KR101112143B1 - 부분 반사를 이용한 측정 시스템 - Google Patents
부분 반사를 이용한 측정 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101112143B1 KR101112143B1 KR1020110139424A KR20110139424A KR101112143B1 KR 101112143 B1 KR101112143 B1 KR 101112143B1 KR 1020110139424 A KR1020110139424 A KR 1020110139424A KR 20110139424 A KR20110139424 A KR 20110139424A KR 101112143 B1 KR101112143 B1 KR 101112143B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- light
- light source
- path
- partial
- delay time
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/021—Interferometers using holographic techniques
- G01B9/025—Double exposure technique
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/04—Measuring microscopes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0096—Microscopes with photometer devices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/02—Objectives
- G02B21/04—Objectives involving mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/141—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using dichroic mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
도 2는 본 발명의 다른 실시예들에 따른 부분 반사를 이용한 측정 시스템을 설명하기 위한 구성도
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예들에 따른 부분 반사를 이용한 측정 시스템을 설명하기 위한 구성도
도 4는 본 발명의 실시예들에 따른 부분 반사를 이용하여 방출하는 광의 일부를 지연시키는 광원부를 설명하기 위한 구성도
도 5 및 도 6은 도 4의 광원부를 이용한 측정 시스템의 실시예들을 설명하기 위한 구성도들
10 : 광원부 20 : 제1 경로 간섭부
21 : 제1 부분 반사막 22 : 제1 대물렌즈
30 : 제2 경로 간섭부 31 : 제2 부분 반사막
32 : 제2 대물렌즈 33 : 반사막
40 : 감지부 70, 75 : 가변 필터
Claims (7)
- 사전에 설정된 지연시간만큼 지연된 광을 포함하는 광들을 방출하는 광원부;
상기 광원부로부터 방출된 광들 중 일부를 부분 반사시키고 상기 광들 중 나머지를 샘플로 입사시키며, 상기 광원부에서의 지연시간과 동일한 시간만큼 지연된 광을 포함하는 광들을 방출하는 경로 간섭부; 및
상기 경로 간섭부로부터 방출된 광들을 감지하기 위한 감지부를 포함하고,
상기 지연시간은 상기 광원부의 가간섭시간(coherence time)보다 작은 것을 특징으로 하는 부분 반사를 이용한 측정 시스템. - 제1항에 있어서, 상기 광원부는
광을 발생시키는 광원;
상기 광원으로부터 발생된 광의 일부를 반사하기 위한 제1 부분 반사막; 및
상기 제1 부분 반사막에서 반사되지 않은 광을 상기 지연시간만큼 지연시켜 반사하기 위한 반사막을 포함하는 것을 특징으로 하는 부분 반사를 이용한 측정 시스템. - 제2항에 있어서,
상기 광원은 상기 광의 파장을 주기적으로 스캔하여 파장을 가변시켜 광을 방출하는 것을 특징으로 하는 부분 반사를 이용한 측정 시스템. - 제2항에 있어서,
상기 반사막에서 반사되는 광이 상기 제1 부분 반사막에서 반사되는 광보다 상기 설정된 지연시간만큼 지연되도록 상기 제1 부분 반사막은 상기 반사막으로부터 일정 거리 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 부분 반사를 이용한 측정 시스템. - 제1항에 있어서, 상기 경로 간섭부는
상기 광원부로부터 방출된 광들 중 일부를 반사하기 위한 제2 부분 반사막; 및
상기 제2 부분 반사막에서 반사되지 않은 광을 통과시켜 상기 샘플로 입사시키기 위한 대물렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 부분 반사를 이용한 측정 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 광원부와 상기 경로 간섭부의 사이에 배치되거나 상기 경로 간섭부와 상기 감지부의 사이에 배치되어 입력되는 광의 파장을 주기적으로 스캔하며 파장을 가변시키는 가변 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 부분 반사를 이용한 측정 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 감지부는 상기 경로 간섭부로부터 방출되는 광들을 감지하고, 상기 광들의 위상 변화를 측정하기 위한 스펙트로미터(spectrometer)인 것을 특징으로 하는 부분 반사를 이용한 측정 시스템.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110139424A KR101112143B1 (ko) | 2011-12-21 | 2011-12-21 | 부분 반사를 이용한 측정 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110139424A KR101112143B1 (ko) | 2011-12-21 | 2011-12-21 | 부분 반사를 이용한 측정 시스템 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090134224A Division KR101112144B1 (ko) | 2009-12-30 | 2009-12-30 | 부분 반사를 이용한 간섭 시스템 및 측정 시스템 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120007482A KR20120007482A (ko) | 2012-01-20 |
KR101112143B1 true KR101112143B1 (ko) | 2012-02-14 |
Family
ID=45612805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110139424A KR101112143B1 (ko) | 2011-12-21 | 2011-12-21 | 부분 반사를 이용한 측정 시스템 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101112143B1 (ko) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR870004292A (ko) * | 1985-10-16 | 1987-05-08 | 미다 가쓰시게 | 변위의 광학적 측정방법 및 측정장치 |
JPH05133725A (ja) * | 1991-11-15 | 1993-05-28 | Toshiba Corp | 表面形状測定装置 |
JP2001304826A (ja) | 2000-04-24 | 2001-10-31 | Ricoh Co Ltd | 3次元形状測定装置 |
JP2005274304A (ja) | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Kobe Steel Ltd | 干渉計装置及び光干渉法 |
-
2011
- 2011-12-21 KR KR1020110139424A patent/KR101112143B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR870004292A (ko) * | 1985-10-16 | 1987-05-08 | 미다 가쓰시게 | 변위의 광학적 측정방법 및 측정장치 |
JPH05133725A (ja) * | 1991-11-15 | 1993-05-28 | Toshiba Corp | 表面形状測定装置 |
JP2001304826A (ja) | 2000-04-24 | 2001-10-31 | Ricoh Co Ltd | 3次元形状測定装置 |
JP2005274304A (ja) | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Kobe Steel Ltd | 干渉計装置及び光干渉法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120007482A (ko) | 2012-01-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101112144B1 (ko) | 부분 반사를 이용한 간섭 시스템 및 측정 시스템 | |
JP5087186B1 (ja) | 等光路干渉計 | |
JP5168168B2 (ja) | 屈折率測定装置 | |
JP4916573B2 (ja) | 光干渉計測方法および光干渉計測装置 | |
JP6157240B2 (ja) | 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法 | |
CN108431545A (zh) | 用于测量存在薄层时的高度的装置和方法 | |
US8144332B2 (en) | Temperature measurement apparatus and method | |
KR20200118218A (ko) | 다층 스택의 계측 | |
CN103115585B (zh) | 基于受激辐射的荧光干涉显微测量方法与装置 | |
CN104204775A (zh) | 光学相干层析成像设备以及光学相干层析成像方法 | |
CN103115582B (zh) | 基于受激辐射的迈克尔逊荧光干涉显微测量装置 | |
Schulz et al. | Measurement of distance changes using a fibre-coupled common-path interferometer with mechanical path length modulation | |
CN103115583B (zh) | 基于受激辐射的Mirau荧光干涉显微测量装置 | |
JP2004163438A (ja) | 光学的に透明な対象物の光学的および物理的厚さを測定する方法と装置 | |
JP2012083274A (ja) | 白色干渉法による振動測定装置及び振動測定方法 | |
CN108931207A (zh) | Led照明的干涉显微装置和方法 | |
KR101716452B1 (ko) | 디지털 홀로그래피 마이크로스코프를 이용한 고단차 측정 방법 | |
WO2012170275A1 (en) | Coupled multi-wavelength confocal systems for distance measurements | |
JP2016017762A (ja) | 光学遅延装置及び光コヒーレンストモグラフィー装置 | |
JP2015105850A (ja) | 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法 | |
JP6157241B2 (ja) | 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法 | |
US20120307255A1 (en) | Optical interferometer system with damped vibration and noise effect property | |
TWI447352B (zh) | 光學斷層攝影系統 | |
KR101112143B1 (ko) | 부분 반사를 이용한 측정 시스템 | |
WO2010113985A1 (ja) | 干渉計 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150119 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160105 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170421 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171221 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190104 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200110 Year of fee payment: 9 |