KR101186278B1 - Chuck table apparatus used in laser processing apparatus, laser processing apparatus adopting the same, and chucking method thereof - Google Patents
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Abstract
개시된 척 테이블 장치는, 테이블과, 이 테이블 상에 배치되며 복수의 진공 흡착부가 마련된 흡착 베드와, 가공 대상물을 지지하는 복수의 격자를 구비하며 복수의 진공 흡착부가 복수의 격자 내에 위치되도록 설치되어 격자 베드와, 복수의 격자의 내부에 배치되는 제1자석과, 가공 대상물을 사이에 두고 제1자석과 대향되도록 위치되는 제2자석을 포함한다. 이에 의하여 다양한 형태의 가공 대상물을 지지할 수 있으며, 가공 대상물의 휨을 보정하여 평탄하게 지지할 수 있다.The disclosed chuck table apparatus includes a table, an adsorption bed disposed on the table, and provided with a plurality of vacuum adsorption units, a plurality of gratings supporting the object to be processed, and the plurality of vacuum adsorption units are provided to be located in the plurality of gratings. The bed includes a bed, a first magnet disposed inside the plurality of gratings, and a second magnet positioned to face the first magnet with the object to be processed therebetween. Thereby, the processing object of various forms can be supported, and the curvature of the processing object can be correct | amended and can be supported flatly.
Description
본 발명은 가공 대상물에 레이저 빔을 조사하여 산업적으로 유용한 가공을 수행하는 레이저 가공장치의 척 테이블 장치, 이를 채용한 레이저 가공장치, 및 척킹방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가공 대상물을 지지하는 평탄하게 지지할 수 있는 척 테이블 장치, 이를 채용한 레이저 가공장치, 및 척킹 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a chuck table device of a laser processing apparatus, a laser processing apparatus employing the same, and a chucking method for irradiating a laser beam to a processing object to perform industrially useful processing. The present invention relates to a chuck table device that can be easily supported, a laser processing device employing the same, and a chucking method.
반도체 패키지, 인쇄회로기판, 플라스틱, 세라믹 등의 가공 대상물에 레이저 빔을 조사하여 가공하는 레이저 가공장치에서 가공 대상물은 척 테이블에 장착된다. In a laser processing apparatus that irradiates a laser beam onto a processing object such as a semiconductor package, a printed circuit board, a plastic, or a ceramic, the processing object is mounted on a chuck table.
척 테이블 장치는 가공 대상물을 정해진 위치에 견고하게 고정하여야 한다. 레이저 가공 장치는 다양한 크기와 형상을 가진 가공 대상물을 가공할 수 있다. 이 경우에, 다양한 크기의 형상을 가진 가공 대상물을 고정하기 위하여, 각 가공 대상물에 맞추어 고정 지그(jig)가 필요하다. The chuck table device is to securely fix the object to a fixed position. The laser processing apparatus can process a workpiece having various sizes and shapes. In this case, in order to fix a workpiece having a shape of various sizes, a fixing jig is required in accordance with each workpiece.
또, 넓은 판 형상의 가공 대상물은 평탄하게 지지될 필요가 있다. 예를 들어 반도체 공정에 사용되는 웨이퍼와 같이 얇은 가공 대상물은 지지되지 않는 부분이 아래로 처져 웨이퍼 전체가 휘어지는, 소위 '워피지(warpage)' 가 발생될 수 있다. 이러한 가공 대상물의 워피지는 가공 대상물에 수행되는 가공의 정밀도를 저해하여 불량률을 높일 수 있어 문제이다. 이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 가공 대상물의 전체 면을 지지할 수 있는 지그를 채용할 수 있다. 그러나, 이 경우에는 가공 대상물의 크기와 형태에 따라서 이를 지지하는 구조가 달라지기 때문에, 가공 대상물이 달라지면 별도로 지그를 제작하여야 한다. 따라서, 가공 대상물이 달라질 때마다 지그를 다시 제작하고, 이를 레이저 가공기에 교체, 장착하는 추가적인 공정과 비용이 소요된다. In addition, the wide plate-like object needs to be supported flat. For example, a thin object to be processed, such as a wafer used in a semiconductor process, may cause so-called 'warpage', in which an unsupported portion sags downward to warp the entire wafer. This warpage of the object to be processed is a problem because it can increase the defective rate by inhibiting the precision of the machining performed on the object. In order to solve such a problem, the jig which can support the whole surface of a process object can be employ | adopted. However, in this case, since the structure for supporting it varies depending on the size and shape of the object to be processed, a jig should be manufactured separately when the object is changed. Therefore, each time the object to be processed changes the jig, and the additional process and cost of replacing and mounting it on the laser processing machine takes.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 다양한 크기와 형상의 가공 대상물을 지지할 수 있는 레이저 가공 장치의 척 테이블 장치, 이를 채용한 레이저 가공장치, 및 척킹방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 가공 대상물을 평탄하게 지지할 수 있는 레이저 가공 장치의 척 테이블 장치, 이를 채용한 레이저 가공장치, 및 척킹 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a chuck table apparatus of a laser processing apparatus, a laser processing apparatus employing the same, and a chucking method capable of supporting a processing object of various sizes and shapes. do. Moreover, an object of this invention is to provide the chuck table apparatus of the laser processing apparatus which can support a process target flatly, the laser processing apparatus employing the same, and the chucking method.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 레이저 가공 장치의 척 테이블 장치는, 테이블; 상기 테이블 상에 배치되며, 가공 대상물을 진공 압력에 의하여 흡착하는 복수의 진공 흡착부가 마련된 흡착 베드; 상기 가공 대상물을 지지하는 복수의 격자를 구비하며, 상기 복수의 진공 흡착부가 상기 복수의 격자 내에 위치되도록 설치되는 격자 베드; 상기 복수의 격자의 내부에 배치되는 제1자석; 상기 제1자석과 대향되도록 상기 가공 대상물 위에 놓여져서, 상기 제1자석과의 사이에 작용되는 자기력에 의하여 상기 가공 대상물을 누르는 제2자석;을 포함한다.The chuck table apparatus of the laser processing apparatus of the present invention for achieving the above object includes a table; An adsorption bed disposed on the table and provided with a plurality of vacuum adsorption parts for adsorbing a workpiece by vacuum pressure; A grating bed having a plurality of gratings for supporting the object to be processed, the grating beds being provided such that the plurality of vacuum adsorption portions are located in the plurality of gratings; A first magnet disposed in the plurality of gratings; And a second magnet placed on the workpiece so as to face the first magnet and pressing the workpiece by a magnetic force acting between the first magnet.
상기 제1자석은 상기 복수의 격자의 내에 착탈 가능하게 배치될 수 있다.The first magnet may be detachably disposed in the plurality of gratings.
상기 제1자석에는 상기 진공 흡착부가 삽입되는 삽입공이 마련될 수 있다.The first magnet may be provided with an insertion hole into which the vacuum suction unit is inserted.
상기 제1, 제2자석은 알리코 자석일 수 있다.The first and second magnets may be alico magnets.
상기 격자 베드는 알루미륨으로 형성된 것일 수 있다.The grating bed may be formed of aluminum.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 레이저 가공 장치는, 레이저 발진기; 상기 레이저 발진기로부터 조사되는 레이저 빔을 가공 대상물에 조사하는 스캔 렌즈; 및 상술한 척 테이블 장치를 포함한다.Laser processing apparatus of the present invention for achieving the above object, a laser oscillator; A scan lens for irradiating a laser beam irradiated from the laser oscillator onto an object to be processed; And the chuck table apparatus described above.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 척킹 방법은, 격자 베드의 복수의 격자 중 하나 이상의 격자에 복수의 진공 흡착부와 제1자석을 배치하는 단계; 상기 격자 베드 위에 가공 대상물을 적치하고, 상기 복수의 진공 흡착부를 통하여 진공압력을 가하여 상기 가공 대상물을 진공흡착하는 단계; 상기 제1자석과 대향되는 상기 가공 대상물 위에 제2자석을 배치하여 자기력에 의하여 상기 가공 대상물을 자기 흡착하는 단계;를 포함한다.The chucking method of the present invention for achieving the above object comprises the steps of: arranging a plurality of vacuum adsorption portion and the first magnet in one or more of the plurality of gratings of the grating bed; Depositing an object to be processed on the lattice bed and applying a vacuum pressure through the plurality of vacuum adsorption units to vacuum-adsorb the object to be processed; And arranging a second magnet on the object to be opposed to the first magnet to magnetically adsorb the object to be processed by a magnetic force.
상기 제1, 제2자석은 상기 가공 대상물의 휨이 있는 부분에 배치되어 자기력에 의하여 상기 휨을 보정할 수 있다.The first and second magnets may be disposed in the warped portion of the workpiece to correct the warpage by magnetic force.
본 발명에 따른 척 테이블 장치, 이를 채용한 레이저 가공 장치, 및 척킹방법에 따르면, 가공 대상물의 크기와 외곽 형태가 달라지더라도 진공 압력과 자기력에 의하여 가공 대상물을 고정시킬 수 있으므로, 가공 대상물에 맞추어 고정 지그를 별도로 제작할 필요가 없다. 또한, 진공 압력과 자기력을 이용하여 휨이 있는 가공 대상물을 평탄하게 지지할 수 있어, 가공 대상물의 휨에 기인하는 가공 불량을 감소시킬 수 있다. 또한, 제1, 제2자석을 가공 대상물의 휜 부분에 장착함으로써 가공 대상물의 휨 위치나 방향에 맞추어 평탄하게 지지할 수 있다.According to the chuck table device, the laser processing device employing the same, and the chucking method according to the present invention, the object can be fixed by vacuum pressure and magnetic force even if the size and outline of the object are changed. There is no need to make a fixed jig separately. In addition, by using the vacuum pressure and the magnetic force, it is possible to smoothly support the object to be warped, thereby reducing processing defects caused by the warpage of the object. Moreover, by attaching a 1st, 2nd magnet to the fin part of a process target object, it can support flatly according to the bending position and a direction of a process target object.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 장치를 개략적으로 도시한 구성도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 척 테이블 장치의 분해 사시도.
도 3은 진공 흡착부를 상세하게 도시한 단면도.
도 4는 제1자석과 격자와의 결합구조의 일 예를 도시한 분해 사시도.
도 5는 도 4의 A-A' 단면도.
도 6은 진공 흡착부와 제1자석의 배치의 일예를 도시한 평면도.
도 7은 제1자석의 일 변형예를 도시한 사시도.
도 8은 휨을 가진 가공 대상물이 척 테이블 장치에 적치된 모습을 도시한 측면도.
도 9는 제1, 제2자석을 이용하여 가공 대상물의 휨을 보정한 모습을 도시한 측면도.1 is a configuration diagram schematically showing a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is an exploded perspective view of the chuck table device according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing in detail the vacuum adsorption unit.
Figure 4 is an exploded perspective view showing an example of the coupling structure of the first magnet and the lattice.
5 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 4.
6 is a plan view illustrating an example of an arrangement of a vacuum suction unit and a first magnet;
7 is a perspective view showing a modification of the first magnet;
Fig. 8 is a side view showing a state in which a warped object is placed in a chuck table device.
9 is a side view illustrating a state in which the warpage of the object to be processed is corrected using the first and second magnets.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 레이저 가공 장치의 척 테이블 장치, 이를 채용한 레이저 가공장치, 및 척킹 방법의 실시예들을 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described embodiments of the chuck table device of the laser processing apparatus, the laser processing apparatus employing the same, and the chucking method according to an embodiment of the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 장치의 일 실시예의 구성도이다. 도 1을 보면, 레이저 가공장치는, 레이저 발진기(10), 반사미러(20), 스캐너(30), 및 스캔 렌즈(40)를 포함할 수 있다. 레이저 발진기(10)로부터 출사된 레이저 빔은 반사미러(20)에 의하여 반사되어 스캐너(30)으로 입사된다. 스캐너(30)는 가공 데이터에 의하여 레이저 빔을 평면 내에서 소정의 위치로 이동시키는 것으로서, 예를 들어 갈바노미러장치일 수 있다. 스캐너(30)에 의하여 위치가 제어된 레이저 빔은 스캔 렌즈(40)를 거쳐 가공하고자 하는 가공 대상물(50)의 원하는 위치에 집광됨으로써, 가공 대상물(50)을 가공하게 된다. 이러한 과정에 의하여 레이저 가공장치는 레이저 빔을 조사함으로써 가공 대상물(50)에 대한 마킹, 식각, 절단, 노광, 천공 등의 가공 공정을 수행한다. 1 is a configuration diagram of an embodiment of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the laser processing apparatus may include a
가공 대상물(50)은 척 테이블 장치(100)에 탑재된다. 척 테이블 장치(100)는 도시되지 않은 이송 수단에 의하여 횡방향 및/또는 종방향으로 이동가능한 것일 수 있다. 척 테이블 장치(100)는 가공 대상물(50)을 지지하기 위한 것으로서, 도 2 및 도 3을 참조하면, 테이블(110), 흡착 베드(120), 및 격자 베드(130), 제1자석(150), 제2자석(160)을 포함할 수 있다. 흡착 베드(120)는 도시되지 않은 체결수단에 의하여 테이블(110)에 결합될 수 있다. 격자 베드(130)는 도시되지 않은 체결 수단에 의하여 테이블(110) 또는 흡착 베드(120)에 결합될 수 있다.The object to be processed 50 is mounted on the
격자 베드(130)에는 복수의 격벽(132)에 의하여 구분된 복수의 격자(131)가 마련된다. 이러한 격자 구조의 격자 베드(130)는 레이저 가공 과정에서 레이저 빔에 격자 베드(130)에 의하여 반사되는 것을 최소화하기 위한 것이다. 이를 위하여 격벽(132)은 가급적 얇은 것이 바람직하다. 격자 베드(130)는 레이저 빔에 의한 손상이 적은 물질로 제조될 수 있다. 예를 들어 격자 베드(130)는 알루미늄으로 형성될 수 있다. 도 2에는 사각형 형태의 격자(131)를 구비하는 격자 베드(130)가 도시되어 있으나, 이는 일 예에 지나지 않는다. 예를 들어 격자(131)는 오각형, 육각형, 원형 등 다양한 형태일 수 있다. 또, 격자(131)가 모두 동일한 형태일 필요는 없다. The
흡착 베드(120)는 테이블(110) 위에 위치된다. 흡착 베드(120)에는 가공 대상물(50)을 진공 압력에 의하여 흡착하기 위한 복수의 진공 흡착부(140)가 마련된다. 진공 흡착부(140)는 격자(131) 내에 위치된다. 진공 흡착부(140)는 흡착 베드(120)로부터 상방으로 연장된 진공 니들(121)을 포함할 수 있다. 진공 니들(121) 내부의 중공부(122)는 흡착 베드(120) 내부에 형성된 진공통로(123)와 연결된다. 진공 통로(123)는 진공 연결부(129)를 통하여 도시되지 않은 진공 펌프와 연결된다. 진공펌프로부터 제공되는 진공압력은 진공 통로(123), 중공부(122)를 거쳐 진공 니들(121)의 선단부(124)에 인가될 수 있다. 진공 흡착부(140)는 탄성을 가진 첨두부(125)를 구비할 수 있다. 예를 들어, 고무로 된 첨두부(125)가 진공 니들(121)의 선단부(124)에 마련될 수 있다. 첨두부(125)는 가공 대상물(50)의 하면을 지지하고, 가공 대상물(50)의 하면에 접촉되어 진공 압력이 누출되지 않도록 한다. 도면으로 도시되지는 않았지만, 진공 통로(123)가 테이블(110) 내에 마련되어, 흡착 베드(120)가 테이블(110)에 장착되면 진공 니들(121)이 진공 통로(123)와 연결될 수도 있다. 이 외에도 다양한 방법에 의하여 진공 니들(121)에 진공 압력이 공급될 수 있다.
제1자석(150)은 격자(131) 내에 위치된다. 제1자석(150)은 격자(131)의 내부에 억지끼워맞춤 방식에 의하여 삽입될 수 있다. 또한, 제1자석(150)은 격자(131) 내에 착탈가능하게 결합될 수도 있다. 예를 들어, 도 4를 보면, 제1자석(150)에 걸림홈(151)이 마련되고, 격자(131)를 이루는 격벽(132)에는 걸림홈(151)에 결합되는 후크(133)가 마련될 수 있다. 제1자석(150)을 격자(131)의 상방으로보터 격자(131)에 삽입하면, 후크(133)의 아암(134)이 후퇴된다. 걸림홈(151)이 후크(133)와 동일한 높이에 도달되면 아암(134)에 전진하여 도 5에 도시된 바와 같이 후크(133)가 걸림홈(151)에 걸림으로써 제1자석(150)이 격자(131) 내에 결합된다. 제1자석(150)을 탈거하고자 하는 경우에는 아암(134)을 후퇴시켜 후크(133)를 걸림홈(151)으로부터 이탈시키고 제1자석(150)을 격자(131)로부터 탈거할 수 있다. The
모든 격자(131) 내에 진공 흡착부(140)가 위치될 필요는 없다. 또한, 모든 격자(131) 내에 제1자석(150)에 위치될 필요도 없다. 진공 흡착부(140)와 제1자석(150)의 배열 예로서, 도 6을 보면 격자(131) 내에 진공 흡착부(140)와 제1자석(150)이 교대로 배열된 구조가 개시되어 있다. 다만, 이에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라서 다양한 형태의 진공 흡착부(140)와 제1자석(150)의 배열이 적용될 수 있다. 또, 반드시 격자(131) 내에 하나의 진공 흡착부(140)가 배치될 필요는 없으며, 둘 이상의 진공 흡착부(140)가 배치되는 것도 가능하다. 또한, 제1, 제2자석(150)(160)은 가공 대상물(50)의 휨이 있는 부분에 배치될 수도 있다. It is not necessary for the
일 변형예로서, 도 7에 도시된 바와 같이 제1자석(150a)에 진공 흡착부(140)가 삽입될 수 있는 삽입공(153)이 마련될 수 있다. 이러한 구성은 제1자석(150a)과 진공 흡착부(140)의 배치 위치가 중복될 필요가 있는 경우에 유용하다. As a variant, as shown in FIG. 7, an
이하, 상술한 구성에 의한 작용 효과에 대하여 설명한다. 도 8에 도시된 바와 같이, 테이블(110) 위에 흡착 베드(120)가 위치된다. 격자 베드(130)는 진공 흡착부(140)가 격자(131) 내에 위치되도록 흡착 베드(120) 위에 위치된다. 가공 대상물(50)은 격자 베드(130) 위에 위치된다. 도 8에 도시된 바와 같이 가공 대상물(50)의 양단부 쪽이 워피지(warpage)에 의하여 위쪽으로 휜 경우에는 이 휜 부분 및 그 부근에서는 진공 흡착부(140)의 진공압력에 작용되지 않아서 가공 대상물(50)을 평탄하게 지지할 수 없다. 가령 손으로 눌러서 진공 흡착부(140)에 가공 대상물(50)의 이면이 닿도록 하더라도 탄성에 의하여 다시 진공 흡착부(140)로부터 이격될 수 있다. 이와 같이 가공 대상물(50)이 평탄하게 지지되지 않는 경우에는 조사되는 레이저 빔의 초점에 정확하게 가공 대상물(50)의 표면에 집광되지 않아서 가공 불량이 발생될 수 있다. Hereinafter, the effect by the structure mentioned above is demonstrated. As shown in FIG. 8, the
가공 대상물(50)을 평탄하게 지지하기 위하여, 가공 대상물(50)의 양단부에 대응되는 격자(131) 내에 제1자석(150)을 배치한다. 그리고, 가공 대상물(50) 위에 제1자석(150)과마주보도록 제2자석(160)을 배치한다. 제1, 제2자석(150)(160)을 상호 다른 극성이 마주보도록 배치하면, 제1, 제2자석(150)(160)이 상호 결합되는 방향으로 자기력이 작용된다. 따라서, 제2자석(160)이 제1자석(150) 방향으로 끌리면서 가공 대상물(50)을 눌러 가공 대상물(50)의 휨이 보정된다. 나아가서, 가공 대상물(50)의 휘어진 부분 부근의 진공 흡착부(140)가 가공 대상물(50)의 이면에 닿아 진공압력에 의하여 가공 대상물(50)을 끌어당긴다. 이와 같은 과정에 의하여 가공 대상물(50)은 평탄하게 또 견고하게 격자 베드(130) 위에 지지될 수 있다.In order to support the
도 8 및 도 9에서는 가공 대상물(50)의 양단부가 위쪽으로 휜 경우를 예로써 설명하였으나, 이에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다. 가공 대상물(50)의 워피지의 형태나 위치에 맞추어 적절한 위치에 필요에 따라 적절한 수의 제1자석(150)과 제2자석(160)을 배치할 수 있다. In FIG. 8 and FIG. 9, the case in which both ends of the object to be processed are lifted upwards as an example, but the scope of the present invention is not limited thereto. An appropriate number of
상술한 척 테이블 장치에 따르면, 가공 대상물(50)의 크기와 외곽 형태가 달라지더라도 진공 압력과 자기력에 의하여 가공 대상물(50)을 고정시킬 수 있다. 따라서, 가공 대상물(50)에 맞추어 고정 지그를 별도로 제작할 필요가 없다. 또한, 진공 압력과 자기력을 이용하여 휨이 있는 가공 대상물(50)을 평탄하게 지지할 수 있어, 가공 대상물(50)의 휨에 기인하는 가공 불량을 감소시킬 수 있다. 또한, 제1, 제2자석을 가공 대상물(50)의 휜 부분에 장착함으로써 가공 대상물(50)의 휨 위치나 방향에 맞추어 평탄하게 지지할 수 있다.According to the chuck table apparatus described above, even if the size and the outer shape of the
도 6에 도시된 바와 같이 삽입공(153)이 마련된 제1자석(150a)을 채용하는 경우에는 진공 흡착부(140)의 진공 압력과 제1, 제2자석(150a)(160)의 자기력을 가공 대상물(50)의 휨이 있는 부분에 집중할 수 있어, 효과적으로 가공 대상물(50)의 휨을 보정하여 평탄하게 지지할 수 있다. 즉, 필요에 따라 제1자석(150)과 삽입공(153)을 구비하는 제1자석(150a)을 함께 사용할 수 있다. 도 6에는 하나의 삽입공(153)이 마련된 제1자석(150a)이 도시되어 있으나, 필요에 따라서는 둘 이상의 삽입공(153)이 마련될 수도 있다.As shown in FIG. 6, when the
제1, 제2자석(150)(160)으로서 다양한 자석류가 사용될 수 있다. 예를 들어, 제1, 제2자석(150)(160)으로서 온도에 대한 안정성이 높은 알리코(alico) 자석이 채용될 수 있다. 알리코 자석은 소결, 주조 등의 방법에 의하여 용이하게 원하는 형상으로 제조될 수 있어, 다양한 형태의 격자 베드(130)에 적용이 용이하다.Various magnets may be used as the first and
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.
10...레이저 발진기 20...반사미러
30...스캐너 40...스캔 렌즈
50...가공 대상물 100...척 테이블 장치
110...테이블 120...흡착 베드
121...진공 니들 123...진공 통로
125...첨두부 130...격자 베드
131...격자 132...격벽
133...후크 134...아암
140...진공 흡착부 150, 150a...제1자석
151...걸림홈 153...삽입공
160...제2자석10 ...
30 ...
50 ...
110 table 120 adsorption bed
121
125 ... peak 130 ... lattice bed
131 ...
133 Hook ... 134 Arm
140 ...
151.Gripping
160 ... Second magnet
Claims (8)
상기 테이블 상에 배치되며, 가공 대상물을 진공 압력에 의하여 흡착하는 복수의 진공 흡착부가 마련된 흡착 베드;
상기 가공 대상물을 지지하는 복수의 격자를 구비하며, 상기 복수의 진공 흡착부가 상기 복수의 격자 내에 위치되도록 설치되는 격자 베드;
상기 복수의 격자의 내부에 배치되는 제1자석;
상기 제1자석과 대향되도록 상기 가공 대상물 위에 놓여져서, 상기 제1자석과의 사이에 작용되는 자기력에 의하여 상기 가공 대상물을 누르는 제2자석;을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치의 척 테이블 장치.table;
An adsorption bed disposed on the table and provided with a plurality of vacuum adsorption parts for adsorbing a workpiece by vacuum pressure;
A grating bed having a plurality of gratings for supporting the object to be processed, the grating beds being provided such that the plurality of vacuum adsorption portions are located in the plurality of gratings;
A first magnet disposed in the plurality of gratings;
And a second magnet placed on the object to be opposed to the first magnet and pressing the object by a magnetic force acting between the first magnet. 2. .
상기 제1자석은 상기 복수의 격자의 내에 착탈 가능하게 배치되는 것을 특징으로 하는 척 테이블 장치.The method of claim 1,
The first magnet is detachably arranged in the plurality of gratings, characterized in that the chuck table device.
상기 제1자석에는 상기 진공 흡착부가 삽입되는 삽입공이 마련된 것을 특징으로 하는 척 테이블 장치.The method of claim 1,
The first magnet is a chuck table device, characterized in that the insertion hole is inserted into the vacuum suction unit is provided.
상기 제1, 제2자석은 알리코 자석인 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치의 척 테이블 장치. The method of claim 1,
And the first and second magnets are alico magnets.
상기 격자 베드는 알루미륨으로 형성된 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치의 척 테이블 장치.The method of claim 1,
The lattice bed is a chuck table device of a laser processing apparatus, characterized in that formed of aluminum.
레이저 발진기;
상기 레이저 발진기로부터 조사되는 레이저 빔을 가공 대상물에 조사하는 스캔 렌즈;를 포함하는 레이저 가공장치.A chuck table device according to any one of claims 1 to 5, wherein the object to be processed is mounted;
Laser oscillator;
And a scan lens for irradiating a laser beam irradiated from the laser oscillator onto a processing object.
상기 격자 베드 위에 가공 대상물을 적치하고, 상기 복수의 진공 흡착부를 통하여 진공압력을 가하여 상기 가공 대상물을 진공흡착하는 단계;
상기 제1자석과 대향되는 상기 가공 대상물 위에 제2자석을 배치하여 자기력에 의하여 상기 가공 대상물을 자기 흡착하는 단계;를 포함하는 척킹 방법.Disposing a plurality of vacuum adsorption portions and a first magnet on at least one of the plurality of grids of the grid bed;
Depositing an object to be processed on the lattice bed and applying a vacuum pressure through the plurality of vacuum adsorption units to vacuum-adsorb the object to be processed;
And arranging a second magnet on the object to be opposed to the first magnet to magnetically adsorb the object by magnetic force.
상기 제1, 제2자석은 상기 가공 대상물의 휨이 있는 부분에 배치되어 자기력에 의하여 상기 휨을 보정하는 것을 특징으로 하는 척킹방법.The method of claim 7, wherein
And the first and second magnets are arranged in the warped portion of the workpiece to correct the warpage by a magnetic force.
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