KR101091136B1 - Nitrogen gas injection apparatus using heat of dry pump - Google Patents

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Abstract

본 발명은 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치에 관한 것으로, 진공펌프에서 발산되어 소모되는 열을 적극 활용함으로써 질소가스를 가열하기 위한 별도의 열원 없이도 고온의 질소가스를 공급하여 반응부산물 가스의 고형화를 방지할 수 있도록 한 것이다.
이를 위한 본 발명은, 외부에서 공급되는 질소가스를 내부 유로를 통해 경유시키고, 진공펌프에서 발산되는 열을 흡입하고, 상기 흡입된 열에 의해 외부에서 공급되는 질소가스를 내부로 경유시키면서 가열하는 열교환기와, 열교환기에서 가열된 질소가스를 반응부산물 가스가 이송되는 배관으로 공급하는 분사유닛을 포함하여 이루어진다. The present invention relates to a nitrogen gas injector using a vacuum pump heat, by utilizing the heat dissipated and consumed by the vacuum pump to solidify the reaction by-product gas by supplying a high temperature nitrogen gas without a separate heat source for heating the nitrogen gas It is to prevent the.
The present invention for this purpose is a heat exchanger for passing through the nitrogen gas supplied from the outside through the internal flow path, and sucks the heat emitted from the vacuum pump, and by heating the nitrogen gas supplied from the outside by the sucked heat to the inside; The injection unit is configured to supply a nitrogen gas heated in a heat exchanger to a pipe through which the reaction byproduct gas is transferred.

Description

진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치{NITROGEN GAS INJECTION APPARATUS USING HEAT OF DRY PUMP}Nitrogen gas injector using vacuum pump heat {NITROGEN GAS INJECTION APPARATUS USING HEAT OF DRY PUMP}

본 발명은 반도체 및 LCD 제조공정에 사용되는 질소가스 분사장치에 관한 것으로, 특히, 진공펌프에서 발산되어 소모되는 열을 적극 활용함으로써 질소가스를 가열하기 위한 별도의 열원 없이도 고온의 질소가스를 공급하여 반응부산물 가스의 고형화를 방지할 수 있는 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치에 관한 것이다. The present invention relates to a nitrogen gas injector used in a semiconductor and LCD manufacturing process, in particular, by utilizing the heat dissipated by the vacuum pump actively by supplying a high temperature nitrogen gas without a separate heat source for heating the nitrogen gas It relates to a nitrogen gas injector using a vacuum pump heat that can prevent the solidification of the reaction by-product gas.

일반적으로, 반도체 제조공정은 크게 전 공정(Fabrication 공정)과 후 공정(Assembly 공정)으로 이루어지며, 전 공정이라 함은 각종 프로세스 챔버(Chamber)내에서 웨이퍼(Wafer)상에 박막을 증착하고, 증착된 박막을 선택적으로 식각하는 과정을 반복적으로 수행하여 특정의 패턴을 가공하는 것에 의해 이른바, 반도체 칩(Chip)을 제조하는 공정을 말하고, 후 공정이라 함은 상기 전 공정에서 제조된 칩을 개별적으로 분리한 후, 리드프레임과 결합하여 완제품으로 조립하는 공정을 말한다.In general, a semiconductor manufacturing process is mainly composed of a pre-process (Fabrication process) and a post-process (Assembly process), the pre-process is to deposit a thin film on a wafer (wafer) in various process chambers (Chamber), the deposition It is a process of manufacturing a so-called semiconductor chip by repeatedly performing a process of selectively etching the prepared thin film, and processing a specific pattern, and the post process refers to the chips manufactured in the previous process individually. After separating, refers to the process of assembling the finished product by combining with the lead frame.

이때, 상기 웨이퍼 상에 박막을 증착하거나, 웨이퍼 상에 증착된 박막을 식각하는 공정은 프로세스 챔버 내에서 실란(Silane), 아르신(Arsine) 및 염화 붕소 등의 유해 가스와 수소 등의 프로세스 가스를 사용하여 고온에서 수행되며, 상기 공정이 진행되는 동안 프로세스 챔버 내부에는 각종 발화성 가스와 부식성 이물질 및 유독 성분을 함유하는 반응부산물 가스가 다량으로 발생한다. At this time, the process of depositing a thin film on the wafer or etching the thin film deposited on the wafer is a process gas such as hydrogen and toxic gases such as silane (Silane), arsine (Arsine) and boron chloride and a process gas such as hydrogen It is carried out at a high temperature using a large amount of the reaction by-product gas containing various ignitable gases and corrosive foreign substances and toxic components during the process.

따라서 반도체 제조공정에는 도 1에서 볼 수 있는 바와 같이 프로세스 챔버를 진공상태로 만들어 주는 진공펌프의 후측에는 상기 프로세스 챔버에서 배출되는 반응부산물 가스를 정화시킨 후 대기로 방출하는 스크루버(Scrubber)를 설치한다.Therefore, in the semiconductor manufacturing process, as shown in FIG. 1, a scrubber is installed on the rear side of the vacuum pump that makes the process chamber vacuum, and then purifies the reaction byproduct gas discharged from the process chamber and discharges it to the atmosphere. do.

하지만, 프로세스 챔버로부터 발생된 유독성 반응부산물 가스가 프로세스 챔버로부터 각 배관(15a,15b)을 통해 진공펌프 및 스크루버에 이르는 과정에서 쉽게 고형화되어 누적된 후 막힘현상이 발생하곤 하였다. However, the toxic reaction by-product gas generated from the process chamber was easily solidified and accumulated in the process from the process chamber to the vacuum pump and the scrubber through the pipes 15a and 15b, and then clogging occurred.

따라서 이처럼 반응부산물 가스가 고형화되어 막힘현상이 발생하던 문제를 해소하기 위한 방편으로 배관(15a,15b)의 일정 구간을 히터로 감싸서 배관(15a,15b) 내에 온도를 따뜻하게 유지하는 자켓 히터(Jaket Heater)방식이 사용되고 있고, 최근에는 자켓 히터방식이 배관(15a,15b) 의 많은 부분을 감싸야 하기 때문에 설치비용이 높고 효율성이 떨어지던 문제를 해소하기 위해 한국공개특허 2005-88649에 개시된 바와 같이 반응부산물 가스가 흐르는 배관 특히, 진공펌프의 유출측 배관 내부에 고온의 질소가스를 분사하는 방식의 질소가스 분사장치(12)가 개발되었다. Therefore, as a way to solve the problem that the reaction by-product gas is solidified and clogging occurs, a jacket heater for keeping a temperature warm in the pipes 15a and 15b by wrapping a certain section of the pipes 15a and 15b with a heater. In order to solve the problem of high installation cost and low efficiency since the jacket heater method has to cover a large part of the pipes (15a, 15b) in recent years, the reaction is disclosed as disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2005-88649. A nitrogen gas injector 12 in which a high temperature nitrogen gas is injected into a pipe in which a by-product gas flows, in particular, an outlet side pipe of a vacuum pump, has been developed.

그러나 종래의 질소가스 분사장치(12)는 질소가스 공급라인(15c)을 통해 외부에서 공급되는 상온의 질소가스를 고온으로 가열하기 위해 별도의 히터(11)를 필수적으로 구비해야만 하였다. 따라서, 별도의 히터(11) 설치에 따른 초기비용이 과다하게 요구되는 것은 물론, 전력 소모가 높은 히터(11)의 운전에 따른 유지비용이 지속적으로 발생하는 문제점이 야기되었다. However, the conventional nitrogen gas injector 12 had to be provided with a separate heater 11 to heat the nitrogen gas at room temperature supplied from the outside through the nitrogen gas supply line 15c to a high temperature. Therefore, the initial cost due to the installation of a separate heater 11 is excessively required, as well as a problem that the maintenance cost is continuously generated due to the operation of the heater 11 with high power consumption.

이에 본 발명은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해소하기 위해 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 진공펌프에서 발산되어 소모되는 열을 활용하여 질소가스를 가열함으로써 반응부산물 가스의 고형화를 방지할 수 있는 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been proposed to solve the conventional problems as described above, an object of the present invention is to heat the nitrogen gas by utilizing the heat dissipated from the vacuum pump to prevent the solidification of the reaction by-product gas It is to provide a nitrogen gas injection device using a vacuum pump heat.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 기술적 사상에 의한 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치는, 외부에서 공급되는 질소가스를 내부 유로를 통해 경유시키고, 진공펌프에서 발산되는 열을 흡입하고, 상기 흡입된 열에 의해 외부에서 공급되는 질소가스를 내부로 경유시키면서 가열하는 열교환기와; 상기 열교환기에서 가열된 질소가스를 반응부산물 가스가 이송되는 배관으로 공급하는 분사유닛을 포함하여 이루어지는 것을 기술적 구성상의 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the nitrogen gas injector using the vacuum pump heat according to the technical idea of the present invention, through the internal gas flow through the nitrogen gas supplied from the outside, and sucks the heat emitted from the vacuum pump, A heat exchanger for heating while passing the nitrogen gas supplied from the outside by the sucked heat to the inside; It characterized in that it comprises a injection unit for supplying the nitrogen gas heated in the heat exchanger to the pipe to which the reaction by-product gas is transferred.

여기서, 상기 열교환기는, 상기 진공펌프로부터 발산되는 열을 흡수할 수 있도록 열교환기 몸체가 상기 진공펌프 표면에 밀착되고, 상기 유로는 열교환기 몸체 내부에서 구불구불하게 굽이져 형성된 것을 특징으로 할 수 있다.Here, the heat exchanger may be characterized in that the heat exchanger body is in close contact with the surface of the vacuum pump so as to absorb the heat emitted from the vacuum pump, the flow path is formed to be bent inside the heat exchanger body. .

또한, 상기 열교환기 유로의 형성을 위해, 상기 열교환기 몸체 내에는 다수의 격판이 이격되게 전후방향으로 배치되되 교번하여 좌우로 치우치도록 배치된 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, in order to form the heat exchanger flow path, a plurality of diaphragms may be disposed in the front and rear directions to be spaced apart from each other and alternately arranged left and right.

또한, 상기 열교환기의 몸체는 내부에 열전달을 위한 유체가 채워지는 수용부를 구비하고, 상기 수용부에는 구부구불 굽이진 형태로 만곡된 관로가 그 내부에 상기 유로를 형성하는 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the body of the heat exchanger may be provided with a receiving portion filled with a fluid for heat transfer therein, the receiving portion may be characterized in that the conduit curved in a bent form to form the flow path therein. .

또한, 상기 분사유닛은, 반응부산물 가스가 이송되는 배관과의 연결을 위해 각각 플랜지를 구비한 한 쌍의 플랜지 배관과; 상기 한 쌍의 플랜지 배관 사이에서 상기 플랜지 배관의 벽체를 따라 링 형태로 결합되고 상기 열교환기로부터 가열된 질소가스를 공급받아 상기 플랜지 배관의 내부로 공급하는 분사노즐을 포함하여 이루어지며, 상기 분사노즐은, 원주방향을 따라 공급된 질소가스가 이동 가능하도록 내부에 중공이 형성되고, 상기 내부 중공과 연통되어 공급받은 질소가스가 상기 플랜지 배관 내부에 분사되도록 하는 다수의 분사공을 구비하되, 상기 분사공은 상기 플랜지 배관의 내주면으로부터 돌출된 위치에서 반응부산물 가스의 흐름방향으로 분사되도록 형성된 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the injection unit, a pair of flange pipes each having a flange for connecting to the pipe to which the reaction by-product gas is transported; And a spray nozzle coupled between the pair of flange pipes in the form of a ring along the wall of the flange pipe and receiving nitrogen gas heated from the heat exchanger to supply the inside of the flange pipe. The hollow is formed in the inside so that the nitrogen gas supplied along the circumferential direction is movable, and is provided with a plurality of injection holes to communicate the internal hollow and the supplied nitrogen gas is injected into the flange pipe, the minute The hole may be formed to be injected in the flow direction of the reaction by-product gas at a position protruding from the inner peripheral surface of the flange pipe.

또한, 상기 분사노즐은, 원주방향을 따라 외측에 형성되어 상기 플랜지 배관의 벽체와 결합되는 결합부와; 원주방향을 따라 상기 결합부의 내측에 형성되어 상기 플랜지 배관 내주면으로부터 돌출되도록 하고, 상기 분사공이 상기 반응부산물 가스가 유출되는 방향으로 형성된 돌출부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the injection nozzle is formed on the outside in the circumferential direction and the coupling portion coupled to the wall of the flange pipe; It is formed in the inner side of the coupling portion in the circumferential direction to protrude from the inner circumferential surface of the flange pipe, it may be characterized in that the injection hole comprises a projection formed in the direction in which the reaction by-product gas flows.

또한, 상기 분사노즐은 원주방향을 따라 분할된 제1분할부와 제2분할부의 결합으로 이루어지며, 상기 제1분할부에는 원주방향을 따라 상기 중공의 일부 또는 전부를 형성하는 제1흐름홀이 구비되고, 상기 제2분할부에는 상기 분사공이 상기 제1흐름홀에 대응하여 연통되도록 형성된 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the injection nozzle is made of a combination of the first divided part and the second divided part divided in the circumferential direction, the first flow hole in the first divided part to form a part or all of the hollow in the circumferential direction Is provided, the second division may be characterized in that the injection hole is formed so as to communicate in correspondence with the first flow hole.

또한, 상기 돌출부 중 분사공이 형성되지 않은 반대편의 내주면은 반응부산물 가스에 대한 저항을 줄일 수 있도록 점진적으로 내경이 넓어지도록 하여 상기 플랜지 배관의 내주면과의 두께차를 줄인 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the inner circumferential surface of the opposite side in which the injection hole is not formed in the protruding portion may be characterized by reducing the thickness difference from the inner circumferential surface of the flange pipe by gradually increasing the inner diameter so as to reduce the resistance to the reaction byproduct gas.

또한, 상기 분사유닛은 반응부산물 가스가 이송되는 배관 중 진공펌프의 유출측 배관에 적어도 하나 설치되는 것을 특징으로 할 수 있다. In addition, the injection unit may be characterized in that at least one is installed on the outlet side pipe of the vacuum pump of the pipe to which the reaction by-product gas is transferred.

본 발명에 의한 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치는, 진공펌프에서 발상되어 소모되는 열을 적극 활용함으로써 질소가스를 가열하기 위한 별도의 열원 없이도 고온의 질소가스를 공급하여 반응부산물 가스의 고형화를 방지할 수 있다. Nitrogen gas injector using the vacuum pump heat according to the present invention, by utilizing the heat consumed by the heat generated in the vacuum pump by supplying a high temperature nitrogen gas without a separate heat source for heating the nitrogen gas to solidify the reaction by-product gas It can prevent.

또한, 본 발명은 열교환기가 납작하게 형성되어 진공펌프의 표면에 밀착되기 때문에 효과적으로 진공펌프의 열을 흡수할 수 있다.In addition, the present invention can effectively absorb the heat of the vacuum pump because the heat exchanger is formed flat and in close contact with the surface of the vacuum pump.

또한, 본 발명은 열교환기의 내부로 질소가스를 안내하는 유로가 구불구불하게 굽이져 형성되기 때문에 질소가스를 충분한 시간을 두고 가열할 수 있다. In addition, according to the present invention, since the flow path for guiding nitrogen gas into the heat exchanger is bent and formed, the nitrogen gas can be heated with sufficient time.

또한, 본 발명은 질소가스의 공급이 반응부산물 가스의 흐름방향과 일치한 방향으로 이루어지기 때문에 반응부산물 가스의 흐름을 방해하지 않는다.In addition, the present invention does not interfere with the flow of the reaction by-product gas because the supply of nitrogen gas is made in the same direction as the flow direction of the reaction by-product gas.

또한, 본 발명은 분사노즐의 분사공이 막힐 염려가 없다.In addition, in the present invention, there is no fear that the injection hole of the injection nozzle is blocked.

또한, 본 발명은 분사노즐 몸체에 대하여 반응부산물 가스의 급격한 접촉을 방지하는 곡면부에 의해 분사노즐의 돌출부로 인해 반응부산물 가스의 흐름이 방해받지 않게 된다.In addition, the present invention does not interfere with the flow of the reaction by-product gas due to the protrusion of the injection nozzle by the curved portion to prevent the rapid contact of the reaction by-product gas with respect to the injection nozzle body.

또한, 본 발명은 분사노즐이 원주방향을 따라 이분할 된 후 결합되도록 구성되어 제작이 용이하며, 플랜지 배관에 링 형태의 분사노즐을 간단히 설치하는 구성에 의해 플랜지 배관에 이중벽을 구축하거나 하는 난해하고 복잡한 공정 없이 저렴하고 간단하여 제작 및 설치할 수 있다.In addition, the present invention is easy to manufacture because the injection nozzle is configured to be divided after dividing along the circumferential direction, it is difficult to build a double wall in the flange pipe by the configuration of simply installing the ring-shaped injection nozzle in the flange pipe It is inexpensive and simple to manufacture and install without complicated processes.

또한, 본 발명에 따른 분사유닛은 시중에 나와 있는 플랜지 배관을 그대로 활용할 수 있기 때문에 이를 제작하기 위한 별도의 시설이나 비용이 필요치 않다. In addition, the injection unit according to the present invention does not require a separate facility or cost to manufacture it because it is possible to utilize commercially available flanged pipe.

도 1은 종래기술에 의한 질소가스 분사장치를 설명하기 위한 참조구성도.
도 2는 본 발명에 의한 질소가스 분사장치의 설치상태도.
도 3은 본 발명에 따른 열교환기의 사시도.
도 4는 본 발명에 따른 열교환기의 구성을 설명하기 위한 단면도.
도 5는 본 발명에 따른 분사유닛의 설치상태도.
도 6은 본 발명에 따른 분사유닛의 구성을 설명하기 위한 분해사시도.
도 7은 본 발명에 따른 분사유닛의 분사노즐을 설명하기 위한 참조사시도.
도 8은 도 7의 I-I에 따른 단면도.
도 9는 변형된 실시예에 따른 본 발명의 구성을 설명하기 위한 열교환기의 단면도.1 is a reference configuration for explaining a nitrogen gas injector according to the prior art.
Figure 2 is an installation state of the nitrogen gas injector according to the present invention.
3 is a perspective view of a heat exchanger according to the present invention;
4 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat exchanger according to the present invention.
5 is an installation state of the injection unit according to the present invention.
Figure 6 is an exploded perspective view for explaining the configuration of the injection unit according to the present invention.
Figure 7 is a reference perspective view for explaining the injection nozzle of the injection unit according to the present invention.
8 is a sectional view according to II of FIG. 7;
9 is a cross-sectional view of a heat exchanger for explaining the configuration of the present invention according to the modified embodiment.

이하, 상기와 같은 본 발명의 기술적 사상에 따른 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 진공펌프에서 외부로 발산되어 소모되는 열을 적극 활용함으로서 질소가스를 가열하기 위한 별도의 열원 없이도 고온의 질소가스를 진공펌프의 유출측 배관에 공급할 수 있도록 구성된다. 이렇게 공급되는 고온의 질소가스는 진공펌프의 유출측 배관에서 반응부산물 가스가 갑작스런 압력변화에도 불구하고 고형화되지 않도록 방지하는 역할을 하게 된다. The present invention is configured to supply high temperature nitrogen gas to the outlet side pipe of the vacuum pump without a separate heat source for heating the nitrogen gas by actively utilizing the heat dissipated to the outside from the vacuum pump. The high temperature nitrogen gas thus supplied serves to prevent the reaction by-product gas from solidifying in spite of a sudden pressure change in the outlet pipe of the vacuum pump.

아래에서는 본 발명에 의한 진공펌프를 이용한 질소가스 분사장치의 구성에 대해 설명한다. Hereinafter, the configuration of the nitrogen gas injector using the vacuum pump according to the present invention will be described.

도 2는 본 발명에 의한 질소가스 분사장치의 설치상태도이다.2 is an installation state diagram of the nitrogen gas injector according to the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명은 고온의 열을 외부로 발산하는 진공펌프 표면에 밀착된 상태로 설치되어 상온의 질소가스를 고온의 질소가스로 가열하는 열교환기(10)를 구비하며, 이에 더해 열교환기(10)에서 가열된 고온의 질소가스를 진공펌프의 유출측 배관(15b)으로 공급해주는 분사유닛(20)을 포함하여 구성된다. As shown, the present invention has a heat exchanger 10 is installed in close contact with the surface of the vacuum pump for dissipating high temperature heat to the outside to heat the nitrogen gas at room temperature with the high temperature nitrogen gas, in addition to the heat exchange It comprises a injection unit 20 for supplying the hot nitrogen gas heated in the machine 10 to the outlet side pipe (15b) of the vacuum pump.

이처럼 본 발명은 종래기술과 달리 히터와 같은 별도의 열원 없이도 낭비되는 진공펌프의 열을 이용하여 질소가스를 가열할 수 있도록 한 것이다. 아래에서는 상기 구성요소들을 중심으로 본 발명의 구성을 더욱 상세히 설명하도록 한다.As described above, the present invention allows the nitrogen gas to be heated using the heat of the vacuum pump that is wasted without a separate heat source such as a heater. Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in more detail with respect to the above components.

도 3은 본 발명에 따른 열교환기의 사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 열교환기의 구성을 설명하기 위한 단면도이다. 3 is a perspective view of a heat exchanger according to the present invention, Figure 4 is a cross-sectional view for explaining the configuration of the heat exchanger according to the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 열교환기(10)는 중공의 몸체(111)와 상기 몸체(111) 내부에서 유로(112)를 형성시켜주는 다수의 격판(113)으로 이루어지며, 전술된 것처럼 진공펌프와 질소가스 사이에서 열교환에 의해 질소가스를 가열하는 역할을 한다. As shown, the heat exchanger 10 according to the present invention is composed of a hollow body 111 and a plurality of diaphragm 113 to form a flow path 112 in the body 111, as described above It serves to heat nitrogen gas by heat exchange between the vacuum pump and nitrogen gas.

상기 열교환기(10)의 몸체(111)는 진공펌프 표면에 넓은 면적으로 적촉되어 밀착되도록 납작한 형태로 형성되는데, 도면에서는 납작한 사각통 형태로 형성된 것을 볼 수 있다. 이처럼 넓은 접촉면적을 갖도록 형성된 열교환기(10) 몸체(111)는 진공펌프 상면에 설치되는 것이 바람직하다. 이는 진공펌프에서 내부에서 발생된 열이 주로 그 상면을 통해 외부로 발산되는 관계로 열교환기(10)가 진공펌프 상면에 설치되는 것이 보다 효과적인 열교환을 가능케 하기 때문이다.The body 111 of the heat exchanger 10 is formed in a flat shape to be in close contact with the large area of the vacuum pump surface, it can be seen in the figure formed in a flat rectangular tube shape. The heat exchanger 10 body 111 formed to have such a large contact area is preferably installed on the upper surface of the vacuum pump. This is because heat exchanger 10 is installed on the upper surface of the vacuum pump to enable more effective heat exchange since heat generated inside the vacuum pump is mainly dissipated to the outside through the upper surface.

여기서, 상기 열교환기(10) 몸체(111) 및 격판(113)의 재질은 알루미늄, 구리, 스테인리스 스틸 등과 같이 열교환 효과가 뛰어난 재질로 이루어지는 것이 바람직하며, 질소가스의 유입과 유출을 위해 유입구(111a)와 유출구(111b)가 각각 구비되어 질소가스 공급라인(15c)과 연결된다. Here, the material of the heat exchanger 10 body 111 and the diaphragm 113 is preferably made of a material having excellent heat exchange effect, such as aluminum, copper, stainless steel, inlet 111a for inflow and outflow of nitrogen gas. And outlet 111b are respectively connected to the nitrogen gas supply line 15c.

상기 열교환기(10) 몸체(111) 내부에서 질소가스를 경유시키는 유로(112)는 구불구불하게 굽이져 형성되며, 이를 위해 다수의 격판(113)이 이격되게 전후방향으로 배치되되 교번하여 좌우로 치우친 형태로 배치된다. 이로써 도 4에서 화살표로 표시된 질소가스의 흐름이 지그재그 형태로 안내된다. 이같은 구성에 따르면 상기 열교환기(10) 몸체(111)에 유입된 질소가스가 몸체(111) 내부에 머물면서 열교환할 수 있는 시간이 길어지게 된다. 단, 상기 유로(112)의 길이는 질소가스의 온도를 얼마나 높일지에 따라 조절하면 된다. 예컨대, 질소가스의 온도를 상대적으로 높게 하려면 상기 유로(112)의 길이를 보다 길게 하면 되고, 질소가스의 온도를 상대적으로 낮게 하려면 상기 유로(112)의 길이를 보다 짧게 하면 되는 것이다. The flow path 112 for passing the nitrogen gas through the body 111 inside the heat exchanger 10 is formed to be bent in a winding manner, and for this purpose, a plurality of diaphragms 113 are spaced apart from each other in the front and rear directions, alternately from side to side. It is arranged in a biased form. As a result, the flow of nitrogen gas indicated by an arrow in FIG. 4 is guided in a zigzag form. According to such a configuration, the nitrogen gas introduced into the heat exchanger 10 body 111 stays inside the body 111, so that the time for heat exchange can be long. However, the length of the flow path 112 may be adjusted depending on how much the temperature of the nitrogen gas is increased. For example, if the temperature of the nitrogen gas is relatively high, the length of the flow path 112 may be longer. If the temperature of the nitrogen gas is relatively low, the length of the flow path 112 may be shorter.

도 5는 본 발명에 따른 분사유닛의 설치상태도이고, 도 6은 본 발명에 따른 분사유닛의 구성을 설명하기 위한 분해사시도이다. 그리고 도 7은 본 발명에 따른 분사유닛의 분사노즐을 설명하기 위한 참조사시도이고, 도 8은 도 7의 I-I에 따른 단면도이다. 5 is an installation state of the injection unit according to the present invention, Figure 6 is an exploded perspective view for explaining the configuration of the injection unit according to the present invention. And Figure 7 is a reference perspective view for explaining the injection nozzle of the injection unit according to the invention, Figure 8 is a cross-sectional view according to I-I of FIG.

도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 분사유닛(20)은 진공펌프의 유출측 배관(15b)에 설치된다(상황에 따라서는 프로세스 챔버의 유출측, 진공펌프의 유입측, 스크루버의 유입측과 유출측 중 배관 중 어느 부위에라도 선택적으로 설치될 수도 있음은 물론이다. 다만, 실시예에서는 압력의 급격한 변화로 인해 질소가스가 고형화되기 쉬운 진공펌프의 유출측 배관(15b)에 설치된 것을 예시하여 설명하기로 한다.). 상기 분사유닛(20)은 진공펌프의 유출측 배관에(15b) 간단히 설치할 수 있을 뿐만 아니라 질소가스의 분사방향을 반응부산물 가스의 흐름방향과 일치하게 하여 반응부산물 가스의 흐름을 방해하지 않으며, 제작 및 설치가 용이하도록 구성된다.As shown, the injection unit 20 according to the present invention is installed in the outlet side pipe 15b of the vacuum pump (depending on the outlet side of the process chamber, the inlet side of the vacuum pump, the inlet side of the scrubber, depending on the situation) It is a matter of course that the outlet side may be selectively installed at any part of the pipe in the outlet side, but in the embodiment, it will be described by installing the outlet side pipe 15b of the vacuum pump which is likely to solidify nitrogen gas due to a sudden change in pressure. To be used). The injection unit 20 can be simply installed on the outlet side pipe 15b of the vacuum pump, and the injection direction of nitrogen gas is made to match the flow direction of the reaction byproduct gas so as not to disturb the flow of the reaction byproduct gas. And to facilitate installation.

이같은 질소가스 분사유닛(20)은 링 형태를 갖는 분사노즐(120)과, 플랜지 배관(130)을 포함한다. The nitrogen gas injection unit 20 includes an injection nozzle 120 having a ring shape, and a flange pipe 130.

상기 분사노즐(120)은 상기 한 쌍의 플랜지 배관(130) 사이에서 상기 플랜지 배관(130)의 벽체를 따라 링 형태로 결합되어 상기 플랜지 배관(130)의 내부로 질소를 공급할 수 있도록 설치된다. 이를 위해 상기 분사노즐(120) 내부는 질소가스를 공급받아 순환시키는 중공(121,123)으로 형성되고 상기 중공(121,123)과 연통되어 질소가스를 분사하기 위한 다수의 분사공(124)이 형성된다. 특히 상기 분사공(124)은 상기 플랜지 배관(130)의 내주면으로부터 돌출된 위치에서 상기 반응부산물 가스의 흐름방향과 일치하게 분사되도록 형성된다. 이를 위한 상기 분사노즐(120)의 구성을 보다 구체적으로 설명하면 아래와 같다.The injection nozzle 120 is coupled to form a ring along the wall of the flange pipe 130 between the pair of flange pipe 130 is installed to supply nitrogen into the inside of the flange pipe (130). To this end, the injection nozzle 120 is formed of hollows 121 and 123 for receiving and circulating nitrogen gas and communicating with the hollows 121 and 123 to form a plurality of injection holes 124 for injecting nitrogen gas. In particular, the injection hole 124 is formed to be sprayed to match the flow direction of the reaction by-product gas at a position protruding from the inner peripheral surface of the flange pipe 130. Hereinafter, the configuration of the injection nozzle 120 will be described in more detail.

상기 분사노즐(120)은 크게 보면 결합부(126a,126b)와 돌출부(127a,127b)로 이루어지며, 상기 결합부(126a,126b)는 원주방향을 따라 외측에 형성되어 상기 플랜지 배관(130)의 벽체와 결합되고, 상기 돌출부(127a,127b)는 원주방향을 따라 상기 결합부(126a,126b)의 내측에 형성되어 상기 플랜지 배관(130) 내주면으로부터 돌출된다. 상기 돌출부(127a,127b)에는 다수의 분사공(124)이 반응부산물 가스가 유출되는 방향으로 형성된다. 이처럼 상기 분사공(124)이 반응부산물 가스가 유출되는 방향으로 형성되면 상기 플랜지 배관(130) 내부를 흐르는 반응부산물 가스와의 간섭이 사라지게 되어 분사되는 질소가스가 상기 반응부산물 가스의 흐름을 방해하지 않는 한편, 상기 반응부산물 가스에 의해 상기 질소가스의 분사가 방해를 받거나 상기 분사공(124)이 막혀버릴 염려가 거의 사라진다. The injection nozzle 120 is composed of a coupling portion (126a, 126b) and protrusions (127a, 127b) in large view, the coupling portion (126a, 126b) is formed on the outside in the circumferential direction the flange pipe 130 The protrusions 127a and 127b are formed inside the coupling parts 126a and 126b along the circumferential direction and protrude from the inner circumferential surface of the flange pipe 130. A plurality of injection holes 124 are formed in the protrusions 127a and 127b in a direction in which the reaction byproduct gas flows out. As such, when the injection hole 124 is formed in a direction in which the reaction byproduct gas flows out, the interference with the reaction byproduct gas flowing in the flange pipe 130 disappears, so that the injected nitrogen gas does not disturb the flow of the reaction byproduct gas. On the other hand, the concern that the injection of the nitrogen gas is disturbed by the reaction by-product gas or the injection hole 124 is almost blocked.

한편, 상기 분사노즐(120)은 제작의 편리함을 위해 원주방향을 따라 이분할된 제1분할부(120a) 제2분할부(120b)의 결합으로 이루어진다. 상기 제1분할부(120a)는 반응부산물 가스의 유입방향에 위치하고 제2분할부(120b)는 반응부산물 가스의 유출방향에 위치한다. 여기서, 상기 제1분할부(120a)에는 원주방향을 따라 상기 중공(121,123)의 일부(또는 전부)를 형성하는 제1흐름홀(121)이 구비되고 상기 제2분할부(120b)에는 상기 제1흐름홀(121)과 함께 중공(121,123)을 형성하는 제2흐름홀(123)이 구비된다. 또한, 상기 제2분할부(120b)에는 상기 분사공(124)이 상기 제1흐름홀(121)에 대응하여 연통되도록 형성된다. 단, 여기서 상기 제2분할부(121)에 상기 제2흐름홀(123)이 형성되지 않아도 중공(121,123)을 형성하는데 아무런 문제가 없다.On the other hand, the injection nozzle 120 is made of a combination of the first divided part (120a) and the second divided part (120b) divided into two along the circumferential direction for the convenience of manufacturing. The first splitter 120a is located in the inflow direction of the reaction byproduct gas, and the second splitter 120b is located in the outflow direction of the reaction byproduct gas. Here, the first dividing portion 120a is provided with a first flow hole 121 that forms a part (or all) of the hollows 121 and 123 along the circumferential direction, and the second dividing portion 120b includes the first dividing portion 120a. A second flow hole 123 forming the hollows 121 and 123 together with the first flow hole 121 is provided. In addition, the second division part 120b is formed such that the injection hole 124 communicates with the first flow hole 121. However, there is no problem in forming the hollows 121 and 123 even if the second flow hole 123 is not formed in the second division part 121.

또한, 상기 제2분할부(123) 중 돌출부(127a)의 내주면에는 도 8에서 제시된 단면과 같이 반응부산물 가스에 대한 저항을 줄일 수 있도록 내경이 반응부산물의 유입측으로 갈수록 점차 넓어지도록 구성된다. 이는 상기 플랜지 배관(130) 내를 흐르던 반응부산물 가스가 상기 분사노즐(120)의 돌출부(127a,127b))에 의해 흐름이 방해되는 문제를 없애는 한편, 이젝터의 효과를 줄 수 있도록 하기 위함이다.In addition, the inner circumferential surface of the protrusion 127a of the second division part 123 is configured such that the inner diameter gradually widens toward the inflow side of the reaction byproduct as shown in FIG. 8 so as to reduce the resistance to the reaction byproduct gas. This is to eliminate the problem that the reaction by-product gas flowing in the flange pipe 130 is disturbed by the protrusions (127a, 127b) of the injection nozzle 120, and to give the effect of the ejector.

상기 플랜지 배관(130)은 각 배관들과의 연결을 용이하게 해주는 역할을 하는 것으로, 원관과 상기 원관의 양단에 각각 배관과의 연결을 위한 플랜지(131a,131b)가 구비된다. 이같은 플랜지 배관(130)은 시중에 나와 있는 규격 제품을 그대로 활용하여 사용할 수 있으며, 다만, 상기 분사노즐(120)을 중간에 설치하기 위해 제1플랜지 배관(130a)과 제2플랜지 배관(130b)으로 분할시켜준다. The flange pipe 130 serves to facilitate the connection with the respective pipes, and the flange and the flange (131a, 131b) for connecting the pipes at both ends of the pipe and the pipe, respectively. Such a flange pipe 130 may be used by utilizing the standard product as it is, but the first flange pipe 130a and the second flange pipe 130b to install the injection nozzle 120 in the middle Split into

이와 같이 구성된 본 발명에 의한 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치의 동작을 첨부한 도면에 의거 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, the operation of the nitrogen gas injector using the vacuum pump heat according to the present invention configured as described in detail as follows.

먼저, 프로세스 챔버로부터 발생된 반응부산물 가스가 각 배관(15a,15b)를 따라 진공펌프의 흡입력에 의해 흐르면서 진공펌프를 경유한 후 스크루버를 거쳐 메인덕트(미도시됨)에 도달하고, 이후 흐름을 지속적으로 유지한다.First, the reaction by-product gas generated from the process chamber flows through each of the pipes 15a and 15b by the suction force of the vacuum pump, passes through the vacuum pump, and then reaches the main duct (not shown) through a screwdriver, and then flows. Keep it going.

이때 질소가스 공급라인을 통해 공급되는 상온의 질소가스는 본 발명에 의한 질소가스 분사장치 중 진공펌프 표면에 설치된 열교환기(10)를 거쳐 고온으로 가열된 후 진공펌프의 유출측 배관(15b)에 설치된 질소가스 분사유닛(20)에 의해 진공펌프의 유출측 배관(15b) 내부에 공급된다. At this time, the nitrogen gas at room temperature supplied through the nitrogen gas supply line is heated to a high temperature through the heat exchanger 10 installed on the surface of the vacuum pump in the nitrogen gas injector according to the present invention, and then to the outlet pipe 15b of the vacuum pump. The installed nitrogen gas injection unit 20 supplies the inside of the outlet side pipe 15b of the vacuum pump.

이처럼 본 발명에 의하면 별도의 히터 없이도 외부에서 공급되는 상온의 질소가스가 진공펌프 열에 의해 고온으로 가열되며, 가열된 질소가스가 진공펌프의 유출측 배관(15b)에 공급되면서 그 내부를 흐르는 반응부산물 가스가 온도 저하 및 급격한 압력 변화 등으로 인해 고형화되지 않고 이로 인해 중간에 누적되는 일 없이 원활한 흐름을 유지할 수 있는 것이다. 아래에서는 상기 질소가스가 열교환기(10)를 거쳐 진공펌프의 유출측 배관(15b)에 공급되는 과정을 보다 상세히 설명하기로 한디. As described above, according to the present invention, the nitrogen gas at room temperature supplied from the outside is heated to a high temperature by the vacuum pump heat without a separate heater, and the reaction by-product flowing inside the heated nitrogen gas is supplied to the outlet side pipe 15b of the vacuum pump. The gas does not solidify due to temperature drop and rapid pressure changes, thereby maintaining a smooth flow without accumulating in the middle. Hereinafter, the process of supplying the nitrogen gas to the outlet side pipe 15b of the vacuum pump through the heat exchanger 10 will be described in more detail.

먼저, 미도시된 질소가스 공급지로부터 연결된 질소가스 공급라인(15c)을 통해 상온의 질소가스가 열교환기(10)로 이송된 후 유입구(111a)를 통해 열교환기(10) 몸체(111) 내부로 유입된다. 유입된 질소가스는 열교환기(10) 몸체(111) 내부에서 구불구불 굽이져 형성된 유로(112)를 따라 안내되어 지그재그 형태로 흐르게 된다. 이때 상기 열교환기(10) 몸체(111) 내부를 흐르는 질소가스는 진공펌프로부터 상기 열교환기(10) 몸체(111)로 전달된 고온의 열에 의해 가열된다. 이에 따라 상기 유로(112)를 흐르는 질소가스가 점진적으로 가열되어 상기 몸체(111)의 유출구(111b)를 통해 유출될 때에는 이미 고온의 상태로 변화되어 있다. First, the nitrogen gas at room temperature is transferred to the heat exchanger 10 through a nitrogen gas supply line 15c connected from a nitrogen gas supply not shown, and then into the heat exchanger 10 body 111 through the inlet 111a. Inflow. The introduced nitrogen gas is guided along the flow path 112 formed by winding in the body 111 of the heat exchanger 10 to flow in a zigzag form. At this time, the nitrogen gas flowing in the heat exchanger 10 body 111 is heated by high temperature heat transferred from the vacuum pump to the heat exchanger 10 body 111. Accordingly, when the nitrogen gas flowing through the flow path 112 is gradually heated and flows out through the outlet 111b of the body 111, the nitrogen gas is already changed to a high temperature state.

이후 상기 열교환기(10)를 통해 고온으로 가열된 질소가스는 상기 몸체(111)의 유출구(111b)를 통해 유출된 후 유출측의 질소가스 공급라인(15c)을 따라 분사유닛(20)의 질소공급관(112,122a,122b)을 통해 분사노즐(120)의 내부 중공(121,123)으로 공급되며, 상기 내부 중공(121,123)을 따라 순환하면서 질소 분사공(124)을 통해 거의 균일한 양으로 플랜지 배관(130) 내부에 분사된다. 이때 상기 분사공(124)을 통해 분사되는 질소가스는 반응부산물 가스가 유츨되는 방향으로 분사되어 반응부산물 가스의 흐름을 방해하지 않으면서 함께 섞이게 된다. Thereafter, the nitrogen gas heated to a high temperature through the heat exchanger 10 is discharged through the outlet 111b of the body 111 and then nitrogen of the injection unit 20 along the nitrogen gas supply line 15c on the outlet side. It is supplied to the internal hollows 121 and 123 of the injection nozzle 120 through the supply pipes 112, 122a and 122b, and is circulated along the internal hollows 121 and 123 while being flanged in an almost uniform amount through the nitrogen injection holes 124. 130) is sprayed inside. At this time, the nitrogen gas injected through the injection hole 124 is injected in a direction in which the reaction byproduct gas flows and mixed together without disturbing the flow of the reaction byproduct gas.

또한, 상기 반응부산물 가스는 질소가스와 혼합되기 전, 상기 분사노즐(120)에 처음 접할 때 반응부산물 가스의 유입방향에서 점진적으로 확대되는 형태를 갖는 곡면부(125)를 따라 흐르면서 급격한 충돌 혹은 접촉으로 인한 저항 없이 원활한 흐름을 유지할 수 있다.In addition, the reaction by-product gas flows along the curved portion 125 having a form that gradually expands in the inflow direction of the reaction by-product gas when first contacted with the injection nozzle 120, before being mixed with nitrogen gas, or sudden contact or contact. It can maintain a smooth flow without resistance.

이처럼 본 발명은 별도의 히터를 구비하지 않고서도 진공펌프의 열을 적극적으로 활용하여 상온의 질소가스를 고온으로 가열하여 진공펌프의 유출측 배관에 공급함으로써 배관 내를 흐르는 반응부산물 가스가 고형화되는 것을 방지하게 된다.
As such, the present invention utilizes the heat of the vacuum pump actively without providing a separate heater to heat the nitrogen gas at room temperature to a high temperature and supply it to the outlet pipe of the vacuum pump to solidify the reaction by-product gas flowing in the pipe. Will be prevented.

도 9는 변형된 실시예에 따른 본 발명의 구성을 설명하기 위한 열교환기의 단면도이다.9 is a cross-sectional view of a heat exchanger for describing the configuration of the present invention according to the modified embodiment.

도시된 바와 같이, 변형된 실시예에 따른 본 발명에서는 열교환기(10-2)의 몸체(111-2) 내부에 형성되는 유로를 굽이지게 형성하기 위해 변형 전 다수의 격판(113) 대신 구불구불 굽이져 형성된 만곡된 형태의 관로(112-2)가 사용된다. As shown, in the present invention according to the modified embodiment to bend instead of a plurality of diaphragms 113 before deformation in order to bend the flow path formed inside the body 111-2 of the heat exchanger (10-2). A curved conduit 112-2 formed is used.

이 경우 상기 열교환기(10-2)의 몸체(111-2) 내부는 열전달을 위한 유체(115)가 채워지는 수용부로 형성된다. 여기서 상기 열전달용 유체(115)는 다양한 것으로 구비될 수 있지만 단가 측면에서 물을 사용하는 것이 바람직하다. In this case, the inside of the body 111-2 of the heat exchanger 10-2 is formed as a receiving portion in which the fluid 115 for heat transfer is filled. Here, the heat transfer fluid 115 may be provided with a variety of things, but it is preferable to use water in the unit cost side.

이같이 변형된 구성에 따르면 수용부를 갖는 몸체(111) 외측으로부터 진공펌프의 열이 흡수되면 열전달용 유체(115)는 그 열을 만곡된 관로(112-2)까지 전달하는 역할을 한다. 그러면 만곡된 관로(112-2) 내부 유로를 따라 흐르는 질소가스가 전달된 열을 흡수하여 점진적으로 고온의 상태로 변화되는 것이다. According to this modified configuration, when the heat of the vacuum pump is absorbed from the outside of the body 111 having the accommodating portion, the heat transfer fluid 115 serves to transfer the heat to the curved pipe line 112-2. Then, the nitrogen gas flowing along the inner channel of the curved pipe line 112-2 absorbs the transferred heat and gradually changes to a high temperature state.

이 외에 변형된 열교환기(10-2)의 유입구(111a-2)나 유출구(111b-2)는 변형전과 동일하게 구성된다.
In addition, the inlet 111a-2 and the outlet 111b-2 of the deformed heat exchanger 10-2 are configured in the same manner as before the deformation.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 다양한 변화와 변경 및 균등물을 사용할 수 있다. 본 발명은 상기 실시예를 적절히 변형하여 동일하게 응용할 수 있음이 명확하다. 따라서 상기 기재 내용은 하기 특허청구범위의 한계에 의해 정해지는 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니다. Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention may use various changes, modifications, and equivalents. It is clear that the present invention can be applied in the same manner by appropriately modifying the above embodiments. Accordingly, the above description does not limit the scope of the invention as defined by the limitations of the following claims.

10,10-2 : 열교환기 111,111-2 : 열교환기 몸체
111a,111a-2 : 열교환기 유입구 111b,111b-2 : 열교환기 유출구
112 : 유로 112-2 : 내부 관로
113 : 격판 20 : 분사유닛
120 : 분사노즐 130 : 플랜지 배관10,10-2: heat exchanger 111,111-2: heat exchanger body
111a, 111a-2: heat exchanger inlet 111b, 111b-2: heat exchanger outlet
112: Euro 112-2: internal pipeline
113: plate 20: injection unit
120: injection nozzle 130: flanged pipe

Claims (9)

외부에서 공급되는 질소가스를 내부 유로를 통해 경유시키고, 진공펌프에서 발산되는 열을 흡입하고, 상기 흡입된 열에 의해 외부에서 공급되는 질소가스를 내부로 경유시키면서 가열하는 열교환기와;
상기 열교환기에서 가열된 질소가스를 반응부산물 가스가 이송되는 배관으로 공급하는 분사유닛을 포함하여 이루어지며,
상기 유로가 상기 열교환기 몸체 내부에서 구불구불하게 굽이져 형성되도록 상기 열교환기 몸체 내에는 다수의 격판이 이격되게 전후방향으로 배치되되 교번하여 좌우로 치우치도록 배치된 것을 특징으로 하는 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치.A heat exchanger configured to pass nitrogen gas supplied from the outside through an internal flow path, suck heat emitted from a vacuum pump, and heat the nitrogen gas supplied from the outside through the sucked heat;
It comprises a injection unit for supplying the nitrogen gas heated in the heat exchanger to the pipe to which the reaction by-product gas is transferred,
A plurality of diaphragms are arranged in the front-rear direction to be spaced apart from each other in the heat exchanger body so that the flow path is formed to be bent in the heat exchanger body. Used nitrogen gas injector. 제1항에 있어서,
상기 열교환기는, 상기 진공펌프로부터 발산되는 열을 흡수할 수 있도록 열교환기 몸체가 상기 진공펌프에 설치되는 것을 특징으로 하는 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치.The method of claim 1,
The heat exchanger, nitrogen gas injection device using a vacuum pump heat, characterized in that the heat exchanger body is installed in the vacuum pump so as to absorb the heat emitted from the vacuum pump. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 분사유닛은,
반응부산물 가스가 이송되는 배관과의 연결을 위해 각각 플랜지를 구비한 한 쌍의 플랜지 배관과;
상기 한 쌍의 플랜지 배관 사이에서 상기 플랜지 배관의 벽체를 따라 링 형태로 결합되고 상기 열교환기로부터 가열된 질소가스를 공급받아 상기 플랜지 배관의 내부로 공급하는 분사노즐을 포함하여 이루어지며,
상기 분사노즐은, 원주방향을 따라 공급된 질소가스가 이동 가능하도록 내부에 중공이 형성되고, 상기 내부 중공과 연통되어 공급받은 질소가스가 상기 플랜지 배관 내부에 분사되도록 하는 다수의 분사공을 구비하되, 상기 분사공은 상기 플랜지 배관의 내주면으로부터 돌출된 위치에서 반응부산물 가스의 흐름방향으로 분사되도록 형성된 것을 특징으로 하는 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치.According to claim 1, wherein the injection unit,
A pair of flange pipes each having a flange for connection with a pipe through which the reaction byproduct gas is transferred;
It comprises a injection nozzle coupled to the ring form along the wall of the flange pipe between the pair of flange pipe and receives the heated nitrogen gas from the heat exchanger to supply the inside of the flange pipe,
The injection nozzle is provided with a plurality of injection holes to form a hollow in the interior so that the nitrogen gas supplied along the circumferential direction is movable, the nitrogen gas received in communication with the internal hollow is injected into the flange pipe. The nitrogen gas injector using the vacuum pump heat, characterized in that the injection hole is formed to be injected in the flow direction of the reaction by-product gas at a position protruding from the inner peripheral surface of the flange pipe. 제5항에 있어서, 상기 분사노즐은,
원주방향을 따라 외측에 형성되어 상기 플랜지 배관의 벽체와 결합되는 결합부와;
원주방향을 따라 상기 결합부의 내측에 형성되어 상기 플랜지 배관 내주면으로부터 돌출되도록 하고, 상기 분사공이 상기 반응부산물 가스가 유출되는 방향으로 형성된 돌출부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치.The method of claim 5, wherein the injection nozzle,
A coupling part formed at an outer side in a circumferential direction and coupled to a wall of the flange pipe;
Nitrogen gas injection using a vacuum pump heat, characterized in that formed in the coupling portion in the circumferential direction so as to protrude from the inner peripheral surface of the flange pipe, the injection hole comprises a projection formed in the direction in which the reaction by-product gas flows Device. 제6항에 있어서,
상기 분사노즐은 원주방향을 따라 분할된 제1분할부와 제2분할부의 결합으로 이루어지며,
상기 제1분할부에는 원주방향을 따라 상기 중공의 일부 또는 전부를 형성하는 제1흐름홀이 구비되고, 상기 제2분할부에는 상기 분사공이 상기 제1흐름홀에 대응하여 연통되도록 형성된 것을 특징으로 하는 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치.The method of claim 6,
The injection nozzle is made of a combination of the first divided part and the second divided part divided along the circumferential direction,
The first dividing portion is provided with a first flow hole forming a part or all of the hollow in the circumferential direction, the second dividing portion is characterized in that the injection hole is formed so as to communicate with the first flow hole Nitrogen gas injection device using a vacuum pump heat. 제6항에 있어서,
상기 돌출부 중 분사공이 형성되지 않은 반대편의 내주면은 반응부산물 가스에 대한 저항을 줄일 수 있도록 점진적으로 내경이 넓어지도록 하여 상기 플랜지 배관의 내주면과의 두께차를 줄인 것을 특징으로 하는 진공펌프 열을 이용한 질소가스 분사장치.The method of claim 6,
The inner circumferential surface of the opposite side where the injection hole is not formed in the protruding portion is gradually increased in inner diameter so as to reduce the resistance to the reaction by-product gas, thereby reducing the thickness difference from the inner circumferential surface of the flange pipe. Gas injector. 제1항에 있어서,
상기 분사유닛은 반응부산물 가스가 이송되는 배관 중 진공펌프의 유출측 배관에 적어도 하나 설치되는 것을 특징으로 하는 진공펌프 열을 이용한 가스 분사장치.The method of claim 1,
The injection unit is a gas injection device using a vacuum pump heat, characterized in that at least one is installed on the outlet side pipe of the vacuum pump of the reaction pipe by-product gas is transported.
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