KR101225723B1 - 크린룸 세정용 세정제 조성물 - Google Patents
크린룸 세정용 세정제 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101225723B1 KR101225723B1 KR1020050126410A KR20050126410A KR101225723B1 KR 101225723 B1 KR101225723 B1 KR 101225723B1 KR 1020050126410 A KR1020050126410 A KR 1020050126410A KR 20050126410 A KR20050126410 A KR 20050126410A KR 101225723 B1 KR101225723 B1 KR 101225723B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- cleaning
- weight
- ether
- clean room
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/72—Ethers of polyoxyalkylene glycols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/0005—Other compounding ingredients characterised by their effect
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2068—Ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/43—Solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/48—Medical, disinfecting agents, disinfecting, antibacterial, germicidal or antimicrobial compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
반도체 및 액정표시소자(LCD) 제조 산업체의 크린룸 세정용 세정제 조성물이 개시된다. 상기 크린룸 세정용 세정제 조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 비이온계 계면 활성제 0.01 내지 0.5 중량%, 하기 화학식 2로 표시되는 유기용매 2 내지 30중량%, 대전 방지제 0.01 내지 3중량% 및 나머지 물을 포함한다.
[화학식 1]
R1-C6H4-O-(C2H4O)n-H
상기 화학식 1에서, R1는 탄소수 8 내지 16의 알킬기이며, n은 3 내지 20의 정수이다.
[화학식 2]
R2-O-(CkH2kO)l-R3
상기 화학식 2에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며, k는 2 내지 3의 정수이고, l은 1 내지 3의 정수이다.
세정제, 크린룸, 반도체, 액정표시소자
Description
본 발명은 크린룸 세정용 세정제 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 및 액정표시소자(LCD; Liquid Crystal Display) 제조 산업체의 크린룸 세정용 세정제 조성물에 관한 것이다.
세정이란 오염된 사물의 표면을 깨끗하게 하는 것으로서, 세정 대상물 또는 오염원의 종류에 따라, 요구되는 청정도 및 세정 방법이 달라진다. 오늘날 세정제는 자동차, 전기, 전자, 정밀기기, 열처리, 도금 등의 다양한 산업 분야에서 사용되고 있다. 특히, 전자, 금속, 정밀기기, 드라이 크리닝 등의 산업에서는 세정제로서, CFC-113(ChloroFluoroCarbon, 염화불화탄소)가 널리 이용되었는데, 그 사용량은 1989년을 전후로 하여, 전체 CFC 사용량의 25~30%을 차지하였다. 그러나 CFC의 오존층 파괴 학설 발표(1974), 오존층 파괴로 인한 환경 문제의 심각한 대두(1980 초반), 비엔나 협약(1985) 및 몬트리올 의정서(1987) 채택, CFC를 비롯한 오존층 파괴 물질의 사용 규제 등의 일련의 조치에 따라, 선진국에서는 CFC 세정제가 사용되지 못하게 되었다. 따라서, CFC 세정제를 대체하기 위한 수많은 세정제 개발이 진행되었고, 그 결과, 수계, 준수계, 대체 염소계, 탄화수소계, 알코올계, 불소계 등의 세정제가 개발되었다. 또한, 이들 대체 세정제들을 이용한 습식 세정에 있어서, 수계 및 준수계 세정제는 화재의 위험성, 환경 및 인체에 대한 위해성, 오존 파괴 위험성 등의 측면에서 기타 세정제들보다 우수한 효과를 보이기 때문에, 이에 대한 연구가 더욱 활발히 진행되고 있다.
세정제의 세정효율은 용제의 종류, 계면활성제의 종류 및 농도, 친수 친유 발란스(HLB; Hydrophillic Lipophillic Balance), 임계 미셀 농도(CMC), 표면장력, 보조 계면활성제의 첨가 유무, 세정온도 및 계면활성제/물/오일 조성 등의 변수에 따라 달라질 수 있다. 따라서 다양한 산업 분야에서 특수한 목적으로 사용되는 세정제를 개발하기 위해서는, 상기변수들의 특성 및 상기 변수와 세정효율간의 관계가 체계적으로 연구되어야 한다. 예를 들면, 세정제의 주요 성분인 계면활성제는 용해성의 유무에 따라 수용성 계면활성제 및 유용성 계면활성제로 구분되며, 수용성 계면활성제는 다시 이온성 및 비이온성 계면활성제로 구분된다. 에틸렌 옥사이드 등이 부가된 비이온성 계면활성제는 이온성 계면활성제에 비하여, 대체로 임계미셀온도가 낮고, 생분해도가 높아, 세정효율 및 환경 친화적인 측면에서 많은 장점이 있다.
세정제로서, 반도체 장치의 웨이퍼 또는 액정표시소자 기판 등의 세정을 위 한 것은 많은 발명에서 공지되어 있는데, 이러한 세정제들은 일반적으로, 2차 세척 공정을 필요로 한다. 예를 들면, 대한민국 공개특허 특1993-0014811호는 음이온계, 양이온계 및 양성이온계 계면활성제를 사용한 액정표시소자의 세정 방법을 개시하고 있으며, 대한민국 공개특허 특1997-0062017호는 액정표시소자(LCD) 기판 표면의 세정을 위한 세정제 조성물을 개시하고 있으며, 대한민국 공개특허 10-2005-0078903호는 유기용매 및 계면활성제를 포함하며, 동적표면장력이 낮은 세정액 조성물을 개시하고 있다.
반면, 반도체 및 액정표시소자(LCD) 제조 산업체의 크린룸 세정을 위한 세정제는 아직까지 그 개발이 미미한 수준이다. 크린룸 세정용 세정제 조성물의 바람직한 요건은 다음과 같다. 세정 도구로 사용되는 극세사에 원활하게 흡수되어야 하며, 작업 후 건조속도가 높아야 하며, 잔유물이 남지 않아야 한다. 잔유물이 남을 경우, 건조 후 이물질이 비산되어 반도체나 LCD 공정에 치명적인 영향을 미칠 수 있기 때문이다. 또한, 크린룸 세정용 세정제 조성물은 세정 후, 크린룸 재질 표면상에 발생되는 정전기를 방지하여, 먼지 또는 이물질의 재부착이 발생되지 않도록 해야 하고, 장기간 보관 시 미생물에 의한 오염 및 조성물의 변질이 발생하지 않아야 한다.
따라서, 본 발명의 목적은 건조속도가 빠르고, 잔류성이 없으며, 정전기 방지능 및 유기/무기물에 대한 세정력이 우수한 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제공 하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 추가적인 세척 공정이 필요 없고, 항균성 및 장기간 보관 안전성이 우수한 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 비이온계 계면 활성제 0.01 내지 0.5 중량%, 하기 화학식 2로 표시되는 유기용매 2 내지 30중량%, 대전 방지제 0.01 내지 3중량% 및 나머지 물을 포함하는 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
R1-C6H4-O-(C2H4O)n-H
상기 화학식 1에서, R1는 탄소수 8 내지 16의 알킬기이며, n은 3 내지 20의 정수이다.
[화학식 2]
R2-O-(CkH2kO)l-R3
상기 화학식 2에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며, k는 2 내지 3의 정수이고, l은 1 내지 3의 정수이다.
상기 세정제 조성물은 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온(5-chloro-2- methyl-4-isothiazolin-3-one), 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온(2-methyl-4-isothiaz olin-3-one), 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온(1,2-Benzisothiazolin-3-one) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 살균제 0.01 내지 3중량%를 더욱 포함하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 비이온계 계면 활성제 0.01 내지 0.5 중량%, 하기 화학식 2로 표시되는 유기용매 2 내지 30중량%, 대전 방지제 0.01 내지 3중량% 및 나머지 물을 포함하는 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제공한다.
본 발명에 따른 크린룸 세정용 세정제 조성물에 포함되는 비이온계 계면 활성제는 하기 화학식 1로 표시된다.
상기 화학식 1에서, R1는 탄소수 8 내지 16의 알킬기, 바람직하게는 탄소수 8 내지 11개의 알킬기이며, n은 3 내지 20의 정수이다. 여기서 n은 단위분자 구조내에서의 에틸렌옥사이드 부가량을 나타내며, 상기 탄소수 8 내지 16의 알킬기로는 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실기 등을 예시할 수 있다.
오염물질 제거 및 재흡착 방지를 위해 사용되는 상기 화학식 1로 표시되는 비이온계 계면 활성제는 다양한 수의 탄소가 연결된 소수성기 및 복수의 알킬렌 옥사이드기를 포함하는 비이온계 화합물로서, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리옥시에틸렌도데실페닐에테르 등을 사용할 수 있고, 표면장력 저하 및 세정력 향상을 위해 상기 화합물을 2종 이상 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다. 상기 비이온계 계면활성제의 함량은 전체 세정제 조성물에 대하여 0.01 내지 0.5중량%가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 0.1중량%이다. 상기 비이온계 계면활성제의 함량이 0.01중량% 미만인 경우, 원하는 오염물질의 제거 및 재흡착 방지 효과를 얻을 수 없고, 0.5중량%를 초과할 경우, 더 이상의 추가적인 효과 향상은 없으며, 오히려 크린룸 세정 후, 바닥에 계면활성제가 잔류되는 등의 문제가 발생될 우려가 있다.
또한, 본 발명에 따른 유기용매는 하기 화학식 2로 표시된다.
[화학식 2]
R2-O-(CkH2kO)l-R3
상기 화학식 2에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸기이며, k는 2 내지 3의 정수이고, l은 1 내지 3의 정수이다.
상기 유기용매는 알킬렌글리콜모노알킬에테르 화합물로서, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 및 이들의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하고, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르를 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 상기 유기용매의 함량은 전체 세정제 조성물에 대하여 2 내지 30중량%가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 5 내지 20중량%이다. 상기 유기용매의 함량이 2중량% 미만일 경우, 원하는 세정 효과를 얻을 수 없으며, 30중량%를 초과할 경우, 추가적인 세정효과 향상은 없으며, 폐용제 처리 문제, 제조 단가 상승 등의 문제점이 발생된다.
본 발명에 사용되는 대전 방지제는 정전기 발생 방지를 위한 것으로서, 특정비이온성 계면활성제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 알킬페놀 에틸렌옥사이드 부가물, 고급알코올 에틸렌옥사이드 부가물, 고급지방상 아마이드 및 에틸렌옥사이드 부가물, 고급지방산의 글리세린 에스테르 또는 폴리에틸렌글리콜 에스테르 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있고, 바람직하게는 분자량 약 400의 폴리프로필렌글리콜, 폴리에톡시옥틸페닐에테르, 폴리에톡시노닐페닐에테르를 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 대전 방지제의 함량은 전체 세정제 조성물에 대하여, 0.01 내지 3중량%가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.03 내지 1중량%이다. 상기 대전 방지제의 함량이 0.01중량% 미만인 경우, 원하는 대전 방지효과를 얻을 수 없고, 3중량%를 초과할 경우, 지나친 거품이 발생되거나, 세정력이 감소되어, 세정 후에도 오염물질이 잔존하는 문제가 있다.
본 발명에 따른 크린룸 세정용 세정제 조성물의 나머지를 구성하는 물은 순수 및 초순수 등을 사용할 수 있다.
본 발명의 크린룸 세정용 세정제 조성물은 필요에 따라 살균제를 더욱 포함할 수 있다. 상기 살균제는 크린룸 및 세정제 조성물의 미생물 오염을 방지하기 위한 것으로서, 금속 이온의 함량이 적고, 세정효과에 영향을 주지 않는 것이 바람직하다. 상기 살균제는 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있고, 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온과 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 살균제의 함량은 전체 세정제 조성물에 대하여, 0.01 내지 3중량%가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.03 내지 1중량%이다. 상기 살균제의 함량이 0.01 중량% 미만인 경우, 원하는 살균효과를 얻을 수 없으며, 세정제 조성물의 장기간 보관이 어렵고, 3중량%를 초과할 경우, 세정력이 감소되고, 제조 단가가 상승되는 문제점이 발생한다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한 본 발명의 실시예에서는 살균제로서 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온과 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온의 혼합물인 BMF 30(SK케미칼 社)을 사용하였다.
[실시예 1] 세정제 조성물 제조
하기 표 1과 같이, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르 1.0중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 2.0중량%, 폴리프로필렌글리콜 0.2중량%, BMF 30(SK케미칼 社) 0.1중량% 및 나머지 초순수를 혼합하여 세정제 조성물을 제조하였다.
[실시예 2] 세정제 조성물 제조
하기 표 1과 같이, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르 0.5중량%, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 0.5중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 2.0중량%, 폴리프로필렌글리콜 0.2중량%, BMF 30(SK케미칼 社) 0.1중량%, 및 나머지 초순수를 혼합하여 세정제 조성물을 제조하였다.
[비교예 1] 세정제 조성물 제조
하기 표 1과 같이, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르 1.0중량% 대신에 폴리옥시에틸렌라우릴에테르 1.0중량%를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제조하였다.
[비교예 2] 세정제 조성물 제조
하기 표 1과 같이, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르 1.0중량% 대신에 폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노스테아레이트(Tween 60) 1.0중량%를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제조하였다.
[비교예 3] 세정제 조성물 제조
하기 표 1과 같이, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제조하였다.
[비교예 4] 세정제 조성물 제조
하기 표 1과 같이, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르 1.0중량% 대신에 폴리옥시에틸렌라우릴에테르 1.0중량%를 사용하고, 폴리프로필렌글리콜을 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제조하였다.
[비교예 5] 세정제 조성물 제조
하기 표 1과 같이, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제조하였다.
[비교예 6] 세정제 조성물 제조
하기 표 1과 같이, 살균제를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 크린룸 세정용 세정제 조성물을 제조하였다.
실시예1 | 실시예2 | 비교예1 | 비교예2 | 비교예3 | 비교예4 | 비교예5 | 비교예6 | |
OP-9 | 1.0% | 0.5% | 1.0% | 1.0% | ||||
NP-9 | 0.5% | |||||||
LE-7 | 1.0% | 1.0% | ||||||
Tween 60 | 1.0% | |||||||
DEB | 2.0% | 2.0% | 2.0% | 2.0% | - | 2.0% | 2.0% | 2.0% |
PPG | 0.2% | 0.2% | 0.2% | 0.2% | 0.2% | - | 0.2% | 0.2% |
BMF 30 | 0.1% | 0.1% | 0.1% | 0.1% | 0.1% | 0.1% | 0.1% | - |
PW | 96.7% | 96.7% | 96.7% | 96.7% | 98.7% | 96.9% | 97.7% | 96.8% |
OP-9 : 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르
NP-9 : 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르
LE-7 : 폴리옥시에틸렌라우릴에테르
Tween 60 : 폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노스테아레이트
DEB : 디에틸렌글리콜모노부틸에테르
PPG : 폴리프로필렌글리콜
BMF 30 : 살균제 (SK케미칼 社)
PW : 초순수
[실시예 3] 세정제 조성물 평가
상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 6에서 제조된 크린룸 세정용 세정제 조성물의 건조속도, 건조 후 잔류도, 정전기 발생 유무, 세정력 및 항균성을 하기의 방법으로 측정하고, 하기 표 2를 기준으로 평가하여, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.
1) 건조속도: 극세사 한장당 5mL의 세정제 조성물을 흡수시키고, 이를 이용하여 스테인레스스틸 판을 10회 문지른 후, 잔존된 세정제 조성물의 건조시간을 측정하였다.
2) 건조 후 잔류도: 1)과 동일하게 테스트를 하고, 건조후의 잔류도를 평가하였다.
3) 정전기 발생 유무: 유리판을 해당 조성물로 세정한 후, 폴리에스테르 재질의 극세사로 5회 문지른 후, 정전기를 측정하였다.
4) 세정력: 유리판을 지문, 유성펜, 미세먼지 등으로 오염 시킨 후, 조성물로 세정한 후, 육안으로 판단하였다.
5) 항균성 : 세정제의 방부능을 평가한 것으로, ASTM D2574-94에 따라 공시균주로 106 CFU/mL 농도로 오염을 시키고, 초기 균농도와 4일 후의 균농도 감소 추이를 비교하였다. 균이 관찰되지 않으면 매우 우수, 일부 관찰되면 양호, 초기 균농도와 동일 혹은 그 이상이면 항균성 없음으로 판단하였다.
◎ | △ | × | |
건조속도 | 매우 빠름 | 보통 | 느림 |
건조 후 잔류도 |
잔류물 및 얼룩이 없음 | 약간의 잔류물이나 얼룩이 관찰됨 | 잔류물이 많으며 얼룩이 심함 |
정전기 발생 | 정전기 10 V 미만 | 정전기 100 V 미만 | 정전기 100 V 이상 |
세정력 | 매우 우수 | 양호 | 세정력 없음 |
항균성 | 매우 우수 | 양호 | 항균성 없음 |
실시예1 | 실시예2 | 비교예1 | 비교예2 | 비교예3 | 비교예4 | 비교예5 | 비교예6 | |
건조속도 | ◎ | ◎ | △ | △ | × | △ | △ | ◎ |
건조 후 잔류도 |
◎ | ◎ | × | × | △ | × | ◎ | ◎ |
정전기 발생 |
◎ | ◎ | ◎ | △ | ◎ | × | △ | ◎ |
세정력 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | × | ◎ |
항균성 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | × |
상기 표 3으로부터, 본 발명에 따른 실시예 1 및 2는 건조속도, 건조 후 잔류도, 세정력 및 항균성이 우수하고, 정전기 발생을 방지하였으나, 다른 종류의 계면활성제를 사용한 비교예 1 및 비교예 2는 건조속도가 다소 떨어지고, 잔류물이 많음을 알 수 있고, 유기용매가 사용되지 않은 비교예 3에서는 건조속도 매우 느리고, 얼룩이 다소 관찰됨을 알 수 있다. 또한 대전방지제가 사용되지 않은 비교예 4에서는 건조속도가 다소 떨어지고, 잔류물이 많으며, 정전기 방지 효과가 없음을 알 수 있으며, 계면활성제를 사용하지 않은 비교예 5에서는 정전기 방지 효과가 다소 떨어지고, 특히 세정력이 없음을 알 수 있고, 비교예 6은 항균성이 없음을 알 수 있다.
이상 상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 크린룸 세정용 세정제 조성물은 건조속도가 빠르고, 잔류성이 없으며, 정전기 방지능 및 유기/무기물에 대한 세정력 이 우수하다. 또한, 상기 크린룸 세정용 세정제 조성물은 추가적인 세척 공정이 필요 없고, 항균성 및 장기간 보관 안전성이 우수하다.
Claims (5)
- 하기 화학식 1로 표시되는 비이온계 계면 활성제 0.01 내지 0.5 중량%;하기 화학식 2로 표시되는 유기용매 2 내지 30중량%;폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 알킬페놀 에틸렌옥사이드 부가물, 고급알코올 에틸렌옥사이드 부가물, 고급지방산 아마이드 및 에틸렌옥사이드 부가물, 고급지방산의 글리세린 에스테르 또는 폴리에틸렌글리콜 에스테르 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 대전 방지제 0.01 내지 3중량%;5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 살균제 0.01 내지 3중량%; 및나머지 물을 포함하는 크린룸 세정용 세정제 조성물.[화학식 1]R1-C6H4-O-(C2H4O)n-H상기 화학식 1에서, R1는 탄소수 8 내지 16의 알킬기이며, n은 3 내지 20의 정수이다.[화학식 2]R2-O-(CkH2kO)l-R3상기 화학식 2에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며, k는 2 내지 3의 정수이고, l은 1 내지 3의 정수이다.
- 제 1항에 있어서, 상기 비이온계 계면활성제가 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리옥시에틸렌도데실페닐에테르 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 크린룸 세정용 세정제 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 상기 유기용매가 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 크린룸 세정용 세정제 조성물.
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050126410A KR101225723B1 (ko) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | 크린룸 세정용 세정제 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050126410A KR101225723B1 (ko) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | 크린룸 세정용 세정제 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070065703A KR20070065703A (ko) | 2007-06-25 |
KR101225723B1 true KR101225723B1 (ko) | 2013-01-23 |
Family
ID=38364947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050126410A KR101225723B1 (ko) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | 크린룸 세정용 세정제 조성물 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101225723B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112175750B (zh) * | 2020-11-12 | 2021-08-13 | 福建省佑达环保材料有限公司 | 一种半导体制程中使用的中性水基清洗剂组合物 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960023007A (ko) * | 1994-12-29 | 1996-07-18 | 성재갑 | 섬유유연제를 함유하는 세제 조성물 |
KR20040035368A (ko) * | 2002-10-22 | 2004-04-29 | 주식회사 엘지화학 | 반도체 및 tft-lcd용 세정제 조성물 |
KR100447068B1 (ko) * | 2003-10-10 | 2004-09-04 | (주)다래월드 | 환경친화적 기능성 세정제 조성물 |
KR20050102312A (ko) * | 2004-04-21 | 2005-10-26 | 주식회사 엘지생활건강 | 수계 유리 세정제 조성물 |
-
2005
- 2005-12-20 KR KR1020050126410A patent/KR101225723B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960023007A (ko) * | 1994-12-29 | 1996-07-18 | 성재갑 | 섬유유연제를 함유하는 세제 조성물 |
KR20040035368A (ko) * | 2002-10-22 | 2004-04-29 | 주식회사 엘지화학 | 반도체 및 tft-lcd용 세정제 조성물 |
KR100447068B1 (ko) * | 2003-10-10 | 2004-09-04 | (주)다래월드 | 환경친화적 기능성 세정제 조성물 |
KR20050102312A (ko) * | 2004-04-21 | 2005-10-26 | 주식회사 엘지생활건강 | 수계 유리 세정제 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070065703A (ko) | 2007-06-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106893642B (zh) | 一种水基清洗剂及其用途 | |
US10696930B2 (en) | Solvent containing anitmicrobial hard surface cleaning compositions | |
EP2052069B1 (en) | Low foaming cleaner | |
BRPI1006847B1 (pt) | composição de limpeza para remover sujeiras, composição detergente e método de remoção de sujeiras | |
US20150147802A1 (en) | Cleaning agent composition for medical-instrument cleaner | |
EP3418363A1 (en) | Polymer containing antimicrobial hard surface cleaning compositions | |
JP4565321B2 (ja) | 調理台・調理機器並びにその周辺床用洗浄剤組成物 | |
EP1299518B1 (en) | Method of cleaning using clean room wipes for neutralizing caustic chemicals | |
JP2016183242A (ja) | 硬質表面洗浄剤組成物及び硬質表面の洗浄方法 | |
JPH0457899A (ja) | ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤および該洗浄剤を用いてなるロジン系ハンダフラックスの洗浄方法 | |
KR20090114734A (ko) | 수계 세정제 조성물 | |
KR20080032843A (ko) | 유리세정 조성물 | |
JP2019104793A (ja) | 液体洗浄剤組成物 | |
KR101225723B1 (ko) | 크린룸 세정용 세정제 조성물 | |
KR101272795B1 (ko) | 크린룸 세정용 세정제 조성물 | |
KR102042510B1 (ko) | 초음파 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정방법 | |
KR102171739B1 (ko) | 태양광 패널용 세정제 조성물 | |
KR100771417B1 (ko) | 클린룸용 세정제 조성물 | |
JP2007217504A (ja) | 可溶化型印刷インキ用洗浄剤組成物 | |
KR102042509B1 (ko) | 열교환기 방열판 세정제 조성물 및 그의 제조방법 | |
KR102391431B1 (ko) | 친환경 금속 세정제 조성물 | |
JPH05125396A (ja) | 洗浄剤 | |
JP5291910B2 (ja) | リネンサプライ用粉末洗剤組成物 | |
JP3366718B2 (ja) | 硬質表面洗浄剤組成物 | |
TW202342712A (zh) | 液體清潔劑組合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151211 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161220 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171226 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181226 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191226 Year of fee payment: 8 |