구와 출구측에 설치되는 개폐도어(미도시)가 마련된다. 이러한 챔버(1)의 구성은 일반적인 베이크 장치의 챔버의 구성을 따른다. The chamber 1 includes a heater (not shown) for heating air, a fan motor (not shown) for supplying air heated by the heater, and a moving device (not shown) for moving the object T inside the chamber 1. H) and an opening / closing door (not shown) provided at the inlet and outlet sides. The configuration of this chamber 1 follows the configuration of a chamber of a general baking apparatus.

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 투입부를 나타낸 사시도이다. 도면에 도시된 바와 같이, 투입부(2)는 공정을 따라 이동하는 대상물(T)이 투입되는 투입디버터(21)와, 투입디버터(21)가 이동하는 투입가이드(22) 및 투입디버터(21)를 이동시키는 투입구동부(23)가 마련된다. 또한, 대상물(T)의 수동공급을 위한 수동투입부(24)가 투입디버터(21)와 함께 마련된다. Figure 2 is a perspective view showing the inlet of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention. As shown in the drawing, the input unit 2 is an input diverter 21 into which the object T moving along the process is inputted, an input guide 22 to which the input diverter 21 is moved, and an input di An input driving unit 23 for moving the butter 21 is provided. In addition, a manual input part 24 for the manual supply of the object T is provided together with the input diverter 21.

투입디버터(21)는 투입되는 대상물(T)이 안착할 수 있도록 이송롤러부(213)가 마련되며, 후술할 투입로봇(3)에 설치된 그리퍼부(31)의 지지대(312)와의 간섭이 방지되도록 가이드 홈(214)이 형성되어 있다. 또한, 대상물(T)(T)의 안착위치를 안내하는 지지돌부(215) 및 스토퍼(216)가 설치된다. Feeding diverter 21 is provided with a feed roller unit 213 so that the object (T) to be injected is provided, the interference with the support 312 of the gripper unit 31 installed in the feeding robot 3 to be described later Guide grooves 214 are formed to be prevented. In addition, the support protrusion 215 and the stopper 216 for guiding the seating position of the object T (T) are provided.

또한, 투입디버터(21)는 이송롤러부(213)가 투입가이드(22) 상에서 이동이 가능하도록 투입가이드(22)와 결합되는 이송가이드(211) 및, 이송롤러부(213)가 이송가이드(211)상에서 회전가능하도록 설치되는 회전구동부(212)가 마련된다. 즉, 투입디버터(22)로 투입되는 대상물(T)은 세개의 컨베이어 벨트를 타고 투입이 되며, 투입가이드(22)를 따라 투입디버터(21)는 세개의 컨베이어벨트와 대응되는 위치로 이동하게 되어 대상물(T)이 투입디버터(21)로 투입이 된다. In addition, the feed diverter 21 is a feed guide 211 coupled with the feed guide 22 so that the feed roller 213 is movable on the feed guide 22, and the feed roller 213 is a feed guide A rotation driving unit 212 is installed to be rotatable on the 211. That is, the object T introduced into the input diverter 22 is loaded on three conveyor belts, and the input diverter 21 moves to a position corresponding to the three conveyor belts along the input guide 22. The object T is introduced into the input diverter 21.

한편, 수동투입부(24)는 대상물(T)이 안착할 수 있도록 거치대(241)가 마련되며, 거치대(241)의 일단에는 대상물(T)이 수동투입부(24)에 안착되었는지를 판단하는 투입감지부(242)가 마련된다. 투입감지부(241)는 일반적인 감지센서로 마련된다. 따라서, 경우에 따라 투입디버터(21) 또는 수동투입부(24)에 선택적으로 대상물(T)이 안착되어 챔버(1)내로 투입을 대기하게 된다.On the other hand, the manual input portion 24 is provided with a cradle 241 so that the object (T) is seated, the end of the cradle 241 to determine whether the object (T) is seated on the manual input portion (24) An input detecting unit 242 is provided. The input detection unit 241 is provided with a general detection sensor. Therefore, in some cases, the object T is selectively seated in the input diverter 21 or the manual input part 24 to wait for input into the chamber 1.

다음으로, 투입로봇(3) 및 배출로봇(7)에 대하여 설명한다. 투입로봇(3)과 배출로봇(7)은 동일한 구성으로 투입로봇(3)에 대해서만 설명하도록 한다. Next, the input robot 3 and the discharge robot 7 will be described. The input robot 3 and the discharge robot 7 will be described only with respect to the input robot 3 in the same configuration.

도 3은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 투입로봇을 나타낸 사시도이다. 도면에 도시된 바와 같이, 투입로봇(3)은 그리퍼부(31)가 설치되는 그리퍼가이드(32)와, 그리퍼가이드(32)를 3축방향으로 이동시키는 구동부(33)로 구성된다. 구동부(33)는 3축방향의 이동이 가능하도록 x축 가이드(331), y축 가이드(332), z축 가이드(333)와, 각각의 가이드를 따라 그리퍼부(31)이 이동할 수 있도록 구동시켜주는 x축 구동부(334), y축 구동부(335), z축 구동부(336)를 구비한다. 그리퍼부(31)는 그리퍼가이드(32)에 마련되며, 대상물(T)을 파지하는 집게부(311)와, 대상물(T)의 하부영역을 지지하는 지지대(312)와, 집게부(311)와 지지대(312)를 회전시키는 그리퍼회전부(313)로 마련된다. Figure 3 is a perspective view showing the robot of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention. As shown in the figure, the input robot 3 is composed of a gripper guide 32, the gripper portion 31 is installed, and a drive unit 33 for moving the gripper guide 32 in three axes. The driving unit 33 drives the x-axis guide 331, the y-axis guide 332, the z-axis guide 333, and the gripper unit 31 to move along the respective guides so as to allow movement in three axes. The x-axis driver 334, the y-axis driver 335, and the z-axis driver 336 are provided. The gripper part 31 is provided in the gripper guide 32, and includes a tong part 311 for holding the object T, a support 312 for supporting a lower region of the object T, and a tong part 311. And a gripper rotating part 313 for rotating the support 312.

버퍼부(4)는 챔버(1)의 출구측에 마련되어 챔버(1)에서 가열, 건조된 대상물(T)이 소정시간동안 자연냉각된다. 버퍼부(4)에는 다수의 대상물(T)이 배치될 수 있는 배치부(41)가 마련되어 배출로봇(7)이 챔버(1)로부터 배출된 대상물(T)을 버퍼부(4)에 배치시킨다. The buffer unit 4 is provided at the outlet side of the chamber 1 so that the object T heated and dried in the chamber 1 is naturally cooled for a predetermined time. The buffer unit 4 is provided with a placement unit 41 in which a plurality of objects T can be disposed so that the discharge robot 7 places the objects T discharged from the chamber 1 in the buffer unit 4. .

도 4는 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크장치의 플라즈마부를 나타낸 사시도이다. 도면에 도시된 바와 같이, 플라즈마부(5)는 버퍼부(4)의 상측과 챔버(1)의 상측에 걸쳐 마련된다. 플라즈마부(5)가 버퍼부(4)의 상측과 챔버(1)의 상측에 마련됨으로써 공간의 활용도를 높일 수 있다. 플라즈마부(5)는 버퍼부(4)로부터 배출로봇(7)에 의해 공급받는 대상물(T)이 투입되는 투입포트(51)와, 대상물(T)이 플라즈마처리되는 처리실(52)과, 플라즈마처리된 대상물(T)을 이송시키는 전달디버터(53)와, 대상물(T)을 투입포트(51)로부터 처리실(52)로, 또는 처리실(52)에서 전달디버터(53)로 이동시키는 트랜스퍼(54) 및 전달디버터(53)에 의해 공급받은 대상물(T)을 배출시키는 배출라인(6, 8)으로 구성된다. 4 is a perspective view showing the plasma portion of the in-line baking apparatus having a plasma portion according to the present invention. As shown in the figure, the plasma portion 5 is provided over the upper side of the buffer portion 4 and the upper side of the chamber 1. Plasma portion 5 is provided above the buffer portion 4 and above the chamber 1 can increase the utilization of the space. The plasma unit 5 includes an input port 51 into which an object T supplied from the buffer unit 4 is supplied by the discharge robot 7, a processing chamber 52 in which the object T is plasma-processed, and a plasma A transfer diverter 53 for transferring the processed object T, and a transfer for moving the object T from the input port 51 to the processing chamber 52 or from the processing chamber 52 to the transfer diverter 53. 54 and discharge lines 6 and 8 for discharging the object T supplied by the transfer diverter 53.

투입포트(51)는 배출로봇(7)에 의해 버퍼부(4)로부터 대상물(T)이 이동되어 처리실(52)로 투입을 대기하도록, 대상물(T)이 안착되며 회전가능하도록 설치되는 베이스(511)와, 대상물(T)을 가이드하는 정렬돌기(512)가 베이스(51)의 각 모서리에 마련된다. 처리실(52)에서는 대상물(T)이 플라즈마처리가 되도록 플라즈마발생기(미도시)가 마련된다. 처리실(52)은 처리챔버(521)와 처리챔버(521)을 개폐하는 개폐도어(522)로 구성된다. 개폐도어(522)는 처리챔버(521)를 개폐할 수 있도록 이동가능하게 설치된다. The input port 51 is a base on which the object T is seated and rotatable so that the object T is moved from the buffer part 4 by the discharge robot 7 and waits for input into the processing chamber 52. 511 and alignment protrusions 512 for guiding the object T are provided at each corner of the base 51. In the processing chamber 52, a plasma generator (not shown) is provided so that the object T is subjected to plasma processing. The process chamber 52 is comprised by the process chamber 521 and the opening / closing door 522 which opens and closes the process chamber 521. The opening / closing door 522 is installed to be movable to open and close the processing chamber 521.

또한, 전달디버터(53)는 처리실(52)에서 플라즈마 처리된 대상물(T)을 공급받아 이송시키도록 투입디버터(21)와 동일한 구성으로 마련된다. 즉, 전달디버터(53)는 처리실(52)로부터 플라즈마 처리가 완료된 대상물(T)을 전달받아 배출라인(6)으로 대상물(T)을 전달하도록 리니어가이드등을 통해 이동하게 된다. In addition, the transfer diverter 53 is provided in the same configuration as the input diverter 21 to receive and transfer the object T processed by the plasma from the processing chamber 52. That is, the delivery diver 53 receives the object T, which has been processed by the plasma from the processing chamber 52, and moves through the linear guide to deliver the object T to the discharge line 6.

한편, 대상물(T)을 처리실(52), 전달디버터(53)로 각각 이동시키는 트랜스퍼(54)는 대상물(T)을 파지하는 보조그리퍼(541)와, 보조그리퍼(541)를 각각의 위치로 이동시키는 보조그리퍼 이송부(542)가 마련되어 있다. 또한, 트랜스퍼(54)는 보조그리퍼(541)를 상하로 이동시키는 승강부(543)를 함께 구비하고 있다. On the other hand, the transfer 54 which moves the object T to the process chamber 52 and the transfer diverter 53, respectively, has the auxiliary gripper 541 holding the object T, and the auxiliary gripper 541 at each position. An auxiliary gripper transfer section 542 is provided to move the rollers. Moreover, the transfer 54 is provided with the lifting part 543 which moves the auxiliary gripper 541 up and down.

배출라인(6, 8)은 대상물(T)를 외부로 배출하는 것으로 자동배출롤러부(6)와 수동배출롤러부(8)로 나뉘어 진다. 자동배출롤러부(6)는 컨베이어로 구성되어 플라즈마 처리된 대상물(T)을 외부로 배출한다. 자동배출롤러부(6)는 공간의 효율성을 높히기 위하여 전달디버터(53)의 이동방향과는 직교하는 형태로 배치되어 있다. 또한, 자동배출롤러부(6)의 단부영역에는 배출로봇(7)의 지지대가 삽입될 수 있는 파지홈(61)이 형성되어 있다. The discharge lines 6 and 8 are divided into the automatic discharge roller unit 6 and the manual discharge roller unit 8 to discharge the object (T) to the outside. The automatic discharge roller unit 6 is composed of a conveyor to discharge the object (T) subjected to plasma treatment to the outside. The automatic discharge roller unit 6 is disposed in a form orthogonal to the moving direction of the transfer diverter 53 in order to increase space efficiency. In addition, a holding groove 61 into which the support of the discharge robot 7 can be inserted is formed in the end region of the automatic discharge roller part 6.

한편, 공정의 상황에 따라 대상물(T)을 자동배출롤러부(6)가 아닌 수동으로 배출시킬 경우가 발생된다. 도 5는 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 수동배출롤러부를 도시한 사시도이며, 도면에 도시된 바와 같이, 수동배출을 위하여 버퍼부(4)의 일측에 수동배출롤러부(8)가 마련된다. 수동배출롤러부(8)는 자동배출롤러부(6)와 동일한 구성으로 마련된다. 다만, 파지홈(81)이 배출구와 먼 곳에 마련되어 배출로봇(7)이 파지홈(81)이 형성된 위치에 대상물(T)을 안착시킨다. On the other hand, according to the situation of the process, the case of discharging the object (T) manually rather than the automatic discharge roller (6) occurs. FIG. 5 is a perspective view illustrating a manual discharge roller unit of an inline type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention. As shown in the drawing, the manual discharge roller unit 8 is disposed on one side of the buffer unit 4 for manual discharge. ) Is provided. The manual discharge roller portion 8 is provided in the same configuration as the automatic discharge roller portion 6. However, the gripping groove 81 is provided far from the outlet to discharge the robot 7 seats the object (T) at the position where the gripping groove 81 is formed.

지금부터는 상술한 플라즈마부를 구비한 인라인타입의 베이크장치의 작동에 대하여 설명한다.The operation of the in-line baking apparatus having the above-described plasma portion will now be described.

도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치에서 투입부의 작동을 나타낸 작동도. 도면에 도시된 바와 같이, 먼저, 대상물(T)이 투입디버터(21)로 이동된다. 대상물(T)은 기판들이 매거진에 설치된 상태로 이동되며, 세 개의 컨베이어벨트를 따라 이전공정으로부터 이송이 된다. 이때, 투입디버터(21)는 투입가이드(22)를 따라 각각의 컨베이어벨트에 대응되는 위치로 이동이 되어 대상물(T)을 받게 된다. 투입디버터(21)로 이동된 대상물(T)은 이송롤러부(213)에 의해 투입디버터(21)에 안착이 된다. 이때, 이송롤러부(213)가 구동이 되면 대상물(T)이 투입디버터(21)에서 지지돌부(215)의 안내를 받아 이동되어 스토퍼(216)에 의해 정해진 위치까지 이동이 완료된다. 다음으로, 대상물(T)이 안착된 투입디버터(21)는 회전구동부(212)에 의해 90도 회전하게 되어 투입로봇(3)이 용이하게 파지할 수 있도록 위치하게 된다. 6 and 7 is an operation diagram showing the operation of the input unit in the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention. As shown in the figure, first, the object T is moved to the input diverter 21. The object (T) is moved with the substrates installed in the magazine, and is transferred from the previous process along three conveyor belts. At this time, the input diverter 21 is moved to a position corresponding to each conveyor belt along the input guide 22 to receive the object (T). The object T moved to the input diverter 21 is seated on the input diverter 21 by the feed roller 213. At this time, when the feed roller unit 213 is driven, the object T is moved under the guidance of the support protrusion 215 in the input diverter 21 and the movement is completed to the position determined by the stopper 216. Next, the input diverter 21 on which the object T is seated is rotated by 90 degrees by the rotation driving unit 212 so that the input robot 3 can be easily gripped.

이어, 투입로봇(3)이 해당 대상물(T)을 파지하게 되는데, 이때, 투입디버터(21)의 가이드홈(214)에 투입로봇(3)의 지지대(312)가 위치하게 되며, 집게부(311)를 이용하여 대상물(T)을 파지하고, 지지대(312)가 대상물(T)의 아래쪽을 지지하여 안정적으로 대상물(T)을 파지하게 된다. 이어, 파지된 대상물(T)은 챔버(1)내부로 투입되고, 챔버(1) 내부에서 가열, 건조가 이루어진다. Subsequently, the input robot 3 grips the target T. At this time, the support 312 of the input robot 3 is positioned in the guide groove 214 of the input diverter 21, and the tong part The object T is gripped using the 311, and the support 312 supports the lower side of the object T to stably hold the object T. Subsequently, the gripped object T is introduced into the chamber 1 and heated and dried inside the chamber 1.

한편, 공정상황에 따라 대상물(T)을 수동으로 투입하게 되는 경우가 있다. 도 8은 수동투입부의 작동을 나타낸 작동도이다. 도면에 도시된 바와 같이, 작업자가 대상물(T)을 수동투입부(24)에 대상물을 안착시킨다. 이때에는 수동투입부(24)에 마련된 투입감지부(242)가 대상물(T)의 안착상태를 감지하여 투입로봇(3)을 작동시키게 된다. 즉, 수동투입부(24)에 대상물(T)이 안착될 경우 투입로봇(3)이 투입감지부(242)로부터 신호를 받아 대상물(T)을 수동투입부(24)로부터 파지하여 챔버(1)내로 투입시킨다. On the other hand, depending on the process situation, the object (T) may be manually added. 8 is an operation diagram showing the operation of the manual feed unit. As shown in the figure, a worker seats the object T on the manual input part 24. At this time, the input detection unit 242 provided in the manual input unit 24 detects the seating state of the object (T) to operate the input robot (3). That is, when the object T is seated on the manual input part 24, the input robot 3 receives a signal from the input detecting part 242 and grips the object T from the manual input part 24 to provide the chamber 1. In).

이어, 가열, 건조가 완료된 대상물(T)은 챔버(1)의 배출구 측에서 배출로봇(7)에 의해 파지되어 버퍼부(4)로 이동하게 된다. 대상물(T)의 자연냉각을 위하여 소정시간동안 대상물(T)은 버퍼부(4)에 머물게 된다. Subsequently, the object T, which has been heated and dried, is gripped by the discharge robot 7 at the discharge port side of the chamber 1 and moved to the buffer unit 4. In order to naturally cool the object T, the object T stays in the buffer unit for a predetermined time.

도 9 및 도 10은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 플라즈마부의 작동을 나타낸 작동도이다. 도면에 도시된 바와 같이, 자연냉각이 완료된 대상물(T)은 배출로봇(8)에 의해 버퍼부(4)로부터 플라즈마부(5)의 투입포트(51)로 이동하게 된다. 투입포트(51)에서 대기중인 대상물(T)은 트랜스퍼(54)에 의해 처리실(52)로 이동하게 된다. 즉, 개폐도어(522)가 개방된 상태에서 대상물(T)이 이동되어 오면, 개폐도어(522)가 이동하여 처리챔버(521)를 폐쇄시킨 상태에서 대상물(T)의 플라즈마처리가 이루어진다. 플라즈마처리가 완료된 대상물(T)은 다시 트랜스퍼(54)에 의해 전달디버터(53)으로 이동한다. 전달디버터(53)상에 대상물(T)이 안착되면 전달디버터(53)은 자동배출롤러부(6)측으로 이동하게 되어, 대상물(T)을 자동배출롤러부(6)으로 전달하게 된다. 이어, 자동배출롤러부(6)는 대상물(T)을 배출시키게 된다. 9 and 10 are operation diagrams showing the operation of the plasma unit of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention. As shown in the figure, the object T, which has been naturally cooled, is moved from the buffer part 4 to the input port 51 of the plasma part 5 by the discharge robot 8. The object T waiting in the input port 51 is moved to the processing chamber 52 by the transfer 54. That is, when the object T is moved while the opening / closing door 522 is opened, the plasma processing of the object T is performed while the opening / closing door 522 is moved to close the processing chamber 521. The object T after the plasma treatment is completed is transferred to the transfer diverter 53 by the transfer 54. When the object T is seated on the transfer diverter 53, the transfer diverter 53 moves to the automatic discharge roller unit 6, thereby transferring the object T to the automatic discharge roller unit 6. . Subsequently, the automatic discharge roller unit 6 discharges the object T.

한편, 공정의 상황에 따라, 대상물(T)을 수동으로 배출시킬 필요가 있다. 도 11은 본 발명에 따른 플라즈마부를 구비한 인라인 타입 베이크 장치의 배출라인 및 수동배출롤러부의 작동을 나타낸 작동도이다. 대상물(T)을 수동배출시에는 대상물(T)이 자동배출롤러부(6)의 파지홈(61)의 위치에 있을 때, 배출로봇(7)이 다시 대상물(T)을 집어서 수동배출롤러부(8)로 이동시킬 수도 있다. 이때, 자동배출롤ㄹ러부(6) 및 수동배출롤러부(8)에 형성된 파지홈(61, 81)에 의해 배출로봇(7)의 지지대(712)와의 간섭이 방지될 수 있다. On the other hand, it is necessary to discharge the object T manually according to the process situation. 11 is an operation diagram showing the operation of the discharge line and the manual discharge roller unit of the in-line type baking apparatus having a plasma unit according to the present invention. When manually discharging the object T, when the object T is in the position of the gripping groove 61 of the automatic discharge roller part 6, the discharge robot 7 picks up the object T again and manually discharges the roller. You may move to the part 8. At this time, interference with the support 712 of the discharge robot 7 may be prevented by the holding grooves 61 and 81 formed in the automatic discharge roller part 6 and the manual discharge roller part 8.

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be embodied in various forms of embodiments within the scope of the appended claims. Without departing from the gist of the invention claimed in the claims, it is intended that any person skilled in the art to which the present invention pertains falls within the scope of the claims described in the present invention to various extents which can be modified.

1: 챔버 2: 투입부
3: 투입로봇 4: 버퍼부
5: 플라즈마부 6: 자동배출롤러부
7: 배출로봇 8: 수동배출롤러부
21: 투입디버터 22: 투입가이드
23: 투입구동부 24: 수동투입부
31: 그리퍼부 32: 그리퍼가이드
33: 구동부 41: 배치부
51: 투입포트 52: 처리실
53: 배출디버터 54: 트랜스퍼
61, 81: 파지홈1: chamber 2: inlet
3: input robot 4: buffer part
5: plasma part 6: automatic discharge roller part
7: Discharge Robot 8: Manual Discharge Roller
21: Input diverter 22: Input guide
23: input drive 24: manual input
31: Gripper part 32: Gripper guide
33: drive portion 41: arrangement portion
51: input port 52: processing chamber
53: discharge diverter 54: transfer
61, 81: gripping groove

Claims (9)

소정 온도 하에서 대상물을 건조시키는 베이크 장치에 있어서,
입구와 출구에 각각 배치되어 상기 입구와 상기 출구를 개폐하는 개폐도어와, 내부를 가열하는 히터와, 상기 히터에 의해 가열된 공기를 순환시키는 팬모터와, 상기 입구로 투입된 상기 대상물을 상기 출구 측으로 이동시키는 적어도 하나의 이동장치를 포함하여 구성되는 챔버;
상기 챔버의 입구 측에 배치되되, 공급되는 상기 대상물이 투입되어 안착되는 투입부;
상기 투입부에 안착된 대상물을 집어 상기 챔버의 입구에 투입하는 투입로봇;
상기 챔버의 일측에 배치되어 상기 챔버의 출구에서 배출된 대상물을 소정 시간동안 보관하는 버퍼부;
상기 버퍼부에 보관된 대상물을 플라즈마 처리하도록 상기 챔버의 상측에 마련되는 플라즈마부;
상기 챔버에서 대상물을 집어 상기 버퍼부로 이동시키고, 상기 버퍼부로부터 상기 플라즈마부로 대상물을 이동시키는 배출로봇;
상기 플라즈마부를 통해 플라즈마 처리된 대상물을 배출하는 배출라인;을 포함하며,
상기 플라즈마부는 상기 배출로봇에 의해 상기 버퍼부로부터 이동되는 대상물이 안착되는 투입포트와, 상기 대상물을 플라즈마 처리하는 처리실과, 상기 처리실에서 플라즈마 처리된 대상물이 안착되는 전달디버터와, 상기 투입포트에 안착된 대상물을 집는 보조그리퍼에 의해 상기 대상물을 상기 처리실과 상기 전달디버터로 이동시키는 트랜스퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치.In the baking apparatus which dries an object under predetermined temperature,
An opening and closing door disposed at each of the inlet and the outlet to open and close the inlet and the outlet, a heater to heat the inside, a fan motor to circulate the air heated by the heater, and the object introduced to the inlet to the outlet side. A chamber comprising at least one moving device for moving;
An input unit disposed at an inlet side of the chamber and configured to receive and supply the object to be supplied;
An input robot that picks up an object seated on the input unit and inputs it to an inlet of the chamber;
A buffer unit disposed at one side of the chamber to store an object discharged from the outlet of the chamber for a predetermined time;
A plasma unit provided above the chamber to plasma-process an object stored in the buffer unit;
A discharge robot which picks up an object in the chamber and moves the object to the buffer unit and moves the object from the buffer unit to the plasma unit;
And a discharge line for discharging the object subjected to the plasma treatment through the plasma unit.
The plasma unit includes an input port in which an object moved from the buffer unit is seated by the discharge robot, a processing chamber in which the object is plasma processed, a transfer diverter in which the object plasma-processed in the processing chamber is seated, and an input port. And a transfer unit for moving the object to the processing chamber and the transfer diverter by an auxiliary gripper for picking up the seated object. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 투입포트는 상기 대상물이 정위치에 안착되도록 돌출 형성되는 정렬돌기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치.The method of claim 1,
The inlet port of the in-line type baking device having a plasma portion, characterized in that it further comprises an alignment protrusion protruding so that the object is seated in the correct position. 제3항에 있어서,
상기 배출라인은 상기 플라즈마 처리된 대상물을 배출하는 자동배출롤러부와, 상기 자동배출롤러부에서 배출되는 대상물 중 일부가 상기 배출로봇에 의해 이동되어 배출되는 수동배출롤러부를 포함하되,
상기 배출로봇은 상기 자동배출롤러부를 통해 이동되는 대상물을 집어 상기 수동배출롤러부로 이동시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치.The method of claim 3,
The discharge line includes an automatic discharge roller unit for discharging the plasma-treated object, and a manual discharge roller unit in which some of the objects discharged from the automatic discharge roller unit are moved by the discharge robot and discharged.
The discharge robot is an in-line baking device having a plasma unit, characterized in that for picking up the object to be moved through the automatic discharge roller unit to move to the manual discharge roller unit. 제4항에 있어서,
상기 자동배출롤러부와 상기 수동배출롤러부는 양측 일측 영역에 함몰된 가이드홈이 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치.5. The method of claim 4,
The automatic discharge roller unit and the manual discharge roller unit is an in-line type baking device having a plasma unit, characterized in that formed in the guide grooves recessed in one side area on both sides. 제1항 또는 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투입부는 공급되는 상기 대상물이 안착되는 투입디버터와, 상기 투입디버터의 이동경로를 형성하는 투입가이드와, 상기 투입가이드를 따라 상기 투입디버터를 이동시키는 투입구동부를 포함하며,
상기 투입디버터는 안착된 상기 대상물이 이동되는 이송롤러부와, 인가된 전원에 의해 상기 이송롤러부를 동작시키는 롤러구동부와, 인가된 전원에 의해 상기 이송롤러부 또는 상기 롤러구동부를 회전시키는 제1회전구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치.The method according to any one of claims 1 or 3 to 5,
The input unit includes an input diverter on which the object to be supplied is seated, an input guide to form a movement path of the input diverter, and an input driver to move the input diverter along the input guide.
The feeding diverter may include a conveying roller unit for moving the seated object, a roller driving unit for operating the conveying roller unit by an applied power, and a first rotating roller of the conveying roller unit or the roller driving unit by an applied power source. In-line baking device having a plasma portion, characterized in that it comprises a rotary drive. 제6항에 있어서,
상기 이송롤러부는
양측 가장자리에 돌출 형성되는 지지돌부와, 상기 대상물의 이동 방향 일측 끝단부에 돌출 형성되는 스토퍼 중 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치.The method according to claim 6,
The feed roller unit
And at least one of a support protrusion protruding from both edges and a stopper protruding from one end of the moving direction of the object. 제6항에 있어서,
상기 투입로봇과 상기 배출로봇은 상기 대상물의 양측면을 집도록 하는 그리퍼가 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치.The method according to claim 6,
The input robot and the discharge robot is in-line type baking device having a plasma unit, characterized in that the gripper is formed to pick up both sides of the object. 제8항에 있어서,
상기 그리퍼는 상기 대상물의 하면을 지지하도록 하는 지지대가 돌출 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마부를 구비한 인라인 타입의 베이크 장치.9. The method of claim 8,
The gripper is an in-line type baking device having a plasma portion, characterized in that the support for protruding the lower surface of the object is formed.
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