KR101278365B1 - Chemical Filter and Air Cleaner having the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 제조공정이 이루어지는 청정공간인 클린룸 등에 사용되는 케미컬 필터 및 이를 포함하는 공기정화장치에 관한 것으로서, 직경차를 갖도록 형성한 통기성을 구비하는 내측원형튜브 및 외측원형튜브와, 중심을 일치시킨 내측원형튜브 및 외측원형튜브의 상단을 폐쇄하는 상부커버와, 내측원형튜브와 외측원형튜브 사이에 한정되는 공간에 배치되는 1단계 필터 매체와, 두루마리 형태로 말린 상태에서 내측원형튜브 내부공간에 배치되는 것으로서 큰 직경의 연속기공을 구비하는 발포 우레탄 폼 골격기재와 이 골격기재에 도포 되는 화학적 여과물질로 이루어지는 2단계 필터 매체, 및 중심부에 관통구를 구비하며 외측원형튜브의 직경보다 소정의 크기 만큼 직경이 큰 플랫링 형상으로 형성되어 중심을 일치시킨 내측원형튜브와 외측원형튜브의 하단을 폐쇄하는 하부커버를 포함한 구성으로 이루어져, 수명이 연장과 더불어 교체주기가 길어질 뿐만 아니라 용이한 방법으로 교체할 수 있음에 따라 교체에 소요되는 시간이 단축되는 효과를 얻을 수 있으며, 더불어 다양한 종류의 화학적 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있는 케미컬 필터 및 이를 포함하는 공기정화장치를 제공한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical filter used in a clean room, which is a clean space in which a semiconductor manufacturing process is performed, and an air purifying apparatus including the same. An inner circular tube and an outer circular tube having air permeability formed to have a diameter difference, and a center is provided. A top cover that closes the upper ends of the inner and outer circular tubes matched, a one-stage filter media disposed in a space defined between the inner and outer circular tubes, and the inner circular tube inner space in a rolled state A two-stage filter medium composed of a foamed urethane foam skeleton having a large diameter continuous pore and a chemical filtration material applied to the skeleton, and having a through-hole at the center thereof and having a predetermined diameter than that of the outer circular tube. Inner circular tube and outer side formed in flat ring shape with diameter as large as size Consists of a lower cover that closes the bottom of the mold tube, the life cycle is extended and the replacement cycle is not only long, but also can be replaced in an easy way, thereby reducing the time required for replacement, In addition, the present invention provides a chemical filter capable of effectively removing various kinds of chemical contaminants and an air purifier including the same.
케미컬 필터, 발포 우레탄 폼, 첨착활성탄, 이온교환수지, 파티클 필터 Chemical filter, urethane foam, impregnated activated carbon, ion exchange resin, particle filter
Description
도 1은 종래기술에 따른 클린룸 시스템의 일 예를 도시한 개략적 구성도이다.1 is a schematic diagram illustrating an example of a clean room system according to the related art.
도 2는 종래기술에 따른 공기정화장치의 일 예를 도시한 개략적 단면도이다.2 is a schematic cross-sectional view showing an example of an air purifying apparatus according to the prior art.
도 3은 종래기술에 따른 공기정화장치의 다른 일 예를 도시한 개략적 단면도이다.Figure 3 is a schematic cross-sectional view showing another example of the air purifying apparatus according to the prior art.
도 4는 종래기술에 따른 공기정화장치의 또 다른 일 예를 도시한 개략적 단면도이다.Figure 4 is a schematic cross-sectional view showing another example of the air purifying apparatus according to the prior art.
도 5는 종래기술에 따른 공기정화장치의 또 다른 일 예를 도시한 개략적 단면도이다.Figure 5 is a schematic cross-sectional view showing another example of the air purifying apparatus according to the prior art.
도 6은 도 5의 공기정화장치에 포함되는 케미컬 필터의 사시도이다.6 is a perspective view of a chemical filter included in the air purifier of FIG. 5.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 케미컬 필터를 도시한 분해 사시도이다.7 is an exploded perspective view illustrating a chemical filter according to an embodiment of the present invention.
도 8은 도 7에 도시된 케미컬 필터의 조립상태를 도시한 평단면도이다.FIG. 8 is a plan sectional view showing the assembled state of the chemical filter shown in FIG.
도 9는 본 발명에 따른 케미컬 필터의 2단계 필터매체를 구성하는 발포 우레 탄 폼의 일 예를 도시한 사진이다.9 is a photograph showing an example of expanded urethane foam forming a two-stage filter medium of the chemical filter according to the present invention.
도 10은 2단계 필터매체의 예들을 도시한 사진으로서, 10 is a photograph showing examples of a two-stage filter medium,
도 10a는 첨착활성탄이 도포된 2단계 필터매체를 도시한 사진이며,10A is a photograph showing a two-stage filter medium coated with impregnated activated carbon.
도 10b는 이온교환수지가 도포된 2단계 필터매체를 도시한 사진이다.10B is a photograph showing a two-stage filter medium coated with an ion exchange resin.
도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 공기정화장치를 도시한 개략적 단면도이다.11 is a schematic cross-sectional view showing an air purifier according to an embodiment of the present invention.
도 12는 본 발명의 다른 일 실시 예에 따른 공기정화장치를 도시한 분해 사시도이다.12 is an exploded perspective view showing an air purifier according to another embodiment of the present invention.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]
100: 케미컬 필터 110: 내측원형튜브100: chemical filter 110: inner round tube
120: 외측원형튜브 130: 상부커버120: outer round tube 130: upper cover
140: 1단계 필터 매체 150: 2단계 필터 매체140: one-stage filter media 150: two-stage filter media
160: 하부커버 163: 체결공160: lower cover 163: fastening hole
165: 관통구 167: 체결부재165: through hole 167: fastening member
170: 하우징 175: 흡입구170: housing 175: inlet
180: 팬 190: 파티클 필터180: fan 190: particle filter
200: 공기정화장치 210: 망체200: air purifier 210: mesh
본 발명은 반도체 제조공정 등이 이루어지는 청정공간인 클린룸 등에 사용되는 공기정화장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 다양한 화학적 오염물질을 효과적으로 제거함과 동시에 내구성이 우수하고 교체가 용이한 케미컬 필터 및 케미컬 필터를 포함하는 공기정화장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
일반적인 반도체 제조공정은 실리콘웨이퍼 상에 전기적인 회로를 형성하는 팹(Fab) 공정과, 전기적인 특성을 검사하는 EDS(electrical die sorting)공정과, 에폭시 수지로 표면을 봉지하고 개별화시키기 위한 패키지 조립 공정 등을 포함한다. 좀 더 상세하게 설명하면, 팹 공정은 웨이퍼 상에 막을 형성하기 위한 증착 공정, 형성된 막을 평탄화하기 위한 기계적 연마 공정, 평탄화된 막에 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피 공정, 포토레지스트 패턴을 이용하여 막을 전기적인 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 식각공정, 웨이퍼의 소정 영역에 이온들을 주입하기 위한 이온 주입 공정, 웨이퍼 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정, 세정한 웨이퍼를 건조하기 위한 건조 공정, 및 이상에 열거된 공정을 통해 형성된 막 또는 패턴의 결함을 검사하는 검사 공정 등을 포함한다.Typical semiconductor manufacturing processes include a fabrication process for forming electrical circuits on silicon wafers, an electrical die sorting (EDS) process for inspecting electrical properties, and a package assembly process for encapsulating and individualizing surfaces with epoxy resin. And the like. More specifically, the fab process uses a deposition process to form a film on a wafer, a mechanical polishing process to planarize the formed film, a photolithography process to form a photoresist pattern on the planarized film, and a photoresist pattern. An etching process for forming the film into a pattern having electrical characteristics, an ion implantation process for implanting ions into a predetermined region of the wafer, a cleaning process for removing impurities on the wafer, a drying process for drying the cleaned wafer, and the like Inspection processes for inspecting defects of films or patterns formed through the processes listed in the above.
이상에서 언급한 바와 같은 반도체 제조공정은 고도의 정밀성을 요구하는 공정들로서, 미세한 먼지나 화학적 오염물질에 의해 제품의 불량이 발생할 수 있음에 따라 정화된 공기가 공급되고 공정 중에 생성된 오염물질과 미세먼지 등은 외부로 배출되도록 시스템이 구성된 클린룸과 같은 청정공간에서 이루어진다. 클린룸으로 공급되는 공기는 공기정화장치를 통해 반도체 제조공정에 바람직하지 못한 각종 화 학적 오염물질을 제거하고 미세먼지 등이 제거된 상태로 공급되어 클린룸의 청정상태를 유지할 수 있게 되는 것으로서, 반도체에 관한 집적화기술이 고도로 발전함과 더불어 각 공정들은 더욱 미세하고 정밀성을 요구하게 됨에 따라 클린룸으로 공급되는 공기 역시 더욱더 효과적으로 정화된 상태에서 공급될 것이 요구되고 있는 실정이다.As mentioned above, the semiconductor manufacturing process is a process that requires a high degree of precision.As a defect of the product may be caused by fine dust or chemical contaminants, the purified air is supplied and the pollutants and fines generated during the process are supplied. Dust is generated in a clean space such as a clean room where the system is configured to be discharged to the outside. The air supplied to the clean room is supplied with an air purifier to remove various undesired chemical contaminants in the semiconductor manufacturing process and to remove fine dust, thereby maintaining the clean state of the clean room. As the integration technology for the field is highly developed, each process requires more fineness and precision, and the air supplied to the clean room is also required to be supplied in a more effectively purified state.
도 1은 종래기술에 따른 클린룸 시스템의 일 예를 도시한 개략적 구성도이고, 도 2는 종래기술에 따른 공기정화장치의 일 예를 도시한 개략적 단면도이다.1 is a schematic configuration diagram showing an example of a clean room system according to the prior art, Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of an air purifier according to the prior art.
도 1에 도시한 바와 같이, 클린룸 시스템은 반도체 제조공정이 이루어지는 클린룸(1)과, 클린룸 상부에 형성되는 천장 챔버(3)와, 클린룸 천장면 상에 매트릭스 방식으로 배열되는 다수의 공기정화장치(5)와, 클린룸 바닥면 하부의 마루 하부영역(7)과, 천장 챔버(3)와 마루 하부영역(7)을 연결하는 공기순환경로(9)와, 순환되는 공기의 온도 및 습도를 조절하기 위한 공기조화장치(11) 등을 포함한다.As shown in FIG. 1, the clean room system includes a
공기정화장치(5)에 의해 클린룸(1)으로 공급된 청정공기는 마루 하부영역(7)으로 배출되며, 공기순환경로(9)와 천장 챔버(3) 및 공기정화장치(5)를 통해 다시 클린룸(1)으로 공급된다.Clean air supplied to the clean room (1) by the air purifier (5) is discharged to the lower floor area (7), through the air circulation path (9), the ceiling chamber (3) and the air purifier (5) It is supplied to the
종래기술에 따른 기본적 형태의 공기정화장치로서, 미합중국 특허 제 6,368,393호에 개시된 바와 같은 공기정화장치는, 도 2에 도시한 바와 같이, 천장 챔버 내부의 공기를 흡입하기 위한 팬(20)과, 팬(20)을 통해 흡입된 공기 중에 포함된 암모니아(NH3), 오존(O3) 등과 같은 화학적 오염물질을 제거하기 위한 케미컬 필터(30)와, 케미컬 필터에 의해 화학적으로 정화된 공기에 포함된 파티클 또는 먼지를 제거하기 위한 파티클 필터(40)를 포함한다.As a basic type of air purifying apparatus according to the prior art, the air purifying apparatus as disclosed in US Pat. No. 6,368,393 includes a
상기 케미컬 필터(30)는 팬(20)과 파티클 필터(40) 사이에 배치되며, 이와 같은 형태로 배치되는 케미컬 필터(30)의 수명은 케미컬 필터를 구성하는 필터 매체(filter medium)를 통과하는 공기의 속도에 따라 결정된다. 이 경우, 팬(20)에 의해 공기정화장치(5-1)의 하우징(10) 내부로 유입된 공기의 속도는 팬(20)의 중심부위와 가장자리 사이에서 차이를 보이게 되며, 이는 케미컬 필터(30)의 효율저하의 원인이 된다. 구체적으로, 팬(20)의 중심부 주변을 통과하는 공기의 속도보다 팬(20)의 가장자리부분을 통과하는 공기의 속도가 빠르기 때문에 케미컬 필터(30)의 가장자리부분을 통과하는 공기의 유량이 상대적으로 크게 되고, 따라서 케미컬 필터(30)의 가장자리 부위의 오염물질 흡수능력이 중앙 부위보다 더 빨리 소진되며, 결국 중앙 부위에 오염물질 흡수능력이 잔존함에도 불구하고 가장자리의 오염물질 흡수능력의 소진과 함께 케미컬 필터(30)가 수명을 다하게 되는 문제점이 있었다.The
상기한 바와 같은 공기정화장치에서 도출된 유동 속도 불균형 문제를 해소하고자 한 것으로서, 도 3에 도시한 바와 같은 공기정화장치가 제안된 바 있다. In order to solve the flow velocity imbalance problem derived from the air purifier as described above, an air purifier as shown in FIG. 3 has been proposed.
도 3은 종래기술에 따른 공기정화장치의 다른 일 예를 도시한 개략적 단면도이다.Figure 3 is a schematic cross-sectional view showing another example of the air purifying apparatus according to the prior art.
도 3에 도시된 바와 같은 공기정화장치(5-2)는, 도 2에 도시된 바와 같은 공기정화장치와 마찬가지로, 천장 챔버 내부의 공기를 흡입하기 위한 팬(20)과, 팬(20)을 통해 흡입된 공기 중에 포함된 화학적 오염물질을 제거하기 위한 케미컬 필터(30)와, 케미컬 필터(30)에 의해 화학적으로 정화된 공기에 포함된 파티클 또는 먼지를 제거하기 위한 파티클 필터(40)를 포함한 구성으로 이루어진다. 그러나 팬(20)이 케미컬 필터(30)와 파티클 필터(40) 사이에 배치됨에 따라 팬의 흡입력에 의해 케미컬 필터(30)를 통과한 공기가 팬(20)을 지나 파티클 필터(40)를 통과한 후 클린룸으로 공급되는 공기 흐름을 보이게 되며, 더불어 케미컬 필터(30)와 팬(20) 사이에 유동 속도 불균형을 완화하기 위한 버퍼공간(45)을 제공한 구조로 이루어짐에 따라 유동 속도 불균형 문제가 다소 개선되는 효과를 갖는다. 그러나 이와 같은 정도의 개선은 여전히 유동 속도 불균형 문제의 본질적인 해결책이 되지 못하는 실정이었다. As shown in FIG. 3, the air purifier 5-2 includes a
또한, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같은 공기정화장치들은 소모품인 케미컬 필터(30)의 교체를 위해 장치를 전체적으로 해체해야만 교체할 수 있는 구조임에 따라, 교체작업이 한정된 공간에서 이루어져야 한다는 공간적 제약과 더불어 많은 시간을 필요로 하게 된다. 즉, 교체작업이 진행되는 동안 중단될 수밖에 없는 클린룸에서의 반도체 제조공정 역시 장시간 중단될 수밖에 없는 문제점이 있는 실정이다.In addition, the air purifiers as shown in Figures 2 and 3 is a structure that can be replaced only by disassembling the device as a whole for the replacement of the
이상과 같은 문제점을 해소하기 위한 시도의 일 예로서, 일본국 특허공개번호 제1999-90413호에 나타난 바와 같은 공기정화장치가 제안된 바 있다.As an example of an attempt to solve the above problems, an air purifying apparatus as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 1999-90413 has been proposed.
도 4는 종래기술에 따른 공기정화장치의 또 다른 일 예를 도시한 개략적 단면도이다.Figure 4 is a schematic cross-sectional view showing another example of the air purifying apparatus according to the prior art.
상기 일본국 특허에 개시된 공기정화장치(5-3)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 이상에서 설명한 공기정화장치와 마찬가지로 케미컬필터(50)와 팬(20) 및 파티클 필터(40)를 포함한 구성으로 이루어지지만, 케미컬 필터(50)가 사각박스 형태로 형성되며, 이와 같은 사각박스 형태의 케미컬 필터(50)는 흡입구(55) 측에 설치된 구조로 이루어져 있다. 다시 말해, 케미컬 필터(50)가 공기정화장치(5-3)의 하우징(60) 내부가 아닌 흡입구(55) 측 외부에 부착되는 형태로 배치되는 것이다. 이와 같은 구조의 공기정화장치(5-3)가 제공됨에 따라 케미컬 필터(50)의 교체작업에 소요되는 시간을 상당히 단축시킬 수 있게 되었지만, 케미컬 필터(50)의 측면과 상부면을 통과하는 공기의 유동 속도 불균형이 존재하며, 특히 케미컬 필터의 형상이 사각박스형임에 따라 모서리부분에서의 유동 속도 불균형이 심각하여, 케미컬 필터(50) 상의 위치에 따라 잔존하는 오염물질 흡수능력에 대한 불균형이 발생할 수밖에 없는 문제점이 여전히 남아 있었다.As shown in FIG. 4, the air purifier 5-3 disclosed in the Japanese patent includes a
상기한 바와 같은 유동 속도 불균형에 따른 케미컬 필터의 수명단축 문제와 교체에 소요되는 시간단축의 문제를 모두 해소하기 위한 종래기술의 또 다른 일 예로서, 본 발명의 발명자에 의해 발명된 대한민국 특허출원번호 제10-2004-0003644호의 "케미컬 필터 및 이를 갖는 팬 필터 유닛"이 제안된 바 있다. As another example of the prior art for solving both the problem of shortening the life of the chemical filter due to the flow rate imbalance as described above and the problem of shortening the time required for replacement, the Korean patent application number invented by the inventor of the present invention No. 10-2004-0003644 has been proposed a "chemical filter and a fan filter unit having the same".
도 5는 종래기술에 따른 공기정화장치의 또 다른 일 예를 도시한 개략적 단면도이고, 도 6은 도 5의 공기정화장치에 포함되는 케미컬 필터의 분해 사시도이다. 5 is a schematic cross-sectional view showing another example of an air purifier according to the related art, and FIG. 6 is an exploded perspective view of a chemical filter included in the air purifier of FIG. 5.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 발명자에 의해 발명된 종래의 케미컬 필터(70)는 통기성을 구비하는 직경을 달리하는 내측원형튜브(61) 및 외측원형튜브(63)와, 내측원형튜브(61)와 외측원형튜브(63) 사이의 공간에 배치되어 통과하는 공기에 포함된 화학적 오염물질을 제거하는 필터 매체(65)와, 외측 원형튜브(63)의 직경에 대응하는 직경으로 형성되어 중심을 일치시킨 내측원형튜브(61) 및 외측원형튜브(63)의 상단을 폐쇄하는 상부커버(67)와, 내측원형튜브(61)의 직경에 대응하는 내경의 관통구(69)를 구비하며 외측원형튜브(63)의 직경보다 소정의 크기 만큼 직경이 큰 플랫링 형상으로 형성되어 내측원형튜브(61)와 외측원형튜브(63) 사이의 공간의 하단을 폐쇄하는 하부커버(71)를 포함한 구성으로 이루어진다.As shown in Figure 5 and Figure 6, the
이와 같은 구성의 케미컬 필터(70)는 공기정화장치(5-4)(상기 특허명세서에서는 '팬 필터 유닛'으로 설명됨)의 하우징(60)에 구비되는 공기 흡입구(55)와 하부커버(71)의 관통구(69)를 일치시킨 상태에서 하부커버(71)의 가장자리부분에 원주방향을 따라 일정한 간격으로 체결되는 볼트(73) 등과 같은 체결수단을 통해 장착되어 공기정화장치(5-4)를 구성한다.The
이상과 같은 구조의 공기정화장치(5-4) 및 케미컬 필터(70)를 제공함으로써, 수명을 다한 케미컬 필터를 새로운 케미컬 필터로 교체하는 작업에 소요되는 시간을 상당히 단축시킬 수 있을 뿐만 아니라, 팬(20)의 흡입력에 의해 케미컬 필터(70)를 통과하는 공기의 유동 속도가 전체적으로 고른 분포를 나타냄에 따라 케미컬 필터(70)의 교체주기가 길어지며, 결국 케미컬 필터(70)의 수명연장과 더불어 클린룸에서 이루어지는 반도체 제조공정이 케미컬 필터의 교체로 인해 중단시키는 시간을 절약할 수 있는 장점을 갖는다.By providing the air purifier 5-4 and the
그러나 반도체 제조공정에 영향을 미치는 유해가스의 종류는 매우 다양하며, 이상에서 열거한 바와 같은 종래기술에 따른 공기정화장치들과 같이 한 단계의 화학적 여과과정 만으로는 특히 문제가 심각할 수 있는 몇몇 종류의 화학적 오염물질을 제거할 수 있을 뿐, 미약하나마 반도체 제조공정에 영향을 미칠 수 있는 기타의 화학적 오염물질을 제거할 수 없는 문제점이 있었다. 이러한 문제점을 극복하고자 단순히 다단계의 화학적 여과과정을 거치도록 하는 케미컬 필터를 구성하는 것 또한 압력손실 상승의 관점에서 쉽게 채택될 수 있는 해결책은 되지 못하는 문제점이 있었다. However, there are many types of harmful gases that affect the semiconductor manufacturing process, and several types of chemical filtration processes, such as the conventional air purifiers listed above, may be particularly problematic. Only chemical contaminants can be removed, but there is a problem that can not remove other chemical contaminants that may affect the semiconductor manufacturing process. In order to overcome this problem, simply constructing a chemical filter that undergoes a multi-step chemical filtration process also has a problem that cannot be easily adopted in view of the pressure loss.
그렇지만, 반도체에 관한 집적화기술이 지속적으로 발전함과 더불어 반도체 제조공정에 포함되는 각 공정들 역시 더욱더 정밀성을 요구하게 됨으로써, 반도체 제조공정은 미량의 화학적 오염물질에 의해서도 큰 영향을 받을 수 있으며, 따라서 반도체 제조공정이 이루어지는 클린룸에 더욱더 순도 높은 청정공기가 공급될 것이 요구되는 상황에서, 다양한 종류의 화학적 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있는 케미컬 필터 및 이를 포함하는 공기정화장치에 대한 요구가 점점 증가하는 실정이다.However, as the integration technology for semiconductor continues to develop, each process included in the semiconductor manufacturing process also requires more precision, and thus the semiconductor manufacturing process can be greatly affected by trace chemical contaminants. In the situation where the supply of clean air of higher purity to the clean room in which the semiconductor manufacturing process is performed, there is an increasing demand for a chemical filter and an air purifier including the same to effectively remove various kinds of chemical contaminants. It is true.
상기한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해소하기 위하여 발명한 것으로서,Invented to solve the problems of the prior art as described above,
본 발명의 목적은 통과하는 공기의 유동속도가 전체적으로 고른 분포를 나타 내도록 함과 더불어 다양한 종류의 화학적 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있도록 하는 케미컬 필터 및 이를 포함하는 공기정화장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a chemical filter and an air purifier including the same, which can effectively remove various kinds of chemical contaminants as well as exhibit an even distribution of the flow rate of air passing through.
이를 실현하기 위한 본 발명은,In order to achieve this,
소정의 직경차를 갖도록 형성한 통기성을 구비하는 내측원형튜브 및 외측원형튜브와, An inner circular tube and an outer circular tube having breathability formed to have a predetermined diameter difference,
외측 원형튜브의 직경에 대응하는 직경으로 형성되어 중심을 일치시킨 내측원형튜브 및 외측원형튜브의 상단을 폐쇄하는 상부커버와,An upper cover formed to a diameter corresponding to the diameter of the outer circular tube and closing the upper ends of the inner circular tube and the outer circular tube whose center is aligned;
내측원형튜브와 외측원형튜브 사이에 한정되는 공간에 배치되어 통과하는 공기에 포함된 화학적 오염물질을 제거하는 1단계 필터 매체와,A first stage filter medium disposed in a space defined between the inner and outer circular tubes to remove chemical contaminants contained in the passing air;
두루마리 형태로 말린 상태에서 내측원형튜브 내부공간에 배치되는 것으로서 큰 직경의 연속기공을 구비하는 소정 두께의 발포 우레탄 폼 골격기재와 이 골격기재에 접착제를 통해 도포되는 화학적 여과물질로 이루어지는 2단계 필터 매체, 및 Two-stage filter media consisting of a foamed urethane foam skeleton having a predetermined thickness and a chemical filtration material applied through an adhesive to the skeleton, which is disposed in the inner space of the inner circular tube in a rolled form and has a large diameter of continuous pores. , And
중심부에 소정 직경의 관통구를 구비하며 외측원형튜브의 직경보다 소정의 크기 만큼 직경이 큰 플랫링 형상으로 형성되어 중심을 일치시킨 내측원형튜브와 외측원형튜브의 하단을 폐쇄하는 하부커버를 포함하는 것을 특징으로 하는 케미컬 필터를 제공한다.It has a through-hole of a predetermined diameter in the center and is formed in a flat ring shape with a diameter larger by a predetermined size than the diameter of the outer circular tube to include a lower cover for closing the inner circular tube and the lower end of the outer circular tube to match the center; It provides a chemical filter, characterized in that.
여기서, 상기 화학적 여과물질은 입자상의 활성탄, 첨착활성탄, 이온교환수지 및 이들의 가능한 모든 선택적 조합에 따른 혼합물들 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.Here, the chemical filtering material is characterized in that any one of particulate activated carbon, impregnated activated carbon, ion exchange resins and mixtures according to all possible optional combinations thereof.
그리고 상기 하부커버의 관통구 직경은 내측원형튜브의 직경보다 소정의 크기 만큼 작은 것을 특징으로 한다.And the through hole diameter of the lower cover is characterized in that smaller than the diameter of the inner circular tube by a predetermined size.
또한, 본 발명은,Further, according to the present invention,
소정의 직경차를 갖도록 형성한 통기성을 구비하는 내측원형튜브 및 외측원형튜브와, 외측 원형튜브의 직경에 대응하는 직경으로 형성되어 중심을 일치시킨 내측원형튜브 및 외측원형튜브의 상단을 폐쇄하는 상부커버와, 내측원형튜브와 외측원형튜브 사이에 한정되는 공간에 배치되어 통과하는 공기에 포함된 화학적 오염물질을 제거하는 1단계 필터 매체와, 두루마리 형태로 말린 상태에서 내측원형튜브 내부공간에 배치되는 것으로서 큰 직경의 연속기공을 구비하는 소정 두께의 발포 우레탄 폼 골격기재와 이 골격기재에 접착제를 통해 도포되는 화학적 여과물질로 이루어지는 2단계 필터 매체, 및 중심부에 소정 직경의 관통구를 구비하며 외측원형튜브의 직경보다 소정의 크기 만큼 직경이 큰 플렛링 형상으로 형성되어 중심을 일치시킨 내측원형튜브와 외측원형튜브의 하단을 폐쇄하는 하부커버를 포함하는 케미컬 필터;The upper part which closes the upper end of the inner side circular tube and the outer side circular tube which has the ventilation | permeability formed so that it may have predetermined diameter difference, and formed the diameter corresponding to the diameter of the outer circular tube, and centered the inner side circular tube and the outer side circular tube. A first stage filter medium disposed in a space defined between the cover, the inner circular tube and the outer circular tube to remove chemical contaminants contained in the passing air, and disposed in the inner circular tube inner space in a rolled-up state A two-stage filter media comprising a foamed urethane foam skeleton having a predetermined thickness having continuous pores of large diameter and a chemical filtration material applied through an adhesive to the skeleton, and having a through-hole having a predetermined diameter in the center and having an outer circular shape An inner circle formed in a flat ring shape with a diameter larger than the diameter of the tube to match the center A chemical filter comprising a lower cover for closing the lower ends of the outer tube and the outer tube;
상기 케미컬 필터의 하부커버에 구비된 관통구와 연통되는 흡입구가 상부에 구비되는 하우징;A housing having an upper suction port communicating with a through hole provided in the lower cover of the chemical filter;
상기 하우징 내부에 배치되어 흡입력을 제공하는 팬; 및 A fan disposed inside the housing to provide suction power; And
상기 팬에 의해 유입된 공기에 포함된 파티클(또는 먼지)을 제거하기 위한 파티클 필터; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 공기정화장치를 제공한다. A particle filter for removing particles (or dust) contained in the air introduced by the fan; It provides an air purifying apparatus comprising a.
여기서, 상기 케미컬 필터의 화학적 여과물질은 입자상의 활성탄, 첨착활성 탄, 이온교환수지 및 이들의 가능한 모든 선택적 조합에 따른 혼합물들 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.Here, the chemical filter material of the chemical filter is characterized in that any one of particulate activated carbon, impregnated activated carbon, ion exchange resins and mixtures according to all possible optional combinations thereof.
그리고 상기 하부커버의 관통구 직경은 내측원형튜브의 직경보다 소정의 크기 만큼 작은 것을 특징으로 한다.And the through hole diameter of the lower cover is characterized in that smaller than the diameter of the inner circular tube by a predetermined size.
더불어, 상기 하우징 상부와 상기 케미컬 필터 하부 사이에 배치되는 격자형태의 망체를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, it characterized in that it further comprises a grid-shaped mesh disposed between the upper housing and the lower chemical filter.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부되는 도면에 의거하여 더욱 상세하게 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 케미컬 필터를 도시한 분해 사시도이고, 도 8은 도 7에 도시된 케미컬 필터의 조립상태를 도시한 평단면도이다. 그리고 도 9는 본 발명에 따른 케미컬 필터의 2단계 필터매체를 구성하는 발포 우레탄 폼의 일 예를 도시한 사진이며, 도 10은 2단계 필터매체의 예들을 도시한 사진으로서, 도 10a는 첨착활성탄이 도포된 2단계 필터매체를 도시한 사진이며, 도 10b는 이온교환수지가 도포된 2단계 필터매체를 도시한 사진이다. 또한, 도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 공기정화장치를 도시한 개략적 단면도이고, 도 12는 본 발명의 다른 일 실시 예에 따른 공기정화장치를 도시한 분해 사시도이다.7 is an exploded perspective view illustrating a chemical filter according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional plan view illustrating an assembled state of the chemical filter illustrated in FIG. 7. And Figure 9 is a photograph showing an example of the foamed urethane foam constituting the two-stage filter media of the chemical filter according to the present invention, Figure 10 is a photograph showing examples of the two-stage filter media, Figure 10a impregnated activated carbon The coated two-stage filter media is a photograph, and FIG. 10B is a photograph showing the two-stage filter media coated with ion exchange resin. 11 is a schematic cross-sectional view showing an air purifier according to an embodiment of the present invention, and FIG. 12 is an exploded perspective view showing an air purifier according to another embodiment of the present invention.
본 발명에 따른 케미컬 필터(100)는, 도 7 및 도 8에 도시한 바와 같이, 내측원형튜브(110), 외측원형튜브(120), 상부커버(130), 1단계 필터 매체(140), 2단계 필터 매체(150) 및 하부커버(160)를 포함한 구성으로 이루어진다. As shown in FIGS. 7 and 8, the
내측원형튜브(110)와 외측원형튜브(120)는 공기가 원활하게 통과할 수 있도록 다공성 금속 시트나 금속 메쉬와 같은 재료로 형성될 수 있는 것으로서, 동일한 상하 길이를 갖되 서로 직경의 차이를 갖도록 형성하여 중심을 같은 축선 상에 일치시켰을 때 내측원형튜브(110)와 외측원형튜브(120) 사이에 직경차에 따른 공간이 발생하게 된다.The inner
상부커버(130)는 외측원형튜브(120)의 직경에 대응하는 직경을 구비하는 것으로서, 중심을 일치시킨 내측원형튜브(110) 및 외측원형튜브(120)의 상단을 폐쇄하도록 조립되며, 내측원형튜브(110)와 외측원형튜브(120)의 상단부를 지지하여 서로 중심이 일치된 상태에서 직경차에 의해 발생하는 공간의 간격을 유지할 수 있도록 한다.The
1단계 필터매체(140)는 전체적으로 원형 튜브 형상을 갖는 주름(pleat) 타입의 필터 매체가 사용될 수 있으며, 내측원형튜브(110)와 외측원형튜브(120) 사이에 한정되는 공간에 배치된다. 이와 같은 1단계 필터매체(140)는 외측원형튜브(120)를 통해 유입되는 공기에 포함된 화학적 오염물질을 1차적으로 제거하는 역할을 수행하게 된다.The first
2단계 필터매체(150)는 1단계 필터 매체(140)와 더불어 2차적으로 화학적 오염물질을 제거하는 역할을 수행한다.The second
2단계 필터매체(150)는 큰 직경의 연속기공을 구비하는 소정 두께의 발포 우레탄 폼 골격기재와 이 골격기재에 접착제를 통해 도포되는 화학적 여과물질로 이루어진다. 도 9에 2단계 필터매체를 구성하는 발포 우레탄 폼의 일 예를 도시하고 있다. 이와 같은 2단계 필터 매체(150)는 두루마리 형태로 말린 상태에서 내측원형튜브(110)의 내부공간에 배치되어, 외측원형튜브(120), 1단계 필터 매체(140) 및 내측원형튜브(110)를 순차적으로 통과하여 유입된 공기에 잔존한 화학적 오염물질을 제거하게 된다. The second
그리고 2단계 필터매체(150)는 1단계 필터매체(140)에서 제거되지 못한 동일한 종류의 화학적 오염물질을 제거하는 역할을 수행할 수도 있고 1단계 필터매체(140)에서 제거하지 못하는 다른 종류의 화학적 오염물질을 제거할 목적으로도 사용될 수 있는 것으로서, 제거할 오염물질의 종류에 따라 다양한 종류의 화학적 여과물질이 포함된 형태로 구비될 수 있다. 즉, 목적 오염물질의 종류에 따라, 입자상의 활성탄, 첨착활성탄 또는 이온교환수지가 독자적으로 화학적 여과물질로 사용될 수 있으며, 경우에 따라 이들의 가능한 모든 선택적 조합에 따른 혼합물들 중 어느 하나를 화학적 오염물질로 사용하는 것도 가능하다. 좀 더 상세히 설명하면, 활성탄, 첨착활성탄, 또는 이온교환수지를 각각 독자적으로 사용되거나, 활성탄과 이온교환수지의 혼합물, 첨착활성탄과 이온교환수지의 혼합물, 활성탄과 첨착활성탄의 혼합물, 또는 활성탄과 첨착활성탄 및 이온교환수지의 혼합물이 화학적 여과물질로 사용될 수 있다. 여기서, 이온교환수지는 다시 양이온교환수지와 음이온교환수지로 구분될 수 있는 것으로서, 선택적으로 또는 함께 사용될 수 있는 것이다. 도 10a에 첨착활성탄이 도포된 2단계 필터매체를, 도 10b에 이온교환수지가 도포된 2단계 필터매체를 도시하고 있다. In addition, the second
한편, 골격기재로 사용되는 발포 우레탄 폼은, 도 9에 도시한 바와 같이, 큰 직경의 연속기공을 구비하여 통기성이 우수한 재료로서, 입자상의 활성탄, 첨착활성탄 또는 이온교환수지가 접착제를 통해 도포된 상태에서 사용될 경우에도 압력손실에 의한 문제가 없을 정도로 여전히 우수한 통기성을 구비한다. 또한, 골격기재로 사용되는 발포 우레탄 폼은 우수한 탄성을 구비한 재료로서, 두루마리 형태로 말린 상태에서 탄성에 의해 내측원형튜브의 내측 벽면에 밀착된 상태를 유지하게 된다. On the other hand, the foamed urethane foam used as the skeleton substrate, as shown in Figure 9, is a material having excellent air permeability with a large diameter continuous pores, the granular activated carbon, impregnated activated carbon or ion exchange resin is applied through an adhesive Even when used in a state, it still has excellent ventilation so that there is no problem due to pressure loss. In addition, the foamed urethane foam used as the skeletal substrate is a material having excellent elasticity, and is maintained in close contact with the inner wall surface of the inner circular tube by elasticity in a state of being dried in a roll form.
하부커버(160)는 중심부에 소정 직경의 관통구(165)를 구비하며 외측원형튜브(120)의 직경보다 소정의 크기 만큼 직경이 큰 플랫링 형상으로 형성되는 것으로서, 중심을 일치시킨 내측원형튜브(110)와 외측원형튜브(120)의 하단을 폐쇄하도록 조립되며, 상부커버(130)와 마찬가지로 내측원형튜브(110)와 외측원형튜브(120)의 하단부를 지지하여 서로 중심이 일치된 상태에서 직경차에 의해 발생하는 1단계 필터매체(140)가 수납되는 공간의 간격을 유지할 수 있도록 한다. 여기서, 하부커버(160)의 관통구(165)는 후술할 공기정화장치(200)를 구성하는 하우징(170)의 흡입구(175)와 연통되는 케미컬 필터(100)의 출구(outlet) 역할을 수행하는 것으로서, 도 11에 도시한 바와 같이, 관통구(165)의 직경은 하우징의 흡입구(175)와 동일한 직경을 구비하되 내측원형튜브(110)의 내경 보다 소정의 크기 만큼 작은 직경으로 형성되는 것이 바람직하며, 따라서 관통구(165)의 가장자리를 따라 케미컬 필터의 내부공간에 걸림턱을 구비하는 것과 같은 구조가 되어 내측원형튜브(110)의 내부공간에 배치되는 2단계 필터 매체(150)가 관통구를 통해 쉽게 이탈되지 못하도록 한다.The
상부커버(130)와 하부커버(160)는 케미컬 필터(100)를 통과하는 공기의 유로를 한정하는 역할도 수행하는 것으로서, 공기가 외측원형튜브(120)와 1단계 필터 매체(140) 및 내측원형튜브(110) 및 2단계 필터 매체(150)를 순차적으로 통과하여 하부커버(160)의 관통공(165)을 통해 공기정화장치(200)를 구성하는 팬(180)으로 유입될 수 있도록 유동 경로를 한정함으로써, 케미컬 필터(100)를 통과하는 공기의 유동 속도가 각 필터 매체(140, 150)의 모든 부위에서 전체적으로 고른 분포를 보이게 됨에 따라 통과하는 공기의 유량이 균형을 이루게 되며, 따라서 오염물질 흡수능력이 국부적으로 급격히 빨리 소진되어 케미컬 필터의 수명을 단축시키는 등의 문제를 해소할 수 있게 된다.The
한편, 본 발명에 따른 공기정화장치는, 도 11 및 도 12에 도시한 바와 같이, 상기한 바와 같은 구성의 케미컬 필터(100)와, 케미컬 필터(100)의 하부커버(160)에 구비된 관통구(165)와 연통되는 공기 흡입구(175)가 상부에 구비되는 하우징(170)과, 이 하우징(170) 내부에 배치되어 흡입력을 제공하는 팬(180), 및 이 팬(180)에 의해 유입된 공기에 포함된 파티클(또는 먼지)을 제거하기 위한 파티클 필터(190)를 포함한 구성으로 이루어진다.On the other hand, the air purifying apparatus according to the present invention, as shown in Fig. 11 and 12, through the
케미컬 필터(100)는 하부커버(160)의 저면이 하우징(170) 상부에 접촉하도록 배치된 상태로 장착되는 것으로서, 이때 하우징(170)의 흡입구(175)와 케미컬 필터(100)의 하부커버(160)에 구비된 관통공(165)이 중심이 일치되어 연통된 상태가 된다. 하부커버(160)는 그 가장자리부분에 원주방향을 따라 일정한 간격으로 형성 되는 체결공(163)을 구비하며, 따라서 체결공(163)을 통해 볼트 등과 같은 채결부재(167)를 체결함으로써 케미컬 필터(100)가 하우징(170) 상부에 용이하게 장착되어 공기정화장치(200)를 이루게 된다. The
한편, 하우징(170) 상부와 케미컬 필터(100)의 하부 사이에 금속 또는 고분자재료 등 다양한 재료로 형성될 수 있는 격자형태의 망체(210)가 배치될 수 있다. 이 망체(210)는 케미컬 필터(100)의 2단계 필터 매체(150)가 하부커버(160)의 관통공(165)과 하우징(170)의 흡입구(175)를 통해 팬(180) 측으로 이탈하는 것을 완벽하게 차단하는 역할을 수행한다. 즉, 케미컬 필터(100) 내부에 배치되는 2단계 필터 매체(150)는 걸림턱 역할을 수행하는 하부커버(160)의 관통공(165) 가장자리 부분에 의해 1차적으로 이탈이 방지되지만 기계적으로 완벽하게 고정되는 것은 아니므로, 망체(210)를 구비함으로써 팬(180)에 의해 큰 강한 흡입력이 작용하더라고 완벽한 이탈방지가 가능하게 될 수 있는 것이다.On the other hand, between the upper portion of the
상기한 바와 같은 케미컬 필터 및 이를 포함하는 공기정화장치는, 팬(180)에 의해 제공되는 흡입력에 의해 케미컬 필터(100)로 유입되는 공기를 1단계 필터 매체(140)와 2단계 필터 매체(150)를 순차적으로 통과하면서 다양한 종류의 화학적 오염물질이 종합적으로 제거된 상태로 팬(180)을 통과하도록 하고, 최종적으로 파티클 필터(190)를 통해 파티클(또는 먼지)이 제거된 높은 순도의 청정공기로 정화하여 클린룸으로 공급할 수 있도록 한다. 즉, 본 발명에 따른 케미컬 필터는 통기성이 우수한 큰 직경의 연속기공을 구비하는 발포 우레탄 폼을 골격기재로 하는 2 단계 필터매체를 사용함으로써 압력손실의 상승이 최소화되는 가운데, 클린룸에서 이루어지는 반도체 제조공정에 영향을 미칠 수 있는 다양한 종류의 유해 화학적 오염물질을 2단계의 화학적 여과과정을 통해 효과적으로 제거할 수 있도록 하는 것이다. The chemical filter as described above and the air purifier including the same, the air flowing into the
이상과 같은 케미컬 필터 및 이를 포함하는 공기정화장치를 제공함으로써, 케미컬 필터를 통과하는 공기의 유동속도가 전체적으로 고른 분포를 나타냄에 따라 케미컬 필터의 수명이 연장과 더불어 교체주기가 길어질 뿐만 아니라, 공기정화장치를 전체적으로 해체할 필요없이 용이한 방법으로 케미컬 필터를 교체할 수 있음에 따라 교체에 소요되는 시간이 단축되는 효과를 얻을 수 있으며, 부가적으로 케미컬 필터의 교체작업 중에 중단될 수밖에 없는 클린룸에서의 반도체 제조공정의 중단시간을 감소시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.By providing the above-described chemical filter and the air purifier including the same, as the flow rate of the air passing through the chemical filter shows an even distribution as a whole, not only the life of the chemical filter is extended but also the replacement cycle is long, The chemical filter can be replaced in an easy way without having to disassemble the device as a whole, which can reduce the time required for replacement.In addition, in a clean room that must be interrupted during the replacement of the chemical filter. The effect of reducing the downtime of the semiconductor manufacturing process can be obtained.
한편, 다양한 종류의 화학적 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있음에 따라 클린룸에 더욱더 순도 높은 청정공기를 공급할 수 있으며, 결국 반도체에 관한 집적화기술이 지속적으로 발전함과 더불어 더욱 정밀해지는 반도체 제조공정에서 요구하는 바를 충족시킬 수 있게 되는 것이다.On the other hand, by effectively removing various kinds of chemical contaminants, it is possible to supply clean air with higher purity.In the end, the integration technology for semiconductors continues to develop and is required for more precise semiconductor manufacturing processes. You will be able to meet what you are doing.
이상과 같은 본 발명은 특정의 실시 예와 관련하여 도시 및 설명하였지만, 특허청구범위에 의해 나타난 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 설계변경 및 변화가 가능하다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 쉽게 알 수 있을 것이다. While the present invention as described above has been shown and described with respect to specific embodiments, it is common knowledge in the art that various design changes and changes are possible without departing from the spirit and scope of the invention as indicated by the claims. Anyone who has a can easily know.
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