KR101265953B1 - 표면결함검출방법 - Google Patents

표면결함검출방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101265953B1
KR101265953B1 KR1020110101195A KR20110101195A KR101265953B1 KR 101265953 B1 KR101265953 B1 KR 101265953B1 KR 1020110101195 A KR1020110101195 A KR 1020110101195A KR 20110101195 A KR20110101195 A KR 20110101195A KR 101265953 B1 KR101265953 B1 KR 101265953B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pixel
sample
defect
average value
image
Prior art date
Application number
KR1020110101195A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130036940A (ko
Inventor
김태수
김광수
장우철
Original Assignee
(주)컴텍코리아
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)컴텍코리아 filed Critical (주)컴텍코리아
Priority to KR1020110101195A priority Critical patent/KR101265953B1/ko
Publication of KR20130036940A publication Critical patent/KR20130036940A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101265953B1 publication Critical patent/KR101265953B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M5/00Investigating the elasticity of structures, e.g. deflection of bridges or air-craft wings
    • G01M5/0033Investigating the elasticity of structures, e.g. deflection of bridges or air-craft wings by determining damage, crack or wear
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8887Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
    • G01N2021/8893Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques providing a video image and a processed signal for helping visual decision

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

본 발명은 표면결함검출방법에 관한 것으로서, 표면에서의 결함을 검출하기 위한 표면결함검출방법에 관한 것이다.
본 발명은 시료의 표면에 대한 이미지를 획득하는 이미지획득단계와; 상기 이미지획득단계에서 획득된 이미지를 픽셀단위로 n×m 행렬로 구분하고, 각 열별로 k번째에 위치된 픽셀부터 연속된 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값들의 평균값 ak를 계산하는 평균값계산단계와; │ak-ak-1│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단하는 결함판단단계를 포함하며, 상기 j는 2 이상의 자연수이고, 상기 n 및 m은 3j 이상의 자연수이고, k 및 c는 자연수이며, 상기 평균값계산단계는 모든 열에서 k가 첫번째 픽셀부터 n-(j-1)픽셀까지의 픽셀을 기준으로 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값들의 평균값 ak을 구하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법을 개시한다.

Description

표면결함검출방법 {Surface defect detection method}
본 발명은 표면결함검출방법에 관한 것으로서, 표면에서의 결함을 검출하기 위한 표면결함검출방법에 관한 것이다.
표면결함검출장치란, 육안에 의하지 않고 카메라 등과 같은 이미지획득장치를 이용하여 획득된 이미지를 분석하여 반도체, 물품의 외관을 구성하는 케이싱 등의 표면에서 낙서, 크랙, 스크래치, 변색 등의 결함을 자동으로 검출하는 장치를 말한다.
특히 표면결함검출장치는 카메라의 발달, CPU의 발전에 따른 연산처리속도의 향상 등으로 이미지 분석을 초고속으로 수행이 가능함에 따라서 육안에 의하지 않고 카메라 등으로 장치를 구성하여 자동으로 수행이 가능하게 하여 생산성 및 그 검출속도를 현저히 높일 수 있는 이점이 있다.
그러나 종래의 표면결함검출장치는 카메라, CPU 등의 하드웨어는 우수한 성능을 가짐에 반하여 이에 부합되는 표면결함검출방법이 도출되지 않아 시료에 대한 표면결함검출이 제대로 수행되는데 한계가 있다는 문제점이 있다.
1. TFT어레이 검사장치 (일본 공개특허공보 특개2005-221338호(2005.08.18.))
본 발명의 목적은 카메라 등에 의하여 획득된 시료의 이미지를 분석하여 시료의 표면에 대한 이상유무를 간단한 알고리즘에 의하여 검출할 수 있는 표면결함검출방법 및 표면결함검출장치를 제공하는데 있다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은 시료의 표면에 대한 이미지를 획득하는 이미지획득단계와; 상기 이미지획득단계에서 획득된 이미지를 픽셀단위로 n×m 행렬로 구분하고, 각 열별로 k번째에 위치된 픽셀부터 연속된 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값들의 평균값 ak를 계산하는 평균값계산단계와; │ak-ak-1│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단하는 결함판단단계를 포함하며, 상기 j는 2 이상의 자연수이고, 상기 n 및 m은 3j 이상의 자연수이고, k 및 c는 자연수이며, 상기 평균값계산단계는 모든 열에서 k가 첫번째 픽셀부터 n-(j-1)픽셀까지의 픽셀을 기준으로 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값들의 평균값 ak을 구하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법을 개시한다.
상기 c는 10~245인 것이 바람직하다.
상기 이미지획득단계는 시료에 대한 이미지의 픽셀들의 위치와 각 픽셀들에 대응하는 시료의 절대 위치를 계산하며, 상기 결함판단단계는 결함이 있는 것으로 판단된 픽셀의 위치를 시료의 절대위치로 계산하여 결함위치를 시료의 절대 위치로 표시할 수 있다.
상기 이미지획득단계는 시료의 표면에 단색광을 조사하고 단색광이 조사된 시료의 표면에 대한 이미지를 획득할 수 있다.
본 발명은 또한 시료가 안착되는 시료안착부와; 상기 시료안착부에 안착된 시료의 표면에 대한 이미지를 획득하는 이미지획득부와; 상기 이미지획득부에서 획득된 이미지를 분석하여 표면결함을 검출하는 검출부를 포함하며, 상기 검출부는 상기 이미지획득부에서 획득된 이미지를 상기 표면결함검출방법에 의하여 검출하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출장치를 개시한다.
본 발명은 또한 시료의 표면에 대한 이미지를 획득하는 이미지획득단계와; 상기 이미지획득단계에서 획득된 이미지를 픽셀단위로 n×m 행렬로 구분하고, 각 열별로 k번째에 위치된 픽셀부터 연속된 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값들의 평균값 ak를 계산하는 평균값계산단계와; 상기 픽셀값의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여 │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단하는 결함판단단계를 포함하며, 상기 j는 2 이상의 자연수이고, 상기 n 및 m은 3j 이상의 자연수이고, k 및 c는 자연수이며, 상기 평균값계산단계는 모든 열에서 k가 첫번째 픽셀부터 n-(j-1)픽셀까지의 픽셀을 기준으로 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값들의 평균값 ak을 구하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법을 개시한다.
상기 결함판단단계는 각 열별로 상기 픽셀값의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단할 수 있다.
상기 결함판단단계는 모든 열들에 대한 상기 픽셀값의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단할 수 있다.
한편 i가 2 이상의 자연수일 때, 상기 결함판단단계는 모든 열들에 대한 상기 픽셀값의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 i개 이상 연속될 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단할 수 있다.
본 발명에 따른 표면결함검출방법 및 장치는 픽셀값들의 평균값을 구한 후 각 픽셀에 대응되는 평균값의 편차가 기준보다 큰 경우, 해당 픽셀에 대응되는 위치에서 결함이 있는 것으로 판단하도록 함으로써 시료에 대한 표면결함에 대한 검출을 보다 정확하고 효율적으로 수행할 수 있는 이점이 있다.
특히 본 발명에 따른 표면결함검출방법 및 장치는 픽셀값들의 평균값을 구한 후 각 픽셀에 대응되는 평균값의 편차가 기준보다 큰 픽셀이 연속된 경우, 해당 픽셀에 대응되는 위치에서 결함이 있는 것으로 판단하도록 함으로써 시료에 대한 표면결함에 대한 검출을 보다 정확하고 효율적으로 수행할 수 있는 이점이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 표면결함검출장치의 구성을 보여주는 개념도이다.
도 2는 본 발명에 따른 표면결함검출방법을 보여주는 순서도이다.
도 3은 도 2의 표면결함검출방법을 보여주는 개념도이다.
이하 본 발명에 따른 표면결함검출방법 및 장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명에 따른 표면결함검출장치의 구성을 보여주는 개념도이다.
본 발명에 따른 표면결함검출장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 시료(1)가 안착되는 시료안착부(10)와; 시료안착부(10)에 안착된 시료(1)의 표면에 대한 이미지를 획득하는 이미지획득부(20)와; 이미지획득부(20)에서 획득된 이미지를 분석하여 표면결함을 검출하는 검출부(미도시)를 포함한다.
상기 시료안착부(10)는 이미지획득부(20)가 시료(1)에 대한 이미지 획득이 용이하도록 안정적으로 안착되는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
상기 시료안착부(10)는 시료(1)의 고정을 위한 고정부재, 이미지획득부(20)에 대하여 시료(1)를 수평이동시키는 수평이동장치 등이 설치될 수 있다.
상기 이미지획득부(20)는 시료(1)에 대한 이미지를 획득하는 장치로서, CCD카메라, CMOS카메라, 스캐너 등 이미지를 획득할 수 있는 장치이면 어떠한 장치도 가능하다.
여기서 이미지획득부(20)에 의하여 획득된 이미지는 그 분석의 편의를 위하여 흑백이미지인 것이 바람직하다.
한편 이미지 획득 및 분석의 용이함을 위하여 시료(1)를 조명할 필요가 있는바, 시료(1)에 빛을 조사하여 조명하는 조명부(30)가 시료(1)의 상측에 추가로 설치될 수 있다.
상기 조명부(30)는 이미지 획득 및 분석의 용이함을 고려하여 단색광을 조사하도록 구성됨이 바람직하다.
상기 검출부는 이미지획득부(20)에서 획득된 이미지를 분석하여 표면결함을 검출하는 구성으로서 물리적 구성이기 보다는 논리적 구성으로서, 후술하는 표면결함검출방법의 수행에 의하여 이미지획득부(20)에서 획득된 이미지를 분석하여 표면결함을 검출하는 것을 특징으로 한다.
이하 본 발명에 따른 표면결함검출방법에 관하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 표면결함검출방법을 보여주는 순서도이고, 도 3은 도 2의 표면결함검출방법을 보여주는 개념도이다.
본 발명에 따른 표면결함검출방법은 시료(1)의 표면에 대한 이미지를 획득하는 이미지획득단계(S10)와; 이미지획득단계(S10)에서 획득된 이미지를 픽셀단위로 n×m 행렬로 구분하고, 각 열별로 k번째에 위치된 픽셀부터 연속된 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값 Pk들의 평균값 ak를 계산하는 평균값계산단계(S20)와; │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단하는 결함판단단계(S30)를 포함한다.
이때 상기 j는 2 이상의 자연수이고, 상기 n 및 m은 3j 이상의 자연수이고, k 및 c는 자연수이다.
상기 이미지획득단계(S10)는 앞서 설명한 이미지획득부(20)에 의하여 시료(1)의 표면에 대한 이미지를 획득하는 단계이다.
그리고 상기 이미지획득단계(S10)는 표면결함검출을 목적으로 하는 것을 고려하여 시료(1)의 표면에 단색광을 조사하고 단색광이 조사된 시료(1)의 표면에 대한 이미지를 획득할 수 있다.
또한 상기 이미지획득단계(S10)는 시료(1)에 대한 이미지의 픽셀들의 위치와 각 픽셀들에 대응하는 시료(1)의 절대 위치를 계산할 수 있다.
상기 평균값계산단계(S20)는 이미지획득단계(S10)에서 획득된 이미지를 픽셀단위로 n×m 행렬로 구분하고, 각 열별로 k번째에 위치된 픽셀부터 연속된 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값 Pk들의 평균값 ak를 계산하는 단계이다.
즉, 상기 평균값계산단계(S20)는 모든 열에서 k가 첫번째 픽셀부터 n-(j-1)픽셀까지의 픽셀을 기준으로 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값 Pk들의 평균값 ak을 구하는 단계이며, 이를 수식으로 표현하면 다음과 같다.
Figure 112011077665254-pat00001
, h는 자연수
이때 상기 평균값 ak는 각 열별로 계산하거나, 픽셀의 행렬구분없이 모든 행렬의 픽셀들에 대한 평균값으로 계산할 수 있다.
상기 결함판단단계(S30)는 각 픽셀들에 대응되는 픽셀값 Pk의 평균값 ak들의 편차를 활용하여 표면결함을 판단하는 단계이다.
일예로서, 상기 상기 결함판단단계(S30)는 각 열별로 픽셀값 Pk의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단할 수 있다. 이때 상기 평균값 ak는 각 열별로 계산된다.
그리고 상기 결함판단단계(S30)는 모든 열들에 대한 픽셀값 Pk의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단할 수 있다. 이때 상기 평균값 ak는 픽셀의 행렬구분없이 모든 행렬의 픽셀들에 대한 평균값으로 계산된다.
또한 상기 결함판단단계(S30)는 i가 2 이상의 자연수일 때, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 i개 이상 연속될 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단할 수 있다.
또한 상기 결함판단단계(S30)는 각 픽셀들에 대응되는 픽셀값 Pk의 평균값 ak들의 편차를 활용하는 또 다른 예로서, b를 "모든 열들에 대한 픽셀값 Pk의 평균값 ak들의 평균값" 대신에 k-1번째 픽셀부터 연속된 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값 Pk들의 평균값 ak-1로 하여, │ak-ak-1│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단할 수 있다.
한편 상기 결함판단단계(S30)의 기준인 c는 검출될 시료(1)에 따라서 그 값이 선택될 수 있으며, 10~245인 것이 바람직하다.
또한 상기 결함판단단계(S30)는 결함위치를 픽셀 위치로서 표시하기 보다는 물리적 수치로서 표시되는 것이 사용자의 인식이 용이한바, 결함이 있는 것으로 판단된 픽셀의 위치를 시료(1)의 절대위치로 계산하여 표시할 수 있다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께 하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.
1 : 시료
10 : 시료안착부 20 : 이미지획득부
30 : 조명부

Claims (12)

  1. 시료의 표면에 대한 이미지를 획득하는 이미지획득단계와;
    상기 이미지획득단계에서 획득된 이미지를 픽셀단위로 n×m 행렬로 구분하고, 각 열별로 k번째에 위치된 픽셀부터 연속된 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값들의 평균값 ak를 계산하는 평균값계산단계와;
    상기 픽셀값의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단하는 결함판단단계를 포함하며,
    상기 j는 2 이상의 자연수이고, 상기 n 및 m은 3j 이상의 자연수이고, k 및 c는 자연수이며,
    상기 평균값계산단계는
    모든 열에서 k가 첫번째 픽셀부터 n-(j-1)픽셀까지의 픽셀을 기준으로 j개의 픽셀들에 대한 픽셀값들의 평균값 ak을 구하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 결함판단단계는 각 열별로 상기 픽셀값의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 결함판단단계는 모든 열들에 대한 상기 픽셀값의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    i가 2 이상의 자연수일 때,
    상기 결함판단단계는 각 열별로 상기 픽셀값의 평균값 ak들의 평균값 b를 계산하여, │ak-b│>c일 때 해당 픽셀이 i개 이상 연속될 때 해당 픽셀이 위치된 곳에 결함이 있는 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 c는 10~245인 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 이미지획득단계는
    시료의 표면에 단색광을 조사하고 단색광이 조사된 시료의 표면에 대한 이미지를 획득하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 이미지획득단계는 시료에 대한 이미지의 픽셀들의 위치와 각 픽셀들에 대응하는 시료의 절대 위치를 계산하며,
    상기 결함판단단계는 결함이 있는 것으로 판단된 픽셀의 위치를 시료의 절대위치로 계산하여 결함위치를 시료의 절대 위치로 표시하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출방법.
  8. 시료가 안착되는 시료안착부와;
    상기 시료안착부에 안착된 시료의 표면에 대한 이미지를 획득하는 이미지획득부와;
    상기 이미지획득부에서 획득된 이미지를 분석하여 표면결함을 검출하는 검출부를 포함하며,
    상기 검출부는 상기 이미지획득부에서 획득된 이미지를 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 하나의 항에 따른 표면결함검출방법에 의하여 검출하는 것을 특징으로 하는 표면결함검출장치.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
KR1020110101195A 2011-10-05 2011-10-05 표면결함검출방법 KR101265953B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110101195A KR101265953B1 (ko) 2011-10-05 2011-10-05 표면결함검출방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110101195A KR101265953B1 (ko) 2011-10-05 2011-10-05 표면결함검출방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130036940A KR20130036940A (ko) 2013-04-15
KR101265953B1 true KR101265953B1 (ko) 2013-05-21

Family

ID=48438088

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110101195A KR101265953B1 (ko) 2011-10-05 2011-10-05 표면결함검출방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101265953B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001034762A (ja) 1999-07-26 2001-02-09 Nok Corp 画像処理検査方法および画像処理検査装置
JP2005221338A (ja) * 2004-02-04 2005-08-18 Shimadzu Corp Tftアレイ検査装置
JP2006170635A (ja) 2004-12-13 2006-06-29 Hitachi Engineering & Services Co Ltd 画像処理による欠陥の検出装置および検出方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001034762A (ja) 1999-07-26 2001-02-09 Nok Corp 画像処理検査方法および画像処理検査装置
JP2005221338A (ja) * 2004-02-04 2005-08-18 Shimadzu Corp Tftアレイ検査装置
JP2006170635A (ja) 2004-12-13 2006-06-29 Hitachi Engineering & Services Co Ltd 画像処理による欠陥の検出装置および検出方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130036940A (ko) 2013-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102178903B1 (ko) 외관 검사 장치, 및 외관 검사 장치의 조명 조건 설정 방법
CN103245671B (zh) 冲压件表面缺陷检测装置及方法
CN103076344A (zh) 显示面板的缺陷检测方法及其检测装置
JP5294427B2 (ja) ガラスびん検査装置
US7903865B2 (en) Automatic optical inspection system and method
TW201516397A (zh) 玻璃氣泡瑕疵檢測系統
KR101862310B1 (ko) 얼룩결함 검사장치 및 얼룩결함 검사방법
KR101505738B1 (ko) 불량 검사 장치 및 방법
JP5634390B2 (ja) ガラス容器の欠陥検査方法及び装置
KR101265953B1 (ko) 표면결함검출방법
JP2012159376A (ja) 表面欠陥検出装置および表面欠陥検出方法
KR102632169B1 (ko) 유리기판 검사 장치 및 방법
WO2012042583A1 (ja) ガラスびん検査装置
KR101858829B1 (ko) 편석 분석 장치 및 방법
JP4998722B2 (ja) 画像処理によるワーク欠陥検査方法
JP2006270334A (ja) シェーディング補正方法および画像検査装置
TWI493177B (zh) 一種檢測具週期性結構光學薄膜的瑕疵檢測方法及其檢測裝置
TWI510776B (zh) 玻璃氣泡瑕疵檢測處理方法
KR102117697B1 (ko) 표면검사 장치 및 방법
JP6194659B2 (ja) 樹脂製容器検査装置
JP2019510981A (ja) 多方向の照明及び関連デバイスによって表面上の欠陥を検出するための方法
JP2018146553A (ja) トロリ線の摺動面幅検出装置及び方法
JP2010197106A (ja) 長尺物の外観検査方法及びその装置
JP5644990B2 (ja) 長尺物の外観検査方法及びその装置
KR101669075B1 (ko) 결함 검사 시스템 및 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee