KR101150788B1 - Device and system for aligning substrate, and a coating apparatus having the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An aligning apparatus and system of a substrate and a coating apparatus including the same are provided to align substrates of various sizes by changeably adjusting a stroke of the aligning apparatus by a user. CONSTITUTION: A vision camera checks an align state of a substrate. A controller is respectively connected to the vision camera and a pair of aligning apparatuses. A display apparatus is connected to the controller and monitors the align state of the substrate. An upper side block(252) is located on a support block. A roller(253) is offered to a tip-end part of the upper side block. An up-down cylinder controls up-down movement of the upper side block. A servo motor(256) controls forward-backward movement of the upper side block. The upper side block linearly moves to a variable stroke within a maximum stroke by the servo motor. The maximum stroke is 30mm.

Description

기판의 얼라인 장치 및 시스템, 및 이를 구비한 코팅 장치{Device and System for Aligning Substrate, and A Coating Apparatus Having the Same} Alignment apparatus and system of a substrate, and a coating apparatus having the same {Device and System for Aligning Substrate, and A Coating Apparatus Having the Same}

본 발명은 기판의 얼라인 장치 및 시스템, 및 이를 구비한 코팅 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an alignment apparatus and system for a substrate and a coating apparatus having the same.

좀 더 구체적으로, 본 발명은 글래스와 같은 기판을 서보 모터 방식의 얼라인 장치와 선택적으로 비전 카메라를 사용하여 얼라인함으로써, 다양한 종류에 따른 상이한 사이즈의 가판에 대한 얼라인이 가능하고, 기판 사이즈의 변경시에도 얼라인 장치의 교체 작업이 불필요하므로 기판의 얼라인 시간이 상당히 줄어들며, 기판 얼라인의 정밀 제어가 가능하고, 반복 정밀도가 크게 향상되며, 기판 얼라인의 상태를 실시간으로 판별하는 것이 가능하고, 얼라인 동작의 완료 시에 얼라인 상태의 에러에 대한 즉시 경고가 가능한 기판의 얼라인 장치 및 시스템, 및 이를 구비한 코팅 장치에 관한 것이다. More specifically, the present invention aligns a substrate such as glass by using a servo motor aligning device and optionally a vision camera to align substrates of different sizes according to various kinds, and substrate size. It is not necessary to replace the aligning device even at the time of change of the aligning device, which significantly reduces the alignment time of the substrate, enables precise control of the substrate alignment, greatly improves the repeat accuracy, and determines the status of the substrate alignment in real time. And an alignment apparatus and system for a substrate capable of immediately warning of an error in the alignment state upon completion of the alignment operation, and a coating apparatus having the same.

PDP, LCD, 또는 OELD와 같은 평판 디스플레이(FPD: Flat Panel Display)를 제조하기 위해서는 글래스와 같은 기판이 스테이지(stage) 상에 위치되어야 한다. 그 후, 예를 들어 스테이지 상에 위치된 기판 상에서 코팅 공정, 일정 패턴 형성 고정, 노광 공정, 에칭 공정, 또는 접착제 도포 및 본딩 공정 등의 다양한 공정이 수행된다. In order to manufacture a flat panel display (FPD) such as a PDP, LCD, or OELD, a substrate such as glass must be placed on a stage. Thereafter, for example, various processes such as a coating process, a fixed pattern formation fixing, an exposure process, an etching process, or an adhesive application and bonding process are performed on a substrate positioned on a stage.

도 1a는 종래 기술의 FPD 제조용 코팅 장치를 개략적으로 예시한 도면이다.Figure 1a is a schematic diagram illustrating a prior art coating device for manufacturing FPD.

좀 더 구체적으로, 도 1a에 개략적으로 예시된 FPD를 제조하기 위해 사용되는 테이블 코팅 장치(table coater)(100)에서는 코팅할 작업물인 기판(110)을 스테이지(112) 상에 위치시킨 후 갠트리(gantry)(125)에 부착된 노즐 장치(120)를 수평방향으로 이동시키면서 기판(110) 상에 필요한 도액을 도포시키는 방법이 사용되고 있다.More specifically, in the table coater 100 used to manufacture the FPD schematically illustrated in FIG. 1A, the substrate 110, which is a workpiece to be coated, is placed on the stage 112 and then gantry ( A method of applying the necessary coating liquid on the substrate 110 while moving the nozzle device 120 attached to the gantry 125 in the horizontal direction is used.

상술한 바와 같이, 예를 들어 종래 기술에 따른 코팅 장치(100)를 사용하여 기판(110) 상에서 코팅 공정을 수행하기 위해서는, 기판(110)이 스테이지(112) 상에 위치되어야 한다. 그 후, 스테이지(112) 상에 위치된 기판(110)의 코팅 공정을 수행하기 전에 예를 들어 스테이지(112) 둘레에 배치된 복수의 얼라인 장치로 구성되는 얼라인 시스템을 이용하여 얼라인 공정이 이루어져야 한다. 이러한 얼라인 공정은 얼라인 시스템을 사용하여 스테이지(112) 상에 위치된 기판(110)의 선형 이동(linear movement)을 제어함으로써 이루어진다.As described above, in order to perform the coating process on the substrate 110 using, for example, the coating apparatus 100 according to the prior art, the substrate 110 must be positioned on the stage 112. Then, before performing the coating process of the substrate 110 positioned on the stage 112, for example, an alignment process using an alignment system composed of a plurality of alignment devices disposed around the stage 112. This should be done. This alignment process is accomplished by using an alignment system to control the linear movement of the substrate 110 positioned on the stage 112.

도 1b는 종래 기술에 따른 복수의 얼라인 장치로 구성되는 얼라인 시스템 및 이를 이용한 얼라인 방법을 설명하기 위한 평면도를 도시한 도면이고, 도 1c는 도 1b에 도시된 종래 기술에 따른 하나의 얼라인 장치를 예시적으로 도시한 측단면도이다.FIG. 1B is a plan view illustrating an alignment system including a plurality of alignment apparatuses according to the related art and an alignment method using the same, and FIG. 1C illustrates one alignment according to the prior art illustrated in FIG. 1B. A side cross-sectional view illustratively showing a phosphorus device.

도 1b 및 도 1c를 참조하면, 종래 기술에 따른 기판의 얼라인 시스템(140)은 기판(110)이 위치되는 스테이지(112)의 둘레에 제공되는 복수 쌍의 얼라인 장치(150a1,150a2; 150b1,150b2;150c1,150c2;150d1,150d2)로 구성된다. 여기서, 복수 쌍의 얼라인 장치(150a1,150a2; 150b1,150b2;150c1,150c2;150d1,150d2)는 각각 동일한 구성을 가지며, 따라서 각각의 얼라인 장치를 참조부호 150으로 통칭하여 표시하기로 한다. 또한, 종래 기술에 따른 작업물의 얼라인 시스템(140)은 기판(110)이 위치되는 스테이지(112)의 둘레에 제공되는 또 다른 복수 쌍의 얼라인 장치(160)를 추가로 구비할 수 있다. 또 다른 복수 쌍의 얼라인 장치(160)는 점선으로 표시된 기판(110a)이 스테이지(112) 상에 위치되는 경우에 사용된다. 복수 쌍의 얼라인 장치(150)와 또 다른 복수 쌍의 얼라인 장치(160)는 모두 동일한 구성을 가지며, 스테이지(112) 상에 위치되는 기판의 종류(즉, 실선으로 표시된 기판(110) 또는 점선으로 표시된 기판(110a))에 대응하여 사용된다. 이하에서는 복수 쌍의 얼라인 장치(150)에 대해 상세히 기술한다.1B and 1C, the alignment system 140 of a substrate according to the prior art includes a plurality of pairs of alignment devices 150a1, 150a2; 150b1 provided around the stage 112 on which the substrate 110 is located. , 150b2; 150c1, 150c2; 150d1, 150d2. Here, the plurality of alignment devices 150a1, 150a2; 150b1, 150b2; 150c1, 150c2; 150d1, 150d2 have the same configuration, and therefore, each alignment device will be referred to collectively by the reference numeral 150. In addition, the alignment system 140 of the workpiece according to the prior art may further include another plurality of pairs of alignment devices 160 provided around the stage 112 where the substrate 110 is located. Another plurality of pairs of alignment devices 160 are used when the substrate 110a indicated by the dotted line is positioned on the stage 112. The plurality of pairs of alignment devices 150 and another plurality of pairs of alignment devices 160 all have the same configuration, and the type of substrate (ie, the substrate 110 indicated by a solid line) located on the stage 112 or The substrate 110a indicated by a dotted line. Hereinafter, a plurality of pairs of alignment devices 150 will be described in detail.

좀 더 구체적으로, 도 1c에 도시된 바와 같이 종래 기술에 따른 얼라인 장치(150)는 실린더 방식(cylinder type)의 얼라인 장치로 구현되며, 도 1a에 도시된 코팅 장치의 스테이지(112)의 측면에 고정 장착된다. 이러한 종래 기술의 실린더 방식의 얼라인 장치(150)는 지지블럭(151) 상에 위치되는 상부블럭(152); 상기 상부블럭(152)의 선단부(152a)에 제공되는 롤러(153); 상기 상부블럭(152)의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더(154); 및 상기 상부블럭(152)의 전후진 이동을 제어하는 전후진 실린더(156)로 구성된다. 지지블럭(151) 및 그 상부의 상부블럭(152)은 업다운 실린더(154)에 의해 수직방향(V)으로 업다운 이동할 수 있으며, 상부블럭(152)은 전후진 실린더(156)에 의해 수평 방향(H)을 따라 전진 또는 후진 이동과 같은 선형 이동을 할 수 있다. 특히, 상부블럭(152)이 전후진 실린더(156)에 의해 전진 이동하면, 상부블럭(152)의 선단부(152a)에 제공되는 롤러(153)가 기판(110)의 일측 모서리와 접촉하여 스트로크(Sf)만큼 기판(110)을 수평방향(H)을 따라 선형 이동시킨다.More specifically, as shown in FIG. 1C, the alignment device 150 according to the related art is implemented as a cylinder type alignment device, and the stage 112 of the coating device shown in FIG. It is fixedly mounted on the side. The prior art cylindrical alignment device 150 includes an upper block 152 located on the support block 151; A roller 153 provided at the tip portion 152a of the upper block 152; An up-down cylinder 154 for controlling the up-down movement of the upper block 152; And a forward and backward cylinder 156 that controls the forward and backward movement of the upper block 152. The support block 151 and the upper block 152 thereon can be moved up and down in the vertical direction V by the up-down cylinder 154, and the upper block 152 is moved in the horizontal direction (by the forward and backward cylinders 156). Linear movements such as forward or backward movements can be made along H). In particular, when the upper block 152 is moved forward and backward by the forward and backward cylinder 156, the roller 153 provided on the front end portion 152a of the upper block 152 is in contact with the one side edge of the substrate 110, the stroke ( The substrate 110 is linearly moved along the horizontal direction H by Sf).

상술한 종래 기술의 실린더 방식 얼라인 장치(150)에서는 스트로크(Sf)가 사용자에 의해 미리 설정된 고정된 값(예를 들어 10mm)(이하 "고정 스트로크(Sf)"라 합니다)을 갖는다. 그에 따라, 종래 기술에서는 기판(110)은 고정 스트로크(Sf)에 대응되는 값만큼만 선형 이동할 수 있으며, 고정 스트로크(Sf)보다 크거나 또는 작은 값만큼 선형 이동시키는 것은 불가능하다. 따라서, 종래 기술에 따른 실린더 방식 얼라인 장치(150) 및 이를 구비한 얼라인 시스템(140)에서는 다음과 같은 문제점이 발생한다.In the above-described conventional cylindrical alignment device 150, the stroke Sf has a fixed value (for example, 10 mm) preset by the user (hereinafter referred to as "fixed stroke Sf"). Accordingly, in the related art, the substrate 110 may linearly move only by a value corresponding to the fixed stroke Sf, and it is impossible to linearly move the substrate 110 by a value larger or smaller than the fixed stroke Sf. Accordingly, the following problems occur in the cylindrical alignment device 150 and the alignment system 140 having the same.

1. 고정 스트로크(Sf)만큼만 선형 이동이 가능한 실린더 방식의 얼라인 장치(150)를 사용하므로, 예를 들어 FPD의 모델 변경에 따라 사용되는 기판(110)의 사이즈가 증가하는 경우에는 변경된 사이즈의 기판(110)에 대한 얼라인이 불가능하다.1. Since the alignment method 150 of the cylinder type which can move linearly only by the fixed stroke Sf is used, for example, when the size of the board | substrate 110 used according to the model change of FPD increases, Alignment with the substrate 110 is impossible.

2. 기판(110)의 사이즈 변경이 있는 경우, 지지블럭(151)을 사이즈 변경에 대응되는 고정 스트로크(Sf)의 값을 갖는 새로운 지지블럭으로 교체하여야 한다. 따라서, 기판(110)의 사이즈 변경 시 얼라인에 소요되는 시간 및 비용이 상당히 증가하다.2. If the size of the substrate 110 is changed, the support block 151 should be replaced with a new support block having a value of the fixed stroke Sf corresponding to the size change. Therefore, the time and cost of alignment during the resizing of the substrate 110 are considerably increased.

3. 얼라인 장치(150)의 실린더 부재(154)에 의한 기판(110)의 얼라인 에러 발생 여부는 도액 도포가 이루어진 후 도포 상태를 통해 사후적으로 확인된다. 그에 따라, 기판(110)의 얼라인 에러 발생을 확인하기 위해 소요되는 시간이 길며 얼라인 에러를 조정하기 위한 수동 방식의 후속 동작이 요구되므로 전체 공정 시간(tact time)이 현저하게 증가하고 기판(110)의 얼라인을 정밀하게 제어하는 것이 불가능하다. 또한, 사후적인 기판(110)의 얼라인 에러 발생 확인에 따라 도포액을 제거하거나 고가의 기판(110)을 폐기하여야 하므로 제조 비용이 크게 증가한다. 이러한 문제점으로 인하여 종래 기술의 얼라인 장치(150) 및 얼라인 시스템(140)은 FPD의 대면적화 및 고정세화에 따른 기판 사이즈의 증가 및 도액의 도포 정밀도 요구 조건을 만족시키기 어렵거나 불가능하다.3. The alignment error of the substrate 110 caused by the cylinder member 154 of the alignment device 150 is confirmed after the coating state is applied through the application state. Accordingly, the time required for confirming the occurrence of an alignment error of the substrate 110 is long, and a subsequent operation of a manual method for adjusting the alignment error is required, so that the overall process time is significantly increased and the substrate ( It is impossible to precisely control the alignment of 110). In addition, since the coating liquid must be removed or the expensive substrate 110 must be discarded according to the post-alignment check of the substrate 110, the manufacturing cost is greatly increased. Due to this problem, the prior art alignment device 150 and the alignment system 140 are difficult or impossible to meet the requirements of increasing the substrate size and coating accuracy of the coating liquid due to the large area and high definition of the FPD.

4. 기판(110)의 얼라인 정밀도가 낮으므로 최종 생산된 제품(FPD)의 불량 발생 가능성이 높아지고 생산성이 낮아진다.4. Since the alignment accuracy of the substrate 110 is low, the possibility of failure of the final product FPD is increased and productivity is lowered.

따라서, 상술한 문제점을 해결하기 위한 새로운 얼라인 장치 및 시스템이 요구된다. Therefore, there is a need for a new alignment device and system for solving the above problems.

본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 기판을 서보 모터 방식의 얼라인 장치와 선택적으로 비전 카메라를 사용하여 얼라인함으로써, 다양한 종류에 따른 상이한 사이즈의 가판에 대한 얼라인이 가능하고, 기판 사이즈의 변경시에도 얼라인 장치의 교체 작업이 불필요하므로 기판의 얼라인 시간이 상당히 줄어들며, 기판 얼라인의 정밀 제어가 가능하고, 반복 정밀도가 크게 향상되며, 기판 얼라인의 상태를 실시간으로 판별하는 것이 가능하고, 얼라인 동작의 완료 시에 얼라인 상태의 에러에 대한 즉시 경고가 가능한 기판의 얼라인 장치 및 시스템, 및 이를 구비한 코팅 장치를 제공하기 위한 것이다. The present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, by aligning the substrate using a servo motor alignment device and optionally a vision camera, it is possible to align the different size of the substrate according to various types In addition, even when the substrate size is changed, the replacement of the alignment device is unnecessary, thus significantly reducing the alignment time of the substrate, enabling precise control of the substrate alignment, greatly improving the repeat accuracy, and realizing the state of the substrate alignment in real time. It is possible to determine, and to provide an alignment apparatus and system of a substrate capable of immediately warning of an error in the alignment state upon completion of the alignment operation, and a coating apparatus having the same.

본 발명의 제 1 특징에 따른 기판의 얼라인 장치는 지지블럭 상에 위치되는 상부블럭; 상기 상부블럭의 선단부에 제공되는 롤러; 상기 상부블럭의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더; 및 상기 상부블럭의 전후진 이동을 제어하는 서보모터를 포함하고, 상기 상부블럭은 상기 서보 모터에 의해 최대 스트로크(Smax) 범위 내에서 가변 스트로크(Sv)로 선형 이동되는 것을 특징으로 한다.An alignment apparatus for a substrate according to a first aspect of the present invention includes an upper block positioned on a support block; A roller provided at the front end of the upper block; An up-down cylinder for controlling the up-down movement of the upper block; And a servo motor for controlling the forward and backward movement of the upper block, wherein the upper block is linearly moved in a variable stroke Sv within a maximum stroke Smax by the servo motor.

본 발명의 제 2 특징에 따른 기판의 얼라인 시스템은 기판이 위치되는 스테이지의 둘레에 제공되는 복수 쌍의 얼라인 장치; 갠트리 상에 제공되며, 상기 기판의 얼라인 상태를 확인하기 위한 비전 카메라; 상기 복수 쌍의 얼라인 장치 및 상기 비전 카메라와 각각 연결되는 제어장치; 및 상기 제어장치와 연결되며, 상기 기판의 얼라인 상태를 모니터링하기 위한 디스플레이 장치를 포함하고, 상기 복수 쌍의 얼라인 장치는 각각 지지블럭 상에 위치되는 상부블럭; 상기 상부블럭의 선단부에 제공되는 롤러; 상기 상부블럭의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더; 및 상기 상부블럭의 전후진 이동을 제어하는 서보모터를 포함하며, 상기 상부블럭은 상기 서보 모터에 의해 최대 스트로크(Smax) 범위 내에서 가변 스트로크(Sv)로 선형 이동되는 것을 특징으로 한다.An alignment system of a substrate according to a second aspect of the present invention comprises: a plurality of pairs of alignment devices provided around a stage on which the substrate is located; A vision camera provided on a gantry for checking an alignment state of the substrate; A control device connected to the plurality of alignment devices and the vision camera, respectively; And a display device connected to the control device and configured to monitor an alignment state of the substrate, wherein the plurality of pairs of alignment devices each include an upper block positioned on a support block; A roller provided at the front end of the upper block; An up-down cylinder for controlling the up-down movement of the upper block; And a servo motor for controlling the forward and backward movement of the upper block, wherein the upper block is linearly moved by the servo motor in a variable stroke Sv within a maximum stroke Smax.

본 발명의 제 3 특징에 따른 코팅 장치는 기판이 위치되는 스테이지; 상기 스테이지의 상부에 제공되며, 상기 기판 상에 도액을 도포하는 노즐 장치; 상기 노즐 장치가 상기 스테이지 상에서 이동 가능하도록 장착되는 갠트리; 상기 스테이지의 둘레에 제공되는 복수 쌍의 얼라인 장치; 상기 갠트리 상에 제공되며, 상기 기판의 얼라인 상태를 확인하기 위한 비전 카메라; 상기 복수 쌍의 얼라인 장치 및 상기 비전 카메라와 각각 연결되는 제어장치; 및 상기 제어장치와 연결되며, 상기 기판의 얼라인 상태를 모니터링하기 위한 디스플레이 장치를 포함하고, 상기 복수 쌍의 얼라인 장치는 각각 지지블럭 상에 위치되는 상부블럭; 상기 상부블럭의 선단부에 제공되는 롤러; 상기 상부블럭의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더; 및 상기 상부블럭의 전후진 이동을 제어하는 서보모터를 포함하며, 상기 상부블럭은 상기 서보 모터에 의해 최대 스트로크(Smax) 범위 내에서 가변 스트로크(Sv)로 선형 이동되는 것을 특징으로 한다. According to a third aspect of the present invention, a coating apparatus includes a stage on which a substrate is located; A nozzle device provided on an upper portion of the stage and configured to apply a coating liquid onto the substrate; A gantry mounted such that the nozzle device is movable on the stage; A plurality of pairs of alignment devices provided around the stage; A vision camera provided on the gantry for checking an alignment state of the substrate; A control device connected to the plurality of alignment devices and the vision camera, respectively; And a display device connected to the control device and configured to monitor an alignment state of the substrate, wherein the plurality of pairs of alignment devices each include an upper block positioned on a support block; A roller provided at the front end of the upper block; An up-down cylinder for controlling the up-down movement of the upper block; And a servo motor for controlling the forward and backward movement of the upper block, wherein the upper block is linearly moved by the servo motor in a variable stroke Sv within a maximum stroke Smax.

본 발명에 따른 기판의 얼라인 장치 및 시스템, 및 이를 구비한 코팅 장치를 사용하면 다음과 같은 장점이 달성된다.The use of the alignment apparatus and system of the substrate and the coating apparatus having the same according to the present invention achieve the following advantages.

1. 얼라인 장치의 스트로크를 사용자가 가변적으로 조정할 수 있으므로 예를 들어 FPD의 모델 변경에 따라 사용되는 기판의 사이즈가 변경되는 경우에도 변경된 사이즈의 기판에 대한 얼라인이 가능하다.1. Since the stroke of the alignment device can be adjusted by the user, even if the size of the substrate used is changed according to the model change of the FPD, the alignment of the substrate of the changed size is possible.

2. 기판의 사이즈의 변경이 있는 경우에도 얼라인 장치의 스트로크의 값의 가변적으로 변경할 수 있으므로, 지지블럭(251)의 교체가 불필요하다. 또한, 복수의 기판(210)에 대한 얼라인 동작의 수행에 의해 얼라인 에러가 지속적으로 조정되므로 후속적으로 공급되는 기판에 대한 얼라인의 반복 정밀도가 지속적으로 향상된다. 따라서, 기판(210)의 사이즈 변경 시 얼라인에 소요되는 시간 및 비용이 현저하게 감소된다.2. Even when there is a change in the size of the substrate, since the value of the stroke of the alignment device can be changed variably, the replacement of the support block 251 is unnecessary. In addition, since the alignment error is continuously adjusted by performing the alignment operation on the plurality of substrates 210, the repeating accuracy of the alignment with respect to the substrate to be subsequently supplied is continuously improved. As a result, the time and cost of alignment during the resizing of the substrate 210 are significantly reduced.

3. 기판(210)의 얼라인 에러 발생 여부가 실시간으로 확인되고, 또한 얼라인 에러의 조정이 제어장치를 통해 도액의 도포 전에 정밀하고 신속하게 이루어지고 또한 고가의 기판(210)을 폐기할 필요가 없으므로 전체 공정 시간(tact time) 및 제조 비용이 현저하게 감소된다. 이러한 장점으로 인하여 FPD의 대면적화 및 고정세화에 따른 기판 사이즈의 증가 및 도액의 도포 정밀도 요구 조건을 충분히 만족시킬 수 있다. 3. The alignment error of the substrate 210 is confirmed in real time, and the alignment error is adjusted precisely and quickly before the coating liquid is applied through the control device, and the expensive substrate 210 needs to be discarded. The overall tact time and manufacturing cost are significantly reduced. Due to these advantages, it is possible to sufficiently meet the requirements of increasing the substrate size and coating accuracy of the coating liquid due to the large area and high definition of the FPD.

4. 기판(210)의 얼라인 정밀도가 크게 향상되므로 최종 생산된 제품(FPD)의 불량 발생 가능성이 낮아지고 생산성이 높아진다.4. Since the alignment accuracy of the substrate 210 is greatly improved, the possibility of defects in the final product FPD is lowered and productivity is increased.

본 발명의 추가적인 장점은 동일 또는 유사한 참조번호가 동일한 구성요소를 표시하는 첨부 도면을 참조하여 이하의 설명으로부터 명백히 이해될 수 있다. Further advantages of the present invention can be clearly understood from the following description with reference to the accompanying drawings, in which like or similar reference numerals denote like elements.

도 1a는 종래 기술의 FPD 제조용 코팅 장치를 개략적으로 예시한 도면이다.
도 1b는 종래 기술에 따른 복수의 얼라인 장치로 구성되는 얼라인 시스템 및 이를 이용한 얼라인 방법을 설명하기 위한 평면도를 도시한 도면이다.
도 1c는 도 1b에 도시된 종래 기술에 따른 하나의 얼라인 장치를 예시적으로 도시한 측단면도이다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 복수의 얼라인 장치로 구성되는 기판의 얼라인 시스템 및 이를 이용한 기판의 얼라인 방법을 설명하기 위한 평면도를 도시한 도면이다.
도 2b는 도 2a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 하나의 기판 얼라인 장치를 예시적으로 도시한 측단면도이다.Figure 1a is a schematic diagram illustrating a prior art coating device for manufacturing FPD.
FIG. 1B is a plan view illustrating an alignment system composed of a plurality of alignment apparatuses according to the related art and an alignment method using the same.
FIG. 1C is a side cross-sectional view illustratively showing one alignment device according to the prior art shown in FIG. 1B.
FIG. 2A illustrates a plan view illustrating an alignment system of a substrate including a plurality of alignment devices and an alignment method of the substrate using the same, according to an exemplary embodiment.
FIG. 2B is a side cross-sectional view illustrating one substrate alignment apparatus in accordance with an embodiment of the present invention illustrated in FIG. 2A.

이하에서 본 발명의 실시예 및 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 기술한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to embodiments and drawings of the present invention.

도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 복수의 얼라인 장치로 구성되는 기판의 얼라인 시스템 및 이를 이용한 기판의 얼라인 방법을 설명하기 위한 평면도를 도시한 도면이고, 도 2b는 도 2a에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 하나의 기판 얼라인 장치를 예시적으로 도시한 측단면도이다.2A is a plan view illustrating an alignment system of a substrate including a plurality of alignment apparatuses and an alignment method of the substrate using the same according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2B is illustrated in FIG. 2A. A cross-sectional side view illustrating one substrate alignment apparatus in accordance with one embodiment of the present invention.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 장치(250)는 지지블럭(251) 상에 위치되는 상부블럭(252); 상기 상부블럭(252)의 선단부(252a)에 제공되는 롤러(253); 상기 상부블럭(252)의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더(254); 및 상기 상부블럭(152)의 전후진 이동을 제어하는 서보모터(256)를 포함하고, 상기 상부블럭(252)은 상기 서보 모터(256)에 의해 최대 스트로크(Smax) 범위 내에서 가변 스트로크(Sv)로 선형 이동되는 것을 특징으로 한다. 여기서, 가변 스트로크(Sv)는 0 ≤ 가변 스트로크(Sv) ≤ 최대 스트로크(Smax)의 관계를 가지며, 사용자에 의해 임의로 설정이 가능하다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 장치(250)에서, 최대 스트로크(Smax)는 30mm이지만, 이는 예시적인 것으로 이에 제한되는 것은 아니다.2A and 2B, an alignment device 250 of a substrate according to an embodiment of the present invention may include an upper block 252 positioned on a support block 251; A roller 253 provided at the tip portion 252a of the upper block 252; An up-down cylinder 254 for controlling the up-down movement of the upper block 252; And a servo motor 256 for controlling the forward and backward movement of the upper block 152, wherein the upper block 252 is controlled by the servo motor 256 within a maximum stroke Smax. It is characterized in that the linear movement to). Here, the variable stroke Sv has a relationship of 0 ≦ variable stroke Sv ≦ maximum stroke Smax and can be arbitrarily set by the user. In the alignment apparatus 250 of the substrate according to an embodiment of the present invention, the maximum stroke Smax is 30 mm, but this is illustrative and not limited thereto.

이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 얼라인 장치(250)의 구체적인 구성 및 동작을 상세히 기술한다.Hereinafter, a detailed configuration and operation of the alignment device 250 according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

다시 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 장치(250)는 지지블럭(251) 상에 위치되는 상부블럭(252)을 구비한다. 상부블럭(252)의 선단부(252a)에는 롤러(253)가 제공된다. 지지블럭(251)의 일측에는 상부블럭(252)의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더(254)가 제공된다. 지지블럭(251)과 상부블럭(252) 사이에는 상부블럭(152)의 전후진 이동을 제어하는 서보모터(256)가 제공된다. 지지블럭(251) 및 그 상부의 상부블럭(252)은 업다운 실린더(254)에 의해 수직방향(V)으로 업다운 이동할 수 있으며, 상부블럭(252)은 서보 모터(256)에 의해 수평 방향(H)을 따라 전진 또는 후진 이동과 같은 선형 이동을 할 수 있다.2A and 2B, the alignment device 250 of the substrate according to the exemplary embodiment of the present invention includes an upper block 252 positioned on the support block 251. A roller 253 is provided at the tip portion 252a of the upper block 252. One side of the support block 251 is provided with an up-down cylinder 254 for controlling the up-down movement of the upper block 252. A servo motor 256 is provided between the support block 251 and the upper block 252 to control the forward and backward movement of the upper block 152. The support block 251 and the upper block 252 thereon may be moved up and down in the vertical direction V by the up-down cylinder 254, and the upper block 252 is moved in the horizontal direction H by the servo motor 256. Can be linear movements such as forward or backward movement.

상부블럭(252)이 서보 모터(256)에 의해 전진 이동하면, 상부블럭(252)의 선단부(252a)에 제공되는 롤러(253)가 기판(210)의 일측 모서리와 접촉하여 미리 정해진 가변 스트로크(Sv)만큼 기판(210)을 수평방향(H)을 따라 선형 이동시킨다. 이 때, 서보 모터(256)에 의해 선형 이동되는 상부블럭(252)의 스트로크는 가변 스트로크(Sv)이다. 이러한 가변 스트로크(Sv)는 최대 스트로크(Smax) 내의 값을 가지며, 사용자에 의해 임의로 설정될 수 있다. 예를 들어, 사용 중인 기판(210)의 사이즈가 대응되는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 장치(250)의 스트로크가 10mm가 요구되는 경우, 사용자는 상부블럭(152)의 전후진 이동을 제어하는 서보모터(256)의 스트로크를 10mm로 설정한다. 그 후, 기판(210)의 사이즈가 증가하여 대응되는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 장치(250)의 스트로크가 5mm가 요구되는 경우, 사용자는 상부블럭(152)의 전후진 이동을 제어하는 서보모터(256)의 스트로크를 5mm로 설정하여 스테이지(212) 상에서의 기판(210)의 얼라인을 제어할 수 있다.When the upper block 252 moves forward by the servo motor 256, the roller 253 provided at the tip portion 252a of the upper block 252 contacts one edge of the substrate 210 so as to contact a predetermined variable stroke ( The substrate 210 is linearly moved along the horizontal direction H by Sv). At this time, the stroke of the upper block 252 linearly moved by the servo motor 256 is a variable stroke Sv. This variable stroke Sv has a value within the maximum stroke Smax and can be arbitrarily set by the user. For example, when the stroke of the alignment device 250 of the substrate according to the embodiment of the present invention corresponds to the size of the substrate 210 in use, 10 mm is required, the user moves forward and backward of the upper block 152. The stroke of the servomotor 256 that controls the movement is set to 10 mm. Thereafter, when the size of the substrate 210 increases and the stroke of the alignment device 250 of the substrate according to an embodiment of the present invention requires 5 mm, the user moves forward and backward of the upper block 152. The alignment of the substrate 210 on the stage 212 can be controlled by setting the stroke of the servomotor 256 to control the 5 mm.

따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 장치(250)에서는 종래 기술과는 달리 서보 모터(256)에 의해 상부블럭(252)의 스트로크(Sv)를 변경시킬 수 있으므로, 기판(210)의 사이즈가 변경되더라도 그 변경이 최대 스트로크(Smax) 내인 경우, 변경된 사이즈의 기판에 대한 얼라인이 가능해진다.Therefore, in the alignment apparatus 250 of the substrate according to the exemplary embodiment of the present invention, since the stroke Sv of the upper block 252 may be changed by the servo motor 256, unlike the prior art, the substrate 210 may be changed. Even if the size of the?) Is changed, when the change is within the maximum stroke Smax, alignment with respect to the substrate having the changed size becomes possible.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 시스템(240)은 기판(210)이 위치되는 스테이지(212)의 둘레에 제공되는 복수 쌍의 얼라인 장치(250a1,250a2; 250b1,250b2;250c1,250c2;250d1,250d2)(이하 설명의 편의를 위하여 필요한 경우 하나의 참조부호 "250"을 사용하기로 한다); 갠트리(225) 상에 제공되며, 상기 기판(210)의 얼라인 상태를 확인하기 위한 비전 카메라(270); 상기 복수 쌍의 얼라인 장치(250) 및 상기 비전 카메라(270)와 각각 연결되는 제어장치(280); 및 상기 제어장치(280)와 연결되며, 상기 기판(210)의 얼라인 상태를 모니터링하기 위한 디스플레이 장치(290)를 포함하고, 상기 복수 쌍의 얼라인 장치(250)는 각각 지지블럭(251) 상에 위치되는 상부블럭(252); 상기 상부블럭(252)의 선단부(252a)에 제공되는 롤러(253); 상기 상부블럭(252)의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더(254); 및 상기 상부블럭(152)의 전후진 이동을 제어하는 서보모터(256)를 포함하며, 상기 상부블럭(252)은 상기 서보 모터(256)에 의해 최대 스트로크(Smax) 범위 내에서 가변 스트로크(Sv)로 선형 이동되는 것을 특징으로 한다. 여기서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 시스템(240)에 사용되는 비전 카메라(270)는 하나의 비전 카메라(270) 또는 2개의 비전 카메라(270,272)가 사용될 수 있다. 또한, 제어장치(280)는 예를 들어 마이크로프로세서 또는 개인용 컴퓨터(PC)로 구현될 수 있다.In addition, the alignment system 240 of the substrate according to an embodiment of the present invention includes a plurality of pairs of alignment devices 250a1, 250a2; 250b1, 250b2 provided around the stage 212 on which the substrate 210 is located; 250c1,250c2; 250d1,250d2) (a reference numeral “250” will be used where necessary for the convenience of the description below); A vision camera 270 provided on the gantry 225 to check the alignment state of the substrate 210; A controller 280 connected to the pair of alignment devices 250 and the vision camera 270, respectively; And a display device 290 connected to the control device 280 for monitoring the alignment state of the substrate 210, wherein the plurality of pairs of the alignment devices 250 each support the block 251. An upper block 252 located on the top; A roller 253 provided at the tip portion 252a of the upper block 252; An up-down cylinder 254 for controlling the up-down movement of the upper block 252; And a servo motor 256 for controlling the forward and backward movement of the upper block 152, wherein the upper block 252 is controlled by the servo motor 256 within a maximum stroke Smax. It is characterized in that the linear movement to). Here, one vision camera 270 or two vision cameras 270 and 272 may be used as the vision camera 270 used in the alignment system 240 of the substrate according to the exemplary embodiment of the present invention. In addition, the control device 280 may be implemented by, for example, a microprocessor or a personal computer (PC).

이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 시스템(240)의 구체적인 구성 및 동작을 상세히 기술한다.Hereinafter, the detailed configuration and operation of the alignment system 240 of the substrate according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

다시 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 시스템(240)은 기판(210)이 위치되는 스테이지(212)의 둘레에 제공되는 복수 쌍의 얼라인 장치(250)를 포함한다. 이러한 복수 쌍의 얼라인 장치(250)는 각각 도 2b에 도시된 하나의 기판 얼라인 장치(250)와 실질적으로 동일한 구성을 가지며, 기판 얼라인 장치(250)의 상세한 구성 및 동작은 앞서 상세히 기술하였으므로 생략하기로 한다.2A and 2B, an alignment system 240 of a substrate according to an embodiment of the present invention may include a plurality of pairs of alignment apparatuses provided around a stage 212 on which the substrate 210 is positioned. 250). Each of the plurality of pairs of alignment devices 250 has a configuration substantially the same as that of one substrate alignment device 250 illustrated in FIG. 2B, and the detailed configuration and operation of the substrate alignment device 250 are described in detail above. It will be omitted.

상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 시스템(240)을 구성하는 복수 쌍의 얼라인 장치(250) 및 비전 카메라(270)는 각각 제어장치(280)에 연결되어 있다. 이 경우, 하나의 비전 카메라(270)가 사용되는 경우, 기판(210)이 복수 쌍의 얼라인 장치(250)에 의해 얼라인된 후 비전 카메라(270)는 예를 들어 먼저 갠트리(225)의 이동방향과 수직한 방향(즉, X 방향)을 따라 갠트리(225) 상을 이동하면서 기판(210)의 제 1 방향(X 방향) 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 갠트리(225)의 이동방향(즉, Y 방향)을 따라 이동하면서 기판(210)의 제 2 방향(Y 방향) 얼라인 상태를 확인한다. 대안적으로, 비전 카메라(270)는 예를 들어 먼저 갠트리(225)의 이동방향(즉, Y 방향)을 따라 이동하면서 기판(210)의 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 갠트리(225)의 이동방향과 수직한 방향을 따라 갠트리(225) 상을 이동하면서 기판(210)의 제 1 방향 얼라인 상태를 확인한다.The plurality of pairs of the alignment device 250 and the vision camera 270 constituting the alignment system 240 of the substrate according to the embodiment of the present invention are connected to the control device 280, respectively. In this case, when one vision camera 270 is used, after the substrate 210 is aligned by a plurality of pairs of alignment devices 250, the vision camera 270 is first used for example of the gantry 225. While moving on the gantry 225 along the direction perpendicular to the moving direction (ie, the X direction), the alignment state of the first direction (X direction) of the substrate 210 is checked, and then the moving direction of the gantry 225 is moved. (Ie, the Y direction) while checking the alignment state of the second direction (Y direction) of the substrate 210. Alternatively, the vision camera 270, for example, first checks the second direction alignment state of the substrate 210 while moving along the moving direction (ie, the Y direction) of the gantry 225, and then the gantry ( The first direction alignment state of the substrate 210 is checked while moving on the gantry 225 along a direction perpendicular to the moving direction of the 225.

한편, 2개의 제 1 비전 카메라(270) 및 제 2 비전 카메라(272)가 사용되는 경우에는, 기판(210)이 복수 쌍의 얼라인 장치(250)에 의해 얼라인된 후 제 2 비전 카메라(272)가 먼저 갠트리(225)의 이동방향과 수직 방향(즉, X 방향)을 따라 갠트리(225) 상을 이동하면서 기판(210)의 제 1 방향(X 방향) 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 제 1 비전 카메라(270)가 갠트리(225)의 이동방향(즉, Y 방향)을 따라 이동하면서 기판(210)의 제 2 방향(Y 방향) 얼라인 상태를 확인한다. 대안적으로, 제 1 비전 카메라(270)가 갠트리(225)의 이동방향(즉, Y 방향)을 따라 이동하면서 기판(210)의 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 제 2 비전 카메라(272)가 갠트리(225)의 이동방향과 수직한 방향을 따라 갠트리(225) 상을 이동하면서 기판(210)의 제 1 방향 얼라인 상태를 확인한다.On the other hand, when two first vision cameras 270 and second vision cameras 272 are used, the second vision camera (after the substrate 210 is aligned by a plurality of pairs of alignment devices 250). 272 first checks the first direction (X direction) alignment state of the substrate 210 while moving on the gantry 225 along a direction perpendicular to the moving direction of the gantry 225 (that is, the X direction). Afterwards, the first vision camera 270 moves along the moving direction of the gantry 225 (that is, the Y direction) to check the alignment state of the second direction (Y direction) of the substrate 210. Alternatively, the first vision camera 270 checks the second direction alignment state of the substrate 210 while moving along the moving direction (ie, the Y direction) of the gantry 225, and then the second vision camera 272 moves on the gantry 225 along a direction perpendicular to the moving direction of the gantry 225 to check the first direction alignment state of the substrate 210.

상술한 바와 같이 하나의 비전 카메라(270) 또는 2개의 제 1 및 제 2 비전 카메라(270,272)에 의해 확인된 기판(210)의 얼라인 상태(즉, 제 1 및 제 2 방향 얼라인 상태)가 각각 제어장치(280)로 전송되어, 제어장치(280)와 연결된 디스플레이 장치(290) 상에 디스플레이된다. 따라서, 기판(210)의 제 1 및 제 2 방향의 얼라인 상태를 실시간으로 판별할 수 있다. 만일, 기판(210)의 제 1 및 제 2 방향 얼라인 상태가 각각 미리 정해진 얼라인 범위를 벗어나는 경우(즉, 기판(210)의 얼라인 에러가 발생한 경우), 제어장치(280)는 제어장치(280)에 유선 또는 무선 방식으로 연결되는 경보장치(미도시)로 경고 신호를 전송한다. 경보장치는 경고 신호를 수신하면 경보를 발생하고, 사용자는 제어장치(280)를 통해 기판(210)의 얼라인 에러에 대응되는 보정값을 입력하여 복수 쌍의 얼라인 장치(250)의 가변 스트로크(Sv)의 값을 조정해 줌으로써 기판(210)의 얼라인 동작이 정밀하게 제어될 수 있다.As described above, the alignment state (that is, the first and second direction alignment states) of the substrate 210 confirmed by one vision camera 270 or two first and second vision cameras 270 and 272 is Each is transmitted to the control device 280, and displayed on the display device 290 connected to the control device 280. Therefore, the alignment state of the first and second directions of the substrate 210 may be determined in real time. If the first and second directional alignment states of the substrate 210 are out of a predetermined alignment range (that is, an alignment error of the substrate 210 occurs), the controller 280 may be a controller. 280 transmits a warning signal to an alarm device (not shown) connected in a wired or wireless manner. The alarm device generates an alarm when the warning signal is received, and the user inputs a correction value corresponding to the alignment error of the substrate 210 through the control device 280 to vary the stroke of the plurality of alignment devices 250. By adjusting the value of Sv, the alignment operation of the substrate 210 may be precisely controlled.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 시스템(240)을 사용하여 복수의 기판(210)에 대한 얼라인 동작의 수행에 의해 얼라인 에러가 지속적으로 조정되므로 후속적으로 공급되는 기판에 대한 얼라인의 반복 정밀도가 지속적으로 향상된다.In addition, since the alignment error is continuously adjusted by performing an alignment operation on the plurality of substrates 210 using the alignment system 240 of the substrate according to the exemplary embodiment of the present invention, the substrate is subsequently supplied. The iteration accuracy of the alignment for continually improves.

또한, 기판(210)의 사이즈가 변경되는 경우, 제어장치(280)를 통해 복수 쌍의 얼라인 장치(250)의 가변 스트로크(Sv)의 값을 조정해 줌으로써 서보 모터(256)에 의해 상부블럭(252)의 스트로크(Sv)를 변경시킬 수 있으므로, 변경된 사이즈의 기판에 대한 얼라인이 가능해진다.In addition, when the size of the substrate 210 is changed, the upper block by the servo motor 256 by adjusting the value of the variable stroke (Sv) of the plurality of pairs of alignment device 250 through the control device 280. Since the stroke Sv of 252 can be changed, alignment with respect to the board | substrate of a changed size is attained.

한편, 도 2a를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 코팅 장치(200)는 기판(210)이 위치되는 스테이지(212); 상기 스테이지(212)의 상부에 제공되며, 상기 기판(210) 상에 도액을 도포하는 노즐 장치(220); 상기 노즐 장치(220)가 상기 스테이지(212) 상에서 이동 가능하도록 장착되는 갠트리(225); 상기 스테이지(212)의 둘레에 제공되는 복수 쌍의 얼라인 장치(250); 상기 갠트리(225) 상에 제공되며, 상기 기판(210)의 얼라인 상태를 확인하기 위한 비전 카메라(270); 상기 복수 쌍의 얼라인 장치(250) 및 상기 비전 카메라(270)와 각각 연결되는 제어장치(280); 및 상기 제어장치(280)와 연결되며, 상기 기판(210)의 얼라인 상태를 모니터링하기 위한 디스플레이 장치(290)를 포함하고, 상기 복수 쌍의 얼라인 장치(250)는 각각 지지블럭(251) 상에 위치되는 상부블럭(252); 상기 상부블럭(252)의 선단부(252a)에 제공되는 롤러(253); 상기 상부블럭(252)의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더(254); 및 상기 상부블럭(152)의 전후진 이동을 제어하는 서보모터(256)를 포함하며, 상기 상부블럭(252)은 상기 서보 모터(256)에 의해 최대 스트로크(Smax) 범위 내에서 가변 스트로크(Sv)로 선형 이동되는 것을 특징으로 한다. On the other hand, referring to Figure 2a, the coating apparatus 200 according to an embodiment of the present invention includes a stage 212, the substrate 210 is located; A nozzle device 220 provided on an upper portion of the stage 212 and applying a coating liquid onto the substrate 210; A gantry 225 to which the nozzle device 220 is mounted to be movable on the stage 212; A plurality of pairs of alignment devices 250 provided around the stage 212; A vision camera 270 provided on the gantry 225 for checking an alignment state of the substrate 210; A controller 280 connected to the pair of alignment devices 250 and the vision camera 270, respectively; And a display device 290 connected to the control device 280 for monitoring the alignment state of the substrate 210, wherein the plurality of pairs of the alignment devices 250 each support the block 251. An upper block 252 located on the top; A roller 253 provided at the tip portion 252a of the upper block 252; An up-down cylinder 254 for controlling the up-down movement of the upper block 252; And a servo motor 256 for controlling the forward and backward movement of the upper block 152, wherein the upper block 252 is controlled by the servo motor 256 within a maximum stroke Smax. It is characterized in that the linear movement to).

상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 코팅 장치(200)는 복수 쌍의 얼라인 장치(250)을 포함하는 기판의 얼라인 시스템(240)을 제외하고는 도 1a에 도시된 종래 기술의 코팅 장치(100)와 실질적으로 동일한 구성을 가지며, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 얼라인 시스템(240)의 구체적인 구성 및 동작은 도 2a 및 도 2b를 참조하여 이미 상세히 기술한 바와 같다.The coating apparatus 200 according to the embodiment of the present invention described above is a coating apparatus of the related art shown in FIG. 1A except for an alignment system 240 of a substrate including a plurality of pairs of alignment apparatus 250. The configuration and operation of the alignment system 240 of the substrate according to the exemplary embodiment of the present invention have substantially the same configuration as that of 100, as described above in detail with reference to FIGS. 2A and 2B.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판의 얼라인용 장치(250) 및 이를 구비한 얼라인 시스템(240)을 사용하면, 기판(210)의 사이즈가 변경되더라도 지지블럭(251)을 교체하지 않고도 기판(210)의 얼라인이 가능하고, 얼라인의 반복 정밀도가 지속적으로 향상되며, 얼라인에 소요되는 시간 및 비용이 현저하게 감소된다.As described above, when the apparatus 250 for aligning the substrate according to the present invention and the align system 240 having the same are used, even when the size of the substrate 210 is changed, the substrate may be replaced without replacing the support block 251. Alignment of 210 is possible, the repeat accuracy of the alignment is continuously improved, and the time and cost required for the alignment is significantly reduced.

다양한 변형예가 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 본 명세서에 기술되고 예시된 구성 및 방법으로 만들어질 수 있으므로, 상기 상세한 설명에 포함되거나 첨부 도면에 도시된 모든 사항은 예시적인 것으로 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 따라서, 본 발명의 범위는 상술한 예시적인 실시예에 의해 제한되지 않으며, 이하의 청구범위 및 그 균등물에 따라서만 정해져야 한다.Various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the following claims. It is not. Accordingly, the scope of the present invention should not be limited by the above-described exemplary embodiments, but should be determined only in accordance with the following claims and their equivalents.

100,200: 코팅 장치 110,110a,210: 기판
112,212: 스테이지 120,220: 노즐장치
125,125: 갠트리 140,240: 얼라인 시스템
150,160,250: 얼라인 장치 151,251: 지지블럭
152,252: 상부블럭 152a,252a: 선단부
153,253: 롤러 154,254: 업다운 실린더
156: 전후진 실린더 256: 서보 모터
270,272: 비전 카메라 280: 제어장치
290: 디스플레이 장치 100,200: coating apparatus 110,110a, 210: substrate
112,212: stage 120,220: nozzle device
125, 125: gantry 140, 240: alignment system
150, 160, 250: alignment device 151, 251: support block
152, 252: upper block 152a, 252a: distal end
153,253: roller 154,254: up-down cylinder
156: forward and backward cylinder 256: servo motor
270,272: vision camera 280: controller
290: display device

Claims (17)

기판의 얼라인 장치에 있어서,
지지블럭 상에 위치되는 상부블럭;
상기 상부블럭의 선단부에 제공되는 롤러;
상기 상부블럭의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더; 및
상기 상부블럭의 전후진 이동을 제어하는 서보모터
를 포함하고,
상기 상부블럭은 상기 서보 모터에 의해 최대 스트로크(Smax) 범위 내에서 가변 스트로크(Sv)로 선형 이동되는
기판의 얼라인 장치.In the alignment device of the substrate,
An upper block positioned on the support block;
A roller provided at the front end of the upper block;
An up-down cylinder for controlling the up-down movement of the upper block; And
Servo motor for controlling the forward and backward movement of the upper block
Including,
The upper block is linearly moved by the servo motor to the variable stroke Sv within a maximum stroke Smax.
Alignment device of the substrate. 제 1항에 있어서,
상기 가변 스트로크(Sv)는 0 ≤ 가변 스트로크(Sv) ≤ 최대 스트로크(Smax)의 관계를 가지며, 사용자에 의해 설정되는 기판의 얼라인 장치.The method of claim 1,
The variable stroke (Sv) has a relationship of 0 ≦ variable stroke (Sv) ≦ maximum stroke (Smax), and is arranged by the user. 제 2항에 있어서,
상기 최대 스트로크(Smax)는 30mm인 기판의 얼라인 장치.The method of claim 2,
Alignment apparatus of a board | substrate whose said maximum stroke (Smax) is 30 mm. 기판의 얼라인 시스템에 있어서,
기판이 위치되는 스테이지의 둘레에 제공되는 복수 쌍의 얼라인 장치;
갠트리 상에 제공되며, 상기 기판의 얼라인 상태를 확인하기 위한 비전 카메라;
상기 복수 쌍의 얼라인 장치 및 상기 비전 카메라와 각각 연결되는 제어장치; 및
상기 제어장치와 연결되며, 상기 기판의 얼라인 상태를 모니터링하기 위한 디스플레이 장치
를 포함하고,
상기 복수 쌍의 얼라인 장치는 각각
지지블럭 상에 위치되는 상부블럭;
상기 상부블럭의 선단부에 제공되는 롤러;
상기 상부블럭의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더; 및
상기 상부블럭의 전후진 이동을 제어하는 서보모터
를 포함하며,
상기 상부블럭은 상기 서보 모터에 의해 최대 스트로크(Smax) 범위 내에서 가변 스트로크(Sv)로 선형 이동되는
기판의 얼라인 시스템.In the alignment system of the substrate,
A plurality of pairs of alignment devices provided around the stage where the substrate is located;
A vision camera provided on a gantry for checking an alignment state of the substrate;
A control device connected to the plurality of alignment devices and the vision camera, respectively; And
A display device connected to the control device for monitoring an alignment state of the substrate
Including,
The plurality of pairs of alignment devices are each
An upper block positioned on the support block;
A roller provided at the front end of the upper block;
An up-down cylinder for controlling the up-down movement of the upper block; And
Servo motor for controlling the forward and backward movement of the upper block
Including;
The upper block is linearly moved by the servo motor to the variable stroke Sv within a maximum stroke Smax.
Substrate alignment system. 제 4항에 있어서,
상기 비전 카메라는 하나의 비전 카메라 또는 제 1 및 제 2 비전 카메라로 구현되는 기판의 얼라인 시스템.The method of claim 4, wherein
And the vision camera is one vision camera or a first and second vision cameras. 제 5항에 있어서,
상기 비전 카메라가 상기 하나의 비전 카메라로 구현되는 경우, 상기 기판이 상기 복수 쌍의 얼라인 장치에 의해 얼라인된 후 상기 비전 카메라는 상기 갠트리의 이동방향과 수직한 방향을 따라 상기 갠트리 상을 이동하면서 상기 기판의 제 1 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 상기 갠트리의 이동방향을 따라 이동하면서 상기 기판의 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하거나, 또는 상기 갠트리의 이동방향을 따라 이동하면서 상기 기판의 상기 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 상기 갠트리의 이동방향과 수직한 방향을 따라 상기 갠트리 상을 이동하면서 상기 기판의 상기 제 1 방향 얼라인 상태를 확인하는 기판의 얼라인 시스템.6. The method of claim 5,
When the vision camera is implemented as the single vision camera, after the substrate is aligned by the pair of alignment devices, the vision camera moves on the gantry along a direction perpendicular to the moving direction of the gantry. Confirming the first direction alignment state of the substrate, and then checking the second direction alignment state of the substrate while moving along the moving direction of the gantry, or moving along the moving direction of the gantry. Confirming the second direction alignment state of the substrate, and then confirming the first direction alignment state of the substrate while moving on the gantry along a direction perpendicular to the moving direction of the gantry. 제 5항에 있어서,
상기 비전 카메라가 상기 제 1 및 제 2 비전 카메라로 구현되는 경우, 상기 기판이 상기 복수 쌍의 얼라인 장치에 의해 얼라인된 후 상기 제 2 비전 카메라는 상기 갠트리의 이동방향과 수직한 방향을 따라 상기 갠트리 상을 이동하면서 상기 기판의 제 1 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 상기 제 1 비전 카메라가 상기 갠트리의 이동방향을 따라 이동하면서 상기 기판의 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하거나, 또는 제 1 비전 카메라가 상기 갠트리의 이동방향을 따라 이동하면서 상기 기판의 상기 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 상기 제 2 비전 카메라가 상기 갠트리의 이동방향과 수직한 방향을 따라 상기 갠트리 상을 이동하면서 상기 기판의 상기 제 1 방향 얼라인 상태를 확인하는 기판의 얼라인 시스템.6. The method of claim 5,
When the vision camera is implemented with the first and second vision cameras, after the substrate is aligned by the plurality of pairs of alignment devices, the second vision camera is along a direction perpendicular to the moving direction of the gantry. Checking the first direction alignment state of the substrate while moving on the gantry, and then checking the second direction alignment state of the substrate while the first vision camera moves along the moving direction of the gantry, or The first vision camera moves along the moving direction of the gantry to check the second direction alignment state of the substrate, and then the second vision camera moves along the direction perpendicular to the moving direction of the gantry. And aligning the first direction alignment state of the substrate while moving the substrate. 제 6항 또는 제 7항에 있어서,
상기 제 1 방향의 얼라인 상태 및 상기 제 2 방향의 얼라인 상태가 각각 상기 제어장치로 전송되어, 상기 디스플레이 장치 상에 디스플레이되어 실시간으로 판별되는 기판의 얼라인 시스템.8. The method according to claim 6 or 7,
And an alignment state in the first direction and an alignment state in the second direction are respectively transmitted to the control device and displayed on the display device to determine in real time. 제 8항에 있어서,
상기 제 1 방향의 얼라인 상태 및 상기 제 2 방향의 얼라인 상태가 각각 미리 정해진 얼라인 범위를 벗어나 얼라인 에러가 발생하는 경우 상기 제어장치는 경보장치로 경고 신호를 전송하는 기판의 얼라인 시스템.The method of claim 8,
Alignment system of the substrate for transmitting a warning signal to the alarm device when an alignment error occurs when the alignment state in the first direction and the alignment state in the second direction are out of a predetermined alignment range, respectively. . 제 9항에 있어서,
상기 경보장치가 상기 경고 신호를 수신하면 경보를 발생하고, 사용자는 상기 제어장치를 통해 상기 얼라인 에러에 대응되는 보정값을 입력하여 상기 복수 쌍의 얼라인 장치의 상기 가변 스트로크(Sv)의 값을 조정하는 기판의 얼라인 시스템.The method of claim 9,
When the alarm device receives the warning signal, an alarm is generated, and a user inputs a correction value corresponding to the alignment error through the control device, and thus the value of the variable stroke Sv of the plurality of pairs of alignment devices. Alignment system of the substrate to adjust the. 코팅 장치에 있어서,
기판이 위치되는 스테이지;
상기 스테이지의 상부에 제공되며, 상기 기판 상에 도액을 도포하는 노즐 장치;
상기 노즐 장치가 상기 스테이지 상에서 이동 가능하도록 장착되는 갠트리;
상기 스테이지의 둘레에 제공되는 복수 쌍의 얼라인 장치;
상기 갠트리 상에 제공되며, 상기 기판의 얼라인 상태를 확인하기 위한 비전 카메라;
상기 복수 쌍의 얼라인 장치 및 상기 비전 카메라와 각각 연결되는 제어장치; 및
상기 제어장치와 연결되며, 상기 기판의 얼라인 상태를 모니터링하기 위한 디스플레이 장치
를 포함하고,
상기 복수 쌍의 얼라인 장치는 각각
지지블럭 상에 위치되는 상부블럭;
상기 상부블럭의 선단부에 제공되는 롤러;
상기 상부블럭의 업다운 이동을 제어하는 업다운 실린더; 및
상기 상부블럭의 전후진 이동을 제어하는 서보모터
를 포함하며,
상기 상부블럭은 상기 서보 모터에 의해 최대 스트로크(Smax) 범위 내에서 가변 스트로크(Sv)로 선형 이동되는
코팅 장치.In the coating apparatus,
A stage on which the substrate is located;
A nozzle device provided on an upper portion of the stage and configured to apply a coating liquid onto the substrate;
A gantry mounted such that the nozzle device is movable on the stage;
A plurality of pairs of alignment devices provided around the stage;
A vision camera provided on the gantry for checking an alignment state of the substrate;
A control device connected to the plurality of alignment devices and the vision camera, respectively; And
A display device connected to the control device for monitoring an alignment state of the substrate
Including,
The plurality of pairs of alignment devices are each
An upper block positioned on the support block;
A roller provided at the front end of the upper block;
An up-down cylinder for controlling the up-down movement of the upper block; And
Servo motor for controlling the forward and backward movement of the upper block
Including;
The upper block is linearly moved by the servo motor to the variable stroke Sv within a maximum stroke Smax.
Coating device. 제 11항에 있어서,
상기 비전 카메라는 하나의 비전 카메라 또는 제 1 및 제 2 비전 카메라로 구현되는 코팅 장치.12. The method of claim 11,
The vision camera is a coating device implemented by one vision camera or the first and second vision camera. 제 12항에 있어서,
상기 비전 카메라가 상기 하나의 비전 카메라로 구현되는 경우, 상기 기판이 상기 복수 쌍의 얼라인 장치에 의해 얼라인된 후 상기 비전 카메라는 상기 갠트리의 이동방향과 수직한 방향을 따라 상기 갠트리 상을 이동하면서 상기 기판의 제 1 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 상기 갠트리의 이동방향을 따라 이동하면서 상기 기판의 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하거나, 또는 상기 갠트리의 이동방향을 따라 이동하면서 상기 기판의 상기 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 상기 갠트리의 이동방향과 수직한 방향을 따라 상기 갠트리 상을 이동하면서 상기 기판의 상기 제 1 방향 얼라인 상태를 확인하는 코팅 장치.13. The method of claim 12,
When the vision camera is implemented as the single vision camera, after the substrate is aligned by the pair of alignment devices, the vision camera moves on the gantry along a direction perpendicular to the moving direction of the gantry. Confirming the first direction alignment state of the substrate, and then checking the second direction alignment state of the substrate while moving along the moving direction of the gantry, or moving along the moving direction of the gantry. And confirming the second direction alignment state of the substrate, and then checking the first direction alignment state of the substrate while moving on the gantry along a direction perpendicular to the moving direction of the gantry. 제 12항에 있어서,
상기 비전 카메라가 상기 제 1 및 제 2 비전 카메라로 구현되는 경우, 상기 기판이 상기 복수 쌍의 얼라인 장치에 의해 얼라인된 후 상기 제 2 비전 카메라는 상기 갠트리의 이동방향과 수직한 방향을 따라 상기 갠트리 상을 이동하면서 상기 기판의 제 1 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 상기 제 1 비전 카메라가 상기 갠트리의 이동방향을 따라 이동하면서 상기 기판의 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하거나, 또는 제 1 비전 카메라가 상기 갠트리의 이동방향을 따라 이동하면서 상기 기판의 상기 제 2 방향 얼라인 상태를 확인하고, 그 후 상기 제 2 비전 카메라가 상기 갠트리의 이동방향과 수직한 방향을 따라 상기 갠트리 상을 이동하면서 상기 기판의 상기 제 1 방향 얼라인 상태를 확인하는 코팅 장치.13. The method of claim 12,
When the vision camera is implemented with the first and second vision cameras, after the substrate is aligned by the plurality of pairs of alignment devices, the second vision camera is along a direction perpendicular to the moving direction of the gantry. Checking the first direction alignment state of the substrate while moving on the gantry, and then checking the second direction alignment state of the substrate while the first vision camera moves along the moving direction of the gantry, or The first vision camera moves along the moving direction of the gantry to check the second direction alignment state of the substrate, and then the second vision camera moves along the direction perpendicular to the moving direction of the gantry. Coating apparatus for checking the first direction alignment state of the substrate while moving. 제 13항 또는 제 14항에 있어서,
상기 제 1 방향의 얼라인 상태 및 상기 제 2 방향의 얼라인 상태가 각각 상기 제어장치로 전송되어, 상기 디스플레이 장치 상에 디스플레이되어 실시간으로 판별되는 코팅 장치.The method according to claim 13 or 14,
And the alignment state in the first direction and the alignment state in the second direction are respectively transmitted to the control device and displayed on the display device to determine in real time. 제 15항에 있어서,
상기 제 1 방향의 얼라인 상태 및 상기 제 2 방향의 얼라인 상태가 각각 미리 정해진 얼라인 범위를 벗어나 얼라인 에러가 발생하는 경우 상기 제어장치는 경보장치로 경고 신호를 전송하는 코팅 장치.16. The method of claim 15,
And the control device transmits a warning signal to an alarm device when an alignment error occurs out of a predetermined alignment range, respectively, in the alignment state in the first direction and the alignment state in the second direction. 제 16항에 있어서,
상기 경보장치가 상기 경고 신호를 수신하면 경보를 발생하고, 사용자는 상기 제어장치를 통해 상기 얼라인 에러에 대응되는 보정값을 입력하여 상기 복수 쌍의 얼라인 장치의 상기 가변 스트로크(Sv)의 값을 조정하는 코팅 장치.17. The method of claim 16,
When the alarm device receives the warning signal, an alarm is generated, and a user inputs a correction value corresponding to the alignment error through the control device, and thus the value of the variable stroke Sv of the plurality of pairs of alignment devices. Coating device to adjust the temperature.
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