KR101207245B1 - Discharge apparatus and discharge method - Google Patents
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Abstract
과제
2 개의 레일을 따라 기판을 이동하는 기판 이동부의 수평면 상에서의 회전 방향의 기울기를 검출하여 보정할 수 있도록 구성된 토출 장치 및 토출 방법을 제공한다.
해결 수단
본 발명의 토출 장치 (10) 는, 제 1, 제 2 주간섭 장치 (62a, 62b) 와, 제 1, 제 2 주경 장치 (61a, 61b) 를 갖고, 기판 이동부 (20) 의 수평면 상에서의 회전 방향의 기울기를 측정할 수 있도록 구성되어 있다. 기판 이동부 (20) 의 이동 중, 그 측정 결과로부터 2 개의 레일 상의 이동량을 각각 제어하여, 상기 기울기를 이동 개시 전과 동일하게 한다. 토출 장치 (10) 는 제 1, 제 2 부간섭 장치 (62c, 62d) 와, 부경 장치 (61c) 를 갖고, 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치를 측정할 수 있도록 구성되어 있다. 기판 이동부 (20) 의 이동 중, 그 측정 결과로부터 헤드 (32) 의 이동을 제어하여, 헤드 (32) 와 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 상대 위치 관계를 이동 개시 전과 동일하게 함으로써, 토출구 (35) 로부터 토출되는 토출액을 기판 (50) 상의 각 착탄 위치에 착탄시킬 수 있다. assignment
Provided are a discharge apparatus and a discharge method configured to detect and correct an inclination of a rotation direction on a horizontal plane of a substrate moving portion moving a substrate along two rails.
Solution
The discharge apparatus 10 of this invention has the 1st, 2nd coarse interference apparatus 62a, 62b, and the 1st, 2nd peripheral diameter devices 61a, 61b, and has it on the horizontal surface of the board | substrate moving part 20. FIG. It is configured to measure the inclination of the rotation direction. During the movement of the substrate moving part 20, the amount of movement on the two rails is controlled from the measurement result, respectively, to make the inclination the same as before the start of the movement. The discharge apparatus 10 has the 1st, 2nd subinterference apparatus 62c, 62d, and the sub diameter apparatus 61c, and is comprised so that the position of the board | substrate moving part 20 in the x-axis direction can be measured. During the movement of the substrate moving part 20, by controlling the movement of the head 32 from the measurement result, the relative positional relationship between the head 32 and the substrate moving part 20 in the x-axis direction is the same as before the start of the movement. The discharge liquid discharged from the discharge port 35 can be impacted at each impact position on the substrate 50.
Description
본 발명은 토출 장치 및 토출 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a discharge device and a discharge method.
최근 정보화 사회의 신장에 수반되어, 더욱 대형의 액정 표시 장치의 수요가 높아져, 그 생산성의 향상이 요망되고 있다. 컬러 액정 표시 장치에서는, 표시 화상을 컬러화하기 위해서 컬러 필터를 사용하고 있다. 컬러 필터는 기판 상의 소정 영역에, R (빨강), G (초록), B (파랑) 의 3 색의 잉크를 소정 패턴으로 배치함으로써 제조된다. 잉크의 토출에는 잉크젯 방식이 많이 채용되고 있다. In recent years, with the growth of the information society, the demand for larger liquid crystal display devices has increased, and the improvement of the productivity is desired. In the color liquid crystal display device, a color filter is used to colorize the display image. The color filter is manufactured by arranging three colors of ink of R (red), G (green), and B (blue) in a predetermined pattern on a predetermined region on the substrate. Many inkjet methods are employed for ejecting ink.
종래, 많은 토출 장치는 기준면에 대해 정지된 받침대와, 받침대 상을 제 1 방향으로 이동할 수 있는 기판 이동부와, 상기 제 1 방향과 수직이고 기준면과 평행한 제 2 방향으로 이동할 수 있는 헤드 유지부를 갖고 있다. Conventionally, many ejection apparatuses have a pedestal that is stationary relative to a reference plane, a substrate moving part that can move on the pedestal in a first direction, and a head retainer that can move in a second direction perpendicular to the first direction and parallel to the reference plane. Have
특허문헌 1 에 기재된 장치에서는, 헤드 유지부를 기판 상을 주사하도록 왕복 이동시켜 잉크를 토출시키는 헤드 이동 방식을 채용하고 있다. 헤드 이동 방식으로는, 기판의 대형화에 비례하여 잉크의 토출에 긴 시간이 걸리고, 또 얼룩이 없이 소정 간격으로 잉크를 착탄시키는 데에는 헤드의 제어가 어렵다는 문제가 있었다. In the apparatus described in Patent Literature 1, a head moving system that discharges ink by reciprocating the head holding unit so as to scan the substrate is employed. In the head movement system, there is a problem that it takes a long time to eject ink in proportion to the size of the substrate, and that the head control is difficult to reach the ink at predetermined intervals without spots.
헤드 이동 방식에 대해, 받침대에 대해 정지된 헤드 유지부가 복수의 토출구를 갖고, 그 아래를 통과하는 기판에 잉크를 토출시키는 헤드 거치 방식은, 상기 과제를 해결하였다. With respect to the head movement method, the head mounting method in which the head holding portion stopped relative to the pedestal has a plurality of discharge ports and discharges ink to the substrate passing therethrough has solved the above problems.
단, 헤드 거치 방식으로는, 기판 상의 각 착탄 위치에 토출구로부터 잉크를 토출시키기 위해서는, 기판과 헤드를 정확하게 위치 맞춤하는 작업이 필요하다. However, in the head mounting method, in order to discharge ink from the discharge port to each of the impact positions on the substrate, an operation of accurately positioning the substrate and the head is necessary.
기판의 대형화에 따라 기판 이동부의 이동의 제어가 어려워져, 기판을 헤드의 하방으로 진입시키기 전에 기판과 헤드의 위치 맞춤을 해도, 위치 맞춤 위치로부터 토출 위치까지 상기 제 1 방향으로 이동시키는 동안에, 기판 이동부의 방향으로 각 레일 상에서의 이동량의 차에 의한 기준면과 평행한 회전 방향의 기울기 (기준면과 평행한 면 상에서의 제 1 방향 또는 제 2 방향에 대한 기울기) 가 발생할 우려가 있다. As the size of the substrate increases, it becomes difficult to control the movement of the substrate moving portion, and the substrate is moved from the alignment position to the discharge position in the first direction even when the substrate and the head are aligned before entering the substrate below the head. There is a possibility that the inclination of the rotation direction parallel to the reference plane (the inclination with respect to the first direction or the second direction on the plane parallel to the reference plane) may occur due to the difference in the amount of movement on each rail in the direction of the moving part.
요컨대, 각 착탄 위치에 토출구로부터 잉크를 토출시키기 위해서는, 헤드 아래를 통과시키는 동안에 발생하는 기판 이동부의 상기 기울기를 검출하고, 보정하면서 토출시키는 작업이 필요하다. In short, in order to discharge ink from the discharge port at each impact position, the operation of discharging while detecting and correcting the inclination of the substrate moving portion generated while passing under the head is necessary.
본 발명은 상기 종래 기술의 문제를 해결하기 위해 창작된 것으로서, 그 목적은, 헤드의 하방을 통과하는 기판으로 토출액을 토출시키는 중에, 이동에 수반되어 발생하는 기판 이동부의 기준면과 평행한 회전 방향의 기울기를 레이저를 이용하여 검출하여 보정할 수 있도록 구성된 토출 장치를 제공하는 것에 있다. The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, the object of which is to rotate the direction parallel to the reference plane of the substrate moving portion that occurs with the movement during the discharge of the discharge liquid to the substrate passing through the lower head It is an object of the present invention to provide a discharge device configured to detect and correct an inclination of a laser using a laser.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 토출 장치로서, 기준면에 대해 정지된 받침대와, 상기 받침대 상에 제 1 방향을 따라 배치된 2 개의 레일과, 상기 받침대에 고정되고, 각각 복수의 토출구가 형성된 헤드를 유지하는 헤드 유지부와, 상기 2 개의 레일에 탑재되고, 기판을 배치할 수 있는 기판 이동부와, 상기 기판 이동부를 상기 2 개의 레일을 따라 상기 제 1 방향으로 이동시키고, 상기 헤드 유지부의 아래를 통과할 수 있게 한 레일 상 이동 기구를 갖고, 상기 토출구로부터 상기 기판 이동부 상에 배치된 기판을 향해 토출액을 토출시키고, 상기 토출액의 액적을 상기 기판에 착탄시키는 토출 장치로서, 상기 제 1 방향으로 제 1, 제 2 주측정광을 각각 송광하는 제 1, 제 2 주송광 장치와, 상기 제 1 방향과 수직이고 상기 기준면과 평행한 제 2 방향으로 이간되어 설치되고, 상기 제 1, 제 2 주측정광이 조사되면, 반사하여 제 1, 제 2 주반사광을 반광 (反光) 하는 제 1, 제 2 주경 (主鏡) 장치와, 상기 제 1 주측정광과 상기 제 1 주반사광을 수광하고, 상기 제 1 주측정광과 상기 제 1 주반사광의 제 1 주간섭 결과를 검출하는 제 1 주간섭 장치와, 상기 제 2 주측정광과 상기 제 2 주반사광을 수광하고, 상기 제 2 주측정광과 상기 제 2 주반사광의 제 2 주간섭 결과를 검출하는 제 2 주간섭 장치와, 상기 제 1, 제 2 주간섭 결과로부터, 상기 제 1 주간섭 장치와 상기 제 1 주경 장치 사이의 제 1 주거리와, 상기 제 2 주간섭 장치와 상기 제 2 주경 장치 사이의 제 2 주거리를 각각 구하는 측정 장치와, 상기 측정 장치의 측정 결과가 전송되는 제어 장치를 갖고, 상기 제 1, 제 2 주간섭 장치와, 상기 제 1, 제 2 주경 장치 중 어느 일방의 장치는 상기 기판 이동부에 배치되고, 타방의 장치는 상기 받침대에 대해 정지되고, 상기 제 1, 제 2 주간섭 장치는, 상기 제 1, 제 2 주경 장치와 상기 제 1, 제 2 주송광 장치 사이에 배치되고, 상기 레일 상 이동 기구는, 상기 기판 이동부에 상기 제 1 레일에 대한 제 1 이동력을 인가하는 제 1 이동 기구와, 상기 기판 이동부에 상기 제 2 레일에 대한 제 2 이동력을 인가하는 제 2 이동 기구를 갖고, 상기 제어 장치는, 상기 제 1, 제 2 주거리로부터 상기 제 1, 제 2 이동력의 크기를 결정하도록 구성된 토출 장치이다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, this invention is a discharge apparatus, Comprising: The base which was stopped with respect to the reference plane, Two rails arrange | positioned along the 1st direction on the said base, and It fixed to the said base, respectively, The several discharge opening is formed, A head holding portion for holding a head, a substrate moving portion mounted on the two rails and capable of placing a substrate, and moving the substrate moving portion in the first direction along the two rails, A discharge apparatus having a rail moving mechanism that allows passage below, discharging a discharge liquid from the discharge port toward a substrate disposed on the substrate moving portion, and landing droplets of the discharge liquid on the substrate, wherein A first and a second main transmission device for transmitting the first and second main measurement light in a first direction, respectively, and in a second direction perpendicular to the first direction and parallel to the reference plane; A first and a second main mirror device that reflects and reflects the first and second main reflected light when the first and second main measurement light are irradiated, and the first main A first interference device for receiving measurement light and the first main reflection light and detecting a first interference result of the first main measurement light and the first main reflection light, the second main measurement light and the second measurement light A second interference device which receives main reflection light and detects a second interference result of the second principal measurement light and the second primary reflection light, and from the first and second interference results, the first interference A measuring device for obtaining a first circumferential distance between the device and the first circumferential device, a second circumferential distance between the second circumferential device and the second circumferential device, and a control in which the measurement result of the measuring device is transmitted Having a device, any one of said 1st, 2nd intercepting device, and said 1st, 2nd peripheral apparatus The apparatus of the room is disposed in the substrate moving unit, the other apparatus is stopped with respect to the pedestal, and the first and second interfering devices are the first and second peripheral apparatuses and the first and second main light beams. It is arrange | positioned between apparatuses, The said rail moving mechanism is the 1st moving mechanism which applies a 1st moving force with respect to the said 1st rail to the said board | substrate moving part, and the 2nd with respect to the said 2nd rail to the said board moving part. It has a 2nd moving mechanism which applies a moving force, and the said control apparatus is a discharge apparatus comprised so that the magnitude | size of the said 1st, 2nd movement force may be determined from the said 1st, 2nd main distance.
본 발명은 토출 장치로서, 상기 제어 장치는, 상기 제 1, 제 2 주거리의 차의 설정된 값에 기초하여, 상기 제 1, 제 2 이동 기구를 제어하여, 상기 기판 이동부를 상기 2 개의 레일을 따라 이동시키도록 구성된 토출 장치이다. This invention is a discharge apparatus, The said control apparatus controls the said 1st, 2nd moving mechanism based on the set value of the difference of the said 1st, 2nd main distance, and makes the said board | substrate moving part move the two rails. It is a discharge device configured to move along.
본 발명은 토출 장치로서, 상기 헤드를 상기 제 2 방향으로 이동할 수 있게 한 헤드 이동 기구와, 상기 제 2 방향으로 제 1 부측정광을 송광하는 제 1 부송광 장치와, 상기 제 1 부측정광이 조사되면, 반사하여 제 1 부반사광을 반광하는 부경 (副鏡) 장치와, 상기 제 1 부측정광과 상기 제 1 부반사광을 수광하고, 상기 제 1 부측정광과 상기 제 1 부반사광의 간섭 결과를 검출하는 제 1 부간섭 장치와, 상기 제 1 부간섭 결과로부터, 상기 부경 장치와 상기 제 1 부간섭 장치 사이의 거리를 구하는 측정 장치를 갖고, 상기 제 1 부간섭 장치와, 상기 부경 장치 중 어느 일방의 장치는 상기 기판 이동부의 이동 방향 (상기 제 1 방향) 과 평행한 측면에 배치되고, 타방의 장치는 상기 받침대에 대해 정지되고, 상기 제어 장치는, 상기 부경 장치와 상기 제 1 부간섭 장치 사이의 거리로부터 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 구하고, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치와 상기 헤드의 상기 제 2 방향의 위치의 차로부터, 상기 헤드 이동 기구가 상기 헤드를 이동하는 이동량을 결정하도록 구성된 토출 장치이다. The present invention provides a discharge device, comprising: a head moving mechanism that enables the head to move in the second direction, a first sub-light transmitting device that transmits a first sub-measuring light in the second direction, and the first sub-measuring light When the light is irradiated, the sub-diameter device reflects and reflects the first sub-reflected light, the first sub-measured light and the first sub-reflected light, and receives the first sub-measured light and the first sub-reflected light. And a first subinterference device for detecting an interference result, and a measurement device for obtaining a distance between the sub-scope device and the first sub-interference device from the first sub-interference device. Any one of the devices is disposed on a side surface parallel to the moving direction (the first direction) of the substrate moving part, the other device is stopped with respect to the pedestal, and the control device includes the secondary diameter device and the first device. Interference Device Corp The head moving mechanism moves the head from the difference between the position of the substrate moving part in the second direction and the position of the substrate moving part in the second direction and the position of the head in the second direction. It is a discharge device configured to determine the amount of movement.
본 발명은 토출 장치로서, 상기 헤드를 상기 제 2 방향으로 이동할 수 있게 한 헤드 이동 기구와, 제 1, 제 2 부측정광을 송광하는 제 1, 제 2 부송광 장치와, 상기 제 1, 제 2 부측정광이 조사되면, 반사하여 제 1, 제 2 부반사광을 반광하는 부경 장치와, 상기 제 1, 제 2 부측정광과 상기 제 1, 제 2 부반사광을 수광하고, 상기 제 1, 제 2 부측정광과 상기 제 1, 제 2 부반사광의 간섭 결과를 검출하는 제 1, 제 2 부간섭 장치와, 상기 제 1, 제 2 부간섭 결과로부터, 상기 부경 장치와 상기 제 1, 제 2 부간섭 장치 사이의 거리를 구하는 측정 장치를 갖고, 상기 제 1, 제 2 부간섭 장치와, 상기 부경 장치 중 어느 일방의 장치는 상기 기판 이동부에 배치되고, 타방의 장치는 상기 받침대에 대해 정지되고, 상기 제어 장치는, 상기 부경 장치와 상기 제 1 부간섭 장치 사이의 거리와, 상기 부경 장치와 상기 제 2 부간섭 장치 사이의 거리 중 어느 일방 또는 양방으로부터 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 구하고, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치와 상기 헤드의 상기 제 2 방향의 위치의 차로부터, 상기 헤드 이동 기구가 상기 헤드를 이동하는 이동량을 결정하도록 구성된 토출 장치이다. The present invention provides a discharge device, comprising: a head moving mechanism that allows the head to move in the second direction, first and second sub-light transmitting devices that transmit first and second sub-measuring light, and the first and second parts. When the second sub-measuring light is irradiated, the sub-diameter apparatus reflects and reflects the first and second sub-reflection light, and receives the first and second sub-measurement light and the first and second sub-reflection light. First and second sub-interference devices for detecting the interference results of the second sub-measuring light and the first and second sub-reflection light, and the sub-scope device and the first and second sub-interferences from the first and second sub-interference results. It has a measuring apparatus which calculates the distance between two sub interference devices, The said 1st, 2nd interference device, and either one of the said sub-diameter devices are arrange | positioned at the said board | substrate moving part, and the other apparatus is with respect to the said base | board Stop, and the control device is connected between the secondary diameter device and the first secondary interference device. And a position in the second direction of the substrate moving part from any one or both of the distance between the sub-diameter device and the second sub-interference device, and the position of the substrate moving part in the second direction and the head of the head. From the difference of the position in two directions, it is a discharge apparatus comprised so that the said head movement mechanism may determine the movement amount which moves the said head.
본 발명은 토출 장치로서, 상기 제어 장치는, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치와 상기 헤드의 상기 제 2 방향의 위치의 차의 설정된 값에 기초하여, 상기 헤드 이동 기구를 제어하여, 상기 기판 이동부를 상기 2 개의 레일을 따라 이동시키도록 구성된 토출 장치이다. This invention is a discharge apparatus, The said control apparatus controls the said head moving mechanism based on the set value of the difference of the position of the said 2nd direction of the said board | substrate moving part, and the position of the said 2nd direction of the head, And a discharge device configured to move the substrate moving portion along the two rails.
본 발명은 수평인 받침대 상의 헤드를 사이에 끼우고 서로 반대측에 위치하는 시점 (始點) 과 종점 (終點) 사이를, 상기 시점으로부터 상기 종점으로 2 개의 레일을 따라 제 1 방향으로 이동하는 기판 이동부 상에 기판을 탑재하고, 상기 기판 이동부를 상기 종점을 향해 이동시키고, 상기 기판이 상기 헤드의 하방을 통과하는 동안에, 토출구로부터 상기 기판에 토출액을 토출시키고, 상기 기판 이동부가 상기 종점에 도착한 후, 상기 기판을 건조시키고, 상기 기판 이동부 상으로부터 상기 기판을 떼어내는 토출 방법으로서, 상기 기판 이동부의 이동 전에, 상기 기판 이동부의 기준면과 평행한 면 상에서의 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향에 대한 기울기를 측정해 두고, 상기 기판 이동부의 이동 중에, 상기 기판 이동부의 상기 기울기를 측정하고, 상기 기판 이동부의 상기 기울기의 이동 중에 발생한 오차를 제로가 되도록 상기 2 개의 레일 상의 각 이동량을 각각 바꾸어, 상기 기판 이동부의 상기 기울기를 이동 전의 상기 기울기와 동일하게 하면서 상기 기판을 상기 헤드의 하방을 통과시키는 토출 방법이다. The present invention relates to a substrate movement between a start point and an end point positioned on opposite sides with a head on a horizontal pedestal interposed therebetween, moving in a first direction along two rails from the start point to the end point. A substrate is mounted on a portion, the substrate moving portion is moved toward the end point, and while the substrate passes below the head, a discharge liquid is discharged from the discharge port to the substrate, and the substrate moving portion arrives at the end point. Thereafter, the substrate is dried, and the ejection method of removing the substrate from the substrate moving part, wherein the first direction or the second direction on a surface parallel to the reference plane of the substrate moving part before the substrate moving part moves. The inclination of the substrate moving part is measured while the inclination of the substrate moving part is measured. The respective amounts of movement on the two rails are respectively changed so that an error generated during the movement of the inclination of the plate moving part is zero, allowing the substrate to pass under the head while making the inclination of the substrate moving part equal to the inclination before moving. It is a discharge method.
본 발명은 토출 방법으로서, 상기 기판 이동부의 이동 전에, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 측정해 두고, 상기 기판 이동부의 이동 중에, 상기 기판 이동부의 상기 기울기를 이동 개시 전의 상기 기울기와 동일하게 하고 나서, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 측정하고, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치와 상기 헤드의 상기 제 2 방향의 위치의 차가 이동 개시 전과 동일해지도록 상기 헤드를 이동시켜, 상기 기판 이동부와 상기 헤드 사이의 상기 제 2 방향의 상대 위치 관계를 이동 전의 상대 위치 관계와 동일하게 하면서 상기 기판을 상기 헤드의 하방을 통과시키는 토출 방법이다. This invention is a discharge method, Comprising: The position of the said 2nd direction of the said substrate movement part is measured before the movement of the said substrate movement part, During the movement of the said substrate movement part, the said inclination of the said substrate movement part is equal to the said inclination before a movement start. After that, the position of the substrate moving part is measured in the second direction, and the head is moved so that the difference between the position of the substrate moving part in the second direction and the position of the head in the second direction is the same as before the start of the movement. It is a discharge method which makes the said board | substrate pass under the head, making the relative positional relationship of the said 2nd direction between the said substrate moving part and the said head the same as the relative positional relationship before a movement.
본 발명은 토출 방법으로서, 상기 기판 이동부 상에 상기 기판을 탑재하고 나서 상기 기판 이동부를 이동시키고, 상기 기판이 상기 헤드의 하방에 진입하기 전에, 상기 헤드 앞의 위치에서 일단 정지시키고, 상기 기판 상의 각 착탄 위치가 상기 헤드에 형성된 토출구의 바로 아래를 통과하도록 위치 맞춤하는 토출 방법이다. The present invention provides a discharge method, wherein the substrate moving portion is moved after mounting the substrate on the substrate moving portion, and once stopped at a position before the head before the substrate enters the lower side of the head, the substrate It is an ejection method for positioning so that each impact position of an image passes just under the ejection opening formed in the said head.
본 발명은 토출 방법으로서, 상기 기판 이동부와, 상기 받침대 중 어느 일방에, 제 1, 제 2 주측정광이 조사되면 반사하여, 제 1, 제 2 주반사광을 반광하는 제 1, 제 2 주경 장치가 배치되고, 타방에 상기 제 1 주측정광과 상기 제 1 주반사광을 수광하고, 상기 제 1 주측정광과 상기 제 1 주반사광의 제 1 주간섭 결과를 검출하는 제 1 주간섭 장치와, 상기 제 2 주측정광과 상기 제 2 주반사광을 수광하고, 상기 제 2 주측정광과 상기 제 2 주반사광의 제 2 주간섭 결과를 검출하는 제 2 주간섭 장치가 배치되고, 상기 제 1, 제 2 주간섭 결과로부터 상기 제 1, 제 2 주간섭 장치와 상기 제 1, 제 2 주경 장치 사이의 제 1, 제 2 주거리가 구해지고, 상기 제 1, 제 2 주거리로부터 상기 기판 이동부의 상기 기울기를 측정하고, 상기 기 판이동부와 상기 받침대 중 어느 일방에 제 1, 제 2 부측정광이 조사되면 반사하여, 제 1, 제 2 부반사광을 반광하는 부경 장치가 배치되고, 타방에 상기 제 1 부측정광과 상기 제 1 부반사광을 수광하고, 상기 제 1 부측정광과 상기 제 1 부반사광의 상기 제 1 부간섭 결과를 검출하는 제 1 부간섭 장치와, 상기 제 2 부측정광과 제 2 부반사광을 수광하고, 상기 제 2 부측정광과 상기 제 2 부반사광의 제 2 부간섭 결과를 검출하는 제 2 부간섭 장치가 배치되고, 상기 제 1, 제 2 부간섭 결과로부터 상기 제 1, 제 2 부간섭 장치와 상기 부경 장치 사이의 제 1, 제 2 부거리가 구해지고, 상기 제 1, 제 2 부거리 중 어느 일방 또는 양방으로부터 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 측정하는 토출 방법이다. The present invention provides a discharge method, comprising: first and second main mirrors reflecting first and second main reflected light when the first and second main measurement light are irradiated to either one of the substrate moving part and the pedestal. A first collapsing device arranged to receive the first main measuring light and the first main reflecting light, and detecting a first interfering result of the first main measuring light and the first main reflecting light; And a second interference device for receiving the second principal measurement light and the second main reflection light and detecting a second interference result of the second main measurement light and the second main reflection light, wherein the first And first and second principal distances between the first and second peripheral apparatuses and the first and second peripheral apparatuses are obtained from a second intercepting result, and the substrate is moved from the first and second principal distances. The inclination of the part is measured, and one of the substrate moving part and the pedestal is provided. When the 1st and 2nd sub-measuring light is irradiated, the 1st and 2nd sub-reflection light reflects, and the sub-mirror apparatus which reflects the 1st and 2nd sub-reflection light is arrange | positioned, and receives the 1st sub-measuring light and said 1st sub-reflection light on the other hand, and the said 1st A first subinterference device for detecting the first subinterference result of the sub measurement light and the first sub reflection light, the second sub measurement light and the second sub reflection light, and the second sub measurement light and the second sub reflection light A second sub-interference device for detecting a second sub-interference result of the second sub-reflection light is disposed, and the first and second sub-interference devices and the sub-viewer device from the first and second sub-interference results. 2 sub-distances are calculated | required and it is a discharge method which measures the position of the said 2nd direction of the said board | substrate moving part from any one or both of the said 1st, 2nd sub-distances.
2 개의 레일을 따라 기판을 이동하는 기판 이동부의 각 레일 상에서의 이동량의 차에 의한 기준면과 평행한 회전 방향의 기울기를 검출하고, 보정할 수 있기 때문에, 기판으로 잉크를 정확하게 토출할 수 있어 기판 제조의 수율이 향상된다. Since the inclination of the direction of rotation parallel to the reference plane due to the difference in the amount of movement on each rail of the substrate moving part moving the substrate along the two rails can be detected and corrected, it is possible to accurately eject the ink onto the substrate to manufacture the substrate. The yield is improved.
도 1 은 본 발명의 토출 장치의 일례의 측면도이다.
도 2 는 본 발명의 토출 장치의 일례의 평면도이다.
도 3(a) 는 제 1, 제 2 고정 카메라의 화상을 1 개의 평면 좌표에 탑재했을 때의 고정 카메라의 화상의 모식도이다. 도 3(b) 는 제 3, 제 4 고정 카메라의 화상을 1 개의 평면 좌표에 탑재했을 때의 고정 카메라의 화상의 모식도이다.
도 4 는 헤드와 토출구의 배치를 설명하는 도면이다.
도 5 는 복수의 토출구가 지그재그 배열로 나열되어 1 개의 토출구열을 형성 하고 있는 경우의 헤드와 토출구의 배치를 설명하는 도면이다.
도 6 은 토출 장치의 A-A 선 절단 단면도이다.
도 7 은 토출 장치의 B-B 선 절단 단면도이다.
도 8 은 제 1, 제 2 기판을 탑재했을 때의 토출 장치의 평면도이다.1 is a side view of an example of a discharge device of the present invention.
2 is a plan view of an example of a discharge device of the present invention.
FIG.3 (a) is a schematic diagram of the image of the fixed camera at the time of mounting the image of a 1st, 2nd fixed camera in one plane coordinate. FIG.3 (b) is a schematic diagram of the image of the fixed camera when the image of a 3rd, 4th fixed camera is mounted in one plane coordinate.
4 is a view for explaining the arrangement of the head and the discharge port.
FIG. 5 is a view for explaining the arrangement of a head and a discharge port in the case where a plurality of discharge ports are arranged in a zigzag array to form one discharge port row. FIG.
6 is a cross-sectional view taken along the line AA of the discharge device.
7 is a sectional view taken along the line BB of the discharge device.
8 is a plan view of the discharge device when the first and second substrates are mounted.
토출 장치를 RGB (레드·그린·블루) 컬러 필터의 제조에서 사용하는 경우를 일례로 하여 이하에서 설명한다. The case where a discharge apparatus is used in manufacture of an RGB (red green blue) color filter is demonstrated below as an example.
본 발명은 RGB 컬러 필터의 제조에 한정되는 것이 아니라, 예를 들어 EL (전계 발광) 표시 소자나 액정 표시 장치의 제조도 포함된다. This invention is not limited to manufacture of an RGB color filter, For example, manufacture of an EL (electroluminescent) display element and a liquid crystal display device is also included.
<토출 장치의 구조><Structure of Discharge Device>
도 1 은 본 발명에서 사용하는 토출 장치 (10) 의 측면도를 나타내고, 도 2 는 평면도를 나타내고 있다. 1 shows a side view of a
토출 장치 (10) 는 수평인 기준면에 대해 정지된 받침대 (70) 와, 긴 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 과, 기판 이동부 (20) 와, 헤드 유지부 (30) 를 갖고 있다. 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 은 받침대 (70) 상에, 각각의 길이 방향이 서로 평행하게 고정되어 있다. 기판 이동부 (20) 는 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 상에 배치되어 있다. 헤드 유지부 (30) 는 받침대 (70) 에 고정된 지주 (72) 에 지지되고, 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 상의 기판 이동부 (20) 의 높이보다 높은 위치에 고정되어 있다. The
기판 이동부 (20) 는 레일 상 이동 기구 (41) 를 갖고 있다. 레일 상 이동 기구 (41) 는 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 과 기판 이동부 (20) 사이에 배치된다. The
레일 상 이동 기구 (41) 는 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 상에 각각 제 1, 제 2 이동 기구 (48a, 48b) 를 갖고 있다. 제 1, 제 2 이동 기구 (48a, 48b) 는 각각 제어 장치 (92) 로부터 전송되는 신호를 받으면, 기판 이동부 (20) 에 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 에 대한 제 1, 제 2 이동력을 각각 인가하고, 기판 이동부 (20) 를 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 을 따라 이동시킨다.The
제 1, 제 2 이동 기구 (48a, 48b) 에는 예를 들어 리니어 모터가 사용된다. 도 6 은 레일 상 이동 기구 (41) 의 구조의 일례를 설명하는 토출 장치 (10) 의 A-A 선 절단 단면도를 나타내고 있다. 제 1, 제 2 이동 기구 (48a, 48b) 는 각각, 제 1, 제 2 가동 전자석 (45a, 45b) 과 복수의 제 1, 제 2 고정 전자석 (46a, 46b) 을 갖고 있다. 제 1, 제 2 가동 전자석 (45a, 45b) 은 기판 이동부 (20) 아래에 고정되어 있다. 복수의 제 1, 제 2 고정 전자석 (46a, 46b) 은, 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 각각의 길이 방향에 걸쳐, 각 레일 내에서 등간격으로 나열되어, 고정되어 있다. For example, a linear motor is used for the first and second moving
기판 이동부 (20) 아래를 향한 면에는 공기 분출구 (47) 가 형성되어 있고, 공기 분출구 (47) 로부터 공기를 분출함으로써, 기판 이동부 (20) 와 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 사이에는 공기층이 개재되어 접촉하지 않도록 되어 있다. The
제 1, 제 2 이동 기구 (48a, 48b) 는, 각각 별도로 제어 장치 (92) 로부터 전송되는 신호를 받으면, 각각 복수의 제 1, 제 2 고정 전자석 (46a, 46b) 의 자극 (磁極) 을 각 레일의 길이 방향에 걸쳐 변화시키고, 각각 제 1, 제 2 가동 전자석 (45a, 45b) 이 장착된 기판 이동부 (20) 에, 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 에 대한 제 1, 제 2 이동력을 인가할 수 있다. 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 은 받침대 (70) 상에 고정되어 있기 때문에, 기판 이동부 (20) 는 제 1, 제 2 이동력이 인가 되면, 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 상을 이동하게 된다. When the 1st, 2nd moving
기판 이동부 (20) 는, 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 을 따라 이동함으로써, 헤드 유지부 (30) 아래를 왕복 이동할 수 있게 구성되어 있다. The board |
본 발명의 토출 장치 (10) 는, 2 개의 레일 (제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 상에서 기판 이동부 (20) 를 이동시킴으로써, 1 개의 레일 상에서 기판 이동부 (20) 를 이동시키는 경우에 비해, 기판 이동부 (20) 가 대형화되어도 안정적으로 이동할 수 있게 되어 있다. When the
이후, 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 을 따라 이동하는 기판 이동부 (20) 의 이동 방향 (제 1 방향) 을 y 축 방향, 그것과 수직이고 기준면과 평행한 방향 (제 2 방향) 을 x 축 방향이라고 한다. Subsequently, the moving direction (first direction) of the
헤드 유지부 (30) 는 장착판 (33) 과, 장착판 (33) 에 장착된 복수의 헤드 (32) 를 갖고 있다. The
도 4 는 헤드 (32) 와 토출구 (35) 의 배치를 설명하는 모식도이다. 4 is a schematic diagram illustrating the arrangement of the
각 헤드 (32) 는 토출구 (35) 를 복수 갖고 있다. 1 개의 헤드 (32) 의 복수의 토출구 (35) 는, 그 헤드 (32) 의 1 면에, 1 열로 나열되어 토출구열을 형성하거나, 또는 서로 평행한 복수열로 나열되어, 서로 평행한 복수의 토출구열을 형성하고 있다. Each
1 개의 헤드 (32) 내의 토출구 (35) 는 하나의 방향으로 등간격으로 배치되어 있고, 그 간격을 토출구 간격 (D : 토출구의 중심간 거리) 로 하면, 각 헤드 (32) 의 토출구 간격 (D) 끼리도 동일한 값으로 되어 있다. The
본 발명에서는 1 개의 헤드 (32) 의 복수의 토출구 (35) 가, 하나의 방향으로 등간격으로 배치되어 있는 한, 반드시 일직선 상에 나열될 필요는 없고, 예를 들어 도 5 에 나타내는 바와 같이 지그재그 배열로 나열되어, 1 토출구열을 형성해도 된다. In the present invention, as long as the plurality of
여기에서는 각 헤드 (32) 는 상기 하나의 방향이 x 축 방향과 평행해지는 방향으로 장착판 (33) 에 장착되어 있다. Here, each
각 헤드 (32) 는 헤드의 상기 하나의 방향의 길이가, 토출구열의 길이 (단부 (端部) 의 토출구 중심간의 상기 하나의 방향의 거리) 에 토출구 간격 (D) 을 가산한 길이보다 크게 형성되어 있고, 따라서, 복수의 헤드 (32) 를 X 축과 평행한 일렬로 나열하여, y 축 상의 위치를 동일하게 하면, 하나의 헤드의 토출구열 단부에 위치하는 토출구와, 인접하는 헤드의 토출구열 단부에 위치하는 토출구 사이의 x 축 방향의 거리는, 토출구 간격 (D) 보다 큰 거리로 이간된다. Each
본 발명에서는 x 축 방향을 따라 나열된 복수의 헤드 (32) 가, 상이한 헤드의 단부의 토출구 사이라도 x 축 방향의 거리가 토출구 간격 (D) 이 되도록, 인접하는 헤드의 토출구 (35) 는 y 축 상에서는 상이한 위치에 배치되어 있고, 인접하는 헤드의 단부가 x 축 상에서 중첩되어, 상이한 헤드의 토출구 사이를 포함하여, 각 토출구 (35) 가 x 축 상에서 토출구 간격 (D) 으로 나열되도록 배치되어 있다. In the present invention, the plurality of
이 경우, x 축을 따라 나열되는 복수의 헤드의 토출구 (35) 는, y 축 상에서 2 종류의 위치에 배치할 수 있고, 인접하는 헤드의 토출구열이, 2 종류의 위치에 교대로 배치되면, 그와 같이 배치된 1 세트의 복수의 헤드 (32) 는, 지그재그 배열되어, 1 개의 헤드 세트 (38) 를 구성한다. In this case, the
헤드 세트 (38) 는 복수의 세트가 장착판 (33) 에 배치되어 있다. The head set 38 has a plurality of sets arranged on the mounting
소정 수 n 의 헤드 세트 (38) 는 헤드 그룹을 구성하고, 1 개의 헤드 그룹 중에서는, 1 개의 헤드 세트 중 인접하는 2 개의 토출구 (35) 사이에, 다른 헤드 세트의 토출구 (35) 가, x 축 방향으로 등간격 (D/n) 이 되도록 1 개씩 배치되어 있다. The predetermined number n of head sets 38 constitute a head group, and among one head group, between two
헤드 유지부 (30) 는 도시하지 않은 잉크 탱크를 갖고, 잉크 탱크에는 R, G, B 의 3 색 중 1 색의 잉크가 저장되어 있다. 각 헤드 (32) 는 잉크 탱크에 접속되어 있다. The head holding |
각 토출구 (35) 는 각각 내부에 잉크 (토출액) 가 채워진 잉크실을 갖고, 각 잉크실에는 압력 발생 장치가 각각 배치된다. 각 압력 발생 장치는 외부의 제어 장치 (92) 로부터 전송되는 신호를 받아, 잉크실에 소정 압력을 발생시키고, 토출구 (35) 로부터 소정 양의 잉크를 토출시킨다. Each
헤드 유지부 (30) 가 3 개 이상의 헤드 그룹을 갖는 경우에는, 각 헤드 (32) 가 헤드 그룹마다 상이한 색의 잉크 탱크에 접속됨으로써, 1 개의 헤드 유지부 (30) 는 3 색의 잉크를 토출시킬 수 있다. When the
도 7 은 토출 장치 (10) 의 B-B 선 절단 단면도이다. 7 is a cross-sectional view taken along the line B-B of the
기판 이동부 (20) 는 제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 를 갖고 있다. 제 1 탑재대 (24a) 는 제 2 탑재대 (24b) 보다 커, 제 1 탑재대 (24a) 는 기판 이동부 (20) 상에 배치되고, 제 2 탑재대 (24b) 는 제 1 탑재대 (24a) 상에 배치된다. The board |
제 2 탑재대 (24b) 의 상방을 향한 면은, 제 1 탑재대 (24a) 의 상방을 향한 면과 동일한 높이가 되도록 형성되어 있다. The surface facing upward of the 2nd mounting table 24b is formed so that it may become the same height as the surface facing upward of the
제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 의 상방을 향한 면은 어느 쪽이나 도시하지 않은 흡인구를 갖고, 흡인구는 도시하지 않은 진공 펌프에 접속되어 있다. 기판 (50) 을 제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 상에 양 탑재대에 걸리도록 배치한 후, 진공 펌프로 배기를 실시하면, 기판 (50) 은 제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 상에 진공 흡착되어 유지된다. Both surfaces face upward of the first and second mounting tables 24a and 24b have suction ports (not shown), and the suction ports are connected to a vacuum pump (not shown). After arranging the board |
본 발명의 토출 장치 (10) 는 도 8 에 나타내는 바와 같이 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 을 제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 상에 각각 배치해도 된다. 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 을 배치한 후, 도시하지 않은 진공 펌프로 배기를 실시하면, 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 은 제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 상에 각각 진공 흡착되어 유지된다. As shown in FIG. 8, the
도 2, 도 8 을 참조하여, 기판 (50) 과 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 상에는, R, G, B 의 각 색이 착탄되어야 할 영역 (착탄 위치) 이 각각 정해져 있다. 기판 (50) 과 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 은 하나의 방향에 대해 평행한 방향과 수직인 방향으로 격자 형상을 한 블랙 매트릭스를 각각 갖고, 각 착탄 위치는 블랙 매트릭스에 의해 구획된 영역에 배치되어 있다. With reference to FIG.2, FIG.8, on the board |
기판 (50) 과 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 의 각 기판 상의 하나의 방향으로 서로 이웃하는 착탄 위치의 간격은, 1 개의 헤드 그룹 중 x 축 방향으로 인접하는 토출구 간격 (D/n) 과 동일하거나, 또는 x 축 방향에 인접하는 토출구 간격 (D/n) 의 정수배의 길이로 형성되어 있다. The space | interval of the impact position which adjoins each other in one direction on each board | substrate of the board |
토출 장치 (10) 는 y 축 방향으로 제 1, 제 2 주측정광 (65a, 65b) 을 각각 송광하는 제 1, 제 2 주송광 장치와, x 축 방향으로 이간되어 설치되고, 제 1, 제 2 주측정광 (65a, 65b) 이 조사되면, 반사하여 제 1, 제 2 주반사광 (66a, 66b) 을 반광하는 제 1, 제 2 주경 장치 (61a, 61b) 와, 제 1 주측정광 (65a) 와 제 1 주반사광 (66a) 을 수광하고, 제 1 주측정광 (65a) 과 제 1 주반사광 (66a) 의 제 1 간섭 결과를 검출하는 제 1 주간섭 장치 (62a) 와, 제 2 주측정광 (65b) 과 제 2 주반사광 (66b) 을 수광하고, 제 2 주측정광 (65b) 과 제 2 주반사광 (66b) 의 제 2 주간섭 결과를 검출하는 제 2 주간섭 장치 (62b) 를 갖고 있다. The
제 1, 제 2 주간섭 장치 (62a, 62b) 와 제 1, 제 2 주경 장치 (61a, 61b) 중 어느 일방의 장치는 기판 이동부 (20) 에 배치되고, 타방의 장치는 기준면에 대해 정지된 받침대 (70) 상에 고정되어 있다. Any one of the first and second
여기에서는, 토출 장치 (10) 는 적어도 하나의 광원 (75) 과, 제 1, 제 2 빔 스플리터 (63a, 63b) 를 갖고 있다. 광원 (75) 과 제 1 빔 스플리터 (63a) 에 의해 제 1 주송광 장치가 구성되고, 광원 (75) 과 제 2 빔 스플리터 (63b) 에 의해 제 2 주송광 장치가 구성되어 있다. 제 1, 제 2 주송광 장치로부터 각각 제 1, 제 2 주측정광 (65a, 65b) 가 송광되게 된다. Here, the
제 1, 제 2 주간섭 장치 (62a, 62b) 는, 제 1, 제 2 주경 장치 (61a, 61b) 의 경면과 제 1, 제 2 주송광 장치 사이에 배치되어 있다. The 1st, 2nd
제 1, 제 2 주간섭 결과는 제 2 측정 장치 (93b) 에 전송되고, 제 1, 제 2 주간섭 장치 (62a, 62b) 와 제 1, 제 2 주경 장치 (61a, 61b) 사이의 제 1, 제 2 주거리가 구해진다. The first and second interference results are transmitted to the
제어 장치 (92) 는 제 1, 제 2 주거리의 측정 결과가 전송되면, 그 차로부터 제 1, 제 2 이동력의 크기를 결정하도록 구성되어 있다. The
제어 장치 (92) 에는 제 1, 제 2 주거리의 차 ΔL 을 설정할 수 있다. The
예를 들어, 기판 이동부 (20) 의 y 축 방향의 이동 개시 전에, 토출구 (35) 의 x 축 방향의 열과 기판 (50) 상의 착탄 위치의 x 축 방향의 열을 평행하게 했을 때의 제 1, 제 2 주거리의 차 ΔL 을 제어 장치 (92) 에 설정하면, 기판 이동부 (20) 를 이동 중에 전송되는 제 1, 제 2 주거리 L1, L2 의 차가, 설정된 값 ΔL 보다 커지면 (L1 - L2 > ΔL), 제어 장치 (92) 는 제 1 이동 기구 (48a) 를 제어하여 제 1 이동력을 작게하거나, 또는 제 2 이동 기구 (48b) 를 제어하여 제 2 이동력을 크게 하여, 제 2 레일 (71b) 상의 이동량을 제 1 레일 (71a) 상의 이동량보다 크게 하고, 제 1, 제 2 주거리 L1, L2 의 차를 설정된 값 ΔL 과 동일하게 한다. 제 1, 제 2 주거리 L1, L2 의 차가, 설정된 값 ΔL 보다 작아지면 (L1 - L2 < ΔL), 제어 장치 (92) 는 제 1 이동 기구 (48a) 를 제어하여 제 1 이동력을 크게 하거나, 또는 제 2 이동 기구 (48b) 를 제어하여 제 2 이동력을 작게 하고, 제 2 레일 (71b) 상의 이동량을 제 1 레일 (71a) 상의 이동량보다 작게 하여, 제 1, 제 2 주거리 L1, L2 의 차를 설정된 값 ΔL 과 동일하게 하도록 제어 장치 (92) 는 구성되어 있다. For example, before the start of the movement in the y-axis direction of the
따라서, 이동 중 기판 이동부 (20) 의 진행 방향에 대한 방향은, 이동 개시 전의 방향과 동일하게 유지할 수 있다. Therefore, the direction with respect to the advancing direction of the board |
또한, 기판 이동부 (20) 의 정확한 이동량을 검출할 수 있기 때문에, 정확한 이동 제어가 가능하다. In addition, since the accurate movement amount of the
이하의 토출 장치 (10) 의 설명에서는 기판 (50) 을 기판 이동부 (20) 상에 탑재한 경우로 설명하는데, 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 을 기판 이동부 (20) 상에 탑재한 경우에도 동일하다. In the following description of the discharging
기판 이동부 (20) 의 이동 개시 직전에는, 후술하는 바와 같이 기판 이동부 (20) 상에 탑재된 기판 (50) 이 회전되고, 기판 (50) 상의 착탄 위치의 x 축 방향의 열이 토출구 (35) 의 x 축 방향의 열과 평행해지도록 각도의 위치 맞춤이 이루어져 있고, 기판 이동부 (20) 의 진행 방향에 대한 방향이, 기판 (50) 과 토출구 (35) 각도의 위치 맞춤시와 동일한 방향을 유지하면, 기판 이동부 (20) 는 기판 (50) 이 토출구 (35) 에 대해 각도의 위치 맞춤이 이루어진 상태에서, y 축 방향으로 이동되게 된다. Immediately before the start of the movement of the
따라서, 기판 이동부 (20) 를 상기와 같이 방향을 유지하여 이동시키면, 기판 (50) 상의 각 착탄 위치와, 그 착탄 위치에 토출액을 토출시키는 토출구 (35) 사이의 y 축 방향의 거리는, 이동 개시 전의 값으로부터, 기판 이동부 (20) 의 이동량만큼 감소시킨 값이 되어, 토출구 (35) 로부터 토출액을 토출시키는 시각에 오차는 발생하지 않는다. Therefore, when the
토출 장치 (10) 는 x 축 방향으로 제 1, 제 2 부측정광 (65c, 65d) 을 각각 송광하는 제 1, 제 2 부송광 장치와, 제 1, 제 2 부측정광 (65c, 65d) 이 조사되면, 반사하여 제 1, 제 2 부반사광을 반광하는 부경 장치 (61c) 와, 제 1 부측정광 (65c) 과 제 1 부반사광을 수광하고, 제 1 부측정광 (65c) 과 제 1 부반사광의 제 1 부간섭 결과를 검출하는 제 1 부간섭 장치 (62c) 와, 제 2 부측정광 (65d) 과 제 2 부반사광을 수광하고, 제 2 부측정광 (65d) 과 제 2 부반사광의 제 2 부간섭 결과를 검출하는 제 2 부간섭 장치 (62d) 를 갖고 있다. The
여기에서는, 토출 장치 (10) 는 제 3, 제 4 빔 스플리터 (63c, 63d) 를 갖고 있다. 광원 (75) 과 제 3 빔 스플리터 (63c) 에 의해 제 1 부송광 장치가 구성 되고, 광원 (75) 과 제 4 빔 스플리터 (63d) 에 의해 제 2 부송광 장치가 구성되어 있다. 제 1, 제 2 부송광 장치로부터 각각 제 1, 제 2 부측정광 (65c, 65d) 이 송광되게 된다. Here, the
제 1 부간섭 장치 (62c) 와 부경 장치 (61c) 중 어느 일방의 장치는 기판 이동부 (20) 의 이동 방향 (y 축 방향) 과 평행한 측면에 배치되고 (제 1 부간섭 장치 (62c) 의 경우에는 그 수광면이 상기 측면에 배치되고, 부경 장치 (61c) 의 경우에는 그 반사면이 상기 측면에 배치된다), 타방의 장치는 기준면에 대해 정지된 받침대 (70) 상에 고정되어 있다. Any one of the first
여기에서는, 제 1 부간섭 장치 (62c) 는 기준면에 대해 정지된 받침대 (70) 의, 기판 이동부 (20) 의 이동 범위와 이간된 측방 위치로서, 헤드 유지부 (30) 의 가로 방향의 위치에 형성되어 있고, 부경 장치 (61c) 는, 기판 이동부 (20) 의 측면으로서, 경면이 제 1 부간섭 장치 (62c) 와 대면할 수 있는 위치에 형성되어 있다. Here, the first
여기에서는, 기판 이동부 (20) 는 기판 이동부 (20) 상에 기판 (50) 을 탑재하는 위치인 시점에서부터 이동을 개시하여, 헤드 유지부 (30) 의 하방을 통과한 후, 잉크가 토출된 기판 (50) 을 기판 이동부 (20) 상으로부터 떼어내는 위치인 종점에 도달하여 이동을 종료하는 것으로 한다. Here, the
제 1 부간섭 장치 (62c) 는 헤드 유지부 (30) 내의 토출구 (35) 중, 가장 시점에 가까운 토출구 (35) 보다 시점에 가까운 위치에 배치되어 있고, 부경 장치 (61c) 경면의 종점측 단부는, 기판 이동부 (20) 상의 기판 (50) 의 종점에 가장 가까운 착탄 위치보다 종점에 가까운 위치까지 연장되어 있다. The 1st
따라서, 기판 (50) 의 가장 종점에 가까운 착탄 위치가, 가장 시점에 가까운 토출구 (35) 보다 종점에 가까운 위치에 도달하기 전에, 제 1 부간섭 장치 (62c) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면이 개시되게 된다. Therefore, before the impact position closest to the end point of the
제 1 부간섭 결과는 제 2 측정 장치 (93b) 에 전송되고, 제 1 부간섭 장치 (62c) 와 부경 장치 (61c) 사이의 제 1 부거리가 구해진다. The first sub-interference result is transmitted to the
제어 장치 (92) 에는, 받침대 (70) 상에 정지된 제 1 부간섭 장치 (62c) 의 기준면에 대한 x 좌표가 기억되어 있다. 따라서, 제어 장치 (92) 는 제 1 부거리의 측정 결과로부터 기판 이동부 (20) 의 기준면에 대한 x 좌표 (x 축 방향의 위치) 를 구할 수 있다. In the
후술하는 바와 같이 헤드 유지부 (30) 는, 복수의 헤드 (32) 를 일체로 하여 기준면에 대해 x 축 방향으로 이동할 수 있는 헤드 이동 기구 (49) 를 갖고 있다. 헤드 이동 기구 (49) 의 x 축 방향의 이동량은 ± 부호가 붙어 있고 제 1 측정 장치 (93a) 에 의해 측정되고, 제어 장치 (92) 로 전송되어 있다. 예를 들어, 헤드 (32) 의 이동 개시 전에 제 1 측정 장치 (93a) 의 값을 제로로 하여, 그 상태로부터 헤드 (32) 를 이동시키면, 이동 개시 전 위치에 대한 이동 후 헤드 (32) 의 x 축 방향의 위치를 알 수 있게 된다. As will be described later, the
제어 장치 (92) 는, 제 1 부거리의 측정 결과가 전송되면, 제 1 부거리의 측정 결과로부터 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치를 구하고, 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치와 헤드 (32) 의 x 축 방향의 위치의 차로부터, 헤드 이동 기구 (49) 가 헤드 (32) 를 이동하는 이동량을 결정하도록 구성되어 있다. When the measurement result of a 1st sub distance is transmitted, the
예를 들어, 기판 이동부 (20) 의 이동 개시 전에, 기판 (50) 상의 착탄 위치가 토출구 (35) 의 바로 아래를 통과하도록 위치 맞춤했을 때에 헤드 (32) 의 이동량인 제 1 측정 장치 (93a) 의 값을 제로로 하고, 또한 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치를 제어 장치 (92) 에 설정하면, 기판 이동부 (20) 를 이동 중에 전송되는 제 1 부거리의 값이 증감되면, 그 증감에 따라 제어 장치 (92) 는 헤드 이동 기구 (49) 를 제어하여 헤드 (32) 를 이동시키고, 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치와 헤드 (32) 의 x 축 방향의 위치의 차를 설정된 값이 동일해지도록 제어 장치 (92) 는 구성되어 있다. For example, before the start of the movement of the
따라서, 이동 중 기판 이동부 (20) 와 헤드 (32) 사이의 x 축 방향의 상대 위치 관계는, 이동 개시 전과 동일하게 유지할 수 있다. Therefore, the relative positional relationship in the x-axis direction between the
기판 이동부 (20) 의 이동 개시 직전에는, 후술하는 바와 같이 기판 (50) 과 토출구 (35) 의 각도의 위치 맞춤이 이루어진 후, 복수의 헤드 (35) 가 일체가 되어 x 축 방향으로 이동되고, 각 착탄 위치가 소정 토출구 (35) 의 바로 아래를 통과하도록 x 축 방향의 위치 맞춤이 이루어져 있고, 기판 이동부 (20) 의 방향을 전술한 바와 같이 위치 맞춤시와 동일한 방향으로 유지하고, 또한 기판 이동부 (20) 와 헤드 (32) 사이의 x 축 방향의 상대 위치 관계를 x 축 방향의 위치 맞춤시와 동일하게 유지하면, 기판 이동부 (20) 는, 기판 (50) 상의 각 착탄 위치가 소정 토출구 (35) 의 바로 아래를 통과하는 상태에서, y 축 방향으로 이동되게 된다. Immediately before the start of the movement of the
따라서, 기판 이동부 (20) 가 상기와 같은 방향과 위치 관계를 유지하여 이동하면, 토출구 (35) 로부터 토출액을 토출시키는 시각에 오차는 발생하지 않고, 또한 기판 (50) 상의 소정 착탄 위치와 토출액이 실제로 착탄되는 위치에 오차는 발생하지 않는다. Therefore, when the
받침대 (70) 상에는, 제 1 부간섭 장치 (62c) 보다 종점측 위치에, 제 2 부간섭 장치 (62d) 가 형성되어 있다. On the
기판 이동부 (20) 가 이동하면, 제 1 부간섭 장치 (62c) 가 부경 장치 (61c) 의 경면과 대면하고 있는 동안에, 제 2 부간섭 장치 (62d) 가 부경 장치 (61c) 와의 대면을 개시하여, 기판 이동부 (20) 가 이동하여 부경 장치 (61c) 의 경면 시점측 단부가 제 1 부간섭 장치 (62c) 보다 종점측으로 이동하여, 제 1 부간섭 장치 (62c) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면에 의한 제 1 부거리의 측정이 종료되었을 때, 제 2 부간섭 장치 (62d) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면에 의해, 제 2 부간섭 장치 (62d) 와 부경 장치 (61c) 사이의 제 2 부거리의 측정이 개시되게 된다. When the
제어 장치 (92) 에는, 받침대 (70) 상에 정지된 제 2 부간섭 장치 (62d) 의 기준면에 대한 x 좌표가 기억되어 있다. 따라서, 제어 장치 (92) 는 제 2 부거리의 측정 결과로부터 기판 이동부 (20) 의 기준면에 대한 x 좌표 (x 축 방향의 위치) 를 구할 수 있다. In the
본 발명은 제 1 부간섭 장치 (62c) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면이 종료되었을 때에 제 2 부거리의 측정이 개시되는 경우에 한정되지 않고, 제 2 부간섭 장치 (62d) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면이 개시되었을 때에 제 2 부거리의 측정을 개시하여, 제 1 부간섭 장치 (62c) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면이 종료될 때까지는, 제 2 부거리의 측정 결과로부터 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치를 구해도 되고, 제 1, 제 2 부거리 양방의 측정 결과로부터 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치를 구해도 된다. The present invention is not limited to the case where the measurement of the second sub-interval is started when the facing of the first
여기에서는, 제 2 부간섭 장치 (62d) 는 가장 종점에 가까운 토출구 (35) 의 위치보다, 종점에 가까운 위치에 배치되어 있고, 부경 장치 (61c) 의 경면의 시점측 단부는, 기판 이동부 (20) 상의 기판 (50) 의 시점에 가장 가까운 착탄 위치보다 시점측까지 연장되어 있다. Here, the
따라서, 제 1 부간섭 장치 (62c) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면이 개시된 후, 기판 (50) 의 가장 시점에 가까운 착탄 위치가 가장 종점에 가까운 토출구 (35) 보다 종점에 가까운 위치에 도달할 때까지는, 제 1, 제 2 부간섭 장치 (62c, 62d) 중 어느 일방 또는 양방과 부경 장치 (61c) 경면의 대면이 계속해서 실시되고, 기판 이동부 (20) 와 헤드 (32) 사이의 x 축 방향의 상대 위치 관계를, x 축 방향의 위치 맞춤했을 때의 상태로 유지할 수 있다. Therefore, after the surface of the first
본 발명은 부경 장치 (61c) 의 경면이 기판 (50) 의 착탄 위치의 y 축 방향의 열 길이와 토출구 (35) 의 y 축 방향의 열 길이의 합보다 길게 형성되고, 기판 (50) 의 가장 종점에 가까운 착탄 위치가 가장 시점에 가까운 토출구 (35) 보다 종점에 가까운 위치에 도달할 때부터, 기판 (50) 의 가장 시점에 가까운 착탄 위치가 가장 종점에 가까운 토출구 (35) 보다 종점에 가까운 위치에 도달할 때까지, 제 1 부간섭 장치 (62c) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면을 계속해서 실시할 수 있도록 구성되어 있어도 된다. According to the present invention, the mirror surface of the
또 본 발명은 부경 장치 (61c) 는 가로로 길게 형성되어 있고, 기준면에 대해 정지된 받침대 (70) 의, 기판 이동부 (20) 의 이동 범위와 이간된 측방 위치로서, 헤드 유지부 (30) 의 가로 방향의 위치에, 길이 방향이 y 축 방향을 따라 형성되고, 제 1, 제 2 부간섭 장치 (62c, 62d) 는 기판 이동부 (20) 에 형성되어 있어도 된다. In addition, according to the present invention, the
부경 장치 (61c) 의 경면은, 기판 이동부 (20) 의 이동 범위를 향해 배치되어 있고, 기판 이동부 (20) 의 한쪽 측면이 부경 장치 (61c) 의 경면과 마주보는 위치를 통과할 때에는, 제 1 부간섭 장치 (62c) 또는 제 2 부간섭 장치 (62d) 가 부경 장치 (61c) 의 경면과 대면하면서 통과하도록 되어 있다. When the mirror surface of the
부경 장치 (61c) 의 시점측 단부는, 가장 시점에 가까운 토출구 (35) 보다 시점측에 가까운 위치까지 연장되어 있고, 마찬가지로 부경 장치 (61c) 의 종점측 단부는, 가장 종점에 가까운 토출구 (35) 보다 종점에 가까운 위치까지 연장되어 있다. The end point of the viewpoint side of the
제 1 부간섭 장치 (62c) 는 기판 (50) 의 가장 종점에 가까운 착탄 위치보다 종점에 가까운 위치에 배치되고, 제 2 부간섭 장치 (62d) 는 기판 (50) 의 가장 시점에 가까운 착탄 위치보다 시점에 가까운 위치에 배치되어 있다. The first
따라서, 기판 이동부 (20) 가 시점으로부터 이동을 개시하여, 기판 (50) 의 가장 종점에 가까운 착탄 위치가 가장 시점에 가까운 토출구 (35) 보다 시점에 가까운 위치에 도달하기 전에, 제 1 부간섭 장치 (62c) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면이 개시되고, 기판 (50) 의 가장 시점에 가까운 부분이 가장 종점에 가까운 토출구 (35) 보다 종점에 가까운 위치에 도달할 때까지는, 제 1 부간섭 장치 (62c) 또는 제 2 부간섭 장치 (62d) 와 부경 장치 (61c) 경면의 대면이 계속해서 실시되고, 기판 이동부 (20) 와 헤드 (32) 사이의 x 축 방향의 상대 위치 관계를, x 축 방향의 위치 맞춤했을 때의 상태로 유지할 수 있다. Therefore, before the board |
즉, 제 1, 제 2 주간섭 장치 (62a, 62b) 에서 기판 이동부 (20) 의 xy 평면 상에서의 회전 방향의 기울기 (xy 평면 상에서의 x 축 방향 또는 y 축 방향에 대한 기울기) 와, y 축 방향의 이동량을 정확하게 검출할 수 있다. 또 제 1, 제 2 부간섭 장치 (62c, 62d) 에서 기판 이동부 (20) 의 y 축 방향의 이동에 수반되는 x 축 방향의 편차량을 정확하게 검출할 수 있다. That is, the inclination of the rotation direction on the xy plane of the substrate moving part 20 (the inclination with respect to the x axis direction or the y axis direction on the xy plane) in the first and second interfering
<잉크의 토출 방법><Ink discharge method>
기판 (50) 상에 대한 잉크 (토출액) 의 토출 공정을 설명한다. The discharge process of the ink (ejection liquid) on the board |
이하에서는, 토출 전에 기판 이동부 (20) 상에 기판 (50) 을 탑재하는 위치를 시점이라고 하고, 토출 후에 기판 이동부 (20) 상으로부터 기판 (50) 을 떼어내는 위치를 종점이라고 한다. 시점과 종점은 y 축 상에서 헤드 유지부 (30) 를 사이에 끼우고 서로 반대측에 위치하고 있다. Below, the position which mounts the board |
후술하는 제 1 위치 맞춤 공정에서의 위치 맞춤 작업에 의해, 각 헤드 (32) 는 기준 위치에 대해 위치 맞춤되어 있는 것으로 한다. It is assumed that each
먼저, 기판 이동부 (20) 를 시점으로 이동시켜 정지시킨다. 제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 상에 양 탑재대에 걸리도록 기판 (50) 을 탑재하고, 진공 흡착하여, 기판 (50) 을 제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 상에 흡착 유지한다. First, the
이어서, 기판 이동부 (20) 와 함께 기판 (50) 을 종점을 향해 이동시키고, 헤드 유지부 (30) 앞의 기판 (50) 상의 각 착탄 위치와 소정 토출구 (35) 의 위치 맞춤을 실시하는 위치에서 일단 정지시킨다. Subsequently, the board |
후술하는 제 2 위치 맞춤 공정에서의 위치 맞춤 작업과 같이, 기판 (50) 상의 각 착탄 위치와 소정 토출구 (35) 를, 이동 카메라 (21) 와 제 1, 제 2 고정 카메라 (31a, 31b) 에 의해 위치 맞춤한다. Like the positioning operation in the second positioning step described later, each impact position and the
위치 맞춤한 후, 제 1, 제 2 주간섭 장치 (62a, 62b) 는 각각 제 1, 제 2 주경 장치 (61a, 61b) 와 이미 대면하고 있고, 제 1, 제 2 주간섭 장치 (62a, 62b) 와 제 1, 제 2 주경 장치 (61a, 61b) 사이의 제 1, 제 2 주거리, 또는 제 1, 제 2 주거리로부터 구한 기판 이동부 (20) 의 xy 평면 상에서의 x 축 방향 (또는 y 축 방향) 에 대한 기울기가 측정되어 있다. After aligning, the first and
또, 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치는, 예를 들어 기판 이동부 (20) 를 정지시킨 상태에서, 이동 카메라 (21) 를 이동시켜 기준면에 설정된 원점을 촬영함으로써 구해졌다. In addition, the position of the board |
이어서, 종점을 향해 기판 이동부 (20) 의 이동을 개시한다. Next, the movement of the
제 1, 제 2 주거리의 측정 결과로부터, 제 1, 제 2 이동 기구 (48a, 48b) 가 제어되고, 제 1, 제 2 주거리의 차, 또는 제 1, 제 2 주거리의 차로부터 구한 기판 이동부 (20) 의 xy 평면 상에서의 X 축 방향 (또는 y 축 방향) 에 대한 기울기가, 이동 개시 전의 값과 동일해지도록 제 1, 제 2 레일 (71a, 71b) 상의 이동량이 각각 바뀌어, 기판 이동부 (20) 의 진행 방향에 대한 방향이 이동 개시 전에 위치 맞춤한 방향과 동일해진다. From the measurement result of a 1st, 2nd main distance, the 1st, 2nd moving
따라서, 각 착탄 위치와, 그 착탄 위치에 토출액을 토출시키는 토출구 (35) 사이의 y 축 방향의 거리는, 이동 개시 전의 값으로부터, 기판 이동부 (20) 의 이동량만큼 감소시킨 값이 되어, 각 착탄 위치가 그 착탄 위치에 토출액을 토출시키는 토출구 (35) 의 하방 위치를 통과하는 시각을 산출할 수 있다. Therefore, the distance in the y-axis direction between each impact position and the
최초로 토출되는 토출구 (35) 로부터 토출이 개시되기 전부터, 마지막으로 토출되는 토출구 (35) 로부터 토출액이 토출될 때까지는, 제 1, 제 2 부간섭 장치 (62c, 62d) 중 어느 일방 또는 양방과 부경 장치 (61c) 경면의 대면이 계속해서 실시되어, 제 1, 제 2 부간섭 장치 (62c, 62d) 와 부경 장치 (61c) 사이의 제 1, 제 2 부거리 중 어느 일방 또는 양방이 측정되었다. Either one or both of the first and second
제 1, 제 2 부거리의 측정 결과 중 어느 일방 또는 양방으로부터, 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치가 구해지고, 헤드 이동 기구 (49) 가 제어되고, 기판 이동부 (20) 의 x 축 방향의 위치와 헤드 (32) 의 x 축 방향의 위치의 차가 이동 개시 전에 위치 맞춤한 값과 동일해지도록 헤드 (32) 가 이동되어, 기판 이동부 (20) 와 헤드 (32) 사이의 x 축 방향의 상대 위치 관계가 이동 개시 전에 위치 맞춤한 관계와 동일해진다. From either or both of the measurement results of the first and second sub-distances, the position in the x-axis direction of the
따라서, 각 착탄 위치는, 그 착탄 위치에 토출액을 토출시키는 토출구 (35) 의 바로 아래를 통과한다. 착탄 위치가 바로 아래를 통과하는 시각은 이미 산출되어 있기 때문에, 산출된 시각에서 각 토출구 (35) 로부터 토출된 토출액은, 소정 착탄 위치에 착탄된다. Therefore, each impact position passes just under the
기판 이동부 (20) 가 종점에 도착하면, 기판 (50) 상의 각 착탄 위치에는 토출액이 착탄되어 있어, 떼어내는 위치에서 건조시킨 후, 진공 흡착을 해제하여 제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 상으로부터 기판 (50) 을 떼어낸다. When the
도 8 에 나타내는 바와 같이 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 을 각각 제 1, 제 2 탑재대 (24a, 24b) 상에 탑재하고, 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 상에 토출액을 토출시켜도 된다. 이 경우에는, 상기 토출액의 토출 방법 중에서, 제 2 위치 맞춤 공정의 위치 맞춤 작업에 의해 제 1 기판 (50a) 과 헤드 (32) 의 위치 맞춤을 한 직후에, 후술하는 제 3 위치 맞춤 공정의 위치 맞춤 작업에 의해 제 2 기판 (50b) 과 헤드 (32) 의 위치 맞춤을 실시하고, 이어서 종점을 향해 기판 이동부 (20) 의 이동을 개시시킨다. 이렇게 하면, 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 은 헤드 (32) 와의 위치 맞춤 상태를 유지하여 y 축 방향으로 이동되고, 토출구 (35) 로부터 토출된 토출액은 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 상의 소정 착탄 위치에 착탄된다. As shown in FIG. 8, the 1st, 2nd board |
<제 1 위치 맞춤 공정><First positioning process>
이하에서는 원점 위치 맞춤 작업과, 헤드 어레이 위치 맞춤 작업과, 고정 카메라의 카메라 기준점의 위치 측정 작업으로 이루어지는 제 1 위치 맞춤 공정을 설명한다. Hereinafter, a first positioning process consisting of an origin positioning operation, a head array positioning operation, and a positioning measurement operation of a camera reference point of the fixed camera will be described.
기판 이동부 (20) 는 이동 카메라 (21) 를 갖고 있다. 이동 카메라 (21) 는 기판 이동부 (20) 의 y 축 방향의 단 (端) 에 배치되어 있다. 이동 카메라 (21) 는 상단에 렌즈를 갖고, 이동 카메라 (21) 에 의해 촬영된 화상은 외부의 제어 장치 (92) 에 의해 화상 처리된다. 제어 장치 (92) 에는 예를 들어 컴퓨터가 사용된다. The
기판 이동부 (20) 에 대해 기판 이동부 (20) 의 이동 방향과 수직이고 기준면과 평행한 방향을 X 방향이라고 하면, 기판 이동부 (20) 는 이동 카메라 (21) 를 X 방향으로 이동시킬 수 있는 카메라 이동 기구 (44) 를 갖고 있다. 카메라 이동 기구 (44) 에는 모터가 형성되어 있어, 제어 장치 (92) 로부터 전송되는 신호를 받으면, 이동 카메라 (21) 를 X 방향으로 이동시킨다. When the direction perpendicular to the moving direction of the
<원점 위치 맞춤 작업><Origin Position Alignment>
먼저, 이동 카메라 (21) 에 의해 촬영한 화상 상 1 점의 기준면에 대한 xy 좌표를 알 수 있도록, 이동 카메라 (21) 와 원점의 위치 맞춤을 실시한다. First, the positioning of the origin with the
외부의 측정 장치 (93) 에는, 이동 카메라 (21) 의 x 좌표 상 이동량을 ± 부호를 붙여 측정하는 X 축 방향 거리 측정 장치와, y 좌표 상 이동량을 ± 부호를 붙여 측정하는 y 축 방향 거리 측정 장치가 형성되어 있어, 이동 카메라 (21) 가 2 점간을 이동했을 때에, 이동의 시점과 종점을 연결하는 벡터의 x 성분과 y 성분을 알 수 있게 되어 있다. 측정하는 거리는 부호가 붙어 있기 때문에, 왕복 이동하여 시점으로 돌아온 경우의 측정값은 제로이다. The external measuring device 93 includes an X-axis distance measuring device that measures the movement amount on the x coordinate of the
이동 카메라 (21) 를 촬영할 수 있는 범위인 시야 내에는, 시야 내에서 부동의 이동 기준점이 정해져 있다. In the visual field which is the range which can image | photograph the
이 토출 장치 (10) 에서는, 기준면에 대해 정지된 xy 좌표의 원점이 정해져 있다. In this
이동 카메라 (21) 를 이동시키고, 원점, 또는 원점을 지나는 수직선이 이동 카메라 (21) 에 의해 촬영되는 것으로 가정했을 때에는 원점을 지나는 수직선을 촬영하여, 원점의 화상, 또는 원점을 지나는 수직선의 화상이 이동 기준점과 일치했을 때에, X 축 방향 거리 측정 장치와 Y 방향 거리 측정 장치의 값을 제로로 한다. When the
그 상태로부터 이동 카메라 (21) 가 이동하면, 이동 카메라 (21) 로 촬영한 화상 상의, 이동 기준점과 중첩되는 위치의 기준면에 대한 xy 좌표를 알 수 있게 된다. When the moving
<헤드 어레이 위치 맞춤 작업><Head array alignment operation>
다음으로, 기판 이동부 (20) 의 y 축 방향의 이동과, 이동 카메라 (21) 의 X 방향의 이동에 의해, 이동 카메라 (21) 를 1 개의 토출구 (35) 아래에 위치시킨다. Next, the
이동 카메라 (21) 의 화상을 보아, 이동 기준점과 그 토출구 (35) 의 화상의 중심이 일치했을 때, 측정 장치 (93) 의 값으로부터, 그 토출구 (35) 의 기준면에 대한 xy 좌표가 구해진다. When the image of the moving
이러한 토출구 (35) 의 기준면에 대한 xy 좌표의 측정 작업을, 모든 토출구 (35) 에서 반복한다. The measurement operation of the xy coordinate with respect to the reference plane of the
각 토출구 (35) 의 기준면에 대한 xy 좌표는, 미리 설정값이 각각 정해져 있다. 기준면에 대한 xy 좌표의 측정값이 설정값과 오차가 있는 경우, 각각의 헤드 (32) 가 갖는 개별 헤드 위치 수정 수단 (미동 나사) 은, 인간의 손 또는 제어 장치 (92) 로부터 전송되는 신호에 의해 제어되고, 토출구 (35) 의 기준면에 대한 xy 좌표가 설정값과 일치하도록 수정된다. 수정 후 각 토출구 (35) 의 기준면에 대한 xy 좌표는 제어 장치 (92) 에 기억해 둔다. As for the xy coordinate with respect to the reference plane of each
<고정 카메라의 카메라 기준점의 위치 측정 작업><Measurement of position of camera reference point of fixed camera>
헤드 유지부 (30) 는 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정 카메라 (31a, 31b, 31c, 31d) 를 갖고 있다. 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정 카메라 (31a, 31b, 31c, 31d) 는, 헤드 유지부 (30) 의 y 축 방향의 일단에 고정되어 있다. 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정 카메라 (31a, 31b, 31c, 31d) 는, 하단에 렌즈를 갖고 있기 때문에, 아래를 이동하는 기판 (50) 과 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 을 촬영할 수 있다. The head holding |
제 1, 제 2 고정 카메라 (31a, 31b) 의 배치는, 제 1, 제 2 고정 카메라 (31a, 31b) 에 각각 설정된 제 1, 제 2 카메라 기준점 사이의 거리가 기판 (50) 과 제 1 기판 (50a) 의 양 기판이 각각 갖는 제 1, 제 2 기판 기준점 (51a, 51b) 사이의 거리와 동일하여, 제 1, 제 2 카메라 기준점을 연결하는 선분은 x 축 방향과 평행해지도록 설계되어 있다. In the arrangement of the first and second
제 3, 제 4 고정 카메라 (31c, 31d) 의 배치는, 제 3, 제 4 고정 카메라 (31c, 31d) 에 각각 설정된 제 3, 제 4 카메라 기준점 사이의 거리가 제 2 기판 (50b) 이 갖는 제 3, 제 4 기판 기준점 (51c, 51d) 사이의 거리와 동일하여, 제 3, 제 4 카메라 기준점을 연결하는 선분은 x 축 방향과 평행해지도록 설계되어 있다. In the arrangement of the third and fourth
단 실제로는, 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정 카메라 (31a, 31b, 31c, 31d) 는, 헤드 유지부 (30) 에 고정될 때의 장착 오차 때문에, 설계값에서 벗어난 위치에 장착되어 있다. In reality, however, the first, second, third, and fourth
제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정 카메라 (31a, 31b, 31c, 31d) 는, 각각의 렌즈 상의 카메라 기준점의 위치에, 밖에서부터 이동 카메라 (21) 로 촬영할 수 있는 고정 마크를 갖고 있다. 이동 카메라 (21) 를 이동시켜, 제 1 고정 카메라 (31a) 아래에 위치시킨다. 이동 카메라 (21) 로 촬영한 화상 상에서, 제 1 고정 카메라 (31a) 의 고정 마크의 화상이 이동 기준점과 일치했을 때, 측정 장치 (93) 의 값으로부터, 제 1 고정 카메라 (31a) 의 카메라 기준점의 기준면에 대한 xy 좌표가 측정된다. 제 2, 제 3, 제 4 고정 카메라 (31b, 31c, 31d) 의 카메라 기준점의 기준면에 대한 xy 좌표도 동일하게 측정하여, 각각 기억해 둔다. The 1st, 2nd, 3rd, and 4th
본 발명은 기판 (50) 의 제 1, 제 2 기판 기준점 (51a, 51b) 사이의 거리가, 제 1, 제 2 카메라 기준점 사이의 거리와 동일하고, 제 1, 제 2 고정 카메라 (31a, 31b) 로 촬영하는 경우에 한정되지 않고, 4 개의 고정 카메라 (31a, 31b, 31c, 31d) 의 카메라 기준점 중 상이한 2 개의 카메라 기준점 사이의 거리와 동일하여, 대응되는 2 개의 고정 카메라로 촬영할 수 있으면 된다. According to the present invention, the distance between the first and second
<제 2 위치 맞춤 공정><Second positioning process>
이하에서는, 기판 (50) 또는 제 1 기판 (50a) 중 어느 일방 (이하의 설명에서는 제 1 기판 (50a) 으로 대표된다) 이 헤드 유지부 (30) 의 하방을 통과하는 동안에, 기판 상의 각 착탄 위치가 적어도 1 개의 토출구 (35) 의 바로 아래를 통과하도록 위치 맞춤 작업을 실시하는 제 2 위치 맞춤 공정을 설명한다. Below, each impact on a board | substrate is carried out while either one of the board |
제 1, 제 2 고정 카메라 (31a, 31b) 로 촬영된 화상은 제어 장치 (92) 에 의해 화상 처리되고, 화상 내 원하는 위치의 기준면에 대한 xy 좌표를 알 수 있게 되어 있다. The images picked up by the first and second
먼저, 기판 이동부 (20) 를 y 축 방향으로 이동시켜, 제 1 기판 (50a) 이 갖는 제 1, 제 2 기판 기준점 (51a, 51b) 을, 제 1, 제 2 고정 카메라 (31a, 31b) 아래에 각각 위치시킨다. First, the board |
도 3(a) 는 제 1, 제 2 고정 카메라의 화상 (85a, 85b) 을 1 개의 평면 좌표에 탑재했을 때의 고정 카메라 화상의 모식도를 나타내고 있다. FIG.3 (a) has shown the schematic diagram of the fixed camera image at the time of mounting the
도 3(a) 의 부호 81a, 81b 는 제 1, 제 2 고정 카메라 (31a, 31b) 의 카메라 기준점을 나타내고, 부호 82a, 82b 는 각각의 설계값 (제 1, 제 2 설계값) 을 나타내고 있다. 부호 83a, 83b 는 제 1, 제 2 고정 카메라 (31a, 31b) 가 각각 촬영한 제 1, 제 2 기판 기준점 (51a, 51b) 의 화상을 나타내고 있다.
제어 장치 (92) 는 제 1, 제 2 설계값 (82a, 82b) 의 2 점을 통과하는 직선과, 제 1, 제 2 기판 기준점의 화상 (83a, 83b) 의 2 점을 통과하는 직선이 이루는 각도 θ1 의 값을, 각 점의 좌표로부터 계산에 의해 구한다. The
제어 장치 (92) 는 화상 내 x 축 방향 또는 y 축 방향을 알 수 있기 때문에, 제 1, 제 2 기판 기준점의 화상 (83a, 83b) 의 2 점을 통과하는 직선과 x 축 방향또는 y 축 방향이 이루는 각도를 계산에 의해 구해도 된다. Since the
기판 이동부 (20) 는, 제 1 탑재대 (24a) 를 기판 이동부 (20) 에 대해 기준면과 평행하게 회전시킬 수 있는 제 1 기판 회전 기구 (42) 를 갖고 있다. 제 1 기판 회전 기구 (42) 에는 예를 들어 압축 공기에 의해 회전 구동을 실시하는 에어 스핀들이 사용된다. The board |
제어 장치 (92) 는, 제 1 기판 (50a) 상의 제 1, 제 2 기판 기준점 (51a, 51b) 을 연결하는 선분이 x 축 방향과 평행해지도록, 제 1 탑재대 (24a) 를 기판 이동부 (20) 에 대해 기준면과 평행하게 소정 각도만큼 회전시키는 신호를, 제 1 기판 회전 기구 (42) 에 전송한다. The
제 1 기판 회전 기구 (42) 는 제어 장치 (92) 로부터 전송되는 신호를 받으면, 제 1 탑재대 (24a) 와, 제 1 탑재대 (24a) 상에 유지된 제 1, 제 2 기판 (50a, 50b) 을, 기판 이동부 (20) 에 대해 기준면과 평행하게 소정 각도만큼 회전시킨다. When the 1st board |
회전 이동 후 제 1, 제 2 기판 기준점 (51a, 51b) 은, 제어 장치 (92) 에 의해 화상 처리되어, 각각의 기준면에 대한 xy 좌표가 제어 장치 (92) 에 기억된다. The 1st, 2nd board |
제 1 기판 (50a) 상에서 제 1, 제 2 기판 기준점 (51a, 51b) 과 각 착탄 위치의 상대 위치는 미리 설정되어 있기 때문에, 제 1, 제 2 기판 기준점 (51a, 51b) 의 xy 좌표로부터, 각 착탄 위치의 기준면에 대한 xy 좌표가 구해진다. Since the relative position of the 1st, 2nd board |
각 토출구 (35) 는 전술한 제 1 위치 맞춤 공정에 의해 위치 맞춤되어 있고, 기준면에 대한 xy 좌표는 제어 장치 (92) 에 기억되어 있다. Each
헤드 유지부 (30) 는 장착판 (33) 을 헤드 유지부 (30) 에 대해 x 축 방향으로 이동할 수 있는 헤드 이동 기구 (49) 를 갖고 있다. 헤드 이동 기구 (49) 에는 헤드 이동 모터가 형성되어 있다. The
제어 장치 (92) 는 소정 토출구 (35) 의 x 좌표와, 제 1 기판 (50a) 상의 제 1, 제 2 기판 기준점 (51a, 51b) 의 x 좌표로부터 오차를 구하고, 오차가 제로가 되도록 장착판 (33) 을 x 축 방향으로 소정 거리만큼 이동시키는 신호를, 헤드 이동 기구 (49) 에 전송한다. The
헤드 이동 기구 (49) 는 제어 장치 (92) 로부터 전송되는 신호를 받으면, 장착판 (33) 과 장착판 (33) 에 장착된 헤드 (32) 를, 헤드 유지부 (30) 에 대해 x 축 방향으로 소정 거리만큼 이동시킨다. When the
이상의 순서로 제 2 위치 맞춤 공정이 완료된다. 이 상태에서는, 제 1 기판 (50a) 이 헤드 유지부 (30) 의 하방을 통과하는 동안에, 제 1 기판 (50a) 상의 각 착탄 위치가 적어도 1 개의 토출구 (35) 의 바로 아래를 통과하도록 되어 있다. In the above-described order, the second alignment process is completed. In this state, each impact position on the
<제 3 위치 맞춤 공정><3rd position alignment process>
이하에서는, 제 2 기판 (50b) 이 헤드 유지부 (30) 의 하방을 통과하는 동안에, 제 2 기판 (50b) 상의 각 착탄 위치가 적어도 1 개의 토출구 (35) 의 바로 아래를 통과하도록 위치 맞춤 작업을 실시하는 제 3 위치 맞춤 공정을 설명한다. In the following, while the
제 3, 제 4 고정 카메라 (31c, 31d) 로 촬영된 화상은 제어 장치 (92) 에 의해 화상 처리되어, 화상 내 원하는 위치의 좌표를 알 수 있게 되어 있다. The images picked up by the third and fourth
먼저, 기판 이동부 (20) 를 y 축 방향으로 이동시키고, 제 2 기판 (50b) 이 갖는 제 3, 제 4 기판 기준점 (51c, 51d) 을 제 3, 제 4 고정 카메라 (31c, 31d) 아래에 각각 위치시킨다. First, the
도 3(b) 는 제 3, 제 4 고정 카메라의 화상 (85c, 85d) 을 1 개의 평면 좌표에 탑재했을 때의 고정 카메라 화상의 모식도를 나타내고 있다. FIG.3 (b) has shown the schematic diagram of the fixed camera image at the time of mounting the
도 3(b) 의 부호 81c, 81d 는 제 3, 제 4 고정 카메라 (85c, 85d) 의 카메라 기준점을 나타내고, 부호 82c, 82d 는 각각의 설계값 (제 3, 제 4 설계값) 을 나타내고 있다. 부호 83c, 83d 는 제 3, 제 4 고정 카메라 (85c, 85d) 가 각각 촬영한 제 3, 제 4 기판 기준점 (51c, 51d) 의 화상을 나타내고 있다.
제어 장치 (92) 는 제 3, 제 4 설계값 (82c, 82d) 의 2 점을 통과하는 직선과, 제 3, 제 4 기판 기준점의 화상 (83c, 83d) 의 2 점을 통과하는 직선이 이루는 각도 θ2 의 값을, 각 점의 좌표로부터 계산에 의해 구한다. The
제어 장치 (92) 는 화상 내의 x 축 방향 또는 y 축 방향을 알 수 있기 때문에, 제 3, 제 4 기판 기준점의 화상 (83c, 83d) 의 2 점을 통과하는 직선과 x 축 방향 또는 y 축 방향이 이루는 각도를 계산에 의해 구해도 된다. Since the
기판 이동부 (20) 는 제 2 탑재대 (24b) 를 제 1 탑재대 (24a) 에 대해, 기준면과 평행하게 회전시킬 수 있고, x 축 방향으로 이동시킬 수 있는 제 2 기판 위치 맞춤 기구 (80) 를 갖고 있다. 제 2 기판 위치 맞춤 기구 (80) 에는, 예를 들어 xyθ 스테이지 또는 UVW 스테이지 중 어느 일방이 이용된다. 본 발명에서는 UVW 스테이지를 이용하면, 높이를 억제하여 기구를 구성할 수 있기 때문에, 제 2 탑재대 (24b) 의 안정성을 확보할 수 있어 좋다. The
제어 장치 (92) 는 제 2 기판 (50b) 상의 제 3, 제 4 기판 기준점 (51c, 51d) 을 연결하는 선분이 x 축 방향과 평행해지도록, 제 2 탑재대 (24b) 를 제 1 탑재대 (24a) 에 대해 기준면과 평행하게 소정 각도만큼 회전시키는 신호를, 제 2 기판 위치 맞춤 기구 (80) 에 전송한다. The
제 2 기판 위치 맞춤 기구 (80) 는, 제어 장치 (92) 로부터 전송되는 신호를 받으면, 제 2 탑재대 (24b) 와, 제 2 탑재대 (24b) 상에 유지된 제 2 기판 (50b) 을, 기판 이동부 (20) 에 대해 기준면과 평행하게 소정 각도만큼 회전시킨다. When the 2nd board |
회전 이동 후 제 3, 제 4 기판 기준점 (51c, 51d) 은, 제어 장치 (92) 에 의해 화상 처리되어, 각각의 기준면에 대한 xy 좌표가 제어 장치 (92) 에 기억된다. The 3rd, 4th board |
제 2 기판 (50b) 상에서 제 3, 제 4 기판 기준점 (51c, 51d) 과 각 착탄 위치의 상대 위치는 미리 설정되어 있기 때문에, 제 3, 제 4 기판 기준점 (51c, 51d) 의 xy 좌표로부터, 각 착탄 위치의 기준면에 대한 xy 좌표가 구해진다. Since the relative positions of the third and fourth
각 토출구 (35) 는 전술한 제 1, 제 2 위치 맞춤 공정에 의해 위치 맞춤되어 있고, 기준면에 대한 xy 좌표는 제어 장치 (92) 에 기억되어 있다. Each
제어 장치 (92) 는 제 2 기판 (50b) 상의 제 3, 제 4 기판 기준점 (51c, 51d) 의 x 좌표와, 소정 토출구 (35) 의 x 좌표로부터 오차를 구하고, 오차가 제로가 되도록 제 2 탑재대 (24b) 를 x 축 방향으로 소정 거리만큼 이동시키는 신호를, 제 2 기판 위치 맞춤 기구 (80) 에 전송한다. The
제 2 기판 위치 맞춤 기구 (80) 는, 제어 장치 (92) 로부터 전송되는 신호를 받으면, 제 2 탑재대 (24b) 상에 유지된 제 2 기판 (50b) 을, 제 1 탑재대 (24a) 에 대해 x 축 방향으로 소정 거리만큼 이동시킨다. When the 2nd board |
이상의 순서로 제 3 위치 맞춤 공정이 완료된다. 이 상태에서는 제 2 기판 (50b) 이 헤드 유지부 (30) 의 하방을 통과하는 동안에, 제 2 기판 (50b) 상의 각 착탄 위치가 적어도 1 개의 토출구 (35) 의 바로 아래를 통과하도록 되어 있다. In the above procedure, the third positioning process is completed. In this state, while the 2nd board |
10 …… 토출 장치
20 …… 기판 이동부
30 …… 헤드 유지부
32 …… 헤드
35 …… 토출구
41 …… 레일 상 이동 기구
48a, 48b …… 제 1, 제 2 이동 기구
49 …… 헤드 이동 기구
50 …… 기판
61a, 61b …… 제 1, 제 2 주경 장치
61c …… 부경 장치
62a, 62b …… 제 1, 제 2 주간섭 장치
62c, 62d …… 제 1, 제 2 부간섭 장치
70 …… 받침대
71a, 71b …… 제 1, 제 2 레일
92 …… 제어 장치
93a, 93b …… 제 1, 제 2 측정 장치10 ... ... Discharge device
20 ... ... Board moving part
30 ... ... Head retainer
32 ... ... head
35. ... Outlet
41…. ... Rail moving mechanism
48a, 48b... ... 1st, 2nd moving mechanism
49. ... Head moving mechanism
50 ... ... Board
61a, 61b... ... 1st, 2nd peripheral device
61c... ... A police device
62a, 62b... ... 1st, 2nd Weekly Interference Device
62c, 62d... ... 1st, 2nd interference interference device
70 ... ... Pedestal
71a, 71b... ... 1st, 2nd rail
92. ... controller
93a, 93b... ... 1st, 2nd measuring device
Claims (11)
상기 받침대 상에 제 1 방향을 따라 배치된 2 개의 레일과,
상기 받침대에 고정되고, 각각 복수의 토출구가 형성된 헤드를 유지하는 헤드 유지부와,
상기 2 개의 레일에 탑재되고, 기판을 배치할 수 있는 기판 이동부와,
상기 기판 이동부를 상기 2 개의 레일을 따라 상기 제 1 방향으로 이동시키고, 상기 헤드 유지부의 아래를 통과할 수 있게 한 레일 상 이동 기구를 갖고,
상기 토출구로부터 상기 기판 이동부 상에 배치된 기판을 향해 토출액을 토출시키고, 상기 토출액의 액적을 상기 기판에 착탄시키는 토출 장치로서,
상기 제 1 방향으로 제 1, 제 2 주측정광을 각각 송광하는 제 1, 제 2 주송광 장치와,
상기 제 1 방향과 수직이고 상기 기준면과 평행한 제 2 방향으로 이간되어 설치되고, 상기 제 1, 제 2 주측정광이 조사되면, 반사하여 제 1, 제 2 주반사광을 반광 (反光) 하는 제 1, 제 2 주경 (主鏡) 장치와,
상기 제 1 주측정광과 상기 제 1 주반사광을 수광하고, 상기 제 1 주측정광과 상기 제 1 주반사광의 제 1 주간섭 결과를 검출하는 제 1 주간섭 장치와,
상기 제 2 주측정광과 상기 제 2 주반사광을 수광하고, 상기 제 2 주측정광과 상기 제 2 주반사광의 제 2 주간섭 결과를 검출하는 제 2 주간섭 장치와,
상기 제 1, 제 2 주간섭 결과로부터, 상기 제 1 주간섭 장치와 상기 제 1 주경 장치 사이의 제 1 주거리와, 상기 제 2 주간섭 장치와 상기 제 2 주경 장치 사이의 제 2 주거리를 각각 구하는 측정 장치와,
상기 측정 장치의 측정 결과가 전송되는 제어 장치를 갖고,
상기 제 1, 제 2 주간섭 장치와, 상기 제 1, 제 2 주경 장치 중 어느 일방의 장치는 상기 기판 이동부에 배치되고, 타방의 장치는 상기 받침대 상에 고정되고,
상기 제 1, 제 2 주간섭 장치는, 상기 제 1, 제 2 주경 장치와 상기 제 1, 제 2 주송광 장치 사이에 배치되고,
상기 레일 상 이동 기구는, 상기 기판 이동부에 상기 제 1 레일에 대한 제 1 이동력을 인가하는 제 1 이동 기구와, 상기 기판 이동부에 상기 제 2 레일에 대한 제 2 이동력을 인가하는 제 2 이동 기구를 갖고,
상기 제어 장치는, 상기 제 1, 제 2 주거리로부터 상기 제 1, 제 2 이동력의 크기를 결정하도록 구성된 토출 장치. A pedestal stationary relative to the reference plane,
Two rails disposed in the first direction on the pedestal;
A head holding part fixed to the pedestal and holding a head each having a plurality of discharge holes formed therein;
A substrate moving part mounted on the two rails and capable of arranging a substrate;
It has a rail moving mechanism which moved the said board | substrate moving part to the said 1st direction along the said two rails, and can pass under the said head holding part,
A discharge apparatus for discharging a discharge liquid toward the substrate disposed on the substrate moving part from the discharge port, and landing droplets of the discharge liquid on the substrate.
First and second main light transmitting apparatuses respectively transmitting first and second main measuring light in the first direction;
A second device which is installed in a second direction perpendicular to the first direction and parallel to the reference plane, and reflects the first and second main reflected light when the first and second main measurement light are irradiated; 1, the second main mirror device,
A first interference device for receiving the first principal measurement light and the first principal reflection light and detecting a first interference result of the first principal measurement light and the first principal reflection light;
A second coherence interference device for receiving the second main measurement light and the second main reflection light and detecting a second interference result of the second main measurement light and the second main reflection light;
From the results of the first and second intercepts, a first principal distance between the first apparatus and the first peripheral apparatus and a second principal distance between the second apparatus and the second apparatus Measuring device to obtain each,
Has a control device to which the measurement result of the measuring device is transmitted,
One of the first and second intercept devices and the first and second peripheral apparatuses is disposed on the substrate moving part, and the other device is fixed on the pedestal,
The first and second intercept devices are disposed between the first and second peripheral apparatuses and the first and second main light transmitting apparatuses.
The rail moving mechanism includes a first moving mechanism for applying a first moving force with respect to the first rail to the substrate moving part and a second moving force for applying the second moving force with respect to the second rail to the substrate moving part. With two moving mechanisms,
And the control device is configured to determine the magnitude of the first and second moving force from the first and second main distances.
상기 제어 장치는, 상기 제 1, 제 2 주거리의 차의 설정된 값에 기초하여, 상기 제 1, 제 2 이동 기구를 제어하여, 상기 기판 이동부를 상기 2 개의 레일을 따라 이동시키도록 구성된 토출 장치. The method of claim 1,
The control device is configured to control the first and second moving mechanisms to move the substrate moving part along the two rails based on a set value of the difference between the first and second main distances. .
상기 헤드를 상기 제 2 방향으로 이동할 수 있게 한 헤드 이동 기구와,
상기 제 2 방향으로 제 1 부측정광을 송광하는 제 1 부송광 장치와,
상기 제 1 부측정광이 조사되면, 반사하여 제 1 부반사광을 반광하는 부경 (副鏡) 장치와,
상기 제 1 부측정광과 상기 제 1 부반사광을 수광하고, 상기 제 1 부측정광과 상기 제 1 부반사광의 간섭 결과를 검출하는 제 1 부간섭 장치와,
상기 제 1 부간섭 결과로부터, 상기 부경 장치와 상기 제 1 부간섭 장치 사이의 거리를 구하는 측정 장치를 갖고,
상기 제 1 부간섭 장치와, 상기 부경 장치 중 어느 일방의 장치는 상기 기판 이동부의 이동 방향 (상기 제 1 방향) 과 평행한 측면에 배치되고, 타방의 장치는 상기 받침대 상에 고정되고,
상기 제어 장치는, 상기 부경 장치와 상기 제 1 부간섭 장치 사이의 거리로부터 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 구하고, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치와 상기 헤드의 상기 제 2 방향의 위치의 차로부터, 상기 헤드 이동 기구가 상기 헤드를 이동하는 이동량을 결정하도록 구성된 토출 장치. The method according to claim 1 or 2,
A head moving mechanism allowing the head to move in the second direction;
A first sub-light transmitting device for transmitting the first sub-measuring light in the second direction;
A sub-diameter device that reflects and reflects the first sub-reflection light when the first sub-measurement light is irradiated;
A first sub-interference device for receiving the first sub-measurement light and the first sub-reflection light, and detecting an interference result of the first sub-measurement light and the first sub-reflection light;
It has a measuring apparatus which calculates the distance between the said subscope apparatus and said 1st subinterference apparatus from the said 1st subinterference result,
The first sub-interference device and one of the sub-diameter devices are disposed on a side surface parallel to the moving direction (the first direction) of the substrate moving part, and the other device is fixed on the pedestal,
The control device obtains the position in the second direction of the substrate moving part from the distance between the sub-diameter device and the first sub-interference device, and the position in the second direction of the substrate moving part and the second direction of the head. And a discharging device configured to determine, from the difference in the position of the head moving mechanism, the amount of movement in which the head moving mechanism moves the head.
상기 헤드를 상기 제 2 방향으로 이동할 수 있게 한 헤드 이동 기구와,
제 1, 제 2 부측정광을 송광하는 제 1, 제 2 부송광 장치와,
상기 제 1, 제 2 부측정광이 조사되면, 반사하여 제 1, 제 2 부반사광을 반광하는 부경 장치와,
상기 제 1, 제 2 부측정광과 상기 제 1, 제 2 부반사광을 수광하고, 상기 제 1, 제 2 부측정광과 상기 제 1, 제 2 부반사광의 간섭 결과를 검출하는 제 1, 제 2 부간섭 장치와,
상기 제 1, 제 2 부간섭 결과로부터, 상기 부경 장치와 상기 제 1, 제 2 부간섭 장치 사이의 거리를 구하는 측정 장치를 갖고,
상기 제 1, 제 2 부간섭 장치와, 상기 부경 장치 중 어느 일방의 장치는 상기 기판 이동부에 배치되고, 타방의 장치는 상기 받침대 상에 고정되고,
상기 제어 장치는, 상기 부경 장치와 상기 제 1 부간섭 장치 사이의 거리와, 상기 부경 장치와 상기 제 2 부간섭 장치 사이의 거리 중 어느 일방 또는 양방으로부터 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 구하고, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치와 상기 헤드의 상기 제 2 방향의 위치의 차로부터, 상기 헤드 이동 기구가 상기 헤드를 이동하는 이동량을 결정하도록 구성된 토출 장치. The method according to claim 1 or 2,
A head moving mechanism allowing the head to move in the second direction;
A first and a second sub-light transmitting device for transmitting the first and second sub-measuring light,
A submirror device that reflects the first and second sub-reflected light by reflecting the first and second sub-measured light upon irradiation;
First and second light receiving the first and second sub-measuring light and the first and second sub-reflection light, and detecting an interference result between the first and second sub-measuring light and the first and second sub-reflection light With two interference device,
It has a measuring apparatus which calculates the distance between the said sub diameter apparatus and the said 1st, 2nd subinterference apparatus from the said 1st, 2nd subinterference result,
Any one of the first and second sub-interference devices and the sub-calibration device is disposed on the substrate moving part, and the other device is fixed on the pedestal,
The control device is configured to adjust the position of the substrate moving part in the second direction from any one or both of the distance between the sub-scope device and the first sub-interference device and the distance between the sub-view device and the second sub-interference device. And a discharge device configured to determine a movement amount of the head moving mechanism to move the head from a difference between the position in the second direction of the substrate moving portion and the position in the second direction of the head.
상기 제어 장치는, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치와 상기 헤드의 상기 제 2 방향의 위치의 차의 설정된 값에 기초하여, 상기 헤드 이동 기구를 제어하여, 상기 기판 이동부를 상기 2 개의 레일을 따라 이동시키도록 구성된 토출 장치. The method of claim 3, wherein
The control device controls the head moving mechanism based on a set value of a difference between a position in the second direction of the substrate moving part and a position in the second direction of the head, so that the substrate moving part includes the two rails. Dispensing apparatus configured to move along the.
상기 제어 장치는, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치와 상기 헤드의 상기 제 2 방향의 위치의 차의 설정된 값에 기초하여, 상기 헤드 이동 기구를 제어하여, 상기 기판 이동부를 상기 2 개의 레일을 따라 이동시키도록 구성된 토출 장치.The method of claim 4, wherein
The control device controls the head moving mechanism based on a set value of a difference between a position in the second direction of the substrate moving part and a position in the second direction of the head, so that the substrate moving part includes the two rails. Dispensing apparatus configured to move along the.
상기 기판 이동부를 상기 종점을 향해 이동시키고,
상기 기판이 상기 헤드의 하방을 통과하는 동안에, 토출구로부터 상기 기판에 토출액을 토출시키고,
상기 기판 이동부가 상기 종점에 도착한 후, 상기 기판을 건조시키고, 상기 기판 이동부 상으로부터 상기 기판을 떼어내는 토출 방법으로서,
상기 기판 이동부의 이동 전에, 상기 기판 이동부의 기준면과 평행한 면 상에서의 상기 제 1 방향 또는 상기 제 1 방향과 수직이고 상기 기준면과 평행한 제 2 방향에 대한 기울기를 측정해 두고,
상기 기판 이동부의 이동 중에,
상기 기판 이동부의 상기 기울기를 측정하고, 상기 기판 이동부의 상기 기울기의 이동 중에 발생한 오차를 제로가 되도록 상기 2 개의 레일 상의 각 이동량을 각각 바꾸어, 상기 기판 이동부의 상기 기울기를 이동 전의 상기 기울기와 동일하게 하면서 상기 기판을 상기 헤드의 하방을 통과시키는 토출 방법.On the substrate moving portion moving between the starting point and the end point positioned on the opposite sides with the heads on the horizontal pedestal interposed therebetween in the first direction along the two rails from the starting point to the end point. Mount the substrate on,
Move the substrate moving portion toward the end point,
While discharging the discharge liquid from the discharge port to the substrate while the substrate passes below the head,
An ejecting method of drying the substrate and removing the substrate from the substrate moving part after the substrate moving part reaches the end point,
Before the movement of the substrate moving part, the inclination of the first direction on the plane parallel to the reference plane of the substrate moving part or the second direction perpendicular to the first direction and parallel to the reference plane is measured,
During the movement of the substrate moving portion,
Measure the inclination of the substrate moving part and change the respective amounts of movement on the two rails so that the error generated during the inclination of the substrate moving part is zero, so that the inclination of the substrate moving part is equal to the inclination before moving. Discharging the substrate while passing under the head.
상기 기판 이동부의 이동 전에, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 측정해 두고,
상기 기판 이동부의 이동 중에,
상기 기판 이동부의 상기 기울기를 이동 개시 전의 상기 기울기와 동일하게 하고 나서, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 측정하고, 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치와 상기 헤드의 상기 제 2 방향의 위치의 차가 이동 개시 전과 동일해지도록 상기 헤드를 이동시켜,
상기 기판 이동부와 상기 헤드 사이의 상기 제 2 방향의 상대 위치 관계를 이동 전의 상대 위치 관계와 동일하게 하면서 상기 기판을 상기 헤드의 하방을 통과시키는 토출 방법. The method of claim 7, wherein
Before the movement of the substrate moving part, the position in the second direction of the substrate moving part is measured,
During the movement of the substrate moving portion,
After making the inclination of the substrate moving part equal to the inclination before the start of the movement, the position of the second direction of the substrate moving part is measured, and the position of the second direction of the substrate moving part and the second direction of the head are measured. The head is moved so that the difference in the position of is the same as before the start of the movement,
And the substrate is passed under the head while making the relative positional relationship in the second direction between the substrate moving part and the head the same as the relative positional relationship before movement.
상기 기판 이동부 상에 상기 기판을 탑재하고 나서 상기 기판 이동부를 이동시키고, 상기 기판이 상기 헤드의 하방에 진입하기 전에, 상기 헤드 앞의 위치에서 일단 정지시키고, 상기 기판 상의 각 착탄 위치가 상기 헤드에 형성된 토출구의 바로 아래를 통과하도록 위치 맞춤하는 토출 방법. The method of claim 7, wherein
After mounting the substrate on the substrate moving portion, the substrate moving portion is moved, and before the substrate enters the lower side of the head, it is once stopped at a position before the head, and each impact position on the substrate is determined by the head. A discharging method for positioning so as to pass through just below the discharge port formed in the.
상기 기판 이동부 상에 상기 기판을 탑재하고 나서 상기 기판 이동부를 이동시키고, 상기 기판이 상기 헤드의 하방에 진입하기 전에, 상기 헤드 앞의 위치에서 일단 정지시키고, 상기 기판 상의 각 착탄 위치가 상기 헤드에 형성된 토출구의 바로 아래를 통과하도록 위치 맞춤하는 토출 방법. The method of claim 8,
After mounting the substrate on the substrate moving portion, the substrate moving portion is moved, and before the substrate enters the lower side of the head, it is once stopped at a position before the head, and each impact position on the substrate is determined by the head. A discharging method for positioning so as to pass through just below the discharge port formed in the.
상기 기판 이동부와, 상기 받침대 중 어느 일방에, 제 1, 제 2 주측정광이 조사되면 반사하여, 제 1, 제 2 주반사광을 반광하는 제 1, 제 2 주경 장치가 배치되고, 타방에 상기 제 1 주측정광과 상기 제 1 주반사광을 수광하고, 상기 제 1 주측정광과 상기 제 1 주반사광의 제 1 주간섭 결과를 검출하는 제 1 주간섭 장치와, 상기 제 2 주측정광과 상기 제 2 주반사광을 수광하고, 상기 제 2 주측정광과 상기 제 2 주반사광의 제 2 주간섭 결과를 검출하는 제 2 주간섭 장치가 배치되고,
상기 제 1, 제 2 주간섭 결과로부터 상기 제 1, 제 2 주간섭 장치와 상기 제 1, 제 2 주경 장치 사이의 제 1, 제 2 주거리가 구해지고,
상기 제 1, 제 2 주거리로부터 상기 기판 이동부의 상기 기울기를 측정하고,
상기 기판 이동부와, 상기 받침대 중 어느 일방에, 제 1, 제 2 부측정광이 조사되면 반사하여, 제 1, 제 2 부반사광을 반광하는 부경 장치가 배치되고, 타방에 상기 제 1 부측정광과 상기 제 1 부반사광을 수광하고, 상기 제 1 부측정광과 상기 제 1 부반사광의 제 1 부간섭 결과를 검출하는 제 1 부간섭 장치와, 상기 제 2 부측정광과 상기 제 2 부반사광을 수광하고, 상기 제 2 부측정광과 상기 제 2 부반사광의 제 2 부간섭 결과를 검출하는 제 2 부간섭 장치가 배치되고,
상기 제 1, 제 2 부간섭 결과로부터 상기 제 1, 제 2 부간섭 장치와 상기 부경 장치 사이의 제 1, 제 2 부거리가 구해지고,
상기 제 1, 제 2 부거리 중 어느 일방 또는 양방으로부터 상기 기판 이동부의 상기 제 2 방향의 위치를 측정하는 토출 방법.
The method according to any one of claims 7 to 10,
One of the said board | substrate moving parts and the said base is reflected, when 1st, 2nd main measurement light is irradiated, and the 1st, 2nd main mirror apparatus which semi-reflects the 1st, 2nd main reflection light is arrange | positioned, and the other A first observing device for receiving the first main measuring light and the first main reflecting light, and detecting a first observing result of the first main measuring light and the first main reflecting light, and the second main measuring light And a second interference device for receiving the second main reflection light and detecting a second interference result of the second main reflection light and the second main reflection light,
First and second principal distances between the first and second peripheral apparatuses and the first and second peripheral apparatuses are obtained from the first and second apparatuses.
Measuring the inclination of the substrate moving part from the first and second main distances,
One of the said board | substrate moving part and the said base is reflected, when a 1st, 2nd sub-measuring light is irradiated, and the submirror apparatus which reflects the 1st, 2nd sub-reflection light is arrange | positioned, and the said 1st sub-measuring is located on the other side. A first sub-interference device that receives light and the first sub-reflection light, and detects a first sub-interference result of the first sub-reflection light and the first sub-reflection light, the second sub-measurement light and the second sub-light A second sub-interference device for receiving the reflected light and detecting a second sub-interference result of the second sub-measurement light and the second sub-reflection light,
From the first and second sub-interference results, first and second sub-distances between the first and second sub-interference devices and the sub-view device are obtained.
A discharge method for measuring a position in the second direction of the substrate moving part from any one or both of the first and second sub-distances.
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