KR101092213B1 - Ｘ선 발생장치 및 그의 동작방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 X-선 영상 촬영장치에서 X-선 발생장치의 노출시간 및 집속전극제어를 이용하여 저선량으로 고화질의 X-선 영상을 획득하는 장치 및 방법에 관한 것으로서, X-선 튜브의 고전압 출력이 75% 이상의 적정치가 아닌 구간에 대하여서는 전자구름에 대하여 강한 양전위를 가하여 전자구름이 타겟 초점에 대해 발산하거나 또는 집속전극 방향으로 강하게 유도되도록 양전위를 인가하며, X-선 튜브의 고전압 출력이 목표기준치의 75% 이상에 도달하여 적정한 구간에 들어서면, 집속전극을 원래의 목적인 전자구름의 집속의 효과가 발생하도록 음전위 또는 필라멘트와 동일한 전위를 인가하도록 한다.
X선, 튜브, 필라멘트, 집속전극, 영상촬영

Description

Ｘ선 발생장치 및 그의 동작방법{The apparatus for X-ray generating and its operating method}
본 발명은 X선 발생장치 및 그의 동작방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 X선 영상 촬영장치에 적용 가능한 X선 발생장치의 집속 전극 전압을 제어하여 저선량으로 고화질의 X선 영상을 획득할 수 있도록 하는 X선 발생장치 및 그의 동작방법에 관한 것이다.
일반적으로 의료영상진단장치 및 비파괴검사분야에서는 피검체의 내부형상을 관찰하기 위해 물질의 투과성이 우수한 X선 촬영을 많이 사용하고 있다.
X선 촬영은 X선을 살아있는 피검체에 조사시키면 피검체 내부에서 물질의 밀도 차이에 따라 X선의 흡수 정도가 다른 원리를 이용한 것으로, 밀도가 큰 조직은 밀도가 작은 조직에 비해 X선을 많이 흡수하기 때문에 생체 조직에 X선을 투과시킨 후 X선 감광 필름이나 검출기에서 관찰하면 밀도가 큰 조직은 밀도가 작은 조직에 비해 검게 나타나게 되며, 이에 따라 밀도 차이에 따른 피검체의 내부 조직의 구조를 명확하게 구별할 수 있게 된다.
도 1 은 일반적인 X선 촬영장치의 구성이 도시된 개략도이며, 도 2 는 일반 적인 X선 발생장치의 내부 구성이 도시된 도이다.
일반적인 X선 촬영장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, X선을 직접적으로 발생하는 X선 튜브(2), X선 튜브(2)에 필요한 전압 및 전류를 공급하는 HFG인 고전압 발생장치(1), 피검체를 통과한 X선을 검출하는 X선 검출기(3), 및 X선 튜브(1)와 고전압 발생장치(1)의 동작을 제어하는 시퀀스 제어장치(4)를 포함하여 구성된다.
고전압 발생장치(1) 및 X선 튜브(2)는 도 2에 도시된 바와 같이 연결되며, X선 튜브 전압(kVp), X선 튜브전류(mA), X선 조사시간(sec) 값의 설정에 따라 적절하게 계산된 고전압 출력치(High Voltage Output), 필라멘트 전류 출력치(Filament Current Output), 집속 전극 전압(Focusing Voltage Output)이 고전압 발생장치(1)로부터 발생된 X선은 셔터(18)가 오픈되면서 외부로 방출된다.
이를 보다 상세하게 설명하면, 고전압 발생장치(1)에서 X선 튜브(2)의 필라멘트(12)로 전류를 흘리면 필라멘트(12)는 가열되며, 가열된 필라멘트(12)에서 전자 방출이 유도되어 필라멘트(12) 주변으로 방출된 전자들에 의한 전자구름이 형성된다.
필라멘트(12)의 가열에 의해 충분한 양의 전자구름이 형성되면, X선 튜브의 음극(필라멘트, 12) 및 양극(타겟, 16)에 고전압 출력치가 인가되며 이에 따라 필라멘트(12)에서 형성된 전자구름은 고전압 차이로 인한 강한 전계에 의해 양극(16)을 향해 이동하여 타겟(16)과 충돌한다. 이 충돌로 인해 X선이 발생하게 되는데 전자구름이 타겟(16) 초점에 집속하여 충돌할 수 있도록 집속 전극(14)에 필라멘트(12)에 대해 보다 높은 음전위를 가하여 필라멘트와 같은 전계 또는 반발력이 유 도되도록 한다.
상술한 과정에서, X선 튜브(2)의 음극(12) 및 양극(16)에는 수십 내지 수백 kV의 고전압이 인가되는데, X선 튜브(2)의 부하특성에 따른 시정수로 인하여 음극 및 양극으로 인가되는 고전압 출력치가 일시적으로 과도한 상태를 보이게 된다.
도 3 은 일반적인 고전압 발생장치의 출력 파형이 도시된 그래프이다.
도 3에 도시된 바와 같이 일반적인 고전압 발생장치에서 X선 튜브의 음극 및 양극에 인가되는 고전압 출력치는 상술한 바와 같이 X선 튜브의 부하특성에 따른 시정수로 인하여 필라멘트 또는 집속전극에 인가될 출력치에 비해 응답특성이 느리며 일시적으로 과도한 상태를 나타낸다.
이러한 오버슈트(overshot; 과도상태)나 이와 함께 도 3에 도시된 전압 상승구간(rising time) 또는 백스윙(backswing)이 나타나는 동안 X선 튜브의 타켓에 충돌하는 전자는 불균일하거나 낮은 에너지의 X선을 발생하게 되며, 발생된 X선이 피검체에 조사되도록 하는 셔터(18) 역시 이 구간 동안 오픈 상태를 유지하기 때문에 X선 튜브에서 생성된 불필요한 방사선이 그대로 피검체에 조사되어 인체에 유해한 영향을 끼치거나 X선 검출 영상의 화질이 저하되는 경우가 발생하게 된다.
이러한 문제점을 보완하기 위한 방안으로서, 고전압 발생장치의 내부 회로에 피드백을 부가하는 경우 응답특성은 개선할 수 있으나 내부회로의 시정수 특성은 그대로 유지되므로 상승시간을 최소화하는 데에는 한계가 있으며 여전히 불필요한 X선이 피검체에 노출될 수 있는 문제점이 있다.
즉, 종래에는 X선을 발생하기 위해 필라멘트를 가열하여 전자 구름을 형성하 기 위한 시간(예열구간) 동안 집속전극에도 음전위 또는 필라멘트와 동일한 전위를 인가하여 X선 튜브의 전압과 전류에 적정한 집속 전계를 미리 형성하는데, 이때 X선 튜브 내에서 발생된 X선이 모두 피검체에 조사됨에 따라 피검체에 유해한 영향을 끼치거나 X선 검출 영상의 화질이나 정밀도가 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 종래 기술에 따른 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 집속 전극에 인가되는 전위 및 X선 튜브의 노출시간을 제어하여 불필요한 방사선이 피검체에 조사되는 것을 방지하는 X선 발생장치 및 그의 동작방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이를 위한 본 발명의 일실시예에 따른 X선 발생장치의 동작방법은 필라멘트에 전류를 인가하여 상기 필라멘트 주위에 전자 구름을 형성하는 제 1 단계; 및 상기 타겟 및 필라멘트에 인가되는 인가전압이 상승하면서 목표 전압에 대해 일정 비율 이상이 되면 집속 전극에 상기 필라멘트와 동일하거나 낮은 전위를 인가하여, 상기 전자구름이 집속하여 상기 타겟에 충돌하도록 하는 제 2 단계를 포함하여, 필라멘트에서 방출된 전자를 효율적으로 집속시켜 X선이 방출되도록 한다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따른 X선 발생장치는 필라멘트 및 집속전극을 구비하여, 상기 필라멘트로부터 다량의 전자가 생성되면 고전압을 인가하여 생성된 전자가 타겟 초점과 충돌하면서 X선이 발생되도록 하는 X선 튜브; 및 상기 필라멘트에 인가되는 고전압 값에 따라 상기 집속전극에 음전위 또는 양전위의 전압이 인가되도록 하는 고전압 발생장치를 포함하여 불필요한 X선이 피검체에 조사되는 것을 방지한다.
이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명의 실시예를 설명한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 X선 발생장치는 상술한 도 2에 도시된 바 와 같이 X선이 발생하는 X선 튜브(2) 및 고전압 발생장치(1)를 포함하여 구성되며, 상기 X선 튜브(2)는 진공관(10), 필라멘트(12), 집속전극(14), 및 타겟(16)을 포함하여 구성된다. 따라서, 고전압 발생장치(1)에서 제어된 여러 전압이 상기 진공관(10), 필라멘트(12), 집속전극(14) 및 타겟(16)에 각각 인가됨에 따라 X선이 발생하게 된다.
이때, 고전압 발생장치(1)는 타겟(16) 및 필라멘트(12)에 수십 내지 수백 kV의 고전압 출력치를 인가하거나 집속 전극(14)에 음전위 또는 양전위의 전압을 인가하기 위한 것으로, X선 튜브(2)에 여러 전위를 인가할 수 있는 전원제어장치라면 모두 적용될 수 있다.
또한, 본 명세서에서는 본 발명에 따른 X선 발생장치가 X선 영상 촬영장치에 적용되는 것을 예로 하여 설명하나 이에 한정되는 것은 아니며 X선을 사용하는 여러 응용기기에 적용될 수도 있다.
도 4 는 본 발명에 따른 고전압 발생장치의 출력 파형이 각각 도시된 그래프이며, 도 5 는 도 4에 따른 X선 튜브에서의 X선 발생 동작이 도시된 도이다.
도 2를 참조하여 도 4 및 도 5를 설명하면, 필라멘트(12) 및 타겟(16) 양단에 인가하기 위한 고전압 출력치는 고전압 발생장치(1) 내부 회로의 응답특성 또는 시정수로 인해 목표 전압까지의 펄스가 생성 및 인가되기까지의 상승구간과 목표 전압로부터의 하강 구간이 존재한다.
따라서, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고전압 발생장치(1)는 타겟(16) 및 필라멘트(12)에 인가되는 전압의 크기에 따라 집속 전극(14)의 전위를 다르게 인가한다.
보다 상세히 설명하면, 본 발명의 일실시예에 따른 고전압 발생장치는 도 4에 도시된 바와 같이, X선 튜브의 음극(필라멘트, 12) 및 양극(타겟, 16)에 인가되는 고전압 출력치가 목표전압 대비 일정 비율 이상이 되는 시점(B)부터 해당 비율 이하가 되는 시점(C)까지의 구간(B-C) 외의 구간(A-B, C-D)동안 집속 전극(14)의 전위가 필라멘트(12)에 대해 양전위를 갖도록 전압을 인가한다.
상기 일정 비율은 충분한 에너지를 갖는 X선이 발생하여 피검체에 조사되도록 하기 위해 설정된 것으로서, 필라멘트(12) 주위에 충분한 전자구름이 생성되었으며, 생성된 전자구름의 전자들이 X선 영상 검출에 필요한 충분한 에너지를 갖는 것으로 판단할 수 있는 정도의 비율을 나타낸다.
따라서, 일정 비율 이상이 되는 구간(B-C) 외의 구간(A-B, C-D)에서는 충분한 에너지를 갖지 않은 것으로 판단할 수 있으며, 상술한 바와 같이 전자구름이 충분히 생성되지 않은 상태에서 발생된 X선은 피검체에 악영향을 끼치거나 영상의 화질을 저하시키는 문제를 발생시키므로, 상기 일정 비율 이하의 구간에서는 필라멘트(12) 주위로 전자가 방출되더라도 상기 전자가 타겟(16)을 향해 이동하지 않도록 집속 전극(14)이 필라멘트(12)에 대해 양전위를 갖도록 전압을 인가하게 된다.
또한, 상기 일정 비율에 해당하는 전압치를 기준으로 X선 튜브의 셔터(18)의 오픈/클로즈 상태가 결정될 수 있는데, X선 튜브의 셔터(18)는 상기 일정 비율 이상이 되는 구간에서만 오픈 상태가 되도록 제어될 수 있으며, 이에 따라 상기 일정 비율 이하의 구간에서 X선이 발생하더라도, 발생된 X선이 외부로 방출되는 것을 방 지할 수 있다.
이때, 본 명세서에서는 상기 일정 비율이 목표전압의 75%인 것을 예로 하여 설명하나 이에 한정되는 것은 아니며, 목표 전압 값이 인가되는 구간에 대해서만 집속 전극(14)의 전위를 제어하거나 셔터(18)를 제어하고자 하는 경우 상기 비율은 100%로 설정될 수 있다.
한편, 도 4 및 도 5(a)에 도시된 바와 같이, 상기 필라멘트(12)는 연결된 두 개의 단자를 통해 소정 크기의 전압/전류가 인가되며, 상기 소정 크기의 전압/전류가 인가되면서 필라멘트(12)로부터 필라멘트(12) 주위로 방출되는 전자의 수가 늘어나 전자구름이 형성되기 시작한다.
전자구름이 형성되면서, 상기 집속 전극(14)에는 도 4에 도시된 바와 같이 필라멘트(12)에 대해 양전위를 갖도록 소정 크기의 전압이 인가된다.
집속 전극(14)에 상기 양전위의 전압이 인가되면 필라멘트(12)와 집속 전극(14) 사이에 전계가 형성되며, 이에 따라 필라멘트(12) 주위의 전자들이 타겟(16) 초점을 향해 이동하기보다는 집속 전극(14)을 향해 이동하거나 필라멘트(12) 주위의 여러 방향으로 발산할 수 있다. 따라서 고전압 출력치가 인가되지 않은 상태에서도 전자가 타겟(16)을 항해 이동하는 것을 방지할 수 있게 된다.
소정 시간이 지나면 고전압 출력치가 X선 튜브의 타겟(16) 및 필라멘트(12)에 인가되기 시작(A)하는데, 이때에도 집속 전극(14)에는 필라멘트(12)에 대해 양전위의 전압이 인가되고 있으므로 필라멘트(12)의 주위는 집속 전극(14)을 향해 이동하거나 필라멘트(12) 주위의 여러 방향으로 발산하게 된다.
이때, 상기 집속 전극(14)에 인가되는 전압은 각 구간(PA-A, A-B)에 따라 다르게 인가될 수 있으며, 도 5에 도시된 바와 같이 필라멘트(12)에 전류가 인가되는 시점(PA)부터 미리 고전압 출력치에 대한 양전위 값을 산정하여 일정 크기의 전압을 집속 전극(14)에 인가할 수도 있다.
타겟(16) 및 필라멘트(12)에 있어서, 양 극에 인가되는 고전압 출력치는 목표전압 값에 도달할 때까지 상승하게 되는데, 출력치가 상승하면서 목표전압의 75% 이상의 값이 인가(B)되면, X선 영상검출을 위해 충분한 세기의 X선이 생성될 수 있는 것으로 볼 수 있으며, X선의 발생을 위해 집속 전극(14)의 전위를 필라멘트(12)와 동일하거나 낮도록 전압을 인가하여 등전위 또는 음전위가 되도록 한다.
집속 전극(14)의 전위가 필라멘트(12)와 대비하여 등전위 또는 음전위가 되면 도 6(b)에 도시된 바와 같이, 집속 전극(14)과 타겟(16) 사이에 보다 강한 전계가 형성되며, 필라멘트(12) 주위의 전자구름이 필라멘트(12) 및 타겟(16) 간 강한 전계에 의해 집속하면서 타겟(16) 초점을 향해 소정 속도로 이동하게 된다. 또한, 상기 소정 속도를 갖는 전자가 타겟(16)에 강하게 충돌하면서 X선 영상촬영에 요구되는 에너지의 X선이 발생하게 된다.
따라서, 이때 X선 튜브의 셔터(18)를 오픈시키게 되면, X선 튜브 내에서 발생된 X선이 외부에 노출되면서 외부의 피검체에 조사되며 피검체를 투과한 X선이 X선 검출기에 도달하면서 피검체의 내부 구조에 대한 영상을 획득할 수 있는 것이다.
또한, 목표전압으로 인가되던 고전압 출력치가 하강하면서 75% 이하의 값으로 인가(C)되면 오픈 상태의 셔터(18)가 닫힘 상태가 되도록 제어하여 이후 구간에서는 X선 튜브 내에 존재하는 X선이 외부로 노출되는 것을 방지할 수 있다. 이때 집속 전극(14)에는 필라멘트(12)의 전위에 대해 양전위를 갖도록 소정 크기의 전압이 인가되어 필라멘트(12) 주위의 전자가 타겟(16)과 충돌하면서 X선이 발생되는 것을 최소화하도록 한다.
본 발명의 실시예에 따른 X선 발생장치 및 발생방법은 상술한 바와 같이 집속전극의 전압 인가 및 셔터의 노출 타이밍을 제어함으로써 X선 튜브에 인가되는 고전압 파형에 있어서 상승시간, 오버슈트, 백스윙 구간동안 X선 튜브 내의 타겟에 충돌하는 전자를 최소화하여, 유해한 저에너지의 방사선 발생을 차단하고, 또한 영상의 화질저하를 방지함으로써, 고화질의 X-선 영상을 획득할 수 있다.
이상과 같이 본 발명에 따른 X선 발생장치 및 그의 동작방법을 예시된 도면을 참조로 하여 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, X선 튜브 내 집속 전극에 인가되는 전위를 적절히 조절하여 불필요한 X선이 발생하거나 외부의 피검체에 조사되는 것을 방지하는 본 발명의 기술사상은 보호되는 범위 이내에서 당업자에 의해 용이하게 변용될 수 있음은 자명하다.
도 1 은 일반적인 X선 촬영장치의 구성이 도시된 개략도,
도 2 는 일반적인 X선 튜브의 내부 구성이 도시된 도,
도 3 은 일반적인 고전압 발생장치의 출력 파형이 도시된 그래프,
도 4 는 본 발명에 따른 고전압 발생장치의 출력 파형이 각각 도시된 그래프, 및
도 5 는 도 4에 따른 X선 튜브에서의 X선 발생 동작이 도시된 도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1: 고전압 발생장치 2: X선 튜브
10: 진공관 12: 필라멘트
14: 집속 전극 16: 타겟

Claims (10)

  1. 진공관 내 필라멘트로부터 방출된 전자가 타겟에 충돌하면서 X선이 발생하는 X선 발생장치의 동작방법에 있어서,
    필라멘트에 전류를 인가하여 상기 필라멘트 주위에 전자 구름을 형성하는 제 1 단계; 및
    상기 타겟 및 필라멘트에 인가되는 인가전압이 상승하면서 목표 전압에 대해 일정 비율 이상이 되면 집속 전극에 상기 필라멘트와 동일하거나 낮은 전위를 인가하여, 상기 전자구름이 집속하여 상기 타켓에 충돌하도록 하는 제 2 단계
    를 포함하는 X선 발생장치의 동작방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 단계는, 상기 전자 구름이 형성되는 동안 상기 집속 전극에 상기 필라멘트의 전위보다 높은 전위를 인가하여, 상기 전자 구름이 상기 타겟에 대해 발산되거나 상기 필라멘트를 향하도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 단계는, 상기 필라멘트에 인가되는 전압이 상기 일정 비율 이하인 동안, 상기 집속 전극에 상기 필라멘트보다 높은 전위를 인가하여, 상기 전자 구름 이 상기 타겟에 대해 발산되거나 상기 필라멘트를 향하도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 단계 후, 상기 필라멘트에 인가되는 전압이 하강하면서 상기 일정 비율 이하가 되면, 상기 집속 전극에 상기 필라멘트보다 높은 전위를 인가하여, 상기 전자 구름이 상기 타겟에 대해 발산되거나 상기 필라멘트를 향하도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 일정 비율은 상기 진공관 및 필라멘트에 인가되는 목표 전압 대비 75% 인 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 단계는, 상기 집속전극에 상기 필라멘트와 동일하거나 낮은 전위가 인가되는 동안 셔터를 오픈하여 발생된 X선이 외부의 피검체에 조사되도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치의 동작방법.
  7. 필라멘트 및 집속전극을 구비하여, 상기 필라멘트에 인가되는 전류에 의해 생성된 전자 구름을 타겟 초점과 충돌시켜 X선을 발생시키는 X선 튜브; 및
    상기 필라멘트에 전압을 인가하고, 상기 필라멘트에 인가되는 전압에 따라 상기 집속전극에 인가되는 전압을 조절하는 고전압 발생장치를 포함하고,
    상기 고전압 발생장치는 상기 필라멘트에 인가된 전압이 상승하면서 목표 전압에 대해 일정 비율 이상이 되면 상기 집속 전극에 상기 필라멘트와 동일하거나 낮은 전위를 인가하여 상기 전자 구름이 집속되어 상기 타겟 초점과 충돌하면서 X선이 발생되도록 하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 고전압 발생장치는, 상기 필라멘트로 목표 전압의 75% 이상의 전압이 인가되면 상기 집속전극에 상기 필라멘트와 동일하거나 낮은 전위의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 고전압 발생장치는, 상기 필라멘트로 목표 전압의 75% 이하의 전압이 인가되면 상기 집속전극에 상기 필라멘트에 대해 양전위의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 X선 튜브는, 상기 필라멘트로 목표 전압의 75% 이상의 전압이 인가되는 동안 상기 X선 튜브 내에서 발생된 X선이 외부로 방출되도록 오픈 상태를 유지하는 셔터를 포함하는 X선 발생장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH11339996A (ja) 1998-05-26 1999-12-10 Toshiba Corp Ｘ線撮影装置
JP2005190757A (ja) 2003-12-25 2005-07-14 Showa Optronics Co Ltd Ｘ線発生装置
JP2006092879A (ja) * 2004-09-22 2006-04-06 Toshiba Corp Ｘ線管
JP2007165081A (ja) * 2005-12-13 2007-06-28 Shimadzu Corp Ｘ線発生装置およびこれを備えたｘ線診断装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11339996A (ja) 1998-05-26 1999-12-10 Toshiba Corp Ｘ線撮影装置
JP2005190757A (ja) 2003-12-25 2005-07-14 Showa Optronics Co Ltd Ｘ線発生装置
JP2006092879A (ja) * 2004-09-22 2006-04-06 Toshiba Corp Ｘ線管
JP2007165081A (ja) * 2005-12-13 2007-06-28 Shimadzu Corp Ｘ線発生装置およびこれを備えたｘ線診断装置

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