KR101074265B1 - Gas supply integration unit - Google Patents

Gas supply integration unit Download PDF

Info

Publication number
KR101074265B1
KR101074265B1 KR1020067025097A KR20067025097A KR101074265B1 KR 101074265 B1 KR101074265 B1 KR 101074265B1 KR 1020067025097 A KR1020067025097 A KR 1020067025097A KR 20067025097 A KR20067025097 A KR 20067025097A KR 101074265 B1 KR101074265 B1 KR 101074265B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
unit
gas
flow path
fixing plate
support member
Prior art date
Application number
KR1020067025097A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20070011549A (en
Inventor
아키히로 타케이치
타츠히토 아오야마
토시카즈 미와
타카시 이노우에
Original Assignee
씨케이디 가부시키 가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 씨케이디 가부시키 가이샤 filed Critical 씨케이디 가부시키 가이샤
Publication of KR20070011549A publication Critical patent/KR20070011549A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101074265B1 publication Critical patent/KR101074265B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45561Gas plumbing upstream of the reaction chamber
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17DPIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
    • F17D1/00Pipe-line systems
    • F17D1/02Pipe-line systems for gases or vapours
    • F17D1/04Pipe-line systems for gases or vapours for distribution of gas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67103Apparatus for thermal treatment mainly by conduction
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/34Hydrogen distribution

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Details Of Valves (AREA)
  • Valve Housings (AREA)
  • Pipeline Systems (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

상온 상압에서는 액화하기 쉬운 프로세스 가스를 가열 보온하면서 공급하기 위한 가스 공급 집적 유닛을 제공하기 위해, 출구 유로에 마련된 제1 수동 밸브(22)와, 제1 수동 밸브(22)와 프로세스 가스 공통 유로(44)와 연통하는 위치에 마련된 에어 오퍼레이터 밸브(26)와, 제1 수동 밸브(22)와 퍼지 가스 공통 유로(43)를 연통하는 위치에 마련된 제2 수동 밸브(25)가 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)에 의해 직렬 일체로 연결되어 있는 가스 유닛을 복수 구비하는 가스 공급 집적 유닛에, 단면이 U 자형이며, 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)이 감합되는 지지 부재(18)와, 지지 부재(18)와 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)과의 사이에 끼여 고정되는 평면 히터(16)를 마련한다.At a normal temperature and normal pressure, the first manual valve 22 provided in the outlet flow path, the first manual valve 22 and the process gas common flow path (providing a gas supply integration unit for supplying a process gas which is easy to liquefy while heating and keeping heat) An air operator valve 26 provided at a position communicating with 44 and a second manual valve 25 provided at a position communicating with the first manual valve 22 and the purge gas common flow passage 43 are flow path blocks 46. And a support member 18 having a U-shaped cross section and fitted with a flow path block 46 and a unit fixing plate 15 to a gas supply integrated unit including a plurality of gas units connected in series by the unit fixing plate 15. ) And a planar heater 16 fixed between the support member 18, the flow path block 46, and the unit fixing plate 15.

Description

가스 공급 집적 유닛{GAS SUPPLY INTEGRATION UNIT}Gas Supply Integration Unit {GAS SUPPLY INTEGRATION UNIT}

본 발명은, 반도체 제조장치 등에서 사용되는 가스 공급 집적 유닛과 관련되며, 더욱 상세하게는, 기화 온도가 높고, 상온에 있어 외부에서 열을 가하지 않으면 액화하기 쉬운 디클로로실란 (dichlorosilane) (또는 디클로르실란 (dichloresilane)), WF6, HBr 등의 프로세스 가스를 액화되는 일 없이, 고정밀도로 공급하는 가스 공급 집적 유닛에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a gas supply integrated unit used in a semiconductor manufacturing apparatus or the like, and more particularly, dichlorosilane (or dichlorsilane) which has a high vaporization temperature and is easy to liquefy if no external heat is applied at room temperature. (dichloresilane), WF6, HBr and the like relates to a gas supply integration unit for supplying with high accuracy without liquefying.

종래보다, 반도체 집적 회로 중의 절연막으로서, 기상성막(氣相成膜)된 산화 규소 박막 등이 많이 이용되고 있다. 이러한 산화 규소 등의 기상성막은, 성막조(成膜槽) 중에 재치(載置)된 웨이퍼 위에, 화학 증착 성막법으로 행하는 것이 보통이다.As a conventional insulating film in a semiconductor integrated circuit, a silicon oxide thin film formed by a vapor phase film is used. Such vapor-phase film formation, such as silicon oxide, is usually carried out by a chemical vapor deposition method on a wafer placed in a film formation tank.

디클로로실란 (또는 디클로르실란) 등의 액화하기 쉬운 프로세스 가스를 공급하는 경우, 프로세스 가스의 공급 루트에 있는 고압 봄베(bombe), 배관, 매스 플로우 컨트롤러(mass flow controller), 반응 챔버 등을 가열하는 것이 필요하다. 그 이유는, 공급 루트의 도중에 디클로로실란 (또는 디클로르실란)이 액화하면, 유량계가 정확하게 작동하지 않고, 제조되는 반도체 집적 회로 등의 성능을 나쁘게 하기 때문이다. 또한, 액화한 디클로로실란 (또는 디클로르실란) 등이 질량 유량 계부(付) 전자 밸브의 세관을 결집시켜서 유량계 측을 부정확하게 하는 문제가 있다.When supplying a process gas which is easy to liquefy, such as dichlorosilane (or dichlorsilane), it is necessary to heat a high pressure bombe, a pipe, a mass flow controller, a reaction chamber, etc. in the supply gas supply route. It is necessary. The reason is that when the dichlorosilane (or dichlorsilane) liquefies in the middle of the supply route, the flowmeter does not operate correctly and degrades the performance of the semiconductor integrated circuit to be manufactured or the like. Further, liquefied dichlorosilane (or dichlorsilane) or the like has a problem in that the flowmeter side is inaccurate by aggregating the capillary of the mass flow meter solenoid valve.

디클로로실란 (또는 디클로르실란) 등의 프로세스 가스의 액화를 방지하기 위해, 특허문헌 1의 가스 공급 장치에서는, 예를 들면 도 9에 나타내듯이, 배관, 계수(繼手), 가스 밸브(62, 64) 및 질량 유량계부 전자 밸브(61)에 의해 구성되는 가스 유닛의 양측에, 전열 블록(51)과 부전열 블록(52)으로 형성되는 지지구(53, 54)에 테이프 형상의 히터(60)가 지지되어, 배설되는 것에 의해, 디클로로실란 (또는 디클로르실란) 등이 기화 온도 이상으로 되도록 가열 보온된다.In order to prevent the liquefaction of process gas, such as dichlorosilane (or dichlorosilane), in the gas supply apparatus of patent document 1, as shown, for example in FIG. 9, piping, a coefficient, a gas valve 62, 64 and tape-shaped heaters 60 on the support holes 53 and 54 formed of the heat transfer block 51 and the non-heat transfer block 52 on both sides of the gas unit constituted by the mass flow meter portion solenoid valve 61. ) Is supported and excreted, so that the dichlorosilane (or dichlorsilane) or the like is heated and kept to be above the vaporization temperature.

또한, 도 10에 나타내듯이, 전열 블록(51)의 상면은, 질량 유량계부 전자 밸브(61)에 하방에서 접촉하는 접촉면(65)이 되는 것이고, 질량 유량계부 전자 밸브(61)를 가열 보온하고 있다.In addition, as shown in FIG. 10, the upper surface of the heat-transfer block 51 becomes a contact surface 65 which contacts the mass flowmeter part solenoid valve 61 below, and heat-insulates the mass flowmeter part solenoid valve 61, and heats it. have.

특허 문헌 1: 특개평 7-286720호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-286720

그러나, 특허 문헌 1의 가스 공급 장치에는, 이하의 문제점이 있다.However, the gas supply apparatus of patent document 1 has the following problems.

(1) 가스 공급 장치는 생산비 절감을 위해, 소형화와 집적화가 바람직하지만, 도 9에 도시된 가스 공급 장치는, 가스 유닛의 양측에, 전열 블록(51)과 부전열 블록(52)으로 형성된 지지구(53, 54)에 테이프 형상의 히터(60)를 지지하도록 배설되어 있기 때문에, 가스 유닛 폭이, 히터를 필요로 하지 않는 가스 유닛과 비교하여 크게 된다.(1) The gas supply device is preferably miniaturized and integrated in order to reduce production costs. However, the gas supply device shown in FIG. 9 is formed by the heat transfer block 51 and the non-heat transfer block 52 on both sides of the gas unit. Since it is arrange | positioned so that the tape-shaped heater 60 may be supported by the earth 53 and 54, a gas unit width becomes large compared with the gas unit which does not require a heater.

(2) 가스 공급 장치는, 가스 유닛의 양측에 히터(6), 전열 블록(51) 및 부전열 블록(52) 등, 가열 보온을 위한 부품을 많이 필요로 하여, 생산비가 높게 된다.(2) The gas supply apparatus requires many components for heating and keeping, such as the heater 6, the heat transfer block 51, and the non-heat transfer block 52, on both sides of the gas unit, and the production cost is high.

그러면 본 발명은, 관계되는 문제를 해결해야 하고, 상온 상압에서는 약화하기 쉬운 프로세스 가스를 가열 보온하면서 공급하기 위한 가스 공급 집적 유닛을 제공하는 것을 목적으로 한다.Then, an object of the present invention is to provide a gas supply integration unit for supplying a process gas that is easy to be weakened at normal temperature and pressure while being heated and maintained.

본 발명의 가스 공급 집적 유닛은, 상기 문제를 해결하기 위해 이하와 같은 구성을 가진다.In order to solve the said problem, the gas supply integrated unit of this invention has the following structures.

(1)출구 유로에 마련된 제1 수동 밸브와, 그 제1 수동 밸브와 프로세스 가스 공통 유로를 연통(連通)하는 위치에 마련된 에어 오퍼레이터 밸브와, 그 제1 수동 밸브와 퍼지 가스 공통 유로를 연통(連通)하는 위치에 마련된 제2 수동 밸브가 유로 블록 및 유닛 고정판에 의해 직렬 일체로 연결되어 있는 가스 유닛을 복수 구비하는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 단면이 U자형이고, 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판이 감합되는 지지 부재와, 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 사이에 끼여 고정되는 평면 히터를 가지는 것을 특징으로 한다.(1) The first manual valve provided in the outlet flow path, the air operator valve provided in the position which communicates the said 1st manual valve, and the process gas common flow path, and the 1st manual valve and the purge gas common flow path communicate ( A gas supply integrated unit comprising a plurality of gas units in which a second manual valve provided at a position to be in communication is integrally connected by a flow path block and a unit fixing plate, wherein a cross section is U-shaped, and the flow path block and the unit fixing plate are U-shaped. And a support heater to be fitted, and a planar heater to be clamped between the support member, the flow path block, and the unit fixing plate.

(2) (1)에 기재되는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 상기 가스 유닛이 상기 지지 부재에 감합되며, 체결되는 레일과, 상기 지지 부재와 상기 레일의 사이에 협지(狹持)되는 판 형상의 스페이서 부재를 가지는 것을 특징으로 한다.(2) The gas supply integrated unit described in (1), wherein the gas unit is fitted to the support member, and is formed in a plate shape between the rail to be fastened and the support member and the rail. And a spacer member.

(3) (1)에 기재되는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 상기 가스 유닛의 저면에 접하여 배설되는 1매 또는 2매 이상의 평면 히터와, 상기 평면 히터를 지지하는 지지 부재와, 상기 평면 히터를 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 끼우고, 지지 부재를 고정하는 지지 부재 고정판을 가지는 것을 특징으로 한다.(3) The gas supply integrated unit described in (1), wherein one or two or more planar heaters disposed in contact with the bottom surface of the gas unit, a support member for supporting the planar heater, and the planar heater are And a supporting member fixing plate for sandwiching the supporting member with the flow path block and the unit fixing plate to fix the supporting member.

본 발명의 가스 공급 집적 유닛은, 다음에 의하는 작용효과를 작용한다.The gas supply integrated unit of the present invention functions the following effects.

본 발명의 가스 공급 집적 유닛은, 출구 유로에 마련된 제1 수동 밸브와, 그 제1 수동 밸브와 프로세스 가스 공통 유로를 연통(連通)하는 위치에 마련된 에어 오퍼레이터 밸브와, 그 제1 수동 밸브와 퍼지 가스 공통 유로를 연통(連通)하는 위치에 마련된 제2 수동 밸브가 유로 블록 및 유닛 고정판에 의해 직렬 일체로 연결되어 있는 가스 유닛을 복수 구비하는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 단면이 U자형이고, 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판이 감합되는 지지 부재와, 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 사이에 끼여 고정되는 평면 히터를 가지기 때문에, 가스 유닛의 외형부법(外形付法)을 평면 히터를 필요로 하지 않는 가스 유닛과 완전히 동일하게 할 수 있다. 따라서, 가스 유닛을 집적한 가스 공급 집적 유닛 전체에도 외형부법이 변화하지 않는다. 더욱, 가스 유닛의 유로 블록 및 유닛 고정판을 이면에서 가열 보온하기 때문에, 가열 보온하기 위한 부품으로서, 1 가스 유닛에 대하여, 1매의 평면 히터와 1개의 지지 부재를 필요로 하는 것만으로, 부품 점수(部品点數)가 적어, 생산비 절감할 수 있다.The gas supply integrated unit of the present invention includes a first manual valve provided in an outlet flow passage, an air operator valve provided at a position in communication with the first manual valve and a process gas common flow passage, and the first manual valve and purge. A gas supply integrated unit comprising a plurality of gas units in which a second manual valve provided at a position communicating a gas common flow path is integrally connected by a flow path block and a unit fixing plate, the cross section being U-shaped, Since it has a support member to which a flow path block and the said unit fixing plate fit, and a flat heater clamped between the said support member, the said flow path block, and the said unit fixing plate, the external shape method of a gas unit is a plane heater. It can be made exactly the same as the gas unit does not require. Therefore, the external appearance method does not change even in the whole gas supply integration unit which integrated the gas unit. Furthermore, since the flow path of the gas unit and the unit fixing plate are heated and kept on the back surface, as a part for heating and keeping, only one flat heater and one support member are required for one gas unit. Fewer production lines can reduce production costs.

또한, 본 발명의 가스 공급 집적 유닛은, 상기 가스 유닛이 상기 지지 부재에 감합되어, 체결되는 레일과, 상기 지지 부재와 상기 레일의 사이에 협지되는 판 형상의 스페이서 부재를 가지기 때문에, 스페이서 부재를 뽑아내는 것에 의해, 가스 공급 집적 유닛을 사용할 수 있는 상태를 유지한 채로, 평면 히터를 해체하고, 다른 평면 히터를 설치하는 것이 가능하다. 이와 같이 평면 히터의 교환이 용이하여, 보수하기 쉽다.Further, the gas supply integration unit of the present invention has a spacer member because the gas unit is fitted with the support member and has a rail to be fastened and a plate-shaped spacer member sandwiched between the support member and the rail. By pulling out, it is possible to disassemble a flat heater and provide another flat heater, maintaining the state which can use a gas supply integration unit. In this way, the exchange of the flat heater is easy and easy to repair.

또한, 본 발명의 가스 공급 직접 유닛은, 상기 가스 유닛의 저면에 접하여 배설되는 1매 또는 2매 이상의 평면 히터와, 상기 평면 히터를 지지하는 지지 부재와, 상기 평면 히터를 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 사이에 끼우고, 지지 부재를 고정하는 지지 부재 고정판을 가지기 때문에, 가스 유닛마다에 평면 히터와 지지 부재를 각 1개 필요로 하지 않고, 가스 공급 집적 유닛 전체에서 평면 히터와 지지 부재가 각각, 1매 또는 2매 이상이라면 흔히, 가스 공급 집적 유닛을 가열 보온하기 위한 부품 점수가 적고, 생산비 절감할 수 있다. 또한, 평면 히터의 매수가 감소한 것으로 배선이 용이하게 되며, 평면 히터의 교환도 쉽다.In addition, the gas supply direct unit of the present invention includes one or two or more flat heaters disposed in contact with the bottom surface of the gas unit, a support member for supporting the flat heater, and the flat heater with the support member and the flow path. Since it has a support member fixing plate which sandwiches between a block and the said unit fixing plate, and fixes a support member, it does not need each plane heater and one support member for every gas unit, and is planar heater throughout the gas supply integrated unit. If the and support members are one or two or more, respectively, the number of parts for heating and maintaining the gas supply integrated unit is often low, and the production cost can be reduced. In addition, since the number of flat heaters is reduced, wiring becomes easy and replacement of the flat heater is easy.

도 1은 본 발명의 제1 실시예인 가스 공급 집적 유닛의 구성을 도시하는 평면도이다.1 is a plan view showing a configuration of a gas supply integration unit that is a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제1 실시예인 가스 공급 집적 유닛의 정면도이다.2 is a front view of a gas supply integration unit, which is the first embodiment of the present invention.

도 3은 도 1의 구성을 도시하는 회로도이다.3 is a circuit diagram showing the configuration of FIG.

도 4는 본 발명의 제1 실시예의 가스 유닛의 조립 순서를 도시하는 사시도이다.4 is a perspective view showing an assembling procedure of a gas unit of a first embodiment of the present invention.

도 5는 도 1의 A-A 부의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of the A-A portion of FIG.

도 6은 도 5에 있어서, 히터(16)의 탈착을 도시하는 도면이다.FIG. 6 is a diagram illustrating the detachment of the heater 16 in FIG. 5.

도 7은 본 발명의 제2 실시예인 가스 공급 집적 유닛의 구성을 도시하는 평면도이다.7 is a plan view showing a configuration of a gas supply integration unit that is a second embodiment of the present invention.

도 8은 도 7의 B-B 부의 단면도이다.8 is a cross-sectional view of the B-B portion of FIG.

도 9는 종래의 가스 공급 장치의 사시도이다.9 is a perspective view of a conventional gas supply device.

도 10은 도 9의 전열 블록을 설명하는 도면이다.10 is a view for explaining the heat transfer block of FIG. 9.

10 레일 12 레일10 rails 12 rails

15 유닛 고정판 16 평면 히터15 unit fixing plate 16 flat heater

17 평면 히터 18 지지 부재17 flat heater 18 support member

19 스페이서 부재 22 제1 수동 밸브19 spacer member 22 first manual valve

25 제2 수동 밸브 26 에어 오퍼레이터 밸브25 Second hand valve 26 Air operator valve

43 퍼지 가스 공통 유로 44 프로세스 가스 공통 유로43 Common purge gas flow path 44 Common process gas flow path

46 유로 블록 47 지지 부재 고정판46 Euro block 47 Support member fixing plate

48 지지 부재48 support member

이하, 본 발명에 관한 가스 공급 집적 유닛의 실시예에 관하여, 첨부 도면에 근거하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the Example of the gas supply integrated unit which concerns on this invention is described based on an accompanying drawing.

(제1 실시예)(First embodiment)

도 1은 5 라인에 프로세스 가스의 공급을 행하는 가스 공급 집적 유닛의 구 성을 도시하는 평면도이며, 도 2는 도 1의 정면도이다. 도3은 도 1의 회로도를 도시한다.FIG. 1 is a plan view showing the configuration of a gas supply integration unit that supplies process gas to five lines, and FIG. 2 is a front view of FIG. FIG. 3 shows the circuit diagram of FIG. 1.

2개의 레일(10, 12)은, 양단을 레일 고정봉(13, 14)에 의해 평행하게 고정된다. 레일 고정봉(13, 14)에 평행하게, 좌에서 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)이 각각 유닛 고정판(15)에 의해, 레일(10, 12)에 따르고 횡(橫) 방향으로 평행이동 가능하게 장착된다. 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)에 각각 장착된 기구의 회로 구성은 도 3에 도시한다.The two rails 10 and 12 are fixed at both ends in parallel by rail fixing rods 13 and 14. Parallel to the rail fixing rods 13 and 14, the purge gas unit, the process gas unit, and the gas units A, B, C, D, and E are respectively connected to the rail fixing rods 13 and 14 by the unit fixing plate 15. ) In parallel to the transverse direction. The circuit configuration of the mechanism mounted on the purge gas unit, the process gas unit, and the gas units A, B, C, D, and E, respectively, is shown in FIG.

퍼지 가스 수동 밸브(29)는 퍼지 가스 공급로(28)를 이용하여 도시하지 않은 퍼지 가스 탱크와 접촉한다. 퍼지 가스 수동 밸브(29)는, 에어 오퍼레이터 밸브(32), 역지(逆止) 밸브(33), 퍼지 가스 공통 유로(43)를 이용하여, 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)의 일방의 포트에 접촉한다. 퍼지 가스 수동 밸브(29)는, 에어 오퍼레이터 밸브(32)를 연통하는 유로에, 압력계(31)가 연통된다. 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)의 다른 포트는, 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)의 일방의 포트에 접촉된다.The purge gas manual valve 29 contacts the purge gas tank not shown using the purge gas supply path 28. The purge gas manual valve 29 uses the air operator valve 32, the check valve 33, the purge gas common flow path 43, and the second manual valves 25A, 25B, 25C, 25D, It contacts one port of 25E). As for the purge gas manual valve 29, the pressure gauge 31 communicates with the flow path which communicates the air operator valve 32. As shown in FIG. The other ports of the second manual valves 25A, 25B, 25C, 25D, and 25E are in contact with one port of the regulators 24A, 24B, 24C, 24D, and 24E.

프로세스 가스 수동 밸브(35)는, 프로세스 가스 공급로(34)를 이용하여 도시하지 않은 프로세스 가스 탱크와 접촉된다. 프로세스 가스 수동 밸브(35)는, 에어 오퍼레이터 밸브(37), 프로세스 가스 공급 유로(44)를 이용하여, 에어 오퍼레이터 밸브(26A, 26B, 26C, 26D, 26E)의 일방의 포트에 접촉된다. 프로세스 가스 수동 밸브(35)와, 에어 오퍼레이터 밸브(37)를 연통하는 유로에, 압력계(36)가 연통된 다.The process gas manual valve 35 is in contact with a process gas tank (not shown) using the process gas supply passage 34. The process gas manual valve 35 is in contact with one port of the air operator valves 26A, 26B, 26C, 26D, and 26E using the air operator valve 37 and the process gas supply flow passage 44. The pressure gauge 36 communicates with the flow path between the process gas manual valve 35 and the air operator valve 37.

에어 오퍼레이터 밸브(26A, 26B, 26C, 26D, 26E)의 다른 포트는, 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)의 일방의 포트에 접촉된다. 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)의 다른 포트는, 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)를 이용하여, 프로세스 가스 출구(21A, 21B, 21C, 21D, 21E)와 연통된다. 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)와, 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)와 연통(連通)시키는 유로에, 압력계(23A, 23B, 23C, 23D, 23E)가 연통된다.The other ports of the air operator valves 26A, 26B, 26C, 26D, and 26E are in contact with one port of the regulators 24A, 24B, 24C, 24D, and 24E. The other ports of the regulators 24A, 24B, 24C, 24D and 24E use the first manual valves 22A, 22B, 22C, 22D and 22E to process gas outlets 21A, 21B, 21C, 21D and 21E. In communication with. Pressure gauges 23A, 23B, 23C, 23D, and 23E in flow paths communicating with the regulators 24A, 24B, 24C, 24D, and 24E and the first manual valves 22A, 22B, 22C, 22D, and 22E. Is in communication.

프로세스 가스 공통 유로(44)의 단부는, 프로세스 가스 공통 유로 단부 수동 밸브(41)에 의하여 봉지(封止)된다. 또한, 퍼지 가스 공통 유로(43)의 단부는, 퍼지 가스 공통 유로 단부 수동 밸브(38)에 의해 봉지된다.The end of the process gas common flow path 44 is sealed by the process gas common flow path end manual valve 41. In addition, the end of the purge gas common flow path 43 is sealed by the purge gas common flow path end manual valve 38.

도 4는 가스 공급 집적 유닛의 1 라인의 조립하는 순서를 도시하는 사시도이다. 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A B, C, D, E)의 어느 것의 가스 유닛에도 완전히 동양(同樣)이다. 가스 유닛은, 각 기구가 유로 블록(46)(도 2 참조)을 이용하여, 유닛 고정판(15)에 의해, 직렬 일체로 연결된다. 유닛 고정판(15)과, 유닛 고정판(15)의 하부에 배설된 평면 히터(16)는, 지지 부재(18)의 U자형 단면에 감합된다. 유닛 고정판(15)은 지지 부재(18)와 레일(10), 레일(12)과의 사이에, 판 형상의 스페이서 부재(19)를 협지하여, 레일(10), 레일(12)에 체결 수단(20)에 의해 고정된다.4 is a perspective view illustrating a procedure of assembling one line of the gas supply integration unit. The gas unit of any of the purge gas unit, the process gas unit, and the gas units A B, C, D, and E is completely orientated. In the gas unit, each mechanism is connected in series by the unit fixing plate 15 using the flow path block 46 (see FIG. 2). The unit fixing plate 15 and the flat heater 16 disposed below the unit fixing plate 15 are fitted to the U-shaped cross section of the supporting member 18. The unit fixing plate 15 sandwiches the plate-shaped spacer member 19 between the support member 18, the rail 10, and the rail 12, and fastens the fastening means to the rail 10 and the rail 12. It is fixed by 20.

이와 같이 마련된 본 발명의 제1 실시예에 관한 가스 공급 집적 유닛의 작동 및 그 작동 효과에 관하여 설명한다. 우선, 가스 공급 집적 유닛의 전체의 작동에 관하여 설명한다. 반도체의 제조 공정에 프로세스 가스를 공급할 때에는, 프로세스 가스 수동 밸브(35) 및 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)를 열고, 에어 오퍼레이터 밸브(37) 및 에어 오퍼레이터 밸브(26A, 26B, 26C, 26D, 26E)를 신호에 의해 연다. 퍼지 가스 회로의 퍼지 가스 수동 밸브(29) 및 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)를 닫고, 에어 오퍼레이터 밸브(32)를 신호에 의해 닫는다. 이것에 의해, 프로세스 가스는 도시하지 않은 프로세스 가스 탱크에서, 프로세스 가스 공급로(34), 프로세스 가스 수동 밸브(35), 에어 오퍼레이터 밸브(37), 프로세스 가스 공통 유로(44), 에어 오퍼레이터 밸브(26A, 26B, 26C, 26D, 26E)를 경유하고, 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)에 흘러, 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)에서, 프로세스 가스 출구(21A, 21B, 21C, 21D, 21E)를 경유하여 공급선에 흐른다.The operation of the gas supply integration unit and the operation effect thereof according to the first embodiment of the present invention thus prepared will be described. First, the operation of the entire gas supply integration unit will be described. When supplying the process gas to the semiconductor manufacturing process, the process gas manual valve 35 and the first manual valves 22A, 22B, 22C, 22D, and 22E are opened, and the air operator valve 37 and the air operator valve 26A, 26B, 26C, 26D, 26E) are opened by signals. The purge gas manual valve 29 and the second manual valves 25A, 25B, 25C, 25D, and 25E of the purge gas circuit are closed, and the air operator valve 32 is closed by a signal. As a result, the process gas is supplied to the process gas supply path 34, the process gas manual valve 35, the air operator valve 37, the process gas common flow path 44, and the air operator valve in a process gas tank (not shown). Via 26A, 26B, 26C, 26D, 26E, flows into regulators 24A, 24B, 24C, 24D, 24E, and at first hand valves 22A, 22B, 22C, 22D, 22E, the process gas outlet ( 21A, 21B, 21C, 21D, 21E) to the supply line.

다음에는, 가스 유닛의 보수가 필요한 경우는, 프로세스 가스의 공급을 정지한 후, 실시된다. 이 경우, 회로가 대기에 포로(暴露)되기 때문에, 대기 중의 수분을 제거하기 위하여, 질소 가스인 퍼지 가스를 회로에 도입한다. 즉, 프로세스 가스 수동 밸브(35)를 열고, 에어 오퍼레이터 밸브(37)를 신호에 의해 열면, 프로세스 가스의 흐름을 차단한다. 그리고, 퍼지 가스 수동 밸브(29), 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)를 열고, 에어 오퍼레이터 밸브(32)를 신호에 의해 연다. 도시하지 않은 퍼지 가스 탱크에서 질소 가스인 퍼지 가스가 가스 유닛(A, B, C, D, E)의 각 라인에 도입된다. 즉, 퍼지 가스는 어지 가스 수동 밸브(29), 에어 오퍼레이터 밸브(32), 역지(逆止) 밸브(33), 퍼지 가스 공통 유로(43), 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)를 경유하여, 레귤레이터(24A, 24B, 24C, 24D, 24E)로 흐르고, 제1 수동 밸브(22A, 22B, 22C, 22D, 22E)에서, 프로세스 가스 출구(21A, 21B, 21C, 21D, 21E)를 경유하여, 배기계(排氣系)로 배출된다. 그러고 소정 시간 후, 퍼지 가스 수동 밸브(29), 제2 수동 밸브(25A, 25B, 25C, 25D, 25E)를 열고, 에어 오퍼레이터 밸브(32)를 신호에 의해 열면, 퍼지 가스의 유입을 멈춘다.Next, when maintenance of a gas unit is needed, it is implemented after stopping supply of a process gas. In this case, since the circuit is captured in the atmosphere, a purge gas, which is nitrogen gas, is introduced into the circuit in order to remove moisture in the atmosphere. That is, when the process gas manual valve 35 is opened and the air operator valve 37 is opened by a signal, the flow of process gas is interrupted. Then, the purge gas manual valve 29 and the second manual valves 25A, 25B, 25C, 25D, and 25E are opened, and the air operator valve 32 is opened by a signal. In a purge gas tank (not shown), purge gas, which is nitrogen gas, is introduced into each line of the gas units A, B, C, D, and E. That is, the purge gas is a purge gas manual valve 29, an air operator valve 32, a check valve 33, a purge gas common flow path 43, and second manual valves 25A, 25B, 25C, and 25D. , 25E, flows to regulators 24A, 24B, 24C, 24D, 24E, and at first manual valves 22A, 22B, 22C, 22D, 22E, process gas outlets 21A, 21B, 21C, 21D. 21E) is discharged to the exhaust system. Then, after a predetermined time, when the purge gas manual valve 29 and the second manual valves 25A, 25B, 25C, 25D, and 25E are opened, and the air operator valve 32 is opened by a signal, the inflow of the purge gas is stopped.

다음으로, 평면 히터(16)의 작동에 관하여 설명한다. 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)의 어느 것의 가스 유닛에서도 완전히 동양(同樣)이다. 평면 히터(16)는 유닛 고정판(15)의 하부에 배설되어, 지지 부재(18)의 U자형의 단면에 감합된다. 가스 공급 집적 유닛에 프로세스 가스를 흘리고 있을 때에, 평면 히터(16)에 통전(通電)하여 줄(joule) 열을 발생시키면, 그 열은 유닛 고정판(15)을 이용하여, 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)의 유로 블록(46) 및 유로 블록(46)에 장착되어 있는 기구로 전달된다. 그래서, 가스 유닛의 유로 블록 및 유닛 고정판(15)에 장착되어 있는 기구에 열이 전달되는 것에 의해, 프로세스 가스가 흐르는 가스 유닛 내부의 온도가 프로세스 가스의 응결 온도 이상으로 유지된다. 따라서, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E) 내에서 프로세스 가스가 액화하는 것에 의하는 다양한 이상의 발생을 방지할 수 있다.Next, the operation of the flat heater 16 will be described. The gas unit of any of the purge gas unit, the process gas unit, and the gas units A, B, C, D, and E is completely orientated. The planar heater 16 is arrange | positioned under the unit fixing plate 15, and is fitted in the U-shaped cross section of the support member 18. As shown in FIG. When process gas is flowing to the gas supply integrated unit, when the joule heat is generated by energizing the planar heater 16, the heat is transferred to the purge gas unit and the process gas using the unit fixing plate 15. The unit and the flow path block 46 of the gas units A, B, C, D, and E are transferred to the mechanism mounted on the flow path block 46. Thus, the heat is transferred to the mechanism mounted on the flow path block and the unit fixing plate 15 of the gas unit, so that the temperature inside the gas unit through which the process gas flows is maintained above the condensation temperature of the process gas. Therefore, occurrence of various abnormalities due to the liquefaction of the process gas in the process gas unit and the gas units A, B, C, D, and E can be prevented.

다음으로, 스페이서 부재(19)의 작용에 관하여, 도 1의 A-A 부의 단면을 도시하는 도면 5 및 평면 히터(16)의 탈착을 도시하는 도 6을 참조하여 설명한다. 가스 유닛(E)의 단면도로 설명하지만, 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D)에도 완전히 동양(同樣)이다. 유닛 고정판(15)과, 유닛 고정판(15)의 하부에 배설된 평면 히터(16)는, 지지 부재(18)의 U자형의 단면에 감합되어, 유닛 고정판(15)이 지지 부재(18)와 레일(10), 레일(12)의 사이에서, 판 형상의 스페이서 부재(19)를 협지하여, 레일(10), 레일(12)에 체결 수단(20)에 의해 고정된다. 평면 히터(16)의 교환이 필요로 되는 때, 체결 수단(20)을 해체하여 스페이서 부재(16)를 뽑아내는 것에 의해, 가스 공급 집적 유닛을 사용할 수 있는 상태를 유지한 채로, 도 6에 나타내듯이 평면 히터(16)를 해체하여, 각 평면 히터(16)를 장착하는 것이 가능하다.Next, the operation of the spacer member 19 will be described with reference to FIG. 5 showing a cross section of the A-A portion in FIG. 1 and FIG. 6 showing the detachment of the flat heater 16. Although it demonstrates with sectional drawing of the gas unit E, it is also completely oriental also in purge gas unit, process gas unit, and gas unit A, B, C, D. As shown in FIG. The unit fixing plate 15 and the flat heater 16 disposed below the unit fixing plate 15 are fitted to a U-shaped cross section of the supporting member 18, so that the unit fixing plate 15 is connected to the supporting member 18. The plate-shaped spacer member 19 is sandwiched between the rail 10 and the rail 12 and fixed to the rail 10 and the rail 12 by the fastening means 20. When the flat heater 16 needs to be replaced, by disassembling the fastening means 20 and pulling out the spacer member 16, the gas supply integrated unit is shown in FIG. It is possible to dismantle the flat heater 16 so that each flat heater 16 can be attached.

이상 상세히 설명한 듯이 제1 실시예의 가스 공급 집적 유닛에 의하면, 출구 유로에 마련된 제1 수동 밸브(22)와, 제1 수동 밸브(22)와 프로세스 가스 공통 유로(44)를 연통하는 위치에 마련된 에어 오퍼레이터 밸브(26)와, 제1 수동 밸브(22)와 퍼지 가스 공통 유로(43)를 연통하는 위치에 마련된 제2 수동 밸브(25)가 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)에 의해 직렬 일체로 연결되어 있는 가스 유닛을 복수 구비하는 가스 공급 집적 유닛에 있어서, 단면이 U 자형이고, 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)이 감합되는 지지 부재(18)와, 지지 부재(18)와 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)과의 사이에 끼여 고정되는 평면 히터(16)를 가지기 때문에, 가스 유닛의 외형 부법을 평면 히터(16)를 필요로 하지 않는 가스 유닛과 완전히 동일하게 하는 것이 나타난다. 따라서, 가스 유닛을 집적한 가스 공급 집적 유닛 전체에도 외형 부법이 변화하지 않는다. 더욱, 가스 유닛의 유로 블록(46) 및 유닛 고정판(15)을 이면에서 가열 보온하기 때문에, 가열 보온하기 위한 부품으로서, 1 가스 유닛에 대하여, 1매의 평면 히터와 1개의 지지 부재가 필요한 것만으로, 부품 점수가 적고, 생산비 절감할 수 있다.As described in detail above, according to the gas supply integration unit of the first embodiment, the air provided at a position where the first manual valve 22 provided in the outlet flow passage, the first manual valve 22 and the process gas common flow passage 44 communicate with each other. A second manual valve 25 provided at a position where the operator valve 26 and the first manual valve 22 communicate with the purge gas common flow passage 43 is connected in series by the flow path block 46 and the unit fixing plate 15. In the gas supply integrated unit including a plurality of gas units connected integrally, the support member 18 and the support member 18 having a U-shaped cross section and to which the flow path block 46 and the unit fixing plate 15 are fitted. And the flat heater 16 sandwiched and fixed between the flow path block 46 and the unit fixing plate 15, the external irregularity of the gas unit is made to be exactly the same as that of the gas unit which does not require the flat heater 16. To appear. Therefore, the appearance irregularity does not change even in the whole gas supply integration unit which integrated the gas unit. Furthermore, since the flow paths of the gas block 46 and the unit fixing plate 15 of the gas unit are kept warm from the rear surface, only one flat heater and one support member are required for one gas unit as a component for heat insulation. As a result, the number of parts is small and production costs can be reduced.

또한, 제1 실시예의 가스 공급 집적 유닛에 의하면, 가스 유닛이 지지 부재(18)에 감합되어, 체결되는 레일(10), 레일(12)과, 지지 부재(18)와 레일(10), 레일(12)의 사이에 협지되는 판 형상의 스페이서 부재(19)를 가지기 때문에, 평면 히터(16)의 교환이 용이하며, 생산비 절감이 쉽다. 즉, 스페이서 부재(19)를 뽑아내는 것에 의해, 가스 공급 집적 유닛을 사용할 수 있는 상태를 유지한 채로, 평면 히터(16)를 해체하고, 각 평면 히터(16)를 장착할 수 있다.Further, according to the gas supply integration unit of the first embodiment, the gas unit is fitted to the support member 18, and the rail 10, the rail 12, the support member 18, the rail 10, and the rail are fastened. Since it has the plate-shaped spacer member 19 clamped between 12, replacement of the flat heater 16 is easy and production cost is easy. That is, by pulling out the spacer member 19, the plane heater 16 can be disassembled and each plane heater 16 can be attached, maintaining the state which can use a gas supply integrated unit.

(제2 실시예)(2nd Example)

다음으로, 본 발명에 관한 가스 공급 집적 유닛의 제2 실시예에 관하여, 첨부 도면에 근거하여 설명한다. 도 7은 도 1과 동양(同樣)의 가스 공급 집적 유닛의 구성을 도시하는 평면도이며, 도 8은 도 7의 B-B 부의 단면을 도시한다. 2개의 레일(10, 12)이, 양단을 레일 고정봉(13, 14)에 의해 평행하게 고정되어 있다. 레일 고정봉(13, 14)에 평행하게, 좌에서 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)이 각각 유닛 고정판(15)에 의해, 레일(10, 12)에 따라 횡 방향으로 평행이동 가능하게 장착되어 있다. 평면 히터(17)는, 1매 또는 2매 이상이지만, 도 7 및 도 8에는, 2매의 예로 도시한다. 2매의 평면 히터(17)는, 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)이 각각 고정되어 있는 유닛 고정판(15)의 하부에 접하여, 유닛 고정판(15)의 장수 방향으로 직교하여 배설된다. 2매의 평면 히터(17)는 각각 지지 부재(48)에 의해 지지되며, 지지 부재 (48)는 체결 수단(49)에 의해, 두 개의 지지 부재 고정판(47)에 의해 고정된다. 한 개의 지지 부재 고정판(47)은, 레일 고정봉(13)과 평행하게 프로세스 가스 유닛의 좌측에 장착되며, 또 한 개의 지지 부재 고정판(47)은, 레일 고정봉(14)과 평행하게 가스 유닛(E)의 우측에 장착된다. 두 개의 지지 부재 고정판(47)은 양단을 각각 레일(10, 12)에 고정된다.Next, a second embodiment of a gas supply integration unit according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 7 is a plan view showing the configuration of the gas supply integration unit of FIG. 1 and FIG. 8, and FIG. 8 shows a cross section of the B-B section of FIG. Two rails 10 and 12 are fixed at both ends in parallel by rail fixing rods 13 and 14. Parallel to the rail fixing rods 13 and 14, the purge gas unit, the process gas unit, and the gas units A, B, C, D, and E are respectively connected to the rail fixing rods 13 and 14 by the unit fixing plate 15. It is mounted so as to be able to move in the horizontal direction. One or two or more planar heaters 17 are shown in Figs. 7 and 8 as two examples. The two flat heaters 17 are in contact with the lower portion of the unit fixing plate 15 to which the purge gas unit, the process gas unit, and the gas units A, B, C, D, and E are respectively fixed, and the unit fixing plate 15 Is orthogonal in the longevity direction of). The two flat heaters 17 are supported by the support members 48, respectively, and the support members 48 are fixed by the fastening means 49 and by the two support member fixing plates 47. One support member fixing plate 47 is mounted to the left side of the process gas unit in parallel with the rail fixing rod 13, and another support member fixing plate 47 is parallel to the rail fixing rod 14 in the gas unit. It is mounted on the right side of (E). Two support member fixing plates 47 are fixed to both ends of the rails 10 and 12, respectively.

이와 같이 마련된 본 발명의 제2 실시예에 관한 가스 공급 집적 유닛의 작동 및 그 작용효과에 관하여 설명한다. 가스 공급 집적 유닛의 전체의 작용에 관하여는, 제1 실시예와 동양(同樣)이기 때문에 생략하며, 평면 히터(17)의 작용에 관하여 설명한다. 평면 히터(17)는 유닛 고정판(15)의 하부에 접하여 배설되며, 지지 부재(48)에 의해 지지된다. 가스 공급 집적 유닛에 프로세스 가스를 흘리고 있을 때에, 평면 히터(17)에 통전하여 줄(joule) 열을 발생시키면, 그 열은 유닛 고정판(15)을 이용하여, 퍼지 가스 유닛, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E)의 유로 블록(46)에 장착되어 있는 기구로 전달된다. 그리고, 각 유닛의 유로 블록(46)에 장착되어 있는 기구에 열이 전달되는 것에 의해, 프로세스 가스가 흐르는 가스 유닛 내부의 온도가 프로세스 가스의 응결 온도 이상으로 유지된다. 따라서, 프로세스 가스 유닛, 가스 유닛(A, B, C, D, E) 내에서 프로세스 가스가 액화하는 것에 의한 다양한 이상의 발생을 방지할 수 있다.The operation and effect of the gas supply integrated unit according to the second embodiment of the present invention thus prepared will be described. The operation of the entire gas supply integrated unit is omitted because it is the same as in the first embodiment, and the operation of the flat heater 17 will be described. The flat heater 17 is disposed in contact with the lower portion of the unit fixing plate 15 and is supported by the support member 48. When Joule heat is generated by energizing the planar heater 17 when the process gas is flowing into the gas supply integrated unit, the heat is transferred to the purge gas unit, the process gas unit, and the gas using the unit fixing plate 15. It is transmitted to the mechanism mounted in the flow path block 46 of the unit A, B, C, D, E. And heat is transmitted to the mechanism attached to the flow path block 46 of each unit, and the temperature inside the gas unit through which a process gas flows is maintained above the condensation temperature of a process gas. Therefore, occurrence of various abnormalities due to liquefaction of the process gas in the process gas unit and the gas units A, B, C, D, and E can be prevented.

다음으로, 평면 히터(17)의 탈착을 도 7의 제2 실시예의 가스 공급 집적 유닛의 구성을 도시하는 평면도 및 도 7의 B-B 부의 단면을 도시하는 도 8로 설명한다. 평면 히터(17)는, 도 7의 우측면 방향에서 보아, 좌우에 2매이다. 좌측의 평 면 히터(17)의 장착 상태는, 도 8에서 지지 부재(48)가 체결 수단(49)에 의해 체결되어 있지 않은 상태를 도시하며, 우측의 평면 히터(17)의 장착 상태는, 도 8에서 지지 부재(48)가 체결 수단(49)에 의해 체결되어 있는 상태를 도시한다. 예를 들면, 도 7의 우측면 방향에서 보아, 우측의 평면 히터(17)의 교환이 필요하게 될 때, 도 7의 우측면 방향에서 보아, 좌측의 평면 히터(17)의 상태(도 8 참조)로 하여, 가스 공급 집적 유닛을 사용할 수 있는 상태를 유지한 채로, 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K1) 방향으로 빼서 해체하며, 각 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K2) 방향으로 삽입한 후, 체결 수단(49)에 의해 지지 부재(48)를 지지 부재 고정판(47)에 고정한다.Next, the desorption of the planar heater 17 will be described with a plan view showing the configuration of the gas supply integrated unit of the second embodiment of FIG. 7 and a cross section of the B-B section of FIG. 7. The planar heaters 17 are two sheets left and right, as seen from the right surface direction of FIG. The mounting state of the left side flat heater 17 shows the state in which the support member 48 is not fastened by the fastening means 49 in FIG. 8, The mounting state of the right side flat heater 17 is 8 shows a state in which the supporting member 48 is fastened by the fastening means 49. For example, when the right side flat heater 17 needs to be replaced when viewed from the right side direction in FIG. 7, the left side flat heater 17 is in the state (see FIG. 8) as viewed from the right side direction in FIG. 7. The plane heater 17 is pulled out in the direction of the arrow K1 shown in FIG. 7 while the gas supply integrated unit can be used, and disassembled, and each plane heater 17 is removed by the arrow shown in FIG. After inserting in the (K2) direction, the supporting member 48 is fixed to the supporting member fixing plate 47 by the fastening means 49.

이상 상세히 설명하였듯이 제2 실시예의 가스 공급 집적 유닛에 의하면, 가스 유닛의 저면에 접하여 배설된 1매 또는 2매 이상의 평면 히터(17)와, 평면 히터(17)를 지지하는 지지 부재(48)와, 평면 히터(17)를 지지 부재(48)와 유로 블록(46) 및 유닛 고정(15)과의 사이에 끼우고, 지지 부재(48)를 고정하는 지지 부재 고정판(47)을 가지기 때문에, 가스 유닛의 외형부법을 평면 히터(17)를 필요로 하지 않는 가스 유닛과 완전히 동일하게 할 수 있다. 따라서, 가스 유닛을 집적한 가스 공급 집적 유닛 전체에도 외형부법이 변화하지 않는다. 더욱, 가스 유닛마다 평면 히터(17)와 지지 부재(48)를 각 1개 필요로 하지 않고, 가스 공급 집적 유닛 전체에서 평면 히터(17)와 지지 부재(48)가 각각, 1매 또는 2매 이상으로 있으면 좋다. 따라서, 가스 공급 집적 유닛을 가열 보온하기 위한 부품 점수를 적어, 생산비 절감하는 것이 나타난다. 더욱, 평면 히터(17)의 매수가 감소하는 것으로 배 선이 용이하게 되며, 평면 히터(17)의 교환도 쉽다.As described in detail above, according to the gas supply integrated unit of the second embodiment, one or two or more planar heaters 17 disposed in contact with the bottom of the gas unit, a support member 48 for supporting the planar heaters 17, Since the planar heater 17 is sandwiched between the support member 48, the flow path block 46, and the unit fixing 15, and the support member fixing plate 47 is fixed to the support member 48, the gas The external shape method of the unit can be made exactly the same as the gas unit which does not require the flat heater 17. Therefore, the external appearance method does not change even in the whole gas supply integration unit which integrated the gas unit. Further, one or two flat heaters 17 and support members 48 are provided in the entire gas supply integration unit without requiring one flat heater 17 and one support member 48 for each gas unit. It is good to be over. Therefore, the number of parts for heating and maintaining the gas supply integrated unit is reduced, resulting in a reduction in production cost. In addition, the number of the flat heaters 17 decreases, so that wiring becomes easy, and the flat heaters 17 are also easily replaced.

또한, 본 발명의 실시의 일 형태에 관하여 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정시키는 것이 아닌 , 다양한 응용이 가능하다.In addition, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said Example, Various applications are possible.

예를 들면, 상기 실시예에는, 가스 공급 집적 유닛에 에어 오퍼레이터 밸브를 탑재하였지만, 탑재하는 유체 제어 기구의 종류나 줄은 이것에 한정되는 것이 아니게, 적절하게 변경가능하다.For example, in the above embodiment, although the air operator valve is mounted in the gas supply integration unit, the type and line of the fluid control mechanism to be mounted are not limited to this, and can be changed as appropriate.

예를 들면, 상기 제2 실시예에는, 평면 히터(7)를 탈착할 때에, 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K1) 방향으로 빼서 해체하며, 다른 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K2) 방향에 삽입하도록 하지만, 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K2) 방향으로 빼서 해체하며, 다른 평면 히터(17)를 도 7에 도시하는 화살표(K1) 방향으로 삽입하도록 하는 것도 좋다.For example, in the second embodiment, when the flat heater 7 is detached and detached, the flat heater 17 is pulled out in the direction of the arrow K1 shown in FIG. 7 and disassembled. The flat heater 17 is pulled out in the direction of the arrow K2 shown in FIG. 7 to be inserted in the direction of the arrow K2 shown in FIG. 7, and the other flat heater 17 is removed by the arrow K1 shown in FIG. It is also good to insert in the () direction.

Claims (3)

출구 유로에 마련된 제1 수동 밸브와, 상기 제1 수동 밸브와 프로세스 가스 공통 유로를 연통하는 위치에 마련된 에어 오퍼레이터 밸브와, 상기 제1 수동 밸브와 퍼지 가스 공통 유로를 연통하는 위치에 마련된 제2 수동 밸브가 유로 블록 및 유닛 고정판에 의해 직렬 일체로 연결되어 있는 가스 유닛을 복수 구비하는 가스 공급 직접 유닛에 있어서,The first manual valve provided in the outlet flow path, the air operator valve provided in the position which communicates the said 1st manual valve and a process gas common flow path, and the 2nd manual | operation provided in the position which communicates the said 1st manual valve and the purge gas common flow path. A gas supply direct unit comprising a plurality of gas units in which a valve is connected in series by a flow path block and a unit fixing plate, 단면이 U 자형이며, 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판이 감합되는 지지 부재와,A support member having a U-shaped cross section and to which the flow path block and the unit fixing plate are fitted; 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 사이에 끼여 고정되는 평면 히터를 가지는 것을 특징으로 하는 가스 공급 집적 유닛.And a flat heater sandwiched between the support member, the flow path block, and the unit fixing plate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스 유닛은 상기 지지 부재에 감합되어, 체결되는 레일과,The gas unit is fitted to the support member, the rail is fastened, 상기 지지 부재와 상기 레일과의 사이에 협지되는 판 형상의 스페이서 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 가스 공급 집적 유닛.And a plate-shaped spacer member sandwiched between the support member and the rail. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스 유닛의 저면에 접하여 고정되는 1매 또는 2매의 평면 히터와,One or two planar heaters fixed in contact with the bottom of the gas unit, 상기 평면 히터를 지지하는 지지 부재와,A support member for supporting the flat heater, 상기 평면 히터를 상기 지지 부재와 상기 유로 블록 및 상기 유닛 고정판과의 사이에 끼우고, 지지 부재를 고정하는 지지 부재 고정판을 가지는 것을 특징으로 하는 가스 공급 집적 유닛.And a supporting member fixing plate for sandwiching the planar heater between the supporting member, the flow path block, and the unit fixing plate, and fixing the supporting member.
KR1020067025097A 2004-05-10 2005-04-15 Gas supply integration unit KR101074265B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004140039A JP4567370B2 (en) 2004-05-10 2004-05-10 Gas supply integrated unit
JPJP-P-2004-00140039 2004-05-10
PCT/JP2005/007308 WO2005109482A1 (en) 2004-05-10 2005-04-15 Gas supply integration unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070011549A KR20070011549A (en) 2007-01-24
KR101074265B1 true KR101074265B1 (en) 2011-10-19

Family

ID=35320469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020067025097A KR101074265B1 (en) 2004-05-10 2005-04-15 Gas supply integration unit

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4567370B2 (en)
KR (1) KR101074265B1 (en)
CN (1) CN100440454C (en)
TW (1) TW200538678A (en)
WO (1) WO2005109482A1 (en)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4753173B2 (en) * 2005-06-17 2011-08-24 株式会社フジキン Fluid control device
JP2008014390A (en) * 2006-07-05 2008-01-24 Hitachi Metals Ltd Integrated fluid control device
US7807222B2 (en) * 2007-09-17 2010-10-05 Asm International N.V. Semiconductor processing parts having apertures with deposited coatings and methods for forming the same
JP5000469B2 (en) * 2007-12-05 2012-08-15 株式会社キッツエスシーティー Vessel block valve
JP5410173B2 (en) * 2009-06-30 2014-02-05 Ckd株式会社 Gas supply device
JP5775696B2 (en) * 2011-01-31 2015-09-09 株式会社フジキン Fluid control device
JP5559842B2 (en) * 2012-06-18 2014-07-23 株式会社テムテック研究所 Planar heating plate for integrated gas supply device and method of manufacturing the same
JP5753831B2 (en) * 2012-11-29 2015-07-22 株式会社フジキン Fluid control device
JP6966499B2 (en) * 2019-03-06 2021-11-17 Ckd株式会社 Gas supply unit and gas supply method
JP7482533B2 (en) * 2019-06-28 2024-05-14 株式会社フジキン Fluid Control Device
WO2023120402A1 (en) * 2021-12-22 2023-06-29 株式会社プロテリアル Vaporizer

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999064780A1 (en) 1998-06-08 1999-12-16 Advanced Delivery & Chemical Systems, Ltd. Chemical delivery system having purge system utilizing multiple purge techniques
JP2001073144A (en) 1999-09-03 2001-03-21 Pioneer Electronic Corp Raw material feeding device for chemical vapor growth method
JP2002173777A (en) 2000-12-01 2002-06-21 C Bui Res:Kk Liquid metal vaporization unit for cvd system, and vaporization method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5964254A (en) * 1997-07-11 1999-10-12 Advanced Delivery & Chemical Systems, Ltd. Delivery system and manifold
JP3767897B2 (en) * 2004-03-01 2006-04-19 シーケーディ株式会社 Gas supply integrated unit

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999064780A1 (en) 1998-06-08 1999-12-16 Advanced Delivery & Chemical Systems, Ltd. Chemical delivery system having purge system utilizing multiple purge techniques
JP2001073144A (en) 1999-09-03 2001-03-21 Pioneer Electronic Corp Raw material feeding device for chemical vapor growth method
JP2002173777A (en) 2000-12-01 2002-06-21 C Bui Res:Kk Liquid metal vaporization unit for cvd system, and vaporization method

Also Published As

Publication number Publication date
JP4567370B2 (en) 2010-10-20
CN1950931A (en) 2007-04-18
KR20070011549A (en) 2007-01-24
CN100440454C (en) 2008-12-03
WO2005109482A1 (en) 2005-11-17
TW200538678A (en) 2005-12-01
JP2005322797A (en) 2005-11-17
TWI343464B (en) 2011-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101074265B1 (en) Gas supply integration unit
US7726333B2 (en) Fluid controller
US7048008B2 (en) Gas-panel assembly
JP2002349797A (en) Fluid control device
KR20080025722A (en) Fluid control device
WO2006100960A1 (en) Fluid control device
JP4655423B2 (en) Fluid control device
WO2007086394A1 (en) Pressure sensor device and fluid control device having built-in pressure sensor
US20020195165A1 (en) Fluid flow system
CN104822979B (en) Fluid control device
JP2001254900A (en) Fluid controller
KR102375472B1 (en) carburetor
JP2001280595A (en) Module block for integrated type gas supply unit
JP3745547B2 (en) Integrated valve
JP4528592B2 (en) Gas supply integrated unit
US9157578B2 (en) Gas supply device
JP2008292484A (en) Fluid supply mechanism using integrated-type mass flow controller
KR100924767B1 (en) Gas Integrated Uint
JP2008014390A (en) Integrated fluid control device
JP3665708B2 (en) Integrated valve
JP2000230670A (en) Integrated fluid control device with heater
JP6484497B2 (en) Thermal insulation cover and fluid control device
TWI735305B (en) Fluid supply system
TWI845647B (en) Temperature sensor mounting structure
WO2020196353A1 (en) Attachment structure for temperature sensor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141001

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150918

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160921

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170919

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180918

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190917

Year of fee payment: 9