KR101208317B1 - Apparatus for processing substrate and maintain method of processing chamber using the same - Google Patents

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Abstract

공정챔버의 유지관리를 위해 공정챔버로부터 분리되어 이송되는 상부챔버가 안정적으로 지지되도록 한 기판처리장치 및 이를 이용한 공정챔버의 유지유지방법이 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는 상부챔버와 하부챔버로 분리되어 내부에 기판을 지지하는 공정챔버와, 상기 상부챔버의 평면 방향으로 출몰되는 클램핑축에 의해 상기 상부챔버를 클램핑하는 제 1클램핑유닛과, 상기 제 1클램핑유닛을 지지하고 상기 제 1클램핑유닛을 승강시키는 승강유닛과, 상기 승강유닛을 지지하고 상기 승강유닛을 상기 상부챔버의 평면 방향으로 이송하는 이송유닛과, 상기 이송유닛에 의해 상기 상부챔버가 이송되는 측에 배치되고, 상기 상부챔버에 착탈되는 회전축을 포함하여 상기 상부챔버를 회전시키는 회전유닛을 포함한다. Disclosed is a substrate treating apparatus and a process holding method of maintaining a process chamber using the same so that the upper chamber separated from the process chamber is stably supported for maintenance of the process chamber. The substrate processing apparatus according to the present invention is divided into an upper chamber and a lower chamber, and includes a process chamber for supporting a substrate therein, a first clamping unit for clamping the upper chamber by a clamping shaft projected in a planar direction of the upper chamber; A lifting unit supporting the first clamping unit and elevating the first clamping unit, a transfer unit supporting the lifting unit and transferring the lifting unit in a planar direction of the upper chamber; It is disposed on the side to which the upper chamber is transferred, and includes a rotating unit for rotating the upper chamber including a rotating shaft detachable to the upper chamber.

Figure R1020110028695
Figure R1020110028695

Description

기판처리장치 및 이를 이용한 공정챔버의 유지방법 {Apparatus for processing substrate and maintain method of processing chamber using the same}Apparatus for processing substrate and maintain method of processing chamber using the same}

본 발명은 기판처리장치 및 이를 이용한 공정챔버의 유지방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판에 소정의 처리를 가하는 데 사용되는 기판처리장치 및 이를 이용한 공정챔버의 유지방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a substrate processing apparatus and a process chamber holding method using the same, and more particularly, to a substrate processing apparatus used to apply a predetermined treatment to a substrate and a process chamber holding method using the same.

평판 디스플레이 장치, 반도체 장치의 제조공정에는 공정챔버가 사용된다. 공정챔버의 내부에는 기판을 지지하는 기판지지대와, 기판을 처리하는 데 사용되는 공정가스를 공정챔버의 내부로 공급되도록 하는 샤워헤드와, 공정챔버의 내부를 진공분위기로 유지시킬 수 있는 진공배관 등의 많은 설비들이 설치된다.Process chambers are used in the manufacturing process of flat panel display devices and semiconductor devices. Inside the process chamber, a substrate support for supporting the substrate, a shower head for supplying the process gas used to process the substrate into the process chamber, a vacuum pipe for maintaining the inside of the process chamber in a vacuum atmosphere, and the like. Many facilities are installed.

일반적으로, 공정챔버는 기판이 원활하게 반입 및 반출될 수 있도록 상부챔버와 하부챔버로 분리되도록 구성될 수 있다. 즉, 상부챔버가 하부챔버로부터 승강 가능하게 설치되어 공정챔버는 개폐될 수 있도록 구성된다.In general, the process chamber may be configured to be separated into an upper chamber and a lower chamber so that the substrate can be smoothly loaded and unloaded. That is, the upper chamber is installed to be lifted from the lower chamber so that the process chamber can be opened and closed.

한편, 기판 처리공정의 반복에 따라 공정챔버의 내부에는 파티클이 쌓일 수 있으며, 이 파티클은 불량 기판의 요소로 작용할 수 있다. 또한, 기판 처리공정의 반복에 따라 공정챔버 또는 공정챔버의 내부에 설치되는 설비들에 결함이 발생될 수 있다.On the other hand, as the substrate is repeatedly processed, particles may accumulate inside the process chamber, and the particles may act as elements of a defective substrate. In addition, a defect may occur in the process chamber or equipment installed inside the process chamber as the substrate processing process is repeated.

따라서, 기판을 안정적으로 처리하기 위해서는 기판 처리공정의 전, 후에는 공정챔버 및 공정챔버 내부에 설치되는 설비들의 검사, 보수, 관리하여 공정챔버가 기판을 처리할 수 있도록 유지시키는 공정챔버의 유지(maintain)작업이 병행되어야 한다.Therefore, in order to process the substrate stably, the process chamber which maintains the process chamber to process the substrate by inspecting, repairing, and managing the process chamber and the facilities installed in the process chamber before and after the substrate processing process ( maintain must be done in parallel.

하지만, 종래의 기판처리장치는 상부챔버가 하부챔버로 승강되어 공정챔버가 개방된다 하더라도, 상부챔버가 하부챔버의 상측에 위치한 상태로는 공정챔버를 원활하게 유지하기 곤란한 문제점이 있다.
However, in the conventional substrate processing apparatus, even when the upper chamber is elevated to the lower chamber to open the process chamber, it is difficult to smoothly maintain the process chamber while the upper chamber is positioned above the lower chamber.

본 발명의 목적은 기판을 처리하는데 사용되는 공정챔버를 원활하게 유지할 수 있도록 한 기판처리장치 및 이를 이용한 공정챔버의 유지방법을 제공하기 위한 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a method for maintaining a process chamber using the same, which are capable of smoothly maintaining a process chamber used to process a substrate.

본 발명에 따른 기판처리장치는 상부챔버와 하부챔버로 분리되어 내부에 기판을 지지하는 공정챔버와, 상기 상부챔버의 평면 방향으로 출몰되는 클램핑축에 의해 상기 상부챔버를 클램핑하는 제 1클램핑유닛과, 상기 제 1클램핑유닛을 지지하고 상기 제 1클램핑유닛을 승강시키는 승강유닛과, 상기 승강유닛을 지지하고 상기 승강유닛을 상기 상부챔버의 평면 방향으로 이송하는 이송유닛과, 상기 이송유닛에 의해 상기 상부챔버가 이송되는 측에 배치되고, 상기 상부챔버에 착탈되는 회전축을 포함하여 상기 상부챔버를 회전시키는 회전유닛을 포함한다. The substrate processing apparatus according to the present invention is divided into an upper chamber and a lower chamber, and includes a process chamber for supporting a substrate therein, a first clamping unit for clamping the upper chamber by a clamping shaft projected in a planar direction of the upper chamber; A lifting unit supporting the first clamping unit and elevating the first clamping unit, a transfer unit supporting the lifting unit and transferring the lifting unit in a planar direction of the upper chamber; It is disposed on the side to which the upper chamber is transferred, and includes a rotating unit for rotating the upper chamber including a rotating shaft detachable to the upper chamber.

상기 상부챔버의 외측 횡면에는 상기 클램핑축이 착탈되는 클램핑축홈과, 상기 회전축이 착탈되는 회전축홈이 형성될 수 있다.An outer lateral surface of the upper chamber may be provided with a clamping shaft groove for detaching the clamping shaft, and a rotating shaft groove for detaching the rotating shaft.

상기 이송유닛은 상기 하부챔버의 측방에 배치되어 상기 상부챔버의 평면 방향으로 연장되는 이송레일과, 상기 승강유닛을 지지하고 상기 이송레일을 따라 이송되는 이송블럭을 포함할 수 있다.The transfer unit may include a transfer rail disposed at a side of the lower chamber and extending in a plane direction of the upper chamber, and a transfer block supporting the lifting unit and being transferred along the transfer rail.

상기 회전유닛은 상기 이송레일을 따라 이송되는 상기 상부챔버와 상기 제 1클램핑유닛의 사이에 위치하고, 상기 제 1클램핑유닛보다 낮게 배치될 수 있다.The rotating unit may be disposed between the upper chamber and the first clamping unit to be transported along the transport rail, and may be disposed lower than the first clamping unit.

상기 기판처리장치는 상기 회전유닛을 지지하며, 상기 회전유닛을 상기 이송레일에 교차하는 방향으로 직선이송하여 상기 회전축이 상기 상부챔버에 착탈되도록 하는 제 2클램핑유닛을 더 포함할 수 있다.The substrate processing apparatus may further include a second clamping unit which supports the rotating unit and moves the rotating unit linearly in a direction crossing the transfer rail so that the rotating shaft is detached from the upper chamber.

상기 제 2클램핑유닛은 상기 이송레일에 교차하는 방향으로 배치되는 클램핑레일과, 상기 회전유닛을 지지하고 상기 클램핑레일을 따라 이송되는 클램핑블럭을 포함할 수 있다.The second clamping unit may include a clamping rail disposed in a direction crossing the conveying rail, and a clamping block supporting the rotating unit and conveyed along the clamping rail.

한편, 본 발명에 따른 공정챔버의 유지보수방법은 하부챔버의 상부에 배치되는 상부챔버의 외측 횡면이 클램핑되는 클램핑 단계와, 상기 상부챔버가 상승되는 상승단계와, 상기 상부챔버가 상기 상부챔버의 평면 방향으로 이송되어 상기 상부챔버가 상기 하부챔버로부터 이탈되는 이송단계와, 상기 상부챔버의 개방면이 상측을 향하도록 상기 상부챔버가 회전되는 반전단계를 포함한다. On the other hand, the maintenance method of the process chamber according to the present invention includes a clamping step of clamping the outer lateral surface of the upper chamber disposed above the lower chamber, a rising step of the upper chamber is raised, and the upper chamber of the upper chamber A transfer step in which the upper chamber is separated from the lower chamber by being transferred in a plane direction, and an inverting step in which the upper chamber is rotated so that the open surface of the upper chamber faces upward.

상기 회전축은 상기 상부챔버의 이송에 간섭되지 않도록 상기 상부챔버의 이송경로보다 낮은위치에 배치되며, 상기 공정챔버의 유지보수방법은 상기 이송단계와 상기 반전단계의 사이에, 상기 상부챔버가 상기 회전축의 전방에 위치하도록 상기 상부챔버가 하강되는 하강단계를 더 포함할 수 있다.
The rotary shaft is disposed at a position lower than the transfer path of the upper chamber so as not to interfere with the transfer of the upper chamber. It may further include a descending step of the upper chamber is lowered to be located in front of.

본 발명에 따른 기판처리장치 및 이를 이용한 공정챔버의 유지방법은 상부챔버를 하부챔버로부터 이탈시키고, 상부챔버의 개방면이 상측을 향하도록 상부챔버를 반전시켜 공정챔버 및 공정챔버의 내부에 설치되는 설비들을 간편하게 유지할 수 있는 효과가 있다.The substrate treating apparatus and the method of maintaining the process chamber using the same according to the present invention are installed inside the process chamber and the process chamber by separating the upper chamber from the lower chamber and inverting the upper chamber so that the open surface of the upper chamber faces upward. The effect is that the facilities can be easily maintained.

또한, 본 발명에 따른 기판처리장치 및 이를 이용한 공정챔버의 유지방법은 공정챔버로부터 분리되고 이송되는 상부챔버의 지지상태를 안정적으로 유지할 수 있으므로, 공정챔버 및 공정챔버의 내부에 설치되는 설비들을 안전하게 유지 할 수 있는 효과가 있다.
In addition, the substrate processing apparatus and the method of maintaining the process chamber using the same according to the present invention can stably maintain the support state of the upper chamber separated and transferred from the process chamber, thereby safely installing the equipment installed inside the process chamber and the process chamber. It is effective to maintain.

도 1은 본 실시예에 따른 기판처리장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 실시예에 따른 기판처리장치를 일부를 정면도이다.
도 3은 본 실시예에 따른 기판처리장치의 일부를 나타낸 평면도이다.
도 4는 본 실시예에 따른 공정챔버 유지유지방법을 나타낸 순서도이다.
도 5는 본 실시예에 따른 기판처리장치에서 상부챔버가 상승되는 상태를 나타낸 사시도이다.
도 6는 본 실시예에 따른 기판처리장치에서 상부챔버가 반전부로 이송되는 상태를 나타낸 사시도이다.
도 7은 본 실시예에 따른 기판처리장치에서 회전유닛이 상부챔버를 클램핑하는 상태를 나타낸 사시도이다.
도 8은 본 실시예에 따른 기판처리장치에서 상부챔버가 반전되는 상태를 타나낸 사시도이다. 1 is a perspective view showing a substrate processing apparatus according to the present embodiment.
2 is a front view of a part of the substrate processing apparatus according to the present embodiment.
3 is a plan view showing a part of the substrate processing apparatus according to the present embodiment.
4 is a flowchart showing a process chamber holding and holding method according to the present embodiment.
5 is a perspective view showing a state in which the upper chamber is raised in the substrate processing apparatus according to the present embodiment.
6 is a perspective view showing a state in which the upper chamber is transferred to the inversion unit in the substrate processing apparatus according to the present embodiment.
7 is a perspective view illustrating a state in which the rotating unit clamps the upper chamber in the substrate processing apparatus according to the present embodiment.
8 is a perspective view showing a state in which the upper chamber is reversed in the substrate processing apparatus according to the present embodiment.

이하, 본 실시예에 따른 기판처리장치에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. Hereinafter, a substrate processing apparatus according to the present embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 실시예에 따른 기판처리장치를 나타낸 사시도이며, 도 2는 본 실시예에 따른 기판처리장치를 일부를 정면도이며, 도 3은 본 실시예에 따른 기판처리장치의 일부를 나타낸 평면도이다. 1 is a perspective view showing a substrate processing apparatus according to the present embodiment, FIG. 2 is a front view of a part of the substrate processing apparatus according to the present embodiment, and FIG. 3 is a plan view showing a part of the substrate processing apparatus according to the present embodiment. .

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 기판처리장치(이하, '기판처리장치'라 함.)(100)는 공정챔버(110)를 포함한다. 공정챔버(110)는 기판의 반입 및 반출 또는 공정챔버(110) 및 공정챔버(110)의 내부에 설치되는 설비들의 유지를 위해 개폐 가능하도록 구성된다. 즉, 공정챔버(110)는 하부챔버(111)와 상부챔버(112)로 분리된다. 상부챔버(112)의 외측 횡면에는 이후에 설명될 클램핑축(121)이 삽입되는 클램핑축홈(112a)과, 이후에 설명될 회전축(151)이 삽입되는 회전축홈(112b)이 형성된다. 1 to 3, the substrate treating apparatus (hereinafter, referred to as a substrate treating apparatus) 100 according to the present exemplary embodiment includes a process chamber 110. The process chamber 110 is configured to be opened and closed for carrying in and out of a substrate or for maintaining equipment installed in the process chamber 110 and the process chamber 110. That is, the process chamber 110 is separated into the lower chamber 111 and the upper chamber 112. The outer side surface of the upper chamber 112 is formed with a clamping shaft groove 112a into which the clamping shaft 121 to be described later is inserted, and a rotating shaft groove 112b into which the rotating shaft 151 to be described later is inserted.

상부챔버(112)의 측방에는 클램핑축홈(112a)에 대응되고 상부챔버(112)로부터 이격되는 제 1클램핑유닛(120)이 배치된다. 제 1클램핑유닛(120)은 클램핑축(121)이 상부챔버(112)의 평면 방향(이하, 'x축 방향'이라 함.)으로 직선운동되는 유/공압실린더 또는 볼스크류, 회전모터의 조합으로 이루어지는 리니어액츄에이터를 사용할 수 있다. The first clamping unit 120 corresponding to the clamping shaft groove 112a and spaced apart from the upper chamber 112 is disposed at the side of the upper chamber 112. The first clamping unit 120 is a combination of a hydraulic / pneumatic cylinder or ball screw, rotary motor in which the clamping shaft 121 is linearly moved in the plane direction of the upper chamber 112 (hereinafter referred to as the 'x-axis direction') It is possible to use a linear actuator consisting of.

제 1클램핑유닛(120)은 상부챔버(112)를 향해 클램핑축(121)을 출몰시켜 클램핑축(121)이 클램핑축홈(112a)에 착탈되도록 한다. 따라서, 제 1클램핑유닛(120)은 상부챔버(112)의 승강, 또는 상부챔버(112)의 이송 등과 같은 상부챔버(112)의 핸들링을 필요로 할 때, 상부챔버(112)가 원활하게 핸들링될 수 있도록 상부챔버(112)를 클램핑한다.The first clamping unit 120 protrudes the clamping shaft 121 toward the upper chamber 112 so that the clamping shaft 121 is detached from the clamping shaft groove 112a. Therefore, when the first clamping unit 120 requires handling of the upper chamber 112, such as lifting or lowering the upper chamber 112, or transporting the upper chamber 112, the upper chamber 112 is smoothly handled. The upper chamber 112 is clamped so as to be possible.

이와 같이 제 1클램핑유닛(120)은 상부챔버(112)를 클램핑하되, 상부챔버(112)의 하중이 상부챔버(112)의 측방으로 분산될 수 있도록 상부챔버(112)의 측방에서 상부챔버(112)를 가압하여 상부챔버(112)를 클램핑하므로, 상부챔버(112)를 견고하고 안정적으로 지지할 수 있다. As such, the first clamping unit 120 clamps the upper chamber 112, but the upper chamber 112 is disposed on the side of the upper chamber 112 so that the load of the upper chamber 112 can be distributed to the side of the upper chamber 112. Since the upper chamber 112 is clamped by pressing 112, the upper chamber 112 may be firmly and stably supported.

이러한 제 1클램핑유닛(120)은 승강유닛(130)에 지지된다. 승강유닛(130)은 승강축(131)이 상부챔버(112)의 평면에 교차하는 방향(이하, 'z축 방향' 이라 함.)으로 직선운동되는 유/공압실린더 또는 볼스크류, 회전모터의 조합으로 이루어지는 리니어액츄에이터를 사용할 수 있다. 승강유닛(130)은 제 1클램핑유닛(120)에 의해 클램핑되는 상부챔버(112)가 승강되도록 한다. The first clamping unit 120 is supported by the lifting unit 130. The elevating unit 130 includes a hydraulic / pneumatic cylinder or ball screw, which rotates linearly in a direction in which the elevating shaft 131 intersects the plane of the upper chamber 112 (hereinafter, referred to as a 'z-axis direction'). Combination linear actuators can be used. The elevating unit 130 allows the upper chamber 112 clamped by the first clamping unit 120 to be elevated.

이러한 승강유닛(130)은 이송유닛(140)에 지지된다. 이송유닛(140)은 공정챔버(110)로부터 x축 방향에 교차하는 방향(이하, 'y축 방향'이라 함.)으로 연장되는 이송레일(141)과, 승강유닛(130)을 지지하여 이송레일(141)을 따라 이송되는 이송블럭(142)을 포함한다. The lifting unit 130 is supported by the transfer unit 140. The transfer unit 140 supports and moves the transfer rail 141 and the lifting unit 130 extending from the process chamber 110 in a direction crossing the x-axis direction (hereinafter, referred to as a 'y-axis direction'). It includes a transport block 142 is transported along the rail 141.

이송유닛(140)은 제 1클램핑유닛(120)에 클램핑되고 승강유닛(130)에 의해 하부챔버(111)로부터 상승된 상부챔버(112)를 y축 방향으로 이송하여 상부챔버(112)가 하부챔버(111)의 상측으로부터 이탈되도록 한다. 또한, 이송유닛(140)은 하부챔버(111)로부터 이탈된 상부챔버(112)를 y축 방향으로 이송하여 상부챔버(112)가 하부챔버(111)의 상측에 위치하도록 한다. The transfer unit 140 is clamped to the first clamping unit 120 and the upper chamber 112 is transferred in the y-axis direction by being lifted from the lower chamber 111 by the lifting unit 130 so that the upper chamber 112 is lowered. It is to be separated from the upper side of the chamber 111. In addition, the transfer unit 140 transfers the upper chamber 112 separated from the lower chamber 111 in the y-axis direction so that the upper chamber 112 is positioned above the lower chamber 111.

한편, 공정챔버(110)로부터 연장되는 이송레일(141)의 경로에는 반전부(170)가 배치된다. 반전부(170)는 회전유닛(150)과 제 2클램핑유닛(160)을 포함한다. On the other hand, the inverting portion 170 is disposed in the path of the transfer rail 141 extending from the process chamber 110. The inverting unit 170 includes a rotation unit 150 and a second clamping unit 160.

회전유닛(150)은 회전축(151), 회전모터의 조합 또는 회전축(151), 유/공압실린더, 유/공압실린더의 직선운동을 회전운동으로 변환시켜 회전축(151)을 회전시키는 동력전달장치의 조합으로 이루어질 수 있다. 회전유닛(150)은 상부챔버(112)의 이송에 간섭되지 않도록 이송레일(141)의 내측에 위치하되, 제 1클램핑유닛(120)의 하측에 배치된다. The rotary unit 150 converts the linear motion of the rotary shaft 151, the combination of the rotary motor or the rotary shaft 151, the oil / pneumatic cylinder, the oil / pneumatic cylinder into a rotary motion to rotate the rotary shaft 151. It can be made in combination. The rotary unit 150 is located inside the transfer rail 141 so as not to interfere with the transfer of the upper chamber 112, but is disposed below the first clamping unit 120.

제 2클램핑유닛(160)은 회전유닛(150)을 지지한다. 제 2클램핑유닛(160)은 x축 방향으로 배치되는 클램핑레일(161)과 회전유닛(150)을 지지하고 클램핑레일(161)을 따라 이송되는 클램핑블럭(162)을 포함한다. 제 2클램핑유닛(160)은 회전유닛(150)을 x축 방향으로 이송하여 회전축(151)이 클램핑축홈(112a)에 착탈될 수 있도록 한다.
The second clamping unit 160 supports the rotating unit 150. The second clamping unit 160 includes a clamping rail 161 disposed in the x-axis direction and a clamping block 162 that supports the rotation unit 150 and is transported along the clamping rail 161. The second clamping unit 160 transfers the rotation unit 150 in the x-axis direction so that the rotation shaft 151 can be attached to and detached from the clamping shaft groove 112a.

이하, 본 실시예에 따른 공정챔버의 유지유지방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. Hereinafter, a method of maintaining the process chamber according to the present embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 기판은 공정챔버(110)의 내부로 반입되며, 공정챔버(110)의 내부에는 기판에 대한 소정의 처리, 예를 들어 기판에 박막을 증착하는 처리, 기판을 식각하는 처리 등이 이루어진다. 기판에 대한 처리가 완료되면, 기판이 공정챔버(110)의 외부로 반출될 수 있도록 공정챔버(110)는 개방된다.First, the substrate is carried into the process chamber 110, and a predetermined process for the substrate, for example, a process of depositing a thin film on the substrate, a process of etching the substrate, and the like is performed in the process chamber 110. When the processing on the substrate is completed, the process chamber 110 is opened so that the substrate can be carried out of the process chamber 110.

도 4는 본 실시예에 따른 공정챔버 유지유지방법을 나타낸 순서도이며, 도 5는 본 실시예에 따른 기판처리장치에서 상부챔버가 상승되는 상태를 나타낸 사시도이다. 4 is a flowchart illustrating a process chamber holding and holding method according to the present embodiment, and FIG. 5 is a perspective view showing a state in which the upper chamber is raised in the substrate treating apparatus according to the present embodiment.

도 4 및 도 5를 참조하면, 제 1클램핑유닛(120)은 클램핑축(121)을 x축 방향으로 전진시킨다. 클램핑축(121)이 x축 방향으로 전진됨에 따라 클램핑축(121)은 클램핑축홈(112a)에 삽입된다. 4 and 5, the first clamping unit 120 advances the clamping shaft 121 in the x-axis direction. As the clamping shaft 121 is advanced in the x-axis direction, the clamping shaft 121 is inserted into the clamping shaft groove 112a.

이와 같이, 제 1클램핑유닛(120)은 상부챔버(112)의 외측 횡면을 지지하여 상부챔버(112)를 클램핑한다. 따라서, 상부챔버(112)는 상부면이 지지될 때보다 하중이 측방으로 분산되어 안정적으로 지지될 수 있으며, 지지상태가 견고하게 유지될 수 있다. (단계;S11) As such, the first clamping unit 120 supports the outer side surface of the upper chamber 112 to clamp the upper chamber 112. Therefore, the upper chamber 112 can be stably supported by the load is distributed laterally than when the upper surface is supported, the support state can be maintained firmly. (Step S11)

이어, 상부챔버(112)가 제 1클램핑유닛(120)에 클램핑 된 상태에서, 승강유닛(130)은 제 1클램핑유닛(120)을 z축 방향으로 상승시킨다. 제 1클램핑유닛(120)이 z축 방향으로 상승됨에 따라 클램핑축(121)에 의해 클램핑된 상부챔버(112)는 하부챔버(111)로부터 이격되며 공정챔버(110)가 개방된다. (단계;S13) Subsequently, in the state where the upper chamber 112 is clamped to the first clamping unit 120, the lifting unit 130 raises the first clamping unit 120 in the z-axis direction. As the first clamping unit 120 is raised in the z-axis direction, the upper chamber 112 clamped by the clamping shaft 121 is spaced apart from the lower chamber 111, and the process chamber 110 is opened. (Step; S13)

공정챔버(110)가 개방되면, 공정챔버(110)의 외부로부터 별도의 이송장치(미도시)가 공정챔버(110)의 내부로 반입되고, 기판은 이송장치(미도시)에 의해 공정챔버(110)의 외부로 반출된다.When the process chamber 110 is opened, a separate transfer device (not shown) is brought into the process chamber 110 from the outside of the process chamber 110, and the substrate is processed by the transfer device (not shown). It is taken out of 110).

이와 같이 처리가 완료된 기판이 공정챔버(110)의 외부로 반출되면, 다른 기판이 공정챔버(110)의 내부로 반입되어 다른 기판에 대한 처리를 수행할 수 있다.When the substrate having been processed as described above is carried out of the process chamber 110, another substrate may be loaded into the process chamber 110 to process the other substrate.

한편, 처리가 완료된 기판이 공정챔버(110)의 외부로 반출된 이후, 또는 다른 기판이 공정챔버(110)의 내부로 반입되기 이전에, 공정챔버(110)의 유지를 위해 상부챔버(112)는 하부챔버(111)로부터 이탈될 수 있다.On the other hand, the upper chamber 112 for the maintenance of the process chamber 110, after the processed substrate is carried out of the process chamber 110, or before another substrate is brought into the process chamber 110, May be separated from the lower chamber 111.

도 6은 본 실시예에 따른 기판처리장치에서 상부챔버가 반전부로 이송되는 상태를 나타낸 사시도이다.6 is a perspective view showing a state in which the upper chamber is transferred to the inversion unit in the substrate processing apparatus according to the present embodiment.

도 4 및 도 6을 참조하면, 상부챔버(112)가 하부챔버(111)로부터 상승된 상태에서, 이송유닛(140)은 승강유닛(130)을 반전부(170)를 향해 전진시킨다. 이때, 회전유닛(150)은 제 2클램핑유닛(160)에 지지되어 제 1클램핑유닛(120)의 내측에 위치하고 제 1클램핑유닛(120)의 하측에 위치한다. 따라서, 상부챔버(112)는 회전유닛(150) 및 제 2클램핑유닛(160)에 간섭되지 않고 원활하게 반전부(170)로 이송될 수 있다. (단계;S15)4 and 6, in a state where the upper chamber 112 is raised from the lower chamber 111, the transfer unit 140 advances the lifting unit 130 toward the inverting unit 170. In this case, the rotation unit 150 is supported by the second clamping unit 160 and positioned inside the first clamping unit 120 and positioned below the first clamping unit 120. Therefore, the upper chamber 112 may be smoothly transferred to the inverting unit 170 without interfering with the rotating unit 150 and the second clamping unit 160. (Step S15)

이와 같이 상부챔버(112)는 반전부(170)로 이송되고, 하부챔버(111)는 완전히 개방된다. 따라서 공정챔버(110) 중 하부챔버(111)와, 하부챔버(111)의 내부에 설치되는 설비들, 예를 들어 기판지지대, 진공배관 등에 대한 검사, 관리, 보수가 원활하게 수행될 수 있다.As such, the upper chamber 112 is transferred to the inverting unit 170, and the lower chamber 111 is completely opened. Therefore, inspection, management, and repair of the lower chamber 111 and the facilities installed in the lower chamber 111 of the process chamber 110, for example, a substrate support, a vacuum pipe, and the like may be smoothly performed.

한편, 반전부(170)로 이송된 상부챔버(112)와, 상부챔버(112)의 내부에 설치되는 설비들, 예를 들어 샤워헤드, 진공배관 등에 대한 검사, 관리, 보수를 원활하게 하기 위해서, 상부챔버(112)는 상부를 향해 개방되도록 반전될 수 있다. On the other hand, in order to facilitate the inspection, management, and repair of the upper chamber 112 and the facilities installed in the upper chamber 112, for example, a shower head, a vacuum pipe, and the like transferred to the inverting unit 170. The upper chamber 112 may be reversed to open toward the top.

도 7은 본 실시예에 따른 기판처리장치에서 회전유닛이 상부챔버를 클램핑하는 상태를 나타낸 사시도이며, 도 8은 본 실시예에 따른 기판처리장치에서 상부챔버가 반전되는 상태를 타나낸 사시도이다. 7 is a perspective view showing a state in which a rotating unit clamps the upper chamber in the substrate processing apparatus according to the present embodiment, and FIG. 8 is a perspective view showing a state in which the upper chamber is reversed in the substrate processing apparatus according to the present embodiment.

도 4, 도 7 및 도 8을 참조하면, 승강유닛(130)은 회전축(151)과 회전축홈(112b)이 동축을 이루는 위치로 상부챔버(112)를 하강시킨다. 제 2클램핑유닛(160)은 회전유닛(150)을 x축 방향으로 전진시킨다. 회전축(151)이 x축 방향으로 전진됨에 따라 회전축(151)은 회전축홈(112b)에 삽입된다.4, 7 and 8, the lifting unit 130 lowers the upper chamber 112 to a position where the rotating shaft 151 and the rotating shaft groove 112b are coaxial. The second clamping unit 160 advances the rotating unit 150 in the x-axis direction. As the rotating shaft 151 is advanced in the x-axis direction, the rotating shaft 151 is inserted into the rotating shaft groove 112b.

회전축(151)이 회전축홈(112b)에 삽입되면, 제 1클램핑유닛(120)은 상부챔버(112)가 회전유닛(150)에 의해 회전될 수 있도록 클램핑축(121)을 후진시켜 클램핑축(121)이 클램핑축홈(112a)으로부터 이탈되도록 한다.When the rotary shaft 151 is inserted into the rotary shaft groove 112b, the first clamping unit 120 reverses the clamping shaft 121 so that the upper chamber 112 can be rotated by the rotary unit 150 to clamp the shaft ( 121 is separated from the clamping shaft groove 112a.

이어, 회전유닛(150)은 회전축(151)을 180ㅀ로 회전시킨다. (단계;S19) 이에 따라 상부챔버(112)는 개방면이 상측을 향하는 자세를 취할 수 있다. 따라서 상부챔버(112)와, 상부챔버(112)의 내부에 설치되는 설비들에 대한 검사, 관리, 보수가 원활하게 수행될 수 있다.Subsequently, the rotation unit 150 rotates the rotation shaft 151 to 180 °. (Step; S19) Accordingly, the upper chamber 112 may have a posture in which the open surface faces upward. Therefore, inspection, management, and repair of the upper chamber 112 and the facilities installed inside the upper chamber 112 can be performed smoothly.

계속해서, 상부챔버(112) 및 하부챔버(111)에 대한 검사, 관리, 보수 등이 완료되면 회전유닛(150)은 상부챔버(112)를 회전시켜 상부챔버(112)의 개방면이 하측을 향하도록 한다.Subsequently, when the inspection, management, and maintenance of the upper chamber 112 and the lower chamber 111 are completed, the rotating unit 150 rotates the upper chamber 112 so that the open surface of the upper chamber 112 is lowered. To face.

제 1클램핑유닛(120)은 클램핑축(121)을 x축 방향으로 전진시킨다. 클램핑축(121)이 x축 방향으로 전진됨에 따라 클램핑축(121)은 클램핑축홈(112a)에 삽입된다. 이와 같이 상부챔버(112)가 제 1클램핑유닛(120)에 클램핑 된 상태에서, 제 2클램핑유닛(160)은 회전축홈(112b)으로부터 회전축(151)이 이탈되도록 회전유닛(150)을 후진시킨다. The first clamping unit 120 advances the clamping shaft 121 in the x-axis direction. As the clamping shaft 121 is advanced in the x-axis direction, the clamping shaft 121 is inserted into the clamping shaft groove 112a. As described above, in the state where the upper chamber 112 is clamped to the first clamping unit 120, the second clamping unit 160 reverses the rotating unit 150 so that the rotating shaft 151 is separated from the rotating shaft groove 112b. .

승강유닛(130)은 상부챔버(112)가 하부챔버(111)보다 높이 위치하도록 제 1클램핑유닛(120)을 z축 방향으로 상승시킨다. The lifting unit 130 raises the first clamping unit 120 in the z-axis direction so that the upper chamber 112 is positioned higher than the lower chamber 111.

상부챔버(112)가 하부챔버(111)로부터 상승된 상태에서, 이송유닛(140)은 승강유닛(130)을 하부챔버(111)를 향해 후진시킨다. 상부챔버(112)가 후진됨에 따라 상부챔버(112)는 하부챔버(111)의 상측에 위치한다. In a state where the upper chamber 112 is raised from the lower chamber 111, the transfer unit 140 moves the lifting unit 130 toward the lower chamber 111. As the upper chamber 112 is retracted, the upper chamber 112 is positioned above the lower chamber 111.

상술한 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판처리장치(100)는 상부챔버(112)의 외측 횡면을 지지하여 상부챔버(112)를 안정적으로 클램핑하여 핸들링할 수 있으며, 상부챔버(112)를 하부챔버(111)로부터 이탈시키고 상부챔버(112)의 개방면을 상측을 향하도록 반전시켜 공정챔버(110) 및 공정챔버(110) 내부에 설치되는 설비들에 대한 검사, 관리, 보수를 원활하게 할 수 있도록 한다.
As described above, the substrate processing apparatus 100 according to the present embodiment may support the outer side surface of the upper chamber 112 to stably clamp the upper chamber 112 to handle the upper chamber 112. Detach from the chamber 111 and reverse the open surface of the upper chamber 112 to the upper side to facilitate the inspection, management, and repair of the equipment installed in the process chamber 110 and the process chamber 110. To help.

100 : 기판처리장치 110 : 공정챔버
111 : 하부챔버 112 : 상부챔버
112a : 클램핑축홈 112b : 회전축홈
120 : 제 1클램핑유닛 121 : 클램핑축
130 : 승강유닛 140 : 이송유닛
150 : 회전유닛 151 : 회전축
160 : 제 2클램핑유닛100: substrate processing apparatus 110: process chamber
111: lower chamber 112: upper chamber
112a: clamping shaft groove 112b: rotating shaft groove
120: first clamping unit 121: clamping shaft
130: lifting unit 140: transfer unit
150: rotation unit 151: rotation axis
160: second clamping unit

Claims (8)

상부챔버와 하부챔버로 분리되어 내부에 기판을 지지하는 공정챔버와,
상기 상부챔버의 평면 방향으로 출몰되는 클램핑축에 의해 상기 상부챔버를 클램핑하는 제 1클램핑유닛과,
상기 제 1클램핑유닛을 지지하고 상기 제 1클램핑유닛을 승강시키는 승강유닛과,
상기 승강유닛을 지지하고 상기 승강유닛을 상기 상부챔버의 평면 방향으로 이송하는 이송유닛과,
상기 이송유닛에 의해 상기 상부챔버가 이송되는 측에 배치되고, 상기 상부챔버에 착탈되는 회전축을 포함하여 상기 상부챔버를 회전시키는 회전유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. A process chamber separated into an upper chamber and a lower chamber to support a substrate therein;
A first clamping unit for clamping the upper chamber by a clamping shaft projected in a planar direction of the upper chamber;
An elevating unit supporting the first clamping unit and elevating the first clamping unit;
A transfer unit supporting the lifting unit and transferring the lifting unit in a planar direction of the upper chamber;
And a rotation unit disposed on the side to which the upper chamber is transferred by the transfer unit and rotating the upper chamber including a rotating shaft detachable from the upper chamber. 제 1항에 있어서, 상기 상부챔버의 외측 횡면에는
상기 클램핑축이 착탈되는 클램핑축홈과,
상기 회전축이 착탈되는 회전축홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. According to claim 1, wherein the outer side surface of the upper chamber
A clamping shaft groove in which the clamping shaft is detachable;
Substrate processing apparatus, characterized in that the rotating shaft groove is formed is detachable the rotating shaft. 제 1항에 있어서, 상기 이송유닛은
상기 하부챔버의 측방에 배치되어 상기 상부챔버의 평면 방향으로 연장되는 이송레일과,
상기 승강유닛을 지지하고 상기 이송레일을 따라 이송되는 이송블럭을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. The method of claim 1, wherein the transfer unit
A transfer rail disposed at a side of the lower chamber and extending in a plane direction of the upper chamber;
And a transport block supporting the lift unit and transported along the transport rail. 제 3항에 있어서, 상기 회전유닛은
상기 이송레일을 따라 이송되는 상기 상부챔버와 상기 제 1클램핑유닛의 사이에 위치하고, 상기 제 1클램핑유닛보다 낮게 배치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 3, wherein the rotating unit
The substrate processing apparatus of claim 1, wherein the substrate is disposed between the upper chamber and the first clamping unit to be transported along the transfer rail, and disposed lower than the first clamping unit. 제 4항에 있어서,
상기 회전유닛을 지지하며, 상기 회전유닛을 상기 이송레일에 교차하는 방향으로 직선이송하여 상기 회전축이 상기 상부챔버에 착탈되도록 하는 제 2클램핑유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. 5. The method of claim 4,
And a second clamping unit which supports the rotating unit and moves the rotating unit linearly in a direction crossing the transfer rail to allow the rotating shaft to be attached to and detached from the upper chamber. 제 4항에 있어서, 상기 제 2클램핑유닛은
상기 이송레일에 교차하는 방향으로 배치되는 클램핑레일과,
상기 회전유닛을 지지하고 상기 클램핑레일을 따라 이송되는 클램핑블럭을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치. The method of claim 4, wherein the second clamping unit
A clamping rail disposed in a direction crossing the transfer rail;
And a clamping block supporting the rotating unit and being transported along the clamping rail. 하부챔버의 상부에 배치되는 상부챔버의 외측 횡면을 향해 클램핑축이 전진되어 상기 상부챔버가 클램핑되는 제 1클램핑 단계와,
상기 상부챔버가 상승되는 상승단계와,
상기 상부챔버가 상기 상부챔버의 평면 방향으로 이송되어 상기 상부챔버가 상기 하부챔버로부터 이탈되는 이송단계와,
상기 상부챔버를 향해 회전축이 전진되고 상기 클램핑축이 후진되어 상기 상부챔버가 상기 회전축에 의해 지지되는 제 2클램핑 단계와,
상기 상부챔버의 개방면이 상측을 향하도록 상기 상부챔버가 회전되는 반전단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정챔버의 유지보수방법. A first clamping step in which the clamping shaft is advanced toward an outer transverse surface of the upper chamber disposed above the lower chamber to clamp the upper chamber;
An ascending step of raising the upper chamber;
A transfer step in which the upper chamber is conveyed in the planar direction of the upper chamber so that the upper chamber is separated from the lower chamber;
A second clamping step in which the rotating shaft is advanced toward the upper chamber and the clamping shaft is backward so that the upper chamber is supported by the rotating shaft;
And a reversal step of rotating the upper chamber so that the open surface of the upper chamber faces upward. 제 7항에 있어서,
상기 회전축은 상기 상부챔버의 이송에 간섭되지 않도록 상기 상부챔버의 이송경로보다 낮은위치에 배치되며,
상기 이송단계와 상기 반전단계의 사이에,
상기 상부챔버가 상기 회전축의 전방에 위치하도록 상기 상부챔버가 하강되는 하강단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공정챔버의 유지보수방법.8. The method of claim 7,
The rotating shaft is disposed at a position lower than the transfer path of the upper chamber so as not to interfere with the transfer of the upper chamber,
Between the transfer step and the inversion step,
And a lowering step of lowering the upper chamber so that the upper chamber is located in front of the rotation shaft.
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