KR101058087B1 - Cobalt-Tin Alloy Plating Solution - Google Patents

Cobalt-Tin Alloy Plating Solution Download PDF

Info

Publication number
KR101058087B1
KR101058087B1 KR1020090102411A KR20090102411A KR101058087B1 KR 101058087 B1 KR101058087 B1 KR 101058087B1 KR 1020090102411 A KR1020090102411 A KR 1020090102411A KR 20090102411 A KR20090102411 A KR 20090102411A KR 101058087 B1 KR101058087 B1 KR 101058087B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cobalt
plating
tin
plating solution
alloy
Prior art date
Application number
KR1020090102411A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20110045724A (en
Inventor
곽철남
Original Assignee
(주)삼영이앤피
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)삼영이앤피 filed Critical (주)삼영이앤피
Priority to KR1020090102411A priority Critical patent/KR101058087B1/en
Publication of KR20110045724A publication Critical patent/KR20110045724A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101058087B1 publication Critical patent/KR101058087B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/562Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

본 발명은 코발트-주석 합금도금에 관한 것으로 도금액이 안고 있는 불안정성을 개선하고 장기간에 걸쳐 일정한 합금비율의 고내식성을 갖는 도금층을 얻을 수 있게 하는 도금액에 관한 것으로, 그 구성은 염화코발트400~600g/L, 제2불화주석10~15g/L, 중불화암모늄80~100g/L, 염화암모늄100~120g/L, 광택제0.5g/L의 범위로 혼합하고, 도금액의 온도는 60℃±2℃, 도금액의 PH는 1.0~1.5인 조건에서 90~120초동안 도금하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a cobalt-tin alloy plating, and to a plating solution that improves the instability of the plating solution and obtains a plating layer having a high corrosion resistance of a constant alloy ratio over a long period of time. L, the second tin fluoride 10 ~ 15g / L, ammonium bifluoride 80 ~ 100g / L, ammonium chloride 100 ~ 120g / L, the varnish 0.5g / L, the temperature of the plating solution is 60 ℃ ± 2 ℃, The pH of the plating solution is characterized in that the plating for 90 ~ 120 seconds under the condition of 1.0 ~ 1.5.

코발트-주석 합금도금, 염화코발트, 불화주석, 염화암모늄, 광택제 Cobalt-tin alloy plating, cobalt chloride, tin fluoride, ammonium chloride, brightener

Description

코발트-주석 합금도금액{Cobalt-Tin alloy plating solution}Cobalt-Tin alloy plating solution

본 발명은 코발트-주석 합금도금에 관한 것으로, 도금액이 안고 있는 불안정성을 개선하고 장기간에 걸쳐 일정한 합금비율의 고내식성을 갖는 도금층을 얻을 수 있게 하는 도금액 조성에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to cobalt-tin alloy plating, and relates to a plating solution composition which improves the instability of the plating solution and obtains a plating layer having a high corrosion resistance of a constant alloy ratio over a long period of time.

크롬도금의 고내부식성과 내마모성, 화려한 백색의 도금층을 대용하기 위한 도금으로 텅스텐-코발트 합금도금 혹은 코발트-주석도금 등이 개발되어 왔다.Tungsten-cobalt alloy plating or cobalt-tin plating has been developed to replace the high corrosion resistance, wear resistance, and brilliant white plating layer of chromium plating.

그러나 어느 도금이든 도금액의 안정성이 오랫동안 유지되지 못하고, 또한 합금층의 강도, 내식성이 크롬도금에 뒤져 산업현장에서 폭넓게 사용되지 못하였다.However, in any plating, the stability of the plating solution was not maintained for a long time, and the strength and corrosion resistance of the alloy layer were inferior to chromium plating, and thus, it was not widely used in industrial fields.

코발트-주석 도금은 백색의 크롬도금을 대체하는 도금으로 개발되어 왔으며, 각각의 금속합금비율에 따라 청백색으로부터 황백색 또는 청흑색 결국은 다갈색에 이르기까지 다양한 색상을 내게 할 수 있다.Cobalt-tin plating has been developed as a replacement for white chromium plating, and depending on the metal alloy ratio, it can give a variety of colors ranging from blue-white to yellow-white or blue-black to dark brown.

그러나 대부분의 코발트-주석 합금도금은 백색의 크롬도금과 유사한 청백색 을 나타내는 합금비율로 작업되며, 이때에 코발트와 주석의 합금비율은 20:80정도를 유지하게 된다.However, most of the cobalt-tin alloy plating work in the alloy ratio of blue-white similar to white chromium plating, and the alloy ratio of cobalt and tin is maintained at about 20:80.

산업현장에서 폭넓게 사용되어 온 크롬도금은 6가크롬의 유해성 때문에 3가크롬도금으로 바뀌어 적용되고 있으나, 도금층이 불안정하고 도금성이 부드럽지 못하기 때문에 전류효율이 떨어지는 부분이나 양극판과 마주보지 못하는 부분에서는 미도금되는 불량이 많이 발생한다.Chrome plating, which has been widely used in industrial sites, has been applied to trivalent chromium plating due to the toxic hexavalent chromium.However, the plating layer is unstable and the plating property is not smooth. Many defects that are not plated occur.

이러한 이유로 바렐에 소형제품을 다량으로 넣고 작업하는 바렐도금에는 크롬도금이 불가능하여 그 대용으로 코발트-주석 합금으로 하는 도금이 개발되어 왔다.For this reason, plating of cobalt-tin alloy has been developed as a substitute for chromium plating in barrel plating in which a large amount of small products are put into the barrel.

종래 일반적인 코발트-주석도금은 약알칼리욕을 기본으로 하는 피로린산욕과, 알칼리를 기본으로 하는 스타네이트욕 및 산성용액의 코발트-주석 합금도금법이 공지되어 있다.Conventional cobalt-tin plating is known as a pyrolic acid bath based on a weak alkali bath, a cobalt-tin alloy plating method of an acid-based stannate bath and an acid solution.

피로린산욕은 PH8.0~9.5정도의 약알칼리에 피로린산염을 전도염으로 하고 염화코발트15~50g/L와 염화제2주석15~50g/L를 첨가제로 하여 적당량의 광택제로 제품의 표면에 광택을 주는 것이다.Pyroic acid bath is a weak alkali of about PH8.0 ~ 9.5 with pyrochlorate as the conducting salt and cobalt chloride 15 ~ 50g / L and ditin tin 15 ~ 50g / L as additives. To give luster.

코발트-주석 도금에서 광택제는 계면활성제를 소량 사용하는 경우가 있으나, 합금자체의 광택효과로 인해 합금비율과 각각의 혼합약품의 농도비에 따라 광택이 영향을 받는 경우가 많다.In cobalt-tin plating, a brightener may use a small amount of a surfactant, but the gloss may be affected by the alloy ratio and the concentration ratio of each mixed chemical due to the gloss effect of the alloy itself.

피로린산염 도금은 색상이 크롬도금과 유사하며 비교적 안정적인 색상관리가 가능하다는 장점은 있으나, 2가주석이 스스로 도금욕 내에서 산화하여 4가주석으로 변하고 자연소모되어 버리는 큰 문제점을 안고 있다.Pyrophosphate plating has the advantage that the color is similar to chromium plating and relatively stable color management is possible, but divalent tin is oxidized in the plating bath and turns into tetravalent tin and is naturally consumed.

또한 피로린산염이 염화코발트 등 염화물과 착안정성을 갖지 못하므로 도금액에 침전물이 발생한다는 문제점을 가지고 있다.In addition, since pyrroline salts do not have stability in contact with chlorides such as cobalt chloride, there is a problem that precipitates occur in the plating solution.

따라서 이 침전물은 계속 여과를 함으로써 제거해주어야 하고, 또한 침전으로 소모된 전도염을 보충해주기 위해 피로린산염과 염화코발트, 염화주석 등이 필요이상 과량으로 소모되는 취약점을 안고 있다.Therefore, this deposit has to be removed by continuous filtration, and also has a weakness in that excess pyrophosphate, cobalt chloride, and tin chloride are consumed in excess to compensate for the conductive salt consumed by the precipitation.

또 다른 코발트-주석 합금도금인 스타네이트욕은 아미노카르복실산을 전도염으로 하고 염화코발트5~15g/L와 주석산나트륨15~40g/L를 기본으로 하고, PH를 12~13으로 유지시키는 알칼리성 합금도금으로 4가의 주석염을 사용하기 때문에 주석의 안정성이 높은 합금도금액이다.Another cobalt-tin alloy plating stannate bath is based on an aminocarboxylic acid as the conducting salt and is based on cobalt chloride 5-15 g / L and sodium phosphate 15-40 g / L, with an alkaline pH of 12-13. It is an alloy plating solution with high stability of tin because tetravalent tin salt is used for alloy plating.

스타네이트욕은 피로린산욕에 비하여 금속불순물의 영향은 적게 받으나 유기불순물이 축적되면 균일전착성 및 도금성이 극히 나쁘게 되고, PH유지에 민감하여 PH가 일정범위를 벗어나면 주석이 산화되어 불용성 침전물을 형성하게 된다.The stannate bath is less affected by metal impurities than pyroic acid bath, but when organic impurities accumulate, the electrodeposition and plating properties are extremely bad. Tin is oxidized and insoluble when PH is out of a certain range because it is sensitive to PH retention. It will form a precipitate.

피로린산욕은 금속 불순물에 취약하고 스타네이트욕은 유기불순물에 취약하여 어느 경우든 안정된 합금도금을 지속하여 얻는 게 매우 힘들다.Pyroic acid baths are vulnerable to metal impurities and stannate baths are vulnerable to organic impurities, which makes it very difficult to obtain stable alloy plating in any case.

따라서 위와 같은 문제점을 해결하기 위하여 불순물에 둔감한 산성용액의 코발트-주석 합금도금이 약알칼리 또는 알칼리 합금도금의 대안으로 떠오르게 되었다.Therefore, in order to solve the above problems, cobalt-tin alloy plating of acid solution insensitive to impurities has emerged as an alternative to weak alkali or alkali alloy plating.

산성용액의 코발트-주석 합금도금은 염화코발트와 염화주석을 합금으로 한다던지 염화코발트와 불화주석을 합금으로 하는 코발트-주석 합금도금은 각각 염화코 발트를 15~50g/L, 염화주석15~50g/L를 금속첨가물로 하고 염화암모늄을 50~100g/L로 하거나 염화코발트100~300g/L로 하고 불화주석15~50g/L로 하고, 염화암모늄 혹은 중불화암모늄을 50~100g/L로 하는 경우이다.Cobalt-tin alloy plating of acid solution is made of cobalt chloride and tin chloride alloy, or cobalt-tin alloy plating of cobalt chloride and tin fluoride alloy is 15 ~ 50g / L cobalt chloride and 15 ~ 50g tin chloride, respectively. / L as a metal additive, ammonium chloride 50 ~ 100g / L, cobalt chloride 100 ~ 300g / L, tin fluoride 15 ~ 50g / L, ammonium chloride or ammonium bifluoride 50 ~ 100g / L If it is.

산성용액은 비교적 안정성이 강하고 합금의 비율이 안정되기 때문에 색상의 변화도 크지 않다.The acid solution is relatively stable and the color ratio is not large because the alloy ratio is stable.

그러나 피로린산욕이나 스타네이트욕에 비해 전착성이 좋지 않기 때문에 미도금된 부분이 발생하기 쉽고, 역시 주석의 산화에 의한 침전물이 발생하는 경향이 있다.However, since the electrodeposition property is not good compared with a pyroic acid bath or a stannate bath, an unplated part tends to generate | occur | produce, and also there exists a tendency for the precipitation by oxidation of tin to generate | occur | produce.

또한 코발트의 농도가 높지 않으면 코발트의 석출비가 낮아져 도금이 균일하게 되지 않고 합금의 색상이 검은바탕으로 가는 경향이 있다.In addition, when the concentration of cobalt is not high, the precipitation ratio of cobalt is lowered, so that plating is not uniform and the color of the alloy tends to go to a black ground.

본 발명은 코발트-주석 합금도금액의 침전을 방지하여 전도염이나 염화코발트, 염화주석 등이 필요이상으로 소모되는 것을 방지할 수 있게 하고, 도금액이 불순물에 대하여 안정된 합금도금을 지속할 수 있게 하고 전착성을 좋게 하여 미도금된 부분이 발생되지 않게 하여 도금이 균일하게 될 수 있게 하는 방법을 제공하는 것이다.The present invention prevents the precipitation of the cobalt-tin alloy plating solution to prevent excessive consumption of conductive salts, cobalt chloride, tin chloride, and the like, and enables the plating solution to maintain stable alloy plating against impurities. It is to provide a method for improving the electrodeposition property so that the unplated portion does not occur to make the plating uniform.

본 발명은 먼저 도금욕에 코발트 첨가물인 염화코발트의 양을 400~600g/L로 매우 높이고 합금도금욕의 PH를 1.0~1.5로 낮추어 착염의 생성을 줄일 수 있게 한다.The present invention first increases the amount of cobalt chloride, which is a cobalt additive in the plating bath, to 400-600 g / L and lowers the pH of the alloy plating bath to 1.0-1.5, thereby reducing the formation of complex salts.

또한 낮은 PH에서의 합금도금욕의 금속첨가물의 농도비가 합금석출비에 비례하지 않으므로 주석의 농도를 10~15g/L로 매우 낮추고, 산성합금액에 더욱 안정된 제2불화주석을 사용한다.In addition, since the concentration ratio of the metal additive of the alloy plating bath at low PH is not proportional to the alloy deposition ratio, the tin concentration is very low to 10 to 15 g / L, and the second tin fluoride which is more stable in the acidic alloying solution is used.

또한 액을 안정시키기 위해 중불화암모늄을 염화암모늄과 혼합하여 전도염으로 사용하고 광택을 위하여 티오요소(Thiourea : CH₄N₂S)를 소량첨가한다.In addition, ammonium bifluoride is mixed with ammonium chloride to stabilize the solution and used as a conductive salt, and a small amount of thiourea (CH₄N₂S) is added for gloss.

작업은 60℃에 맞추고 전류는 0.5~0.8A/dm²로, 시간은 90sec로 설정한다.The work is set at 60 ° C and the current is set at 0.5 to 0.8 A / dm² and the time is set to 90 sec.

본 발명은 작업공정 및 도금액에 환경유해물질을 함유하지 않아 환경친화적이어서 크롬도금의 대용 및 바렐도금에도 적용할 수 있으며, 도금욕에 침전물의 발생을 억제할 수 있어 전도염이나 염화코발트, 염화주석이 필요 이상 소모되는 것을 방지할 수 있으며, 전착성을 향상하여 미도금되는 부분이 발생되지 않게 하는 등 도금품질을 향상하게 할 수 있다.The present invention is environmentally friendly because it does not contain environmentally harmful substances in the working process and the plating solution, so it can be applied to the substitution of chromium plating and barrel plating, and can suppress the occurrence of deposits in the plating bath, so that the conductive salt, cobalt chloride, tin chloride This can be prevented from being consumed more than necessary, it is possible to improve the electrodeposition properties and to improve the plating quality such that the unplated portion does not occur.

이하에서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail.

본 발명은 합금의 비율을 항상 일정하게 유지하며 주석의 착염으로 인한 침전을 방지하고 불순물에 의한 영향을 적게 받는 안정된 코발트-주석 합금도금액에 관한 것이고, 또한 합금도금액을 장기간 사용할 수 있게 하는 방법을 제공하는 것이다.The present invention relates to a stable cobalt-tin alloy plating solution which maintains a constant ratio of the alloy at all times, prevents precipitation due to tin salting and is less affected by impurities, and also provides a method of making the alloy plating solution available for a long time. To provide.

먼저 코발트첨가물인 염화코발트의 양을 400~600g/L로 매우 높이고 합금도금욕의 PH를 1.0~1.5정도로 낮추어 착염의 생성을 줄일 수 있게 한다.First, the amount of cobalt chloride, cobalt additive, is very high to 400 to 600 g / L and the pH of the alloy plating bath is lowered to about 1.0 to 1.5, thereby reducing the formation of complex salts.

또한 낮은 PH에서는 합금도금욕의 금속첨가물의 농도비가 합금석출비에 비례하지 않는다는 것에 착안하여 주석의 농도를 10~15g/L로 매우 낮추고 산성합금용액에 더욱 안정된 제2불화주석을 사용한다.In addition, it is noted that the concentration ratio of the metal additives of the alloy plating bath is not proportional to the alloy deposition ratio at low pH, and the tin concentration is very low to 10 to 15 g / L, and the second tin fluoride is more stable in the acid alloy solution.

액을 안정시키기 위해 중불화암모늄을 염화암모늄과 혼합하여 전도염으로 사용하고, 광택을 위하여 광택제인 티오요소(Thiourea)를 소량첨가한다.To stabilize the solution, ammonium bifluoride is mixed with ammonium chloride and used as a conducting salt, and a small amount of thiourea, a gloss agent, is added for gloss.

작업은 온도60℃로 맞추었고 전류는 0.5~0.8A/dm²로 낮게 주었으며, 시간은 90초정도로 주었다.The work was set at a temperature of 60 ° C., with a low current of 0.5-0.8 A / dm² and a time of 90 seconds.

이 조건으로 합금도금하면 0.1㎛/분 도금두께의 훌륭한 코발트-주석의 연한 청백색의 합금층을 얻을 수 있다.Alloy plating under these conditions yields an excellent cobalt-tin light blue-white alloy layer of 0.1 탆 / min plating thickness.

이 합금층은 강한 산성인 PH1.0근처에서 작업되기 때문에 도금의 밀착력이 아주 우수하다.This alloy layer has excellent adhesion of plating because it works near PH1.0 which is strong acid.

또한 광택성이 좋기 때문에 별도의 광택제를 첨가할 필요없이 0.2~0.5㎛의 고광택층의 도금층을 얻을 수 있다.Moreover, since glossiness is good, the plating layer of the 0.2-0.5 micrometer high glossiness layer can be obtained, without adding a separate gloss agent.

강한 산성의 상태에서 고밀착력으로 작업되기 때문에 합금층의 강도가 강하여 내마모성과 내식성을 유지하는데도 탁월한 기능이 있다.Since it works with high adhesion in the strong acid state, the strength of the alloy layer is strong, and it has an excellent function in maintaining wear resistance and corrosion resistance.

이 경우 코발트와 주석의 합금비는 85~90 : 10~15의 비율을 유지하게 된다.In this case, the alloy ratio of cobalt and tin is maintained at a ratio of 85 to 90: 10 to 15.

이 합금조건을 간단하게 요약하면,To summarize this alloy condition briefly,

염화코발트 400~600g/LCobalt Chloride 400 ~ 600g / L

제2불화주석 10~15g/LTin Difluoride 10-15g / L

중불화암모늄 80~100g/LAmmonium Bifluoride 80 ~ 100g / L

염화암모늄 100~120g/LAmmonium Chloride 100 ~ 120g / L

티오요소(CH₄N₂S) 0.5g/LThiourea (CH₄N₂S) 0.5g / L

온도60℃±2℃Temperature 60 ℃ ± 2 ℃

PH 1.0~1.5PH 1.0 ~ 1.5

시간 90~120 sec90 ~ 120 sec

의 조건으로 0.2㎛의 코발트 : 주석 = 87 : 13의 합금층을 얻을 수 있었다.The alloy layer of 0.2 micrometer cobalt: tin = 87: 13 was obtained on condition of.

본 발명은 화려한 백색의 코발트-주석합금층을 형성시키는 금속, 비금속의 모든 도금의 중간층 또는 최종층 도금에 모두 적용하는 것이 가능하다.The present invention can be applied both to the metal forming the brilliant white cobalt-tin alloy layer, to the intermediate layer or to the final layer plating of all platings of nonmetals.

Claims (5)

염화코발트와 불화주석을 금속첨가제로 하는 코발트-주석 합금층을 형성시키는 도금액에 있어서,In a plating solution for forming a cobalt-tin alloy layer containing cobalt chloride and tin fluoride as a metal additive, 염화코발트 400~600g/LCobalt Chloride 400 ~ 600g / L 제2불화주석 10~15g/LTin Difluoride 10-15g / L 중불화암모늄 80~100g/LAmmonium Bifluoride 80 ~ 100g / L 염화암모늄 100~120g/LAmmonium Chloride 100 ~ 120g / L 광택제 0.5g/L의 범위로 혼합함을 특징으로 하는 코발트-주석 합금도금액.A cobalt-tin alloy plating solution characterized by mixing in the range of 0.5g / L of a brightener. 제 1항에 있어서, 상기 도금액의 온도는 60℃±2℃인 것을 특징으로 하는 코발트-주석 합금도금액.The cobalt-tin alloy plating solution according to claim 1, wherein the plating solution has a temperature of 60 ° C ± 2 ° C. 제 1항에 있어서, 상기 도금액의 PH는 1.0~1.5인 것을 특징으로 하는 코발트-주석 합금도금액.The cobalt-tin alloy plating solution according to claim 1, wherein the plating solution has a pH of 1.0 to 1.5. 제 1항에 있어서, 상기 도금액의 도금시간은 90~120 sec인 것을 특징으로 하 는 코발트-주석 합금도금액.The cobalt-tin alloy plating solution according to claim 1, wherein the plating time of the plating solution is 90 to 120 sec. 제 1항에 있어서, 광택제는 티오요소인 것을 특징으로 하는 코발트-주석 합금도금액.The cobalt-tin alloy plating solution according to claim 1, wherein the brightening agent is thiourea.
KR1020090102411A 2009-10-27 2009-10-27 Cobalt-Tin Alloy Plating Solution KR101058087B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090102411A KR101058087B1 (en) 2009-10-27 2009-10-27 Cobalt-Tin Alloy Plating Solution

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090102411A KR101058087B1 (en) 2009-10-27 2009-10-27 Cobalt-Tin Alloy Plating Solution

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110045724A KR20110045724A (en) 2011-05-04
KR101058087B1 true KR101058087B1 (en) 2011-08-19

Family

ID=44240740

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090102411A KR101058087B1 (en) 2009-10-27 2009-10-27 Cobalt-Tin Alloy Plating Solution

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101058087B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112095129A (en) * 2020-09-23 2020-12-18 深圳市森泰金属技术有限公司 Copper alloy surface retro process method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100303930B1 (en) 1997-10-30 2001-09-28 문성수 Tin alloy plating composition
KR100300682B1 (en) 1998-07-29 2001-09-29 정동빈 Coating process of metal products with chromium

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100303930B1 (en) 1997-10-30 2001-09-28 문성수 Tin alloy plating composition
KR100300682B1 (en) 1998-07-29 2001-09-29 정동빈 Coating process of metal products with chromium

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110045724A (en) 2011-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9347144B2 (en) Dark colored chromium based electrodeposits
US9758884B2 (en) Color control of trivalent chromium deposits
TWI546422B (en) Trivalent chromium plating bath
CN101608324A (en) A kind of electroplate liquid and use the electro-plating method of this electroplate liquid
KR101058087B1 (en) Cobalt-Tin Alloy Plating Solution
CN103966633B (en) Nickel plating solution
US8211286B2 (en) Electrolyte and method for depositing decorative and technical layers of black ruthenium
TWI636161B (en) Production method of dark colored chromium based electrodeposits and trivalent chromium electrolyte
US20060266257A1 (en) Metal plating process
CN104178785A (en) Electroplating solution and electroplating method
KR100419655B1 (en) A METHOD FOR MANUFACTURING Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITION STEEL SHEET BY USING Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITION SOLUTION
KR101077890B1 (en) Additives for Zn-Ni alloy electrodeposition electrolyte, Zn-Ni alloy electrodeposition electrolyte comprising the same and method for manufacturing Zn-Ni alloy electrodeposited steel sheet using the same
KR100506394B1 (en) Zn-Ni alloy electrolyte for good surface roughness, whiteness and suppression of edge burning
CN104213159A (en) Electroplating liquid and electroplating method
CA3155524C (en) Sulfate based, ammonium free trivalent chromium decorative plating process
KR100576043B1 (en) Zn-Ni alloy electrodeposition electrolyte for obtaining good adhesion, brightness and reducing burned area of coating layer
WO2022224901A1 (en) Trivalent chromium plating solution and chromium plating method using same
KR100368221B1 (en) Electrolyte of zn-ni alloy electrodeposit in soluable anode and chroides bath and the method of manufacturing zn-ni alloy electric plating steel by using it
KR100979047B1 (en) Electro-Galvanizing Additive for Excellent Adhesion, Flatness and Surface Appearance, Manufacturing Method Thereof and Plating Method Using it
KR100293237B1 (en) Plating solution for electrogalvanization and method for manufacturing electrogalvanized steel strips with uniform appearance using the same
KR100417931B1 (en) Zn-Ni ALLOY ELECTROPLATING SOLUTION
KR101183255B1 (en) Tin-zinc alloy plating solution
KR20240004671A (en) Electroplating composition for depositing a chromium or chromium alloy layer on a substrate
Manz et al. Cyanide-Free Electroplating of Cu-Sn Alloys
KR101367912B1 (en) Plating method using the Tin-Zinc alloy plating solution

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140707

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150810

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160811

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee