KR101234266B1 - Method for manufacturing ceramics substrate and semiconductor package using the same - Google Patents

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Abstract

계면 분리를 방지하고, 고효율의 반사율을 달성하는 반도체 패키지용 세라믹 기판의 제조 기술을 제공한다. 본 발명의 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법은, 하부 세라믹 기판에 대해 소정의 경사도를 갖는 경사면의 캐비티가 천공되어 있는 상부 세라믹 기판을 준비하는 단계; 캐비티의 경사면에 세라믹 물질을 코팅하여 세라믹 재질의 반사면을 갖는 성형체를 만드는 단계; 및 성형체를 하부 세라믹 기판상에 적층하고 열처리하여 일체화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a manufacturing technique of a ceramic substrate for a semiconductor package that prevents interfacial separation and achieves high reflectivity. In accordance with another aspect of the present disclosure, a method of manufacturing a ceramic substrate may include preparing an upper ceramic substrate on which a cavity of an inclined surface having a predetermined inclination with respect to a lower ceramic substrate is formed; Coating a ceramic material on the inclined surface of the cavity to form a molded body having a reflective surface of the ceramic material; And stacking the molded body on the lower ceramic substrate and heat-treating them to integrate the molded body.

Description

세라믹 기판 제조 방법 및 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지{METHOD FOR MANUFACTURING CERAMICS SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR PACKAGE USING THE SAME}METHOD FOR MANUFACTURING CERAMICS SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR PACKAGE USING THE SAME

본 발명은 세라믹 기판 제조 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 발광 다이오드를 발광소자로 이용하여 반도체 엘이디 패키지를 제작하는 데 있어서 필요한 세라믹 기판을 제조하는 방법 및 이를 이용한 반도체 엘이디 패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a ceramic substrate, and more particularly, to a method of manufacturing a ceramic substrate for manufacturing a semiconductor LED package using a light emitting diode as a light emitting device, and a semiconductor LED package using the same.

발광다이오드(Light Emitting Diode, 이하, 엘이디라고 함)는 GaAs, AlGaAs, GaN, InGaN 및 AlGaInP 등의 화합물 반도체(compound semiconductor) 재료의 변경을 통해 발광원을 구성함으로써 다양한 색을 구현할 수 있는 반도체 소자를 말한다. 현재, 이와 같은 반도체 소자가 전자부품에 패키지형태로 많이 채택되고 있다.Light emitting diodes (hereinafter referred to as LEDs) are semiconductor devices capable of realizing various colors by forming light emitting sources by changing compound semiconductor materials such as GaAs, AlGaAs, GaN, InGaN, and AlGaInP. Say. At present, many such semiconductor devices have been adopted in the form of packages in electronic components.

도 1은 세라믹 기판으로 형성된 종래 엘이디 패키지의 단면도이다. 도 1을 참조하면, 엘이디 패키지 구조는 각각 복수개의 세라믹 시트가 적층된 구조를 갖는 두 개의 세라믹 기판(10, 12)으로 구성된다. 하부 세라믹 기판(10)에는 상호 이격된 전극(14, 16)이 설치된다. 하부 세라믹 기판(10)은 상면에 엘이디 소자(18)의 실장영역을 갖는다. 어느 한 전극(16)상에 설치된 엘이디 소자(18)는 와이어(20) 본딩 처리된다. 전극(14, 16)은 해당 세라믹 기판(10)의 하면까지 연장된다. 상부 세라믹 기판(12)은 엘이디 소자(18)의 실장영역을 둘러싸도록 소정의 캐비티가 형성되어 있다.1 is a cross-sectional view of a conventional LED package formed of a ceramic substrate. Referring to FIG. 1, the LED package structure includes two ceramic substrates 10 and 12 each having a structure in which a plurality of ceramic sheets are stacked. The lower ceramic substrate 10 is provided with electrodes 14 and 16 spaced apart from each other. The lower ceramic substrate 10 has a mounting area of the LED element 18 on the upper surface. The LED element 18 provided on one of the electrodes 16 is bonded to the wire 20. The electrodes 14, 16 extend to the lower surface of the ceramic substrate 10. The upper ceramic substrate 12 has a predetermined cavity formed to surround the mounting area of the LED element 18.

여기서, 엘이디 소자(18)의 실장영역을 위한 캐비티가 펀칭이나 절단공정으로 형성되면 도시된 바와 같이 절개면이 항상 수직으로 형성된다. 이러한 특성으로 인해 수지 몰딩류로 형성된 패키지와는 달리 절개면이 수직면이므로, 양질의 반사면을 형성하는 것이 어려웠다. Here, when the cavity for the mounting area of the LED element 18 is formed by a punching or cutting process, the incision surface is always formed vertically as shown. Due to these characteristics, it is difficult to form a high quality reflective surface because the incision surface is a vertical plane unlike a package formed of resin moldings.

그에 따라, 양질의 반사면을 형성하기 위해, 도 2에서와 같이 상부 세라믹 기판(12)의 캐비티를 경사지게 형성한 후에 해당 경사면에 메탈라이징을 실시하고 Ag 도금을 하였다. 도 2에서, 참조부호 22는 Ag 도금에 의한 반사면이 된다.Accordingly, in order to form a high quality reflective surface, as shown in FIG. 2, the cavity of the upper ceramic substrate 12 was formed to be inclined, followed by metallization and Ag plating on the inclined surface. In Fig. 2, reference numeral 22 is a reflection surface by Ag plating.

이에 의해, 도 2의 구조는 도 1의 구조에 비해 광효율의 증대를 도모할 수 있게 되었다.As a result, the structure of FIG. 2 can increase the light efficiency compared to the structure of FIG.

그러나, 도 2의 반사면(22)의 경우 메탈라이징 후에 Ag 도금을 하였기 때문에 도금 편차가 많이 발생한다. 다시 말해서, 캐비티의 경사면을 따라 균일한 두께의 Ag 도금이 이루어져야 됨에도 불구하고 그러하지 못한 경우가 많이 발생한다. 이러한 도금 편차로 인해 원하는 광효율에 비해 보다 저조한 광효율을 얻게 된다. However, in the reflective surface 22 of FIG. 2, since plating of Ag is performed after metallizing, plating variation occurs a lot. In other words, although Ag plating having a uniform thickness must be performed along the inclined surface of the cavity, many of the failures occur. This plating variation results in lower light efficiency compared to the desired light efficiency.

그리고, 상부 세라믹 기판(12)의 캐비티의 내부에 형광체와 에폭시 등이 혼합된 혼합액을 주입하여 형광체 층을 형성한다. 이 경우, 형광체층의 에폭시와 반사면(22)의 Ag 는 서로 이질의 재료이므로, 서로간의 밀착성이 떨어진다. 그에 따라, 형광체층과 반사면(22)간에 들뜸이 발생하기도 한다.Then, a mixture of phosphor and epoxy is mixed into the cavity of the upper ceramic substrate 12 to form a phosphor layer. In this case, since the epoxy of the phosphor layer and Ag of the reflecting surface 22 are different materials from each other, the adhesion between them is inferior. As a result, lifting may occur between the phosphor layer and the reflecting surface 22.

이에 본 발명은, 상기한 종래 세라믹 기판 기술의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 기판 몸체와 유사한 재료를 포함하는 고반사 물질을 이용하여 반사면을 형성하여, 도금 등의 과정이 없이도 광 효율을 증대시킬 수 있는 세라믹 기판의 제조 방법을 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention is proposed to solve the above problems of the conventional ceramic substrate technology, by forming a reflective surface using a high reflection material containing a material similar to the substrate body, thereby improving the light efficiency without the process of plating, etc. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a ceramic substrate that can be increased.

또한, 본 발명은 상기 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지를 제공하여, 광효율이 높고 이질의 재료간에 밀착성이 떨어지는 문제가 발생하지 않는 양질의 반도체 패키지 기술을 제공하는 데 그 목적이 있다.In addition, the present invention is to provide a semiconductor package using the ceramic substrate, to provide a high-quality semiconductor package technology that does not cause a problem of high light efficiency and poor adhesion between different materials.

상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법은, 하부 세라믹 기판에 대해 수직한 캐비티가 천공되어 있고, 저면에 세라믹 재질의 받침부가 돌출된 상부 세라믹 기판의 상기 캐비티에 세라믹 물질을 충진하는 단계; 충진된 세라믹 물질을 흡입하여 제거하여 캐비티의 내측벽 및 받침부의 상면에 밀착되어 잔존하는 소정의 경사면을 갖는 세라믹 재질의 반사면을 갖는 성형체를 만드는 단계; 및 가공된 성형체를 하부 세라믹 기판상에 적층하고 열처리하여 일체화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, in the method of manufacturing a ceramic substrate according to the embodiment of the present invention, a cavity perpendicular to the lower ceramic substrate is perforated, and a bottom portion of the upper ceramic substrate protruding from the base of the ceramic material protrudes. Filling the ceramic material; Suctioning and removing the filled ceramic material to form a molded body having a reflective surface of ceramic material having a predetermined inclined surface remaining in close contact with the inner wall of the cavity and the upper surface of the supporting part; And laminating the processed molded body on the lower ceramic substrate, and integrating the formed molded body by heat treatment.

본 발명의 다른 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법은, 하부 세라믹 기판에 대해 소정의 경사도를 갖는 경사면의 캐비티가 천공되어 있는 상부 세라믹 기판을 준비하는 단계; 캐비티의 경사면에 세라믹 물질을 코팅하여 세라믹 재질의 반사면을 갖는 성형체를 만드는 단계; 및 성형체를 하부 세라믹 기판상에 적층하고 열처리하여 일체화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a ceramic substrate, comprising: preparing an upper ceramic substrate on which a cavity of an inclined surface having a predetermined inclination with respect to the lower ceramic substrate is perforated; Coating a ceramic material on the inclined surface of the cavity to form a molded body having a reflective surface of the ceramic material; And stacking the molded body on the lower ceramic substrate and heat-treating them to integrate the molded body.

본 발명의 또 다른 실시 예에 다른 세라믹 기판 제조 방법은, 하부 세라믹 기판에 대해 경사진 캐비티가 천공되어 있는 상부 세라믹 기판을 준비하는 단계; 상부 세라믹 기판을 하부 세라믹 기판상에 적층하는 단계; 및 하부 세라믹 기판 및 적층된 상부 세라믹 기판을 열처리하여 일체화시키는 단계를 포함하며, 이 때 상부 세라믹 기판 및 하부 세라믹 기판은 동일한 재질로서, 세라믹 분말과, TiO2, ZrO2, 및 ZnO 중 하나 이상의 물질을 혼합한 고반사 세라믹 물질로 이루어져 있다.According to another embodiment of the present invention, a method of manufacturing a ceramic substrate may include preparing an upper ceramic substrate having a perforated cavity inclined with respect to the lower ceramic substrate; Stacking the upper ceramic substrate on the lower ceramic substrate; And heat treating and integrating the lower ceramic substrate and the stacked upper ceramic substrate, wherein the upper ceramic substrate and the lower ceramic substrate are made of the same material, and include ceramic powder, at least one of TiO 2 , ZrO 2 , and ZnO. It is made of a highly reflective ceramic material.

본 발명의 실시 예에서, 반사면은 소정의 경사면을 갖는 동시에, 내향되게 라운드진 형태를 형성할 수 있다. In an embodiment of the present invention, the reflective surface may have a predetermined inclined surface, and at the same time, may be inwardly rounded.

본 발명의 다른 실시 예에서, 일체화시키는 단계 후, 하부 세라믹 기판 상면에 세라믹 물질을 더 코팅하는 단계를 더 포함할 수 있다.In another embodiment of the present disclosure, after the integrating step, the method may further include coating a ceramic material on the upper surface of the lower ceramic substrate.

본 발명의 모든 실시 예에서 사용되는 상부, 하부 기판 및 받침부는 동일한 세라믹 재료(예를 들어 저온동시소성세라믹 LTCC)의 성분을 포함할 수 있다.The upper, lower substrate and backing portions used in all embodiments of the present invention may include components of the same ceramic material (eg, low temperature co-fired ceramic LTCC).

고반사의 성질을 띠는 세라믹 물질은, 세라믹 분말과, TiO2, ZrO2, 및 ZnO 중 하나 이상의 물질을 혼합한 고반사 세라믹 물질일 수 있다.The highly reflective ceramic material may be a highly reflective ceramic material in which a ceramic powder is mixed with at least one of TiO 2 , ZrO 2 , and ZnO.

본 발명의 실시 예에 따른 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지는, 수직의 캐비티를 갖는 세라믹 기판; 캐비티 내의 발광소자 실장 영역에 실장되고 기판의 전극과 전기적으로 연결된 발광소자; 및 캐비티의 내측벽과 바닥면의 일부 중 발광소자 실장 영역을 제외한 영역을 덮는 세라믹 재질의 반사면을 포함하는 것을 특징으로 한다.A semiconductor package using a ceramic substrate according to an embodiment of the present invention, a ceramic substrate having a vertical cavity; A light emitting element mounted in a light emitting element mounting region in the cavity and electrically connected to an electrode of the substrate; And a reflective surface of a ceramic material covering an area of the inner wall and the bottom of the cavity except for a light emitting device mounting area.

본 발명의 다른 실시 예에 따른 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지는, 경사진 캐비티를 갖는 세라믹 기판; 캐비티 내의 발광소자 실장 영역에 실장된 발광소자; 및 캐비티의 경사진 내측벽에 코팅된 세라믹 재질의 반사면을 포함하는 것을 특징으로 한다.A semiconductor package using a ceramic substrate according to another embodiment of the present invention, a ceramic substrate having an inclined cavity; A light emitting element mounted in a light emitting element mounting region in the cavity; And a reflective surface of a ceramic material coated on the inclined inner wall of the cavity.

본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지는, 세라믹 재질의 경사진 반사면을 갖고, 반사면에 의해 둘러싸인 캐비티를 갖는 세라믹 기판; 및 캐비티 내의 발광소자 실장 영역에 실장된 발광소자를 포함하고, 세라믹 기판 전체가 동일한 세라믹 물질인 것을 특징으로 한다.A semiconductor package using a ceramic substrate according to still another embodiment of the present invention includes a ceramic substrate having an inclined reflective surface made of ceramic material and having a cavity surrounded by the reflective surface; And a light emitting device mounted in a light emitting device mounting region in the cavity, wherein the entire ceramic substrate is the same ceramic material.

본 발명의 실시 예에서, 반사면은 내향되게 라운드진 형태일 수 있다. 또한 본 발명의 다른 실시 예에서, 캐비티의 바닥면 전체에 코팅된 세라믹 재질의 하부 반사면을 더 포함할 수 있다.In an embodiment of the invention, the reflective surface may be inwardly rounded. In another embodiment of the present invention, the bottom reflective surface of the ceramic material may be further included on the entire bottom surface of the cavity.

본 발명에서 상부 및 하부 세라믹 기판과 받침부는 동일한 세라믹 재질로 구성될 수 있다.In the present invention, the upper and lower ceramic substrates and the support may be made of the same ceramic material.

한편 고반사 세라믹 물질은, 세라믹 분말과, TiO2, ZrO2, 및 ZnO 중 하나 이상의 물질을 혼합한 고반사 세라믹 물질일 수 있다.Meanwhile, the high reflection ceramic material may be a high reflection ceramic material mixed with ceramic powder and one or more materials of TiO 2 , ZrO 2 , and ZnO.

발광소자는 바람직하게는 발광 다이오드(LED)일 수 있다.The light emitting element may preferably be a light emitting diode (LED).

본 발명에 따르면, 고반사 성질을 갖는 세라믹 물질이 캐비티의 내측벽 등을 따라서 피착되면서 곡면 등의 형태를 띠는 세라믹 재질의 반사면을 형성하게 된다. 따라서, 기존의 금속 도금 공정 등을 수행하지 않더라도 간편하면서도 작업시간을 줄인 세라믹 기판을 제조할 수 있게 된다. According to the present invention, a ceramic material having high reflective properties is deposited along the inner wall of the cavity and the like, thereby forming a reflective surface of a ceramic material having a curved surface or the like. Therefore, it is possible to manufacture a ceramic substrate with a simple and reduced working time even without performing a conventional metal plating process.

금속 도금을 필요로 하지 않기 때문에, 광 편차를 없앨 수 있는 장점이 있다. 또한, 세라믹 재료를 주 성분으로 하는 일체형의 기판을 제조하게 되므로, 형광체 등이 형성되더라도 형광체 층과 반사면 간의 밀착성이 매우 높게 되어 계면 분리를 대폭적으로 줄일 수 있는 효과가 있다.Since there is no need for metal plating, there is an advantage that the light deviation can be eliminated. In addition, since an integrated substrate having a ceramic material as a main component is manufactured, adhesion between the phosphor layer and the reflecting surface is very high even if a phosphor or the like is formed, thereby having an effect of significantly reducing the interface separation.

도 1은 종래의 엘이디 패키지 구조의 일 예에 대한 개략도이다.
도 2는 종래의 엘이디 패키지 구조의 다른 예에 대한 개략도이다.
도 3 내지 6은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법 및 세라믹 기판의 구조를 도시한 것이다.
도 7은 본 발명의 제1 실시 예의 변형 예에 따라 제조된 세라믹 기판의 구조의 다른 예를 도시한 것이다.
도 8은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 세라믹 기판을 활용한 반도체 패키지의 측단면도이다.
도 9 내지 13은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법 및 세라믹 기판의 구조를 도시한 것이다.
도 14 내지 15는 본 발명의 제2 실시 예에 따라 제조된 세라믹 기판을 활용한 반도체 패키지의 측단면도이다.
도 16 내지 19는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법 및 세라믹 기판의 구조와, 이를 이용한 반도체 패키지의 구조를 도시한 것이다.
도 20은 기존의 기판 제조 기술에 의해 제조된 반도체 패키지와, 본 발명의 실시 예에 따른 고반사 세라믹 기판을 활용한 반도체 패키지의 효과를 비교한 것이다.
도 21는 본 발명의 실시 예에 따른 세라믹 기판과 기존의 기판을 사용했을 때의 파장대별 반사도를 비교한 그래프이다.1 is a schematic diagram of an example of a conventional LED package structure.
2 is a schematic diagram of another example of a conventional LED package structure.
3 to 6 illustrate a method of manufacturing a ceramic substrate and a structure of a ceramic substrate according to a first embodiment of the present invention.
7 illustrates another example of a structure of a ceramic substrate manufactured according to a modified example of the first embodiment of the present invention.
8 is a side cross-sectional view of a semiconductor package using a ceramic substrate according to a first embodiment of the present invention.
9 to 13 illustrate a method of manufacturing a ceramic substrate and a structure of a ceramic substrate according to a second embodiment of the present invention.
14 to 15 are side cross-sectional views of a semiconductor package using a ceramic substrate manufactured according to the second embodiment of the present invention.
16 to 19 illustrate a structure of a ceramic substrate manufacturing method and a ceramic substrate according to a third embodiment of the present invention, and a structure of a semiconductor package using the same.
FIG. 20 compares the effects of a semiconductor package manufactured by a conventional substrate manufacturing technique and a semiconductor package using a highly reflective ceramic substrate according to an embodiment of the present invention.
21 is a graph comparing reflectivity of each wavelength band when using a ceramic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention and a conventional substrate.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법 및 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, a method of manufacturing a ceramic substrate and a semiconductor package using the ceramic substrate will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3 내지 6은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법 및 세라믹 기판의 구조를 도시한 것이다. 이하의 세라믹 기판 제조 방법에 대한 설명에서는 단일의 세라믹 기판을 제조하는 공정에 대해 설명한다. 통상적으로는 복수의 세라믹 기판을 동시에 제조하게 되므로, 이하의 세라믹 기판 제조 방법을 단일의 세라믹 기판을 제조하는 공정으로 한정하여 이해할 필요는 없다.3 to 6 illustrate a method of manufacturing a ceramic substrate and a structure of a ceramic substrate according to a first embodiment of the present invention. In the following description of the method of manufacturing a ceramic substrate, a process of manufacturing a single ceramic substrate will be described. Usually, since several ceramic substrates are manufactured simultaneously, it is not necessary to limit the following ceramic substrate manufacturing method to the process of manufacturing a single ceramic substrate.

또한 본 공정에서는 한번의 열처리로 세라믹 기판이 형성된다. 즉, 이하 언급할 도 6의 공정이 완료될 때까지, 즉 열처리를 하기 전까지는 각 재료는 열처리 되기 전의 재료로서, 소프트한 특성을 띄고 있으며, 도 6의 공정, 즉 성형체와 하부 세라믹 기판(38)의 결합 후, 열처리(소성)를 통해 굳어질 것이다.In this process, the ceramic substrate is formed by one heat treatment. That is, until the process of FIG. 6 to be described below, that is, until the heat treatment, each material has a soft characteristic as a material before the heat treatment, the process of Figure 6, that is, the molded body and the lower ceramic substrate 38 ) Will be hardened by heat treatment (firing).

도 3을 참조하면, 먼저, 하부 세라믹 기판(38)에 대해 소정의 경사도를 갖는 경사면(45)의 캐비티가 천공되어 있는 상부 세라믹 기판(44)을 준비하는 단계가 수행된다. 본 발명에서 경사도는 원하는 반사각에 따라서 달라질 것이다.Referring to FIG. 3, first, an operation of preparing an upper ceramic substrate 44 on which a cavity of an inclined surface 45 having a predetermined inclination with respect to the lower ceramic substrate 38 is performed is performed. The tilt in the present invention will vary depending on the desired angle of reflection.

상부 세라믹 기판(44)에는 캐비티가 천공된다. 상부 세라믹 기판(44)은 다수의 세라믹 시트가 적층되어 형성되거나 소정 두께를 갖는 하나의 세라믹 시트로 형성될 것이다.The cavity is perforated in the upper ceramic substrate 44. The upper ceramic substrate 44 may be formed by stacking a plurality of ceramic sheets or as one ceramic sheet having a predetermined thickness.

도 3과 같은 캐비티를 갖는 상부 세라믹 기판(44)은 하나의 큰 세라믹 판에 단위 구역별로 하나씩 형성되어 있을 것이다. 단위 구역은 하나의 세라믹 기판을 만들어 낼 수 있는 최소한의 구역으로서, 상부 세라믹 기판과 하부 세라믹 기판의 적층 후 커팅에 의해 분리 가능한 최소한의 면적을 포함할 것이다.The upper ceramic substrate 44 having a cavity as shown in FIG. 3 may be formed one by one unit in one large ceramic plate. The unit zone is the minimum area capable of producing one ceramic substrate and will include the minimum area that can be separated by cutting after lamination of the upper ceramic substrate and the lower ceramic substrate.

도 4를 참조하면, 이후, 캐비티의 경사면에 세라믹 물질을 코팅하여 세라믹 재질의 반사면(46)을 갖는 성형체를 만드는 단계가 수행된다. Referring to FIG. 4, a step of forming a molded body having a reflective surface 46 of ceramic material is performed by coating a ceramic material on an inclined surface of the cavity.

고반사의 세라믹 물질(36)은 상부 세라믹 기판(44)과 동일한 세라믹 재질을 포함할 수 있다. 따라서, 예를 들어 세라믹 분말(예를 들어 LTCC)에 소정의 반사물질을 첨가하여 반사율을 높일 수 있다.The highly reflective ceramic material 36 may comprise the same ceramic material as the upper ceramic substrate 44. Thus, for example, a predetermined reflecting material may be added to the ceramic powder (eg, LTCC) to increase the reflectance.

소정의 반사물질은, 본 발명의 실시 예에서 TiO2, ZrO2, 및 ZnO 중 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 본 발명의 실시 예에서 상기 언급한 세라믹 분말과 혼합될 금속성의 반사물질의 중량비는 약 15%로 설정될 수 있다. 이하의 측정 결과 테스트에 사용되는 반사면의 성분 포함비 역시 약 15%에서의 측정 결과이다. 그러나 반사물질의 성분 및 성분비는 이에 한정되지는 않을 것이다.Certain reflective materials may include one or more of TiO 2 , ZrO 2 , and ZnO in embodiments of the present invention, for example, metallic to be mixed with the above-mentioned ceramic powder in embodiments of the present invention. The weight ratio of reflecting material may be set to about 15%. The component inclusion ratio of the reflecting surface used for the following measurement result test is also the measurement result at about 15%. However, the component and the ratio of the reflective material will not be limited thereto.

상기의 성형체를 제조하는 과정에 의하면, 고반사의 세라믹 물질을 코팅하는 과정을 통하여 반사면을 갖는 동질의 성형체를 용이하게 제조할 수 있어, 생산성의 향상이 기대된다.According to the above-described process of manufacturing the molded article, a homogeneous molded article having a reflective surface can be easily manufactured through a process of coating a highly reflective ceramic material, thereby improving productivity.

또한, 제조된 성형체는 모두 공통된 세라믹 재질을 포함하기 때문에, 추후 열처리에 있어서도 단일 열처리를 통해 세라믹 기판을 형성할 수 있고, 반사면(46)과 상부 세라믹 기판(44) 및 하부 세라믹 기판(38) 간에 열처리 시의 계면 분리 현상을 최소화하고 일체성을 극대화할 수 있는 효과가 있다.In addition, since the manufactured molded bodies all contain a common ceramic material, the ceramic substrate can be formed through a single heat treatment even in a subsequent heat treatment, and the reflecting surface 46, the upper ceramic substrate 44, and the lower ceramic substrate 38 There is an effect that can minimize the interface separation phenomenon during heat treatment between and maximize the integrity.

도 6를 참조하면, 이후 평탄한 형상의 하부 세라믹 기판(38) 상에 성형체를 적층하는 단계가 수행된다.Referring to FIG. 6, a step of stacking a molded body on the lower ceramic substrate 38 having a flat shape is performed.

도 6의 공정 이후에는 단위 구역별로 커팅을 한 후, 열처리를 거치게 된다. 열처리를 완료한 세라믹 기판은, 도 6에서와 같은 구조를 띄고 있다. 즉, 하부 세라믹 기판(38) 상에 성형체를 적층시킨 후, 단위 구역별로의 커팅을 행하고, 커팅에 의해 생성된 복수개의 세라믹 기판을 오븐 등에 넣게 되는 것이다.After the process of FIG. 6, the cutting is performed for each unit area and then subjected to heat treatment. The ceramic substrate after the heat treatment has a structure as shown in FIG. That is, after forming a molded object on the lower ceramic substrate 38, cutting is performed for each unit region, and a plurality of ceramic substrates produced by the cutting are put in an oven or the like.

이후, 소성 등의 열처리를 하게 되면 각 세라믹 기판은 상부 세라믹 기판(44)과 하부 세라믹 기판(38) 및 반사면(46)이 일체화 된 세라믹 기판으로 형성된다. Subsequently, when the heat treatment such as baking is performed, each ceramic substrate is formed of a ceramic substrate in which the upper ceramic substrate 44, the lower ceramic substrate 38, and the reflective surface 46 are integrated.

열처리 후의 도 6의 세라믹 기판을 살펴보면, 상부 세라믹 기판(44), 하부 세라믹 기판(38) 및 반사면(46)이 모두 세라믹 재질을 포함하기 때문에, 본 발명의 제1 실시 예에 따라 제조된 세라믹 기판은 세라믹 일체형 기판인 것을 알 수 있다. 이에 따라서, 추후 투명 실리콘 재질 등의 충전체를 충전하여 반도체 패키지를 생산하더라도, 소재들 사이의 계면 분리 현상을 최소화할 수 있는 세라믹 기판을 제공할 수 있는 효과가 있을 것이다.Referring to the ceramic substrate of FIG. 6 after the heat treatment, since the upper ceramic substrate 44, the lower ceramic substrate 38, and the reflective surface 46 all include a ceramic material, the ceramic manufactured according to the first embodiment of the present invention. It can be seen that the substrate is a ceramic integrated substrate. Accordingly, even if the semiconductor package is produced by filling a filler such as a transparent silicon material, there will be an effect of providing a ceramic substrate which can minimize the interface separation between the materials.

도 7은 본 발명의 제1 실시 예의 변형 예에 따라 제조된 세라믹 기판의 구조의 다른 예를 도시한 것이다.7 illustrates another example of a structure of a ceramic substrate manufactured according to a modified example of the first embodiment of the present invention.

도 7은 성형체를 하부 세라믹 기판(38)에 적층하고 나서 열처리를 하기 전, 하부 세라믹 기판(38)의 바닥면 중 상부 세라믹 기판(44) 및 코팅된 세라믹 물질에 따른 반사면(46)이 적층되는 영역을 제외한 면에 세라믹 물질을 코팅한 반사면(48)을 추가로 코팅하는 과정을 통해 생산된 세라믹 기판의 단면도이다.FIG. 7 shows that the upper ceramic substrate 44 and the reflective surface 46 according to the coated ceramic material are laminated on the bottom surface of the lower ceramic substrate 38 before the molded body is laminated on the lower ceramic substrate 38 and then heat-treated. A cross-sectional view of a ceramic substrate produced by further coating a reflective surface 48 coated with a ceramic material on a surface except for a region to be provided.

바닥면에 코팅된 반사면(48)을 통하여, 추후 발광소자가 실장되고 투명한 충전체가 충전되어 반도체 패키지가 완성되면, 반사율을 더욱 높일 수 있는 효과가 있을 것이다.Through the reflective surface 48 coated on the bottom surface, when the light emitting device is mounted later and the transparent filler is filled and the semiconductor package is completed, the reflectance may be further increased.

도 8은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 세라믹 기판을 활용한 반도체 패키지의 측단면도이다.8 is a side cross-sectional view of a semiconductor package using a ceramic substrate according to a first embodiment of the present invention.

도 8에서는 투명의 실리콘 재질인 충전체에 대한 도시는 생략되어 있다.In FIG. 8, illustration of a filler made of transparent silicon is omitted.

도 8을 참조하면, 하부 세라믹 기판(38)에는 도 6 및 7에서는 생략된 양극의 전극(50a, 50b)이 스루홀을 통해 하부 세라믹 기판(38)의 상면 및 하면에 형성되어 있다. 전극(50a, 50b)은 상면 전극을 통해 발광 소자(52)와, 하면 전극을 통해 반도체 패키지가 실장되는 기판(미도시)과 각각 전기적으로 연결될 것이다.Referring to FIG. 8, electrodes 50a and 50b of the anodes omitted in FIGS. 6 and 7 are formed in the lower ceramic substrate 38 on the upper and lower surfaces of the lower ceramic substrate 38 through the through holes. The electrodes 50a and 50b may be electrically connected to the light emitting device 52 through the top electrode and the substrate (not shown) on which the semiconductor package is mounted through the bottom electrode.

하부 세라믹 기판(38)의 바닥면의 반사면(48)은 전극(50a, 50b)의 영역 및 상부 세라믹 기판(44)이 결합되는 면을 제외한 하루 세라믹 기판(38)의 바닥면에 코팅되어 있을 수 있다. 그러나 공정 순서의 조절 및 각 전극(50a, 50b)의 높이를 상이하게 형성하는 것에 의해, 반사면(48)이 전극(50b)의 영역을 덮고, 전극(50a)의 영역을 덮지 않도록 형성될 수도 있을 것이다.The reflective surface 48 of the bottom surface of the lower ceramic substrate 38 may be coated on the bottom surface of the ceramic substrate 38 per day except for the regions of the electrodes 50a and 50b and the surface to which the upper ceramic substrate 44 is coupled. Can be. However, by adjusting the process sequence and forming the heights of the electrodes 50a and 50b differently, the reflective surface 48 may be formed so as to cover the region of the electrode 50b and not to cover the region of the electrode 50a. There will be.

도 9 내지 13은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법 및 세라믹 기판의 구조를 도시한 것이다.9 to 13 illustrate a method of manufacturing a ceramic substrate and a structure of a ceramic substrate according to a second embodiment of the present invention.

도 9을 참조하면, 상부 세라믹 기판(30)이 준비된다. 본 발명의 제2 실시 예에서 상부 세라믹 기판(30)은, 수직벽(30a)과 받침부(30b)를 포함한다. 도 9의 상측 도면을 참조하면 수직벽(30a)이 분리된 형태로 보이나, 도 9의 하측 도면과 같이, 상수 세라믹 기판(30)은 복수의 세라믹 기판을 동시에 제조하여 각 구획별로 커팅한 결과가 될 것이다. 9, an upper ceramic substrate 30 is prepared. In the second embodiment of the present invention, the upper ceramic substrate 30 includes a vertical wall 30a and a support part 30b. Referring to the upper side of FIG. 9, the vertical wall 30a is shown separated, but as shown in the lower side of FIG. 9, the constant ceramic substrate 30 is manufactured by cutting a plurality of ceramic substrates at the same time and cutting each section. Will be.

상부 세라믹 기판(30)에는 캐비티가 천공된다. 상부 세라믹 기판(30)은 다수의 세라믹 시트가 적층되어 형성되거나 소정 두께를 갖는 하나의 세라믹 시트로 형성될 것이다.The cavity is perforated in the upper ceramic substrate 30. The upper ceramic substrate 30 may be formed by stacking a plurality of ceramic sheets or one ceramic sheet having a predetermined thickness.

캐비티는 펀칭 또는 절단 공정에 의해 수직하게 형성될 수 있다. 상부 세라믹 기판(30)의 수직벽(30a)의 저면에는 소정 길이를 갖는 받침부(30b)가 내향되게 돌출 형성된다. 수직벽(30a)과 받침부(30b)는 동일한 재질을 갖는 세라믹(예를 들어 저온 동시 소성 세라믹, LTCC)으로 구성될 수 있다.The cavity may be formed vertically by a punching or cutting process. On the bottom surface of the vertical wall 30a of the upper ceramic substrate 30, a supporting part 30b having a predetermined length protrudes inwardly. The vertical wall 30a and the support part 30b may be made of ceramic (eg, low temperature co-fired ceramic, LTCC) having the same material.

도 9과 같은 캐비티를 갖는 상부 세라믹 기판(30)은 하나의 큰 세라믹 판에 단위 구역별로 하나씩 형성되어 있을 것이다. 단위 구역은 하나의 세라믹 기판을 만들어 낼 수 있는 최소한의 구역으로서, 상부 세라믹 기판과 하부 세라믹 기판의 적층 후 커팅에 의해 분리 가능한 최소한의 면적을 포함할 것이다.The upper ceramic substrate 30 having the cavity as shown in FIG. 9 may be formed one unit per unit area in one large ceramic plate. The unit zone is the minimum area capable of producing one ceramic substrate and will include the minimum area that can be separated by cutting after lamination of the upper ceramic substrate and the lower ceramic substrate.

도 10를 참조하면, 상부 세라믹 기판(30)이 제공된 후 상부 세라믹 기판(30)이 형성된 세라믹 원판 상에 구멍 패턴이 형성된 마스크(32)를 위치시킨다. 마스크(32)의 구멍패턴은 상부 세라믹 기판(30)의 캐비티의 개구부를 덮지 않도록 위치됨이 바람직할 것이다. 이후, 스퀴지(34)를 이용하여 고반사의 세라믹 물질(36)을 상부 세라믹 기판(30)에 형성된 캐비티에 충전한다. 즉, 스퀴지(34)에 의한 인쇄 방식을 사용하여 고반사의 세라믹 물질이 충전되는 것이다.Referring to FIG. 10, after the upper ceramic substrate 30 is provided, the mask 32 having the hole pattern is positioned on the ceramic original plate on which the upper ceramic substrate 30 is formed. The hole pattern of the mask 32 may be positioned so as not to cover the opening of the cavity of the upper ceramic substrate 30. Thereafter, the squeegee 34 is used to fill the cavity formed in the upper ceramic substrate 30 with the highly reflective ceramic material 36. That is, the highly reflective ceramic material is filled using the printing method by the squeegee 34.

고반사의 세라믹 물질(36)은 수직벽(30a) 및 받침부(30b)와 동일한 세라믹 재질을 포함할 수 있다. 따라서, 예를 들어 세라믹 분말(예를 들어 LTCC)에 소정의 반사물질을 첨가하여 반사율을 높일 수 있다. 이는 상기 본 발명의 제1 실시 예에 대한 도 3 내지 6에 대한 설명과 동일하다.The high reflection ceramic material 36 may include the same ceramic material as the vertical wall 30a and the support part 30b. Thus, for example, a predetermined reflecting material may be added to the ceramic powder (eg, LTCC) to increase the reflectance. This is the same as the description of Figures 3 to 6 with respect to the first embodiment of the present invention.

도 11를 참조하면, 이후 마스크(32)를 제거하고 상부 세라믹 기판(30)의 캐비티의 내측벽(즉, 수직벽(30a)의 내측면) 및 받침부(30b)의 상면에 세라믹 물질(36)이 밀착되어 잔존하도록 한다. 즉, 충전된 세라믹 물질(36)의 중앙 부분을 제거할 수 있도록 세라믹 물질(36)의 중앙 부분을 흡입하는 것이다. Referring to FIG. 11, the mask 32 is then removed and the ceramic material 36 is formed on the inner wall of the cavity of the upper ceramic substrate 30 (ie, the inner surface of the vertical wall 30a) and the upper surface of the support 30b. ) Will remain in close contact with each other. That is, the central portion of the ceramic material 36 is sucked to remove the central portion of the filled ceramic material 36.

이에 따라서, 도 11에서와 같이 수직벽(30a)의 내측벽 및 받침부(30b)의 상면에만 세라믹 물질(36)이 잔존하게 된다. 잔존하는 세라믹 물질(36)은 곡면 형상의 반사면이 될 것이다.Accordingly, as shown in FIG. 11, the ceramic material 36 remains only on the inner wall of the vertical wall 30a and the upper surface of the support part 30b. The remaining ceramic material 36 will be a curved reflective surface.

도 11까지의 과정을 통해 제조된 곡면 형상의 반사면(36)이 포함된 상부 세라믹 기판(30)을 이하에서 성형체라고 한다. The upper ceramic substrate 30 including the curved reflective surface 36 manufactured through the process of FIG. 11 is referred to as a molded body hereinafter.

상기의 성형체를 제조하는 본 발명의 제2 실시 예의 과정에 의하면, 고반사의 세라믹 물질을 충진 및 흡입하는 과정을 통하여 곡면 반사면을 갖는 성형체를 용이하게 제조할 수 있기 때문에, 도금 등 복잡한 과정을 통해 반사면을 형성해야 하는 기존의 발명들 보다 매우 단순한 공정을 갖게 된다. 이에 따라서, 생산성이 매우 향상될 수 있다.According to the process of the second embodiment of the present invention for producing the above-described molded body, the molded body having the curved reflective surface can be easily manufactured through the process of filling and suctioning the highly reflective ceramic material, so that complicated processes such as plating This results in a much simpler process than existing inventions that require the formation of reflective surfaces. Accordingly, productivity can be greatly improved.

또한, 제조된 성형체는 모두 공통된 세라믹 재질을 포함하기 때문에, 추후 열처리에 있어서도 단일 열처리를 통해 세라믹 기판을 형성할 수 있고, 수직벽(30a), 받침부(30b) 및 세라믹 물질(36) 간에 열처리 시의 계면 분리 현상을 최소화할 수 있는 효과가 있다.In addition, since the manufactured molded bodies all contain a common ceramic material, a ceramic substrate can be formed through a single heat treatment even in a subsequent heat treatment, and the heat treatment is performed between the vertical wall 30a, the support part 30b, and the ceramic material 36. There is an effect that can minimize the interfacial separation phenomenon.

도 12를 참조하면, 이후 평탄한 형상의 하부 세라믹 기판(38) 상에 성형체를 적층하는 단계가 수행된다. 상기 언급한 바와 같이 도 11의 공정에서 마스크(32)를 제거하는 것으로 설명되었으나, 필요에 따라서는 도 12의 공정 이후 마스크(32)를 제거하여도 될 것이다.Referring to FIG. 12, a step of stacking a molded body on the lower ceramic substrate 38 having a flat shape is performed. As described above, the mask 32 has been described as being removed in the process of FIG. 11, but if necessary, the mask 32 may be removed after the process of FIG. 12.

도 12의 공정 이후에는 단위 구역별로 커팅을 한 후, 열처리를 거치게 된다. 열처리를 완료한 세라믹 기판은, 도 13에서와 같은 구조를 띄고 있다. 즉, 하부 세라믹 기판(38) 상에 성형체를 적층시킨 후, 단위 구역별로의 커팅을 행하고, 커팅에 의해 생성된 복수개의 세라믹 기판을 오븐 등에 넣게 되는 것이다.After the process of FIG. 12, cutting is performed for each unit area, and then subjected to heat treatment. The ceramic substrate after the heat treatment has a structure as shown in FIG. That is, after forming a molded object on the lower ceramic substrate 38, cutting is performed for each unit region, and a plurality of ceramic substrates produced by the cutting are put in an oven or the like.

이후, 소성 등의 열처리를 하게 되면 각 세라믹 기판은 상부 세라믹 기판(30)과 하부 세라믹 기판(38) 및 반사면(40)이 일체화 된 세라믹 기판으로 형성된다. 반사면(40)은, 세라믹 물질(38)이 열처리에 의해 고형화된 부분의 면을 의미한다.Subsequently, when the heat treatment such as baking is performed, each ceramic substrate is formed of a ceramic substrate in which the upper ceramic substrate 30, the lower ceramic substrate 38, and the reflective surface 40 are integrated. The reflective surface 40 means the surface of the portion where the ceramic material 38 is solidified by heat treatment.

열처리 후의 도 13의 세라믹 기판을 살펴보면, 상부 세라믹 기판(30), 하부 세라믹 기판(38) 및 반사면(40)이 모두 세라믹 재질을 포함하기 때문에, 본 발명의 제1 실시 예에 따라 제조된 세라믹 기판은 세라믹 일체형 기판인 것을 알 수 있다. 이에 따라서, 추후 투명 실리콘 재질 등의 충전체를 충전하여 반도체 패키지를 생산하더라도, 소재들 사이의 계면 분리 현상을 최소화할 수 있는 세라믹 기판을 제공할 수 있는 효과가 있을 것이다.Referring to the ceramic substrate of FIG. 13 after the heat treatment, since the upper ceramic substrate 30, the lower ceramic substrate 38, and the reflective surface 40 all include a ceramic material, the ceramic manufactured according to the first embodiment of the present invention. It can be seen that the substrate is a ceramic integrated substrate. Accordingly, even if the semiconductor package is produced by filling a filler such as a transparent silicon material, there will be an effect of providing a ceramic substrate which can minimize the interface separation between the materials.

도 14 내지 15는 본 발명의 제2 실시 예에 따라 제조된 세라믹 기판을 활용한 반도체 패키지의 측단면도이다.14 to 15 are side cross-sectional views of a semiconductor package using a ceramic substrate manufactured according to the second embodiment of the present invention.

도 14을 참조하면, 상부 세라믹 기판(30), 하부 세라믹 기판(38) 및 반사면(40)을 포함하는 세라믹 기판의 발광소자 실장영역에 발광소자(52)가 실장되어 있는 것을 볼 수 있다. 발광소자(52)는 이하의 설명에서 바람직하게는 LED, 즉 발광 다이오드일 것이나. 반도체 패키지에 실장될 수 있는 발광소자라면 어느 것이나 가능할 것이다.Referring to FIG. 14, it can be seen that the light emitting device 52 is mounted in the light emitting device mounting region of the ceramic substrate including the upper ceramic substrate 30, the lower ceramic substrate 38, and the reflective surface 40. The light emitting element 52 is preferably an LED, that is, a light emitting diode in the following description. Any light emitting device that can be mounted in a semiconductor package may be possible.

실장영역은 발광소자(52)가 실장될 수 있는 영역을 의미한다. 실장영역에는 발광소자(52)에 전원을 공급하는 전극(50a)이 존재할 수도 있다. 또한 다른 극의 전극(50b) 역시 하부 세라믹 기판(38)의 일부분에 존재할 수 있다. 본 발명의 모든 실시 예에서 하부 세라믹 기판(38)에는, 전극을 반도체 패키지가 실장되는 기판(미도시)과 전기적으로 연결하기 위하여 복수의 스루홀이 천공되어 있으며, 스루홀에는 전도체를 충전한 전극(50a, 50b)이 형성되어 있을 것이다. 발광소자(52)는 와이어 본딩 및 직접 연결 등을 통해 전극(50a, 50b)과 전기적으로 연결되어 있을 수 있다.The mounting area refers to an area in which the light emitting device 52 may be mounted. In the mounting area, there may be an electrode 50a for supplying power to the light emitting element 52. The other electrode 50b may also be present in a portion of the lower ceramic substrate 38. In all embodiments of the present invention, a plurality of through holes are formed in the lower ceramic substrate 38 to electrically connect the electrodes to a substrate (not shown) on which the semiconductor package is mounted, and the through holes are filled with a conductor. 50a and 50b will be formed. The light emitting device 52 may be electrically connected to the electrodes 50a and 50b through wire bonding and direct connection.

도 14을 참조하면, 반사면(40)이 내향되게 라운드진 곡면을 형성함을 알 수 있다. 그러나, 세라믹 물질(36)을 흡입하는 형태, 및 열처리에 따라서 반사면(40)의 형태는 다양하게 존재할 수 있을 것이다.Referring to FIG. 14, it can be seen that the reflective surface 40 forms a rounded curved surface inwardly. However, the shape of the suction of the ceramic material 36 and the shape of the reflective surface 40 may vary depending on the heat treatment.

상기 언급한 내향되게 라운드진 곡면과 다른 형상의 반사면(42)이 도 15에 도시되어 있다.A reflective surface 42 of a shape different from the above-mentioned inwardly rounded curved surface is shown in FIG. 15.

도 15를 참조하면, 도 14의 반도체 패키지와 다른 점은 반사면(42)의 형태이다. 도 15의 반사면(42)은 외향되게 라운드진, 즉 볼록한 곡면을 형성하고 있다는 점이다. 따라서 도 14과 도 15의 반사면(40, 42) 각각은 발광소자(52)에서 방출되는 빛을 각기 다른 반사각으로 반사할 것이다.Referring to FIG. 15, a difference from the semiconductor package of FIG. 14 is in the form of a reflective surface 42. The reflective surface 42 in FIG. 15 is formed to be outwardly rounded, that is, to form a convex curved surface. Therefore, each of the reflective surfaces 40 and 42 of FIGS. 14 and 15 will reflect light emitted from the light emitting device 52 at different reflection angles.

도 14과 도 15에 도시된 본 발명의 제2 실시 예에 따른 반도체 패키지에는, 실리콘 재질의 투명한 충전체 또는 색을 띄는 충전체(도시 생략)가 추가로 캐비티의 남은 영역에 충전될 수 있다. 반도체 패키지는 상기 언급한 바와 같이 세라믹 일체형으로 제조되기 때문에, 소재들 간의 분리 현상을 최소화 시킬 수 있을 것이다.In the semiconductor package according to the second embodiment of the present invention shown in FIGS. 14 and 15, a transparent filler made of silicon or a colored filler (not shown) may be additionally filled in the remaining area of the cavity. Since the semiconductor package is made of a ceramic integrated body as mentioned above, it will be possible to minimize the separation phenomenon between the materials.

도 16 내지 19는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법 및 세라믹 기판의 구조와, 이를 이용한 반도체 패키지의 구조를 도시한 것이다.16 to 19 illustrate a structure of a ceramic substrate manufacturing method and a ceramic substrate according to a third embodiment of the present invention, and a structure of a semiconductor package using the same.

도 16 내지 18을 참조하면, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법에서의 가장 큰 특징은, 상부 세라믹 기판(56)과 하부 세라믹 기판(48)이 모두 동일한 재질로 이루어져 있으며, 본 발명의 제1 및 제2 실시 예에 포함된 반사면(40, 42, 46)이 별도로 존재하지 않는 점이다.16 to 18, the biggest feature of the ceramic substrate manufacturing method according to the third embodiment of the present invention is that the upper ceramic substrate 56 and the lower ceramic substrate 48 are all made of the same material. The reflective surfaces 40, 42, and 46 included in the first and second embodiments of the present invention do not exist separately.

즉, 본 발명의 제3 실시 예에서는, 본 발명의 제1 및 제2 실시 예의 고반사 세라믹 물질로 상부 세라믹 기판(56)과 하부 세라믹 기판(48) 전체가 동일하게 이루어진 것에 그 특징이 있다.That is, in the third embodiment of the present invention, the high reflective ceramic material of the first and second embodiments of the present invention is characterized in that the entire upper ceramic substrate 56 and the lower ceramic substrate 48 are identical.

먼저, 도 16 및 17과 같이 고반사 세라믹 물질(도 1 내지 15에 대한 설명에서 언급한 반사면의 재질과 같다.)로 이루어진 상부 세라믹 기판(56) 및 상부 세라믹 기판(56)과 동일한 재질을 포함하는 하부 세라믹 기판(48)을 준비하고, 이를 적층 및 소성하여 도 18과 같은 세라믹 기판을 생성하게 된다.First, the same material as the upper ceramic substrate 56 and the upper ceramic substrate 56 made of a highly reflective ceramic material (the same as the material of the reflective surface mentioned in the description of FIGS. 1 to 15), as shown in FIGS. 16 and 17. A lower ceramic substrate 48 is prepared, stacked and fired to produce a ceramic substrate as shown in FIG. 18.

이에 따라서, 처음부터 고반사 물질을 포함하도록 상부 및 하부 세라믹 기판(56, 48)을 준비함으로써, 반사면의 코팅이나 충진 없이 간단한 공정으로 고반사 세라믹 기판을 제작할 수 있는 효과가 있다.Accordingly, by preparing the upper and lower ceramic substrates 56 and 48 to include the high reflective material from the beginning, the high reflective ceramic substrate can be manufactured in a simple process without coating or filling the reflective surface.

도 19를 참조하면, 특히 도 7 및 8과 같이 발광소자 실장 영역 및 와이어 본딩 영역을 제외한 영역에 반사면을 코팅할 필요 없이, 상부 및 하부 세라믹 기판(48, 56) 자체가 고반사 세라믹 물질로 이루어져 있어, 반도체 패키지 생성에 있어서도 공정이 매우 단순해지는 장점이 있다.Referring to FIG. 19, in particular, the upper and lower ceramic substrates 48 and 56 themselves may be made of a highly reflective ceramic material without the need to coat reflective surfaces in regions other than the light emitting device mounting region and the wire bonding region, as shown in FIGS. 7 and 8. In addition, there is an advantage that the process is very simple even in the production of semiconductor packages.

반도체 패키지에는 역시 기판(50a)으로 이루어진 발광소자 실장 영역에 LED 칩(52)인 발광소자가 실장되며, 다른 전극(50b)에 와이어 본딩이 되어 있을 수 있을 것이다.In the semiconductor package, a light emitting device, which is an LED chip 52, may be mounted on a light emitting device mounting area formed of a substrate 50a, and wire bonding may be performed on another electrode 50b.

도 20은 기존의 기판 제조 기술에 의해 제조된 반도체 패키지와, 본 발명의 실시 예에 따른 고반사 세라믹 기판을 활용한 반도체 패키지의 효과를 비교한 것이다.FIG. 20 compares the effects of a semiconductor package manufactured by a conventional substrate manufacturing technique and a semiconductor package using a highly reflective ceramic substrate according to an embodiment of the present invention.

도 20을 참조하면, 제1 기존 기판(100)은 기존의 단순 반사면, 예를 들어 기판의 제조 시 단순히 경사진 반사면을 형성하기만 하는 상태에서 반도체 패키지를 실장한 것이다.Referring to FIG. 20, the first conventional substrate 100 is a semiconductor package mounted in a state in which a conventional simple reflective surface, for example, simply forms an inclined reflective surface in manufacturing a substrate.

제2 기존 기판(200)은 세라믹 기판을 형성한 후, 고반사 물질을 기판 주위에 충전하여 곡면의 반사면을 형성하는 기술로 제조된 반도체 패키지이다.The second existing substrate 200 is a semiconductor package manufactured by a technology of forming a ceramic reflective substrate and then filling a high reflective material around the substrate to form a curved reflective surface.

제1 및 제2 기존 기판(100, 200)과 본 발명의 실시 예에 따라 제조된 기판(300)을 이용한 반도체 패키지의 효과를 살펴보면, 먼저, 평균 전광선속(TLF, Total Luminous Flux) 면에 있어서, 본 발명의 기판(300)을 이용했을 때 제1 및 제2 기존 기판(100, 200)을 이용했을 때보다 향상된 효과를 얻을 수 있는 것을 알 수 있다. 따라서 본 발명의 실시 예에 따르면, 광효율이 기존의 기술보다 크게 향상된 것을 볼 수 있다.Looking at the effects of the semiconductor package using the first and second existing substrates 100 and 200 and the substrate 300 manufactured according to the embodiment of the present invention, first, in terms of total luminous flux (TLF), When using the substrate 300 of the present invention, it can be seen that an improved effect can be obtained than when using the first and second existing substrates 100 and 200. Therefore, according to the embodiment of the present invention, it can be seen that the light efficiency is significantly improved than the existing technology.

또한, 상관 색온도(CCT, Correlated Color Temperature) 면을 보면, 기존의 기판들(100, 200)과 성능 차이가 거의 없는 것을 알 수 있다. 따라서, 같은 색을 구현할 수 있을 것이며, 광효율이 향상된 발광 패키지를 제공할 수 있는 것이다.In addition, looking at the correlated color temperature (CCT), it can be seen that there is almost no difference in performance from the existing substrates 100 and 200. Accordingly, the same color may be realized and a light emitting package having improved light efficiency may be provided.

도 20을 참조하면 알 수 있듯이, 본 발명의 실시 예에 따른 고반사 세라믹 물질을 이용한 기판(300)을 제조하고, 이를 발광용 반도체 패키지에 사용하게 된다면, 같은 기능을 수행함에 있어서 높은 광 효율을 가질 것이다. 이에 따라서, 상대적으로 적은 수의 패키지만으로도 많은 광을 발산하게 할 수 있는 효과가 있을 것이다.As can be seen with reference to FIG. 20, if a substrate 300 using a highly reflective ceramic material according to an embodiment of the present invention is manufactured and used in a light emitting semiconductor package, high light efficiency may be achieved. Will have Accordingly, there will be an effect that can emit a lot of light even with a relatively small number of packages.

도 21는 본 발명의 실시 예에 따른 세라믹 기판과 기존의 기판을 사용했을 때의 파장대별 반사도를 비교한 그래프이다. 21 is a graph comparing reflectivity of each wavelength band when using a ceramic substrate according to an exemplary embodiment of the present invention and a conventional substrate.

도 21를 참조하면, 저주파의 발광부터 고주파의 발광까지 기존의 기판을 사용했을 때 보다 본 발명의 기판을 사용했을 때의 반사율이 크게 향상된 것을 볼 수 있다.Referring to FIG. 21, it can be seen that the reflectance of using the substrate of the present invention is significantly improved than when using a substrate of the present invention from low frequency emission to high frequency emission.

수치상으로 비교하면, 800nm 영역에서 기존의 기판을 사용했을 때는 85%의 반사율을 보이는 데 비하여, 본 발명의 실시 예에 따른 기판을 사용하면 반사율이 95%까지 측정되는 것을 볼 수 있다. Comparing numerically, when using a conventional substrate in the 800 nm region shows a reflectance of 85%, when using a substrate according to an embodiment of the present invention it can be seen that the reflectance is measured to 95%.

특히 도 21에서 측정한 본 발명의 실시 예에 따른 기판은, 반사면을 이루는 고반사 세라믹 물질은 ZrO2를 첨가한 결과이다. 그러나 TiO2 등 상기 언급한 고반사 세라믹 물질에 포함될 수 있는 물질이라면 어느 것이나 그 효과는 큰 차이가 없다. In particular, the substrate according to the embodiment of the present invention measured in FIG. 21 is a result of adding ZrO 2 to the highly reflective ceramic material forming the reflective surface. However, any material that can be included in the above-mentioned high reflective ceramic materials such as TiO 2 has no significant difference.

상기 언급한 본 발명의 모든 실시 예에 따른 세라믹 기판 제조 방법 및 이를 이용한 반도체 패키지에 대한 설명은 특허청구범위를 제한하는 것이 아니다. 또한, 본 발명의 실시 예 이외에도, 본 발명과 동일한 기능을 수행하는 균등한 발명 역시 본 발명의 권리범위에 속할 것은 당연할 것이다.The description of the method of manufacturing the ceramic substrate and the semiconductor package using the same according to all the embodiments of the present invention mentioned above are not intended to limit the claims. In addition, in addition to the embodiment of the present invention, it will be obvious that the equivalent invention performing the same function as the present invention also belongs to the scope of the present invention.

Claims (14)

하부 세라믹 기판에 대해 경사진 캐비티가 천공되어 있는 상부 세라믹 기판을 준비하는 단계;
상기 캐비티의 경사면에 세라믹 물질을 코팅하여 세라믹 재질의 반사면을 갖는 성형체를 만드는 단계;
상기 성형체를 하부 세라믹 기판상에 적층하는 단계; 및
상기 하부 세라믹 기판 및 적층된 상기 성형체를 열처리하여 일체화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기판 제조 방법.Preparing an upper ceramic substrate having a perforated cavity inclined with respect to the lower ceramic substrate;
Coating a ceramic material on the inclined surface of the cavity to form a molded body having a reflective surface of the ceramic material;
Stacking the molded body on a lower ceramic substrate; And
And heat treating the lower ceramic substrate and the laminated body to be integrated. 하부 세라믹 기판에 대해 수직한 캐비티가 천공되어 있고, 저면에 세라믹 재질의 받침부가 돌출된 상부 세라믹 기판의 상기 캐비티에 세라믹 물질을 충진하는 단계;
충진된 세라믹 물질을 흡입 수단으로 제거하여 캐비티의 내측벽 및 받침부의 상면에 밀착되어 잔존하는 경사진 세라믹 재질의 반사면을 갖는 성형체를 만드는 단계;
가공된 상기 성형체를 하부 세라믹 기판상에 적층하는 단계; 및
상기 하부 세라믹 기판 및 적층된 상기 성형체를 열처리하여 일체화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기판 제조 방법.Filling a ceramic material into the cavity of the upper ceramic substrate having a cavity perpendicular to the lower ceramic substrate and protruding a support portion of the ceramic material on the bottom thereof;
Removing the filled ceramic material by suction means to form a molded body having a reflective surface of inclined ceramic material remaining in close contact with the inner wall of the cavity and the upper surface of the supporting part;
Stacking the processed molded body on a lower ceramic substrate; And
And heat treating the lower ceramic substrate and the laminated body to be integrated. 삭제delete 청구항 2에 있어서,
상기 반사면은 내향되게 라운드진 곡면 형상인 것을 특징으로 하는 세라믹 기판 제조 방법.The method according to claim 2,
The reflective surface is a ceramic substrate manufacturing method characterized in that the inwardly rounded curved shape. 청구항 1에 있어서,
상기 적층하는 단계 후, 적층된 상기 상부 세라믹 기판 영역을 제외한 상기 하부 세라믹 기판의 상면에 상기 세라믹 물질을 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기판 제조 방법.The method according to claim 1,
After the laminating, further comprising coating the ceramic material on the upper surface of the lower ceramic substrate except for the stacked upper ceramic substrate region. 청구항 1 또는 2에 있어서,
상기 상부 및 하부 세라믹 기판은 동일한 세라믹 재질로 구성된 것을 특징으로 하는 세라믹 기판 제조 방법. The method according to claim 1 or 2,
And the upper and lower ceramic substrates are made of the same ceramic material. 청구항 1 또는 2에 있어서,
상기 세라믹 물질은,
세라믹 분말과, TiO2, ZrO2, 및 ZnO 중 하나 이상의 물질을 혼합한 고반사 세라믹 물질인 것을 특징으로 하는 세라믹 기판 제조 방법.The method according to claim 1 or 2,
The ceramic material is,
A method of manufacturing a ceramic substrate, characterized in that the ceramic powder is a highly reflective ceramic material in which at least one of TiO 2 , ZrO 2 , and ZnO is mixed. 경사진 캐비티를 갖는 세라믹 기판;
상기 캐비티 내의 발광소자 실장 영역에 실장된 발광소자; 및
상기 캐비티의 경사진 내측벽에 코팅된 세라믹 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지.A ceramic substrate having an inclined cavity;
A light emitting element mounted in a light emitting element mounting region in the cavity; And
And a ceramic material coated on an inclined inner wall of the cavity. 수직의 캐비티를 갖는 세라믹 기판;
상기 캐비티 내의 발광소자 실장 영역에 실장된 발광소자; 및
상기 캐비티의 내측벽과 바닥면의 일부 중 상기 발광소자 실장 영역 및 와이어 본딩 영역 중 하나 이상을 제외한 영역을 덮는 세라믹 물질의 경사진 반사면을 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지.A ceramic substrate having a vertical cavity;
A light emitting element mounted in a light emitting element mounting region in the cavity; And
And a slanted reflective surface of a ceramic material covering a portion of the inner wall and the bottom surface of the cavity except for at least one of the light emitting device mounting region and the wire bonding region. 삭제delete 청구항 9에 있어서,
상기 반사면은 내향되게 라운드진 것을 특징으로 하는 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지.The method according to claim 9,
The semiconductor package using a ceramic substrate, characterized in that the reflective surface is rounded inwardly. 청구항 8에 있어서,
상기 캐비티의 바닥면 전체에 코팅된 세라믹 물질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지.The method according to claim 8,
The semiconductor package using a ceramic substrate, characterized in that it further comprises a ceramic material coated on the entire bottom surface of the cavity. 삭제delete 청구항 8 또는 9에 있어서,
상기 세라믹 물질은,
세라믹 분말과, TiO2, ZrO2, 및 ZnO 중 하나 이상의 물질을 혼합한 고반사 세라믹 물질인 것을 특징으로 하는 세라믹 기판을 이용한 반도체 패키지.The method according to claim 8 or 9,
The ceramic material is,
A semiconductor package using a ceramic substrate, wherein the ceramic powder is a highly reflective ceramic material mixed with at least one of TiO 2 , ZrO 2 , and ZnO.
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