KR101074265B1 - Gas supply integration unit - Google Patents
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Abstract
상온 상압에서는 액화하기 쉬운 프로세스 가스를 가열 보온하면서 공급하기 위한 가스 공급 집적 유닛을 제공하기 위해, 출구 유로에 마련된 제1 수동 밸브(22)와, 제1 수동 밸브(22)와 프로세스 가스 공통 유로(44)와 연통하는 위치에 마련된 에어 오퍼레이터 밸브(26)와, 제1 수동 밸브(22)와 퍼지 가스 공통 유로(43)를 연통하는 위치에 마련된 제2 수동 밸브(25)가 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)에 의해 직렬 일체로 연결되어 있는 가스 유닛을 복수 구비하는 가스 공급 집적 유닛에, 단면이 U 자형이며, 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)이 감합되는 지지 부재(18)와, 지지 부재(18)와 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)과의 사이에 끼여 고정되는 평면 히터(16)를 마련한다.At a normal temperature and normal pressure, the first manual valve 22 provided in the outlet flow path, the first manual valve 22 and the process gas common flow path (providing a gas supply integration unit for supplying a process gas which is easy to liquefy while heating and keeping heat) An air operator valve 26 provided at a position communicating with 44 and a second manual valve 25 provided at a position communicating with the first manual valve 22 and the purge gas common flow passage 43 are flow path blocks 46. And a support member 18 having a U-shaped cross section and fitted with a flow path block 46 and a unit fixing plate 15 to a gas supply integrated unit including a plurality of gas units connected in series by the unit fixing plate 15. ) And a planar heater 16 fixed between the support member 18, the flow path block 46, and the unit fixing plate 15.
Description
본 발명은, 반도체 제조장치 등에서 사용되는 가스 공급 집적 유닛과 관련되며, 더욱 상세하게는, 기화 온도가 높고, 상온에 있어 외부에서 열을 가하지 않으면 액화하기 쉬운 디클로로실란 (dichlorosilane) (또는 디클로르실란 (dichloresilane)), WF6, HBr 등의 프로세스 가스를 액화되는 일 없이, 고정밀도로 공급하는 가스 공급 집적 유닛에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a gas supply integrated unit used in a semiconductor manufacturing apparatus or the like, and more particularly, dichlorosilane (or dichlorsilane) which has a high vaporization temperature and is easy to liquefy if no external heat is applied at room temperature. (dichloresilane), WF6, HBr and the like relates to a gas supply integration unit for supplying with high accuracy without liquefying.
종래보다, 반도체 집적 회로 중의 절연막으로서, 기상성막(氣相成膜)된 산화 규소 박막 등이 많이 이용되고 있다. 이러한 산화 규소 등의 기상성막은, 성막조(成膜槽) 중에 재치(載置)된 웨이퍼 위에, 화학 증착 성막법으로 행하는 것이 보통이다.As a conventional insulating film in a semiconductor integrated circuit, a silicon oxide thin film formed by a vapor phase film is used. Such vapor-phase film formation, such as silicon oxide, is usually carried out by a chemical vapor deposition method on a wafer placed in a film formation tank.
디클로로실란 (또는 디클로르실란) 등의 액화하기 쉬운 프로세스 가스를 공급하는 경우, 프로세스 가스의 공급 루트에 있는 고압 봄베(bombe), 배관, 매스 플로우 컨트롤러(mass flow controller), 반응 챔버 등을 가열하는 것이 필요하다. 그 이유는, 공급 루트의 도중에 디클로로실란 (또는 디클로르실란)이 액화하면, 유량계가 정확하게 작동하지 않고, 제조되는 반도체 집적 회로 등의 성능을 나쁘게 하기 때문이다. 또한, 액화한 디클로로실란 (또는 디클로르실란) 등이 질량 유량 계부(付) 전자 밸브의 세관을 결집시켜서 유량계 측을 부정확하게 하는 문제가 있다.When supplying a process gas which is easy to liquefy, such as dichlorosilane (or dichlorsilane), it is necessary to heat a high pressure bombe, a pipe, a mass flow controller, a reaction chamber, etc. in the supply gas supply route. It is necessary. The reason is that when the dichlorosilane (or dichlorsilane) liquefies in the middle of the supply route, the flowmeter does not operate correctly and degrades the performance of the semiconductor integrated circuit to be manufactured or the like. Further, liquefied dichlorosilane (or dichlorsilane) or the like has a problem in that the flowmeter side is inaccurate by aggregating the capillary of the mass flow meter solenoid valve.
디클로로실란 (또는 디클로르실란) 등의 프로세스 가스의 액화를 방지하기 위해, 특허문헌 1의 가스 공급 장치에서는, 예를 들면 도 9에 나타내듯이, 배관, 계수(繼手), 가스 밸브(62, 64) 및 질량 유량계부 전자 밸브(61)에 의해 구성되는 가스 유닛의 양측에, 전열 블록(51)과 부전열 블록(52)으로 형성되는 지지구(53, 54)에 테이프 형상의 히터(60)가 지지되어, 배설되는 것에 의해, 디클로로실란 (또는 디클로르실란) 등이 기화 온도 이상으로 되도록 가열 보온된다.In order to prevent the liquefaction of process gas, such as dichlorosilane (or dichlorosilane), in the gas supply apparatus of patent document 1, as shown, for example in FIG. 9, piping, a coefficient, a
또한, 도 10에 나타내듯이, 전열 블록(51)의 상면은, 질량 유량계부 전자 밸브(61)에 하방에서 접촉하는 접촉면(65)이 되는 것이고, 질량 유량계부 전자 밸브(61)를 가열 보온하고 있다.In addition, as shown in FIG. 10, the upper surface of the heat-
특허 문헌 1: 특개평 7-286720호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-286720
그러나, 특허 문헌 1의 가스 공급 장치에는, 이하의 문제점이 있다.However, the gas supply apparatus of patent document 1 has the following problems.
(1) 가스 공급 장치는 생산비 절감을 위해, 소형화와 집적화가 바람직하지만, 도 9에 도시된 가스 공급 장치는, 가스 유닛의 양측에, 전열 블록(51)과 부전열 블록(52)으로 형성된 지지구(53, 54)에 테이프 형상의 히터(60)를 지지하도록 배설되어 있기 때문에, 가스 유닛 폭이, 히터를 필요로 하지 않는 가스 유닛과 비교하여 크게 된다.(1) The gas supply device is preferably miniaturized and integrated in order to reduce production costs. However, the gas supply device shown in FIG. 9 is formed by the
(2) 가스 공급 장치는, 가스 유닛의 양측에 히터(6), 전열 블록(51) 및 부전열 블록(52) 등, 가열 보온을 위한 부품을 많이 필요로 하여, 생산비가 높게 된다.(2) The gas supply apparatus requires many components for heating and keeping, such as the heater 6, the
그러면 본 발명은, 관계되는 문제를 해결해야 하고, 상온 상압에서는 약화하기 쉬운 프로세스 가스를 가열 보온하면서 공급하기 위한 가스 공급 집적 유닛을 제공하는 것을 목적으로 한다.Then, an object of the present invention is to provide a gas supply integration unit for supplying a process gas that is easy to be weakened at normal temperature and pressure while being heated and maintained.
본 발명의 가스 공급 집적 유닛은, 상기 문제를 해결하기 위해 이하와 같은 구성을 가진다.In order to solve the said problem, the gas supply integrated unit of this invention has the following structures.
(1)출구 유로에 마련된 제1 수동 밸브와, 그 제1 수동 밸브와 프로세스 가스 공통 유로를 연통(連通)하는 위치에 마련된 에어 오퍼레이터 밸브와, 그 제1 수동 밸브와 퍼지 가스 공통 유로를 연통(連通)하는 위치에 마련된 제2 수동 밸브가 유로 블록 및 유닛 고정판에 의해 직렬 일체로 연결되어 있는 가스 유닛을 복수 구비하는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 단면이 U자형이고, 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판이 감합되는 지지 부재와, 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 사이에 끼여 고정되는 평면 히터를 가지는 것을 특징으로 한다.(1) The first manual valve provided in the outlet flow path, the air operator valve provided in the position which communicates the said 1st manual valve, and the process gas common flow path, and the 1st manual valve and the purge gas common flow path communicate ( A gas supply integrated unit comprising a plurality of gas units in which a second manual valve provided at a position to be in communication is integrally connected by a flow path block and a unit fixing plate, wherein a cross section is U-shaped, and the flow path block and the unit fixing plate are U-shaped. And a support heater to be fitted, and a planar heater to be clamped between the support member, the flow path block, and the unit fixing plate.
(2) (1)에 기재되는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 상기 가스 유닛이 상기 지지 부재에 감합되며, 체결되는 레일과, 상기 지지 부재와 상기 레일의 사이에 협지(狹持)되는 판 형상의 스페이서 부재를 가지는 것을 특징으로 한다.(2) The gas supply integrated unit described in (1), wherein the gas unit is fitted to the support member, and is formed in a plate shape between the rail to be fastened and the support member and the rail. And a spacer member.
(3) (1)에 기재되는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 상기 가스 유닛의 저면에 접하여 배설되는 1매 또는 2매 이상의 평면 히터와, 상기 평면 히터를 지지하는 지지 부재와, 상기 평면 히터를 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 끼우고, 지지 부재를 고정하는 지지 부재 고정판을 가지는 것을 특징으로 한다.(3) The gas supply integrated unit described in (1), wherein one or two or more planar heaters disposed in contact with the bottom surface of the gas unit, a support member for supporting the planar heater, and the planar heater are And a supporting member fixing plate for sandwiching the supporting member with the flow path block and the unit fixing plate to fix the supporting member.
본 발명의 가스 공급 집적 유닛은, 다음에 의하는 작용효과를 작용한다.The gas supply integrated unit of the present invention functions the following effects.
본 발명의 가스 공급 집적 유닛은, 출구 유로에 마련된 제1 수동 밸브와, 그 제1 수동 밸브와 프로세스 가스 공통 유로를 연통(連通)하는 위치에 마련된 에어 오퍼레이터 밸브와, 그 제1 수동 밸브와 퍼지 가스 공통 유로를 연통(連通)하는 위치에 마련된 제2 수동 밸브가 유로 블록 및 유닛 고정판에 의해 직렬 일체로 연결되어 있는 가스 유닛을 복수 구비하는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 단면이 U자형이고, 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판이 감합되는 지지 부재와, 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 사이에 끼여 고정되는 평면 히터를 가지기 때문에, 가스 유닛의 외형부법(外形付法)을 평면 히터를 필요로 하지 않는 가스 유닛과 완전히 동일하게 할 수 있다. 따라서, 가스 유닛을 집적한 가스 공급 집적 유닛 전체에도 외형부법이 변화하지 않는다. 더욱, 가스 유닛의 유로 블록 및 유닛 고정판을 이면에서 가열 보온하기 때문에, 가열 보온하기 위한 부품으로서, 1 가스 유닛에 대하여, 1매의 평면 히터와 1개의 지지 부재를 필요로 하는 것만으로, 부품 점수(部品点數)가 적어, 생산비 절감할 수 있다.The gas supply integrated unit of the present invention includes a first manual valve provided in an outlet flow passage, an air operator valve provided at a position in communication with the first manual valve and a process gas common flow passage, and the first manual valve and purge. A gas supply integrated unit comprising a plurality of gas units in which a second manual valve provided at a position communicating a gas common flow path is integrally connected by a flow path block and a unit fixing plate, the cross section being U-shaped, Since it has a support member to which a flow path block and the said unit fixing plate fit, and a flat heater clamped between the said support member, the said flow path block, and the said unit fixing plate, the external shape method of a gas unit is a plane heater. It can be made exactly the same as the gas unit does not require. Therefore, the external appearance method does not change even in the whole gas supply integration unit which integrated the gas unit. Furthermore, since the flow path of the gas unit and the unit fixing plate are heated and kept on the back surface, as a part for heating and keeping, only one flat heater and one support member are required for one gas unit. Fewer production lines can reduce production costs.
또한, 본 발명의 가스 공급 집적 유닛은, 상기 가스 유닛이 상기 지지 부재에 감합되어, 체결되는 레일과, 상기 지지 부재와 상기 레일의 사이에 협지되는 판 형상의 스페이서 부재를 가지기 때문에, 스페이서 부재를 뽑아내는 것에 의해, 가스 공급 집적 유닛을 사용할 수 있는 상태를 유지한 채로, 평면 히터를 해체하고, 다른 평면 히터를 설치하는 것이 가능하다. 이와 같이 평면 히터의 교환이 용이하여, 보수하기 쉽다.Further, the gas supply integration unit of the present invention has a spacer member because the gas unit is fitted with the support member and has a rail to be fastened and a plate-shaped spacer member sandwiched between the support member and the rail. By pulling out, it is possible to disassemble a flat heater and provide another flat heater, maintaining the state which can use a gas supply integration unit. In this way, the exchange of the flat heater is easy and easy to repair.
또한, 본 발명의 가스 공급 직접 유닛은, 상기 가스 유닛의 저면에 접하여 배설되는 1매 또는 2매 이상의 평면 히터와, 상기 평면 히터를 지지하는 지지 부재와, 상기 평면 히터를 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 사이에 끼우고, 지지 부재를 고정하는 지지 부재 고정판을 가지기 때문에, 가스 유닛마다에 평면 히터와 지지 부재를 각 1개 필요로 하지 않고, 가스 공급 집적 유닛 전체에서 평면 히터와 지지 부재가 각각, 1매 또는 2매 이상이라면 흔히, 가스 공급 집적 유닛을 가열 보온하기 위한 부품 점수가 적고, 생산비 절감할 수 있다. 또한, 평면 히터의 매수가 감소한 것으로 배선이 용이하게 되며, 평면 히터의 교환도 쉽다.In addition, the gas supply direct unit of the present invention includes one or two or more flat heaters disposed in contact with the bottom surface of the gas unit, a support member for supporting the flat heater, and the flat heater with the support member and the flow path. Since it has a support member fixing plate which sandwiches between a block and the said unit fixing plate, and fixes a support member, it does not need each plane heater and one support member for every gas unit, and is planar heater throughout the gas supply integrated unit. If the and support members are one or two or more, respectively, the number of parts for heating and maintaining the gas supply integrated unit is often low, and the production cost can be reduced. In addition, since the number of flat heaters is reduced, wiring becomes easy and replacement of the flat heater is easy.
도 1은 본 발명의 제1 실시예인 가스 공급 집적 유닛의 구성을 도시하는 평면도이다.1 is a plan view showing a configuration of a gas supply integration unit that is a first embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 제1 실시예인 가스 공급 집적 유닛의 정면도이다.2 is a front view of a gas supply integration unit, which is the first embodiment of the present invention.
도 3은 도 1의 구성을 도시하는 회로도이다.3 is a circuit diagram showing the configuration of FIG.
도 4는 본 발명의 제1 실시예의 가스 유닛의 조립 순서를 도시하는 사시도이다.4 is a perspective view showing an assembling procedure of a gas unit of a first embodiment of the present invention.
도 5는 도 1의 A-A 부의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of the A-A portion of FIG.
도 6은 도 5에 있어서, 히터(16)의 탈착을 도시하는 도면이다.FIG. 6 is a diagram illustrating the detachment of the
도 7은 본 발명의 제2 실시예인 가스 공급 집적 유닛의 구성을 도시하는 평면도이다.7 is a plan view showing a configuration of a gas supply integration unit that is a second embodiment of the present invention.
도 8은 도 7의 B-B 부의 단면도이다.8 is a cross-sectional view of the B-B portion of FIG.
도 9는 종래의 가스 공급 장치의 사시도이다.9 is a perspective view of a conventional gas supply device.
도 10은 도 9의 전열 블록을 설명하는 도면이다.10 is a view for explaining the heat transfer block of FIG. 9.
10 레일 12 레일10
15 유닛 고정판 16 평면 히터15
17 평면 히터 18 지지 부재17
19 스페이서 부재 22 제1 수동 밸브19 spacer member 22 first manual valve
25 제2 수동 밸브 26 에어 오퍼레이터 밸브25 Second hand valve 26 Air operator valve
43 퍼지 가스 공통 유로 44 프로세스 가스 공통 유로43 Common purge
46 유로 블록 47 지지 부재 고정판46 Euro
48 지지 부재48 support member
이하, 본 발명에 관한 가스 공급 집적 유닛의 실시예에 관하여, 첨부 도면에 근거하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the Example of the gas supply integrated unit which concerns on this invention is described based on an accompanying drawing.
(제1 실시예)(First embodiment)
도 1은 5 라인에 프로세스 가스의 공급을 행하는 가스 공급 집적 유닛의 구 성을 도시하는 평면도이며, 도 2는 도 1의 정면도이다. 도3은 도 1의 회로도를 도시한다.FIG. 1 is a plan view showing the configuration of a gas supply integration unit that supplies process gas to five lines, and FIG. 2 is a front view of FIG. FIG. 3 shows the circuit diagram of FIG. 1.
2개의 레일(10, 12)은, 양단을 레일 고정봉(13, 14)에 의해 평행하게 고정된다. 레일 고정봉(13, 14)에 평행하게, 좌에서 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)이 각각 유닛 고정판(15)에 의해, 레일(10, 12)에 따르고 횡(橫) 방향으로 평행이동 가능하게 장착된다. 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)에 각각 장착된 기구의 회로 구성은 도 3에 도시한다.The two
퍼지 가스 수동 밸브(29)는 퍼지 가스 공급로(28)를 이용하여 도시하지 않은 퍼지 가스 탱크와 접촉한다. 퍼지 가스 수동 밸브(29)는, 에어 오퍼레이터 밸브(32), 역지(逆止) 밸브(33), 퍼지 가스 공통 유로(43)를 이용하여, 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)의 일방의 포트에 접촉한다. 퍼지 가스 수동 밸브(29)는, 에어 오퍼레이터 밸브(32)를 연통하는 유로에, 압력계(31)가 연통된다. 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)의 다른 포트는, 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)의 일방의 포트에 접촉된다.The purge
프로세스 가스 수동 밸브(35)는, 프로세스 가스 공급로(34)를 이용하여 도시하지 않은 프로세스 가스 탱크와 접촉된다. 프로세스 가스 수동 밸브(35)는, 에어 오퍼레이터 밸브(37), 프로세스 가스 공급 유로(44)를 이용하여, 에어 오퍼레이터 밸브(26A, 26B, 26C, 26D, 26E)의 일방의 포트에 접촉된다. 프로세스 가스 수동 밸브(35)와, 에어 오퍼레이터 밸브(37)를 연통하는 유로에, 압력계(36)가 연통된 다.The process gas
에어 오퍼레이터 밸브(26A, 26B, 26C, 26D, 26E)의 다른 포트는, 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)의 일방의 포트에 접촉된다. 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)의 다른 포트는, 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)를 이용하여, 프로세스 가스 출구(21A, 21B, 21C, 21D, 21E)와 연통된다. 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)와, 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)와 연통(連通)시키는 유로에, 압력계(23A, 23B, 23C, 23D, 23E)가 연통된다.The other ports of the
프로세스 가스 공통 유로(44)의 단부는, 프로세스 가스 공통 유로 단부 수동 밸브(41)에 의하여 봉지(封止)된다. 또한, 퍼지 가스 공통 유로(43)의 단부는, 퍼지 가스 공통 유로 단부 수동 밸브(38)에 의해 봉지된다.The end of the process gas
도 4는 가스 공급 집적 유닛의 1 라인의 조립하는 순서를 도시하는 사시도이다. 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A B, C, D, E)의 어느 것의 가스 유닛에도 완전히 동양(同樣)이다. 가스 유닛은, 각 기구가 유로 블록(46)(도 2 참조)을 이용하여, 유닛 고정판(15)에 의해, 직렬 일체로 연결된다. 유닛 고정판(15)과, 유닛 고정판(15)의 하부에 배설된 평면 히터(16)는, 지지 부재(18)의 U자형 단면에 감합된다. 유닛 고정판(15)은 지지 부재(18)와 레일(10), 레일(12)과의 사이에, 판 형상의 스페이서 부재(19)를 협지하여, 레일(10), 레일(12)에 체결 수단(20)에 의해 고정된다.4 is a perspective view illustrating a procedure of assembling one line of the gas supply integration unit. The gas unit of any of the purge gas unit, the process gas unit, and the gas units A B, C, D, and E is completely orientated. In the gas unit, each mechanism is connected in series by the
이와 같이 마련된 본 발명의 제1 실시예에 관한 가스 공급 집적 유닛의 작동 및 그 작동 효과에 관하여 설명한다. 우선, 가스 공급 집적 유닛의 전체의 작동에 관하여 설명한다. 반도체의 제조 공정에 프로세스 가스를 공급할 때에는, 프로세스 가스 수동 밸브(35) 및 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)를 열고, 에어 오퍼레이터 밸브(37) 및 에어 오퍼레이터 밸브(26A, 26B, 26C, 26D, 26E)를 신호에 의해 연다. 퍼지 가스 회로의 퍼지 가스 수동 밸브(29) 및 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)를 닫고, 에어 오퍼레이터 밸브(32)를 신호에 의해 닫는다. 이것에 의해, 프로세스 가스는 도시하지 않은 프로세스 가스 탱크에서, 프로세스 가스 공급로(34), 프로세스 가스 수동 밸브(35), 에어 오퍼레이터 밸브(37), 프로세스 가스 공통 유로(44), 에어 오퍼레이터 밸브(26A, 26B, 26C, 26D, 26E)를 경유하고, 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)에 흘러, 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)에서, 프로세스 가스 출구(21A, 21B, 21C, 21D, 21E)를 경유하여 공급선에 흐른다.The operation of the gas supply integration unit and the operation effect thereof according to the first embodiment of the present invention thus prepared will be described. First, the operation of the entire gas supply integration unit will be described. When supplying the process gas to the semiconductor manufacturing process, the process gas
다음에는, 가스 유닛의 보수가 필요한 경우는, 프로세스 가스의 공급을 정지한 후, 실시된다. 이 경우, 회로가 대기에 포로(暴露)되기 때문에, 대기 중의 수분을 제거하기 위하여, 질소 가스인 퍼지 가스를 회로에 도입한다. 즉, 프로세스 가스 수동 밸브(35)를 열고, 에어 오퍼레이터 밸브(37)를 신호에 의해 열면, 프로세스 가스의 흐름을 차단한다. 그리고, 퍼지 가스 수동 밸브(29), 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)를 열고, 에어 오퍼레이터 밸브(32)를 신호에 의해 연다. 도시하지 않은 퍼지 가스 탱크에서 질소 가스인 퍼지 가스가 가스 유닛(A, B, C, D, E)의 각 라인에 도입된다. 즉, 퍼지 가스는 어지 가스 수동 밸브(29), 에어 오퍼레이터 밸브(32), 역지(逆止) 밸브(33), 퍼지 가스 공통 유로(43), 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)를 경유하여, 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)로 흐르고, 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)에서, 프로세스 가스 출구(21A, 21B, 21C, 21D, 21E)를 경유하여, 배기계(排氣系)로 배출된다. 그러고 소정 시간 후, 퍼지 가스 수동 밸브(29), 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)를 열고, 에어 오퍼레이터 밸브(32)를 신호에 의해 열면, 퍼지 가스의 유입을 멈춘다.Next, when maintenance of a gas unit is needed, it is implemented after stopping supply of a process gas. In this case, since the circuit is captured in the atmosphere, a purge gas, which is nitrogen gas, is introduced into the circuit in order to remove moisture in the atmosphere. That is, when the process gas
다음으로, 평면 히터(16)의 작동에 관하여 설명한다. 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)의 어느 것의 가스 유닛에서도 완전히 동양(同樣)이다. 평면 히터(16)는 유닛 고정판(15)의 하부에 배설되어, 지지 부재(18)의 U자형의 단면에 감합된다. 가스 공급 집적 유닛에 프로세스 가스를 흘리고 있을 때에, 평면 히터(16)에 통전(通電)하여 줄(joule) 열을 발생시키면, 그 열은 유닛 고정판(15)을 이용하여, 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)의 유로 블록(46) 및 유로 블록(46)에 장착되어 있는 기구로 전달된다. 그래서, 가스 유닛의 유로 블록 및 유닛 고정판(15)에 장착되어 있는 기구에 열이 전달되는 것에 의해, 프로세스 가스가 흐르는 가스 유닛 내부의 온도가 프로세스 가스의 응결 온도 이상으로 유지된다. 따라서, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E) 내에서 프로세스 가스가 액화하는 것에 의하는 다양한 이상의 발생을 방지할 수 있다.Next, the operation of the
다음으로, 스페이서 부재(19)의 작용에 관하여, 도 1의 A-A 부의 단면을 도시하는 도면 5 및 평면 히터(16)의 탈착을 도시하는 도 6을 참조하여 설명한다. 가스 유닛(E)의 단면도로 설명하지만, 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D)에도 완전히 동양(同樣)이다. 유닛 고정판(15)과, 유닛 고정판(15)의 하부에 배설된 평면 히터(16)는, 지지 부재(18)의 U자형의 단면에 감합되어, 유닛 고정판(15)이 지지 부재(18)와 레일(10), 레일(12)의 사이에서, 판 형상의 스페이서 부재(19)를 협지하여, 레일(10), 레일(12)에 체결 수단(20)에 의해 고정된다. 평면 히터(16)의 교환이 필요로 되는 때, 체결 수단(20)을 해체하여 스페이서 부재(16)를 뽑아내는 것에 의해, 가스 공급 집적 유닛을 사용할 수 있는 상태를 유지한 채로, 도 6에 나타내듯이 평면 히터(16)를 해체하여, 각 평면 히터(16)를 장착하는 것이 가능하다.Next, the operation of the
이상 상세히 설명한 듯이 제1 실시예의 가스 공급 집적 유닛에 의하면, 출구 유로에 마련된 제1 수동 밸브(22)와, 제1 수동 밸브(22)와 프로세스 가스 공통 유로(44)를 연통하는 위치에 마련된 에어 오퍼레이터 밸브(26)와, 제1 수동 밸브(22)와 퍼지 가스 공통 유로(43)를 연통하는 위치에 마련된 제2 수동 밸브(25)가 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)에 의해 직렬 일체로 연결되어 있는 가스 유닛을 복수 구비하는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 단면이 U 자형이고, 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)이 감합되는 지지 부재(18)와, 지지 부재(18)와 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)과의 사이에 끼여 고정되는 평면 히터(16)를 가지기 때문에, 가스 유닛의 외형 부법을 평면 히터(16)를 필요로 하지 않는 가스 유닛과 완전히 동일하게 하는 것이 나타난다. 따라서, 가스 유닛을 집적한 가스 공급 집적 유닛 전체에도 외형 부법이 변화하지 않는다. 더욱, 가스 유닛의 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)을 이면에서 가열 보온하기 때문에, 가열 보온하기 위한 부품으로서, 1 가스 유닛에 대하여, 1매의 평면 히터와 1개의 지지 부재가 필요한 것만으로, 부품 점수가 적고, 생산비 절감할 수 있다.As described in detail above, according to the gas supply integration unit of the first embodiment, the air provided at a position where the first manual valve 22 provided in the outlet flow passage, the first manual valve 22 and the process gas
또한, 제1 실시예의 가스 공급 집적 유닛에 의하면, 가스 유닛이 지지 부재(18)에 감합되어, 체결되는 레일(10), 레일(12)과, 지지 부재(18)와 레일(10), 레일(12)의 사이에 협지되는 판 형상의 스페이서 부재(19)를 가지기 때문에, 평면 히터(16)의 교환이 용이하며, 생산비 절감이 쉽다. 즉, 스페이서 부재(19)를 뽑아내는 것에 의해, 가스 공급 집적 유닛을 사용할 수 있는 상태를 유지한 채로, 평면 히터(16)를 해체하고, 각 평면 히터(16)를 장착할 수 있다.Further, according to the gas supply integration unit of the first embodiment, the gas unit is fitted to the
(제2 실시예)(2nd Example)
다음으로, 본 발명에 관한 가스 공급 집적 유닛의 제2 실시예에 관하여, 첨부 도면에 근거하여 설명한다. 도 7은 도 1과 동양(同樣)의 가스 공급 집적 유닛의 구성을 도시하는 평면도이며, 도 8은 도 7의 B-B 부의 단면을 도시한다. 2개의 레일(10, 12)이, 양단을 레일 고정봉(13, 14)에 의해 평행하게 고정되어 있다. 레일 고정봉(13, 14)에 평행하게, 좌에서 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)이 각각 유닛 고정판(15)에 의해, 레일(10, 12)에 따라 횡 방향으로 평행이동 가능하게 장착되어 있다. 평면 히터(17)는, 1매 또는 2매 이상이지만, 도 7 및 도 8에는, 2매의 예로 도시한다. 2매의 평면 히터(17)는, 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)이 각각 고정되어 있는 유닛 고정판(15)의 하부에 접하여, 유닛 고정판(15)의 장수 방향으로 직교하여 배설된다. 2매의 평면 히터(17)는 각각 지지 부재(48)에 의해 지지되며, 지지 부재 (48)는 체결 수단(49)에 의해, 두 개의 지지 부재 고정판(47)에 의해 고정된다. 한 개의 지지 부재 고정판(47)은, 레일 고정봉(13)과 평행하게 프로세스 가스 유닛의 좌측에 장착되며, 또 한 개의 지지 부재 고정판(47)은, 레일 고정봉(14)과 평행하게 가스 유닛(E)의 우측에 장착된다. 두 개의 지지 부재 고정판(47)은 양단을 각각 레일(10, 12)에 고정된다.Next, a second embodiment of a gas supply integration unit according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 7 is a plan view showing the configuration of the gas supply integration unit of FIG. 1 and FIG. 8, and FIG. 8 shows a cross section of the B-B section of FIG. Two
이와 같이 마련된 본 발명의 제2 실시예에 관한 가스 공급 집적 유닛의 작동 및 그 작용효과에 관하여 설명한다. 가스 공급 집적 유닛의 전체의 작용에 관하여는, 제1 실시예와 동양(同樣)이기 때문에 생략하며, 평면 히터(17)의 작용에 관하여 설명한다. 평면 히터(17)는 유닛 고정판(15)의 하부에 접하여 배설되며, 지지 부재(48)에 의해 지지된다. 가스 공급 집적 유닛에 프로세스 가스를 흘리고 있을 때에, 평면 히터(17)에 통전하여 줄(joule) 열을 발생시키면, 그 열은 유닛 고정판(15)을 이용하여, 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)의 유로 블록(46)에 장착되어 있는 기구로 전달된다. 그리고, 각 유닛의 유로 블록(46)에 장착되어 있는 기구에 열이 전달되는 것에 의해, 프로세스 가스가 흐르는 가스 유닛 내부의 온도가 프로세스 가스의 응결 온도 이상으로 유지된다. 따라서, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E) 내에서 프로세스 가스가 액화하는 것에 의한 다양한 이상의 발생을 방지할 수 있다.The operation and effect of the gas supply integrated unit according to the second embodiment of the present invention thus prepared will be described. The operation of the entire gas supply integrated unit is omitted because it is the same as in the first embodiment, and the operation of the
다음으로, 평면 히터(17)의 탈착을 도 7의 제2 실시예의 가스 공급 집적 유닛의 구성을 도시하는 평면도 및 도 7의 B-B 부의 단면을 도시하는 도 8로 설명한다. 평면 히터(17)는, 도 7의 우측면 방향에서 보아, 좌우에 2매이다. 좌측의 평 면 히터(17)의 장착 상태는, 도 8에서 지지 부재(48)가 체결 수단(49)에 의해 체결되어 있지 않은 상태를 도시하며, 우측의 평면 히터(17)의 장착 상태는, 도 8에서 지지 부재(48)가 체결 수단(49)에 의해 체결되어 있는 상태를 도시한다. 예를 들면, 도 7의 우측면 방향에서 보아, 우측의 평면 히터(17)의 교환이 필요하게 될 때, 도 7의 우측면 방향에서 보아, 좌측의 평면 히터(17)의 상태(도 8 참조)로 하여, 가스 공급 집적 유닛을 사용할 수 있는 상태를 유지한 채로, 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K1) 방향으로 빼서 해체하며, 각 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K2) 방향으로 삽입한 후, 체결 수단(49)에 의해 지지 부재(48)를 지지 부재 고정판(47)에 고정한다.Next, the desorption of the
이상 상세히 설명하였듯이 제2 실시예의 가스 공급 집적 유닛에 의하면, 가스 유닛의 저면에 접하여 배설된 1매 또는 2매 이상의 평면 히터(17)와, 평면 히터(17)를 지지하는 지지 부재(48)와, 평면 히터(17)를 지지 부재(48)와 유로 블록(46) 및 유닛 고정(15)과의 사이에 끼우고, 지지 부재(48)를 고정하는 지지 부재 고정판(47)을 가지기 때문에, 가스 유닛의 외형부법을 평면 히터(17)를 필요로 하지 않는 가스 유닛과 완전히 동일하게 할 수 있다. 따라서, 가스 유닛을 집적한 가스 공급 집적 유닛 전체에도 외형부법이 변화하지 않는다. 더욱, 가스 유닛마다 평면 히터(17)와 지지 부재(48)를 각 1개 필요로 하지 않고, 가스 공급 집적 유닛 전체에서 평면 히터(17)와 지지 부재(48)가 각각, 1매 또는 2매 이상으로 있으면 좋다. 따라서, 가스 공급 집적 유닛을 가열 보온하기 위한 부품 점수를 적어, 생산비 절감하는 것이 나타난다. 더욱, 평면 히터(17)의 매수가 감소하는 것으로 배 선이 용이하게 되며, 평면 히터(17)의 교환도 쉽다.As described in detail above, according to the gas supply integrated unit of the second embodiment, one or two or more
또한, 본 발명의 실시의 일 형태에 관하여 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정시키는 것이 아닌 , 다양한 응용이 가능하다.In addition, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said Example, Various applications are possible.
예를 들면, 상기 실시예에는, 가스 공급 집적 유닛에 에어 오퍼레이터 밸브를 탑재하였지만, 탑재하는 유체 제어 기구의 종류나 줄은 이것에 한정되는 것이 아니게, 적절하게 변경가능하다.For example, in the above embodiment, although the air operator valve is mounted in the gas supply integration unit, the type and line of the fluid control mechanism to be mounted are not limited to this, and can be changed as appropriate.
예를 들면, 상기 제2 실시예에는, 평면 히터(7)를 탈착할 때에, 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K1) 방향으로 빼서 해체하며, 다른 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K2) 방향에 삽입하도록 하지만, 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K2) 방향으로 빼서 해체하며, 다른 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K1) 방향으로 삽입하도록 하는 것도 좋다.For example, in the second embodiment, when the flat heater 7 is detached and detached, the
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