KR101144796B1 - The repairing equipment for inferiority on surface of display panel and the repairing methode of the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 디스플레이 패널의 불량 부위를 수리하는 디스플레이 패널 리페어 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 디스플레이 패널의 불량 부위의 크기에 따라 감광제의 양을 다르게 토출하여 불량 부위에 감광제를 충진하는 감광제 충진유닛과, 상기 디스플레이 패널 불량 부위에 충진된 감광제를 소성하는 소성유닛을 포함하여 구성되어, 디스플레이 패널에 불량이 발생한 경우, 포토 레지스터 현상 이후에 불량 부분에 감광제를 충진하고 별도의 소성 유닛을 사용하여 불량 부위에 충진된 감광제를 소성함에 따라 중/대형크기의 불량 리페어가 가능하고 불량 리페어 후 크롬막의 접착성이 증가된다.The present invention relates to a display panel repair apparatus for repairing a defective portion of a display panel and a method thereof, and more particularly, to a display panel repair apparatus for repairing a defective portion of a display panel, including a photosensor filling unit for discharging a photosensitizer differently according to a size of a defective region of the display panel, And a sintering unit for sintering the photosensitive agent filled in the defective display panel area. When a defect occurs in the display panel, the photosensitive member is filled in the defective part after the photoresist development, and a separate sintering unit is used As the photosensitive agent is baked, it is possible to repair defective medium or large size and the adhesion of the chromium film after defective repair is increased.
디스플레이 패널, 리페어, 감광제 Display panel, repair, photosensitive agent
Description
도 1 은 디스플레이 패널의 오픈형태의 불량이 도시된 도,FIG. 1 is a view showing an open failure of a display panel,
도 2 는 본 발명에 의한 디스플레이 패널 리페어 장치의 구성이 도시된 구성도,FIG. 2 is a configuration diagram illustrating a configuration of a display panel repair apparatus according to the present invention,
도 3 은 본 발명에 의한 디스플레이 패널 리페어 장치 구조도,3 is a structural view of a display panel repair apparatus according to the present invention.
도 4 는 본 발명에 의한 디스플레이 패널 리페어 방법이 도시된 순서도이다.4 is a flowchart illustrating a display panel repair method according to the present invention.
<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명>DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS
110: 감광제 충진 유닛 120: 소성 유닛110: photosensitive agent filling unit 120: firing unit
130: 구동부 140: 이미지 획득 유닛130: driving unit 140: image acquisition unit
P: 디스플레이 패널P: Display panel
본 발명은 디스플레이 패널에 오픈 형태의 불량이 발생한 경우 이를 수리하는 디스플레이 패널 리페어 장치 및 그 방법에 관한 것으로써, 특히 디스플레이 패널에 불량이 발생한 경우, 포토 레지스터 현상 후 불량 부위에 감광제를 충진하고 이를 별도의 소성 유닛을 통해 소성함으로써 중/대형 크기의 불량 수리가 가능하고 크롬막의 접착성을 향상시킬 수 있는 디스플레이 패널 리페어 장치 및 그 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a display panel repair apparatus and method for repairing an open type defect in a display panel, and more particularly, to a display panel repair apparatus and method for repairing a defective display panel, And a method for repairing a display panel which can improve the adhesion of the chromium film.
일반적으로 디스플레이 패널(P) 제작을 위한 포토 레지스트(Photo Resist) 공정은 크롬(Cr)막이 균일하게 도포된 디스플레이 패널 위에 감광제인 포토 레지스트(PR) 도포 후 패턴에 따라 선택적인 노광 및 현상을 수행한 후 식각, 박막을 수행함으로써 패턴을 형성하는 과정으로 이루어진다.In general, a photoresist process for manufacturing a display panel P is performed by applying a photoresist (PR), which is a photosensitive agent, on a display panel uniformly coated with a chromium (Cr) film, and selectively exposing and developing Etching, and thin film to form a pattern.
이때 도 1 에 도시된 바와 같이, 상기 포토 레지스트(PR)를 도포하는 공정, 노광 공정, 현상 공정 수행시 상기 포토 레지스트가 제대로 도포되지 않아 오픈 형태의 불량이 발생할 경우(a), 상기 오픈 형태의 불량이 발생한 부분에는 노광이 제대로 이루어지지 않을 뿐만 아니라 식각을 수행하는 경우 크롬막(Cr)이 노출되어 식각되게 된다(b).As shown in FIG. 1, when the photoresist (PR) is applied, the photoresist is not properly applied during the exposure process and the development process, and an open defect occurs, (a) (B) In the case where the etching is performed, the chromium film (Cr) is exposed and etched.
상기와 같이 디스플레이 패널(P)에 오픈 형태의 불량이 발생하는 경우, 식각 후 CVD(Chemical Vapor Deposition, 화학 증기 증착)을 통해 크롬막(Cr)이 형성되지 않은 부분에 선택적으로 크롬막을 적층하여 디스플레이 패널의 불량을 수리한 다.When an open defect occurs in the display panel P as described above, a chromium film is selectively stacked on a portion where the chromium film (Cr) is not formed through CVD (Chemical Vapor Deposition) Repair the defective panel.
상기 CVD(화학 증기 증착)는 수십 ~ 수백 토르의 압력 하에서 크롬막을 형성하는 원료물질을 기체상태로 만들고, 가열된 디스플레이 패널(P)에 500도 이상의 고온의 환경에서 이를 분사함에 따라, 상기 크롬막을 형성하는 원료물질이 디스플레이 패널 표면에서 화학반응을 일으켜 고체막을 형성함에 따라 오픈 형태의 불량 부위에 크롬막을 재생성하는 공법입니다.The CVD (Chemical Vapor Deposition) is a process in which a raw material for forming a chromium film under a pressure of tens to hundreds of torres is made into a gaseous state and the chromium film is sprayed onto the heated display panel P in a high temperature environment of 500 degrees or more. As the raw material to be formed forms a solid film by chemical reaction on the surface of the display panel, it is a method to regenerate the chromium film in the open defect part.
이러한 CVD를 이용하여 디스플레이 패널(P) 리페어를 수행하는 경우, CVD 공법의 특성상 기 적층된 크롬막에 비해 불량 부위에 형성된 크롬막의 접착력이 떨어지는 단점이 있다.In the case of performing the display panel (P) repair using such CVD, the adhesion of the chromium film formed on the defective portion is lower than that of the deposited chromium film due to the nature of the CVD technique.
특히, 상기 CVD 공법을 이용해 리페어 가능한 불량은 10㎛ 미만으로 한정되어 10㎛ 이상의 중/대형 크기의 불량은 리페어 할 수 없다는 단점이 있습니다.In particular, defects that can be repaired by the above CVD method are limited to less than 10 μm, and defects such as medium and large defects larger than 10 μm can not be repaired.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 디스플레이 패널에 오픈 형태의 불량이 발생한 경우, 불량 부위에 감광제를 충진하고 소성함에 따라 중/대형 크기의 불량 수리가 가능한 동시에 식각전에 패널 불량 부위를 수리함에 따라, CVD(Chemical Vapor Deposition) 방식보다 크롬막의 접착성이 향상되어 크롬막의 균일한 접착성을 얻을 수 있는 디스플레이 패널 리페어 장치 및 그 방법을 제공하는 데 있다. DISCLOSURE Technical Problem The present invention has been conceived to solve the problems of the prior art described above, and it is an object of the present invention to provide a display panel capable of repairing medium / large size defects when a defective open- The present invention also provides a display panel repair apparatus and method which can improve the adhesion of a chromium film to CVD (Chemical Vapor Deposition) system by repairing a defective portion of a panel, thereby achieving uniform adhesion of the chromium film.
상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 디스플레이 패널 리페어 장치는, 디스플레이 패널의 불량 부위의 크기에 따라 감광제의 양을 다르게 토출하여 불량 부위에 감광제를 충진하는 감광제 충진유닛과, 상기 디스플레이 패널 불량 부위에 충진된 감광제를 소성하는 소성유닛을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a display panel repair apparatus comprising: a photosensitive agent filling unit for discharging a photosensitive agent in an amount different from a defective area of a display panel to fill a defective area with a photosensitive agent; And a baking unit for baking the photosensitive agent filled in the baking unit.
또한 본 발명에 의한 디스플레이 패널 리페어 방법은 디스플레이 패널의 불량 부위를 감지하는 제 1 단계와, 디스플레이 패널의 불량 부위에 감광제를 충전하는 제 2 단계와, 상기 감광제가 충전된 부위를 소성시키는 제 3 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of repairing a display panel, comprising: a first step of detecting a defective part of a display panel; a second step of filling the defective part of the display panel with a photosensitive agent; And a control unit.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2 은 본 발명에 의한 디스플레이 패널 리페어 장치의 구성이 도시된 구성도이고, 도 3 는 본 발명에 의한 디스플레이 패널 리페어 장치 구조이다.FIG. 2 is a block diagram of a display panel repair apparatus according to the present invention, and FIG. 3 is a structure of a display panel repair apparatus according to the present invention.
본 발명의 디스플레이 패널 리페어 장치는 도 2 에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널(P)의 불량 부위의 크기에 따라 감광제의 양을 다르게 토출하여 불량 부위에 감광제를 충진하는 감광제 충진유닛(110)을 포함하여 구성된다.2, the display panel repair apparatus of the present invention includes a
상기 감광제 충진유닛(110)은 포토 레지스트(Photo Resist, PR)과 같은 감광제가 담겨지고, 디스플레이 패널(P)의 불량 부위의 크기에 따라 감광제의 양을 조 절하여 불량부위에 감광제를 충진한다.The
상기 감광제 충진 유닛(110)은 감광제를 토출하는 미세 노즐(111)과, 상기 미세 노즐에서 토출되는 감광제의 양을 조정하는 제어모듈(112)로 구성된다.The
상기 미세 노즐(111)은 감광제를 불량 부위에 토출하는 가는 관으로서, 내경이 15㎛ 이하로, 불량 부위의 크기에 따라 상기 미세 노즐의 내경을 변화시켜 사용할 수 있다.The
예를 들어, 내경이 4㎛, 7㎛, 15㎛인 미세 노즐(111)을 구비하는 경우, 사용자는 불량 부위의 크기가 10㎛이하의 소형 불량인 경우 내경이 4㎛인 미세 노즐을 사용하고, 10㎛~40㎛ 사이의 중/대형 크기의 불량인 경우 7㎛ 또는 15㎛의 내경이 큰 미세 노즐을 사용하여, 상기 미세 노즐에서 토출되는 감광제의 양을 조절할 수 있다.For example, in the case where the
상기 제어모듈(112)은 상기 미세 노즐(111)에서 토출되는 감광제의 양을 조절하는데, 본 발명의 디스플레이 패널 리페어 장치는 에어를 사용하여 미세 노즐을 가압하여 미세 노즐에서 토출되는 감광제의 양을 조절한다.The
상기 미세 노즐(111)에 가해주는 압력 및 상기 압력을 가하는 시간을 조절함에 따라 단위 시간당 미세 노즐에서 토출되는 감광제의 양을 조절함에 따라, 불량 부위의 크기에 따라 미세 노즐에서 토출되는 감광제의 양이 자동 조절 가능하다.As the amount of the photosensitive agent discharged from the fine nozzles per unit time is controlled by controlling the pressure applied to the
즉, 상기한 바와 같이 미세 노즐(111)의 내경을 변화시키지 않더라도, 상기 제어 모듈(112)을 사용하여 상기 미세 노즐(111)에 가해지는 에어의 압력 및 압력을 가하는 시간을 조정함에 따라 불량 부위의 크기가 작은 경우 토출되는 감광제의 양을 줄이고, 불량 부위가 큰 경우 토출되는 감광제의 크기가 증가하도록 조절 가능하다.That is, even if the inner diameter of the
상기 감광제 충진 유닛(110)은 상기 감광제를 토출하는 미세 노즐(111)의 위치를 조정하는 위지 조정모듈(113)을 더 포함하여 구성 가능하다.The photosensitive
상기 감광제 충전 유닛(110)은 상기 감광제를 토출하는 미세 노즐(111)의 위치를 조정하는 위치 조정모듈(113)을 더 포함하여 구성 가능하다.The photosensitive
또한 본 발명의 디스플레이 패널 리페어 장치는 상기 감광제 충진 유닛(110)이 디스플레이 패널의 불량 부분에 위치하도록 상기 감광제 충전 유닛의 위치를 3차원으로 조정하는 구동부(130)를 더 포함한다.The display panel repair apparatus of the present invention further includes a driving unit 130 that adjusts the position of the photosensitive agent charging unit in three dimensions so that the photosensitive
또한 본 발명의 디스플레이 패널 리페어 장치는 상기 감광제 충전 유닛(110)이 디스플레이 패널의 불량 부분에 위치하도록 상기 감광제 충전 유닛의 위치를 3차원으로 조정하는 구동부(130)를 더 포함한다.Further, the display panel repair apparatus of the present invention further includes a driving unit 130 that adjusts the position of the photosensitive agent charging unit three-dimensionally such that the photosensitive
이와 같이 감광제 충진 유닛(110)에 의해 디스플레이 패널(P)의 불량 부위에 감광제가 충진되면 소성 유닛(120)을 사용하여 상기 불량부위에 충진된 감광제를 소성한다.If the photosensitive agent is filled in the defective portion of the display panel P by the photosensitive
상기 소성 유닛(120)은 CO2 레이저를 방출하는 레이저 장치 또는 고온의 에어를 토출하는 열풍기를 사용하여 상기 디스플레이 패널(P)의 불량 부위에 충진된 감광제를 건조하여 소성하게 된다. 상기 CO2 레이저는 출력 및 집광성이 좋은 레이저로 표면 재질 개선에 주로 사용될 수 있다.The
상기 디스플레이 패널 리페어 장치는 도 3 에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널(P)의 불량 부위를 검출하기 위해 디스플레이 패널을 촬영하는 이미지 획득 유닛(140)과 상기 이미지 획득 유닛에서 촬영되는 영상이 디스플레이 되는 모니터(150)를 더 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 3, the display panel repair apparatus includes an
상기 이미지 획득 유닛(140)를 사용하여 디스플레이 패널(P)을 스캔하여 촬영하고 상기 모니터(150)에 디스플레이되는 이미지를 통해 디스플레이 패널의 불량 부위를 감지 할 수 있다.The
상기 이미지 획득 유닛(140)은 줌 기능을 포함하여 상기 디스플레이 패널(P)의 국소부위를 확대 촬영할 수 있다. The
따라서 상기 이미지 획득 유닛(140)을 통해 획득된 디스플레이 패널(P)의 불량 부위를 파악하고, 상기 구동부(130)을 사용하여 감광제 충진 유닛(110)을 디스플레이 패널의 불량 부위에 위치시켜 불량 부위에 감광제가 충진되도록 한다.Therefore, the defective portion of the display panel P obtained through the
이때, 상기 구동부 또는 위치 조정모듈(113)을 구동함에 따라 감광제 충진 유닛의 미세 노즐(111)의 위치가 미세 조정되어 중/대형의 오픈 형태의 불량이 발생한 경우, 미세 노즐을 이동하여 효과적으로 불량 부위에 감광제가 충진되도록 한 다.At this time, when the position of the
뿐만 아니라, 본 발명의 디스플레이 패널 리페어 장치는 도 3 에 도시된 바와 같이 광원(160)을 더 포함하여 구성됨에 따라, 이미지 획득 수단(140)이 영상을 촬영할 때 상기 광원을 사용하여 디스플레이 패널(P)을 조사하여 이미지 획득 효율을 높일 수 있다.3, the display panel repair apparatus of the present invention further includes a
또한 감광제 충진시 상기 광원(160)을 사용하여 빛을 조사하면, 상기 이미지 획득 수단(140)이 획득한 이미지를 분석하여 적정양의 감광제가 충진되었는지 확인하기 쉬워진다.Also, when light is irradiated using the
본 발명의 디스플레이 패널 리페어 장치는 상기 포토 레지스트와 같은 감광제 도포 후 현상 공정을 수행한 후 오픈 형태의 불량이 발생한 위치에 감광제를 충진함에 따라, 종래 식각 후 크롬막을 재형성하는 CVD 공법에 비해 감광제를 도포후 디스플레이 패널(P) 전체의 식각을 수행함에 따라 재형성된 크롬막의 접착성과 기 형성된 크롬막의 접착성이 동일하다.The display panel repair apparatus of the present invention is characterized in that a photosensitive agent is filled in a position where a defect of an open shape occurs after a development process after applying a photosensitive agent such as the photoresist, The adhesion of the re-formed chromium film and the adhesion of the formed chromium film are the same as that of the entire display panel P after the application.
특히, 미세 노즐(111)의 내경의 크기를 변화시키는 동시에 미세 노즐에서 토출되는 감광제의 양을 조정할 수 있게 되어, 10㎛ 이상의 중/대형 크기의 오픈 형태의 불량을 리페어 할 수 있다.Particularly, it is possible to change the size of the inner diameter of the
도 4 는 본 발명에 의한 디스플레이 패널의 리페어 방법이 도시된 순서도이다.4 is a flowchart showing a repair method of a display panel according to the present invention.
본 발명에 의한 디스플레이 패널의 리페어 방법은 포토 마스크 공정 중, 포 토 레지스트와 같은 감광제 도포(S1), 노광(S2) 및 현상(S3) 단계 이후에 수행된다.The repair method of the display panel according to the present invention is carried out after the steps S1, S2, and S3 of photoresist such as photoresist in the photomask process.
우선 제 1 단계에서 디스플레이 패널의 불량 부위를 감지한다(S4). 이때 리페어 가능한 디스플레이 패널의 불량은 감광제가 제대로 도포되지 않아 크롬막이 노출되는 오픈 형태의 불량이다. First, the defective portion of the display panel is sensed in a first step (S4). At this time, the defective display panel which can be repaired is an open type defect in which the chromium film is exposed because the photosensitive agent is not properly applied.
디스플레이 패널의 불량 부위 감지는 CCD 카메라와 같은 이미지 획득 수단을 사용하여 디스플레이 패널의 이미지를 획득하고, 상기 획득된 이미지를 통해 패널의 불량 부위를 감지하는데, 특히 오픈 형태의 불량 부위를 감지하게 된다.The detection of a defective part of the display panel acquires an image of the display panel using an image acquiring unit such as a CCD camera, and detects a defective part of the panel through the obtained image, in particular, detects an open defective part.
특히 상기 이미지 획득 수단은 줌 기능을 구비함에 따라, 디스플레이 패널의 국소 부위를 확대 촬영가능함에 따라 보다 효과적으로 디스플레이 패널의 불량 부위를 감지할 수 있다.Particularly, since the image acquiring means has a zoom function, it is possible to more effectively photograph the defective portion of the display panel by enlarging and photographing the local region of the display panel.
제 2 단계에서는 디스플레이 패널의 불량 부위에 감광제를 충진한다(S5).In the second step, the photosensitive agent is filled in the defective portion of the display panel (S5).
이때, 상기 감광제는 에어를 사용하여 상기 감광제가 토출되는 노즐에 압력을 가하여 감광제가 토출되어 디스플레이 패널의 불량 부위에 중천되는데, 상기 가해주는 압력 및 시간을 조정하여 상기 감광제가 충진되는 양을 조정한다.At this time, the photosensitizer is ejected by applying pressure to a nozzle through which the photosensitizer is ejected by using air, so that the amount of the photosensitizer is adjusted by adjusting the applied pressure and time. .
즉, 상기 제 1 단계에서 감지된 불량 부위의 크기에 따라 상기 불량 부위에 충진되는 충진제의 양이 결정되고, 상기 충진제의 양은 사용하는 노즐의 크기 및 노즐에 가해지는 에어의 압력에 따라 조정된다.That is, the amount of the filler to be filled in the defective portion is determined according to the size of the defective portion detected in the first step, and the amount of the filler is adjusted according to the size of the used nozzle and the pressure of the air applied to the nozzle.
따라서, 상기 단위시간당 토출되는 감광제의 양이 조정되어 10㎛ 이하의 작은 면적의 불량부터 40㎛ 정도의 대면적의 불량까지 리페어 가능하고, 상기 리페어 가능한 불량 부위의 크기는 본 명세서에 한정되지 않고, 상기 불량부위에 충진되는 감광제의 양을 조정함에 따라 40㎛ 이상의 대면적의 불량도 리페어 가능함을 명시한다.Therefore, the amount of the photosensitizer discharged per unit time is adjusted to make it possible to repair from defects having a small area of 10 mu m or less to defects having a large area of about 40 mu m, and the size of repairable defective areas is not limited to this specification, It is specified that the defect of large area of 40 μm or more can be repaired by adjusting the amount of the photosensitive agent filled in the defective part.
제 3 단계에서는 상기 감광제가 충전된 부위를 소성시킨다(S6). 상기 충전된 감광제의 소성은 고온의 에어를 또는 CO2 레이저를 사용하여 소성이 필요한 부분을 국부 소성시킬 수 있다.In the third step, the portion filled with the photosensitive agent is baked (S6). The firing of the filled photosensitizer can locally sinter a portion requiring firing using air at a high temperature or a CO 2 laser.
제 3 단계에서는 상기 감광제가 충전된 부위를 소성시킨다(S6). 상기 충전된 감광제의 소성은 고온의 에어를 또는 CO2 레이저를 사용하여 소성이 필요한 부분을 국부 소성시킬 수 있다.In the third step, the portion filled with the photosensitive agent is baked (S6). The firing of the filled photosensitizer can locally sinter a portion requiring firing using air at a high temperature or a CO 2 laser.
이상과 같이 본 발명에 의한 디스플레이 패널 리페어 장치 및 그 방법을 예시된 도면을 참조로 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명은 한정되지 않고, 본 발명의 기술사상이 보호되는 범위 이내에서 당업자에 의해 응용이 가능하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, And can be applied by those skilled in the art.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 디스플레이 패널 리페어 장치 및 그 방법은 디스플레이 패널에 오픈 형태의 불량이 발생한 경우, 불량 부위에 감광제를 충진하고 소성함에 따라 중/대형 크기의 불량 수리가 가능하고, 식각전 포토 레지 스트 현상후 디스플레이 패널 불량 부위를 수리한 후 식각을 수행하기 때문에 종래의 CVD(Chemical Vapor Deposition) 공법보다 불량 부위에 형성된 크롬막의 접착성이 향상되어 크롬막이 균일한 접착성을 가지는 효과가 있다.According to the display panel repair apparatus and method of the present invention configured as described above, when an open defect occurs in a display panel, defective repair of a medium or large size can be performed as the photosensitive agent is filled in the defective portion and fired, Since the etch is performed after repairing the defective portion of the display panel after the previous photoresist development, the adhesion of the chromium film formed on the defective portion is improved as compared with the conventional CVD (Chemical Vapor Deposition) method, so that the chromium film has a uniform adhesive property have.
Claims (12)
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KR1020050012373A KR101144796B1 (en) | 2005-02-15 | 2005-02-15 | The repairing equipment for inferiority on surface of display panel and the repairing methode of the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050012373A KR101144796B1 (en) | 2005-02-15 | 2005-02-15 | The repairing equipment for inferiority on surface of display panel and the repairing methode of the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060091481A KR20060091481A (en) | 2006-08-21 |
KR101144796B1 true KR101144796B1 (en) | 2012-06-14 |
Family
ID=37593234
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050012373A KR101144796B1 (en) | 2005-02-15 | 2005-02-15 | The repairing equipment for inferiority on surface of display panel and the repairing methode of the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101144796B1 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60130739A (en) | 1983-12-19 | 1985-07-12 | Seiko Epson Corp | Correcting method of pinhole of metal mask |
JP2003287904A (en) | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Nec Kagoshima Ltd | Pattern formation method and manufacturing method of flat display panel using the same |
KR20040004380A (en) * | 2000-09-22 | 2004-01-13 | 어드밴스드 마이크로 디바이시즈, 인코포레이티드 | Pinhole defect repair by resist flow |
-
2005
- 2005-02-15 KR KR1020050012373A patent/KR101144796B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS60130739A (en) | 1983-12-19 | 1985-07-12 | Seiko Epson Corp | Correcting method of pinhole of metal mask |
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JP2003287904A (en) | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Nec Kagoshima Ltd | Pattern formation method and manufacturing method of flat display panel using the same |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20060091481A (en) | 2006-08-21 |
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