KR101300096B1 - 공정챔버의 가스 공급 장치 및 그 공급방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 또는 디스플레이 장치 제조 공정의 가스 공급장치 및 그 가스 공급방법에 관한 것으로, 각종 반응가스가 공급되며 상기 개별가스의 공급유량을 조절하는 유량제어기가 설치된 다수의 개별공급라인; 상기 개별공급라인에서 공급되는 각종 반응가스를 단수라인으로 연결하고, 반응가스를 혼합한 공정가스를 생성하여 공정챔버로 주입하기 위한 최종밸브가 설치되는 통합공급라인; 및 상기 통합공급라인을 통과하는 가스의 유량을 측정하기 위한 유량측정기를 포함한다.
이와 같이 본 발명에 따른 가스 공급장치 및 공급방법을 제공하게 되면, 유량측정기에서 측정된 유량과 유량제어기에서 입력된 유량이 달라지는 경우에 발생할 수 있는 문제를 조기에 발견하여 조치를 취할 수 있도록 함으로써, 제품의 불량률을 크게 감소시킬 수 있게 된다.
유량제어기(MFC), 유량층정기(MFM), 공정챔버, 고압 싸이클 퍼지, 밸브, 레귤레이터

Description

공정챔버의 가스 공급 장치 및 그 공급방법{GAS SUPPLY APPARATUS FOR PROCESS CHAMBER AND SUPPLY METHOD THEROF}
도 1은 종래의 반도체 공정의 가스 공급장치를 나타낸 도면,
도 2는 본 발명에 따른 가스 공급장치의 구조를 예시한 도면,
도 3은 가스공급장치에 구비된 유량제어기의 구조를 나타낸 단면도,
도 4는 본 발명에 따른 또 다른 실시예로서, 각 개별공급라인에 유량측정기가 설치된 가스 공급장치의 구조를 예시한 도면,
도 5는 본 발명에 따른 가스 공급방법의 흐름도를 예시한 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 설명>
12 : 센서부, 12a : 튜브, 12b : 감지코일, 14 : 바이패스, 15 : 소관,
16 : 제어밸브, 100 : 가스 공급부, 101: 밸브, 103: 레귤레이터,
105: 압력 측정기, 107 : 유량제어기, 109 : 제2 유량측정기,
110 : 개별공급라인, 120 : 통합공급라인, 130 : 유량측정기,
135 : 경보 표시장치, 140 : 공정챔버
본 발명은 반도체 또는 디스플레이 장치 공정의 가스 공급장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 또는 디스플레이 장치 공정 중 여러 가지 가스(Gas)가 반응하는 챔버(Chamber) 내부로 반응가스를 공급하는데 있어서, 입력된 가스량을 정확하게 모니터 하여 제품의 불량률을 줄이기 위한 가스 공급장치 및 그 공급방법에 관한 것이다.
컴퓨터, 텔레비젼 등의 각종 전자 제품에는 필수적으로 다이오드, 트랜지스터, 사이리스터 등의 반도체 소자가 포함되어있는데, 위와 같이 현대 사회의 필수품인 반도체 소자는 산화실리콘에서 고순도의 실리콘을 추출한 것을 단결정으로 성장시키고 이를 원판 모양으로 잘라서 웨이퍼를 만드는 과정, 상기 웨이퍼의 전체 표면에 막을 형성하고 필요한 부분을 제거하여 일정한 패턴을 형성하는 과정, 형성된 패턴에 따라 불순물 이온을 도핑하고 금속배선을 통하여 최초 설계된 회로를 구현하며 필요한 소자로 만들기 위한 패키지 공정 등이 포함된 일련의 웨이퍼 가공 과정을 통해 제조된다. 또한 이러한 반도체 공정은 디스플레이 장치 제조공정에서도 많이 응용되고 있는 실정이다.
위와 같은 반도체 제조공정 또는 디스플레이 장치 제조공정 중 일부공정에서는 공정가스를 챔버내에 주입하여 각각의 목적을 달성하고 있다. 가령, 웨이퍼의 특정 부분 물질을 화학 반응을 통해 제거해 내는 식각(etching)공정이나, 화학 반응을 이용하여 웨이퍼상에 박막을 형성하는 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition)공정, 실리콘 단결정으로 된 웨이퍼의 특정한 영역에 전기전도특성을 부여하기 위하여 불순물을 첨가하는 이온주입공정 등을 위해 다양한 종류의 가스가 사용되고 있다.
이들 공정가스는 공급라인을 따라 공정이 이루어지는 공정챔버 내부로 공급되어 결국 웨이퍼와 반응하게 된다. 이때 공정에 필요한 가스의 유량을 미리 제어하여 적정량의 가스를 공정챔버에 공급하는데 있어서, 작업자가 입력한 유량과 실제 챔버 내에 공급된 유량이 다르게 된다면, 제품 불량률이 상당히 높아지게 된다. 그러므로, 가스공급기에서의 입력유량과 실제 공급유량의 일치는 공정의 안정성 및 불량률 저하의 면에서 상당히 중요하다.
도 1은 종래의 반도체 공정의 가스 공급장치를 나타낸 것으로, 반도체 공정에 사용하는 가스는 여러종류의 공정가스가 사용 된다. 상기 공정가스는 각각의 가스공급라인(10)마다 장착된 유량제어기(27)(Mass Flow Controller: MFC)를 통해 공정에 필요한 가스유량이 제어되면서 공급된다.
상기 유량제어기(27)를 통해 개별공급라인(20)으로 공급된 가스는 단수라인인 통합공급라인(30)으로 연결되어 각 개별공급라인(20)에서 공급된 각종 가스를 혼합한 공정가스를 생성하며 최종밸브(35)를 통해 공정챔버(50)(Process Chamber)로 주입된다.
그러나 상기 유량제어기(27)에서 입력되는 가스의 유량은 유량제어기 전의 개별공급라인에 병렬로 연결된 유량측정기(Mass Flow Meter: MFM)(25)를 통해 유량을 파악하고 결정하게 되는데, 이 유량측정기가 실제유량을 제대로 측정하지 못한 다면, 챔버 내 공급되는 유량과 유량제어기(27)에 입력된 유량은 서로 다르게 되고, 이러한 불일치를 작업자가 외부에서 용이하게 알 수 없어서, 잘못된 가스량을 공정챔버로 계속 주입하게 되어 제품의 불량률을 증가 시키게 된다는 문제점이 있다.
뿐만 아니라, 상술한 바와 같은 문제점을 지닌 채 오래도록 공정을 진행하게 되면, 장비의 내구성이 더욱 약화되고, 수리하기 위한 시간이 길어질 뿐 아니라 그 비용이 증가하게 되어 제품의 단가가 증가 된다는 문제점이 있다.
상술한 문제를 해결하기 위한 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 유량측정기에서 측정된 가스 유량과 실제 공정챔버 내 공급되는 가스 유량이 서로 다르게 되어 발생하는 제품의 불량률을 줄이고, 이러한 불일치를 조기 발견할 수 있는 장치를 구비하여 문제점을 해결할 수 있도록 함으로써, 제조단가 및 공정의 시간을 단축시키고자 하는 것이다.
본 발명에 따른 제1 특징은 각종 반응가스가 공급되며 상기 개별가스의 공급유량을 조절하는 유량제어기가 설치된 다수의 개별공급라인; 상기 개별공급라인에서 공급되는 각종 반응가스를 단수라인으로 연결하고, 상기 반응가스 또는 상기 반응가스를 혼합한 공정가스를 생성하여 공정챔버로 주입하기 위한 최종밸브가 설치되는 통합공급라인; 및 상기 통합공급라인을 통과하는 가스의 유량을 측정하기 위한 유량측정기를 포함한다.
여기서, 상기 개별공급라인 각각에 유량제어기를 통과하는 각 개별 가스의 유량을 측정하기 위한 제2 유량측정기가 더 포함되는 것이 바람직하고, 상기 유량측정기는 상기 유량제어기에서 입력된 유량값과 상기 유량측정기에서 측정된 값이 미리 정해진 범위에서 일치하지 않는 경우 경보 표시를 하는 경보장치가 장착된 것이 역시 바람직하다.
더하여, 상기 경보장치는 경보음 또는 경보등을 통하여 경보표시를 하는 것이 바람직하며, 상기 유량제어기에서 측정된 유량값이 상기 유량측정기에서 측정된 유량값과 미리 정해진 범위내에서 일치하지 않는 경우 상기 가스 공급이 자동으로 차단되는 자동차단장치가 더 포함되는 것이 역시 바람직하다.
또한, 바람직하게는 상기 유량제어기는 이슬점측정기가 더 포함되는 것일 수 있고, 상기 유량제어기에 형성된 수분(H2O)을 제거하기 위해 고압 싸이클 퍼지 장치가 더 구비된 것일 수 있다.
본 발명에 따른 제2 특징은 각종 반응가스가 공급되며 상기 개별가스의 공급유량을 유량제어기로 조절하여 개별공급하는 단계; 상기 개별공급된 각종 반응가스를 단수라인으로 연결하고 상기 반응가스 또는 상기 반응가스를 혼합한 공정가스를 생성하여 공정챔버로 주입하는 통합공급단계; 및 상기 단수라인에서의 유량을 유량측정기로 측정하여 상기 유량제어기에 입력된 가스량과 미리 정해진 범위에서 다른 경우 경보표시를 하는 경보표시 단계를 포함한다.
여기서, 상기 경보표시 단계는 경보음 또는 경보등을 이용하여 경보표시를 하는 것이 바람직하고, 상기 유량제어기에서 입력된 유량값이 상기 유량측정기에서 측정된 유량값과 미리 정해진 범위내에서 일치하지 않는 경우 상기 가스 공급이 자동으로 차단되도록 하는 것이 바람직하며, 상기 유량제어기에 형성된 수분(H2O)을 제거하기 위해 고압 싸이클 퍼지를 이용하는 것이 바람직하다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 가스 공급장치의 구조를 예시한 도면이고, 도 5는 본 발명에 따른 가스 공급방법의 흐름도를 예시한 도면이다. 이하 양자를 대응 시켜 설명하기로 한다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명은 각종반응가스(100)를 개별 공급하는 개별공급라인(110), 개별공급라인(110)에서 공급되는 각종 반응가스를 단수라인으로 연결하여 혼합 공정가스를 공급하는 통합공급라인(120) 및 통합공급라인(120))에서 공급되는 가스의 유량을 측정하는 유량측정기(130)를 포함하는 구성이다.
개별공급라인(110)은 각종의 반응가스(예를 들어, O2, He, HCl, Cl2 등)(100)를 각 개별라인에서 독립적으로 공급하도록 구성되고, 이 개별공급라인(110)에는 가스의 압력을 조절하는 레귤레이터(103), 가스압을 측정하는 가스압 측정기(105), 공급되는 가스의 불순물 등을 걸러내는 필터(106) 및 각종 밸브(101)가 설치된다.(S100)
그리고, 공정에 따라 필요한 가스를 공급하기 위해 단수라인으로 각 개별공급라인(110)을 연결하여 개별가스 또는 혼합가스를 생성하여 공정챔버로 주입하기 위한 통합공급라인(120)이 구비되고, 이 통합공급라인(120)에는 밸브(123) 또는 필터(125) 등을 더 구비할 수 있다.
통합공급라인(120)에서 최종적으로 공정챔버에 주입하게 될 반응가스를 통과시키게 되는데(S200), 이 공정챔버(140)와의 사이에 유량측정기(130)를 설치함으로써, 위의 개별공급라인에 설치된 유량제어기에 입력되는 가스량을 모니터할 수 있게 된다.(S300)
여기서 종래의 가스공급장치는 도 1에 나타낸 바와 같이 유량제어기(27)에서 입력되는 가스의 유량은 유량제어기(27) 전의 개별공급라인(20)에 병렬로 연결된 유량측정기(25)를 통해 유량을 파악하고 결정하게 되는데, 실제 유량제어기(27)에서 흐르는 유량과 유량측정기(27)에서 모니터 되는 유량과 다르게 되는 경우, 가스공급에 오류가 발생하는 것을 조기에 발견하지 못함으로써, 불량률을 증가시키는 문제점이 있었다.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 도 2에 예시된 바와 같이 유량측정기(130)를 개별공급라인(110)에서 가스공급부(100)와 유량제어기(107) 사이에 설치하는 것이 아니라 유량제어기(107)에서 통과되는 개별가스가 혼합되는 통합공급라인(120)에 설치함으로써, 실제 공정챔버(140) 내에 공급되는 유량과 유량제어기(107)에서 입력되는 유량 값이 다른 경우에 이를 조기에 발견할 수 있도록 하는 구조로 이루어진다.
즉 유량측정기(130)에서 측정된 값은 유량제어기(107)에 문제가 생겨 입력된 값과 다르게 통합공급라인(120)으로 가스가 공급되는 경우, 이 공급되는 가스는 그대로 유량측정기(130)에 반영되어 측정되므로, 실제 공정챔버(140) 내로 공급되는 가스 유량을 정확히 측정 또는 모니터 할 수 있게 된다.
이러한 가스 공급의 공정상의 문제점을 유발하는 원인은 유량제어기의 문제점으로부터 발생하는데 이하 그 원인을 살펴보기로 한다.
유량제어기(mass flow controller)는 반도체 제조 또는 디스플레이 장치 제조용으로 사용되는 모든 종류의 가스를 사용자가 원하는 유량만큼 흐르도록 정밀하고 정확하게 조절하는 역할을 한다.
도 3은 가스공급장치에 구비된 유량제어기의 구성을 나타낸 단면도이다. 도시된 바와 같이, 유량제어기(27)는 센서부(12), 바이패스(14), 제어밸브(16) 및 전기 회로부(도시하지 않음)를 포함한다.
센서부(12)는 금속제로 이루어지는 원형 튜브(12a)를 통하여 가스가 흐를 수 있도록 되어 있다. 이 튜브(12a)의 상류측과 하류측에 각각 감지코일(12b, sensing coil)을 감아 전압을 인가하면, 자기발열 저항체에 의해 가열이 되고 튜브로 가스를 흘려 가스의 흐름에 따라 감지코일(12b) 양측에서는 온도변화가 발생한다. 가스가 흐르지 않는 경우와 가스가 흐르는 경우, 온도 차이가 발생하는데 그 변화된 값을 소정의 회로에서 전압의 변화로 검출한 후 이것을 유량의 출력으로 나타내어지게 되므로 유량제어기(27)를 통해서 흐르는 가스의 실제 유량을 측정할 수 있다.
바이패스(14)는 센서부(12)에 흐르는 유량 이상의 유량을 측정하기 위한 것이다. 바이패스(14)는 센서부(12)와 병렬로 연결된 별도의 라인을 통해 가스의 흐름을 분배해 주는 역할을 한다.
제어밸브(16)는 외부의 전기 회로부(도시하지 않음)에 의해 제어되어, 프로세스로 유입되는 가스의 유량을 제어하는 역할을 한다. 전기 회로부는 입력된 설정값과 센서부(12)에서 검출한 검출값을 비교제어회로에서 연산하여 제어밸브(16)를 제어하는 역할을 한다.
상술한 구성에 의해, 가스가 유량제어기(27)로 유입되면, 가스의 흐름은 바이패스(14)부로 유입되기 전 분리되어 센서부(12)로 직접 통하게 된다. 센서부(12)에서는 질량유량을 측정한 후 그 측정값을 전기 회로부로 출력하며 전기 회로부에서는 입력된 설정값과 센서부(12)에서 검출한 값을 비교하여 제어밸브(16)의 개폐를 조절한다. 이러한 제어밸브(16)의 개폐의 조절을 통해, 바이패스(14)부로 유입된 가스의 흐름을 조절하여 프로세스로 소망하는 가스량을 유입시킬 수 있게 된다.
그러나, 유량제어기(27)의 센서부(12) 또는 제어밸브(16) 내의 소관(15)은 가스의 공급라인의 배관보다 면적이 작고, 그 재질 또한 금속 등 산화되기 쉬운 재질로 되어 있다. 이러한 소관(15) 내에 수분 등이 있는 경우, 산성이 강한 반응가스와 만나서 소관을 부식시키게 되어, 가스의 유입, 유출을 방해하는 경우가 발생한다.
이렇게 센서부(12) 또는 제어밸브(16) 내의 소관(15)에서 가스의 유입, 유출을 방해하게 되면 실제 필요한 가스 유량을 입력하여도 유량제어기(27)를 통과하는 가스는 입력된 가스 유량과 달라져 최종적으로 공정챔버 내 공급되는 가스 유량이 잘못 공급되어 제품의 불량률이 증가하게 된다.
상술한 문제를 해결하기 위해 본 발명에서는 도 2에 예시된 바와 같이 유량측정기(130)를 유량제어기(107) 및 공정챔버(140) 사이에 있는 통합공급라인(120)에 설치함으로써, 유량제어기(107)에서 유출되는 가스를 유량 측정기에서 측정하고 모니터 함으로써, 공정챔버(140)에 공급되는 반응가스의 양을 제어할 수 있게 된다.
즉, 유량측정기(130)의 측정된 유량을 보고 유량제어기(107)를 조절하여 유량을 입력함으로써, 유량제어(27)기의 센서부(12) 또는 제어벨브(16) 내의 소관(15)의 부식으로 인한 문제가 발생하여도 실제 공정챔버에는 필요한 가스만을 공급할 수 있도록 제어되어 제품의 불량률을 크게 감소시킬 수 있게 된다.(도 2 참조)
또한 실제로 유량제어기(107)에 입력되는 가스량과 유량측정기(130)에 측정되는 가스 유량이 다른 경우, 조기에 이를 발견하여 공정을 멈추고 상술한 유량제어기의 문제점을 근본적으로 해결하기 위해 아이들 펌프(Idle pump)(102)로 N2 가스 등을 통하여 고압 사이클 퍼지를 함으로써, 유량 제어기 내에 존재하는 수분(H2O 등)을 제거하여 조치를 취할 수 있게 된다.
도 4는 본 발명에 따른 또 다른 실시예로서, 각 개별공급라인에 유량측정기가 설치된 가스공급장치의 구조를 예시한 도면이다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시예는 개별공급라인(110), 통합공급라인(120) 및 유량측정기(130)를 구비하고, 개별공급라인(110)에서 유량제어기(107)에 통과되는 가스를 측정하기 위해 개별공급라인 각각에 제2 유량측정기(109)를 설치한다. 이것은 유량제어기(107)에서 입력된 가스량과 유량측정기(109,130)에서 측정된 값이 다른 경우(S350) 어느 개별라인의 문제인지를 파악할 수 있게 되어, 문제 있는 유량제어기(107)를 교체하거나 수리하여 문제를 조기 해결할 수 있게 된다.(S353)
더하여, 유량제어기(107)의 센서부(12) 또는 제어벨브(16)의 소관(15) 내 존재하는 수분을 측정할 수 있는 이슬점 측정기(Dew Point Meter: DPM)(도시하지 않음)가 유량제어기(107)에 장착되는 것이 바람직한데, 이는 수분의 존재여부를 파악하여 문제를 조기 발견할 수 있을 뿐 아니라 질소가스 등의 가스를 이용한 고압 사이클 퍼지를 실행하여 수분을 빠르고 적절하게 제거할 수 있기 때문이다.
또한, 도 4에 예시된 바와 같이 유량측정기(109,130)에는 유량제어기(107)에 입력된 가스 경보 표시장치(135)를 장착하는 것이 바람직한데, 유량제어기(107)와 유량측정기(109,130)의 가스유량이 소정 범위 내에서 일치하지 않는 경우(S351), 경보등이나 경보음으로 경보 표시를 하여(S351), 잘못된 가스 유량을 모니터하여 적정한 조치를 취함(S353)으로써, 제품의 불량률을 낮출 수 있게 된다.
더 나아가 본 발명의 가스 공급장치의 경보 표시장치(135)와 연결되어 경보표시와 함께 공정챔버(140) 내 가스 유입을 차단할 수 있도록 자동차단장치(도시하지 않음)를 더 구비할 수 있다. 이렇게 함으로써, 잘못된 가스 유량의 유입을 막아 제품의 불량률을 낮추고 가스공급장치의 문제점을 조기 발견하여 수리할 수 있게 하여, 공정의 안정성 및 신뢰성을 높일 수 있게 된다.
이상과 같이 본 발명에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.
따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
이와 같이 본 발명에 따른 가스 공급장치 및 그 방법을 제공하게 되면, 유량측정기의 측정된 유량을 보고 유량제어기를 조절하여 유량을 입력함으로써, 유량제어기의 센서부 또는 제어벨브 내의 소관의 부식으로 인한 문제가 발생하여도 실제 공정챔버에는 필요한 가스만을 공급할 수 있도록 제어되어 제품의 불량률을 크게 감소시킬 수 있게 된다.
또한 실제로 유량제어기에 입력되는 가스량과 유량측정기에 측정되는 가스 유량이 다른 경우, 조기에 문제점을 발견하여 공정을 멈추고 유량 제어기 내에 존 재하는 수분(H2O 등)을 제거할 수 있도록 함으로써, 공정의 안정성 및 신뢰성을 높일 수 있을 뿐 아니라 공정시간을 단축시킬 수 있게 된다.

Claims (11)

  1. 각종 반응가스가 공급되며 각종 반응가스의 공급유량을 조절하는 유량제어기가 설치된 다수의 개별공급라인과; 상기 개별공급라인에서 공급되는 각종 반응가스를 단수라인으로 연결하고 상기 반응가스 또는 반응가스를 혼합한 공정가스를 생성하여 공정챔버로 주입하기 위한 최종밸브가 설치된 통합공급라인과; 상기 통합공급라인을 통과하는 가스의 유량을 측정하기 위한 유량측정기를 포함하고,
    상기 유량제어기는 이슬점측정기를 포함하는 가스 공급장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 개별공급라인 각각에 유량제어기를 통과하는 각 개별 가스의 유량을 측정하기 위한 제2 유량측정기가 더 포함되는 것을 특징으로 가스 공급장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 유량측정기는 상기 유량제어기에서 입력된 유량값과 상기 유량측정기에서 측정된 값이 미리 정해진 범위에서 일치하지 않는 경우 경보 표시를 하는 경보장치가 장착된 것을 특징으로 하는 가스 공급장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 경보장치는 경보음 또는 경보등을 통하여 경보표시를 하는 것을 특징으로 하는 가스 공급장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 유량제어기에서 측정된 유량값이 상기 유량측정기에서 측정된 유량값과 미리 정해진 범위내에서 일치하지 않는 경우 상기 가스 공급이 자동으로 차단되는 자동차단장치가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 가스 공급장치.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 유량제어기에 형성된 수분(H2O)을 제거하기 위해 고압 싸이클 퍼지 장치가 더 구비된 것을 특징으로 하는 가스 공급장치.
  8. 각종 반응가스가 공급되며 각종 반응가스의 공급유량을 이슬점측정기를 포함하는 유량제어기로 조절하여 개별공급하는 단계;
    상기 개별공급된 각종 반응가스를 단수라인으로 연결하고, 상기 반응가스 또는 반응가스를 혼합한 공정가스를 생성하여 공정챔버로 주입하는 통합공급단계와;
    상기 단수라인에서의 유량을 유량측정기로 측정하여 상기 유량제어기에 입력된 가스량과 미리 정해진 범위에서 다른 경우 경보표시를 하는 경보표시 단계를 포함하는 가스 공급방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 경보표시 단계는 경보음 또는 경보등을 이용하여 경보표시를 하는 것을 특징으로 하는 가스 공급방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 유량제어기에서 입력된 유량값이 상기 유량측정기에서 측정된 유량값과 미리 정해진 범위내에서 일치하지 않는 경우 상기 가스 공급이 자동으로 차단되도록 하는 것을 특징으로 하는 가스 공급방법.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 유량제어기에 형성된 수분(H2O)을 제거하기 위해 고압 싸이클 퍼지를 이용하는 것을 특징으로 하는 가스 공급방법.
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