KR101257726B1 - Cathode fastener of plasma chamber - Google Patents

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KR101257726B1
KR101257726B1 KR1020120051431A KR20120051431A KR101257726B1 KR 101257726 B1 KR101257726 B1 KR 101257726B1 KR 1020120051431 A KR1020120051431 A KR 1020120051431A KR 20120051431 A KR20120051431 A KR 20120051431A KR 101257726 B1 KR101257726 B1 KR 101257726B1
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KR
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cathode
bush
plasma chamber
insertion ring
fastener
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KR1020120051431A
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서원교
박진경
김용욱
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하나실리콘(주)
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Abstract

PURPOSE: A cathode fastener of a plasma chamber is provided to prevent damage by stably maintaining a cathode in the plasma chamber. CONSTITUTION: A bush(100) includes a base plate(110) and an upper connection part(120). An insertion ring(200) is formed an elliptic ring shape to be inserted into the bush. The insertion ring has a protrusion piece(210). A screw bolt(300) is inserted into an insertion hole(102) via a plate(20) which is located in the upper part of a cathode(10). The bush is combined with the insertion ring through a connection groove and the protrusion piece.

Description

플라즈마 챔버의 캐소드 체결구{Cathode fastener of Plasma chamber}Cathode fastener of Plasma chamber

본 발명은 반도체 웨이퍼 식각 공정을 위한 장치에 결합되는 체결구에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼에 대한 식각 공정이 이루어지는 환경에서 부시의 회전 유동에 따른 파손 또는 열 충격을 방지할 수 있는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구에 관한 것이다.
The present invention relates to a fastener coupled to an apparatus for a semiconductor wafer etching process, and more particularly, to a plasma chamber capable of preventing breakage or thermal shock due to rotational flow of a bush in an environment in which an etching process is performed on a wafer. It relates to a cathode fastener.

일반적으로 반도체 웨이퍼의 에칭 처리에 플라즈마 장치가 널리 사용되고 있으며, 이러한 일반적인 플라즈마 장치는 반도체 웨이퍼를 챔버 내부의 애노드 상에 배치하고, 캐소드를 애노드와 수평하게 설치한 상태로 반응가스를 투입함과 동시에 고주파 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시켜 가공을 실시하고 있다.In general, a plasma apparatus is widely used for etching a semiconductor wafer, and in such a general plasma apparatus, a semiconductor wafer is disposed on an anode inside a chamber, and a reaction gas is introduced while the cathode is horizontally installed with the anode. The plasma is generated by applying a voltage, and processing is performed.

종래에는 캐소드의 일측면에 체결홀을 형성하고, 볼트와 유사하게 이루어진 임의의 결합 부재를 이용하여 상기 체결홀에 결착된 상태로 사용하고 있었다. 상기 캐소드는 반응 가스의 유입과 함께 고전압의 플라즈마에 노출되면서 고온의 온도와 압력에 캐소드에 설치된 결합 부재의 위치 변위가 발생되어 상기 캐소드가 파손되거나, 체결홀이 마모되면서 상기 결합 부재가 이탈되는 현상이 발생되는 문제점이 있었다.Conventionally, a fastening hole was formed on one side of the cathode, and was used in a state in which it was fastened to the fastening hole using an arbitrary coupling member made similar to a bolt. The cathode is exposed to a plasma of high voltage with the introduction of the reaction gas and the displacement of the coupling member installed on the cathode is generated at a high temperature and pressure, the cathode is damaged, or the coupling hole is worn out, the coupling member is separated There was a problem that occurred.

이 경우 고가의 캐소드를 소모시키는 문제점이 발생되고, 상기 캐소드와 결합된 플레이트 사이에 간격이 발생되어 웨이퍼 식각 공정의 성능을 저하시키는 문제점이 발생되어 이에 대한 시급한 대책을 필요로 하였다.
In this case, a problem of consuming expensive cathodes is generated, and a gap is generated between the cathode and the plate coupled to each other, thereby degrading the performance of the wafer etching process, thereby requiring urgent countermeasures.

대한민국 공개특허공보 제10-2009-0041132호 (공개일: 2009년04월28일)Republic of Korea Patent Application Publication No. 10-2009-0041132 (Published: April 28, 2009)

본 발명의 실시예들은 플라즈마 챔버 내부에서 고가의 캐소드를 안정적으로 유지시켜 파손 및 손상을 방지하고자 한다.
Embodiments of the present invention are intended to stably maintain expensive cathodes within the plasma chamber to prevent breakage and damage.

본 발명의 일 측면에 따르면, 캐소드의 체결홀에 삽입되고 타원형상으로 이루어진 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이의 상부로 연장되고 상면 중앙에 삽입홀이 형성되며 하측 원주 방향 상에 결합홈이 형성된 상부 결합부를 가지는 부시; 상기 부시에 삽입되도록 타원형태의 링 형상으로 이루어지고, 내측 하부 원주 방향 상에 형성된 돌출편을 가지는 삽입링; 및 상기 부시가 삽입된 캐소드의 상부에 위치된 플레이트를 경유하여 상기 삽입홀에 결합되는 스크류 볼트를 포함한다.According to an aspect of the invention, the base plate is inserted into the fastening hole of the cathode and formed of an elliptical shape, the upper coupling extending to the upper portion of the base play, the insertion hole is formed in the center of the upper surface and the coupling groove is formed on the lower circumferential direction Bush with wealth; An insertion ring having an elliptical shape to be inserted into the bush and having a protruding piece formed on the inner lower circumferential direction; And a screw bolt coupled to the insertion hole via a plate located above the cathode in which the bush is inserted.

상기 부시는 상기 베이스 플레이트와 상기 상부 결합부가 각각 타원 형상으로 이루어지되, 상기 상부 결합부는 상기 베이스 플레이트의 폭 방향으로 배치된 것을 특징으로 한다.Wherein the bush is the base plate and the upper coupling portion are each made of an elliptic shape, the upper coupling portion is characterized in that it is disposed in the width direction of the base plate.

상기 상부 결합부는 상단 원주 방향을 따라 내측을 향해 테이퍼진 제1 경사부를 포함하다.The upper coupling portion includes a first inclined portion tapered inward along the upper circumferential direction.

상기 결합홈은 상부 결합부의 일부 구간에만 형성된 것을 특징으로 한다.The coupling groove is formed only in a portion of the upper coupling portion.

상기 결합홈은 상기 상부 결합부의 길이 방향을 기준으로 좌측과 우측 하단에 각각 배치된 것을 특징으로 한다.The coupling groove is characterized in that disposed on the lower left and right sides relative to the longitudinal direction of the upper coupling portion.

상기 삽입링은 일측이 세로 방향으로 개구된 개구 슬롯을 포함한다.The insertion ring includes an opening slot, one side of which is opened in the longitudinal direction.

상기 삽입링은 내측 원주 방향 상에 상기 돌출편이 형성되지 않은 미형성 구간을 가지는 것을 특징으로 한다.The insertion ring has an unformed section in which the protruding piece is not formed on the inner circumferential direction.

상기 미 형성 구간은 서로 마주 보며 배치된 것을 특징으로 한다.The unformed sections are arranged to face each other.

상기 돌출편은 상기 미형성 구간으로 갈수록 돌출 두께가 감소되는 것을 특징으로 한다.The protruding piece is characterized in that the protruding thickness is reduced toward the unformed section.

상기 부시의 개구 슬롯은 상기 캐소드의 중심을 향하도록 부시와 결합되는 것을 특징으로 한다.
The opening slot of the bush is coupled to the bush so as to face the center of the cathode.

본 발명의 실시 예들은 웨이퍼 식각 공정에서 캐소드에 설치된 부시에 의해 상기 캐소드의 파손을 방지함으로써, 고가의 캐소드에 대한 보호를 안정적으로 실시할 수 있다.Embodiments of the present invention can prevent the damage of the cathode by the bush installed in the cathode in the wafer etching process, it is possible to stably protect the expensive cathode.

본 발명의 실시 예들은 부시의 열 변형을 방지하여 고온의 플라즈마 환경에서의 변형 발생을 최소화할 수 있다.Embodiments of the present invention can prevent thermal deformation of the bush to minimize the occurrence of deformation in a high temperature plasma environment.

본 발명의 실시 예들은 부시에 삽입링이 일체로 체결되므로 상기 삽입링과 부시가 안정적인 결합 상태를 유지될 수 있다.
In the embodiments of the present invention, since the insertion ring is integrally fastened to the bush, the insertion ring and the bush may be maintained in a stable coupling state.

도 1은 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구를 도시한 분해 사시도.
도 2의 (a)내지 (b)는 발명의 일 실시예에 따른 삽입링의 실시예를 도시한 평면도.
도 3은 발명의 일 실시예에 따른 부시와 삽입링을 도시한 사시도.
도 4는 도 3의 결합 단면도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 부시의 평면도.
도 6 내지 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구의 사용 상태도.1 is an exploded perspective view showing the cathode fastener of the plasma chamber according to an embodiment of the present invention.
2 (a) to 2 (b) is a plan view showing an embodiment of the insertion ring according to an embodiment of the invention.
Figure 3 is a perspective view of the bush and the insertion ring according to an embodiment of the invention.
Fig. 4 is an assembled sectional view of Fig. 3; Fig.
5 is a plan view of a bush according to an embodiment of the present invention.
6 to 7 is a state diagram used in the cathode fastener of the plasma chamber according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구에 대해 도면을 참조하여 설명한다. 첨부된 도 1은 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구를 도시한 분해 사시도이고, 도 2의 (a)내지 (b)는 발명의 일 실시예에 따른 삽입링의 실시예를 도시한 평면도이다.A cathode fastener of a plasma chamber according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is an exploded perspective view illustrating a cathode fastener of a plasma chamber according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2A to 2B illustrate an embodiment of an insertion ring according to an embodiment of the present invention. One floor plan.

첨부된 도 1 내지 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 의한 캐소드 체결구(1)는 체결홀(12)이 개구된 캐소드(10)와, 상기 체결홀(12)에 삽입되고 타원형상으로 이루어진 베이스 플레이트(110)와, 상기 베이스 플레이(110)의 상부로 연장되고 상면 중앙에 삽입홀(102)이 형성되며 하측 원주 방향 상에 결합홈(122)이 형성된 상부 결합부(120)를 가지는 부시(100)와, 상기 부시(100)에 삽입되도록 타원형태의 링 형상으로 이루어지고, 내측 하부 원주 방향 상에 형성된 돌출편(210)을 가지는 삽입링(200)과, 상기 부시(100)가 삽입된 캐소드(10)의 상부에 위치된 플레이트(20)를 경유하여 상기 삽입홀(102)에 결합되는 스크류 볼트(300)를 포함한다.
1 to 2, the cathode fastener 1 according to an embodiment of the present invention is a cathode 10 in which a fastening hole 12 is opened, and is inserted into the fastening hole 12 and is elliptical. An upper coupling part 120 having an upper base plate 110 and an upper portion of the base play 110 and having an insertion hole 102 formed in a center of the upper surface thereof, and having a coupling groove 122 formed on a lower circumferential direction. Bushing 100 having an oval ring shape to be inserted into the bush 100, the insertion ring 200 having a protruding piece 210 formed on the inner lower circumferential direction, and the bush 100 The screw bolt 300 is coupled to the insertion hole 102 via the plate 20 positioned on the upper portion of the cathode 10 is inserted.

본 발명의 일 실시예에 의한 부시에 대해 설명한다.A bush according to an embodiment of the present invention will be described.

부시(100)는 타원 형상으로 이루어진 베이스 플레이트(110)의 상면에 상부 결합부(120)가 형성된 형태로 이루어진다. 상기 베이스 플레이트(110)는 소정의 두께를 가지고 형성되고 부시(100)의 길이 방향인 제1 장변(a1)과, 부시(100)의 폭 방향인 제1 단변(b1)으로 이루어진다.The bush 100 has an upper coupling part 120 formed on an upper surface of the base plate 110 having an elliptic shape. The base plate 110 is formed to have a predetermined thickness and includes a first long side a1 in the longitudinal direction of the bush 100 and a first short side b1 in the width direction of the bush 100.

상부 결합부(120)는 전술한 베이스 플레이트(110)와 마찬가지로 제1 장변(a2)과 제2 단변(b2)를 가지고 이루어지며, 베이스 플레이트(110)의 폭 방향인 제1 단변(b1) 방향에 타원 형태로 배치된다.The upper coupling part 120 has a first long side a2 and a second short side b2, similar to the base plate 110 described above, and has a first short side b1 in a width direction of the base plate 110. Is placed in the form of an ellipse.

상부 결합부(120)는 상측을 향해 소정의 길이로 연장되고, 결합홈(122)이 하측 원주 방향 중의 일부 구간에만 형성된다. 결합홈(122)은 상부 결합부(120)의 내측을 향해 소정의 깊이로 만입 되며, 내측 상부에 단턱이 형성된다. 상기 결합홈(122)은 상부 결합부(120)의 좌측과 우측의 제2 단변(b2) 위치에 각각 형성된다.The upper coupling portion 120 extends a predetermined length toward the upper side, the coupling groove 122 is formed only in a portion of the lower circumferential direction. Coupling groove 122 is indented to a predetermined depth toward the inside of the upper coupling portion 120, the stepped portion is formed on the inner top. The coupling grooves 122 are formed at positions of the second short sides b2 on the left and right sides of the upper coupling part 120, respectively.

상부 결합부(120)는 상단 원주 방향을 따라서 내측을 향해 경사진 제1 경사부(123)를 포함한다. 상기 제1 경사부(123)는 후술할 삽입링(200)의 내측 상면과 밀착된 상태로 서로 간에 결합된다.The upper coupling portion 120 includes a first inclined portion 123 inclined inward along the upper circumferential direction. The first inclined portion 123 is coupled to each other in close contact with the inner upper surface of the insertion ring 200 to be described later.

부시(100)는 상면 중앙이 개구된 삽입홀(102)이 형성되고, 상기 삽입홀(102)은 내주면에 나사산이 형성되며, 상기 삽입홀(102)에 스크류 볼트(300)가 나사 결합된 상태로 설치된다. 부시(100)에 구비된 상부 결합부(120)는 돌출 길이가 삽입링(200)의 높이와 유사 내지 동일한 길이로 연장될 수 있다.
The bush 100 has an insertion hole 102 having an open upper center, and the insertion hole 102 has a screw thread formed on an inner circumferential surface thereof, and a screw bolt 300 is screwed to the insertion hole 102. Is installed. The upper coupling part 120 provided in the bush 100 may have a protruding length extending to a length similar to or equal to the height of the insertion ring 200.

본 발명의 일 실시 예에 의한 삽입링에 대해 도면을 참조하여 설명한다. 참고로 도 2의 (a)는 본 발명의 일 실시 예에 의한 삽입링을 도시한 평면도이고, 도 2의 (b)는 다른 실시 예에 의한 삽입링을 도시한 평면도이다.An insertion ring according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. For reference, Figure 2 (a) is a plan view showing an insertion ring according to an embodiment of the present invention, Figure 2 (b) is a plan view showing an insertion ring according to another embodiment.

첨부된 도 2의 (a)를 참조하면, 삽입링(200)은 일측이 세로 방향으로 개구된 개구 슬롯(202)을 포함하고, 결합홈(122)에 삽입되는 돌출편(210)이 내측 하부에 형성된다. 상기 돌출편(210)은 삽입링(200)의 내측 전 구간에 형성되지 않고 일정 구간에만 한정적으로 형성되고, 상기 돌출편(210)이 형성되지 않은 미형성 구간(204)을 포함한다. 상기 미 형성 구간(204)은 서로 마주 보며 배치되며, 상기 삽입링(200)에 대한 가공을 실시할 때 용이하게 가공을 실시하기 위해 돌출편(210)이 형성되지 않은 미형성 구간(204)이 형성된다.Referring to FIG. 2A, the insertion ring 200 includes an opening slot 202 of which one side is opened in a vertical direction, and a protrusion piece 210 inserted into the coupling groove 122 has an inner lower portion. Is formed. The protruding piece 210 is not formed in the entire inner section of the insertion ring 200 and is formed only in a predetermined section, and includes an unformed section 204 in which the protruding piece 210 is not formed. The unformed section 204 is disposed to face each other, the unformed section 204 is not formed with the protrusion piece 210 to facilitate the processing when the processing for the insertion ring 200 is performed Is formed.

개구 슬롯(202)은 삽입링(200)이 부시(100)에 결합될 때 일정 범위 이내에서 상기 삽입링(200)의 신장을 가능하게 함으로써 보다 손쉽게 부시(100)를 삽입링(200)에 삽입시킬 수 있게 된다.The opening slot 202 allows the extension of the insertion ring 200 within a predetermined range when the insertion ring 200 is coupled to the bush 100, thereby more easily inserting the bush 100 into the insertion ring 200. You can do it.

부시(100)의 개구 슬롯(202)은 상기 캐소드(10)의 중심을 향하도록 부시(100)와 결합되는 것을 특징으로 한다. 이에 대한 상세한 설명은 도 10을 참조하여 나중에 설명하기로 한다.
The opening slot 202 of the bush 100 is coupled to the bush 100 so as to face the center of the cathode 10. Detailed description thereof will be described later with reference to FIG. 10.

본 실시 예에 의한 삽입링(200)은 스테인리스, 알루미늄, 세라졸링(cerazole), Vespel, Torlon 또는 엔지니어링 플라스틱 중의 어느 하나가 선택적으로 사용될 수 있으며 특별히 특정 재질로 한정하지 않는다.Insertion ring 200 according to the present embodiment may be any one of stainless steel, aluminum, cerazole, Vespel, Torlon or engineering plastics may be selectively used, and is not particularly limited to a specific material.

본 발명에 의한 돌출편(210)은 미형성 구간(204)으로 갈수록 외측으로 돌출된 돌출 두께가 상대적으로 감소되게 이루어지는 것으로 도시하였으나 일정한 두께로 돌출되는 것도 가능함을 밝혀둔다. 삽입링(200)은 돌출편(210)의 A와 A'로 도시된 위치에 형성되고, 상기 위치에서 부시(100)의 결합홈(122)과 결합된다.
Protruding piece 210 according to the present invention is shown to be made to relatively reduce the thickness of the protrusion protruding outward toward the unformed section 204, it is also possible to project to a certain thickness. The insertion ring 200 is formed at positions A and A 'of the protruding piece 210 and is engaged with the coupling groove 122 of the bush 100 at the position.

첨부된 도 2의 (b)를 참조하면, 본 발명의 다른 실시 예에 의한 삽입링(200)은 전술한 도 2의 (a)와 유사하며 단지 돌출편(210)이 일정한 길이를 가지며 삽입링(200)의 내측에 돌출 형성된 차이점을 가지고 있다. 삽입링(200)은 돌출편(210)의 A와 A'로 도시된 위치에 부시(100)의 결합홈(122)과 결합된다.
Referring to FIG. 2 (b), the insertion ring 200 according to another embodiment of the present invention is similar to the above-described FIG. 2 (a), and only the protruding piece 210 has a certain length and the insertion ring. It has a difference formed protruding inside the (200). Insertion ring 200 is coupled to the coupling groove 122 of the bush 100 in the position shown by A and A 'of the protruding piece (210).

본 발명의 일 실시 예에 의한 부시와 삽입링의 결합 상태에 대해 도면을 참조하여 설명한다.A coupling state between the bush and the insertion ring according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

첨부된 도 3 내지 도 4의 (a)를 참조하면, 삽입링(200)은 부시(100)가 타원 형상으로 이루어져 있으므로, 상기 삽입링(200)을 부시(100)에 결합할 경우에 방향을 일치시켜 결합시켜야 한다. 예를 들면 삽입링(200)의 제3 장변(a3)이 부시(100)의 제2 장변(a2) 방향으로 위치시킨 상태(점선 상태)에서 상기 삽입링(200)을 그대로 하향시키면(실선 상태) 상기 부시(100)의 외주면을 따라 하측으로 삽입링(200)이 하향된다.3 to 4 (a), the insertion ring 200 is formed in an elliptical shape of the bush 100, and thus the direction when the insertion ring 200 is coupled to the bush 100. Must match. For example, when the third long side a3 of the insertion ring 200 is positioned downward in the direction of the second long side a2 of the bush 100 (dotted state), the insertion ring 200 is lowered as it is (solid line state). The insertion ring 200 downwards along the outer circumferential surface of the bush 100.

첨부된 도 4의 (b) 내지 도 5를 참조하면, 삽입링(200)이 부시(100)의 외주면을 따라 계속해서 하향 되면, 상기 삽입링(200)의 돌출편(210)이 부시(100)의 결합홈(122)에 록킹 상태로 결합되면서 상호 간에 결합된 상태가 안정적으로 유지된다.Referring to FIGS. 4B through 5, when the insertion ring 200 continues downward along the outer circumferential surface of the bush 100, the protruding piece 210 of the insertion ring 200 is bushed 100. Coupled to the coupling groove 122 in the locked state is maintained stably between each other.

상기 돌출편(210)은 외측으로 돌출된 후에 상측으로 단턱지게 형성되어 있고, 부시(100)의 결합홈(122)은 상기 돌출편(210)이 삽입되도록 내측으로 요입되게 이루어져 있어서 상기 돌출편(210)이 결합홈(122)에 결합될 경우에 삽입링(200)과 결합된 상태가 안정적으로 유지된다.
The protruding piece 210 is formed to be stepped upward after protruding outward, and the coupling groove 122 of the bush 100 is recessed inwardly so that the protruding piece 210 is inserted into the protruding piece ( When 210 is coupled to the coupling groove 122, the combined state with the insertion ring 200 is maintained stably.

이와 같이 구성되는 본 발명의 일 실시 예에 의한 캐소드 체결구의 사용 상태에 대해 도면을 참조하여 설명한다.The state of use of the cathode fastener according to an embodiment of the present invention configured as described above will be described with reference to the drawings.

첨부된 도 4 또는 도 6을 참조하면, 작업자는 캐소드(10)의 체결홀(12)에 부시(100)를 우선적으로 삽입시킨다. 그리고 삽입링(200)을 부시(100)의 타원 방향과 일치시켜 상기 부시(100)의 하측으로 하강시키면 상기 삽입링(200)의 돌출편(210)이 부시(100)의 결합홈(122)에 결합되면서 상호 간에 결합된 상태가 안정적으로 유지된다.4 or 6, the operator preferentially inserts the bush 100 into the fastening hole 12 of the cathode 10. When the insertion ring 200 is lowered to the lower side of the bush 100 in accordance with the elliptical direction of the bush 100, the protruding pieces 210 of the insertion ring 200 are coupled to the grooves 122 of the bush 100. Are coupled to each other to maintain a stable state.

첨부된 도 7을 참조하면, 삽입링(200)이 부시(100)에 결합되면 캐소드(10)의 체결홀(12) 내부에서 부시(100)와 밀착된 상태가 유지된다. 작업자는 스크류 볼트(300)를 플레이트(200)를 경유하여 부시(100)의 삽입홀(102)에 나사 결합시켜 캐소드(10)의 안전적인 설치를 실시한다. 그리고, 별도로 구비된 웨이퍼(미도시)를 플라즈마 챔버(미도시)에 안착시킨 상태에서 상기 웨이퍼의 상부에 일정 거리 만큼 이격시켜 캐소드(10)를 위치시킨다.Referring to FIG. 7, when the insertion ring 200 is coupled to the bush 100, the state in which the insertion ring 200 is coupled to the bush 100 is maintained in the fastening hole 12 of the cathode 10. The worker screws the screw bolt 300 to the insertion hole 102 of the bush 100 via the plate 200 to perform a safe installation of the cathode (10). In addition, the cathode 10 is spaced apart from the upper portion of the wafer by a predetermined distance in a state in which a separately provided wafer (not shown) is seated in a plasma chamber (not shown).

작업자는 웨이퍼의 가공을 위해 플라즈마 챔버에 전압을 인가시키면 상기 부시(100)에 고전압에 의한 플라즈마에 의한 환경이 조성되는 조건에서도 부시(100)가 삽입링(200)에 결합된 상태가 안정적으로 유지되고, 상기 부시(100) 및 삽ㅇ비링(200) 모두 타언 형상으로 형성되어 있어서 특정 위치에 하중이 가해지는 경우에도 응력이 집중되지않고 안정적으로 분산되므로 캐소드(10)의 손상을 발생시키지 않고 스크류 볼트(300)와 결합된 상태가 유지된다. 따라서 고가의 캐소드(10)에 대한 파손 없이 웨이퍼에 대한 가공을 안정적으로 실시할 수 있게 된다.When the operator applies a voltage to the plasma chamber to process the wafer, the state in which the bush 100 is coupled to the insertion ring 200 is stably maintained even under a condition in which the bush 100 is formed by a plasma due to a high voltage. In addition, the bush 100 and the insertion ring 200 are both formed in the shape of the other tongue, so that even when a load is applied to a specific position, the stress is not concentrated and is stably dispersed, so that the screw does not cause damage to the cathode 10. The coupled state with the bolt 300 is maintained. Therefore, it is possible to stably process the wafer without damaging the expensive cathode 10.

본 실시예에 의한 부시(100)의 개구 슬롯(202)은 상기 캐소드(10)의 중심을 향하도록 부시(100)와 결합된 상태로 설치된다. 즉, 모서리를 가지는 개구 슬롯(202)이 캐소드(10)의 외측이 아닌 중심을 향하도록 배치된다. 왜냐하면, 상기 캐소드(10)의 가공을 위해 RF 전압이 인가될 경우에 개구 슬롯(202)의 모서리 부분에서 전압이 피크 전압(Peak voltage)로 상승하거나, 스파크가 발생됨으로서 상기 캐소드(10)의 특정 위치로 집중되고 이로 인해 고가의 캐소드(10)의 파손이 발생될 수 있기 때문이다.The opening slot 202 of the bush 100 according to the present embodiment is installed in a state coupled with the bush 100 to face the center of the cathode 10. That is, the opening slot 202 having an edge is disposed to face the center, not the outside of the cathode 10. This is because when the RF voltage is applied for the processing of the cathode 10, the voltage rises to a peak voltage at a corner portion of the opening slot 202, or a spark is generated to identify the cathode 10. This is because it can be concentrated in position and this can result in breakage of expensive cathodes 10.

따라서 상기 개구 슬롯(202)이 항시 캐소드(10)의 중심을 향하도록 삽입링(200)과 결합시켜 캐소드(10)의 가공 공정에서 발생될 수 있는 전압 불균일 문제를 해결하고 캐소드(20)의 안정적인 가공을 가능하게 할 수 있다.
Therefore, the opening slot 202 is always coupled to the insertion ring 200 so as to face the center of the cathode 10 to solve the voltage non-uniformity that may occur in the machining process of the cathode 10 and stable of the cathode 20 Machining can be enabled.

이상, 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit of the invention as set forth in the appended claims. The present invention can be variously modified and changed by those skilled in the art, and it is also within the scope of the present invention.

10 : 캐소드
100 : 부시
110 : 베이스 플레이트
120 : 상부 결합부
122 : 결합홈
200 : 삽입링
202 : 개구 슬롯
210 : 돌출편
300 : 스크류 볼트10: cathode
100: bush
110: base plate
120: upper coupling
122: coupling groove
200: insertion ring
202: opening slot
210: protrusion
300: screw bolt

Claims (10)

캐소드의 체결홀에 삽입되는 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트의 상부로 연장되고 상면 중앙에 삽입홀이 형성되며 타원형상으로 형성되고 하측 원주 방향 상에 결합홈이 형성된 상부 결합부를 가지는 부시;
상기 부시에 삽입되도록 타원형태의 링 형상으로 이루어지고, 내측 하부 원주 방향 상에 형성된 돌출편을 가지는 삽입링; 및
상기 부시가 삽입된 캐소드의 상부에 위치된 플레이트를 경유하여 상기 삽입홀에 결합되는 스크류 볼트;
를 포함하되,
상기 부시와 상기 삽입링은 상기 결합홈 및 상기 돌출편을 통해 결합하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.A bush having a base plate inserted into the fastening hole of the cathode and an upper coupling part extending to an upper portion of the base plate and having an insertion hole formed at the center of the upper surface thereof, formed in an elliptical shape, and having a coupling groove formed in a lower circumferential direction;
An insertion ring having an elliptical shape to be inserted into the bush and having a protruding piece formed on the inner lower circumferential direction; And
A screw bolt coupled to the insertion hole via a plate positioned above the cathode in which the bush is inserted;
Including but not limited to:
The bush and the insertion ring is a cathode fastener of the plasma chamber coupled through the coupling groove and the protruding piece. 제1 항에 있어서,
상기 부시는,
상기 베이스 플레이트와 상기 상부 결합부가 각각 타원 형상으로 이루어지되, 상기 상부 결합부는 상기 베이스 플레이트의 폭 방향으로 배치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.The method according to claim 1,
The bush,
The base plate and the upper coupling portion is formed in an elliptic shape, respectively, the upper coupling portion cathode fastener of the plasma chamber, characterized in that arranged in the width direction of the base plate. 제1 항에 있어서,
상기 상부 결합부는,
상단 원주 방향을 따라 내측을 향해 테이퍼진 제1 경사부를 포함하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.The method according to claim 1,
The upper coupling portion,
A cathode fastener of a plasma chamber comprising a first inclined portion tapered inwardly along an upper circumferential direction. 제1 항에 있어서,
상기 결합홈은,
상부 결합부의 일부 구간에만 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.The method according to claim 1,
The coupling groove,
The cathode fastener of the plasma chamber, characterized in that formed in only a portion of the upper coupling portion. 제4 항에 있어서,
상기 결합홈은,
상기 상부 결합부의 길이 방향을 기준으로 좌측과 우측 하단에 각각 배치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.5. The method of claim 4,
The coupling groove,
Cathode fasteners of the plasma chamber, characterized in that disposed on the lower left and right, respectively relative to the longitudinal direction of the upper coupling portion. 제1 항에 있어서,
상기 삽입링은,
일측이 세로 방향으로 개구된 개구 슬롯을 포함하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.The method according to claim 1,
The insertion ring,
The cathode fastener of the plasma chamber including an opening slot one side is opened in the longitudinal direction. 제1 항에 있어서,
상기 삽입링은,
내측 원주 방향 상에 상기 돌출편이 형성되지 않은 미형성 구간을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.The method according to claim 1,
The insertion ring,
The cathode fastener of the plasma chamber, characterized in that it has an unformed section in which the protruding piece is not formed on the inner circumferential direction. 제7 항에 있어서,
상기 미 형성 구간은 서로 마주 보며 배치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.The method of claim 7, wherein
The non-forming section is a cathode fastener of the plasma chamber, characterized in that disposed facing each other. 제7 항에 있어서,
상기 돌출편은,
상기 미형성 구간으로 갈수록 돌출 두께가 감소되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.The method of claim 7, wherein
The projecting piece
The cathode fastener of the plasma chamber, characterized in that the protrusion thickness is reduced toward the unformed section. 제6 항에 있어서,
상기 부시의 개구 슬롯은,
상기 캐소드의 중심을 향하도록 부시와 결합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 챔버의 캐소드 체결구.The method of claim 6,
The opening slot of the bush,
Cathode fasteners of the plasma chamber, characterized in that coupled to the bush facing the center of the cathode.
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