KR101306475B1 - 태양전지 및 이의 제조방법 - Google Patents

태양전지 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

실시예에 따른 태양전지는, 지지기판; 상기 지지기판 상에 위치하는 후면전극층; 상기 후면전극층 상에 위치하는 광 흡수층; 상기 광 흡수층 상에 위치하는 버퍼층; 및 상기 버퍼층 상에 위치하는 전면전극층을 포함하고, 상기 광 흡수층에 포함되는 결정(crystallization)의 양이 서로 다르다.
실시예에 따른 태양전지의 제조 방법은, 지지기판 상에 후면전극층을 형성하는 단계; 및 상기 후면전극층 상에 광 흡수층의 프리커서를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 프리커서는 서로 반대되는 상면 및 하면을 포함하고, 상기 프리커서를 형성하는 단계는 상기 상면 및 상기 하면에 레이저를 조사하는 단계를 포함한다.

Description

태양전지 및 이의 제조방법{SOLAR CELL AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}
실시예는 태양전지 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
박막형 태양전지의 효율과 직접적인 상관관계가 있는 에너지 밴드갭은 상기 광 흡수층을 이루는 CIGS계 화합물의 조성비, 즉 CuIn1-xGaxSe2에서 인듐(In) 및 갈륨(Ga)의 조성비에 따라 달라지는데, 대략 1.1 ~ 1.6 eV 사이의 에너지 밴드갭을 얻을 수 있었다. 현재, 최고 효율을 기록한 태양전지의 CIGS계 광흡수층(30)은 대략 1.2eV의 에너지 밴드갭을 가지며, 이때의 CIGS계 화합물의 조성비는 CuIn0.74Ga0.26Se2으로 알려져있다.
그런데 이러한 종래의 CIGS계 박막형 태양전지는 CIGS계 화합물이 4원계 화합물로서, 이를 이용하여 광 흡수층을 제조 시, 그 조성 및 공정 제어에 많은 어려움이 따르며, 아울러, 종래의 CIGS계 박막형 태양전지의 경우 단일의 에너지 밴드갭을 갖는 광 흡수층(30)을 이용하므로, 이에 해당되는 에너지 밴드갭 이외의 파장을 그대로 통과시켜 버리게 되므로, 많은 부분의 태양광 손실이 발생되는 문제점이 있었다.
따라서, 종래의 CIGS계 박막형 태양전지보다 높은 효율을 가지며, 조성 및 공정 제어가 보다 간단하고 용이한 박막형 태양전지에 대한 개발이 시급한 실정이다. 특히, 이러한 태양전지 제조 시, 광 흡수층에 포함되는 갈륨의 조성비를 그레이딩(grading)하여 에너지 밴드갭을 조절할 수 있는데, 기존의 열처리 방식으로는 갈륨의 조성비를 그레이딩하기 어렵다는 문제가 있다.
실시예는 효율이 향상된 태양전지를 제공하고자 한다.
실시예에 따른 태양전지는, 지지기판; 상기 지지기판 상에 위치하는 후면전극층; 상기 후면전극층 상에 위치하는 광 흡수층; 상기 광 흡수층 상에 위치하는 버퍼층; 및 상기 버퍼층 상에 위치하는 전면전극층을 포함하고, 상기 광 흡수층에 포함되는 결정(crystallization)의 양이 서로 다르다.
실시예에 따른 태양전지의 제조 방법은, 지지기판 상에 후면전극층을 형성하는 단계; 및 상기 후면전극층 상에 광 흡수층의 프리커서를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 프리커서는 서로 반대되는 상면 및 하면을 포함하고, 상기 프리커서를 형성하는 단계는 상기 상면 및 상기 하면에 레이저를 조사하는 단계를 포함한다.
실시예에 따른 태양전지는 광 흡수층에 포함되는 결정(crystallization)의 양이 서로 다르다. 구체적으로, 상기 광 흡수층에 포함되는 갈륨의 조성비를 그레이딩(grading)하여 상기 광 흡수층의 에너지 밴드갭을 조절할 수 있고, 이를 통해 태양전지의 효율을 향상할 수 있다. 즉, 태양전지의 내부 조성비를 조절하여 고효율의 태양전지를 제공할 수 있다.
실시예에 따른 태양전지의 제조 방법은, 레이저를 조사하는 단계를 포함한다. 상기 레이저를 조사하는 단계에서는 광 흡수층의 프리커서에 국부적인 레이저를 조사할 수 있다. 이를 통해, 상기 갈륨의 확산을 조절하여 상기 광 흡수층에 포함되는 갈륨의 조성비를 조절할 수 있다. 이를 통해, 상기 광 흡수층의 에너지 밴드갭을 조절할 수 있고, 나아가 태양전지의 효율을 향상할 수 있다.
도 1은 실시예에 따른 태양전지의 일 단면을 도시한 단면도이다.
도 2는 실시예에 따른 태양전지에 포함되는 광 흡수층을 도시한 모식도이다.
도 3은 실시예에 따른 태양전지의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.
도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 1 및 도 2를 참조하여, 실시예에 따른 태양전지를 상세하게 설명한다. 도 1은 실시예에 따른 태양전지의 일 단면을 도시한 단면도이다. 도 2는 실시예에 따른 태양전지에 포함되는 광 흡수층을 도시한 모식도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 태양전지는 지지기판(100), 후면전극층(200), 광 흡수층(300), 버퍼층(400), 고저항 버퍼층(500) 및 전면전극층(600)을 포함한다.
상기 지지기판(100)은 플레이트 형상을 가지며, 상기 후면전극층(200), 상기 광 흡수층(300), 버퍼층(400), 고저항 버퍼층(500) 및 상기 전면전극층(600)을 지지한다.
상기 지지기판(100)은 절연체일 수 있다. 상기 지지기판(100)은 유리기판, 플라스틱기판 또는 금속기판일 수 있다. 더 자세하게, 상기 지지기판(100)은 소다 라임 글래스(soda lime glass) 기판일 수 있다. 상기 지지기판(100)은 투명할 수 있다. 상기 지지기판(100)은 리지드하거나 플렉서블할 수 있다.
상기 후면전극층(200)은 상기 지지기판(100)의 상면에 배치된다. 상기 후면전극층(200)은 도전층이다. 상기 후면전극층(200)으로 사용되는 물질의 예로서는 몰리브덴(Mo) 등의 금속을 들 수 있다.
또한, 상기 후면전극층(200)은 두 개 이상의 층들을 포함할 수 있다. 이때, 각각의 층들은 같은 금속으로 형성되거나, 서로 다른 금속으로 형성될 수 있다.
상기 광 흡수층(300)은 상기 후면전극층(200) 상에 배치된다. 상기 광 흡수층(300)은 Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ족계 화합물을 포함한다. 예를 들어, 상기 광 흡수층(300)은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In,Ga)Se2;CIGS계) 결정 구조, 구리-인듐-셀레나이드계 또는 구리-갈륨-셀레나이드계 결정 구조를 가질 수 있다.
상기 광 흡수층(300)에 포함되는 결정(crystallization)의 양이 서로 다를 수 있다. 상기 양은 상기 광 흡수층(300)에 포함되는 물질의 조성비일 수 있다. 상기 양은 상기 광 흡수층(300)에 포함되는 물질의 농도일 수 있다. 상기 양은 상기 광 흡수층(300)에 포함되는 물질의 함량일 수 있다. 여기서, 상기 물질은 갈륨(Ga)을 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 광 흡수층(300)은 Cu(In1-xGax)Se2를 포함하고, 상기 x가 달라질 수 있다. 구체적으로, 상기 x는 상기 광 흡수층(300)의 상면(302)에서 상기 광 흡수층(300)의 중심부(300a)로 갈수록 작아지고, 상기 광 흡수층(300)의 하면(301)에서 상기 광 흡수층(300)의 중심부(300a)로 갈수록 작아질 수 있다. 즉, 상기 광 흡수층(300)에 포함되는 갈륨의 조성비가 달라질 수 있다.
여기서, 상기 x의 범위는 다음 수식과 같다.
수식
0<x<1
상기 광 흡수층(300)의 에너지 밴드갭(band gap)은 약 1eV 내지 1.8eV일 수 있다.
상기 갈륨의 조성비를 그레이딩(grading)하여 상기 광 흡수층(300)의 에너지 밴드갭을 조절할 수 있고, 이를 통해 태양전지의 효율을 향상할 수 있다. 즉, 태양전지의 내부 조성비를 조절하여 고효율의 태양전지를 제공할 수 있다.
상기 버퍼층(400)은 상기 광 흡수층(300) 상에 배치된다. 상기 버퍼층(400)은 상기 광 흡수층(300)에 직접 접촉한다. 상기 버퍼층(400)은 황화물을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 버퍼층(400)은 황화카드뮴(CdS)을 포함할 수 있다.
상기 고저항 버퍼층(500)은 상기 버퍼층(400) 상에 배치된다. 상기 고저항 버퍼층(500)은 불순물이 도핑되지 않은 징크 옥사이드(i-ZnO)를 포함한다. 상기 고저항 버퍼층(500)의 에너지 밴드갭은 약 3.1eV 내지 3.3eV일 수 있다.
상기 전면전극층(600)은 상기 광 흡수층(300) 상에 배치된다. 더 자세하게, 상기 전면전극층(600)은 상기 고저항 버퍼층(500) 상에 배치된다.
상기 전면전극층(600)은 상기 고저항 버퍼층(500) 상에 배치된다. 상기 전면전극층(600)은 투명하다. 상기 전면전극층(600)으로 사용되는 물질의 예로서는 알루미늄이 도핑된 징크 옥사이드(Al doped ZnO;AZO), 인듐 징크 옥사이드(indium zinc oxide;IZO) 또는 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide;ITO) 등을 들 수 있다.
상기 전면전극층(600)의 두께는 약 500㎚ 내지 약 1.5㎛일 수 있다. 또한, 상기 전면전극층(600)이 알루미늄이 도핑되는 징크 옥사이드로 형성되는 경우, 알루미늄은 약 2.5wt% 내지 약 3.5wt%의 비율로 도핑될 수 있다. 상기 전면전극층(600)은 도전층이다.
이하, 도 3을 참조하여, 실시예에 따른 태양전지의 제조 방법을 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 앞서 설명한 부분과 동일 또는 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략한다.
도 3은 실시예에 따른 태양전지의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
먼저, 지지기판(100) 상에 스퍼터링 공정에 의해서 몰리브덴 등과 같은 금속이 증착되고, 후면전극층(200)이 형성된다. 상기 후면전극층(200)은 공정 조건이 서로 다른 두 번의 공정들에 의해서 형성될 수 있다.
상기 지지기판(100) 및 상기 후면전극층(200) 사이에는 확산 방지막과 같은 추가적인 층이 개재될 수 있다.
이어서, 상기 후면전극층(200) 상에 광 흡수층(300)의 프리커서(320)가 형성된다. 상기 광 흡수층(300)의 프리커서(320)는 스퍼터링 공정 또는 증발법 등에 의해서 형성될 수 있다.
상기 광 흡수층(300)의 프리커서(320)는 예를 들어, 구리-갈륨 합금층 및 인듐 층으로 이루어진 소정 조성비의 적층 프리커서(320)막이 스퍼터링 공정에 의해 형성될 수 있다. 또한, 구리 타겟, 인듐 타겟, 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정에 의해서 형성될 수 있다. 따라서, 상기 광 흡수층(300)의 프리커서(320)는, 구리, 인듐 및 갈륨의 구성 원소로 이루질 수 있다.
이후, 상기 금속 프리커서(320) 막은 셀레니제이션(selenization) 공정에 의해서, 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In,Ga)Se2;CIGS계)의 광 흡수층(300)이 형성된다.
이와는 다르게, 상기 구리 타겟, 인듐 타겟, 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정 및 상기 셀레니제이션 공정은 동시에 진행될 수 있다. 여기서, 셀레니제이션 공정은 셀렌 및/또는 황 함유 가스로 이루어진 분위기 속에서 저온에서 열처리하는 공정을 말한다.
이와는 다르게, 구리 타겟 및 인듐 타겟 만을 사용하거나, 구리 타겟 및 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정 및 셀레니제이션 공정에 의해서, CIS계 또는 CIG계 광 흡수층(300)이 형성될 수 있다.
상기 프리커서(320)를 형성하는 단계 이후, 레이저를 조사하는 단계를 거친다. 상기 레이저를 조사하는 단계에서는 상기 갈륨의 확산이 이루어질 수 있다.
상기 레이저를 조사하는 단계에서는 광 흡수층(300)의 프리커서(320)에 국부적인 레이저를 조사할 수 있다.
상기 레이저를 조사하는 단계는 상기 프리커서(320)의 상면(322) 및 하면(321)에 각각 레이저를 조사할 수 있다.
구체적으로, 상기 레이저를 조사하는 단계는 제1 레이저(L1)를 조사하는 단계 및 제2 레이저(L2)를 조사하는 단계를 포함한다.
상기 제1 레이저(L1)를 조사하는 단계에서는 상기 상면(322)에 제1 레이저(L1)를 조사할 수 있다. 상기 제2 레이저(L2)를 조사하는 단계에서는 상기 하면(321)에 제2 레이저(L2)를 조사할 수 있다.
상기 제1 레이저(L1) 및 상기 제2 레이저(L2)의 에너지 밀도가 서로 다르게 구비될 수 있다. 상기 제1 레이저(L1) 및 상기 제2 레이저(L2)의 에너지 밀도가 서로 다름으로써, 상기 프리커서(320)에 포함된 상기 갈륨의 확산 속도를 조절할 수 있다. 이를 통해, 상기 갈륨의 조성비가 달라질 수 있다.
상기 갈륨의 조성비는 상기 프리커서(320)의 상면(322)에서 상기 프리커서(320)의 중심부(320a)로 갈수록 낮아지고, 상기 프리커서(320)의 하면(321)에서 상기 프리커서(320)의 중심부(320a)로 갈수록 낮아질 수 있다.
즉, 상기 갈륨의 확산을 조절하여 상기 광 흡수층(300)에 포함되는 갈륨의 조성비를 조절할 수 있다. 이를 통해, 상기 광 흡수층(300)의 에너지 밴드갭을 조절할 수 있고, 나아가 태양전지의 효율을 향상할 수 있다.
이어서, 도면에 도시하지 않았으나, 상기 버퍼층(400) 상에 징크 옥사이드가 스퍼터링 공정 등에 의해서 증착되고, 고저항 버퍼층(500)이 형성될 수 있다.
또한, 상기 고저항 버퍼층(500) 상에 전면전극층(600)이 형성된다. 상기 전면전극층(600)을 형성하기 위해서, 상기 고저항 버퍼층(500) 상에 투명한 도전물질이 적층된다. 상기 투명한 도전물질의 예로서는 알루미늄 도핑된 징크 옥사이드 등을 들 수 있다.
상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (14)

  1. 지지기판;
    상기 지지기판 상에 위치하는 후면전극층;
    상기 후면전극층 상에 위치하는 광 흡수층;
    상기 광 흡수층 상에 위치하는 버퍼층; 및
    상기 버퍼층 상에 위치하는 전면전극층을 포함하고,
    상기 광 흡수층에 포함되는 결정(crystallization)의 양이 서로 다르고,
    상기 광 흡수층은 Cu(In1-xGax)Se2를 포함하며,
    상기 x는 상기 광 흡수층의 상면에서 상기 광 흡수층의 중심부로 갈수록 작아지고, 상기 광 흡수층의 하면에서 상기 광 흡수층의 중심부로 갈수록 작아지는 태양전지.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 양은 상기 광 흡수층에 포함되는 물질의 조성비인 태양전지.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 양은 상기 광 흡수층에 포함되는 물질의 농도인 태양전지.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 양은 상기 광 흡수층에 포함되는 물질의 함량인 태양전지.
  5. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 물질은 갈륨(Ga)을 포함하는 태양전지.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 지지기판 상에 후면전극층을 형성하는 단계; 및
    상기 후면전극층 상에 광 흡수층의 프리커서를 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 프리커서는 서로 반대되는 상면 및 하면을 포함하고,
    상기 프리커서를 형성하는 단계 이후 상기 상면 및 상기 하면에 레이저를 조사하는 단계를 포함하고,
    상기 레이저를 조사하는 단계는 상기 상면에 제1 레이저를 조사하는 단계 및 상기 하면에 제2 레이저를 조사하는 단계를 포함하며,
    상기 제1 레이저 및 상기 제2 레이저의 에너지 밀도가 서로 다른 태양전지의 제조 방법.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 제8항에 있어서,
    상기 프리커서는 갈륨(Ga)을 포함하는 태양전지의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 레이저를 조사하는 단계에서는 상기 갈륨의 확산이 이루어지는 태양전지의 제조 방법.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 레이저를 조사하는 단계에서는 상기 갈륨의 조성비가 달라지는 태양전지의 제조 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 갈륨의 조성비는 상기 프리커서의 상면에서 상기 프리커서의 중심부로 갈수록 낮아지고, 상기 프리커서의 하면에서 상기 프리커서의 중심부로 갈수록 낮아지는 태양전지의 제조 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101014039B1 (ko) * 2009-03-31 2011-02-10 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조방법
KR101081079B1 (ko) * 2009-06-25 2011-11-07 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101014039B1 (ko) * 2009-03-31 2011-02-10 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조방법
KR101081079B1 (ko) * 2009-06-25 2011-11-07 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조방법

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