KR101230155B1 - 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 디스플레이에서 방출되는 빛 중에서 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율을 낮춤으로써, 눈에 대한 질병(백내장)을 예방할 수 있으며, 화면 색상 내지 선명도 등의 품질이 저하되는 것을 방지할 수 있는 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법에 관한 것이다.

Description

디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법{Display protective glass, and a method of manufacturing the same}
본 발명은 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 디스플레이에서 방출되는 빛 중에서 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율을 낮춤으로써, 눈에 대한 질병(백내장)을 예방할 수 있으며, 화면 색상 내지 선명도 등의 품질이 저하되는 것을 방지할 수 있는 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 터치패널과 같은 디스플레이는 전자수첩, 액정표시장치(LCD, Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), EL(Electroluminescense) 등의 평판 디스플레이 장치 및 CRT(Cathod Ray Tube) 등과 같은 화상 표시장치의 표시면에 설치되어, 사용자가 화상표시장치를 보면서 원하는 정보를 선택하도록 하는데 이용되는 도구로, 크게 저항막 방식(Resistive Type) 터치패널과, 정전용량 방식(Capacitive Type) 터치패널과, 전기자기장형 방식(EM,Electro-Magnetic Type) 터치패널과, 소오형(Saw Type) 및 인프라레드형(Infrared Type) 터치패널 등으로 구분된다.
터치패널은 신호 증폭의 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도뿐만 아니라 각각의 터치패널의 특징적인 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력특성, 내구성 및 경제성 등을 고려하여 개개의 전자제품에 선택되며, 특히 전자수첩, PDA, 휴대용 PC 및 핸드폰 등에 있어서는 저항막 방식(Resistive Type) 터치패널과 정전용량 방식(Capacitive Type) 터치패널이 널리 이용된다. 이 중, 저항막 방식(Resistive Type) 터치패널은, 기판 재료로서 0.1 mm~0.2 mm 두께의 필름기판, 0.2mm ~ 2mm 두께의 글래스 기판 및 1mm ~ 2mm 두께의 플라스틱 기판들을 조합하여 상·하부 전극을 구성하고, 상부 전극이 형성되어 있는 상부 기판에 펜 또는 손가락 등의 입력 수단을 통해 어느 한 지점을 터치하면, 상부 기판에 형성된 상부 전극과 하부 기판에 형성된 하부 전극이 통전되어 그 위치의 저항값 또는 정전용량값에 의하여 변화된 전압값을 읽어들인 후 제어장치에서 전위차의 변화에 따라 위치 좌표를 찾게 되는 장치이다.
그리고 터치패널을 보호하는 보호 커버는 단순히 터치패널이 깨지거나 스크래치가 발생하는 것을 방지하기 위한 용도로 사용되었다. 그리고 이러한 보호 커버는 주로 합성수지 소재의 필름으로 제작되었고, 가공상 어려움으로 인해 유리 소재를 이용하여 제작되지 않는 실정이다. 유리를 이용하여 보호 커버를 제작하더라도 단순히 평판 형상으로 이루어지기 때문에 상기 합성수지 필름과 효과면에서 별다른 차이를 찾기 힘들었다. 다만, 유리의 특성상 합성수지에 비해 표면 경도가 우수하다는 점을 제외하고 기존의 보호 필름과는 차별화되지 못한다는 문제가 있었다.
한편, 가시광선은 눈으로 지각되는 파장 범위를 가진 빛으로서, 물리적인 빛은 눈에 색채로서 지각되는 범위의 파장 한계 내에 있는 스펙트럼이며, 대략 380~780nm(nanometer) 범위의 파장을 가진 전자파이다. 그리고 디스플레이, 특히 LED 디스플레이에서 나오는 가시광선 중에서 380~500nm 파장은 백내장을 발생시킬 수 있는 유해 파장에 해당한다.
그러나, 현재까지 상기 380~500nm 파장만을 제어할 수 있는 보호 글라스 내지 보호 필름은 개발되지 못하고 있는 실정이며, 단순히 380~780nm(nanometer) 전 범위의 가시광선의 광투과율을 일률적으로 낮추게 되면 380~500nm의 푸른 색 계열은 물론, 나머지 색에 대한 계열의 색상이나 선명도까지 낮아지는 문제가 있다.
이에, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 디스플레이에서 방출되는 빛 중에서 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율을 낮춤으로써, 눈에 대한 질병(백내장)을 예방할 수 있는 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 목적은 가시광선 중에서 380nm에 가까운 파장 대역의 광투과율을 소정 범위 내에서 차단함으로써, 눈 보호 효과와 동시에 화면 색상 내지 선명도 등의 품질이 저하되지 않도록 하는 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 목적은 글라스에 에칭처리를 함으로써 산화금속층의 접착력을 향상시키고 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 디스플레이에 부착되는 보호 글라스에 있어서, 상기 디스플레이에서 방출되는 빛 중에서 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율이 69~85%인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 380nm 파장의 가시광선의 광투과율이 69~75(69.8)%인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 베이스 글라스 및 상기 베이스 글라스의 일면에 적어도 2개의 산화금속이 적층되어 이루어지는 산화금속층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 산화금속층은 SiO2, TiO2, SiO2 및 TiO2가 순차적으로 적층되어 이루어지되, 상기 SiO2, TiO2, SiO2 및 TiO2 각각의 산화금속은 550~590Å, 40~70Å, 700~900Å 및 400~600Å의 두께로 적층되는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법은 상기 디스플레이에서 방출되는 빛 중에서 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율이 69~85%인 보호 글라스의 제조방법에 있어서, 글라스 일면에 Si 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 산화금속인 SiO2를 증착시키는 S11단계와, 상기 SiO2 상에 Ti 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 TiO2를 증착시키는 S12단계와, 상기 TiO2 상에 Si 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 산화금속인 SiO2를 증착시키는 S13단계와, 상기 SiO2 상에 Ti 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 TiO2를 증착시키는 S14단계를 포함하여 산화금속층을 형성하는 S1단계, 상기 산화금속층의 일면에 비산방지층을 형성하는 S2단계, 상기 비산방지층의 일면에 합성수지 소재의 베이스 필름을 형성하는 S3단계 및 상기 베이스 필름의 일면에 점착층을 형성하는 S4단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법의 S1단계는 상기 글라스를 5.00×10-05~7.00×10-05 Torr의 불활성기체 분위기에서 전기적 충격에 의해 발생되는 플라즈마로 1~5분 동안 충격을 가하여 에칭처리하는 S10단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법의 S1단계에서 순차적으로 적층되는 SiO2, TiO2, SiO2 및 TiO2 각각의 산화금속은 550~590Å, 40~70Å, 700~900Å 및 400~600Å의 두께로 증착되는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법에 의하면, 디스플레이에서 방출되는 빛 중에서 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율을 낮춤으로써, 눈에 대한 질병(백내장)을 예방할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 터치 패널 보호용 글라스에 이미지를 형성하는 방법에 의하면, 가시광선 중에서 380nm에 가까운 파장 대역의 광투과율을 소정 범위 내에서 차단함으로써, 눈 보호 효과와 동시에 화면 색상 내지 선명도 등의 품질이 저하되는 것을 방지하는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 터치 패널 보호용 글라스에 이미지를 형성하는 방법에 의하면, 글라스에 에칭처리를 함으로써 산화금속층의 접착력을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 구조를 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법을 도시하는 공정도이다.
도 3은 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법을 도시하는 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예 1의 광투과율을 측정한 값을 나타내는 도면이다.
이하, 첨부된 도면들 및 후술 되어 있는 내용을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 기술적 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어 지는 것이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 구체적으로 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 구조를 도시하는 도면이다.
도 1을 참고하면, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 크게 베이스 글라스(10)와, 상기 베이스 글라스(10)의 상부에 형성되는 지문방지 코팅층(60)과, 상기 베이스 글라스(10)의 하부에 형성되는 산화금속층(20)을 포함할 수 있다.
그리고 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 상기 산화금속층(20)의 하부에 순차적으로 적층되는 비산방지층(30), 베이스 필름(40) 및 점착층(50)을 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율을 낮춤으로써, 백내장과 같은 눈 관련 질환의 발생을 최대한 억제 내지 방지하는 역할을 한다.
따라서, 본 발명에 따른 보호 글라스가 적용될 수 있는 디스플레이는 380~500nm 파장 대역의 가시광선을 방출하는 것이라면 특별한 제한은 없다. 예를 들어, CRT(Cathode-Ray Tube), LCD (Liquid Crystal Display) 또는 LED(Light-Emitting Diode) 방식의 디스플레이 모두에 적용될 수 있다. 특히, 본 발명은 최근 사용이 급증하고 있는 LED 디스플레이 방식의 휴대용 통신기기(스마트폰, 테블릿 PC) 등의 디스플레이 상에 부착되어 380~500nm 파장 대역의 가시광선이 방출되는 양을 줄이게 된다.
한편, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 상기 380nm 파장의 가시광선의 광투과율이 69~75(69.8)%인 것이 바람직하다.
상기 광투과율은 물질층이 빛을 흡수하는 정도를 나타내는 값으로서, 투과광의 강도를 입사광의 강도로 나눈 값으로 나타내어진다. 상기 광투과율은 분광광도계에 의해서 단색광에 대한 투과율 등을 측정하여 측색을 하는 분광측색방법 등으로 측정할 수 있다.
그리고 본 발명에서 광투과율은 예를 들어, 제조된 디스플레이용 보호 글라스가 베이스 글라스와, 지문방지 코팅층과, 산화금속층, 비산층, 베이스 필름 및 점착층으로 이루어지는 경우 이들이 모두 결합된 상태에서 측정한 광투과율을 의미한다.
상기 디스플레이용 보호 글라스에 대한 380nm 파장의 가시광선의 광투과율이 69% 미만인 경우에는 디스플레이되는 화면의 색상의 선명도가 떨어지고 전체적으로 어두운 톤으로 느껴지기 때문이다. 디스플레이용 보호 글라스에 대한 380nm 파장의 가시광선의 광투과율이 75%를 초과하는 경우에는 백내장과 같은 눈 질환의 예방 등의 효과를 기대하기 어렵기 때문이다.
한편, 상기 디스플레이용 보호 글라스의 500nm 파장의 가시광선의 광투과율은 81~86%인 것이 바람직하다.
만일, 500nm 파장의 가시광선의 광투과율이 81% 미만인 경우에는 500nm 미만의 파장에서의 광투과율도 같이 낮아지기 때문에 화면의 색상 및 선명도 등의 품질이 저하될 수 있다. 그리고 500nm 파장의 가시광선의 광투과율이 86%를 초과하는 경우에는 상술한 바와 같은 백내장 질환의 예방 효과를 기대하기 어렵기 때문이다.
이와 같이, 본 발명에서는 380nm 파장에 가까운 영역에서의 광투과율(69~75%)이 500nm 파장에 가까운 영역에서의 광투과율(81~86%)보다 더 낮게 구성되는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 380nm 파장에 가까운 영역의 가시광선이 인체에 더 유해한 영향을 미칠 수 있기 때문이다.
한편, 본 발명에서는 380~500nm 파장 대역의 광투과율의 감소율이 500nm를 초과하는 파장 대역의 광투과율의 감소율보다 높게 되도록 제어하는 것을 특징으로 한다.
왜냐하면, 눈 질환에 크게 영향을 미치지 않는 파장 대역(500nm 초과)에서의 광투과율을 380~500nm 파장 대역에서의 광투과율과 같은 비율로 낮추지 않기 위함이다. 이와 같이, 본 발명에서는 특정 파장(380~500nm) 대역의 광투과율만을 선택적으로 낮춤으로써, 눈 질환에 영향을 미치는 파장의 가시광선 투과량을 줄이는 동시에 화면 색상, 선명도 등 화면 품질이 저하되는 것을 최대한 방지할 수 있다.
본 발명에서는 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율을 선택적으로 제어하기 위하여, 베이스 글라스의 일면에 적어도 2개의 산화금속이 적층되는 산화금속층을 형성하도록 구성한다.
또한, 산화금속층으로 광투과율을 제어하는 경우에는 산화금속층을 구성하는 각각의 산화금속의 두께를 효율적으로 제어할 수 있으며, 접착성 및 내구성이 우수하다. 또한, 산화금속층을 형성함으로써 장기간 사용하더라도 보호 글라스의 광투과성이 변하지 않는 효과가 있다.
구체적으로, 상기 산화금속층은 SiO2, TiO2, CaO, SrO, BaO, WO3, UO3, NiO, Cu2O, CuO, HgO, PbO2, BiO5, Al2O3, Ta2O5, HfO2, FeO, CoO, Cr2O3, MnO, P2O5, Co3O4, Fe3O4, BeO, B2O3, MgO, Nb2O5, MoO3, CdO, SnO2, ZnO, GeO2, Sb2O5, As2O5, Fe2O3, ZrO2, Sc2O3, TiO2, V2O5, Sn2O3, Eu2O3, Gd2O3, Er2O3, Lu2O3, Yb2O3, RuO2, Y2O3, La2O3, Ga2O3℃, SnO3 및 Sb3O3으로 이루어진 군으로부터 선택된 산화금속이 증착되어 이루어진다.
상기 산화금속은 적어도 2개 이상의 층을 형성하고, 바람직하게는 4개의 층을 이루는 것이다.
예를 들어, 산화금속층(20)은 SiO2(21), TiO2(22), SiO2(23) 및 TiO2(24)가 순차적으로 적층되어 이루어지는 것이다.
상기 산화금속층에 있어서, 상기 SiO2(21), TiO2(22), SiO2(23) 및 TiO2(24) 각각의 산화금속은 550~590Å, 40~70Å, 700~900Å 및 400~600Å의 두께로 적층되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 산화금속층에 있어서, SiO2(21), TiO2(22), SiO2(23) 및 TiO2(24) 각각의 산화금속은 520~550Å, 30~40Å, 600~700Å 및 350~400Å의 두께로 적층될 수 있다.
또한, 상기 산화금속층에 있어서, 상기 SiO2, TiO2, SiO2 및 TiO2 각각의 산화금속은 480~520Å, 25~30Å, 550~600Å 및 300~350Å의 두께로 적층될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 점착층(50)은 보호 글라스를 디스플레이에 결합시키는 역할을 하는 것이다.
상기 점착층(50)은 다양한 소재와 두께로 형성할 수 있으며, 실리콘 계열의 접착제(adhesive)가 40~60㎛의 두께로 형성되는 것을 예시할 수 있다.
본 발명에 따른 베이스 필름(40)은 합성수지 소재, 예를 들어 PET 필름이 75~100㎛의 두께로 형성될 수 있으며, 베이스 필름 자체의 투과율은 90~95%가 되도록 구성할 수 있다.
본 발명에 따른 비산방지층(30)은 베이스 글라스가 충격을 받아 깨지더라도 그 파편들이 흩어지거나 비산하는 것을 방지하는 역할을 하는 것이다.
상기 비산방지층(30)은 다양한 소재와 두께로 형성할 수 있으며, 아크릴 계열의 접착제가 20~50㎛의 두께로 형성되는 것을 예시할 수 있다.
상기 지문방지 코팅층(60)은 용자의 손자국이 남지 않도록 보호 글라스의 최외곽에 형성되는 것으로서, 20~30㎛의 두께로 형성되는 것을 예시할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법에 대한 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법을 도시하는 공정도이고, 도 3은 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법을 도시하는 단면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법은 크게 글라스 일면에 산화금속층(20)을 형성하는 S1단계와, 비산방지층(30)을 형성하는 S2단계와, 베이스 필름(40)을 형성하는 S3단계 및 점착층(50)을 형성하는 S4단계를 포함한다.
구체적으로, 본 발명에 따른 S1단계는 산화금속층(20)을 형성하는 단계로서, 글라스 일면에 Si 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 산화금속인 SiO2(21)를 증착시키는 S11단계와, 상기 SiO2(21) 상에 Ti 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 TiO2(22)를 증착시키는 S12단계와, 상기 TiO2(22) 상에 Si 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 산화금속인 SiO2(23)를 증착시키는 S13단계와, 상기 SiO2(23) 상에 Ti 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 TiO2(24)를 증착시키는 S14단계를 포함하여 이루어진다.
여기서, 상기 S11단계의 SiO2(21)의 두께는 550~590Å, S12단계의 TiO2(22)의 두께는 40~70Å, S13단계의 SiO2(23)의 두께는 700~900Å 및 S14단계의 TiO2(24)의 두께는 400~600Å이 되도록 증착하는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 상술한 바와 같이, 각 산화금속의 두께를 상기 범위로 구성함으로써, 특정 파장 대역(380~500nm)의 가시광선의 광투과율을 제어할 수 있기 때문이다.
본 발명의 S1단계는 2.00×10-05~3.00×10-05 Torr의 진공도를 가지고 산소가 공급되는 분위기 및 30~60℃의 온도에서 이루어지는 것이 바람직하다. 이와 같은 방법으로 산화금속층을 증착 형성함으로써, 장기간 빛에 노출되더라도 광투과성이 변하지 않는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 S1단계는 상기 글라스를 5.00×10-05~7.00×10-05 Torr의 불활성기체 분위기에서 전기적 충격에 의해 발생되는 플라즈마로 1~5분 동안 충격을 가하여 에칭처리하는 S10단계를 더 포함할 수 있다.
상기 베이스 글라스에 상기 산화금속층(11)을 형성하는 방법으로는 전자 빔(electron-beam), 이온 빔(ion-beam), 스퍼터링(sputtering) 및 엑시머 레이저를 이용하는 방법 등을 다양하게 이용할 수 있다.
한편, 상기 S10단계에서 베이스 글라스(10) 일면을 에칭처리함으로써, 미세한 엠보싱(embossing)을 형성할 수 있고, 이러한 엠보싱은 S1단계의 산화금속층(20), 구체적으로 S11단계의 SiO2(21)의 접착력을 향상시키는 역할을 한다. 구체적으로 에칭공정은 전자 빔(electron-beam) 방식으로 산화금속층을 형성하기 전에 글라스 표면의 전처리 공정으로서 기능하게 된다.
상기 S10단계는 5.00×10-05~7.00×10-05 Torr의 아르곤(Ar)과 같은 불활성기체 분위기에서 전기적 충격에 의해 발생되는 플라즈마로 1~5분 동안 상기 베이스 글라스 일면에 충격을 가하여 이루어지는 것이다. 여기서 전기적 충격은 일반적인 전자 빔 증착 장치에 필수적으로 구비되는 EB Gun(Electron-Beam Gun)에 의해 발생 될 수 있다. 이러한 전자 빔 증착 장치는 당업계에서 이미 널리 알려진 구성에 해당하므로 그 자세한 설명은 생략한다.
본 발명에 따른 S2단계는 상기 산화금속층(20)의 일면에 비산방지층(30)을 형성함으로써, 베이스 글라스가 충격을 받아 깨지더라도 그 파편들이 흩어지거나 비산하는 것을 방지하게 된다. 상기 비산방지층(30)은 아크릴 계열의 접착제를 이용하여 20~50㎛의 두께로 형성하는 것이다.
본 발명에 따른 S3단계는 상기 비산방지층(30)의 일면에 합성수지 소재, 예를 들어 75~100㎛의 두께의 PET 필름을 부착하여 베이스 필름(40)을 형성하는 것이다.
본 발명에 따른 S4단계는 상기 베이스 필름(40)의 일면에 실리콘 계열의 접착제(adhesive)를 이용하여 40~60㎛의 두께의 점착층(50)을 형성하는 것이다.
상기 비산방지층, 베이스 필름 및 점착층을 형성하는 방법에는 특별한 제한은 없으며, 공지된 다양한 방법을 이용하여 수행할 수 있다. 예를 들어, 비산방지층 및 점착층은 스프레이, 도포 방식 등을 이용할 수 있으며, 베이스 필름은 미리 제조한 필름을 부착하는 방식을 이용할 수 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
1. 챔버에 20~30nm 두께의 지문방지 코팅층을 미리 형성한 베이스 글라스(제조사:코닝)를 넣고 6.00×10-05Torr의 불활성기체인 아르곤(Ar) 분위기에서 전기적 충격에 의해 발생되는 플라즈마로 3분 동안 상기 글라스 일면에 충격을 가하여 에칭처리를 한다. 이때, 플라즈마 형성을 위해 챔버에 10~20MHz의 RF전압을 350W인가한다.
2. 전자빔 기상 증착법에 의하여 베이스 글라스 상에 579Å의 SiO2, 54Å의 TiO2, 816Å의 SiO2 및 498Å의 TiO2를 순차적으로 증착한다.
이때, 전자빔 출력이 10kV-1A이며, 증착률, 산소 분압, 두께 등을 제어할 수 있는 시스템을 갖춘 증착기(SHT-CT800A-DA)를 사용하였고, 진공도는 2.5×10-05 Torr, 챔버 내 온도를 50℃로 유지하였다.
3. 증착이 완료된 글라스에 아크릴 계열의 접착제를 20~50㎛의 두께로 도포한 후, 75~100㎛두께의 PET 필름을 부착하며, 실리콘 계열의 접착제(adhesive)를 40~60㎛의 두께로 형성한다.
상기 [실시예 1]에서 전자빔 기상 증착법에 의하여 베이스 글라스 상에 530Å의 SiO2, 35Å의 TiO2, 655Å의 SiO2 및 360Å의 TiO2를 순차적으로 증착한 것을 제외하고는 [실시예 1]과 동일하다.
상기 [실시예 1]에서 전자빔 기상 증착법에 의하여 베이스 글라스 상에 490Å의 SiO2, 27Å의 TiO2, 560Å의 SiO2 및 320Å의 TiO2를 순차적으로 증착한 것을 제외하고는 [실시예 1]과 동일하다.
[ 실험예 1]( 광투과율 실험)
상기 실시예 1 내지 실시예 3의 디스플레이용 보호 글라스의 광투과율을 측정장치(히타치 U3100)로 측정하였고, 그 결과는 도 4에 나타내었다.
또한, 20~30nm 두께의 지문방지 코팅층만이 형성된 베이스 글라스(비교예 1)의 광투과율을 측정하였고, 그 결과는 도 4에 나타내었다.
도 4는 본 발명에 따른 실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예 1의 광투과율을 측정한 값을 나타내는 도면이다.
도 4에서 확인할 수 있는 바와 같이, 비교예 1의 보호 글라스는 380~780nm 전 범위의 파장에 대하여 거의 일정한 값의 광투과율을 가지는 반면에, 실시예 1 내지 실시예 3의 디스플레이용 보호 글라스는 380nm 파장의 가시광선에 대한 광투과율이 각각 69.8%, 73.2% 및 74.2%이고, 500nm 파장의 가시광선에 대한 광투과율이 각각 81.1%, 82.8% 및 85.2% 임을 확인할 수 있다.
또한, 380~500nm 파장을 벗어나는 범위 예를 들어, 600nm 파장에 대한 광투과율은 84.4%, 85.7% 및 87.4%임을 확인할 수 있다.
이와 같이 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 380~500nm 파장에 대한 광투과율이 다른 범위에 비해 상대적으로 낮게 유지됨으로써, 인체에 유해한 파장을 줄임과 동시에 화면의 품질이 저하되는 것을 방지할 수 있게 된다.
결론적으로, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 디스플레이에서 방출되는 빛 중에서 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율을 낮춤으로써, 눈에 대한 질병(백내장)을 예방할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스는 가시광선 중에서 380nm에 가까운 파장 대역의 광투과율을 더 차단함으로써, 눈 보호 효과와 동시에 화면 색상 내지 선명도 등의 품질이 저하되지 않도록 하는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이용 보호 글라스 및 그 제조방법은 특정 파장 대역(380~500nm)의 광투과율만을 더 낮게 유지할 수 있도록 산화금속층을 SiO2, TiO2, SiO2, TiO2 의 순서로 증착시키는 제조방법을 제공한다.
본 명세서에서 설명되는 실시예와 첨부한 도면은 본 발명에 포함되는 기술적 사상의 일부를 예시적으로 설명하는 것에 불과하다. 따라서, 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이므로, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것이 아님은 자명하다. 본 발명의 명세서 및 도면에 포함된 기술적 사상의 범위 내에서 당업자가 용이하게 유추할 수 있는 변형 예와 구체적인 실시예는 모두 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
10 : 베이스 글라스
20 : 산화금속층
21,22,23,24 : 산화금속
30 : 비산방지층
40 : 베이스 필름
50 : 점착층

Claims (7)

  1. 디스플레이에 부착되는 보호 글라스에 있어서,
    상기 디스플레이에서 방출되는 빛 중에서 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율이 69~85%이고,
    베이스 글라스; 및 상기 베이스 글라스의 일면에 SiO2, TiO2, SiO2 및 TiO2가 순차적으로 적층되어 이루어지는 산화금속층;을 포함하되,
    상기 순차적으로 적층되는 SiO2, TiO2, SiO2 및 TiO2 각각의 산화금속은 550~590Å, 40~70Å, 700~900Å 및 400~600Å의 두께로 적층되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 보호 글라스.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 380nm 파장의 가시광선의 광투과율이 69~75%인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 보호 글라스.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 디스플레이에서 방출되는 빛 중에서 380~500nm 파장 대역의 가시광선의 광투과율이 69~85%인 보호 글라스의 제조방법에 있어서,
    글라스 일면에 Si 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 산화금속인 SiO2를 증착시키는 S11단계와, 상기 SiO2 상에 Ti 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 TiO2를 증착시키는 S12단계와, 상기 TiO2 상에 Si 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 산화금속인 SiO2를 증착시키는 S13단계와, 상기 SiO2 상에 Ti 성분을 함유한 전구체 및 산소를 공급하여 TiO2를 증착시키는 S14단계를 포함하여 산화금속층을 형성하는 S1단계;
    상기 산화금속층의 일면에 비산방지층을 형성하는 S2단계;
    상기 비산방지층의 일면에 합성수지 소재의 베이스 필름을 형성하는 S3단계; 및
    상기 베이스 필름의 일면에 점착층을 형성하는 S4단계;를 포함하되,
    상기 S1단계에서 순차적으로 적층되는 SiO2, TiO2, SiO2 및 TiO2 각각의 산화금속은 550~590Å, 40~70Å, 700~900Å 및 400~600Å의 두께로 증착되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 S1단계는 상기 글라스를 5.00×10-05~7.00×10-05 Torr의 불활성기체 분위기에서 전기적 충격에 의해 발생되는 플라즈마로 1~5분 동안 충격을 가하여 에칭처리하는 S10단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 보호 글라스의 제조방법.
  7. 삭제
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