KR101270102B1 - Carbon dioxide injection apparatus and method - Google Patents
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Abstract
본 발명은 이산화탄소 주입 장치 및 주입 방법에 관한 것으로, 전후단에 각각 물이 유입, 배출되는 유입구와 배출구가 형성되는 케이스, 상기 케이스의 내부에 설치되는 벤투리부 및 상기 벤투리부에 구비되는 모세관과 연결되어 상기 모세관을 통해 흐르는 물에 미리 설정된 압력으로 이산화탄소를 주입하는 주입부를 포함하는 구성을 마련한다.
상기와 같은 이산화탄소 주입 장치 및 주입 방법을 이용하는 것에 의해, 본 발명은 벤투리부의 모세관을 따라 이동하는 물에 이산화탄소를 주입해서 물의 확산 원리를 이용해 이산화탄소를 물에 용해시켜 무정전 상태의 물을 배출한다. The present invention relates to a carbon dioxide injection device and an injection method, the case in which the inlet and outlet ports for water is introduced and discharged in front and rear, respectively, the venturi portion installed in the case and the capillary tube provided in the venturi portion It is connected to provide a configuration including an injection unit for injecting carbon dioxide at a predetermined pressure to the water flowing through the capillary tube.
By using the carbon dioxide injection device and the injection method as described above, the present invention injects carbon dioxide into the water moving along the capillary of the venturi portion and dissolves the carbon dioxide in water using the diffusion principle of water to discharge the water in the uninterrupted state.
Description
본 발명은 이산화탄소 주입 장치 및 주입 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체나 패널의 제조공정에서 반도체나 패널의 세정에 사용되는 순수(純水) 또는 초순수(超純水)를 무정전 상태로 만들도록 이산화탄소를 주입하는 이산화탄소 주입 장치 및 주입 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a carbon dioxide injection device and an injection method, and more particularly, to make pure or ultrapure water used for cleaning semiconductors or panels in an uninterruptible state in a semiconductor or panel manufacturing process. A carbon dioxide injection apparatus and an injection method for injecting carbon dioxide.
일반적으로 반도체나 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plazma Display Pannel, PDP)과 같은 패널 제조공정 중에서는 액체(순수, 초순수)를 사용하여 반도체나 패널의 세정 작업을 진행하고 있다. In general, during a panel manufacturing process such as a semiconductor, a liquid crystal display (LCD), or a plasma display panel (PDP), a liquid (pure or ultrapure) is used to clean a semiconductor or a panel. have.
여기서 순수나 초순수를 사용하는 이유는 액체의 순도가 높아 전기전도도가 매우 낮기 때문에, 순수나 초순수를 이용해서 준 무정전 상태를 응용하여 반도체나 패널을 세정한 후 반도체나 패널에 이물질이 재부착되는 것을 방지할 수 있다.The reason why pure water or ultrapure water is used is that the conductivity of the liquid is high and the electrical conductivity is very low. Therefore, after cleaning the semiconductor or the panel by applying a semi-interruptible state using pure or ultrapure water, the foreign matter is reattached to the semiconductor or the panel. You can prevent it.
하지만, 순수나 초순수는 완벽한 무정전 상태가 아니므로, 세정 공정에서 불량이 발생하였다. However, pure water or ultrapure water is not a perfect uninterrupted state, so a defect occurs in the cleaning process.
따라서 세정 작업 이후에 이물 재부착으로 인한 불량을 감소시키기 위해 순수 또는 초순수에 이산화탄소를 용해시킨 무정전 상태의 용액을 이용해서 세정 공정을 수행하는 기술이 사용되고 있다. Therefore, in order to reduce the defects caused by the reattachment of foreign matter after the cleaning operation, a technique of performing the cleaning process using an uninterrupted solution in which carbon dioxide is dissolved in pure water or ultrapure water has been used.
도 1은 종래의 순수 또는 초순수에 이산화탄소를 용해시키는 이산화탄소 용해 장치의 구성도이다. 1 is a configuration diagram of a carbon dioxide dissolving device for dissolving carbon dioxide in pure water or ultrapure water according to the related art.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 이산화탄소 용해 장치는 스테인리스 재질의 케이스(1) 내부에 중공사막(中空紗膜, Hollow Fiber) 필터(2)를 내장한 후, 중공사막 필터(2) 내부에 물이 흐르게 하고, 중공사막 필터(2)의 외부에서 이산화탄소(CO2)를 가압하여 이산화탄소가 중공사막의 기공을 통해 중공사막 필터(2) 내부로 침투하면서 마이크로 버블화(micro bubble)하여 물속에 용해되도록 한다(H2O+CO2→H2CO3). As shown in FIG. 1, the conventional carbon dioxide dissolving device incorporates a
여기서, 상기 중공사막에 형성된 기공은 약 0.5mm의 직경을 가진다.Here, the pores formed in the hollow fiber membrane has a diameter of about 0.5mm.
이와 같이 구성되는 종래의 이산화탄소 용해 장치는 중공사막을 이용해 순수 또는 초순수에 이산화탄소를 용해시키는 과정에서 중공사막 내부에 스케일이 발생할 경우, 물의 흐름을 방해하게 된다. In the conventional carbon dioxide dissolving device configured as described above, when scale is generated inside the hollow fiber membrane in the process of dissolving carbon dioxide in pure water or ultrapure water using the hollow fiber membrane, the flow of water is disturbed.
이에 따라, 중공사막을 이용해 순수 또는 초순수에 이산화탄소를 용해시키는 종래의 이산화탄소 용해 장치는 물이 원활하게 흐를 수 있도록 중공사막을 주기적으로 교체해야만 함에 따라 유지 보수에 소요되는 비용 및 시간이 증가하는 문제점이 있었다. Accordingly, the conventional carbon dioxide dissolving apparatus that dissolves carbon dioxide in pure water or ultrapure water using a hollow fiber membrane has to increase the cost and time required for maintenance as the hollow fiber membrane must be periodically replaced so that water can flow smoothly. there was.
그리고 종래의 이산화탄소 용해 장치는 중공사막 필터의 중공사가 외부로 유출되기 때문에, 유출된 중공사를 배출하기 위한 드레인을 설치해야만 함에 따라 구조가 복잡하고, 조립작업의 공수가 증가하여 작업성이 저하되며, 부품 수 증가로 인해 제작비용이 상승하는 문제점이 있었다.
In addition, since the hollow fiber of the hollow fiber membrane filter is leaked to the outside, the conventional carbon dioxide dissolving device has to be provided with a drain for discharging the leaked hollow fiber, the structure is complicated, and the work of the assembly work increases and the workability is deteriorated. There is a problem that the manufacturing cost increases due to the increase in the number of parts.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 반도체나 패널의 세정 공정에 사용되는 순수 또는 초순수에 이산화탄소를 용해시켜 무정전 상태의 용액을 제조하는 이산화탄소 주입 장치 및 주입 방법을 제공하는 것이다.The present invention is to solve the problems described above, an object of the present invention is to provide a carbon dioxide injection device and an injection method for dissolving carbon dioxide in pure water or ultrapure water used in the semiconductor or panel cleaning process to produce an uninterrupted solution To provide.
본 발명의 다른 목적은 이산화탄소가 완전 용해된 무정전 상태의 용액을 용이하게 제조할 수 있는 이산화탄소 주입 장치 및 주입 방법을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a carbon dioxide injection apparatus and an injection method which can easily prepare an uninterruptible solution in which carbon dioxide is completely dissolved.
본 발명의 또 다른 목적은 드레인을 제거하고 간단한 구조의 구성을 이용해 이산화탄소를 주입할 수 있는 이산화탄소 주입 장치 및 주입 방법을 제공하는 것이다. Still another object of the present invention is to provide a carbon dioxide injection apparatus and an injection method capable of injecting carbon dioxide by removing a drain and using a simple structure.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명은 전후단에 각각 물이 유입, 배출되는 유입구와 배출구가 형성되는 케이스, 상기 케이스의 내부에 설치되는 벤투리부 및 상기 벤투리부에 구비되는 모세관과 연결되어 상기 모세관을 통해 흐르는 물에 미리 설정된 압력으로 이산화탄소를 주입하는 주입부를 포함한다.According to a feature of the present invention for achieving the object as described above, the present invention is a case in which the inlet and outlet ports are formed in the front and rear, respectively, the inlet and outlet, the venturi portion and the ben installed inside the case It is connected to the capillary tube provided in the turing portion includes an injection unit for injecting carbon dioxide at a predetermined pressure to the water flowing through the capillary tube.
상기 벤투리부는 상기 유입구를 통해 유입된 물의 유속을 높이도록 직경이 점차 작아지게 형성되는 제 1경사부, 상기 제 1경사부를 통해 전달되는 물의 유속을 증가시키도록 미리 설정된 직경 및 길이로 형성되는 모세관 및 일측이 상기 모세관에 연결되고 직경이 점차 커지게 형성되는 제 2경사부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The venturi portion is a capillary tube having a diameter and a length that are preset to increase a flow velocity of water transferred through the first inclined portion, the first inclined portion is formed to gradually decrease in diameter to increase the flow rate of the water introduced through the inlet port And a second inclined portion having one side connected to the capillary and gradually increasing in diameter.
상기 케이스는 전후방이 개구된 원통부, 상기 원통부의 전후단에 결합되는 제 1 및 제 2커버 그리고 상하측에서 환 형상이 되도록 결합되어 상기 제 1 및 제 2커버와 원통부를 결합하는 상부 및 하부 결합부재를 포함하고, 상기 원통부의 전후단과 제 1커버의 후단 및 제 2커버의 전단 외주면에는 상기 상부 및 하부 결합부재의 내주면에 형성된 홈에 대응되는 돌출환턱이 형성되는 것을 특징으로 한다.The case is coupled to the upper and lower openings of the cylindrical portion, the first and second covers coupled to the front and rear ends of the cylindrical portion, and the upper and lower sides to form an annular shape to combine the first and second cover and the cylindrical portion It includes a member, the front and rear ends of the cylindrical portion, the rear end of the first cover and the front outer peripheral surface of the second cover is characterized in that the protruding annulus corresponding to the groove formed in the inner peripheral surface of the upper and lower coupling members is formed.
상기 상부 및 하부 결합부재의 홈은 전후방을 향해 비스듬하게 경사지게 형성되고, 상기 돌출환턱은 전방 또는 후방을 향해 비스듬하게 경사지게 형성되는 것을 특징으로 한다.The grooves of the upper and lower coupling members are inclined obliquely toward the front and rear, and the protruding annulus is formed obliquely inclined toward the front or the rear.
상기 주입부는 상기 모세관과 연결되는 주입관과 상기 주입관의 상단부에 연결되어 이산화탄소를 공급하는 파이프나 호스와 결합되는 소켓을 구비하는 것을 특징으로 한다.The injection portion is characterized in that it comprises an injection pipe connected to the capillary tube and a socket coupled to the upper end of the injection pipe and coupled with a pipe or hose for supplying carbon dioxide.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 본 발명은 (a) 유입구를 통해 미리 설정된 압력 및 유량의 물을 케이스 내부로 유입시키는 단계, (b) 상기 케이스 내부로 유입된 물을 직경이 점차 작아지게 형성된 제 1경사부를 통해 이동시켜 물의 유속을 높이는 단계, (c) 상기 제 1경사부에 연결된 모세관에 이산화탄소를 주입하는 단계 및 (d) 상기 제 (c)단계에서 이산화탄소가 주입된 물을 직경이 점차 커지게 형성된 제 2경사부를 통해 이동시켜 물의 확산 원리를 이용해 이산화탄소를 물에 용해시키는 단계를 포함한다.According to another feature of the invention, the present invention comprises the steps of (a) introducing water of a predetermined pressure and flow rate through the inlet into the case, (b) the agent formed to gradually decrease the diameter of the water introduced into the case Moving through the first inclined portion to increase the flow rate of water, (c) injecting carbon dioxide into the capillary connected to the first inclined portion, and (d) gradually increasing the diameter of the water injected with carbon dioxide in the (c) step. Displacing carbon dioxide in water using a diffusion principle of water by moving through the second inclined portion.
상기 제 (d)단계에서 이산화탄소가 용해된 물은 무정전 상태인 것을 특징으로 한다.Water in which carbon dioxide is dissolved in step (d) is characterized in that it is in an uninterrupted state.
상술한 바와 같이, 본 발명은 벤투리부의 모세관을 따라 이동하는 물에 이산화탄소를 주입해서 물의 확산 원리를 이용해 이산화탄소를 물에 용해시켜 무정전 상태의 물을 배출한다. As described above, the present invention injects carbon dioxide into water moving along the capillary of the venturi portion, and dissolves the carbon dioxide in water using the diffusion principle of water to discharge the water in the uninterrupted state.
실험결과에 따르면, 본 발명은 이산화탄소를 주입하여 비저항이 약 0.068 내지 0.078 ㏁/㎝인 무정전 상태의 물을 제공함에 따라, 본 발명에 의한 무정전 상태의 물을 이용해 반도체나 패널의 세정공정을 수행하게 되면, 반도체나 패널에 이물질이 재부착되는 것을 방지할 수 있다.According to the experimental results, the present invention provides an uninterrupted water having a specific resistance of about 0.068 to 0.078 dl / cm by injecting carbon dioxide, thereby performing the cleaning process of the semiconductor or panel using the uninterrupted water according to the present invention. In this case, it is possible to prevent foreign matter from reattaching to the semiconductor or the panel.
그리고 본 발명은 물의 비저항, 물이 유입되는 압력, 이산화탄소가 주입되는 압력을 이론적인 계산에 의해 미리 설정하고, 설정된 바에 따라 물을 유입시켜 모세관에서 물의 확산 원리에 따라 이산화탄소를 물에 완전 용해시킬 수 있다.In the present invention, the specific resistance of water, the pressure into which water is introduced, and the pressure into which carbon dioxide is injected are set in advance by theoretical calculations, and the water can be introduced in accordance with the setting to completely dissolve carbon dioxide in water according to the principle of water diffusion in the capillary. have.
또 본 발명은 중공사막 필터를 이용하는 종래기술에 비해 구조가 간단하고, 중공사막 필터의 교체와 같은 유지 보수 작업이 필요없어 유지 보수에 필요한 경제적, 시간적, 인적 비용을 절감하는 효과가 있다. In addition, the present invention has a simple structure compared to the prior art using a hollow fiber membrane filter, and does not require maintenance work such as replacement of the hollow fiber membrane filter, thereby reducing the economic, time and human cost required for maintenance.
도 1은 종래기술에 따른 이산화탄소 용해 장치의 구성도.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 이산화탄소 주입 장치의 구성도.
도 3은 모세관의 내경별 압력저하 실험결과 그래프.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 이산화탄소 주입 장치의 주입방법을 단계별로 설명하는 흐름도.1 is a block diagram of a carbon dioxide dissolving device according to the prior art.
2 is a block diagram of a carbon dioxide injection apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
Figure 3 is a graph of the results of pressure drop by inner diameter of the capillary tube.
Figure 4 is a flow chart illustrating a step-by-step method of injecting a carbon dioxide injection apparatus according to an embodiment of the present invention.
이하 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 이산화탄소 주입 장치를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, a carbon dioxide injection apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 이산화탄소 주입 장치의 구성도이다.2 is a block diagram of a carbon dioxide injection apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 이산화탄소 주입 장치는 원통 형상을 형성되어 전후단에 각각 물이 유입, 배출되는 유입구(14)와 배출구(15)가 형성되는 케이스(10), 케이스(10)의 내부에 설치되는 벤투리부(20) 및 벤투리부(20)에 구비되는 모세관(21)과 연결되어 모세관(21)을 통해 흐르는 물에 미리 설정된 압력으로 이산화탄소를 주입하는 주입부(30)를 포함한다.As shown in FIG. 2, the carbon dioxide injecting apparatus according to the preferred embodiment of the present invention has a cylindrical shape, and a
본 실시 예서는 설명의 편의를 위해, 도 2에서 보았을 때 유입구(14)가 형성된 방향을 '전방'이라 하고, 배출구(15)가 형성된 방향을 '후방'이라 한다. In the present embodiment, for convenience of description, the direction in which the
케이스(10)는 전후방이 개구된 원통부(11), 원통부(11)의 전후단에 결합되는 제 1 및 제 2커버(12,13), 상하측에서 환 형상의 되도록 결합되어 제 1 및 제 2커버(12,13)와 원통부(11)를 결합하는 상부 및 하부 결합부재(16,17)를 구비한다. The
이를 위해, 원통부(11)의 전후단과 제 1커버(12)의 후단 및 제 2커버(13)의 전단 외주면에는 상부 및 하부 결합부재(16,17)의 내주면에 형성된 홈에 대응되는 돌출환턱(18)이 형성된다.To this end, protruding annulus corresponding to the grooves formed on the inner circumferential surfaces of the upper and
상부 및 하부 결합부재(16,17)의 홈은 전후방을 향해 비스듬하게 경사지게 형성되고, 돌출환턱(18)은 전방 또는 후방을 향해 비스듬하게 경사지게 형성된다. The grooves of the upper and
제 1커버(17)의 전단에는 물이 유입되는 유입구(14)가 형성되고, 제 2커버(13)의 후단에는 물이 배출되는 배출구(15)가 형성된다. An
여기서, 물은 순수 또는 초순수 증류수(Delonized Water, DIW, 탈이온수)와 같이 정제된 상태의 물로서, 본 실시 예에서는 약 18㏁/㎝의 비저항을 가지는 초순수 증류수를 사용한다.Here, the water is purified water such as pure water or ultrapure distilled water (Delonized Water, DIW, deionized water), in this embodiment, ultrapure distilled water having a specific resistance of about 18 kW / cm is used.
그리고 물은 약 25℃의 온도로 이론적인 계산에 의해 미리 설정된 압력, 즉 약 2~3 ㎏f/㎠의 압력으로 유입구(14)에 유입된다.Water enters the
벤투리부(20)는 직경이 점차 작아지게 형성되는 제 1경사부(21), 제 1경사부(21)를 통해 전달되는 물의 유속을 증가시키고 압력을 낮추도록 미리 설정된 직경 및 길이로 형성되는 모세관(22) 및 일측이 모세관(22)의 후단에 연결되어 직경이 점차 커지게 형성되는 제 2경사부(23)를 포함한다.The
벤투리부(20)는 물의 확산 원리에 따라 물의 유속을 증가시킨 후 주입부(30)로부터 이산화탄소가 주입되면 다시 물의 유속을 감소시켜 물 분자를 불안정하게 하여 이산화탄소가 물에 자연스럽게 혼합되어 용해되도록 한다. The
이를 위해, 벤투리부(20)는 내부를 흐르는 물의 유속을 완만하게 높이고 급격하게 낮추기 위해, 제 1경사부(21)의 경사를 완만하게 형성하고, 제 2경사부(23)의 경사각을 제 1경사부(21)의 경사각보다 크게 하여 급격하게 형성된다.To this end, the
예를 들어, 제 1경사부(21)는 약 26°의 경사로 형성되고, 제 2경사부(23)는 약 55°의 경사로 형성된다. For example, the first
그리고 모세관(22)은 약 10mm 또는 15mm의 내경과 약 30mm의 길이로 형성된다.The
예를 들어, 표 1은 모세관의 내경별 압력저하 실험결과 테이블이고, 도 3은 표1의 실험결과 그래프이다.For example, Table 1 is a pressure drop test results table by the inner diameter of the capillary tube, Figure 3 is a graph of the test results in Table 1.
표 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 모세관(22)의 내경이 10mm인 경우 모세관(22)을 흐르는 유량이 점차적으로 증가함에 따라 압력저하가 매우 급격하게 증가하기 때문에, 본 실시 예에서 모세관은 약 15mm의 내경으로 형성되는 것이 바람직하다. As shown in Table 1 and Figure 3, when the inner diameter of the
주입부(30)는 도 2에 도시된 바와 같이, 모세관(22)과 연결되는 주입관(31)과 주입관(31)의 상단부에 연결되어 이산화탄소를 공급하는 파이프나 호스와 결합되는 소켓(32)을 구비한다. As shown in FIG. 2, the
본 실시 예에서 이산화탄소는 약 3㎏f/㎠의 압력 및 약 2LPM의 유량으로 주입부를 통해 모세관으로 주입된다.In this embodiment, the carbon dioxide is injected into the capillary through the injection portion at a pressure of about 3kgf / ㎠ and a flow rate of about 2LPM.
이와 같이, 본 발명은 물의 비저항, 물이 유입되는 압력, 이산화탄소가 주입되는 압력을 이론적인 계산에 의해 미리 설정하고, 설정된 바에 따라 물을 유입시켜 모세관에서 물의 확산 원리에 따라 이산화탄소를 물에 완전 용해시킨다.
As described above, the present invention presets the specific resistance of water, the pressure into which water is introduced, and the pressure into which carbon dioxide is injected by theoretical calculation. Let's do it.
다음, 도 4를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 이산화탄소 주입 장치의 주입 방법을 상세하게 설명한다. Next, a method of injecting a carbon dioxide injection apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 4.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 이산화탄소 주입 장치의 주입방법을 단계별로 설명하는 흐름도이다. 4 is a flowchart illustrating a step-by-step injection method of the carbon dioxide injection device according to an embodiment of the present invention.
도 4에 도시된 바와 같이, 유입구(14)를 통해 초순수 증류수와 같이 정제된 물을 미리 설정된 약 2-3 2~3㎏f/㎠의 압력으로 본 발명의 이산화탄소 주입 장치의 케이스(10) 내부에 유입시킨다(S10). As shown in FIG. 4, inside the
이와 같이, 케이스(10) 내부로 유입된 물은 점차적으로 직경이 작아지게 형성된 제 1경사부(21) 및 모세관(22)을 지나면서 유속이 증가하게 된다. As such, the water flowing into the
이때, 주입부(30)를 통해 이산화탄소를 미리 설정된 약 3 ㎏f/㎠의 압력 및 약 2 LPM의 유량으로 모세관(22)에 주입한다(S11). At this time, the carbon dioxide is injected into the
그러면, 물과 이산화탄소는 모세관(22)에 연결된 제 2경사부(23)로 이동하게 된다.Then, the water and carbon dioxide is moved to the second
이때, 제 2경사부(23)가 급격하게 직경이 커지도록 약 55°의 경사각으로 형성됨에 따라, 물 분자는 유로의 급격한 확장에 의해 화학적으로 불안정한 상태가 된다. At this time, as the second
이에 따라, 제 2경사부(23)로 이동된 이산화탄소는 5 ㎛ 이하의 초미세 기포를 형성하면서 마이크로 버블화하여 물 분자 사이에 자연스럽게 혼합되어 용해된다(S12). Accordingly, the carbon dioxide moved to the second
이와 같이, 이산화탄소가 용해된 물은 배출구(15)를 통해 배출되어 반도체나 패널의 세정 공정에 사용된다.
As such, the water in which carbon dioxide is dissolved is discharged through the
표 2는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 이산화탄소 주입 장치 및 주입 방법에 따라 이산화탄소가 용해된 물의 비저항(resistivilty)을 측정한 실험결과 테이블이다. Table 2 is a table of the experimental results of measuring the specific resistance (resistivilty) of water in which carbon dioxide is dissolved according to the carbon dioxide injection device and the injection method according to a preferred embodiment of the present invention.
여기서, 표 2의 실험결과는 비저항이 18 ㏁/㎝ 이상이고 25℃ 상온의 초순수 증류수를 약 2~3 ㎏f/㎠의 압력으로 유입시키고, 이산화탄소를 약 3 ㎏f/㎠의 압력 및 2 LPM의 유량으로 주입하여 5차에 걸쳐 실험한 결과이다.Here, the experimental results of Table 2 shows that the specific resistance is 18 ㏁ / ㎝ or more and 25 ° C room temperature ultra pure distilled water at a pressure of about 2 ~ 3 kgf / ㎠, carbon dioxide is about 3 kgf / ㎠ pressure and 2 LPM Injected at the flow rate of the result of the experiment over five times.
표 2에서 알 수 있듯이, 본 발명은 이산화탄소를 주입하여 비저항이 약 0.068 내지 0.078 ㏁/㎝인 무정전 상태의 물을 제공한다. As can be seen from Table 2, the present invention provides an uninterrupted water having a specific resistance of about 0.068 to 0.078 dl / cm by injecting carbon dioxide.
이에 따라, 본 발명에 따른 무정전 상태의 물을 이용해 반도체나 패널의 세정공정을 수행하게 되면, 반도체나 패널에 이물질이 재부착되는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, when the cleaning process of the semiconductor or the panel is performed using the uninterruptible water according to the present invention, it is possible to prevent the foreign matter from reattaching to the semiconductor or the panel.
상기한 바와 같은 과정을 통하여, 본 발명은 벤투리부의 모세관을 따라 이동하는 물에 이산화탄소를 주입하여 물의 확산 원리를 이용해 이산화탄소를 물에 용해시켜 무정전 상태의 물을 배출한다. Through the above process, the present invention injects carbon dioxide into the water moving along the capillary of the venturi portion to dissolve the carbon dioxide in water using the diffusion principle of water to discharge the water in the uninterrupted state.
이상 본 발명자에 의해서 이루어진 발명을 상기 실시 예에 따라 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 예에 한정되는 것은 아니고 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러 가지로 변경 가능한 것은 물론이다.
Although the present invention has been described in detail with reference to the above embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.
10: 케이스 11: 원통부
12,13: 제 1,제 2커버 14: 유입구
15: 배출구 16,17: 상,하부 결합부재
18: 돌출환턱 20: 벤투리부
21: 제 1경사부 22: 모세관
23: 제 2경사부 30: 주입부
31: 주입관 32: 소켓10: case 11: cylindrical part
12,13: first and second cover 14: inlet
15:
18: protrusion projection 20: venturi part
21: first slope 22: capillary tube
23: second inclined portion 30: injection portion
31: injection tube 32: socket
Claims (7)
상기 케이스의 내부에 설치되는 벤투리부 및
상기 벤투리부에 구비되는 모세관과 연결되어 상기 모세관을 통해 흐르는 물에 미리 설정된 압력으로 이산화탄소를 주입하는 주입부를 포함하고,
상기 벤투리부는 상기 유입구를 통해 유입된 물의 유속을 높이도록 직경이 점차 작아지게 형성되는 제 1경사부,
상기 제 1경사부를 통해 전달되는 물의 유속을 증가시키도록 미리 설정된 직경 및 길이로 형성되는 모세관 및
일측이 상기 모세관에 연결되고 직경이 점차 커지게 형성되는 제 2경사부를 포함하며,
상기 벤투리부에서 이산화탄소가 용해된 물은 반도체나 패널의 세정수로 사용하도록 무정전 상태이고,
상기 제2 경사부의 경사각은 상기 제1 경사부의 경사각보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 주입 장치. Cases in which the inlet and outlet ports are formed at the front and rear ends, respectively,
Venturi portion is installed inside the case and
It is connected to the capillary tube provided in the venturi portion includes an injection unit for injecting carbon dioxide at a predetermined pressure to the water flowing through the capillary tube,
The venturi portion is a first inclined portion is formed to gradually decrease in diameter to increase the flow rate of water introduced through the inlet,
A capillary tube having a predetermined diameter and length to increase the flow rate of water delivered through the first inclined portion;
One side is connected to the capillary and includes a second inclined portion formed to gradually increase in diameter,
Water in which carbon dioxide is dissolved in the venturi part is in an uninterrupted state to be used as washing water of a semiconductor or a panel.
The inclination angle of the second inclined portion is larger than the inclination angle of the first inclined portion carbon dioxide injection apparatus.
상기 케이스는 전후방이 개구된 원통부,
상기 원통부의 전후단에 결합되는 제 1 및 제 2커버 그리고
상하측에서 환 형상이 되도록 결합되어 상기 제 1 및 제 2커버와 원통부를 결합하는 상부 및 하부 결합부재를 포함하고,
상기 원통부의 전후단과 제 1커버의 후단 및 제 2커버의 전단 외주면에는 상기 상부 및 하부 결합부재의 내주면에 형성된 홈에 대응되는 돌출환턱이 형성되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 주입 장치. The method of claim 1,
The case is a cylindrical portion that is opened front and rear,
First and second covers coupled to front and rear ends of the cylindrical portion;
It is coupled to the upper and lower sides in an annular shape includes an upper and lower coupling member for coupling the first and second cover and the cylindrical portion,
The front and rear ends of the cylindrical portion, the rear end of the first cover and the front outer peripheral surface of the second cover of the carbon dioxide injection device, characterized in that the protrusion corresponding to the groove formed in the inner peripheral surface of the upper and lower coupling members.
상기 상부 및 하부 결합부재의 홈은 전후방을 향해 비스듬하게 경사지게 형성되고,
상기 돌출환턱은 전방 또는 후방을 향해 비스듬하게 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 주입 장치. The method of claim 3, wherein
The grooves of the upper and lower coupling members are inclined obliquely toward the front and rear,
The protruding annulus is a carbon dioxide injection device, characterized in that formed obliquely toward the front or rear.
상기 모세관과 연결되는 주입관과
상기 주입관의 상단부에 연결되어 이산화탄소를 공급하는 파이프나 호스와 결합되는 소켓을 구비하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 주입 장치. The method of claim 3, wherein the injection portion
An injection tube connected to the capillary tube
Carbon dioxide injection device characterized in that it is connected to the upper end of the injection pipe and the socket coupled to the pipe or hose for supplying carbon dioxide.
(b) 상기 케이스 내부로 유입된 물을 직경이 점차 작아지게 형성된 제 1경사부를 통해 이동시켜 물의 유속을 높이는 단계,
(c) 상기 제 1경사부에 연결된 모세관에 이산화탄소를 주입하는 단계 및
(d) 상기 (c)단계에서 이산화탄소가 주입된 물을 직경이 점차 커지게 형성된 제 2경사부를 통해 이동시켜 이산화탄소를 물에 용해시키는 단계를 포함하고,
상기 (d)단계에서 물은 상기 제1 경사부의 경사각보다 크게 하여 급격하게 형성된 제2 경사부를 통해 이동하면서 유속이 감소되어 상기 (c)단계에서 주입된 이산화탄소를 물의 확산 원리를 이용해 용해시키며,
상기 이산화탄소가 용해된 물은 도체나 패널의 세정수로 사용하도록 무정전 상태인 것을 특징으로 하는 이산화탄소 주입 방법.
(a) introducing water at a predetermined pressure and flow rate through the inlet into the case;
(b) increasing the flow rate of water by moving the water introduced into the case through a first inclined portion having a smaller diameter;
(c) injecting carbon dioxide into the capillary connected to the first inclined portion;
(d) dissolving carbon dioxide in the water by moving the water injected with carbon dioxide in the step (c) through a second slope formed to gradually increase in diameter,
In step (d), the water flows through the second inclined part which is larger than the inclination angle of the first inclined part, and the flow rate is decreased to dissolve the carbon dioxide injected in the step (c) using the diffusion principle of water.
The carbon dioxide-dissolved water is a carbon dioxide injection method, characterized in that the uninterrupted state to use as the wash water of the conductor or panel.
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