KR101078059B1 - Flexible substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플렉서블 기판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 프라이머층을 EB에 의해 경화시킴으로써 용제를 사용하지 않아 환경오염이 적고, 경화시간이 길지 않아 제조시간을 단축시킬 수 있으며, 나노 다이아몬드 파우더를 폴리에틸렌나프탈레이트 수지에 혼입시킴으로써 치수안정성이 뛰어나고 수분 투과율이 낮은 플렉서블 기판에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 플렉서블 기판은 폴리에틸렌나프탈레이트 수지에 나노 다이아몬드 파우더 0.2~10wt%를 혼입한 이축연신 기재필름과, 상기 이축연신 기재필름 상에 코팅되되, EB(E-Beam) 조사에 의해 경화가 이뤄지는 카타이온 중합계 접착제로 코팅된 접착제층과 상기 접착체층 상에 증착된 무기 배리어층을 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a flexible substrate, and more particularly, by curing the primer layer by EB, there is no environmental pollution because the solvent is not used, the curing time is not long, and the manufacturing time can be shortened. By incorporating into a phthalate resin, the present invention relates to a flexible substrate having excellent dimensional stability and low moisture permeability. To this end, the flexible substrate according to the present invention is coated on the biaxially stretched base film and 0.2 to 10wt% of nanodiamond powder in polyethylene naphthalate resin and the biaxially stretched base film, and cured by EB (E-Beam) irradiation. It is characterized in that it comprises an adhesive layer coated with a cationic polymerization-based adhesive is made and the inorganic barrier layer deposited on the adhesive layer.

Description

플렉서블 기판{FLEXIBLE SUBSTRATE}Flexible Substrate {FLEXIBLE SUBSTRATE}

본 발명은 플렉서블 기판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 프라이머층을 EB에 의해 경화시킴으로써 용제를 사용하지 않아 환경오염이 적고, 경화시간이 길지 않아 제조시간을 단축시킬 수 있으며, 나노 다이아몬드 파우더를 폴리에틸렌나프탈레이트 수지에 혼입시킴으로써 치수안정성이 뛰어나고 수분 투과율이 낮은 플렉서블 기판에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible substrate, and more particularly, by curing the primer layer by EB, there is no environmental pollution because the solvent is not used, the curing time is not long, and the manufacturing time can be shortened. By incorporating into a phthalate resin, the present invention relates to a flexible substrate having excellent dimensional stability and low moisture permeability.

일반적으로, 플렉서블 디스플레이는 기존의 CRT 디스플레이에 비해 경량 박형화, 대형화가 가능하여 현재 상업화가 가속화되고 있다. 더욱이, 상기 플렉서블 디스플레이는 고유의 물성이 유연하여 롤-투-롤(Roll-to-Roll) 공정이 가능하기 때문에 비용 절감의 측면에서도 매우 유리하여, 향후에 다양한 용도로 광범위하게 활용될 것으로 전망되고 있는 소재이다. In general, flexible displays are lighter, thinner, and larger in size than conventional CRT displays, and thus commercialization is being accelerated. In addition, the flexible display is very advantageous in terms of cost reduction because it has a roll-to-roll process because of its inherent physical properties, and thus it is expected to be widely used for various purposes in the future. It is a material.

그러나, 기재는 유저(user)에서 사용되어 트랜지스터 형성 과정에서 고온에 견뎌야 하고, 소자 형성 전후의 치수안정성이 필요하나 고분자 유기 기재의 경우 사용 온도 구간이 있고, 특히 고분자 특성 상 고온에 장시간 노출 시 치수 변화가 심하다. However, the substrate must be used by the user to withstand high temperatures in the process of forming transistors and requires dimensional stability before and after device formation, but polymer organic substrates have a temperature range of use, especially when exposed to high temperatures for extended periods of time due to polymer properties. The change is severe.

이에 비교적 치수안정성이 뛰어나고 롤-투-롤 제조가 가능한 폴리에틸렌나프탈레이트를 기재필름으로 사용한다. 이 때, 나노 다이아몬드 파우더를 폴리에틸렌나프탈레이트 수지에 혼입시킴으로써 투명성이 손상되지 않으면서 선열팽창계수를 더욱 개선시켜, 치수안정성 개선과 함께 배리어층을 증착시켜 수분 투과율을 낮춘다. 또한 기재필름과 배리어층과의 접착력을 높이기 위해 프라이머층을 입히는데, 기존의 방법은 통상의 용제타입의 열경화 혹은 UV경화 접착제를 이용하였다(출원번호 JP2005-041193, JP2004-058548). Accordingly, polyethylene naphthalate, which is relatively excellent in dimensional stability and capable of producing roll-to-roll, is used as a base film. At this time, by incorporating the nanodiamond powder into the polyethylene naphthalate resin, the coefficient of thermal expansion is further improved without impairing the transparency, and the barrier layer is deposited with the improvement of the dimensional stability to lower the moisture transmittance. In addition, a primer layer is coated to increase the adhesion between the base film and the barrier layer, and a conventional method uses a conventional solvent type thermosetting or UV curing adhesive (application number JP2005-041193, JP2004-058548).

그러나, 본 발명에서는 프라이머층(카타이온 중합계 접착제)을 도포한 후, 이를 배리어 증착 직후 EB로 프라이머층을 경화시킨다. 기존 열경화, UV경화(출원번호 JP2005-041193, JP2004-058548)에 비해 EB의 에너지 코스트가 저렴하고(열경화 : UV경화 : EB경화 = 40~200 : 3~30 : 1)(광경화성재료,제조방법과 응용전개,TRC R&D Library,p.34) 용제를 사용하지 않아 환경오염이 적은 장점이 있다.However, in the present invention, after applying the primer layer (cationic polymerization-based adhesive), the primer layer is cured with EB immediately after barrier deposition. Energy cost of EB is lower than that of existing thermosetting and UV curing (application number JP2005-041193, JP2004-058548) (thermosetting: UV curing: EB curing = 40 ~ 200: 3 ~ 30: 1) , Manufacturing method and application development, TRC R & D Library, p.34

일본 특허출원번호 제2005-041193호Japanese Patent Application No. 2005-041193 일본 특허출원번호 제2004-058548호Japanese Patent Application No. 2004-058548

광경화성재료 제조방법과 응용전개, TRC R&D Library, p34 Manufacturing Method and Application of Photocurable Material, TRC R & D Library, p34

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 용제를 사용하지 않아 환경오염이 적고, 경화시간이 길지 않아 제조시간을 단축시킬 수 있으며, 치수안정성이 뛰어나고 수분 투과율이 낮은 플렉서블 기판을 제공하고자 하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is to reduce the environmental pollution, the curing time is not long because the solvent is not used, it is possible to shorten the manufacturing time, excellent dimensional stability and moisture permeability It is to provide a low flexible substrate.

본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다.These and other objects and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of a preferred embodiment thereof.

상기 목적은, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지에 나노 다이아몬드 파우더 0.2~10wt%를 혼입한 이축연신 기재필름과, 상기 이축연신 기재필름 상에 코팅되되, EB(E-Beam) 조사에 의해 경화가 이뤄지는 카타이온 중합계 접착제로 코팅된 접착제층과, 상기 접착체층 상에 증착된 무기 배리어층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판에 의해 달성된다.The object is a biaxially stretched base film in which 0.2-10 wt% of nanodiamond powder is mixed with polyethylene naphthalate resin, and a cationic polymerization which is coated on the biaxially stretched base film and cured by EB (E-Beam) irradiation. It is achieved by a flexible substrate comprising an adhesive layer coated with a system adhesive and an inorganic barrier layer deposited on the adhesive layer.

여기서, 상기 접착제층의 EB(E-Beam) 조사에 의한 경화는 상기 무기 배리어층의 증착 직후에 이루어지는 것을 특징으로 한다.Here, the curing by EB (E-Beam) irradiation of the adhesive layer is characterized in that it is made immediately after the deposition of the inorganic barrier layer.

바람직하게는, 상기 나노 다이아몬드 파우더의 크기는 1~100㎚인 것을 특징으로 한다.Preferably, the size of the nano diamond powder is characterized in that 1 ~ 100nm.

바람직하게는, 상기 무기 배리어층은 Al, Si, Mg, Ti, Sn, In, Cr 또는 Ni의 투명 무기 산화막, 투명 무기산화·질화막, 투명 무기질화막 또는 투명 금속막 중 하나의 단일물질 또는 적어도 하나 이상의 혼합물질인 것을 특징으로 한다.Preferably, the inorganic barrier layer is a single material or at least one of Al, Si, Mg, Ti, Sn, In, Cr or Ni transparent inorganic oxide film, transparent inorganic oxide and nitride film, transparent inorganic nitride film or transparent metal film It is characterized by the mixture of the above.

바람직하게는, 상기 플렉서블 기판은 선열팽창계수가 10ppm/℃이하이고, 수분투과율이 0.1g/㎡·day이하인 것을 특징으로 한다.Preferably, the flexible substrate has a coefficient of linear thermal expansion of 10 ppm / ° C. or less and a water transmittance of 0.1 g / m 2 · day or less.

바람직하게는, 상기 이축연신 기재필름은 나노 다이아몬드 파우더의 분산을 위해 분산 향상제 등의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the biaxially stretched base film is characterized in that it further comprises an additive such as a dispersion enhancer for the dispersion of the nanodiamond powder.

바람직하게는, 상기 플렉서블 기판은 이페이퍼(E-paper)용 플렉서블 기판, OLED용 플렉서블 기판 또는 태양전지용 플렉서블 기판으로 사용되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the flexible substrate is used as a flexible substrate for an E-paper, a flexible substrate for an OLED, or a flexible substrate for a solar cell.

본 발명에 따르면, 프라이머층을 EB에 의해 경화시킴으로써 용제를 사용하지 않아 환경오염이 적고, 경화시간이 길지 않아 제조시간을 단축시킬 수 있으며, 나노 다이아몬드 파우더를 폴리에틸렌나프탈레이트 수지에 혼입시킴으로써 치수안정성이 뛰어나고 수분 투과율이 낮은 등의 효과를 가진다.According to the present invention, by curing the primer layer by EB, there is no environmental pollution because the solvent is not used, the curing time is not long, the production time can be shortened, and the dimensional stability is achieved by incorporating the nanodiamond powder into the polyethylene naphthalate resin. It has excellent effects and low moisture permeability.

이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings of the present invention. These examples are only presented by way of example only to more specifically describe the present invention, it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. .

본 발명에 따른 플렉서블 기판은 폴리에틸렌나프탈레이트 수지에 나노 다이아몬드 파우더 0.2~10wt%를 혼입한 이축연신 기재필름과, 상기 이축연신 기재필름 상에 코팅되되, EB(E-Beam) 조사에 의해 경화가 이뤄지는 카타이온 중합계 접착제로 코팅된 접착제층과, 상기 접착체층 상에 증착된 무기 배리어층의 단일 유니트 또는 다층 유니트 반복층으로 이루어진 것을 특징으로 한다.The flexible substrate according to the present invention is coated on the biaxially stretched base film and 0.2 to 10wt% of nanodiamond powder in polyethylene naphthalate resin, and coated on the biaxially stretched base film, the curing is made by EB (E-Beam) irradiation And an adhesive layer coated with a cationic polymerization adhesive, and a single unit or a multilayer unit repeating layer of an inorganic barrier layer deposited on the adhesive layer.

또한 상기 접착제층의 EB(E-Beam) 조사에 의한 경화는 상기 무기 배리어층의 증착 직후에 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, curing by the EB (E-Beam) irradiation of the adhesive layer is characterized in that it is made immediately after the deposition of the inorganic barrier layer.

본 발명에 따른 상기 폴리에틸렌나프탈레이트 수지는 2,5-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산 또는 2,7-나프탈렌디카르복실산, 바람직하게는 2,6-나프탈렌디카르복실산, 또는 그의 저급 알킬(탄소원자수 6 이하) 디에스테르와 에틸렌글리콜을 축합하는 에스테르화 또는 에스테르 교환 반응과 중합반응 순으로 이뤄지는 과정에 의해 얻을 수 있고, 이를 연차적 혹은 동시 이축 연신 하여 기재필름을 얻는다. 여기서 수지 형성 시, 경우에 따라서는 IV(고유점도)를 높이기 위해 고상 중합 단계를 거치기도 한다. 또한, 폴리에틸렌나프탈레이트는 비용 절감을 위해, 테레프탈산, 프탈산, 이소프탈산 및, 혹은 각각의 그 유도체, 즉 저급 알킬 디에스테르 유도체를 적어도 1종 이상을 공중합, 혹은 블렌딩이 가능하다. 이 때, 중합 단계에서 나노 다이아몬드 파우더를 나프탈렌 디카르복실산 혹은 그 유도체의 고형분 기준하여 0.2~10wt% 분산 혼입 시켜 중합하도록 한다. 경우에 따라서는 마스터배치 칩을 만들어, 필름의 압출 성형 공정 시 칩을 섞어 쓰는 것도 좋다. 또한, 상기 나노 다이아몬드 파우더의 크기는 1~100㎚인 것이 바람직하다. 나노 다이아몬드 파우더는 다이아몬드가 나노 크기로 투명성을 손상시키지 않으면서, 기재의 치수안정성을 향상시키는 효과를 가진다. 이 때, 그 혼입량을 0.2wt% 미만일 경우, 치수안정성의 효과를 볼 수가 없고, 반대로 10wt%를 초과할 경우에는 혼입량이 많아 강직성이 커지고, 부러지기 쉽기 때문이다. 또한, 나노 다이아몬드 파우더의 크기가 1㎚ 미만인 경우, 나노 다이아몬드 파우더의 제조가 어렵고, 100㎚를 초과할 경우, 투과도를 떨어뜨리고, 기재와의 밀착성이 떨어지기 때문에 상기 범위로 하는 것이 바람직하다. 또한 경우에 따라서는 상기 나노 다이아몬드 파우더 분산 투입 시, 분산을 향상시키기 위해 분산 향상제 등의 첨가제를 넣는 것도 가능하다. 또한, 기재와의 밀착성을 향상시키기 위해, 나노 다이아몬드 파우더를 밀착력 향상제를 코팅하는 전처리를 하기도 한다.The polyethylene naphthalate resin according to the present invention is 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid or 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, preferably 2,6-naphthalenedicar It can be obtained by a process consisting of esterification or transesterification and polymerization reaction of condensing an acid, or a lower alkyl (6 or less carbon atoms) diester and ethylene glycol, and the base film by serial or simultaneous biaxial stretching. Get Here, when the resin is formed, in some cases, a solid phase polymerization step is performed to increase the IV (intrinsic viscosity). In addition, polyethylene naphthalate may copolymerize or blend at least one or more of terephthalic acid, phthalic acid, isophthalic acid, and / or their derivatives, that is, lower alkyl diester derivatives, for cost reduction. At this time, in the polymerization step, the nanodiamond powder is mixed with 0.2 to 10 wt% of dispersion based on the solid content of naphthalene dicarboxylic acid or a derivative thereof to polymerize. In some cases, it is also possible to make a masterbatch chip and mix the chip during the extrusion process of the film. In addition, the size of the nanodiamond powder is preferably 1 ~ 100nm. Nanodiamond powder has the effect of improving the dimensional stability of the substrate, while the diamond does not impair transparency at nano size. In this case, when the amount of the mixture is less than 0.2 wt%, the effect of dimensional stability is not observed. On the contrary, when the amount of the mixture is more than 10 wt%, the amount of the mixture is large, the rigidity is large and easily broken. In addition, when the size of the nanodiamond powder is less than 1 nm, the production of the nano diamond powder is difficult, and when the size of the nano diamond powder exceeds 100 nm, the permeability is lowered and the adhesion with the substrate is preferably in the above range. In some cases, when the nanodiamond powder dispersion is added, it is also possible to add an additive such as a dispersion enhancer to improve dispersion. In addition, in order to improve the adhesion with the substrate, the nanodiamond powder may be pretreated to coat the adhesion improving agent.

본 발명에 따른 EB에 경화되는 카타이온 중합계 접착제의 경우, 카타이온 중합계 모노머 및 올리고머를 주제로 하며, 구체적으로는 에폭시계-글리시딜에테르계, 지환식 에폭시계, 옥세탄계, 비닐 에테르계 중 혼합 혹은 단일 선택된 것일 수 있다. 카타이온 중합계 접착체는 특히 박막경화가 가능하고, 경화 수축이 작은 이점을 가진다. 코팅 방법으로는 무용제 타입, 혹은 용제 타입으로 일반적인 웨트코팅이 가능하다. 이러한 카타이온 중합계 접착제는 배리어층 증착 직후 EB경화로 이루어지는 것이 바람직한데, EB경화 시, E-Beam이 열경화나 UV경화보다 두께방향으로의 조사 깊이가 깊어, 완제품 형성 후의 경화에도 경화속도가 빠르며, 내용제성 사용이 가능하기 때문이다. 또한, UV경화와 달리, 별도의 광중합개시제가 필요 없는 장점을 가진다. 단 애프터 큐어 조작에 따라서 경화를 완전히 하는 경우에는, 열중합 개시제를 병용해도 좋다. EB조사의 전자선 가속 전압은 30㎸~500㎸, 바람직한 것은 50㎸~300㎸이다. 전자선 가속 전압이 30㎸미만의 경우에는, 조성물의 두께가 두꺼운 경우에 전자선의 투과 부족이 생기는 우려가 있고, 500㎸보다도 큰 경우에는, 경제성이 나빠진다.In the case of cationic polymerization-based adhesives cured in EB according to the present invention, cationic polymerization-based monomers and oligomers are themes, and specifically, epoxy-glycidyl ethers, alicyclic epoxys, oxetanes, and vinyl ethers. The system may be mixed or single selected. Cationic polymerization-based adhesives are particularly advantageous in that the thin film can be cured and the curing shrinkage is small. As a coating method, general wet coating is possible in a solventless type or a solvent type. It is preferable that the cationic polymerization-based adhesive is made of EB curing immediately after barrier layer deposition. During EB curing, E-Beam has a deeper depth of irradiation in the thickness direction than heat curing or UV curing, and thus the curing speed is high even after curing. This is because solvent resistance can be used. In addition, unlike UV curing, it has the advantage that no separate photopolymerization initiator is required. However, when hardening is complete according to an after cure operation, you may use a thermal polymerization initiator together. The electron beam acceleration voltage of EB irradiation is 30 kV-500 kV, and 50-300 kV is preferable. In the case where the electron beam acceleration voltage is less than 30 kV, there is a fear that the transmission shortage of the electron beam may occur when the thickness of the composition is thick.

본 발명에 따른 배리어층의 경우, Al, Si, Mg, Ti, Sn, In, Cr, Ni의 투명 무기 산화막, 투명 무기질화막, 투명 무기산화·질화막, 투명 금속막 중 하나의 단일물질 또는 적어도 하나 이상의 혼합물질로 증착함으로써 형성된다. 특히 바람직하게는, 알루미늄, 규소의 산화막, 질화막, 혹은 산·질화막 중 1종 이상으로 선택된 것을 특징으로 한다. 여기에서 알맞은 형성 방법으로는 증착으로 화학기상증착(CVD), 플라즈마 향상 화학기상증착(PECVD), 대기압 화학기상증착(APCVD), 물리 기상증착(PVD), sputtering 증착이 가능하다.In the barrier layer according to the present invention, at least one of one of Al, Si, Mg, Ti, Sn, In, Cr, Ni, a transparent inorganic oxide film, a transparent inorganic nitride film, a transparent inorganic oxide / nitride film, and a transparent metal film It is formed by depositing in a mixture of the above. Particularly preferably, it is selected from one or more of an oxide film of aluminum, silicon, a nitride film, or an acid-nitride film. Suitable formation methods here include deposition by chemical vapor deposition (CVD), plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD), physical vapor deposition (PVD), and sputtering deposition.

상기와 같이 본 발명의 실시형태에 따라 형성된 플렉서블 기판은 실제 -30℃에서 30℃까지의 승온 시 그 선열팽창계수(KS M3060)가 10ppm/℃ 이하인 것을 특징으로 하고, 수분투과율(JIS K 7126B)이 0.1g/㎡·day이하이다.As described above, the flexible substrate formed according to the embodiment of the present invention is characterized in that its linear thermal expansion coefficient (KS M3060) is 10 ppm / ° C. or lower at a temperature of -30 ° C. to 30 ° C., and a moisture transmittance (JIS K 7126B). It is 0.1 g / m <2> * day or less.

이하, 실시예, 비교예 및 중합체 물성분석 실험을 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, the configuration and effects of the present invention will be described in more detail through examples, comparative examples, and polymer property analysis experiments.

[실시예 1]Example 1

디메틸-2,6-나프탈렌 디카르복실레이트와 에틸렌글리콜에 에스테르 교환반응 촉매 고형분 기준 0.05wt%의 망간아세테이트 사수화물, 중합반응 촉매로 고형분 기준 0.05wt%의 GeO2를 투입하고, 평균 입경 50nm 크기의 나노 다이아몬드 파우더를 고형분 기준 2wt% 투입한 후, 에스테르 교환반응을 완료시키고, 이를 중합반응 전 인계열 열안정제를 고형분 기준 0.05wt%정도 투입한 후 중합반응 완료시켜 중합 칩을 얻었다. 다음으로, 이 중합칩을 twin screw extruder를 이용하여 압출하여 생성된 시트를 이축연신시켜 100㎛ 두께의 기재필름을 얻었다.Into dimethyl-2,6-naphthalene dicarboxylate and ethylene glycol, 0.05 wt% manganese acetate tetrahydrate based on the transesterification catalyst solids and 0.05 wt% GeO 2 on the solids basis were added as polymerization catalysts, and the average particle size was 50 nm. After adding 2wt% of the nanodiamond powder based on solids, the transesterification reaction was completed, and about 0.05wt% of the phosphorus-based heat stabilizer was added to the solids based on the solids before the polymerization reaction to obtain a polymerization chip. Next, the sheet produced by extruding the polymerized chip using a twin screw extruder was biaxially stretched to obtain a substrate film having a thickness of 100 μm.

상기 기재필름 위에 EB(E-Beam) 경화형 접착제로서 일반 에폭시계 모노머(UCC UVR-6110)에 옥세탄계 모노머(TOAGOSEI사 제품, OXT-101)를 20wt% 혼합한 것을 바코팅으로 하여 상기 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 기재필름 위에 코팅한 다음 상온 건조한다.Polyethylene naphthalate by bar coating a mixture of oxetane-based monomer (TOGOSEI, OXT-101, 20wt%) with a general epoxy-based monomer (UCC UVR-6110) as an EB (E-Beam) curable adhesive on the base film (PEN) After coating on the base film and dried at room temperature.

다음으로, Si 타겟을 이용한 sputtering법에 의해 100㎚두께로 배리어층을 올린 다음, 바로 가속전압 150㎸의 EB장치로 0.5초 노출시켜 경화시킨다.Next, the barrier layer was raised to a thickness of 100 nm by sputtering using a Si target, and then cured by being exposed to an EB device with an acceleration voltage of 150 kV for 0.5 second.

이렇게 제조된 플렉서블 기판의 선열팽창계수는 9ppm/℃이고, 수분 투과율은 0.073g/㎡·day이었다. 또한 전사유무 확인 시, 아무것도 전사되어 나오지 않았다.The coefficient of linear thermal expansion of the thus prepared flexible substrate was 9 ppm / 占 폚, and the water transmittance was 0.073 g / m 2 · day. Also, when the presence of a warrior, nothing was transferred.

[실시예 2][Example 2]

나노 다이아몬드 파우더를 5wt% 사용한 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 하여 플렉서블 기판을 제조하였다.A flexible substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that 5 wt% of the nanodiamond powder was used.

이렇게 제조된 플렉서블 기판의 선열팽창계수는 7ppm/℃이고, 수분 투과율은 0.072g/㎡·day이었다. 전사유무 확인 시, 아무것도 전사되어 나오지 않았다.The coefficient of linear thermal expansion of the thus prepared flexible substrate was 7 ppm / 占 폚, and the water transmittance was 0.072 g / m 2 · day. When the presence of a warrior, nothing was transferred.

[실시예 3]Example 3

스퍼터링 방식으로 산화 알루미늄을 100㎚정도 두께로 하여 배리어층을 올리는 것으로 제외하고, 실시예1과 동일하게 하여 플렉서블 기판을 제조하였다.A flexible substrate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the barrier layer was raised with a thickness of about 100 nm of aluminum oxide by a sputtering method.

이렇게 해서 만들어진 플렉서블 기판의 선열팽창계수는 8ppm/℃이고, 수분 투과율은 0.080g/㎡·day이었다. 전사유무 확인 시, 아무것도 전사되어 나오지 않았다.The linear thermal expansion coefficient of the thus produced flexible substrate was 8 ppm / 占 폚, and the water transmittance was 0.080 g / m 2 · day. When the presence of a warrior, nothing was transferred.

[실시예 4]Example 4

실시예 1에서 제조된 PEN 기재필름 위, 접착제층과 배리어층의 형성을 유니트를 3번 반복하여 만든 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 하여 플렉서블 기판을 제조하였다.On the PEN substrate film prepared in Example 1, a flexible substrate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the unit was formed three times to form an adhesive layer and a barrier layer.

이렇게 해서 만들어진 플렉서블 기판의 선열팽창계수는 5ppm/℃이고, 수분 투과율은 0.007g/㎡·day이었다. 전사유무 확인 시, 아무것도 전사되어 나오지 않았다.The linear thermal expansion coefficient of the thus produced flexible substrate was 5 ppm / 占 폚, and the water transmittance was 0.007 g / m 2 · day. When the presence of a warrior, nothing was transferred.

[비교예 1]Comparative Example 1

PEN 필름 제조 시, 나노 다이아몬드 파우더를 혼입시키지 않은 것을 제외하고, 실시예 1와 동일하게 하여 플렉서블 기판을 제조하였다.A flexible substrate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that nano diamond powder was not mixed in the preparation of the PEN film.

이렇게 해서 만들어진 플렉서블 기판의 선열팽창계수는 13ppm/℃이고, 수분 투과율은 0.091g/㎡·day이었다. 전사유무 확인 시, 아무것도 전사되어 나오지 않았다.The linear thermal expansion coefficient of the thus produced flexible substrate was 13 ppm / 占 폚, and the water transmittance was 0.091 g / m 2 · day. When the presence of a warrior, nothing was transferred.

[비교예 2]Comparative Example 2

접착제로 이관능성 에폭시 수지(diglycidyl ether of bisphenol A, DGEBA)에 경화제를 전체의 5wt%를 사용하고, 접착코팅 및 배리어 증착 후 접착층 건조 시에, EB경화를 하지 않고, Mathis Lab dryer(열경화)를 이용하여 1500rpm, 175℃에서 5초 건조한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일하게 하여 플렉서블 기판을 제조하였다.Use 5 wt% of the curing agent in difunctional epoxy resin (diglycidyl ether of bisphenol A, DGEBA) as an adhesive, and do not use EB curing when drying the adhesive layer after adhesive coating and barrier deposition. A flexible substrate was prepared in the same manner as in Example 1, except that 5 seconds was dried at 1500 rpm and 175 ° C. for 5 seconds.

이렇게 해서 만들어진 플렉서블 기판은 전사유무 확인 시, 테잎의 전면에 증착된 산화규소층이 붙어 있었다.The flexible substrate thus produced had a silicon oxide layer deposited on the front of the tape when the transfer was confirmed.

[비교예 3]Comparative Example 3

실시예 1의 동일하게 PEN 기재필름만을 만들고, 접착제층과 배리어층은 올리지 않았다. In the same manner as in Example 1, only the PEN base film was made, and the adhesive layer and the barrier layer were not raised.

이렇게 해서 만들어진 플렉서블 기판의 선열팽창계수는 15ppm/℃이고, 수분 투과율은 1.5g/㎡·day이었다. The coefficient of linear thermal expansion of the thus produced flexible substrate was 15 ppm / 占 폚, and the water transmittance was 1.5 g / m 2 · day.

상기 실시예 및 비교예에서 측정된 수치는 다음의 측정방법을 사용하였다.The numerical value measured in the said Example and the comparative example used the following measuring method.

[측정방법][How to measure]

1. 선열팽창계수 측정법은 KS M3060에 따른다. 1. The coefficient of linear expansion coefficient is measured according to KS M3060.

2. 수분 투과율은 MOCON장비를 이용하여, JIS K 7126B로 규정된 방법에 준거한다.2. Moisture permeability is based on the method specified by JIS K 7126B using MOCON equipment.

3. 코팅층 접착 정도를 알기 위해, Nitto 31B 테잎을 붙이고, 3kg 롤로 같은 방향으로 3번 문지른 후, Nitto 31B 테잎을 다시 떼어내면서 테잎 점착면에 배리어층 전사가 되었는지 육안으로 확인한다.3. To determine the degree of adhesion of the coating layer, attach the Nitto 31B tape, rub 3 times in the same direction with a 3 kg roll, and then remove the Nitto 31B tape again and visually check that the barrier layer has been transferred to the tape adhesive side.

구분division 실시예
1
Example
One
실시예
2
Example
2
실시예
3
Example
3
실시예
4
Example
4
비교예
1
Comparative example
One
비교예
2
Comparative example
2
비교예
3
Comparative example
3
나노다이아몬드 혼입 유무Nano diamond mixing OO OO OO OO XX OO OO 나노다이아몬드 함량(wt%)Nano Diamond Content (wt%) 22 55 22 22 -- 22 22 접착코팅방법Adhesive coating method EB경화EB hardening EB경화EB hardening EB경화EB hardening EB경화EB hardening EB경화EB hardening 열경화Thermosetting -- 배리어층
재질
Barrier layer
material
산화
규소
Oxidation
silicon
산화
규소
Oxidation
silicon
산화알루미늄Aluminum oxide 산화
규소
Oxidation
silicon
산화
규소
Oxidation
silicon
산화
규소
Oxidation
silicon
--
선열팽창계수
(ppm/℃)
Coefficient of thermal expansion
(ppm / ℃)
99 77 88 55 1313 -- 1515
수분투과율
(g/㎡·day)
Moisture permeability
(g / ㎡day)
0.0730.073 0.0720.072 0.0800.080 0.0070.007 0.0910.091 -- 1.51.5
전사유무Transcription XX XX XX XX XX OO --

상기 표 1에서 실시예 1과 실시예 2, 비교예 1을 볼 경우, 나노 다이아몬드 파우더 함량이 증가할수록 선열팽창계수가 감소함을 알 수 있고, 실시예 1과 비교예 3을 볼 경우, 배리어층을 입힘으로써, 수분투과율이 현저히 떨어짐을 알 수 있다. 또한, 실시예 1과 비교예 2를 볼 경우, 열경화일 경우, 열 노출시간을 15초(MATHIS(SWITZERLAND)사제 LTE-S, 150℃, 1500rpm)로 두더라도, 전사유무 평가 시 쉽게 전사가 됨을 알 수 있었으나, EB경화의 경우, 단지 0.5초만의 노출만으로 접착제의 경화가 되었음을 알 수 있다.In Example 1, Example 2, and Comparative Example 1 in Table 1, it can be seen that the coefficient of linear thermal expansion decreases as the content of the nanodiamond powder increases, and in the case of Example 1 and Comparative Example 3, the barrier layer It can be seen that the moisture permeability is remarkably decreased by applying. In addition, in Example 1 and Comparative Example 2, in the case of thermal curing, even if the heat exposure time is 15 seconds (LTE-S manufactured by MATHIS (SWITZERLAND), 150 ℃, 1500rpm), it can be seen that the transfer is easily transferred during the evaluation of the presence of transcription In the case of EB hardening, it can be seen that the adhesive was cured only by exposure of 0.5 seconds.

본 발명에 따른 플렉서블 기판은 수분 투과율이 낮은 이페이퍼(E-paper)용 플렉서블 기판, OLED용 플렉서블 기판 또는 태양전지용 플렉서블 기판 등으로 사용될 수 있다.The flexible substrate according to the present invention may be used as a flexible substrate for E-paper, a flexible substrate for OLED, or a flexible substrate for solar cell having a low moisture permeability.

Claims (7)

플렉서블 기판에 있어서,
폴리에틸렌나프탈레이트 수지에 나노 다이아몬드 파우더 0.2~10wt%를 혼입한 이축연신 기재필름과,
상기 이축연신 기재필름 상에 코팅되되, EB(E-Beam) 조사에 의해 경화가 이뤄지는 카타이온 중합계 접착제로 코팅된 접착제층과,
상기 접착체층 상에 증착된 무기 배리어층을 포함하는 것을 특징으로 하는, 플렉서블 기판.
In the flexible substrate,
Biaxially stretched base film which mixed 0.2-10 wt% of nanodiamond powder in polyethylene naphthalate resin,
An adhesive layer coated on the biaxially stretched base film and coated with a cationic polymerization-based adhesive that is cured by EB (E-Beam) irradiation;
A flexible substrate, characterized in that it comprises an inorganic barrier layer deposited on the adhesive layer.
제1항에 있어서,
상기 접착제층의 EB(E-Beam) 조사에 의한 경화는 상기 무기 배리어층의 증착 직후에 이루어지는 것을 특징으로 하는, 플렉서블 기판.
The method of claim 1,
The hardening by EB (E-Beam) irradiation of the said adhesive bond layer is carried out immediately after the deposition of the said inorganic barrier layer, The flexible board | substrate.
제1항에 있어서,
상기 나노 다이아몬드 파우더의 크기는 1~100㎚인 것을 특징으로 하는, 플렉서블 기판.
The method of claim 1,
The nano-diamond powder has a size of 1 to 100 nm, the flexible substrate.
제1항에 있어서,
상기 무기 배리어층은 Al, Si, Mg, Ti, Sn, In, Cr 또는 Ni의 투명 무기 산화막, 투명 무기산화·질화막, 투명 무기질화막 또는 투명 금속막 중 하나의 단일물질 또는 적어도 하나 이상의 혼합물질인 것을 특징으로 하는, 플렉서블 기판.
The method of claim 1,
The inorganic barrier layer is a single material or a mixture of at least one of Al, Si, Mg, Ti, Sn, In, Cr, or Ni transparent inorganic oxide film, transparent inorganic oxide / nitride film, transparent inorganic nitride film, or transparent metal film. A flexible substrate, characterized in that.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 이축연신 기재필름은 나노 다이아몬드 파우더의 분산을 위해 분산 향상제 등의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 플렉서블 기판.
The method of claim 1,
The biaxially stretched base film further comprises an additive such as a dispersion enhancer for the dispersion of the nanodiamond powder, the flexible substrate.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 플렉서블 기판은 이페이퍼(E-paper)용 플렉서블 기판, OLED용 플렉서블 기판 또는 태양전지용 플렉서블 기판으로 사용되는 것을 특징으로 하는, 플렉서블 기판.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The flexible substrate is a flexible substrate, characterized in that used as a flexible substrate for E-paper, a flexible substrate for OLED or a flexible substrate for solar cells.
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