KR101135543B1 - 플렉서블 표시 장치용 기판 및 그 제조 방법과 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치 - Google Patents

플렉서블 표시 장치용 기판 및 그 제조 방법과 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101135543B1
KR101135543B1 KR1020090121919A KR20090121919A KR101135543B1 KR 101135543 B1 KR101135543 B1 KR 101135543B1 KR 1020090121919 A KR1020090121919 A KR 1020090121919A KR 20090121919 A KR20090121919 A KR 20090121919A KR 101135543 B1 KR101135543 B1 KR 101135543B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
flexible display
thin film
manufacturing
inorganic
Prior art date
Application number
KR1020090121919A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110065077A (ko
Inventor
안성국
남기현
임진오
서상준
구현우
문정우
Original Assignee
삼성모바일디스플레이주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성모바일디스플레이주식회사 filed Critical 삼성모바일디스플레이주식회사
Priority to KR1020090121919A priority Critical patent/KR101135543B1/ko
Publication of KR20110065077A publication Critical patent/KR20110065077A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101135543B1 publication Critical patent/KR101135543B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111—Flexible substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844—Encapsulations
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

고분자 막을 준비하는 단계, 상기 고분자 막 위에 무기물을 습식 코팅하는 단계, 그리고 상기 무기물로부터 무기 박막을 형성하는 단계를 포함하는 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법, 이러한 방법으로 제조된 플렉서블 표시 장치용 기판 및 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치를 제공한다.
플렉서블 표시 장치, 보호막, 습식 코팅, 안정성, 수분

Description

플렉서블 표시 장치용 기판 및 그 제조 방법과 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치{SUBSTRATE FOR FLEXIBLE DISPLAY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND FLEXIBLE DISPLAY INCLUDING THE SUBSTRATE}
본 기재는 플렉서블 표시 장치용 기판 및 그 제조 방법과 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치에 관한 것이다.
평판 표시 장치 중 하나인 유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display, OLED)는 유기 발광 소자가 형성되어 있는 기판(substrate)을 포함한다.
이러한 기판으로는 유리 기판을 주로 사용하는데, 유리 기판은 무겁고 파손되기 쉬워 휴대성 및 대화면 표시에 한계가 있을 뿐만 아니라 외부의 충격에 의해 손상될 수 있으므로 플렉서블 표시 장치에 사용할 수 없다.
근래, 무게가 가볍고 충격에 강할 뿐만 아니라 플렉서블 특성을 가지는 플라스틱 기판을 사용하는 평판 표시 장치가 연구되고 있다.
플라스틱 기판은 유연성이 있는 플라스틱 소재로 만들어짐으로써 휴대성, 안전성 및 경량성 등 유리 기판에 비하여 많은 이점을 가질 수 있다. 또한 플라스틱 기판은 공정적인 측면에서도 증착 또는 프린팅에 의해 제작이 가능하므로 제조 비용을 낮출 수 있고 기존의 시트(sheet) 단위의 공정과 달리 롤-투-롤(roll-to-roll) 공정으로 표시 장치를 제작할 수 있으므로 대량 생산을 통한 저비용의 표시 장치를 제조할 수 있다.
그러나 플라스틱 기판은 플라스틱 소재 자체가 가지는 투습성 및 산소 투과성으로 인하여 이를 보완하기 위한 별도의 보호막을 형성할 필요가 있다. 보호막은 화학 기상 증착 또는 스퍼터링과 같은 방법으로 형성될 수 있는데, 이 경우 고가의 장비가 필요하고 제조 공정이 복잡하여 제조 시간 및 제조 비용이 늘어날 수 있다.
또한 플라스틱 기판과 보호막 사이의 열팽창계수 차이로 인하여 안정적인 기판을 형성하기 어렵다.
따라서 본 발명의 일 측면은 제조 시간 및 제조 비용이 줄이면서도 수분 및 산소의 투과를 방지할 수 있는 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 다른 측면은 수분 및 산소의 투과를 방지하면서도 안정성이 높은 플렉서블 표시 장치용 기판을 제공한다.
본 발명의 또 다른 측면은 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치를 제공한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법은 고분자 막을 준비하는 단계, 상기 고분자 막 위에 무기물을 습식 코팅하는 단계, 그리 고 상기 무기물로부터 무기 박막을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 구현예에 따른 플렉서블 표시 장치용 기판은 고분자 막, 상기 고분자 막의 일면에 형성되어 있는 무기 박막, 그리고 상기 무기 박막의 일면에 형성되어 있는 보호막을 포함한다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따른 플렉서블 표시 장치는 고분자 막, 상기 고분자 막의 일면에 형성되어 있는 무기 박막, 그리고 상기 무기 박막의 일면에 형성되어 있는 보호막을 포함하는 기판, 상기 기판 위에 형성되어 있는 제1 전극, 상기 제1 전극 위에 형성되어 있는 유기 발광 소자, 그리고 상기 유기 발광 소자 위에 형성되어 있는 제2 전극을 포함한다.
상기 무기물을 습식 코팅하는 단계는 상기 무기물의 전구체 용액을 도포하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 무기물은 규소(Si), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 알루미늄(Al) 또는 이들 조합의 산화물, 질화물 또는 산화질화물을 포함할 수 있다.
상기 전구체 용액은 아세테이트(acetate), 아크릴레이트(acrylate), 카르보닐레이트(carbonylate), 카보네이트(carbonate), 나이트레이트(nitrate), 설페이트(sulfate), 포스페이트(phosphate), 염화물(halide), 하이드록시드(hydroxide), 알콕시드(alkoxide) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 무기 박막을 형성하는 단계는 열처리하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 열처리하는 단계는 약 50 내지 600℃에서 수행할 수 있다.
상기 제조 방법은 무기 박막을 형성하는 단계 후에 상기 무기 박막 위에 보 호막을 적층하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 보호막은 고분자 수지를 포함할 수 있다.
상기 고분자 막은 유리 기판 위에 형성될 수 있고, 상기 제조 방법은 상기 무기 박막을 형성하는 단계 후에 상기 고분자 막을 상기 유리 기판으로부터 분리하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 고분자 막은 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌에테르프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리에테르술폰, 트리아세트산 셀룰로오스, 폴리염화 비닐리덴, 폴리불화 비닐리덴, 에틸렌-비닐알코올 공중합체 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 보호막은 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌에테르프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리에테르술폰, 트리아세트산 셀룰로오스, 폴리염화 비닐리덴, 폴리불화 비닐리덴, 에틸렌-비닐알코올 공중합체 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 구현예에 따르면 화학 기상 증착 또는 스퍼터링과 같은 방법을 사용하지 않고도 고분자 막에 수분 및 산소가 유입되는 것을 차단할 수 있어서 플라스틱 기판이 산소 또는 수분에 의해 열화되는 것을 방지하여 기판의 안정성을 확보하는 동시에 제조 시간 및 제조 비용을 줄이고 제조 공정을 단순화할 수 있다.
또한 고분자 막과 무기 박막 사이의 열 팽창 계수 차이로 인해 무기 박막에 크랙 또는 결함이 발생하는 것을 방지하여 플라스틱 기판의 안정성을 확보할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 구현예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 구현예에 한정되지 않는다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.
이하 도 1을 참고하여 본 발명의 일 구현예에 따른 플렉서블 표시 장치용 기판에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 유기 발광 표시 장치를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
본 발명의 일 구현예에 따른 플렉서블 표시 장치용 기판(110)은 고분자 막(111), 상기 고분자 막(111)의 일면에 형성되어 있는 무기 박막(112) 및 상기 무 기 박막(112)의 일면에 형성되어 있는 보호막(114)을 포함한다.
고분자 막(111)은 고분자 수지로 만들어질 수 있으며, 예컨대 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌에테르프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리에테르술폰, 트리아세트산 셀룰로오스, 폴리염화 비닐리덴, 폴리불화 비닐리덴, 에틸렌-비닐알코올 공중합체 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
무기 박막(112)은 고분자 막(111)의 일면에 형성되어 외부로부터 수분 및 산소가 투과하는 것을 방지하는 차단막의 일종으로, 무기 물질로 만들어질 수 있다. 무기 물질은 규소(Si)와 같은 준금속의 산화물, 질화물 또는 산화질화물, 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 알루미늄(Al)과 같은 금속의 산화물, 질화물 또는 산화질화물, 또는 이들의 조합의 산화물, 질화물 또는 산화질화물로 만들어질 수 있다.
무기 박막(112)은 상기 무기 물질이 염의 형태로 제조된 전구체 용액으로부터 제조될 수 있다. 이에 대해서는 후술하는 제조 방법에서 설명한다.
보호막(114)은 무기 박막(112)의 일면에 형성되어 있으며 고분자 수지로 만들어질 수 있다. 고분자 수지는 예컨대 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌에테르프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리에테르술폰, 트리아세트산 셀룰로오스, 폴리염화 비닐리덴, 폴리불화 비닐리덴, 에틸렌-비닐알코올 공중합체 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
보호막(114)은 고분자로 만들어진 고분자 막(111)과 무기 물질로 만들어진무 기 박막(112) 사이의 열 팽창 계수(coefficient of thermal expansion, CTE) 차이로 인해 무기 박막(112)에 크랙 또는 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 구체적으로, 보호막(114)은 무기 박막(112)을 덮으면서 열 처리시 무기 박막(112)을 고정해줌으로써 고분자 막(111)의 열 팽창에 의한 무기 박막(112) 내에 크랙 또는 결함 발생을 줄일 수 있다. 따라서 플라스틱 기판의 안정성을 확보할 수 있다.
그러면 도 2a 내지 도 2c를 도 1과 함께 참고하여 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법에 대하여 설명한다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 구현예에 따른 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법을 차례로 보여주는 단면도이다.
먼저 도 2a를 참고하면, 유리 기판(10) 위에 고분자 막(111)을 형성한다. 유리 기판(10)은 공정 중 고분자 막(111)의 지지체로 사용될 수 있다. 고분자 막(111)은 유리 기판(10) 위에 고분자 수지 용액을 도포하는 방식으로 형성될 수 있다.
다음 도 2b를 참고하면, 고분자 막(111) 위에 무기 박막(112)을 형성한다.
무기 박막(112)은 고분자 막(111) 위에 무기물 전구체 용액을 습식 코팅하는 단계 및 상기 무기물 전구체 용액을 열처리하는 단계에 의해 형성될 수 있다.
무기물 전구체 용액은 규소와 같은 준금속 또는 티타늄, 탄탈륨, 알루미늄과 같은 금속의 전구체를 용매에 혼합하여 제조될 수 있다.
이 때 준금속 또는 금속의 전구체는 준금속 또는 금속 함유 염일 수 있으며, 염은 예컨대 아세테이트, 아크릴레이트, 카르보닐레이트, 카보네이트, 나이트 레이트, 설페이트, 포스페이트, 염화물, 하이드록시드, 알콕시드 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
용매는 특별히 제한되지 않으나, 예컨대 탈이온수; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 2-메톡시에탄올, 2-에톡시에탄올, 2-프로폭시에탄올 2-부톡시에탄올, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 디에틸렌글리콜메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 헥산, 헵탄, 옥탄, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에틸에테르, 메틸메톡시프로피온산, 에틸에톡시프로피온산, 에틸락트산, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜메틸아세테이트, 디에틸렌글리콜에틸아세테이트, 아세톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 디메틸포름아미드(DMF), N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N-메틸-2-피롤리돈, γ-부틸로락톤, 디에틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 디글라임, 테트라히드로퓨란, 아세틸아세톤 및 아세토니트릴에서 선택될 수 있으며, 이들 중에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.
습식 코팅은 예컨대 스핀 코팅(spin coating), 슬릿 코팅(slit coating), 바 코팅(bar coating), 잉크젯 인쇄(inkjet printing) 등일 수 있다.
상기 무기물 전구체 용액을 열처리하는 단계는 약 50 내지 600℃의 온도에서 수행할 수 있으며, 열 처리에 의한 무기물 전구체 용액의 가수분해와 축합 반응을 통하여 무기 박막이 형성될 수 있다.
다음 도 2c를 참고하면, 무기 박막(112) 위에 보호막(114)을 적층한다. 보호막(114)은 고분자 수지를 코팅하여 형성할 수 있으며, 고분자 수지는 예컨대 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌에테르프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리에테르술폰, 트리아세트산 셀룰로오스, 폴리염화 비닐리덴, 폴리불화 비닐리덴, 에틸렌-비닐알코올 공중합체 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
이에 따라 고분자 막(111), 무기 박막(112) 및 보호막(114)이 차례로 적층된 기판(110)이 제조된다.
다음, 도 1을 참고하면, 유리 기판(10)과 고분자 막(111) 사이의 접착성을 약하게 하여 고분자 막(111)을 유리 기판(10)으로부터 분리할 수 있다.
이와 같이 본 발명의 일 구현예에 따르면 습식 코팅 방법을 사용하여 고분자 막 위에 무기 박막을 형성함으로써 화학 기상 증착 또는 스퍼터링과 같은 방법을 사용하지 않고도 고분자 막에 수분 및 산소가 유입되는 것을 차단할 수 있다. 따라서 플라스틱 기판이 산소 또는 수분에 의해 열화되는 것을 방지하여 기판의 안정성을 확보하는 동시에 제조 시간 및 제조 비용을 줄이고 제조 공정을 단순화할 수 있다.
이와 같이 제조된 플렉서블 표시 장치용 기판을 사용하여 플렉서블 표시 장치를 제조할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 구현예에 따라 제조된 플렉서블 표시 장치를 보여주는 단면도이다.
도 3은 플렉서블 표시 장치의 일 예로 유기 발광 표시 장치를 보여준다.
유기 발광 표시 장치는 기판(110) 위에 유기 발광 다이오드(400)가 형성되어 있다.
기판(110)은 상술한 고분자 막(111), 고분자 막(111)의 일면에 형성되어 있는 무기 박막(112) 및 무기 박막(112)의 일면에 형성되어 있는 보호막(114)을 포함한다.
유기 발광 다이오드(400)는 기판(110) 위에 형성되어 있는 제1 전극(191), 제1 전극(191) 위에 형성되어 있는 유기 발광 소자(370) 및 유기 발광 소자(370) 위에 형성되어 있는 제2 전극(270)을 포함한다.
제1 전극(191) 및 제2 전극(270) 중 어느 하나는 애노드(anode)일 수 있고, 다른 하나는 캐소드(cathode)일 수 있다. 애노드는 정공(hole)이 주입되는 전극으로, 일 함수(work function)가 높고 발광된 빛이 외부로 나올 수 있는 투명 도전 물질로 만들어질 수 있으며 예컨대 ITO 또는 IZO 일 수 있다. 캐소드는 전자(electrode)가 주입되는 전극으로, 일 함수가 낮고 유기 물질에 영향을 미치지 않는 도전 물질로 만들어질 수 있으며 예컨대 알루미늄(Al), 칼슘(Ca) 및 바륨(Ba)에서 선택될 수 있다.
유기 발광 소자(370)는 유기 발광층과 부대층을 포함할 수 있다. 유기 발광층은 제1 전극(191)과 제2 전극(270)에 전압이 인가되었을 때 빛을 낼 수 있는 유기 물질을 포함하며, 부대층은 제1 전극(191)과 유기 발광층 사이 및/또는 제2 전극(270)과 유기 발광층 사이에 위치하여 전자와 정공의 균형을 맞추기 위한 정공 전달층(hole transporting layer), 정공 주입층(hole injecting layer), 전자 주입층(electron injecting layer) 및 전자 전달층(electron transporting layer)을 포함할 수 있다.
기판(110)과 유기 발광 다이오드(400) 사이에는 유기 발광 다이오드(400)에 전류를 공급하는 복수의 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)(도시하지 않음)를 포함할 수 있으며, 유기 발광 다이오드(400) 상부에는 유기 발광 다이오드(400)를 보호하기 위한 밀봉 부재(도시하지 않음)를 더 포함할 수 있다.
이하 실시예를 통해서 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 다만 하기의 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것이며 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니다.
실시예 1
유리 기판 위에 폴리아믹산 용액을 코팅한 후 350℃에서 열처리하여 폴리이미드 막을 형성하였다. 이어서 폴리이미드 막 위에 테트라에톡시올쏘실리케이트(tetraethoxyorthosilicate)와 메틸트리에톡시실란(methyltriethoxysilane)을 10: 1 몰비로 혼합한 전구체 용액을 0.01 wt% 수용액으로 제조하여 3회 스핀 코팅으로 도포한 후 500 ℃에서 가수분해하여 무기 박막을 형성하였다.
실시예 2
유리 기판 위에 폴리아믹산 용액을 코팅한 후 350℃에서 열처리하여 폴리이 미드 막을 형성하였다. 테트라에톡시올쏘실리케이트와 메틸트리에톡시실란을 10: 1 몰비로 혼합한 전구체 용액을 0.01 wt% 수용액으로 제조하여 3회 스핀 코팅으로 도포한 후 500 ℃에서 가수분해하여 무기 박막을 형성하였다. 이어서 무기 박막 위에 폴리아믹산 용액을 코팅한 후 350℃에서 열처리하여 보호막을 형성하였다.
실시예 3
유리 기판 위에 폴리아믹산 용액을 코팅한 후 350℃에서 열처리하여 폴리이미드 막을 형성하였다. 트리이소프로폭시 알루미늄(triisopropoxy aluminum)을 이소프로필알코올(isopropylalcohol)과 물을 10: 2 중량비로 혼합한 용매에 0.01 wt% 로 혼합하여 3회 스핀 코팅으로 도포한 후 500 ℃에서 가수분해하여 무기 박막을 형성하였다. 이어서 무기 박막 위에 폴리아믹산 용액을 코팅한 후 350℃에서 열처리하여 보호막을 형성하였다.
비교예 1
유리 기판 위에 폴리아믹산 용액을 코팅한 후 350℃에서 열처리하여 폴리이미드 막을 형성하였다.
평가
실시예 1 및 2와 비교예 1에 따른 플라스틱 기판의 투습성을 측정하였다. 투습성은 Mocon사의 투습도 측정장치를 이용하여 측정하였다.
표 1은 그 결과를 보여준다.
[표 1]
투습도(g/㎡, 일)
실시예 1 0.4
실시예 2 0.08
실시예3 0.065
비교예 1 9
표 1에서 보는 바와 같이, 실시예 1 내지 3에 따른 플라스틱 기판이 비교예 1에 따른 플라스틱 기판에 비하여 투습도가 크게 낮은 것을 알 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예들에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구 범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리 범위에 속하는 것이다.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 유기 발광 표시 장치를 개략적으로 보여주는 단면도이고,
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 구현예에 따른 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법을 차례로 보여주는 단면도이고,
도 3은 본 발명의 일 구현예에 따라 제조된 플렉서블 표시 장치를 보여주는단면도이다.

Claims (14)

  1. 고분자 막을 준비하는 단계,
    상기 고분자 막 위에 무기물을 습식 코팅하는 단계, 그리고
    상기 무기물로부터 무기 박막을 형성하는 단계
    를 포함하고,
    상기 무기물을 습식 코팅하는 단계는 무기물 전구체 용액을 도포하는 단계를 포함하는
    플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에서,
    상기 무기물은 규소(Si), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 알루미늄(Al) 또는 이들 조합의 산화물, 질화물 또는 산화질화물을 포함하는 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  4. 제1항에서,
    상기 전구체 용액은 아세테이트(acetate), 아크릴레이트(acrylate), 카르보닐레이트(carbonylate), 카보네이트(carbonate), 나이트레이트(nitrate), 설페이트(sulfate), 포스페이트(phosphate), 염화물(halide), 하이드록시드(hydroxide), 알콕시드(alkoxide) 또는 이들의 조합을 포함하는 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  5. 제1항에서,
    상기 무기 박막을 형성하는 단계는 열처리하는 단계를 포함하는 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  6. 제5항에서,
    상기 열처리하는 단계는 50 내지 600℃에서 수행하는 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  7. 제1항에서,
    상기 무기 박막을 형성하는 단계 후에 상기 무기 박막 위에 보호막을 적층하는 단계를 더 포함하는 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  8. 제7항에서,
    상기 보호막은 고분자 수지를 포함하는 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  9. 제1항에서,
    상기 고분자 막은 유리 기판 위에 형성되고,
    상기 무기 박막을 형성하는 단계 후에 상기 고분자 막을 상기 유리 기판으로부터 분리하는 단계를 더 포함하는 플렉서블 표시 장치용 기판의 제조 방법.
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
KR1020090121919A 2009-12-09 2009-12-09 플렉서블 표시 장치용 기판 및 그 제조 방법과 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치 KR101135543B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090121919A KR101135543B1 (ko) 2009-12-09 2009-12-09 플렉서블 표시 장치용 기판 및 그 제조 방법과 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090121919A KR101135543B1 (ko) 2009-12-09 2009-12-09 플렉서블 표시 장치용 기판 및 그 제조 방법과 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110065077A KR20110065077A (ko) 2011-06-15
KR101135543B1 true KR101135543B1 (ko) 2012-04-17

Family

ID=44398409

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090121919A KR101135543B1 (ko) 2009-12-09 2009-12-09 플렉서블 표시 장치용 기판 및 그 제조 방법과 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101135543B1 (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101363121B1 (ko) * 2012-06-07 2014-02-14 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광표시장치 및 그 제조방법
KR101987197B1 (ko) 2012-10-04 2019-06-11 삼성디스플레이 주식회사 플렉시블 디스플레이 장치의 제조방법
KR20140064481A (ko) 2012-11-20 2014-05-28 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20160045292A (ko) 2014-10-17 2016-04-27 동우 화인켐 주식회사 고내열성 복합 필름, 이의 제조방법 및 이의 용도
KR102577001B1 (ko) * 2016-08-11 2023-09-12 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 기판, 플렉서블 기판의 제조방법, 및 플렉서블 기판을 포함하는 디스플레이 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05148380A (ja) * 1991-11-26 1993-06-15 Kemitoronikusu:Kk 複合プラスチツクシート
JP2006095783A (ja) 2004-09-29 2006-04-13 Dainippon Printing Co Ltd 透明ガスバリア性フィルム、及びそれを用いたディスプレイ用基板
JP2006255918A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Toray Ind Inc 光学用フィルム積層体
KR20090047885A (ko) * 2007-11-08 2009-05-13 경북대학교 산학협력단 플라스틱 필름에 투습 방지성이 향상된 보호막의 형성 방법및 이를 이용한 플렉시블 유기 전계 발광 소자

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05148380A (ja) * 1991-11-26 1993-06-15 Kemitoronikusu:Kk 複合プラスチツクシート
JP2006095783A (ja) 2004-09-29 2006-04-13 Dainippon Printing Co Ltd 透明ガスバリア性フィルム、及びそれを用いたディスプレイ用基板
JP2006255918A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Toray Ind Inc 光学用フィルム積層体
KR20090047885A (ko) * 2007-11-08 2009-05-13 경북대학교 산학협력단 플라스틱 필름에 투습 방지성이 향상된 보호막의 형성 방법및 이를 이용한 플렉시블 유기 전계 발광 소자

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110065077A (ko) 2011-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101135543B1 (ko) 플렉서블 표시 장치용 기판 및 그 제조 방법과 상기 기판을 포함하는 플렉서블 표시 장치
US10085311B2 (en) Flexible organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same
US9166191B2 (en) Display device, method of manufacturing the display device and carrier substrate for manufacturing display device
US7812530B2 (en) Flexible substrate and organic device using the same
US8574662B2 (en) Substrate section for flexible display device, method of manufacturing substrate section, and method of manufacturing organic light emitting display device including substrate
TW201620130A (zh) 有機發光二極體顯示器、包含該有機發光二極體顯示器之電子裝置、及製造該有機發光二極體顯示器之方法
US10930869B2 (en) Flexible substrate and manufacture method thereof, and flexible organic light-emitting diode display substrate
JP2011165654A (ja) 有機発光装置
EP3557645B1 (en) Film packaging structure and display apparatus having same
JP2002368224A (ja) 機能性デバイスおよびその製造方法
CN101431147A (zh) 有机el显示装置及其制造方法
KR20140023142A (ko) 표시 장치의 제조 방법 및 표시 장치를 제조하기 위한 캐리어 기판
US20140190565A1 (en) Polymer/inorganic multi-layer encapsulation film
KR20140079783A (ko) 적층체, 적층체의 제조 방법 및 전자 디바이스용 부재가 부착된 유리 기판의 제조 방법
US20160208096A1 (en) Solution of aromatic polyamide for producing display element, optical element, illumination element or sensor element
KR20160014389A (ko) 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR101557187B1 (ko) 가스 차단성 필름 및 그 제조방법
KR102108560B1 (ko) 배리어 필름의 제조 방법
US20090305062A1 (en) Method for fabricating multilayered encapsulation thin film having optical functionality and mutilayered encapsulation thin film fabricated by the same
KR20100124012A (ko) 플렉시블 디스플레이의 기판 처리 방법
KR101947166B1 (ko) 기판 및 상기 기판을 포함하는 표시장치
JP5567934B2 (ja) 非晶質窒化珪素膜とその製造方法、ガスバリア性フィルム、並びに、有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法および封止方法
KR20110101518A (ko) 투습방지기능을 구비한 플렉서블 기판과 플렉서블 유기전계발광표시장치 및 그 제조방법
CN104752631A (zh) 有机电致发光器件的封装结构及封装方法
JP5778824B2 (ja) 表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160329

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180403

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190401

Year of fee payment: 8