KR101125701B1 - 터치 패널 및 이의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전자 기기의 데이터 입력 수단으로 사용되는 터치 패널에 관한 것으로서, 기기의 외관 및 터치 패널을 보호하기 위한 커버글라스와, 상기 커버글라스의 테두리를 따라 터치 비활성 영역에 적층되는 로고인쇄부와, 상기 로고인쇄부의 상부에 적층되며 터치 패널의 회로 패턴을 포함하는 적어도 하나의 투명전도막과, 상기 투명전도막 중 최상층의 투명전도막의 상부에 적층되어 입력 터치신호를 기기의 메인보드에 전달하기 위한 메탈회로층 및 상기 메탈회로층 및 투명전도막을 보호하기 위하여 상기 메탈회로층의 상부에 적층되는 절연층을 포함하여, 상기 커버글라스와 함께 일체화된 터치 패널을 구현할 수 있다.

Description

터치 패널 및 이의 제조 방법{TOUCH PANEL DEVICE AND METHOD MANUFACTURING IT}
본 발명은 터치 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 커버 글라스와 터치 패널부를 하나의 모듈로 형성시킴으로써 단순한 구조 및 두께를 줄여 결과적으로 기기의 슬림화에 기여할 수 있도록 구현되는 터치 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 각종 전자 기기에는 데이터의 입력을 위한 입력 장치들과 데이터의 출력을 위한 출력 장치들을 구비한다. 상기 입력 장치로는 키버튼 장치 등이 대별될 수 있으며 상기 출력 장치로는 엘씨디 모듈을 포함하는 디스플레이 장치로 대별될 수 있을 것이다.
최근에는 전자 기기의 부피를 현저히 줄이면서 그 기능을 다양화할 수 있도록 데이터 입, 출력이 같은 위치에서 수행될 수 있는 터치 스크린 장치가 출시되고 있다. 상기 터치 스크린 장치는 투명 터치 패널이 엘씨디 모듈의 상부에 배치됨으로써, 입, 출력이 동시에 이루어지는데, 이러한 터치 패널은 저항막 방식(Resistive) 터치 패널, 정전 용량식 터치 패널, 초음파식 터치 패널, 광(적외선) 센서식 터치 패널, 전자유도식 터치 패널 등 다양한 방식의 터치 패널로 구별된다. 또한, 이러한 터치 패널 중 정전 용량 방식 터치 패널이 주로 사용되는 추세이다.
도 2는 종래의 터치 패널의 구성을 도시하고 있다. 여기서 (a)는 X, Y의 전극 패턴이 한 층에 형성되는 터치 패널이며, (b)는 X, Y의 전극 패턴이 분리 적층되는 방식의 터치 패널을 나타내고 있다.
도 2의 (a)에 도시한 바와 같이, 종래의 핸드폰 및 모바일용 응용기기의 입력장치인 정전용량 터치패널과 이를 보호하기 위한 윈도우부인 커버 글라스(101)로 되어 있다. 상기 커버 글라스(101)에는 휴대용 기기의 디자인 등을 고려한 각 회사의 로고인쇄부(106)로 구성되어 있다. 또한 정전용량 터치패널(110)은 글라스나 필름(PET)(102)위에 투명전도막(103)(ITO; Indium Tin Oxide)이 형성되어 있으며 이를 X, Y를 한 층에 동시에 신호를 주고받을 수 있는 특수한 회로패턴으로 구성하고 이 위에 터치를 하였을 때 정전 신호를 기기의 메인보드로 전달하기 위한 메탈 회로패턴(104)으로 구성되어 있다, 추가로 투명전도막(103)의 회로 패턴과 메탈 전극배선(104)을 보호하기 위하여 최상층에 절연막(105)으로 구성되어 있다.
도 2의 (b)는 도 2의 (a)의 구조에서 정전용량 터치패널(120)의 구조를 글라스나 필름(102)위에 X축 신호를 인가하기위해 제 1 투명전도막(103)을 형성하고 이를 제 1 특수 회로패턴으로 구성하며 이 위에 절연막(105)을 형성하고 절연막 위에 Y축 신호를 인가하기 위해 제 2 투명전도막(103)을 형성하고 이를 제 2 특수 회로패턴으로 구성되어 있다. 또한 이 위에 터치를 하였을 때 신호를 메인 보드의 구동IC로 전달하기 위한 메탈 회로패턴(104)으로 구성되어 있다. 추가로 상기 제 2 투명전도막(103) 회로 패턴과 메탈 전극배선(104)을 보호하기 위하여 최상층에 절연막(105)으로 구성되어 있다.
상술한 바와 같이, 로고인쇄부를 포함하는 커버 글라스부와 터치 패널은 OCA(Optical Clear Adhesive) 등을 사용하여 접착하는바, 이는 터치 패널 장치의 두께를 얇게 하고, 구조를 단순하게 하는데 어려운 문제점 있다.
또한, 로고 인쇄부를 형성할 때 인쇄물의 입자 크기에 따라 투명전도막과 메탈 패턴의 신뢰성 확보에 어려운 문제점이 있었다.
상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 커버글라스와 터치 패널을 하나의 레이어로 형성하여 두께를 줄일 수 있고, 결과적으로 제품의 슬림화에 기여할 수 있도록 구현되는 터치 패널 및 이의 제조 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 목적은 커버 글라스에 터치 패널을 일체화함으로써 비교적 단순하고 두께를 현저히 줄일 수 있는 로고 인쇄부를 구현하기 위한 터치 패널 및 이의 제조 방법을 제공하는데 있다.
상술한 목적을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명은 전자 기기의 데이터 입력 수단으로 사용되는 터치 패널에 있어서, 기기의 외관 및 터치 패널을 보호하기 위한 커버글라스와, 상기 커버글라스의 테두리를 따라 터치 비활성 영역에 적층되는 로고인쇄부와, 상기 로고인쇄부의 상부에 적층되며 터치 패널의 회로 패턴을 포함하는 적어도 하나의 투명전도막과, 상기 투명전도막 중 최상층의 투명전도막의 상부에 적층되어 입력 터치신호를 기기의 메인보드에 전달하기 위한 메탈회로층 및 상기 메탈회로층 및 투명전도막을 보호하기 위하여 상기 메탈회로층의 상부에 적층되는 절연층을 포함하여, 상기 커버글라스와 함께 일체화된 터치 패널을 구현함을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 터치 패널 제조 방법을 제공한다.
따라서 본 발명은 전자 기기의 데이터 입력 수단으로 사용되는 터치 패널의 제조 방법에 있어서, 커버글라스의 일면에 샤도우 마스크를 이용한 진공 증착 방식으로 해당 위치에 로고인쇄부를 형성하는 과정과, 상기 로고 인쇄부의 상부에 샤도우 마스크를 이용한 선택적 증착 방식으로 터치 패널의 회로 패턴을 포함하는 적어도 하나의 투명전도막을 형성하는 과정과, 상기 투명전도막 중 최상층의 투명전도막의 상부에 증착 방식 및 포토리소그래피 방식으로 소정의 회로패턴을 가지며 입력 터치신호를 기기의 메인보드에 전달하기 위한 메탈회로층을 형성하는 과정 및 상기 메탈회로층 및 투명전도막을 보호하기 위하여 상기 메탈회로층의 상부에 절연층을 적층시키는 과정을 포함함을 특징으로 한다.
핸드폰 및 모바일용 응용기기와 터치패널로 되어 있는 입력장치에는 경박화, 경량화가 중요하다. 종래의 정전용량 터치패널은 커버 글라스와 정전용량 터치패널로 나누어져 있어 일정한 두께를 차지하던 것을 커버 글라스에 정전용량 터치패널을 스퍼터링 증착방법을 이용하여 제조함으로써 일체화된 구조를 형성시켜 하나의 구조물을 제거함으로써 구조가 단순해짐에 따라 경박화가 가능하고, 또한 무게를 감소시킬 수 있다. 또한, 커버 글라스에 일체형 정전용량 터치패널을 구성함으로써 종래의 커버 글라스와 정전용량터치패널을 합착하여 구성하는 구조보다 광학적으로 투과율이 개선되는 효과를 얻을 수 있다. 또한, 커버 글라스에 일체형 정전용량 터치패널을 샤도우 마스크를 이용한 진공증착방법 등을 적용하여 제조함으로써 제조공정 절차를 감소되어 생산성 향상과 인쇄로고 단차부위에서 발생할 수 있는 제품의 신뢰성 문제를 개선하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 터치 패널이 적용된 휴대용 단말기의 사시도;
도 2는 종래 기술에 따른 정전용량식 터치 패널의 요부 단면도;
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 단일층 정전 용량식 터치 패널의 제조 절차를 도시한 도면;
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 복층 정전 용량식 터치 패널의 제조 절차를 도시한 도면; 및
도 5는 본 발명에 따라 샤도우 마스크를 이용한 터치 패널의 제조 공정을 도시한 사시도.
이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 하기와 같다. 그러나 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
본 도면에서는 휴대용 단말기를 도시하고, 이에 적용되는 터치 스크린 패널을 도시하고 기술하였으나, 이에 국한되지 않는다. 예컨대, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널을 포함하는 다양한 전자 기기에 적용 가능할 것이다.
더욱이, 본 발명에서는 단층(1-layer) 및 복층(2-layer)의 정전 용량식 터치 패널에 대하여 기술하였으나, 이에 국한되지 않는다. 예컨대, 다수의 투명 전도막 및 절연층이 교번하여 적층되는 다층식 정전 용량 터치 패널에도 적용 가능할 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 터치 패널이 적용되는 휴대용 단말기(1)의 사시도로써, 단말기(1)의 전면(2)에 본 발명에 따른 터치 패널을 포함하는 터치 스크린 장치(200)가 설치된다. 상기 터치 스크린 장치(200)은 데이터의 입, 출력 기능을 동시에 지원할 뿐만 아니라 본 발명의 기술적 구성을 적용하게 되면 좀더 슬림한 단말기 구현이 가능하게 된다.
상기 터치 스크린 장치(200)의 상부에는 상대방의 음성을 수신하는 스피커 장치(3)가 설치되며 상기 터치 스크린 장치(200)의 하측에는 사용자의 음성을 송신할 수 있는 마이크 장치(4)가 설치된다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 단일층 정전 용량식 터치 패널의 제조를 위한 모식도로써, 커버 글라스(201)의 상측에 터치 패널이 적용되는 휴대용 단말기의 디자인 등을 고려한 로고인쇄부(206)로 구성하고, 로고인쇄부(206) 상단에 전면에 언더코팅(202)을 형성한다.
그후, 그 상단에 투명전도막(203)(ITO)을 형성하고 이를 X, Y를 한 층에 동시에 신호를 주고받을 수 있는 특수한 회로패턴으로 구성하고 이 위에 터치를 하였을 때 전기적 신호를 메인보드로 전달하기 위한 메탈증착막(204) 전극배선이 투명전도막(203) 상단에 구성하였다. 추가로 투명전도막(203) 특수 회로 패턴과 메탈증착막(204) 전극배선을 보호하기 위하여 최상층에 절연막(205)으로 구성하였다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 복층 정전 용량식 터치 패널의 제조를 위한 모식도로써, 커버 글라스(201) 상측에 로고인쇄부(206)를 구성하고 로고인쇄부(206) 상단에 전면에 언더코팅(202)을 형성한다. 그후, 그 전면에 X축으로 신호를 인가하기 위한 제 1 투명전도막(203)을 형성하고 이를 제 1 특수 회로 패턴으로 구성하며 그 상단에 절연의 목적으로 절연막(205)을 형성하고 절연막(205) 상측에 Y축 신호를 인가하기 위해 제 2 투명전도막(203)을 형성하고 이를 제2 특수 회로패턴으로 구성하였다. 제 2 투명전도막(203) 상측에 신호를 구동IC로 전달하기 위해 메탈증착막(204) 전극배선을 구성하였고, 제 2 투명전도막(203) 회로 패턴과 메탈증착막(204) 전극배선을 보호하기 위하여 최상층에 절연막(205)으로 구성하였다.
도 3 및 도 4의 로고인쇄부(206)는 종래에는 일반 인쇄 방법을 많이 사용하였지만 본 발명에서는 인쇄 방법을 적용하게 되면 인쇄단차가 수 마이크로미터가 발생하여 투명전도막(203) 및 메탈 회로 구성 시 인쇄단차부위에서 메탈 회로 단락 등의 제품의 신뢰성을 확보할 방법이 어렵기 때문에 샤도우 마스크(Shadow mask)를 적용하여 진공증착방식으로 로고인쇄부를 형성하여 단차를 수백나노미터 이하로 형성하였다. 따라서, 상기 투명전도막(203)과 메탈증착막(204)은 수백에서 수천나노미터로 스퍼터링 증착이 되기 때문에 로고인쇄부의 단차에 의해 발생할 수 있는 제품의 신뢰성을 확보할 수 있다.
또한 종래의 인쇄방법으로 로고인쇄부를 형성할 때 발생할 수 있는 인쇄물의 입자 크기에 따라 투명전도막과 메탈증착막의 신뢰성 확보가 어려웠던 부분을 로고인쇄부를 샤도우 마스크를 사용한 진공증착방법을 적용하면 제품의 성능을 확보할 수 있다.
상기 로고인쇄부를 검정 색상으로 적용할 경우에는, 검정색 로고인쇄부를 형성하기 위해 크롬산화물과 실리콘산화물을 순차적으로 배열하여 다층막 구조로 증착하여 형성하고, 크롬산화물의 두께는 100~500Å 범위에서 증착하고, 실리콘 산화물은 200~500Å 두께 범위에서 증착하여 수백나노미터에서 수천나노미터가 되게 총 증착두께를 형성한다. 로고인쇄부위의 샤도우 마스크 방법은 마스킹 방법을 적용하여 제작하였다.
도 3 및 도 4의 투명전도막(203)과 특수한 회로패턴을 형성하기 위한 방법으로 본 발명에서는 커버 글라스(201)에 균일한 면저항과 안정적인 투과율을 나타내기 위해 투명전도막(203)을 샤도우 마스크를 사용하여 선택적 증착방법을 적용하여 특수한 투명전도막 전극패턴을 형성시킨다. 투명전도막을 증착하기 전에 SiO2/Nb2O5, SiO2/TiO2/SiO2/TiO2, SiO2/ZrO2/SiO2/ZrO2 등의 언더코팅(202)을 선택적으로 실시하여 정전용량 터치패널의 투과율을 상승시킴과 동시에 투명전도막 패턴 시인성을 확보시킨다.
도 3에서 (a)는 커버 글라스(201)에 샤도우 마스크를 이용하여 진공증착방식으로 로고인쇄부(206)를 형성하는 단계이고 (b)는 (a)의 상부에 언더코팅(202)을 진공증착방식으로 형성하는 단계이다. (c)는 샤도우 마스크를 이용하여 투명전도막(203) 및 특수 전극패턴을 형성하고 (d)는 (c)의 상단에 전면적으로 메탈증착막(204)을 진공증착방식을 통해 형성시키는 단계이다. (e)는 형성된 메탈증착막(204)을 포토리소그래피공정을 이용하여 내부의 메탈증착막(204)을 전부 식각하고 로고인쇄부(206) 상측에 있는 메탈증착막층(204)을 회로배선에 타당하도록 20~100um이내의 배선 폭으로 선택적으로 식각을 하는 단계이다. (f)는 투명전도막(203) 및 메탈증착막(204) 전극배선을 보호하기 위해 최상층에 절연막(205)을 형성하는 단계이다.
도 4에서 (a)는 커버 글라스(201)에 샤도우 마스크를 이용하여 진공증착방식으로 로고인쇄부(206)를 형성하는 단계이고 (b)는 (a)의 상부에 언더코팅(202)을 진공증착방식으로 형성하는 단계이다. (c)와 (e)는 샤도우 마스크를 이용하여 투명전도막(203) 및 특수 전극패턴을 형성하고 (d)는 (c)의 상단에 절연막(205)을 형성시키는 단계이다. (f)는 (e)의 상단에 전면적으로 메탈증착막(204)을 진공증착방식을 통해 형성시키는 단계이다. (g)는 형성된 메탈증착막(204)을 포토리소그래피공정을 이용하여 내부의 메탈증착막(204)을 전부 식각하고 로고인쇄부(206) 상측에 있는 메탈증착막층(204)을 선택적으로 식각을 하는 단계이다. (h)는 투명전도막(203) 및 메탈증착막(204) 전극배선을 보호하기 위해 최상층에 절연막(205)을 형성하는 단계이다.
도 5는 본 발명의 샤도우 마스크(301)를 이용한 스퍼터링 증착방법에 대한 모식도이다.
샤도우 마스크를 이용하여 증착시에 증착온도가 150℃ 근처에서 좌석을 이용하여 피증착물에 고정하여 증착을 실시하고, 샤도우 마스크는 회로패턴 폭에 의해 메탈 두께를 선택적으로 적용하여 에칭방식을 통해 마스크를 제작하여 사용한다. 샤도우 마스크 회로 패턴 사이 증착시 증착물질의 뭉치는 증상을 개선하기 위해 실리콘계 특수 코팅을 실시하여 사용하였다.
본 발명의 전기적 신호를 보드에 전달하기 위한 메탈 전극배선을 구성하는 방법에는 일반적으로는 메탈증착막(204)을 올리고, 이를 포토리소그래피공정을 진행하여 전극배선을 형성하는 방식과 메탈증착막(204)을 샤도우 마스크(301)를 적용하여 스퍼터링 증착함으로써 메탈증착막(204)과 동시에 메탈 전극배선을 형성하는 방법, 그리고 전도성 잉크를 이용하여 실크스크린법을 적용하여 전극배선을 형성하는 방식 등을 모두 적용 가능하다.
분명히, 청구항들의 범위내에 있으면서 이러한 실시예들을 변형할 수 있는 많은 다양한 방식들이 있다. 다시 말하면, 이하 청구항들의 범위를 벗어남 없이 본 발명을 실시할 수 있는 많은 다른 방식들이 있을 수 있을 것이다.
200: 터치 스크린 장치 201: 커버글라스(cover glass)
202: 언더코팅(under coating) 203: 투명전도막(ITO)
204: 메탈증착막 205: 절연막
206: 로고인쇄부 301: 샤도우 마스크

Claims (13)

  1. 전자 기기의 데이터 입력 수단으로 사용되는 터치 패널에 있어서,
    기기의 외관 및 터치 패널을 보호하기 위한 커버글라스;
    상기 커버글라스의 터치 비활성 영역에 샤도우 마스크를 이용한 마스킹(masking) 방법을 적용하여 진공 증착 방식으로 적층되는 로고인쇄부;
    상기 로고인쇄부 상부의 전면에 걸쳐 실리콘 계열의 재질로 코팅된 샤도우 마스크를 사용한 선택적 증착 방법을 사용하여 터치 패널의 회로 패턴을 포함하도록 적층되는 적어도 하나의 투명전도막;
    상기 투명전도막 중 최상층의 투명전도막의 상부에 적층되어 입력 터치신호를 기기의 메인보드에 전달하기 위한 메탈회로층; 및
    상기 메탈회로층 및 투명전도막을 보호하기 위하여 상기 메탈회로층의 상부에 적층되는 절연층을 포함하여,
    상기 로고 인쇄부 및 상기 적어도 하나의 투명 전도막은 샤도우 마스크를 이용한 선택적 증착 방법을 채택하여 제조 공정 절차가 간소화되도록 함을 특징으로 하는 터치 패널.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 로고인쇄부를 블랙(black)으로 형성하기 위해 크롬산화물과 SiO2산화물을 순차적으로 배열하여 다층막 구조로 형성하고, 크롬산화물의 두께는 100~500Å 범위에서 증착하고, 실리콘 산화물은 200~500Å 두께 범위에서 증착하여 수백나노미터에서 수천나노미터가 되게 총 증착두께를 형성함을 특징으로 하는 터치 패널.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 투명 전도막을 형성시키기 위하여 적용되는 상기 샤도우 마스크는 증착시의 온도는 150℃에서 자석을 이용하여 피증착물에 고정하여 증착을 실시하고, 적용 회로 패턴 폭에 상응하도록 메탈 두께를 적용하여 에칭 방식을 통해 제작됨을 특징으로 하는 터치 패널.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 터치 패널의 투과율을 상승시킴과 동시에 투명전도막 패턴 시인성을 확보하기 위하여 상기 투명전도막을 증착하기 전에 SiO2/Nb2O5, SiO2/TiO2/SiO2/TiO2, SiO2/ZrO2/SiO2/ZrO2 중 어느 하나로 상기 커버글라스 상부에 언더코팅층을 더 적층시킴을 특징으로 하는 터치 패널.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 투명전도막과 이웃하는 다른 투명전도막 사이에는 상호 간섭을 회피하기 위한 절연층이 더 개재됨을 특징으로 하는 터치 패널.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 전자 기기는 터치 스크린 방식의 휴대용 단말기임을 특징으로 하는 터치 패널.
  8. 전자 기기의 데이터 입력 수단으로 사용되는 터치 패널의 제조 방법에 있어서,
    커버글라스의 터치 비활성 영역에 샤도우 마스크를 이용한 마스킹(masking) 방법을 적용하여 진공 증착 방식으로 로고 인쇄부를 형성하는 과정;
    상기 로고 인쇄부 상부의 전면에 걸쳐 실리콘 계열의 재질로 코팅된 샤도우 마스크를 사용한 선택적 증착 방법으로 터치 패널의 회로 패턴을 포함하도록 적어도 하나의 투명전도막을 형성하는 과정;
    상기 투명전도막 중 최상층의 투명전도막의 상부에 증착 방식 및 포토리소그래피 방식으로 소정의 회로패턴을 가지며 입력 터치신호를 기기의 메인보드에 전달하기 위한 메탈회로층을 형성하는 과정; 및
    상기 메탈회로층 및 투명전도막을 보호하기 위하여 상기 메탈회로층의 상부에 절연층을 적층시키는 과정을 포함하여,
    상기 로고 인쇄부 및 상기 적어도 하나의 투명 전도막은 샤도우 마스크를 이용한 선택적 증착 방법을 채택하여 제조 공정 절차가 간소화되도록 함을 특징으로 하는 터치 패널 제조 방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 로고인쇄부를 블랙(black)으로 형성하기 위해 크롬산화물과 SiO2산화물을 순차적으로 배열하여 다층막 구조로 형성하고, 크롬산화물의 두께는 100~500Å 범위에서 증착하고, 실리콘 산화물은 200~500Å 두께 범위에서 증착하여 수백나노미터에서 수천나노미터가 되게 총 증착두께를 형성함을 특징으로 하는 터치 패널 제조 방법.
  10. 제 8항에 있어서,
    상기 투명전도막은 증착시의 온도를 150℃에서 자석을 이용하여 피증착물에 고정하여 증착을 실시하도록 하며,
    상기 샤도우 마스크는 적용 회로패턴 폭에 상응하도록 메탈 두께를 적용하여 에칭방식을 통해 제작됨을 특징으로 하는 터치 패널 제조 방법.
  11. 제 8항에 있어서,
    상기 터치 패널의 투과율을 상승시킴과 동시에 투명전도막 패턴 시인성을 확보하기 위하여 상기 투명전도막을 증착하기 전에 SiO2/Nb2O5, SiO2/TiO2/SiO2/TiO2, SiO2/ZrO2/SiO2/ZrO2 중 어느 하나로 상기 커버글라스 상부에 언더코팅층을 적층시키는 과정을 더 포함함을 특징으로 하는 터치 패널 제조 방법.
  12. 제 8항에 있어서,
    상기 투명전도막과 이웃하는 다른 투명전도막 사이에는 상호 간섭을 회피하기 위한 절연층을 더 개재시킴을 특징으로 하는 터치 패널 제조 방법.
  13. 제 8항에 있어서,
    상기 최종적으로 패터닝된 메탈회로층은 상기 로고인쇄부와 중첩되는 위치에 배치됨을 특징으로 하는 터치 패널 제조 방법.


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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160075409A (ko) * 2013-03-05 2016-06-29 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
US9448671B2 (en) 2012-12-18 2016-09-20 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel and display device having the same
US9740318B2 (en) 2013-10-11 2017-08-22 Samsung Display Co., Ltd. Display device including a touch screen panel formed at an entire window
KR20200002386A (ko) * 2018-06-29 2020-01-08 주식회사 에프이엠 플렉시블 oled 터치구동용 투명전극 필름, 이의 제조방법 및 이를 이용한 터치패널

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100445291B1 (ko) * 2003-12-19 2004-08-21 에코라이트 주식회사 엘씨디 윈도우의 로고 인쇄구조물 및 인쇄방법
KR100746269B1 (ko) * 2007-02-02 2007-08-03 (주)에이엠피테크놀로지 등전위 형성을 위한 폐로 전극을 가지는 터치 패널 및 그제조 방법
KR20090122586A (ko) * 2008-05-26 2009-12-01 (주)코아리버 정전 용량 방식의 터치 좌표 감지를 위한 터치 패드
KR100974073B1 (ko) 2010-04-26 2010-08-04 삼광웰텍주식회사 슬림형 윈도우 터치스크린 패널의 제조 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100445291B1 (ko) * 2003-12-19 2004-08-21 에코라이트 주식회사 엘씨디 윈도우의 로고 인쇄구조물 및 인쇄방법
KR100746269B1 (ko) * 2007-02-02 2007-08-03 (주)에이엠피테크놀로지 등전위 형성을 위한 폐로 전극을 가지는 터치 패널 및 그제조 방법
KR20090122586A (ko) * 2008-05-26 2009-12-01 (주)코아리버 정전 용량 방식의 터치 좌표 감지를 위한 터치 패드
KR100974073B1 (ko) 2010-04-26 2010-08-04 삼광웰텍주식회사 슬림형 윈도우 터치스크린 패널의 제조 방법

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9448671B2 (en) 2012-12-18 2016-09-20 Samsung Display Co., Ltd. Touch screen panel and display device having the same
KR101707425B1 (ko) * 2013-03-05 2017-02-17 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR20160075410A (ko) * 2013-03-05 2016-06-29 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR101707421B1 (ko) * 2013-03-05 2017-02-17 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR20160075406A (ko) * 2013-03-05 2016-06-29 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR101707422B1 (ko) * 2013-03-05 2017-02-17 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR20160075407A (ko) * 2013-03-05 2016-06-29 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR101706562B1 (ko) * 2013-03-05 2017-02-16 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR101707429B1 (ko) * 2013-03-05 2017-02-17 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR20160075408A (ko) * 2013-03-05 2016-06-29 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR20160075411A (ko) * 2013-03-05 2016-06-29 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR20160075409A (ko) * 2013-03-05 2016-06-29 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR101707420B1 (ko) * 2013-03-05 2017-02-17 크루셜텍 (주) 커버글라스 및 이의 제조 방법
KR101787570B1 (ko) * 2013-03-05 2017-11-15 한국산업은행 커버글라스 및 이의 제조 방법
US9740318B2 (en) 2013-10-11 2017-08-22 Samsung Display Co., Ltd. Display device including a touch screen panel formed at an entire window
US10146347B2 (en) 2013-10-11 2018-12-04 Samsung Display Co., Ltd. Display device having an integrated display panel and touch panel
KR20200002386A (ko) * 2018-06-29 2020-01-08 주식회사 에프이엠 플렉시블 oled 터치구동용 투명전극 필름, 이의 제조방법 및 이를 이용한 터치패널
KR102134793B1 (ko) 2018-06-29 2020-07-16 주식회사 에프이엠 플렉시블 oled 터치구동용 투명전극 필름, 이의 제조방법 및 이를 이용한 터치패널

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