KR101310096B1 - 기판용 지지 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치가 개시된다. 상기 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 탑재되는 기판의 사이즈에 대응하여 스테이지의 간격을 가변할 수 있다. 그러면, 하나의 스테이지에 다양한 사이즈의 기판을 탑재 지지할 수 있으므로, 생산성이 향상되고, 사용이 편리한 효과가 있다.

Description

기판용 지지 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치 {UNIT FOR SUPPORTING SUBSTRATE AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE USING THE SAME}
본 발명은 다양한 사이즈의 기판을 각각 지지 및 처리할 수 있는 기판용 지지 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.
평판 디스플레이는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), LED(Light-Emitting Diode) 디스플레이, OLED(Organic Light-Emitting Diode) 디스플레이 등으로 대별된다.
평판 디스플레이 중, LCD는 소비전력이 적고, 무게가 가벼운 장점이 있어, 많이 사용되고 있다.
LCD는 어레이 기판, 대향 기판 및 액정층 등으로 구성된다. 그리고, 어레이 기판에는 매트릭스 형상으로 배열되는 복수의 화소 전극, 화소 전극의 행을 따라 배치되는 복수의 주사선, 화소 전극의 열을 따라 배치되는 복수의 전기적 신호선이 형성된다.
LCD의 어레이 기판의 제조 시에는 신호선의 중첩 등과 결함이 발생할 수 있는데, 결함이 발생하면 정확한 화상을 구현할 수 없다. 그러면, 중첩된 신호선을 절단하여 상호 중첩되지 않도록 하는 공정이 필요한데, 이러한 공정을 "리페어 공정"이라 한다.
기판을 리페어 하기 위한 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 지지 유닛을 구비한다.
그러나, 종래의 기판 처리 장치는 지지 유닛의 크기와 대응되는 사이즈의 기판만을 지지할 수 있다. 이로인해, 다른 사이즈의 기판을 리페어 하기 위해서는, 조립된 지지 유닛을 분해한 다음, 다른 사이즈의 기판과 대응되는 크기의 다른 지지 유닛을 조립하여야 한다. 그러므로, 생산성이 저하되는 단점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 하나의 지지 유닛에 다양한 사이즈의 기판을 지지할 수 있도록 구성하여, 생산성을 향상시킬 수 있는 기판용 지지 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판용 지지 유닛은, 기판이 탑재 지지되는 장방형(長方形)의 스테이지; 상기 스테이지의 어느 하나의 장변(張邊)측에 고정 설치되어 상기 기판의 어느 하나의 장변을 지지하는 제 1 지지부; 상기 스테이지의 어느 하나의 단변(短邊)측에 고정 설치되어 상기 기판의 어느 하나의 단변을 지지하는 제 2 지지부; 상기 제 1 지지부와 대향하는 상기 스테이지의 다른 하나의 장변(張邊)측에 직선운동가능하게 설치되어 상기 기판의 다른 하나의 장변을 지지하는 제 3 지지부; 상기 제 2 지지부와 대향하는 상기 스테이지의 다른 하나의 단변(短邊)측에 직선운동가능하게 설치되어 상기 기판의 다른 하나의 단변을 지지하는 제 4 지지부를 포함한다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 테이블; 상기 테이블에 X축 방향 및 Y축 방향으로 이송가능하게 설치되고, 기판이 탑재 지지되며, 상호 상이한 사이즈의 기판을 지지할 수 있도록 가변되는 지지 유닛; 상기 테이블에 설치되며 상기 지지 유닛에 지지된 기판을 처리하는 가공부를 포함한다.
본 발명에 따른 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치는, 탑재되는 기판의 사이즈에 대응하여 스테이지의 간격을 가변할 수 있다. 그러면, 하나의 스테이지에 다양한 사이즈의 기판을 탑재 지지할 수 있으므로, 생산성이 향상되고, 사용이 편리한 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 지지 유닛의 사시도.
도 3은 도 2의 일부 분해 사시도.
도 4a 내지 도 4c는 도 2에 도시된 지지 유닛의 동작을 보인 사시도.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분히 상세하게 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치를 상세히 설명한다.
본 실시예를 설명함에 있어서, 기판의 처리라 함은 기판을 리페어 하는 공정, 기판을 가열 및 냉각하는 공정, 기판에 소정의 막을 증착하기 위한 공정, 기판에 증착된 소정의 막을 어닐링, 결정화 또는 상변화하는 모든 처리 공정 등을 포함하는 개념으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도로서, 이를 설명한다.
도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 테이블(110), 테이블(110)의 상면에 설치되어 기판(50)을 지지하는 지지 유닛(200), 테이블(110)의 상면에 설치되며 지지 유닛(200)에 지지된 기판(50)을 처리하는 가공부(120)를 포함한다.
기판 처리 장치가 기판(50)의 리페어 장치일 경우, 가공부(120)는 처리하고자 하는 기판(50)의 부위를 진공으로 만들기 위한 챔버와 광원 등으로 구성된다.
지지 유닛(200)은 테이블(110) 상에서 X축 방향 및 Y축 방향으로 이송가능하게 설치되며, 상호 상이한 사이즈의 기판(50)을 지지할 수 있도록 가변된다. 이는 후술한다.
가공부(120)는 크로스 빔(130)에 지지되며 지지 유닛(200)에 기판(50)이 탑재되어 이송되면, 전술한 바와 같이, 리페어, 가열 및 냉각, 막 증착, 막의 어닐링, 막의 결정화 또는 막의 상변화 등과 같은 다양한 처리를 한다.
기판(50)은 로봇암(미도시)에 지지되어, 지지 유닛(200)에 탑재된다. 그리고, 기판(50)은 지지 유닛(200)에 탑재 지지되어 X축 방향 및 Y축 방향으로 이송되며, 이송되는 기판(50)은 가공부(120)에 의하여 처리된다. 처리가 완료된 기판(50)은 상기 로봇암에 의하여 테이블(110)의 외측으로 배출된다.
본 실시예에 따른 기판 처리 장치의 지지 유닛(200)은 상호 상이한 사이즈의 기판(50)을 지지할 수 있도록 가변되는데, 이를 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명한다. 도 2는 도 1에 도시된 지지 유닛의 사시도이고, 도 3은 도 2의 일부 분해 사시도이다.
도시된 바와 같이, 지지 유닛(200)은 상면이 개방된 장방형(長方形)의 함체(210)를 가진다. 함체(210)는 장방형의 받침판(211), 받침판(211)의 측면에서 상측으로 각각 연장 형성된 4개의 측판(213), 측판(213)의 상면에서 내측으로 연장 형성된 2개의 덮개판(215a, 215b)을 가진다.
어느 하나의 덮개판(215a)은 받침판(211)의 어느 하나의 장변(張邊)측과 대향하고, 다른 하나의 덮개판(215b)은 받침판(211)의 어느 하나의 단변(短邊)측과 대향한다. 따라서, 덮개판(215a)과 덮개판(215b)의 일측은 상호 접하면서 대략 "ㄴ" 형상을 이룬다.
기판(50)이 탑재 지지되는 스테이지(220)는 함체(210)에 지지되어 덮개판(215a, 215b)의 내측에 위치된다. 그리고, 함체(210)에는 다양한 사이즈의 기판(50)을 스테이지(220)에 탑재시켜 지지할 수 있도록 제 1 내지 제 4 지지부(230~260)가 설치된다.
스테이지(220)에 탑재된 기판(50)은 스테이지(220)에 흡착되어 지지된다. 이를 위하여, 스테이지(220)에는 공기를 흡입하기 위한 복수의 흡입공(221)이 형성된다.
제 1 지지부(230)는 받침판(211)에 고정되며, 대략 덮개판(215a)의 하측에 위치된다. 즉, 제 1 지지부(230)는 스테이지(220)의 어느 하나의 장변(張邊) 외측에 위치되어, 기판(50)의 어느 하나의 장변을 지지한다.
제 1 지지부(230)는 받침판(211)에 고정된 지지레일(231), 지지레일(231)에 결합되며 기판(50)의 장변 측면과 접촉하여 기판(50)을 지지하는 복수의 지지패드(233)를 가진다.
제 2 지지부(240)는 받침판(211)에 고정되며, 대략 덮개판(215b)의 하측에 위치된다. 즉, 제 2 지지부(240)는 스테이지(220)의 어느 하나의 단변(短邊) 외측에 위치되어, 기판(50)의 어느 하나의 단변을 지지한다.
제 2 지지부(240)도 받침판(211)에 고정된 지지레일(241)과 지지레일(241)에 결합되며 기판(50)의 단변 측면과 접촉하여 기판(50)을 지지하는 복수의 지지패드(243)를 가진다.
제 1 및 제 2 지지부(230, 240)는 덮개판(215a, 215b)에 의하여 각각 대략 덮혀서 보호되는 형태이며, 제 1 지지부 (230)와 제 2 지지부(240)의 구성은 동일하다. 다만, 지지레일(231)의 길이와 지지레일(241)의 길이에 차이가 있고, 지지패드(233)의 개수와 지지패드(243)의 개수에 차이가 있다.
지지패드(233, 243)는 받침판(211)에 설치된 실린더(미도시)에 의하여 승강가능하게 설치되는데, 지지패드(233, 243)의 작용에 대해서는 후술한다.
제 3 지지부(250)는 제 1 지지부(230)와 대향되게 받침판(211)에 설치된다. 제 3 지지부(250)는 스테이지(220)의 다른 하나의 장변 외측에 위치되어 직선운동가능하게 설치된다. 그리하여, 제 3 지지부(250)는 제 1 지지부(230)와 가까워지고 멀어지는 형태로 운동하면서 기판(50)의 다른 하나의 장변을 지지한다.
제 3 지지부(250)는 받침판(211)에 직선운동가능하게 설치된 가동블록(251), 가동블록(251)에 결합되어 가동블록(251)과 함께 운동하는 지지브라켓(253), 지지브라켓(253)에 결합되어 지지브라켓(253)과 함께 운동함과 동시에 지지브라켓(253)과 독립적으로 회전가능하게 설치된 복수의 지지롤러(255)를 가진다. 지지롤러(255)는 기판(50)의 측면과 접촉하여 기판(50)을 지지한다.
제 4 지지부(260)는 제 2 지지부(240)와 대향되게 받침판(211)에 설치된다. 제 4 지지부(260)는 스테이지(220)의 다른 하나의 단변 외측에 위치되어 직선운동가능하게 설치된다. 그리하여, 제 4 지지부(260)는 제 2 지지부(240)와 가까워지고 멀어지는 형태로 운동하면서 기판(50)의 다른 하나의 단변을 지지한다.
제 4 지지부(260)도, 제 3 지지부(250)와 동일하게, 가동블록(261), 지지브라켓(263) 및 복수의 지지롤러(265)를 가진다. 제 3 지지부 (250)와 제 4 지지부(260)의 구성은 동일하나, 지지브라켓(253)의 길이와 지지브라켓(263)의 길이에 차이가 있고, 지지롤러(255)의 개수와 지지롤러(265)의 개수에 차이가 있다.
가동블록(251, 261)은, 예를 들면, 받침판(211)에 설치된 실린더(미도시)에 의하여 직선운동한다. 가동블록(251,261)의 직선운동은, 모터와 벨트, 모터와 스크류의 조합 등을 이용할 수도 있다.
덮개판(215a, 215b)에는 직선운동하는 제 3 및 제 4 지지부(250, 260)의 가동블록(251, 261)이 각각 출입하는 출입로(215aa, 215bb)가 형성된다. 그리고, 스테이지(220)에는 홈형상의 안내로(223, 225)가 직교하는 형태로 각각 형성되어 제 3 및 제 4 지지부(250, 260)의 지지롤러(255, 265)의 직선운동을 각각 안내한다. 즉, 지지롤러(255, 265)는 안내로(223, 225)에 각각 삽입되어 안내로(223, 225)를 따라 직선왕복운동한다.
안내로(223, 225)에는 스테이지(220)에 탑재된 기판(50)을 상기 로봇암을 이용하여 스테이지(220)로부터 이격시키고자 할 때, 상기 로봇암이 삽입된다.
이때, 제 4 지지부(260)의 지지롤러(265)를 안내하는 안내로(225) 중, 제 1 지지부(230) 및 제 2 지지부(240)와 인접하는 안내로(225)의 단부(225a)측은 안내로(225)의 다른 부위 보다 깊이가 깊게 형성된다. 즉, 길이가 가장 긴 안내로(225)의 단부(225a) 측은 안내로(225)의 다른 부위 보다 깊게 형성된다. 이는, 손가락 또는 별도의 지그를 이용하여 수작업으로 기판(50)을 스테이지(220)로부터 이격시키기 위함이다.
지지롤러(255, 265)는 받침판(211)에 설치된 실린더(미도시)에 의하여 승강가능하게 설치되는데, 지지롤러(255, 265)의 작용에 대해서는 후술한다.
도 4a 내지 도 4c는 도 2에 도시된 지지 유닛의 동작을 보인 사시도로서, 이를 설명한다.
도 4a에 도시된 바와 같이, 지지패드(233, 243)와 지지롤러(255, 265)가 모두 상사점의 위치로 상승되어 있고, 제 3 및 제 4 지지부(250,260)가 스테이지(220)의 외측으로 후퇴한 상태를 최초의 상태라 가정한다.
최초의 상태에서, 상기 로봇암으로 기판(50)을 지지하여, 기판(50)을 스테이지(220)에 탑재 지지한다. 그러면, 도 4b에 도시된 바와 같이, 제 3 지지부(250)가 제 1 지지부(230)와 가까워지는 형태로 직선운동하면서 제 3 지지부(250)의 지지롤러(255)가 기판(50)의 장변 일측면과 접촉한다. 이후, 제 3 지지부(250)가 제 1 지지부(230)측으로 더 직선운동하면, 지지롤러(255)에 의하여 기판(50)이 제 1 지지부(230)측으로 이동되어, 기판(50)의 장변 타측면이 제 1 지지부(230)의 지지패드(233)와 접촉한다. 지지롤러(255)는 안내로(223)에 삽입되므로, 안정되게 직선운동한다.
기판(50)의 장변 타측면이 제 1 지지부(230)의 지지패드(233)와 접촉하면, 제 3 지지부(250)는 정지한다.
그 다음, 도 4c에 도시된 바와 같이, 제 4 지지부(260)가 제 2 지지부(240)와 가까워지는 형태로 직선운동하면서 제 4 지지부(260)의 지지롤러(265)가 기판(50)의 단변 일측면과 접촉한다. 이후, 제 4 지지부(260)가 제 2 지지부(240)측으로 더 직선운동하면, 지지롤러(265)에 의하여 기판(50)이 제 2 지지부(240)측으로 이동되어, 기판(50)의 단변 타측면이 제 2 지지부(240)의 지지패드(243)와 접촉한다. 지지롤러(265)는 안내로(225)에 삽입되므로, 안정되게 직선운동한다.
기판(50)의 단변 타측면이 제 2 지지부(240)의 지지패드(243)와 접촉하면, 제 4 지지부(260)는 정지한다.
그러면, 제 1 내지 제 4 지지부(230~260)에 의하여 기판(50)이 스테이지(220)의 정해진 위치에 정렬되는 것이다. 기판(50)이 스테이지(220)에 정렬되면, 스테이지(220)의 흡입공(221)으로 공기를 흡입하여, 기판(50)을 스테이지(220)에 밀착 지지한다.
이후, 제 3 및 제 4 지지부(250, 2600)는 스테이지(220)의 외측으로 후퇴하고, 제 1 및 제 2 지지부(230, 240)의 지지패드(233, 243)와 제 3 및 제 4 지지부(250, 260)의 지지롤러(255,265)는 하사점의 위치로 하강하여, 기판(50)의 하측에 위치된다.
이러한 상태에서, 지지 유닛(200)은, 테이블(110)(도 1 참조)의 상면에서, X축 방향 및 Y축 방향으로 운동하고, 가공부(120)(도 1 참조)는 기판(50)을 처리한다. 처리가 완료된 기판(50)은 상기 로봇암에 지지되어 기판 처리 장치의 외부로 배출된다. 상기 로봇암은 스테이지(220)에 형성된 안내로(223) 또는 안내로(225)에 삽입되어, 기판(50)을 스테이지(220)로부터 이격시킨다.
도 4c에 도시된 바와 같이, 사이즈가 작은 3.5"의 기판(50a)을 스테이지(220)에 탑재시켜 처리한 경우, 스테이지(220)의 구조상, 상기 로봇암을 안내로(223) 또는 안내로(225)에 삽입하기 어렵다. 또한, 상기 로봇암을 복수의 안내로(223, 225) 중, 길이가 가장 긴 하나의 안내로(225)의 단부(225a)측에 밖에 삽입하지 못한다. 그러면, 상기 로봇암을 이용하여 기판(50)을 스테이지(220)로부터 이격시키기 어렵다.
이러한 문제점을 해소하기 위하여, 복수의 안내로(223, 225) 중, 길이가 가장 긴 안내로(225)의 단부측을 안내로(223, 225)의 다른 부위 보다 깊이를 깊게 형성한 것이다. 그러면, 손가락 또는 지그를 이용하여 기판(50)을 스테이지(220)로부터 이격시킬 수 있다.
일반적으로, 가공부(120)는 고정되어 있다. 그런데, 제 1 및 제 2 지지부(230, 240)의 지지패드(233, 243)와 제 3 및 제 4 지지부(250, 260)의 지지롤러(255,265)가 기판(50)의 상측에 위치되면, 제 1 내지 제 4 지지부(230~260)가 가공부(120)와 부딪힐 수 있다. 이를 방지하기 위하여, 제 1 및 제 2 지지부(230, 240)의 지지패드(233, 243)를 승강가능하게 설치하고, 제 3 및 제 4 지지부(250, 260)의 지지롤러(255, 265)를 승강가능하게 설치하여, 가공부(120)로 기판(50)을 처리할 때에는, 제 1 내지 제 4 지지부(230~260)의 상단부를 기판(50)의 하측에 위치시킨다. 즉, 지지패드(233, 243)와 지지롤러(255, 265)를 하사점의 위치에 위치시킨다.
본 실시예에 따른 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치는 탑재되는 기판(50)의 사이즈에 대응하여 스테이지(220)의 간격을 가변할 수 있다. 그러면, 하나의 스테이지(220)에 다양한 사이즈의 기판(50)을 탑재 지지할 수 있으므로, 생산성이 향상되고, 사용이 편리하다.
본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 예로 들어 도시하여 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.
110: 테이블 120: 가공부
200: 지지 유닛 210: 함체
220: 스테이지 230,240,250,260: 제 1,2,3,4 지지부

Claims (24)

  1. 기판이 탑재 지지되는 장방형(長方形)의 스테이지;
    상기 스테이지의 어느 하나의 장변(張邊)측에 고정 설치되어 상기 기판의 어느 하나의 장변을 지지하는 제 1 지지부;
    상기 스테이지의 어느 하나의 단변(短邊)측에 고정 설치되어 상기 기판의 어느 하나의 단변을 지지하는 제 2 지지부;
    상기 제 1 지지부와 대향하는 상기 스테이지의 다른 하나의 장변(張邊)측에 직선운동가능하게 설치되어 상기 제 1 지지부와 가까워지고 멀어지는 형태로 직선운동하며 상기 기판의 다른 하나의 장변을 지지하는 제 3 지지부;
    상기 제 2 지지부와 대향하는 상기 스테이지의 다른 하나의 단변(短邊)측에 직선운동가능하게 설치되어 상기 제 2 지지부와 가까워지고 멀어지는 형태로 직선운동하며 상기 기판의 다른 하나의 단변을 지지하는 제 4 지지부;
    장방형으로 마련되며 테두리부측에 상기 제 1 내지 제 4 지지부가 각각 설치되는 받침판, 상기 받침판의 측면에서 상측으로 각각 연장 형성된 측판, 상기 제 1 및 제 2 지지부와 인접한 상기 측판의 상면에서 상기 받침판의 내측으로 각각 연장 형성되어 상기 제 1 및 제 2 지지부의 일측을 각각 덮는 덮개판을 가지는 함체를 포함하는 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 스테이지는 상기 함체에 지지되어 상기 덮개판의 내측에 위치된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 지지부는 상기 함체에 각각 고정된 지지레일과 상기 지지레일에 각각 결합되며 상기 기판의 측면과 접촉하여 상기 기판을 지지하는 복수의 지지패드를 각각 포함하는 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 지지패드는 승강가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 제 3 및 제 4 지지부는 상기 함체에 직선운동가능하게 각각 설치된 가동블록, 상기 가동블록에 각각 결합되어 상기 가동블록과 함께 운동하는 지지브라켓, 상기 지지브라켓에 각각 결합되어 상기 지지브라켓과 함께 운동함과 동시에 상기 지지브라켓과 독립적으로 회전가능하게 설치되며 상기 기판의 측면과 접촉하여 상기 기판을 지지하는 복수의 지지롤러를 각각 포함하는 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  6. 제5항에 있어서,
    각각의 상기 덮개판에는 상기 제 3 및 제 4 지지부의 상기 가동블록이 각각 출입하는 출입로가 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 지지롤러는 승강가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 스테이지에는 상기 제 3 지지부의 상기 지지롤러 및 상기 제 4 지지부의 상기 지지롤러의 직선운동을 안내하는 홈 형상의 안내로가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  9. 제8항에 있어서,
    복수의 상기 안내로 중, 길이가 가장 긴 안내로의 단부측은 상기 안내로의 다른 부위 보다 깊이가 깊은 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 기판은 진공 흡착되어 상기 스테이지에 지지되는 것을 특징으로 하는 지지 유닛.
  11. 테이블;
    상기 테이블에 X축 방향 및 Y축 방향으로 이송가능하게 설치되고, 기판이 탑재 지지되며, 상호 상이한 사이즈의 기판을 지지할 수 있도록 가변되는 지지 유닛;
    상기 테이블에 설치되며 상기 지지 유닛에 지지된 기판을 처리하는 가공부를 포함하고,
    상기 지지유닛은,
    기판이 탑재 지지되는 장방형(長方形)의 스테이지;
    상기 스테이지의 어느 하나의 장변(張邊)측에 고정 설치되어 상기 기판의 어느 하나의 장변을 지지하는 제 1 지지부;
    상기 스테이지의 어느 하나의 단변(短邊)측에 고정 설치되어 상기 기판의 어느 하나의 단변을 지지하는 제 2 지지부;
    상기 제 1 지지부와 대향하는 상기 스테이지의 다른 하나의 장변(張邊)측에 직선운동가능하게 설치되어 상기 제 1 지지부와 가까워지고 멀어지는 형태로 직선운동하며 상기 기판의 다른 하나의 장변을 지지하는 제 3 지지부;
    상기 제 2 지지부와 대향하는 상기 스테이지의 다른 하나의 단변(短邊)측에 직선운동가능하게 설치되어 상기 제 2 지지부와 가까워지고 멀어지는 형태로 직선운동하며 상기 기판의 다른 하나의 단변을 지지하는 제 4 지지부;
    장방형으로 마련되며 테두리부측에 상기 제 1 내지 제 4 지지부가 각각 설치되는 받침판, 상기 받침판의 측면에서 상측으로 각각 연장 형성된 측판, 상기 제 1 및 제 2 지지부와 인접한 상기 측판의 상면에서 상기 받침판의 내측으로 각각 연장 형성되어 상기 제 1 및 제 2 지지부의 일측을 각각 덮는 덮개판을 가지는 함체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  12. 삭제
  13. 제11항에 있어서,
    상기 제 1 내지 상기 제 4 지지부는 승강가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 기판은 진공 흡착되어 상기 스테이지에 지지되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제 1 내지 제 4 지지부는 승강하여 상기 기판을 지지하고,
    진공에 의하여 상기 기판이 상기 스테이지에 지지되면 상기 제 1 및 제 2 지지부는 하강하고, 상기 제 3 및 제 4 지지부는 상기 스테이지의 외측으로 후퇴한 후 하강하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제 1 내지 제 4 지지부가 하강하면, 상기 제 1 내지 제 4 지지부의 상단부는 상기 기판의 상면 하측에 위치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  17. 제11항에 있어서,
    상기 스테이지는 상기 함체에 지지되어 상기 덮개판의 내측에 위치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 지지부는 상기 함체에 각각 고정된 지지레일과 상기 지지레일에 각각 결합되며 상기 기판의 측면과 접촉하여 상기 기판을 지지하는 복수의 지지패드를 각각 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 지지패드는 승강가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  20. 제17항에 있어서,
    상기 제 3 및 제 4 지지부는 상기 함체에 직선운동가능하게 각각 설치된 가동블록, 상기 가동블록에 각각 결합되어 상기 가동블록과 함께 운동하는 지지브라켓, 상기 지지브라켓에 각각 결합되어 상기 지지브라켓과 함께 운동함과 동시에 상기 지지브라켓과 독립적으로 회전가능하게 설치되며 상기 기판의 측면과 접촉하여 상기 기판을 지지하는 복수의 지지롤러를 각각 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  21. 제20항에 있어서,
    각각의 상기 덮개판에는 상기 제 3 및 제 4 지지부의 상기 가동블록이 각각 출입하는 출입로가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  22. 제20항에 있어서,
    상기 지지롤러는 승강가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  23. 제20항에 있어서,
    상기 스테이지에는 상기 제 3 지지부의 상기 지지롤러 및 상기 제 4 지지부의 상기 지지롤러의 직선운동을 안내하는 홈 형상의 안내로가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  24. 제23항에 있어서,
    복수의 상기 안내로 중, 길이가 가장 긴 안내로의 단부측은 상기 안내로의 다른 부위 보다 깊이가 깊은 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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