KR101231774B1 - Mask cleaning apparatus for manufacturing oled device - Google Patents

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채희성
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Abstract

PURPOSE: An apparatus for cleaning a mask for depositing an organic light emitting display device is provided to reduce mask cleaning time by including a processing bath to burn or dissolve organic materials. CONSTITUTION: A processing bath(10) provides an immersion space of a mask. A heater maintains the temperature of melting NaOH by heating the processing bath. An overflow bath(20) receives the overflowed melting NaOH. A circulation line circulates the melting NaOH. A load cell(21) detects the weight of the melting NaOH received in the overflow bath. [Reference numerals] (40) Control unit

Description

유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치{Mask cleaning apparatus for manufacturing OLED device}Mask cleaning apparatus for manufacturing OLED device

본 발명은 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 고온의 용융 NaOH로 세정하는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a cleaning apparatus for an organic light emitting display device deposition mask, and more particularly to a cleaning apparatus for an organic light emitting display device deposition mask for cleaning the organic light emitting display device deposition mask with a high temperature molten NaOH.

일반적으로 평판디스플레이 장치의 종류는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), OLED(Organic Luminescent Emission Diode, 이하 유기발광 표시소자), VFD(Vacuum Fluorescent Display)로 크게 분류할 수 있다.
Generally, the types of flat panel display devices can be broadly classified into a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic luminescent emission diode (OLED), and a vacuum fluorescent display (VFD).

상기 LCD와 PDP의 제조는 일반적인 반도체 제조공정과 같이 포토리소그래피 기술을 사용하여 박막의 증착 후 소정 형상의 패턴을 형성하여, 디스플레이를 구현하는 소자들을 제조하게 된다.
The LCD and PDP are manufactured by using a photolithography technique as in a general semiconductor manufacturing process to form a pattern of a predetermined shape after deposition of a thin film to manufacture devices for implementing a display.

콘트라스트 비(Contrast Ratio)와 응답 속도(response time) 등의 표시 특성이 우수하며, 플렉서블 디스플레이(Flexible Display)의 구현이 용이하여 가장 이상적인 차세대 디스플레이로 주목받고 있는 유기발광 표시소자는 다른 평판 디스플레이와는 다른 공정방법을 사용하여 제조하고 있다. The organic light-emitting display device, which has excellent display characteristics such as contrast ratio and response time and is easy to implement a flexible display, is attracting attention as an ideal next-generation display, unlike other flat panel displays. It is manufactured using another process method.

상기 유기발광 표시소자는 다수의 화소 영역이 매트릭스 형태로 배열되어 구성되며, 각각의 화소 영역에는 각 화소를 구동하기 위한 구동 소자와 같은 마이크로 패턴이 형성되어져 있다.The organic light emitting diode display includes a plurality of pixel areas arranged in a matrix, and each pixel area is formed with a micro pattern, such as a driving device for driving each pixel.

이때, 빛을 발광하는 유기 발광층의 경우, 내화학성이 취약한 유기 물질로 이루어지기 때문에 종래와 같은 노광 및 식각을 이용하는 포토리소그래피 방법이 아닌 유기 물질을 기화시킨 후, 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 이용하여 선택적으로 기판에 증착하여 형성한다.At this time, in the case of the organic light emitting layer that emits light, since it is made of an organic material having poor chemical resistance, the organic material is evaporated instead of the conventional photolithography method using exposure and etching, and then the organic light emitting display device deposition mask is used. And optionally deposited on a substrate.

이와 같은 증착 과정에서 기판을 선택적으로 스크리닝(screening)하는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 표면에도 유기 물질이 증착되기 때문에, 일정한 공정 횟수가 지난 이후에는 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 세정하는 것이 필수적으로 요구되어 진다.
In this deposition process, since the organic material is deposited on the surface of the organic light emitting display device deposition mask that selectively screens the substrate, it is essential to clean the organic light emitting display device deposition mask after a certain number of steps. Is required.

이와 같이 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 세정하기 위한 방법으로, 공개특허 10-2009-0073455호(2009년 7월 3일 공개, 이하 선행특허)와 같이 여러 가지 복합적인 화합물을 사용하여 유기발광 표시소자 증착용 마스크를 세정하는 방법이 제안되었다.
As such a method for cleaning an organic light emitting display device deposition mask, an organic light emitting display using various complex compounds, such as Korean Patent Publication No. 10-2009-0073455 (published Jul. 3, 2009, the following patent) A method of cleaning a mask for device deposition has been proposed.

상기 선행특허에서는 세정액으로 Polyosyethylene Alkyl PhenylEther, Alkyl Benzene Sulfonate, Potassium Hydroxide, Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait, 초순수(Deionized Water)를 사용하며, 그 세정액이 담긴 침지조에 마스크를 침지(Deeping)시켜 그 마스크 표면의 유기물과 상기 세정액의 화학적 작용을 통해 유기물을 슬러지 형태로 제거하게 된다.In the preceding patent, polyosyethylene Alkyl PhenylEther, Alkyl Benzene Sulfonate, Potassium Hydroxide, Ethylenediamin Thtraaccetic Acid Tetrasodium Sait, Deionized Water, and the organic material on the surface of the mask are immersed in the prior art. Through the chemical action of the cleaning solution and the organic material is removed in the form of sludge.

이때 사용되는 온도는 40 내지 60℃로 기재하고 있으며, 세정력을 향상시키기 위하여 초음파를 통해 그 세정력을 향상시키려 노력하고 있다.
At this time, the temperature used is described as 40 to 60 ℃, and trying to improve the cleaning power through ultrasonic to improve the cleaning power.

상기 선행특허의 발명의 상세한 설명에도 기재된 바와 같이 유기발광 표시소자를 세정액을 사용하는 화학적 방법과 초음파 진동의 물리적인 방법을 함께 사용할 경우 유기물의 제거에 10분이 소요되며, 추가적인 검사를 통해 유기물이 잔류하는 경우에는 9분 동안 다시 세정을 해야하기 때문에 세정공정에 소요되는 시간이 매우 길다.
As described in the detailed description of the present invention, when the organic light emitting display device is used in combination with a chemical method using a cleaning liquid and a physical method of ultrasonic vibration, it takes 10 minutes to remove the organic material, and the organic material remains through additional inspection. In this case, the cleaning process takes a long time because it needs to be cleaned for 9 minutes.

상기 유기발광 표시소자 증착용 마스크는 유기발광 표시소자의 증착에 반드시 필요한 것이며, 그 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정시간이 많이 소요되는 경우에는 여분의 마스크를 대량으로 준비해야 하기 때문에 충분한 적재공간을 가져야 하며, 제조비용이 증가하는 문제점이 있었다.The organic light emitting display device deposition mask is necessary for the deposition of the organic light emitting display device, and if the cleaning time of the organic light emitting display device deposition mask takes a long time, since a large amount of extra mask must be prepared in sufficient loading space Should have, there was a problem that the manufacturing cost increases.

또한 마스크가 동일한 수로 준비된 상태에서는 마스크의 세정시간 단축은 곧 생산성의 향상으로 이어질 수 있으나, 종래 마스크 세정방법은 적어도 10분 이상이 소요되기 때문에 생산성의 향상 차원에서 마스크 세정시간의 단축이 필요하다.
In addition, while the mask is prepared in the same number, shortening the cleaning time of the mask may lead to an improvement in productivity. However, since the conventional mask cleaning method requires at least 10 minutes or more, it is necessary to shorten the mask cleaning time in order to improve productivity.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 표면의 유기물을 보다 빠르고 효과적으로 세정할 수 있는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치를 제공함에 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a cleaning apparatus for an organic light emitting display device deposition mask capable of cleaning organic substances on the surface of the organic light emitting display device deposition mask more quickly and effectively.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치는, 용융 NaOH를 수용하고, 그 용융 NaOH에 세정될 마스크가 침지될 수 있는 공간을 제공하는 처리조와, 상기 처리조를 가열하여 상기 용융 NaOH의 온도를 유지하는 히터와, 상기 처리조로부터 오버플로우되는 상기 용융 NaOH를 수용하는 오버플로우조와, 상기 오버플로우조로부터 상기 처리조로 오버플로우된 상기 용융 NaOH를 순환시키는 순환라인과, 상기 오버플로우조에 수용된 용융 NaOH의 중량을 검출하는 로드셀과, 상기 로드셀에서 검출된 중량을 오버플로우된 용융 NaOH의 유량으로 환산하고, 그 환산결과인 유량에 따라 제어신호를 출력하는 제어부와, 상기 제어부의 제어에 따라 상기 순환라인을 통해 상기 처리조로 재공급되는 용융 NaOH를 가압하는 가압수단을 포함한다.
The cleaning apparatus of the organic light emitting display device deposition mask for solving the above problems is a treatment tank that accommodates molten NaOH, and provides a space in which the mask to be cleaned is immersed in the molten NaOH, and the treatment tank A circulation line for circulating the molten NaOH overflowed from the overflow tank to the processing tank by heating the heater to maintain the temperature of the molten NaOH, the molten NaOH overflowing from the processing tank, and And a load cell for detecting the weight of the molten NaOH contained in the overflow tank, a control unit for converting the weight detected in the load cell into the flow rate of the overflowed molten NaOH, and outputting a control signal according to the flow rate as a result of the conversion; Pressurizing means for pressurizing the molten NaOH re-supplied to the treatment tank through the circulation line under the control of the controller; It should.

본 발명은 용융온도가 318℃인 고체 NaOH를 용융시키고, 그 용융된 고체 NaOH에 마스크를 침지시켜, 상기 318℃ 이상의 온도에서 마스크에 잔류하는 유기물을 융해 또는 연소시켜 제거하는 처리조를 구성하여 마스크의 세정시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.The present invention provides a mask by melting a solid NaOH having a melting temperature of 318 ° C., immersing a mask in the molten solid NaOH, and melting or burning an organic substance remaining in the mask at a temperature of 318 ° C. or higher to remove and mask the mask. This can shorten the washing time.

또한 마스크의 침지시 오버플로우 되는 용융 NaOH를 처리조에 재공급할 때 로드셀을 사용하여 오버플로우된 용융 NaOH의 중량을 검출하고, 그 검출된 중량에 따라 밸브의 개도를 조절하도록 구성하여, 상기 고온의 용융 NaOH를 회수를 용이하게 하며, 회수장치의 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
In addition, when the molten NaOH overflowed when the mask is immersed into the treatment tank, the load cell is used to detect the weight of the overflowed molten NaOH, and the opening degree of the valve is adjusted according to the detected weight to melt the high temperature. It is easy to recover NaOH, there is an effect that can reduce the cost of the recovery device.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치의 구성도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시에에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a block diagram of a mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention.
3 is a block diagram of a mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

이하, 본 발명 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
Hereinafter, a mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치는, 용융 NaOH를 수용하고, 마스크(1)가 침지되는 공간을 제공하는 처리조(10)와, 상기 처리조(10)의 상부측으로 오버플로우(overflow)되는 상기 용융 NaOH를 수용하는 오버플로우조(20)와, 상비 오버플로우조(20)의 하부에서 상기 오버플로우된 용융 NaOH의 중량을 검출하는 로드셀(21)과, 상기 오버플로우조(20)의 용융 NaOH를 상기 처리조(10)로 순환시키는 순환라인(30)과, 상기 순환라인(30)에 각각 마련되어 상기 로드셀(21)에서 검출된 중량을 입력받아 제어신호를 출력하는 제어부(40)의 제어에 따라 각각의 개도와 동작이 제어되는 밸브(70) 및 펌프(60)와, 상기 처리조(10)를 가열하여 용융 NaOH의 온도를 유지하는 히터(50)를 포함하여 구성된다.
Referring to FIG. 1, a mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to a preferred embodiment of the present invention includes a treatment tank 10 that accommodates molten NaOH and provides a space in which the mask 1 is immersed, and the treatment. An overflow tank 20 for receiving the molten NaOH that overflows to the upper side of the tank 10, and a load cell for detecting the weight of the overflowed molten NaOH under the standing overflow tank 20 ( 21), a circulation line 30 for circulating the molten NaOH of the overflow tank 20 to the treatment tank 10, and the circulation line 30 are respectively provided to the weight detected by the load cell 21 According to the control of the control unit 40 that receives the input and outputs a control signal, the valve 70 and the pump 60 to control the respective opening degree and operation, and to heat the treatment tank 10 to maintain the temperature of the molten NaOH The heater 50 is comprised.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the configuration and operation of the mask cleaning apparatus for depositing the organic light emitting display device according to the preferred embodiment of the present invention configured as described above will be described in more detail.

먼저, 처리조(10)는 상면이 개방된 육면체의 조이며, 도면에서는 상면이 완전히 개방된 상태로 도시하였으나, 용융 NaOH의 온도 유지의 용이성 등을 감안하여 상면에 선택적으로 개방되는 덮개가 마련될 수 있다.
First, the treatment tank 10 is a hexahedron of the upper surface is opened, in the figure is shown as the upper surface is completely open, in view of the ease of maintaining the temperature of the molten NaOH, the cover may be provided selectively open on the upper surface have.

상기 처리조(10)의 내에는 용융점이 318℃인 NaOH가 용융된 상태로 수용되어, 히터(50)에 의해 용융 및 용융상태가 유지된다. 바람직하게는 용융 NaOH가 340 내지 400℃로 유지됨이 바람직하다.
In the treatment tank 10, NaOH having a melting point of 318 ° C. is accommodated in a molten state, and the molten and molten state is maintained by the heater 50. Preferably, the molten NaOH is maintained at 340 to 400 ° C.

상기 처리조(10)의 용융 NaOH에 마스크(1)가 침지되어 마스크(1) 표면의 유기물이 융해되어 그 마스크(1)의 표면으로부터 제거된다. 이때 상기 마스크(1)의 침지를 위하여 처리조(10) 내의 용융 NaOH의 양은 일정하게 유지될 필요가 있으며, 따라서 마스크(1)가 침지될 때나 마스크(1)를 침지상태에서 외부로 이동시킬 때 그 처리조(10)의 외측으로 일부가 오버플로우된다.
The mask 1 is immersed in the molten NaOH of the treatment tank 10, and the organic substance on the surface of the mask 1 is melted and removed from the surface of the mask 1. At this time, the amount of molten NaOH in the treatment tank 10 needs to be kept constant for the immersion of the mask 1, and thus when the mask 1 is immersed or when the mask 1 is moved out of the immersion state. A part overflows outside the processing tank 10.

상기 오버플로우된 용융 NaOH는 오버플로우조(20)에 수용된다. 이때 오버플로우조(20)로 오버플로우된 용융 NaOH는 지속적으로 처리조(10)로 순환되는 것이 아니라 일정한 조건에 따라 그 순환이 제어될 수 있다.The overflowed molten NaOH is accommodated in the overflow tank 20. At this time, the molten NaOH overflowed into the overflow tank 20 is not continuously circulated to the treatment tank 10, the circulation can be controlled according to a predetermined condition.

이때 상기 340 내지 400℃의 고온인 용융 NaOH의 순환 유량을 제어하기 위한 고온 유량제어장치들을 그 가격이 매우 비싸며, 본 발명에서는 고온 유량제어장치를 사용하지 않고 오버플로우조(20)로 오버플로우된 용융 NaOH의 중량을 측정하는 로드셀(21)이 마련되어 있다.
At this time, the high-temperature flow rate control devices for controlling the circulating flow rate of the molten NaOH of the high temperature of 340 to 400 ℃ is very expensive, in the present invention overflowed to the overflow tank 20 without using the high-temperature flow rate control device The load cell 21 which measures the weight of molten NaOH is provided.

상기 로드셀(21)은 상기 오버플로우조(20)로 오버플로우된 용융 NaOH의 중량을 측정하고, 그 측정 중량은 제어부(40)에서 검출되며, 상기 제어부(40)는 검출된 중량을 오버플로우된 유량으로 산출한다.The load cell 21 measures the weight of the molten NaOH that overflowed into the overflow tank 20, and the measured weight is detected by the controller 40, and the controller 40 overflows the detected weight. Calculate with flow rate.

상기 제어부(40)에서 산출된 용융 NaOH의 유량이 설정 유량 이상인 경우 그 제어부(40)는 제어신호를 펌프(60)와 밸브(70)로 각각 출력하여 펌프(60)의 동작을 제어하고, 밸브(70)의 개도를 조절하게 된다.
When the flow rate of the molten NaOH calculated by the control unit 40 is greater than or equal to the set flow rate, the control unit 40 outputs a control signal to the pump 60 and the valve 70 to control the operation of the pump 60, and the valve The opening degree of 70 is adjusted.

상기 펌프(60)와 밸브(70)가 마련된 순환라인(30)을 통해 상기 오버플로우조(20)로 오버플로우된 용융 NaOH는 상기 밸브(70)의 개도에 따라 유량이 조절되어 상기 처리조(10)로 재공급된다.
The molten NaOH that overflowed into the overflow tank 20 through the circulation line 30 provided with the pump 60 and the valve 70 has a flow rate adjusted according to the opening degree of the valve 70 so that the treatment tank ( 10).

이와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치는, 종래의 화학적 반응을 이용한 마스크 세정장치와는 다르게 고온의 용융점을 가지는 NaOH를 용융시키고, 그 용융 NaOH를 이용하여 마스크 표면의 유기물을 용융시켜 세정함으로써 세정시간을 단축하여 생산성을 향상시킬 수 있다.As described above, the mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to a preferred embodiment of the present invention, unlike a mask cleaning apparatus using a conventional chemical reaction, melts NaOH having a high melting point and masks the molten NaOH using the melted NaOH. By melting and washing the organic substance on the surface, the washing time can be shortened and the productivity can be improved.

또한 고가인 기존의 고온 유량제어기를 사용하지 않고, 상대적으로 저렴한 로드셀을 사용하는 순환라인(30)을 포함하여 제조비용의 증가를 방지할 수 있다.
In addition, it is possible to prevent an increase in manufacturing cost by including a circulation line 30 using a relatively inexpensive load cell without using an expensive existing high temperature flow controller.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치의 구성도이다.2 is a block diagram of a mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치는, 상기 도 1을 참조하여 설명한 구성에서 순환라인(30)을 가열하는 순환라인 히터(31)를 더 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 2, the mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention further includes a circulation line heater 31 for heating the circulation line 30 in the configuration described with reference to FIG. 1. It is configured by.

상기 순환라인 히터(31)는 상기 순환라인(30)을 순환하여 처리조(10)로 재공급되는 용융 NaOH가 용융점 이하로 냉각되어 고체화되는 것을 방지하기 위한 것이다.
The circulation line heater 31 is for preventing the molten NaOH that is circulated through the circulation line 30 and resupplied to the treatment tank 10 to be cooled below the melting point and solidified.

상기 순환라인(30)을 통해 순환하는 용융 NaOH가 용융점 이하로 냉각되는 경우 고체 NaOH가 석출되며, 그 석출된 고체 NaOH가 순환라인(30)을 막아 오버플로우된 용융 NaOH가 순환되는 것을 막을 수 있으며, 이와 같은 상태를 방지하기 위하여 상기 순환라인 히터(31)를 더 포함시켜 구성할 수 있다.
Solid NaOH is precipitated when the molten NaOH circulated through the circulation line 30 is cooled to a melting point or less, and the precipitated solid NaOH may prevent the overflowed molten NaOH from circulating through the circulation line 30. In order to prevent such a state, the circulation line heater 31 may be further included.

상기 순환라인 히터(31)를 상기 히터(50)와 분리된 다른 히터로 도시하고 설명하였으나, 이는 설명의 편의를 위한 것으로, 그 순환라인(30)을 처리조(10)를 가열하는 히터(50)와 인접하게 배치하여 그 히터(50)의 열로 고체 NaOH의 석출을 방지할 수도 있다.
Although the circulation line heater 31 is illustrated and described as another heater separate from the heater 50, this is for convenience of description and the heater 50 heating the circulation line 30 to the treatment tank 10. ), It is possible to prevent precipitation of solid NaOH by heat of the heater 50.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치의 다른 실시 구성도이다.3 is another embodiment of the mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기발광 표시소자 증착용 마스크 세정장치는, 용융 NaOH를 수용하고, 마스크가 침지되는 공간을 제공하는 처리조(10)와, 상기 처리조(10)의 상부측으로 오버플로우(overflow)되는 상기 용융 NaOH를 수용하는 오버플로우조(20)와, 상비 오버플로우조(20)의 하부에서 상기 오버플로우된 용융 NaOH의 중량을 검출하는 로드셀(21)과, 상기 오버플로우조(20)의 용융 NaOH를 상기 처리조(10)로 순환시키는 순환라인(30)과, 상기 로드셀(21)에서 검출된 용융 NaOH의 중량을 오버플로우된 유량으로 환산하고, 그 오버플로우된 유량에 따라 제어신호를 출력하는 제어부(41)와, 상기 제어부(41)의 제어에 따라 상기 순환라인(30)에 가압공기를 주입하여 상기 오버플로우조(20)로 오버플로우된 용융 NaOH를 처리조(10)로 재공급하는 가압부(80)와, 상기 순환라인(30)을 가열하는 순환라인 히터(31)를 포함한다.
Referring to FIG. 3, a mask cleaning apparatus for depositing an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention includes a treatment tank 10 for receiving molten NaOH and providing a space in which a mask is immersed, and the treatment tank 10. An overflow tank 20 for receiving the molten NaOH that overflows to the upper side of the upper part), and a load cell 21 for detecting the weight of the overflowed molten NaOH in the lower portion of the standing overflow tank 20; , The circulation line 30 for circulating the molten NaOH of the overflow tank 20 to the treatment tank 10 and the weight of the molten NaOH detected by the load cell 21 in terms of an overflowed flow rate, and The control unit 41 outputs a control signal according to the overflowed flow rate, and the melt flowed into the overflow tank 20 by injecting pressurized air into the circulation line 30 under the control of the control unit 41. Pressurized portion 80 for resupplying NaOH to the treatment tank 10 , And a circulation line heater 31 for heating the circulation line 30.

상기와 같은 구성은 상기 도 2를 참조하여 설명한 본 발명의 일실시 구성예에서 펌프(60)와 밸브(70)를 생략하고, 제어부(41)의 제어에 따라 순환라인(30)에 가압공기를 재공급할 용융 NaOH의 유량에 비례하여 공급하는 가압부(80)를 포함시킨 구성이다.
As described above, the pump 60 and the valve 70 are omitted in the exemplary embodiment of the present invention described with reference to FIG. 2, and pressurized air is supplied to the circulation line 30 under the control of the controller 41. The pressurization part 80 which supplies in proportion to the flow volume of molten NaOH to be resupply is included.

즉, 본 발명은 오버플로우되는 용융 NaOH의 유량을 오버플로우된 용융 NaOH의 중량을 검출하고 이를 환산하여 산출하며, 그 산출된 유량에 따라 펌프(60) 또는 가압공기를 공급하는 가압부(80)인 가압수단을 사용하여 재순환되는 용융 NaOH의 유량을 조절할 수 있게 된다.
That is, the present invention detects the weight of the overflowed molten NaOH and calculates the weight of the overflowed molten NaOH, and calculates the same, and pressurizer 80 for supplying the pump 60 or pressurized air according to the calculated flow rate Phosphorus pressurization means can be used to adjust the flow rate of the molten NaOH recycled.

이와 같이 본 발명은 마스크로부터 유기물을 제거하는 새로운 방식의 세정장치를 제공함과 아울러 그 세정장치의 제조비용을 보다 절감할 수 있는 것이다.
As described above, the present invention can provide a new type of cleaning apparatus for removing organic substances from the mask and can further reduce the manufacturing cost of the cleaning apparatus.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정, 변형되어 실시될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that the present invention is not limited to the above embodiments and may be variously modified and modified without departing from the technical spirit of the present invention. will be.

1:마스크 10:처리조
20:오버플로우조 21:로드셀
30:순환라인 31:순환라인 히터
40,41:제어부 50:히터
60:펌프 70:밸브
80:가압부1: mask 10: treatment tank
20: overflow tank 21: load cell
30: circulation line 31: circulation line heater
40, 41: control unit 50: heater
60: pump 70: valve
80: pressure part

Claims (4)

용융 NaOH를 수용하고, 그 용융 NaOH에 세정될 마스크가 침지될 수 있는 공간을 제공하는 처리조;
상기 처리조를 가열하여 상기 용융 NaOH의 온도를 유지하는 히터;
상기 처리조로부터 오버플로우되는 상기 용융 NaOH를 수용하는 오버플로우조;
상기 오버플로우조로부터 상기 처리조로 오버플로우된 상기 용융 NaOH를 순환시키는 순환라인;
상기 오버플로우조에 수용된 용융 NaOH의 중량을 검출하는 로드셀;
상기 로드셀에서 검출된 중량을 오버플로우된 용융 NaOH의 유량으로 환산하고, 그 환산결과인 유량에 따라 제어신호를 출력하는 제어부; 및
상기 제어부의 제어에 따라 상기 순환라인을 통해 상기 처리조로 재공급되는 용융 NaOH를 가압하는 가압수단을 포함하는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치.
A treatment tank for receiving molten NaOH and providing a space in which the mask to be cleaned is immersed in the molten NaOH;
A heater for heating the treatment tank to maintain the temperature of the molten NaOH;
An overflow tank for receiving the molten NaOH overflowed from the treatment tank;
A circulation line for circulating the molten NaOH overflowed from the overflow tank to the treatment tank;
A load cell for detecting a weight of molten NaOH contained in the overflow tank;
A control unit for converting the weight detected by the load cell into the flow rate of the molten NaOH overflowed, and outputs a control signal according to the flow rate that is the conversion result; And
And a pressurizing means for pressurizing the molten NaOH supplied to the treatment tank through the circulation line under the control of the controller.
제1항에 있어서,
상기 순환라인을 가열하여 고체 NaOH의 석출을 방지하는 순환라인 히터를 더 포함하는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치.
The method of claim 1,
And a circulation line heater for heating the circulation line to prevent precipitation of solid NaOH.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 가압수단은,
상기 제어부에 의해 동작이 제어되어 상기 순환라인을 통해 상기 용융 NaOH가 상기 처리조로 공급되는 압력을 제공하는 펌프; 및
상기 제어부에 의해 개도가 제어되어 상기 순환라인을 통해 상기 용융 NaOH가 상기 처리조로 공급되는 유량을 조절하는 밸브를 포함하는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the pressing means comprises:
An operation controlled by the controller to provide a pressure for supplying the molten NaOH to the treatment tank through the circulation line; And
And an opening degree controlled by the control unit to control a flow rate at which the molten NaOH is supplied to the processing tank through the circulation line.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 가압수단은,
상기 제어부의 제어에 의하여 상기 순환라인에 가압공기를 공급하는 가압부인 것을 특징으로 하는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the pressing means comprises:
And a pressurizing unit for supplying pressurized air to the circulation line under the control of the control unit.
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